JP2001160508A - Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法 - Google Patents
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 自動車モータに使用される磁石などに求めら
れる優れた耐食性・電気絶縁性・耐熱性を有するポリイ
ミド樹脂被膜を、優れた密着性のもとに磁石表面に有す
るＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石および溶液法を用いたその簡
便な製造方法を提供すること。 【解決手段】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面に、酸化被
膜層を介して、ポリイミド樹脂被膜を有することを特徴
とする。
れる優れた耐食性・電気絶縁性・耐熱性を有するポリイ
ミド樹脂被膜を、優れた密着性のもとに磁石表面に有す
るＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石および溶液法を用いたその簡
便な製造方法を提供すること。 【解決手段】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面に、酸化被
膜層を介して、ポリイミド樹脂被膜を有することを特徴
とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石およびその製造方法に関する。より詳細には、自
動車モータに使用される磁石などに求められる優れた耐
食性・電気絶縁性・耐熱性を有するポリイミド樹脂被膜
を、優れた密着性のもとに磁石表面に有するＲ−Ｆｅ−
Ｂ系永久磁石およびその簡便な製造方法に関する。
久磁石およびその製造方法に関する。より詳細には、自
動車モータに使用される磁石などに求められる優れた耐
食性・電気絶縁性・耐熱性を有するポリイミド樹脂被膜
を、優れた密着性のもとに磁石表面に有するＲ−Ｆｅ−
Ｂ系永久磁石およびその簡便な製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に代表される
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は、Ｓｍ−Ｃｏ系永久磁石に比
べて、資源的に豊富で安価な材料が用いられ、かつ、高
い磁気特性を有していることから、今日様々な分野で使
用されている。しかしながら、該磁石は反応性の高いＲ
とＦｅを含むため、大気中で酸化腐食されやすく、何の
表面処理をも行わずに使用した場合には、わずかな酸や
アルカリや水分などの存在によって表面から腐食が進行
して錆が発生し、それに伴って、磁石特性の劣化やばら
つきを招く。さらに、錆が発生した磁石を磁気回路など
の装置に組み込んだ場合、錆が飛散して周辺部品を汚染
するおそれがある。上記の点に鑑み、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石の表面に、優れた耐食性・電気絶縁性・耐熱性を
有する被膜として、ポリイミド樹脂被膜を形成させるこ
とはこれまでにも検討がなされている（たとえば、特開
平９−１８０９２２号公報を参照）。
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は、Ｓｍ−Ｃｏ系永久磁石に比
べて、資源的に豊富で安価な材料が用いられ、かつ、高
い磁気特性を有していることから、今日様々な分野で使
用されている。しかしながら、該磁石は反応性の高いＲ
とＦｅを含むため、大気中で酸化腐食されやすく、何の
表面処理をも行わずに使用した場合には、わずかな酸や
アルカリや水分などの存在によって表面から腐食が進行
して錆が発生し、それに伴って、磁石特性の劣化やばら
つきを招く。さらに、錆が発生した磁石を磁気回路など
の装置に組み込んだ場合、錆が飛散して周辺部品を汚染
するおそれがある。上記の点に鑑み、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石の表面に、優れた耐食性・電気絶縁性・耐熱性を
有する被膜として、ポリイミド樹脂被膜を形成させるこ
とはこれまでにも検討がなされている（たとえば、特開
平９−１８０９２２号公報を参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これま
でに提案されている技術は、いずれも二種類の原料モノ
マー（芳香族カルボン酸二無水物と芳香族ジアミン）を
用いた縮合型ポリイミド樹脂被膜を蒸着重合法によって
形成する方法に関するものである。これらの技術は、優
れた性能を有するポリイミド樹脂被膜を形成する方法と
して価値あるものであるが、蒸着重合法を行うためには
大がかりな装置が必要である。また、清浄化などの前処
理を厳格に行わなければならない。したがって、製造コ
ストの上昇を招き、量産化の観点からは必ずしも満足す
べきものではない。そこで、本発明においては、自動車
モータに使用される磁石などに求められる優れた耐食性
・電気絶縁性・耐熱性を有するポリイミド樹脂被膜を、
優れた密着性のもとに磁石表面に有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系
永久磁石および溶液法を用いたその簡便な製造方法を提
供することを目的としている。
でに提案されている技術は、いずれも二種類の原料モノ
マー（芳香族カルボン酸二無水物と芳香族ジアミン）を
用いた縮合型ポリイミド樹脂被膜を蒸着重合法によって
形成する方法に関するものである。これらの技術は、優
れた性能を有するポリイミド樹脂被膜を形成する方法と
して価値あるものであるが、蒸着重合法を行うためには
大がかりな装置が必要である。また、清浄化などの前処
理を厳格に行わなければならない。したがって、製造コ
ストの上昇を招き、量産化の観点からは必ずしも満足す
べきものではない。そこで、本発明においては、自動車
モータに使用される磁石などに求められる優れた耐食性
・電気絶縁性・耐熱性を有するポリイミド樹脂被膜を、
優れた密着性のもとに磁石表面に有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系
永久磁石および溶液法を用いたその簡便な製造方法を提
供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の点に
鑑み鋭意検討を行った結果、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表
面に酸化被膜層を形成し、その上にポリイミド樹脂被膜
を形成すると、酸化被膜層の存在によって、ポリイミド
樹脂被膜は磁石表面に強固に密着し、優れた耐食性など
の性能を発揮することを知見した。また、酸化被膜層の
上では、ポリイミド樹脂被膜形成反応が効率よく進行
し、溶液法によっても磁石表面に対して優れた密着性を
有する被膜が得られることを知見した。
鑑み鋭意検討を行った結果、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表
面に酸化被膜層を形成し、その上にポリイミド樹脂被膜
を形成すると、酸化被膜層の存在によって、ポリイミド
樹脂被膜は磁石表面に強固に密着し、優れた耐食性など
の性能を発揮することを知見した。また、酸化被膜層の
上では、ポリイミド樹脂被膜形成反応が効率よく進行
し、溶液法によっても磁石表面に対して優れた密着性を
有する被膜が得られることを知見した。
【０００５】本発明は、かかる知見に基づきなされたも
ので、本発明の永久磁石は、請求項１記載の通り、Ｒ−
Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面に、酸化被膜層を介して、ポリ
イミド樹脂被膜を有することを特徴とする。また、請求
項２記載の永久磁石は、請求項１記載の永久磁石におい
て、ポリイミド樹脂被膜が付加型ポリイミド樹脂被膜で
あることを特徴とする。また、請求項３記載の永久磁石
は、請求項２記載の永久磁石において、付加型ポリイミ
ド樹脂被膜がビスアリルナジイミドから得られる被膜で
あることを特徴とする。また、請求項４記載の永久磁石
は、請求項１乃至３のいずれかに記載の永久磁石におい
て、酸化被膜層の膜厚が０．０１μｍ〜２μｍであるこ
とを特徴とする。また、請求項５記載の永久磁石は、請
求項１乃至４のいずれかに記載の永久磁石において、ポ
リイミド樹脂被膜の膜厚が１μｍ〜１５μｍであること
を特徴とする。また、本発明の永久磁石の製造方法は、
請求項６記載の通り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面に、
酸素雰囲気中での酸化処理によって酸化被膜層を形成し
た後、前記酸化被膜層表面に、ポリイミド樹脂被膜形成
処理液を塗布し、熱処理することによってポリイミド樹
脂被膜を形成することを特徴とする。また、請求項７記
載の製造方法は、請求項６記載の製造方法において、酸
素雰囲気中での酸化処理を、酸素濃度が０．０１％〜２
０％の常圧下、または酸素圧（分圧）が０．１Ｐａ〜２
×１０４Ｐａの減圧下、１０℃〜３００℃にて行うこと
を特徴とする。また、請求項８記載の製造方法は、請求
項６または７記載の製造方法において、ポリイミド樹脂
被膜が付加型ポリイミド樹脂被膜であることを特徴とす
る。また、請求項９記載の製造方法は、請求項８記載の
製造方法において、付加型ポリイミド樹脂被膜がビスア
リルナジイミドから得られる被膜であることを特徴とす
る。
ので、本発明の永久磁石は、請求項１記載の通り、Ｒ−
Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面に、酸化被膜層を介して、ポリ
イミド樹脂被膜を有することを特徴とする。また、請求
項２記載の永久磁石は、請求項１記載の永久磁石におい
て、ポリイミド樹脂被膜が付加型ポリイミド樹脂被膜で
あることを特徴とする。また、請求項３記載の永久磁石
は、請求項２記載の永久磁石において、付加型ポリイミ
ド樹脂被膜がビスアリルナジイミドから得られる被膜で
あることを特徴とする。また、請求項４記載の永久磁石
は、請求項１乃至３のいずれかに記載の永久磁石におい
て、酸化被膜層の膜厚が０．０１μｍ〜２μｍであるこ
とを特徴とする。また、請求項５記載の永久磁石は、請
求項１乃至４のいずれかに記載の永久磁石において、ポ
リイミド樹脂被膜の膜厚が１μｍ〜１５μｍであること
を特徴とする。また、本発明の永久磁石の製造方法は、
請求項６記載の通り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面に、
酸素雰囲気中での酸化処理によって酸化被膜層を形成し
た後、前記酸化被膜層表面に、ポリイミド樹脂被膜形成
処理液を塗布し、熱処理することによってポリイミド樹
脂被膜を形成することを特徴とする。また、請求項７記
載の製造方法は、請求項６記載の製造方法において、酸
素雰囲気中での酸化処理を、酸素濃度が０．０１％〜２
０％の常圧下、または酸素圧（分圧）が０．１Ｐａ〜２
×１０４Ｐａの減圧下、１０℃〜３００℃にて行うこと
を特徴とする。また、請求項８記載の製造方法は、請求
項６または７記載の製造方法において、ポリイミド樹脂
被膜が付加型ポリイミド樹脂被膜であることを特徴とす
る。また、請求項９記載の製造方法は、請求項８記載の
製造方法において、付加型ポリイミド樹脂被膜がビスア
リルナジイミドから得られる被膜であることを特徴とす
る。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の永久磁石は、Ｒ−Ｆｅ−
Ｂ系永久磁石表面に、酸化被膜層を介して、ポリイミド
樹脂被膜を有することを特徴とする。
Ｂ系永久磁石表面に、酸化被膜層を介して、ポリイミド
樹脂被膜を有することを特徴とする。
【０００７】本発明において、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石
表面に酸化被膜層を形成する方法としては、たとえば、
酸素雰囲気中での酸化処理方法、水蒸気を含む雰囲気中
での酸化処理方法（一般的な水蒸気処理を含む）などが
挙げられる。酸素雰囲気中での酸化処理方法には、たと
えば、処理室内で酸素濃度と温度を制御しながら行う方
法や大気中での自然酸化などがある。処理条件として
は、酸素濃度が０．０１％〜２０％の常圧下、または酸
素圧（分圧）が０．１Ｐａ〜２×１０４Ｐａの減圧下、
１０℃〜３００℃にて行うことが望ましい。酸素濃度が
０．０１％〜２０％の常圧条件は、大気自体を利用した
ものであってもよいし、窒素ガスやアルゴンガスなどの
不活性ガスを用いて所望する成分組成に調整されたもの
であってもよい。酸素圧（分圧）が０．１Ｐａ〜２×１
０４Ｐａの減圧条件は、酸素圧のみで調整されたもので
あってもよいし、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性
ガスを用いて所望する成分組成や圧力に調整されたもの
であってもよい。酸化処理を１０℃〜３００℃で行うこ
とが望ましい理由は、処理温度が高くなるにつれて、緻
密で薄い酸化被膜層を形成することが困難となり、ま
た、酸化被膜層の表面粗度が粗くなることによって、ポ
リイミド樹脂被膜の形成に悪影響を及ぼし、結果的に優
れた耐食性などの性能を有する磁石が得られないおそれ
があるからである。上記の処理条件にて処理室内で酸化
処理を行う場合の処理時間は、通常、５分〜４８時間で
ある。酸素雰囲気中での酸化処理方法は、上記のような
方法の他にも、磁石表面に対するショットブラスト処
理、弱電圧下でのスパッタ処理や高周波による酸素プラ
ズマ形成下での酸化処理などがある。水蒸気を含む雰囲
気中での酸化処理方法（一般的な水蒸気処理を含む）
は、水蒸気濃度と温度を制御しながら行うものであり、
その具体的な処理条件は、たとえば、水蒸気濃度が０．
０１％〜１００％、処理温度が１０℃〜３００℃であ
る。
表面に酸化被膜層を形成する方法としては、たとえば、
酸素雰囲気中での酸化処理方法、水蒸気を含む雰囲気中
での酸化処理方法（一般的な水蒸気処理を含む）などが
挙げられる。酸素雰囲気中での酸化処理方法には、たと
えば、処理室内で酸素濃度と温度を制御しながら行う方
法や大気中での自然酸化などがある。処理条件として
は、酸素濃度が０．０１％〜２０％の常圧下、または酸
素圧（分圧）が０．１Ｐａ〜２×１０４Ｐａの減圧下、
１０℃〜３００℃にて行うことが望ましい。酸素濃度が
０．０１％〜２０％の常圧条件は、大気自体を利用した
ものであってもよいし、窒素ガスやアルゴンガスなどの
不活性ガスを用いて所望する成分組成に調整されたもの
であってもよい。酸素圧（分圧）が０．１Ｐａ〜２×１
０４Ｐａの減圧条件は、酸素圧のみで調整されたもので
あってもよいし、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性
ガスを用いて所望する成分組成や圧力に調整されたもの
であってもよい。酸化処理を１０℃〜３００℃で行うこ
とが望ましい理由は、処理温度が高くなるにつれて、緻
密で薄い酸化被膜層を形成することが困難となり、ま
た、酸化被膜層の表面粗度が粗くなることによって、ポ
リイミド樹脂被膜の形成に悪影響を及ぼし、結果的に優
れた耐食性などの性能を有する磁石が得られないおそれ
があるからである。上記の処理条件にて処理室内で酸化
処理を行う場合の処理時間は、通常、５分〜４８時間で
ある。酸素雰囲気中での酸化処理方法は、上記のような
方法の他にも、磁石表面に対するショットブラスト処
理、弱電圧下でのスパッタ処理や高周波による酸素プラ
ズマ形成下での酸化処理などがある。水蒸気を含む雰囲
気中での酸化処理方法（一般的な水蒸気処理を含む）
は、水蒸気濃度と温度を制御しながら行うものであり、
その具体的な処理条件は、たとえば、水蒸気濃度が０．
０１％〜１００％、処理温度が１０℃〜３００℃であ
る。
【０００８】上記のような方法によって形成される酸化
被膜層の膜厚は、０．０１μｍ以上であることが望まし
い。膜厚が０．０１μｍ未満であると磁石表面へのポリ
イミド樹脂被膜の優れた密着性に寄与しないおそれがあ
るからである。一方、酸化被膜層の膜厚は、２μｍ以下
であることが望ましい。膜厚が２μｍを超えると磁石表
面へのポリイミド樹脂被膜の優れた密着性を逆に阻害す
るおそれがあるからである。さらに、磁石自体の小型化
に基づく要請などを加味すれば、酸化被膜層の膜厚は、
１μｍ以下であることがより望ましい。
被膜層の膜厚は、０．０１μｍ以上であることが望まし
い。膜厚が０．０１μｍ未満であると磁石表面へのポリ
イミド樹脂被膜の優れた密着性に寄与しないおそれがあ
るからである。一方、酸化被膜層の膜厚は、２μｍ以下
であることが望ましい。膜厚が２μｍを超えると磁石表
面へのポリイミド樹脂被膜の優れた密着性を逆に阻害す
るおそれがあるからである。さらに、磁石自体の小型化
に基づく要請などを加味すれば、酸化被膜層の膜厚は、
１μｍ以下であることがより望ましい。
【０００９】次に、酸化被膜層の上に、ポリイミド樹脂
被膜を形成する方法について述べる。ポリイミド樹脂被
膜は、付加型ポリイミド樹脂被膜であっても縮合型ポリ
イミド樹脂被膜であってもよいが、望ましくは、付加型
ポリイミド樹脂被膜がよい。付加型ポリイミド樹脂は、
樹脂分子の末端に不飽和基を有し、付加反応やラジカル
反応による三次元架橋により得られるものであるが、硬
化に際して水が生成することがないので、磁石が酸化腐
食されやすいことを考慮すれば非常に都合のよい樹脂で
ある。付加型ポリイミド樹脂としては、無水アリルナジ
ック酸とジアミンから合成され、脱水閉環反応が完結し
た両末端にアリル基を有するイミドモノマーであるビス
アリルナジイミド（ＢＡＮＩ：図１参照）から得られる
樹脂の他、末端ナジック酸型ポリイミド樹脂（ＰＭ
Ｒ）、ビスマレイミド型ポリイミド樹脂、末端アセチレ
ン型ポリイミド樹脂など公知のものを使用することがで
きる。
被膜を形成する方法について述べる。ポリイミド樹脂被
膜は、付加型ポリイミド樹脂被膜であっても縮合型ポリ
イミド樹脂被膜であってもよいが、望ましくは、付加型
ポリイミド樹脂被膜がよい。付加型ポリイミド樹脂は、
樹脂分子の末端に不飽和基を有し、付加反応やラジカル
反応による三次元架橋により得られるものであるが、硬
化に際して水が生成することがないので、磁石が酸化腐
食されやすいことを考慮すれば非常に都合のよい樹脂で
ある。付加型ポリイミド樹脂としては、無水アリルナジ
ック酸とジアミンから合成され、脱水閉環反応が完結し
た両末端にアリル基を有するイミドモノマーであるビス
アリルナジイミド（ＢＡＮＩ：図１参照）から得られる
樹脂の他、末端ナジック酸型ポリイミド樹脂（ＰＭ
Ｒ）、ビスマレイミド型ポリイミド樹脂、末端アセチレ
ン型ポリイミド樹脂など公知のものを使用することがで
きる。
【００１０】
【化１】
【００１１】縮合型ポリイミド樹脂としては、ピロメリ
ット酸二無水物と４，４’−ジアミノジフェニルエーテ
ルから脱水縮合反応を経て得られるピロメリット型ポリ
イミド樹脂が挙げられる。縮合型ポリイミド樹脂は、硬
化に際して水が生成するが、酸化被膜層は、磁石表面の
いわば保護層として水が磁石表面に接触しにくくする役
割を果たすので、優れた密着性を有するポリイミド樹脂
被膜を磁石表面に形成することができる。
ット酸二無水物と４，４’−ジアミノジフェニルエーテ
ルから脱水縮合反応を経て得られるピロメリット型ポリ
イミド樹脂が挙げられる。縮合型ポリイミド樹脂は、硬
化に際して水が生成するが、酸化被膜層は、磁石表面の
いわば保護層として水が磁石表面に接触しにくくする役
割を果たすので、優れた密着性を有するポリイミド樹脂
被膜を磁石表面に形成することができる。
【００１２】酸化被膜層の上へのポリイミド樹脂被膜の
形成は、ポリイミド樹脂被膜形成処理液を酸化被膜層表
面に塗布し、熱処理する方法（いわゆる溶液法）によっ
て行うことが、蒸着重合法と比較して簡便に行え、製造
コストの上昇を招くことなく量産化が可能となる点にお
いて望ましい。
形成は、ポリイミド樹脂被膜形成処理液を酸化被膜層表
面に塗布し、熱処理する方法（いわゆる溶液法）によっ
て行うことが、蒸着重合法と比較して簡便に行え、製造
コストの上昇を招くことなく量産化が可能となる点にお
いて望ましい。
【００１３】ポリイミド樹脂被膜形成処理液は、ポリイ
ミド樹脂自体、ポリイミド樹脂の原料となるモノマーや
オリゴマーなどを必要に応じて有機溶媒に溶解して調製
すればよい。たとえば、ビスアリルナジイミドは、かさ
高い構造を有した低分子量のイミドモノマーであるの
で、脂肪族炭化水素、脂肪族アルコールを除くほとんど
の有機溶媒に可溶である。また、ピロメリット型ポリイ
ミド樹脂被膜を形成するための溶液は、たとえば、ピロ
メリット酸二無水物と４，４’−ジアミノジフェニルエ
ーテルを高極性溶媒のＮ−メチル−２−ピロリドンに溶
解して調製すればよい。
ミド樹脂自体、ポリイミド樹脂の原料となるモノマーや
オリゴマーなどを必要に応じて有機溶媒に溶解して調製
すればよい。たとえば、ビスアリルナジイミドは、かさ
高い構造を有した低分子量のイミドモノマーであるの
で、脂肪族炭化水素、脂肪族アルコールを除くほとんど
の有機溶媒に可溶である。また、ピロメリット型ポリイ
ミド樹脂被膜を形成するための溶液は、たとえば、ピロ
メリット酸二無水物と４，４’−ジアミノジフェニルエ
ーテルを高極性溶媒のＮ−メチル−２−ピロリドンに溶
解して調製すればよい。
【００１４】ポリイミド樹脂被膜形成処理液の酸化被膜
層表面への塗布方法としては、ディップコーティング
法、スプレー法、スピンコート法などを用いることがで
きる。
層表面への塗布方法としては、ディップコーティング
法、スプレー法、スピンコート法などを用いることがで
きる。
【００１５】酸化被膜層表面にポリイミド樹脂被膜形成
処理液を塗布した後の熱処理は、２００℃〜３００℃で
行うことが望ましい。２００℃未満であると硬化反応が
十分に進行しないおそれがあり、３００℃を越えると被
膜の劣化を招くおそれがあるからである。熱処理時間
は、通常、５分〜２４時間である。なお、必要に応じ
て、熱処理を行う前に、有機溶媒を除去するための乾燥
処理（たとえば、６０℃〜９０℃の条件下、５分〜１時
間）を行ってもよい。
処理液を塗布した後の熱処理は、２００℃〜３００℃で
行うことが望ましい。２００℃未満であると硬化反応が
十分に進行しないおそれがあり、３００℃を越えると被
膜の劣化を招くおそれがあるからである。熱処理時間
は、通常、５分〜２４時間である。なお、必要に応じ
て、熱処理を行う前に、有機溶媒を除去するための乾燥
処理（たとえば、６０℃〜９０℃の条件下、５分〜１時
間）を行ってもよい。
【００１６】酸化被膜層の上へのポリイミド樹脂被膜の
形成は、上記のポリイミド樹脂被膜形成処理液を酸化被
膜層表面に塗布し、熱処理する方法に限られるものでは
なく、蒸着重合法によって行ってもよい。たとえば、酸
化被膜層の上にピロメリット型ポリイミド樹脂被膜を蒸
着重合法によって形成する場合は、酸化被膜層を有する
磁石を真空度１Ｐａ〜１０−３Ｐａの真空容器内に収容
し、ピロメリット酸二無水物と４，４’−ジアミノジフ
ェニルエーテルを２００℃〜２５０℃で加熱蒸着してポ
リアミック酸被膜を形成した後、真空度１０−３Ｐａ〜
１０−５Ｐａの真空下、２８０℃〜３８０℃でイミド化
処理を行う方法が挙げられる（特開平９−１８０９２２
号公報を参照）。
形成は、上記のポリイミド樹脂被膜形成処理液を酸化被
膜層表面に塗布し、熱処理する方法に限られるものでは
なく、蒸着重合法によって行ってもよい。たとえば、酸
化被膜層の上にピロメリット型ポリイミド樹脂被膜を蒸
着重合法によって形成する場合は、酸化被膜層を有する
磁石を真空度１Ｐａ〜１０−３Ｐａの真空容器内に収容
し、ピロメリット酸二無水物と４，４’−ジアミノジフ
ェニルエーテルを２００℃〜２５０℃で加熱蒸着してポ
リアミック酸被膜を形成した後、真空度１０−３Ｐａ〜
１０−５Ｐａの真空下、２８０℃〜３８０℃でイミド化
処理を行う方法が挙げられる（特開平９−１８０９２２
号公報を参照）。
【００１７】上記の方法によって形成されるポリイミド
樹脂被膜は、酸化被膜層を介して、磁石表面に強固に密
着しているので、膜厚が１μｍ以上であれば優れた耐食
性などの性能を発揮する。なお、ポリイミド樹脂被膜の
膜厚の上限は限定されるものではないが、磁石自体の小
型化に基づく要請から、１５μｍ以下が望ましく、１０
μｍ以下がより望ましい。なお、必要に応じて、酸化被
膜層表面へのポリイミド樹脂被膜形成処理液の塗布、そ
れに続く熱処理を複数回繰り返して行ってもよいことは
いうまでもない。さらに、ポリイミド樹脂被膜の各種性
能（耐磨耗性や滑り性など）を高めるために、被膜中に
チタンやニッケルなどの金属の微粒子、アルミナやシリ
カなどのセラミックスや金属酸化物などの微粒子、テフ
ロン（登録商標）などの合成樹脂の微粒子、その他、有
機顔料や無機顔料として使用される各種微粒子を分散さ
せてもよい。たとえば、被膜中に粒径１μｍのテフロン
球を２０重量％程度分散させれば、ポリイミド樹脂被膜
の滑り性を向上させることができる。添加する微粒子の
大きさや形状は、形成される被膜の性能や膜厚などを考
慮して適宜選択されるものであるが、通常、粒径０．０
１μｍ〜５μｍの微粒子を使用することができる。
樹脂被膜は、酸化被膜層を介して、磁石表面に強固に密
着しているので、膜厚が１μｍ以上であれば優れた耐食
性などの性能を発揮する。なお、ポリイミド樹脂被膜の
膜厚の上限は限定されるものではないが、磁石自体の小
型化に基づく要請から、１５μｍ以下が望ましく、１０
μｍ以下がより望ましい。なお、必要に応じて、酸化被
膜層表面へのポリイミド樹脂被膜形成処理液の塗布、そ
れに続く熱処理を複数回繰り返して行ってもよいことは
いうまでもない。さらに、ポリイミド樹脂被膜の各種性
能（耐磨耗性や滑り性など）を高めるために、被膜中に
チタンやニッケルなどの金属の微粒子、アルミナやシリ
カなどのセラミックスや金属酸化物などの微粒子、テフ
ロン（登録商標）などの合成樹脂の微粒子、その他、有
機顔料や無機顔料として使用される各種微粒子を分散さ
せてもよい。たとえば、被膜中に粒径１μｍのテフロン
球を２０重量％程度分散させれば、ポリイミド樹脂被膜
の滑り性を向上させることができる。添加する微粒子の
大きさや形状は、形成される被膜の性能や膜厚などを考
慮して適宜選択されるものであるが、通常、粒径０．０
１μｍ〜５μｍの微粒子を使用することができる。
【００１８】本発明において用いられるＲ−Ｆｅ−Ｂ系
永久磁石における希土類元素（Ｒ）は、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄ
ｙ、Ｈｏ、Ｔｂ、Ｓｍのうち少なくとも１種、あるいは
さらに、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｔｍ、Ｙｂ、
Ｌｕ、Ｙのうち少なくとも１種を含むものが望ましい。
また、通常はＲのうち１種をもって足りるが、実用上は
２種以上の混合物（ミッシュメタルやジジムなど）を入
手上の便宜などの理由によって用いることもできる。Ｒ
−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石におけるＲの含量は、１０原子％
未満であると結晶構造がα−Ｆｅと同一構造の立方晶組
織となるため、高磁気特性、特に高い保磁力（ＨｃＪ）
が得られず、一方、３０原子％を超えるとＲリッチな非
磁性相が多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）が低下して優
れた特性の永久磁石が得られないので、組成の１０原子
％〜３０原子％であることが望ましい。
永久磁石における希土類元素（Ｒ）は、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄ
ｙ、Ｈｏ、Ｔｂ、Ｓｍのうち少なくとも１種、あるいは
さらに、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｔｍ、Ｙｂ、
Ｌｕ、Ｙのうち少なくとも１種を含むものが望ましい。
また、通常はＲのうち１種をもって足りるが、実用上は
２種以上の混合物（ミッシュメタルやジジムなど）を入
手上の便宜などの理由によって用いることもできる。Ｒ
−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石におけるＲの含量は、１０原子％
未満であると結晶構造がα−Ｆｅと同一構造の立方晶組
織となるため、高磁気特性、特に高い保磁力（ＨｃＪ）
が得られず、一方、３０原子％を超えるとＲリッチな非
磁性相が多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）が低下して優
れた特性の永久磁石が得られないので、組成の１０原子
％〜３０原子％であることが望ましい。
【００１９】Ｆｅの含量は、６５原子％未満であるとＢ
ｒが低下し、８０原子％を超えると高いＨｃＪが得られ
ないので、６５原子％〜８０原子％の含有が望ましい。
また、Ｆｅの一部をＣｏで置換することによって、得ら
れる磁石の磁気特性を損なうことなしに温度特性を改善
することができるが、Ｃｏ置換量がＦｅの２０原子％を
超えると磁気特性が劣化するので望ましくない。Ｃｏ置
換量が５原子％〜１５原子％の場合、Ｂｒは置換しない
場合に比較して増加するため、高磁束密度を得るのに望
ましい。
ｒが低下し、８０原子％を超えると高いＨｃＪが得られ
ないので、６５原子％〜８０原子％の含有が望ましい。
また、Ｆｅの一部をＣｏで置換することによって、得ら
れる磁石の磁気特性を損なうことなしに温度特性を改善
することができるが、Ｃｏ置換量がＦｅの２０原子％を
超えると磁気特性が劣化するので望ましくない。Ｃｏ置
換量が５原子％〜１５原子％の場合、Ｂｒは置換しない
場合に比較して増加するため、高磁束密度を得るのに望
ましい。
【００２０】Ｂの含量は、２原子％未満であると菱面体
構造が主相となり、高いＨｃＪは得られず、２８原子％
を超えるとＢリッチな非磁性相が多くなり、Ｂｒが低下
して優れた特性の永久磁石が得られないので、２原子％
〜２８原子％の含有が望ましい。また、磁石の製造性の
改善や低価格化のために、２．０ｗｔ％以下のＰ、２．
０ｗｔ％以下のＳのうち、少なくとも１種、合計量で
２．０ｗｔ％以下を含有していてもよい。さらに、Ｂの
一部を３０ｗｔ％以下のＣで置換することによって、磁
石の耐食性を改善することができる。
構造が主相となり、高いＨｃＪは得られず、２８原子％
を超えるとＢリッチな非磁性相が多くなり、Ｂｒが低下
して優れた特性の永久磁石が得られないので、２原子％
〜２８原子％の含有が望ましい。また、磁石の製造性の
改善や低価格化のために、２．０ｗｔ％以下のＰ、２．
０ｗｔ％以下のＳのうち、少なくとも１種、合計量で
２．０ｗｔ％以下を含有していてもよい。さらに、Ｂの
一部を３０ｗｔ％以下のＣで置換することによって、磁
石の耐食性を改善することができる。
【００２１】さらに、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｂ
ｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、
Ｎｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｈｆ、Ｇａのうち少なくとも１種の
添加は、保磁力や減磁曲線の角型性の改善、製造性の改
善、低価格化に効果がある。なお、その添加量は、最大
エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘを１５９ｋＪ／ｍ３以上と
するためには、Ｂｒが少なくとも０．９Ｔ以上必要とな
るので、該条件を満たす範囲で添加することが望まし
い。なお、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石には、Ｒ、Ｆｅ、Ｂ
以外に工業的生産上不可避な不純物を含有するものでも
差し支えない。
ｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、
Ｎｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｈｆ、Ｇａのうち少なくとも１種の
添加は、保磁力や減磁曲線の角型性の改善、製造性の改
善、低価格化に効果がある。なお、その添加量は、最大
エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘを１５９ｋＪ／ｍ３以上と
するためには、Ｂｒが少なくとも０．９Ｔ以上必要とな
るので、該条件を満たす範囲で添加することが望まし
い。なお、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石には、Ｒ、Ｆｅ、Ｂ
以外に工業的生産上不可避な不純物を含有するものでも
差し支えない。
【００２２】また、本発明において用いられるＲ−Ｆｅ
−Ｂ系永久磁石の中で、平均結晶粒径が１μｍ〜８０μ
ｍの範囲にある正方晶系の結晶構造を有する化合物を主
相とし、体積比で１％〜５０％の非磁性相（酸化物相を
除く）を含むことを特徴とする磁石は、ＨｃＪ≧８０ｋ
Ａ／ｍ、Ｂｒ＞０．４Ｔ、（ＢＨ）ｍａｘ≧８０ｋＪ／
ｍ３を示し、（ＢＨ）ｍａｘの最大値は１９９ｋＪ／ｍ
３以上に達する。
−Ｂ系永久磁石の中で、平均結晶粒径が１μｍ〜８０μ
ｍの範囲にある正方晶系の結晶構造を有する化合物を主
相とし、体積比で１％〜５０％の非磁性相（酸化物相を
除く）を含むことを特徴とする磁石は、ＨｃＪ≧８０ｋ
Ａ／ｍ、Ｂｒ＞０．４Ｔ、（ＢＨ）ｍａｘ≧８０ｋＪ／
ｍ３を示し、（ＢＨ）ｍａｘの最大値は１９９ｋＪ／ｍ
３以上に達する。
【００２３】なお、本発明のポリイミド樹脂被膜の上
に、更に別の被膜を積層形成してもよい。このような構
成を採用することによって、ポリイミド樹脂被膜の特性
を増強・補完したり、さらなる機能性を付与したりする
ことができる。
に、更に別の被膜を積層形成してもよい。このような構
成を採用することによって、ポリイミド樹脂被膜の特性
を増強・補完したり、さらなる機能性を付与したりする
ことができる。
【００２４】
【実施例】たとえば、米国特許４７７０７２３号公報に
記載されているようにして、公知の鋳造インゴットを粉
砕し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理、表面加工を行う
ことによって得られた１７Ｎｄ−１Ｐｒ−７５Ｆｅ−７
Ｂ組成の２３ｍｍ×１０ｍｍ×６ｍｍ寸法の焼結磁石
（以下「磁石体試験片」と称する）を用いて以下の実験
を行った。以下の実験において、酸化被膜層の膜厚およ
びポリイミド樹脂被膜の膜厚は破断面の電子顕微鏡観察
によって測定した。なお、本発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼
結磁石への適用に限られるものではなく、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
系ボンド磁石に対しても適用できるものである。
記載されているようにして、公知の鋳造インゴットを粉
砕し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理、表面加工を行う
ことによって得られた１７Ｎｄ−１Ｐｒ−７５Ｆｅ−７
Ｂ組成の２３ｍｍ×１０ｍｍ×６ｍｍ寸法の焼結磁石
（以下「磁石体試験片」と称する）を用いて以下の実験
を行った。以下の実験において、酸化被膜層の膜厚およ
びポリイミド樹脂被膜の膜厚は破断面の電子顕微鏡観察
によって測定した。なお、本発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼
結磁石への適用に限られるものではなく、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
系ボンド磁石に対しても適用できるものである。
【００２５】実験例１：１１個の磁石体試験片をサンプ
ルとして用い、以下の実験を行った。各磁石体試験片を
バレル研磨し、洗浄した後、直ちに処理室内に収容し、
それぞれ表１と表２に示す条件にて酸化処理を行い、磁
石体試験片表面に酸化被膜層を形成した。形成された酸
化被膜層の膜厚は表３の通りである。
ルとして用い、以下の実験を行った。各磁石体試験片を
バレル研磨し、洗浄した後、直ちに処理室内に収容し、
それぞれ表１と表２に示す条件にて酸化処理を行い、磁
石体試験片表面に酸化被膜層を形成した。形成された酸
化被膜層の膜厚は表３の通りである。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【表２】
【００２８】
【表３】
【００２９】次に、各サンプルに対し、ＢＡＮＩ−Ｍ
（商品名・丸善石油化学社製）を、有機溶媒としてトル
エンを用いて２０％（ｖｏｌ／ｖｏｌ）に希釈した溶液
を、ポリイミド樹脂被膜形成処理液として、スプレー法
によって塗布した。これを８０℃にて１０分乾燥した
後、２５０℃にて１５分熱処理を行い、酸化被膜層表面
にポリイミド樹脂被膜を形成した。形成されたポリイミ
ド樹脂被膜の膜厚は５μｍであった。なお、サンプル２
とサンプル５については、上記のスプレー法による塗布
と乾燥をもう一度繰り返して行った後に熱処理を行っ
て、膜厚が１０μｍのポリイミド樹脂被膜を形成した。
各サンプルを温度５０℃×相対湿度９０％の高温高湿条
件下に放置して耐食性加速試験を行った。結果を表４に
示す。結果として、いずれのサンプルも試験開始から１
００時間までは錆は発生せず、優れた耐食性を示した。
サンプル１とサンプル２の耐食性が他のサンプルに比べ
て劣るのは、高温で酸化被膜層を形成したことで、形成
された酸化被膜層は緻密性に劣り、また膜厚も厚くなっ
て、磁石体試験片表面に対するポリイミド樹脂被膜の密
着性が弱まったためと考えられた。
（商品名・丸善石油化学社製）を、有機溶媒としてトル
エンを用いて２０％（ｖｏｌ／ｖｏｌ）に希釈した溶液
を、ポリイミド樹脂被膜形成処理液として、スプレー法
によって塗布した。これを８０℃にて１０分乾燥した
後、２５０℃にて１５分熱処理を行い、酸化被膜層表面
にポリイミド樹脂被膜を形成した。形成されたポリイミ
ド樹脂被膜の膜厚は５μｍであった。なお、サンプル２
とサンプル５については、上記のスプレー法による塗布
と乾燥をもう一度繰り返して行った後に熱処理を行っ
て、膜厚が１０μｍのポリイミド樹脂被膜を形成した。
各サンプルを温度５０℃×相対湿度９０％の高温高湿条
件下に放置して耐食性加速試験を行った。結果を表４に
示す。結果として、いずれのサンプルも試験開始から１
００時間までは錆は発生せず、優れた耐食性を示した。
サンプル１とサンプル２の耐食性が他のサンプルに比べ
て劣るのは、高温で酸化被膜層を形成したことで、形成
された酸化被膜層は緻密性に劣り、また膜厚も厚くなっ
て、磁石体試験片表面に対するポリイミド樹脂被膜の密
着性が弱まったためと考えられた。
【００３０】
【表４】
【００３１】各サンプルの電気絶縁性を体積抵抗率
（ρ）によって評価したところ、いずれのサンプルも１
×１０１５Ω・ｃｍ以上という優れた値を示した。な
お、体積抵抗率は、サンプルに電極付けを行い、被膜表
面と磁石間の抵抗を測定し、ρ＝Ｒ・Ｓ／ｌの数式から
求めた（Ｒ：抵抗（Ω）、Ｓ：電極面積（ｃｍ２）、
ｌ：ポリイミド樹脂被膜膜厚（ｃｍ））。また、耐熱性
を熱変形温度によって評価したところ、いずれのサンプ
ルも２８０℃以上という優れた値を示した。なお、熱変
形温度は、大気中２０時間その温度に放置して被膜の変
色、亀裂などが生じる温度とした。
（ρ）によって評価したところ、いずれのサンプルも１
×１０１５Ω・ｃｍ以上という優れた値を示した。な
お、体積抵抗率は、サンプルに電極付けを行い、被膜表
面と磁石間の抵抗を測定し、ρ＝Ｒ・Ｓ／ｌの数式から
求めた（Ｒ：抵抗（Ω）、Ｓ：電極面積（ｃｍ２）、
ｌ：ポリイミド樹脂被膜膜厚（ｃｍ））。また、耐熱性
を熱変形温度によって評価したところ、いずれのサンプ
ルも２８０℃以上という優れた値を示した。なお、熱変
形温度は、大気中２０時間その温度に放置して被膜の変
色、亀裂などが生じる温度とした。
【００３２】比較例：２個の磁石体試験片をサンプルと
して用い、以下の実験を行った。実験例１と同様に、両
磁石体試験片をバレル研磨し、洗浄した。次にアルゴン
雰囲気としたチャンバー内にてサンドペーパーを用いて
磁石体試験片表面を研磨した後、実験例１で使用したも
のと同じポリイミド樹脂被膜形成処理液を使用し、実験
例１と同じ条件にて、磁石体試験片表面に直接、膜厚が
５μｍのポリイミド樹脂被膜を形成した。なお、一方の
サンプルについては、スプレー法による塗布と乾燥をも
う一度繰り返して行った後に熱処理を行って、膜厚が１
０μｍのポリイミド樹脂被膜を形成した。両サンプルを
温度５０℃×相対湿度９０％の高温高湿条件下に放置し
て耐食性加速試験を行った。その結果、膜厚が５μｍの
ポリイミド樹脂被膜を有するサンプルは４８時間で被膜
剥離と発錆を招いた。膜厚が１０μｍのポリイミド樹脂
被膜を有するサンプルは６０時間で被膜剥離と発錆を招
いた。
して用い、以下の実験を行った。実験例１と同様に、両
磁石体試験片をバレル研磨し、洗浄した。次にアルゴン
雰囲気としたチャンバー内にてサンドペーパーを用いて
磁石体試験片表面を研磨した後、実験例１で使用したも
のと同じポリイミド樹脂被膜形成処理液を使用し、実験
例１と同じ条件にて、磁石体試験片表面に直接、膜厚が
５μｍのポリイミド樹脂被膜を形成した。なお、一方の
サンプルについては、スプレー法による塗布と乾燥をも
う一度繰り返して行った後に熱処理を行って、膜厚が１
０μｍのポリイミド樹脂被膜を形成した。両サンプルを
温度５０℃×相対湿度９０％の高温高湿条件下に放置し
て耐食性加速試験を行った。その結果、膜厚が５μｍの
ポリイミド樹脂被膜を有するサンプルは４８時間で被膜
剥離と発錆を招いた。膜厚が１０μｍのポリイミド樹脂
被膜を有するサンプルは６０時間で被膜剥離と発錆を招
いた。
【００３３】実験例２：実験例１と同様、１１個の磁石
体試験片をサンプルとして用い、実験例１と同様の条件
にてその表面に酸化被膜層を形成した後、実験例１にお
けるポリイミド樹脂被膜形成処理液の調製に用いたトル
エンの代わりにキシレンとメチルイソブチルケトンの混
合溶媒（容積比６５：３５）を用いる以外は実験例１と
同様の条件、膜厚にて酸化被膜層表面にポリイミド樹脂
被膜を形成した。各サンプルに対して実験例１と同様の
耐食性加速試験、電気絶縁性評価、耐熱性評価を行った
ところ、いずれのサンプルも実験例１のサンプルと同様
の結果を示した。
体試験片をサンプルとして用い、実験例１と同様の条件
にてその表面に酸化被膜層を形成した後、実験例１にお
けるポリイミド樹脂被膜形成処理液の調製に用いたトル
エンの代わりにキシレンとメチルイソブチルケトンの混
合溶媒（容積比６５：３５）を用いる以外は実験例１と
同様の条件、膜厚にて酸化被膜層表面にポリイミド樹脂
被膜を形成した。各サンプルに対して実験例１と同様の
耐食性加速試験、電気絶縁性評価、耐熱性評価を行った
ところ、いずれのサンプルも実験例１のサンプルと同様
の結果を示した。
【００３４】
【発明の効果】本発明のＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面
に、酸化被膜層を介して、ポリイミド樹脂被膜を有する
永久磁石は、ポリイミド樹脂被膜が、酸化被膜層の存在
によって、磁石表面に強固に密着しており、優れた耐食
性などの性能を発揮する。また、酸化被膜層の上では、
ポリイミド樹脂被膜形成反応が効率よく進行するので、
溶液法によっても磁石表面に対して優れた密着性を有す
るポリイミド樹脂被膜を形成することができる。
に、酸化被膜層を介して、ポリイミド樹脂被膜を有する
永久磁石は、ポリイミド樹脂被膜が、酸化被膜層の存在
によって、磁石表面に強固に密着しており、優れた耐食
性などの性能を発揮する。また、酸化被膜層の上では、
ポリイミド樹脂被膜形成反応が効率よく進行するので、
溶液法によっても磁石表面に対して優れた密着性を有す
るポリイミド樹脂被膜を形成することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菊井 文秋 大阪府三島郡島本町江川２丁目15番17号 住友特殊金属株式会社山崎製作所内 Ｆターム(参考） 5E062 CC03 CD04 CD05 CG02 CG03 CG07
Claims (9)
- 【請求項１】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面に、酸化被
膜層を介して、ポリイミド樹脂被膜を有することを特徴
とする永久磁石。 - 【請求項２】 ポリイミド樹脂被膜が付加型ポリイミド
樹脂被膜であることを特徴とする請求項１記載の永久磁
石。 - 【請求項３】 付加型ポリイミド樹脂被膜がビスアリル
ナジイミドから得られる被膜であることを特徴とする請
求項２記載の永久磁石。 - 【請求項４】 酸化被膜層の膜厚が０．０１μｍ〜２μ
ｍであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに
記載の永久磁石。 - 【請求項５】 ポリイミド樹脂被膜の膜厚が１μｍ〜１
５μｍであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれ
かに記載の永久磁石。 - 【請求項６】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面に、酸素雰
囲気中での酸化処理によって酸化被膜層を形成した後、
前記酸化被膜層表面に、ポリイミド樹脂被膜形成処理液
を塗布し、熱処理することによってポリイミド樹脂被膜
を形成することを特徴とする永久磁石の製造方法。 - 【請求項７】 酸素雰囲気中での酸化処理を、酸素濃度
が０．０１％〜２０％の常圧下、または酸素圧（分圧）
が０．１Ｐａ〜２×１０４Ｐａの減圧下、１０℃〜３０
０℃にて行うことを特徴とする請求項６記載の製造方
法。 - 【請求項８】 ポリイミド樹脂被膜が付加型ポリイミド
樹脂被膜であることを特徴とする請求項６または７記載
の製造方法。 - 【請求項９】 付加型ポリイミド樹脂被膜がビスアリル
ナジイミドから得られる被膜であることを特徴とする請
求項８記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000276797A JP2001160508A (ja) | 1999-09-24 | 2000-09-12 | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-269928 | 1999-09-24 | ||
| JP26992899 | 1999-09-24 | ||
| JP2000276797A JP2001160508A (ja) | 1999-09-24 | 2000-09-12 | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001160508A true JP2001160508A (ja) | 2001-06-12 |
Family
ID=26548990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000276797A Pending JP2001160508A (ja) | 1999-09-24 | 2000-09-12 | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001160508A (ja) |
Cited By (10)
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| JP2006156853A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Tdk Corp | 希土類磁石 |
| JP2007329331A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Hitachi Metals Ltd | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系希土類焼結磁石およびその製造方法 |
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2000
- 2000-09-12 JP JP2000276797A patent/JP2001160508A/ja active Pending
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