JPH10340823A - 耐塩水性にすぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の製造方法 - Google Patents
耐塩水性にすぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の製造方法Info
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- JPH10340823A JPH10340823A JP9165101A JP16510197A JPH10340823A JP H10340823 A JPH10340823 A JP H10340823A JP 9165101 A JP9165101 A JP 9165101A JP 16510197 A JP16510197 A JP 16510197A JP H10340823 A JPH10340823 A JP H10340823A
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- H01F41/32—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying conductive, insulating or magnetic material on a magnetic film, specially adapted for a thin magnetic film
- H01F41/34—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying conductive, insulating or magnetic material on a magnetic film, specially adapted for a thin magnetic film in patterns, e.g. by lithography
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ３０年保証等の高耐久性を要求されるエレベ
ーター用モーターの永久磁石に求められる特に耐塩水性
にすぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の提供。 【解決手段】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面に被覆した
特定の所定膜厚みの下地金属層表面にプラズマ照射した
後、蒸着重合法によりポリイミド樹脂にて被履すること
により、密着性向上と共に耐塩水性にすぐれたエレベー
ター用永久磁石等の苛酷な用途に提供でき、モーターの
小型軽量化に寄与する。
ーター用モーターの永久磁石に求められる特に耐塩水性
にすぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の提供。 【解決手段】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石表面に被覆した
特定の所定膜厚みの下地金属層表面にプラズマ照射した
後、蒸着重合法によりポリイミド樹脂にて被履すること
により、密着性向上と共に耐塩水性にすぐれたエレベー
ター用永久磁石等の苛酷な用途に提供でき、モーターの
小型軽量化に寄与する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系
永久磁石の製造方法の改良に係り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久
磁石表面に被覆した所定膜厚みの下地金属層表面にプラ
ズマ照射した後、蒸着重合法によりポリイミド樹脂にて
被履し、エレベーター用モーターに求められる３０年保
証等の高耐久性を満足する極めて高い耐塩水性と耐熱性
を達成し、且つ磁気特性の経年変化の少ない密着性のす
ぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の製造方法に関する。
永久磁石の製造方法の改良に係り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久
磁石表面に被覆した所定膜厚みの下地金属層表面にプラ
ズマ照射した後、蒸着重合法によりポリイミド樹脂にて
被履し、エレベーター用モーターに求められる３０年保
証等の高耐久性を満足する極めて高い耐塩水性と耐熱性
を達成し、且つ磁気特性の経年変化の少ない密着性のす
ぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は、実用化され
ている磁石の中で最もすぐれた磁気特性を有するが、耐
食性及び磁気特性の温度特性が悪いという欠点があり、
耐食性改善のため磁石表面にＮｉめっき層を被履するこ
とが提案（特開昭６０−６３９０２号）されている。
ている磁石の中で最もすぐれた磁気特性を有するが、耐
食性及び磁気特性の温度特性が悪いという欠点があり、
耐食性改善のため磁石表面にＮｉめっき層を被履するこ
とが提案（特開昭６０−６３９０２号）されている。
【０００３】一方、エレベーター用磁石に要求される３
０年保証等の高耐久性を要求される用途では、使用環境
が高温多湿でかつ温度変化が激しく、機械油に含有され
る塩素イオンがガス体として発生したり、例えば海岸近
辺での使用が想定されるなど、最も過酷な耐食性条件で
ある耐塩水性試験におけるすぐれた耐食性を必要とされ
るが、前記Ｎｉめっき層あるいは樹脂層を被覆すること
により耐食性は改善されても、エレベーター用磁石など
の用途には使用できない。
０年保証等の高耐久性を要求される用途では、使用環境
が高温多湿でかつ温度変化が激しく、機械油に含有され
る塩素イオンがガス体として発生したり、例えば海岸近
辺での使用が想定されるなど、最も過酷な耐食性条件で
ある耐塩水性試験におけるすぐれた耐食性を必要とされ
るが、前記Ｎｉめっき層あるいは樹脂層を被覆すること
により耐食性は改善されても、エレベーター用磁石など
の用途には使用できない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】最近、鉄心の磁極面と
アクチュエータの磁極面にそれぞれＮｉめっき層上に高
耐摩耗性被膜としてポリイミド樹脂を蒸着重合法にて被
履することが提案（特開平３−２７６５３２号）されて
おり、この方法はリレーの対向磁極面の耐摩耗性の改善
向上させることが可能であるが、前記のエレベーター用
磁石に要求される３０年保証等の高耐久性を要求される
用途では、十分な耐塩水性が得られない。
アクチュエータの磁極面にそれぞれＮｉめっき層上に高
耐摩耗性被膜としてポリイミド樹脂を蒸着重合法にて被
履することが提案（特開平３−２７６５３２号）されて
おり、この方法はリレーの対向磁極面の耐摩耗性の改善
向上させることが可能であるが、前記のエレベーター用
磁石に要求される３０年保証等の高耐久性を要求される
用途では、十分な耐塩水性が得られない。
【０００５】また、発明者らは、磁石表面にポリイミド
樹脂を直接蒸着重合法にて被履する場合、重合反応後、
常圧下で蒸着重合時及びイミド化処理時に磁石表面に水
分を生成して、前記水分と磁石表面が反応して磁石表面
へのポリイミド樹脂の密着性を阻害する問題があること
を知見した。そのため、発明者は先にＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁
石とポリイミド樹脂との密着性改善のため、Ｒ−Ｆｅ−
Ｂ系磁石表面にＡｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の下地金属層を介在
させることを提案（特願平８−０８１０３９号）した。
樹脂を直接蒸着重合法にて被履する場合、重合反応後、
常圧下で蒸着重合時及びイミド化処理時に磁石表面に水
分を生成して、前記水分と磁石表面が反応して磁石表面
へのポリイミド樹脂の密着性を阻害する問題があること
を知見した。そのため、発明者は先にＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁
石とポリイミド樹脂との密着性改善のため、Ｒ−Ｆｅ−
Ｂ系磁石表面にＡｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の下地金属層を介在
させることを提案（特願平８−０８１０３９号）した。
【０００６】しかしながら、前記提案の方法では長期間
保管の場合、ポリイミド膜は透水性があるため、下地金
属膜の表面に酸化膜を形成して、下地金属膜とポリイミ
ド膜との密着性を劣化する恐れがあった。
保管の場合、ポリイミド膜は透水性があるため、下地金
属膜の表面に酸化膜を形成して、下地金属膜とポリイミ
ド膜との密着性を劣化する恐れがあった。
【０００７】この発明は、特に、エレベーター用モータ
ーの永久磁石等に求められる３０年保証等の高耐久性を
満足する極めて高い耐塩水性と耐熱性を有し、且つすぐ
れた密着性を有する磁気特性の経年変化の少ないＲ−Ｆ
ｅ−Ｂ系永久磁石の製造方法の提供を目的としている。
ーの永久磁石等に求められる３０年保証等の高耐久性を
満足する極めて高い耐塩水性と耐熱性を有し、且つすぐ
れた密着性を有する磁気特性の経年変化の少ないＲ−Ｆ
ｅ−Ｂ系永久磁石の製造方法の提供を目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】発明者らは、磁気特性の
すぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石をエレベーター用モー
ター等に使用するため、極めて高い耐塩水性が得られる
被覆について、種々検討した結果、磁石表面を厚膜の金
属膜で被覆した後、前記金属膜表面にプラズマ照射した
後、ポリイミド樹脂により被履することにより、すぐれ
た密着性と共に磁気特性を具備するとともに、耐塩水性
が大きく改善向上することを知見した。
すぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石をエレベーター用モー
ター等に使用するため、極めて高い耐塩水性が得られる
被覆について、種々検討した結果、磁石表面を厚膜の金
属膜で被覆した後、前記金属膜表面にプラズマ照射した
後、ポリイミド樹脂により被履することにより、すぐれ
た密着性と共に磁気特性を具備するとともに、耐塩水性
が大きく改善向上することを知見した。
【０００９】すなわち、前記したごとく磁石表面にポリ
イミド樹脂を直接蒸着重合法にて被履する場合、磁石表
面に水分を生成してポリイミド樹脂の密着性を阻害する
問題があり、更に高耐久性を満足する耐塩水性と耐熱性
を満足するため、検討を加えた結果、磁石表面をイオン
スパッター法等により清浄化した後、前記磁石体表面に
めっき法あるいはイオンプレーティング法、イオンスパ
ッタリング法、蒸着等の気相薄膜形成法により、Ｒ−Ｆ
ｅ−Ｂ系永久磁石との密着性及びポリイミド樹脂との密
着性の良好な特定膜厚のＡｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｓ
ｎ、Ｆｅ等の金属または合金被膜による下地金属膜を形
成後、前記金属膜表面にプラズマ照射し、その上にポリ
イミド樹脂を蒸着重合により形成することにより、目的
とする耐塩水性にすぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石が得
られることを知見し、この発明を完成した。
イミド樹脂を直接蒸着重合法にて被履する場合、磁石表
面に水分を生成してポリイミド樹脂の密着性を阻害する
問題があり、更に高耐久性を満足する耐塩水性と耐熱性
を満足するため、検討を加えた結果、磁石表面をイオン
スパッター法等により清浄化した後、前記磁石体表面に
めっき法あるいはイオンプレーティング法、イオンスパ
ッタリング法、蒸着等の気相薄膜形成法により、Ｒ−Ｆ
ｅ−Ｂ系永久磁石との密着性及びポリイミド樹脂との密
着性の良好な特定膜厚のＡｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｓ
ｎ、Ｆｅ等の金属または合金被膜による下地金属膜を形
成後、前記金属膜表面にプラズマ照射し、その上にポリ
イミド樹脂を蒸着重合により形成することにより、目的
とする耐塩水性にすぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石が得
られることを知見し、この発明を完成した。
【００１０】すなわち、この発明は、主相が正方晶から
なるＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石体表面に被覆した膜厚３．
０μｍ〜１０．０μｍの下地金属膜表面にプラズマ照射
した後、膜厚２．０μｍ〜１０μｍのポリイミド膜を被
覆することを特徴とする耐塩水性にすぐれたＲ−Ｆｅ−
Ｂ系永久磁石の製造方法である。
なるＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石体表面に被覆した膜厚３．
０μｍ〜１０．０μｍの下地金属膜表面にプラズマ照射
した後、膜厚２．０μｍ〜１０μｍのポリイミド膜を被
覆することを特徴とする耐塩水性にすぐれたＲ−Ｆｅ−
Ｂ系永久磁石の製造方法である。
【００１１】
【発明の実施の形態】この発明において、清浄化した磁
石表面に設ける下地金属膜の厚みを３．０μｍ〜１０．
０μｍに限定した理由は、３．０μｍ未満では十分なる
高い耐塩水性は得られず、１０．０μｍを越えると効果
的には問題ないが、下地膜としてコスト上昇を招来し
て、実用的でなく好ましくないので、下地金属膜厚は
３．０μｍ〜１０．０μｍとする。好ましい金属膜厚は
６μｍ〜８μｍである。
石表面に設ける下地金属膜の厚みを３．０μｍ〜１０．
０μｍに限定した理由は、３．０μｍ未満では十分なる
高い耐塩水性は得られず、１０．０μｍを越えると効果
的には問題ないが、下地膜としてコスト上昇を招来し
て、実用的でなく好ましくないので、下地金属膜厚は
３．０μｍ〜１０．０μｍとする。好ましい金属膜厚は
６μｍ〜８μｍである。
【００１２】また、下地金属膜の成膜方法は、電解めっ
き法や無電解めっき法などのめっき法あるいはイオンプ
レーティング法、イオンスパッタリング法、蒸着等の気
相薄膜形成法でよい。この発明において、下地金属膜に
は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石との密着性及びポリイミド
樹脂との密着性の良好なＡｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｓ
ｎ、Ｆｅおよびその合金が好ましい。
き法や無電解めっき法などのめっき法あるいはイオンプ
レーティング法、イオンスパッタリング法、蒸着等の気
相薄膜形成法でよい。この発明において、下地金属膜に
は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石との密着性及びポリイミド
樹脂との密着性の良好なＡｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｓ
ｎ、Ｆｅおよびその合金が好ましい。
【００１３】この発明においてプラズマ照射条件として
は、真空槽内に配設された２枚の平行平板電極のうち、
１枚に表面に下地金属膜を成膜したＲ−Ｆｅ−Ｂ磁石を
配置し、１×１０-3Ｐａ以下に排気してＡｒなどの不活
性ガスを導入し、０．１〜１００Ｐａの圧力にした後、
１ＭＨｚ〜２００ＭＨｚの高周波により、グロー放電を
起こし、下地金属表面に対してプラズマ照射を行う方法
が好ましい。
は、真空槽内に配設された２枚の平行平板電極のうち、
１枚に表面に下地金属膜を成膜したＲ−Ｆｅ−Ｂ磁石を
配置し、１×１０-3Ｐａ以下に排気してＡｒなどの不活
性ガスを導入し、０．１〜１００Ｐａの圧力にした後、
１ＭＨｚ〜２００ＭＨｚの高周波により、グロー放電を
起こし、下地金属表面に対してプラズマ照射を行う方法
が好ましい。
【００１４】この発明においてポリイミド樹脂の厚みを
２．０μｍ〜１０μｍに限定した理由は、２．０μｍ未
満では被覆が十分でなく、耐塩水性にすぐれた被膜が得
られず、１０μｍを越えると効果上は問題ないが、製造
コスト上昇を招来するので実用的でなく、好ましくな
い。
２．０μｍ〜１０μｍに限定した理由は、２．０μｍ未
満では被覆が十分でなく、耐塩水性にすぐれた被膜が得
られず、１０μｍを越えると効果上は問題ないが、製造
コスト上昇を招来するので実用的でなく、好ましくな
い。
【００１５】この発明において、蒸着重合する真空容器
の真空度を２０Ｐａ〜１０-3Ｐａに限定した理由は、２
０Ｐａを越えると重合反応が不均一となり膜質が劣化
し、また、１０-3Ｐａ未満ではモノマーの蒸発がきわめ
て少なく、安定した重合反応が生じないので好ましくな
いことによる。
の真空度を２０Ｐａ〜１０-3Ｐａに限定した理由は、２
０Ｐａを越えると重合反応が不均一となり膜質が劣化
し、また、１０-3Ｐａ未満ではモノマーの蒸発がきわめ
て少なく、安定した重合反応が生じないので好ましくな
いことによる。
【００１６】また、蒸着重合時の基板磁石の温度は、１
５０℃〜２２０℃に設定するのが好ましく、１５０℃未
満では磁石基板との密着が十分でなく、２２０℃を越え
ると磁石基板上での蒸着重合反応がすみやかに進行しな
いため、基板磁石の温度は１５０℃〜２２０℃に設定す
るとよい。
５０℃〜２２０℃に設定するのが好ましく、１５０℃未
満では磁石基板との密着が十分でなく、２２０℃を越え
ると磁石基板上での蒸着重合反応がすみやかに進行しな
いため、基板磁石の温度は１５０℃〜２２０℃に設定す
るとよい。
【００１７】この発明において、蒸着重合に用いる２種
類の原料モノマーは、芳香族カルボン酸二無水物、芳香
族ジアミンであり、芳香族カルボン酸二無水物としては
ピロメリット酸二無水物等があり、芳香族ジアミンとし
てはジアミノジフェニルエーテル、ｐ−フェニルジアミ
ン等が用いられる。
類の原料モノマーは、芳香族カルボン酸二無水物、芳香
族ジアミンであり、芳香族カルボン酸二無水物としては
ピロメリット酸二無水物等があり、芳香族ジアミンとし
てはジアミノジフェニルエーテル、ｐ−フェニルジアミ
ン等が用いられる。
【００１８】また、真空容器内で２種類の原料モノマー
を２００℃〜２５０℃で加熱蒸着する理由は、２００℃
未満では蒸発量が十分でなく、２５０℃を越えると蒸発
速度が大きすぎて膜厚制御が難しく、好ましくないこと
による。
を２００℃〜２５０℃で加熱蒸着する理由は、２００℃
未満では蒸発量が十分でなく、２５０℃を越えると蒸発
速度が大きすぎて膜厚制御が難しく、好ましくないこと
による。
【００１９】また、この発明において、ポリイミド樹脂
を生成するイミド化温度は、２４０℃未満ではイミド化
反応が十分に進行せず、下地金属との密着性が十分でな
く、３８０℃を越えるとポリイミド樹脂が劣化して脆く
なり亀裂等が生じて剥離を発生するため２４０℃〜３８
０℃とする。
を生成するイミド化温度は、２４０℃未満ではイミド化
反応が十分に進行せず、下地金属との密着性が十分でな
く、３８０℃を越えるとポリイミド樹脂が劣化して脆く
なり亀裂等が生じて剥離を発生するため２４０℃〜３８
０℃とする。
【００２０】この発明の永久磁石に用いる希土類元素Ｒ
は、組成の１０原子％〜３０原子％を占めるが、Ｎｄ、
Ｐｒ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｔｂのうち少なくとも１種、あるい
はさらに、Ｌａ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｔ
ｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙのうち少なくとも１種を含むものが
好ましい。また、通常Ｒのうち１種をもって足りるが、
実用上は２種以上の混合物（ミッシュメタル、ジジム
等）を入手上の便宜等の理由により用いることができ
る。なお、このＲは純希土類元素でなくてもよく、工業
上入手可能な範囲で製造上不可避な不純物を含有するも
のでも差支えない。
は、組成の１０原子％〜３０原子％を占めるが、Ｎｄ、
Ｐｒ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｔｂのうち少なくとも１種、あるい
はさらに、Ｌａ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｔ
ｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙのうち少なくとも１種を含むものが
好ましい。また、通常Ｒのうち１種をもって足りるが、
実用上は２種以上の混合物（ミッシュメタル、ジジム
等）を入手上の便宜等の理由により用いることができ
る。なお、このＲは純希土類元素でなくてもよく、工業
上入手可能な範囲で製造上不可避な不純物を含有するも
のでも差支えない。
【００２１】Ｒは、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石における必
須元素であって、１０原子％未満では結晶構造がα−鉄
と同一構造の立方晶組織となるため、高磁気特性、特に
高保磁力が得られず、３０原子％を越えるとＲリッチな
非磁性相が多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）が低下して
すぐれた特性の永久磁石が得られない。よって、Ｒは１
０原子％〜３０原子％の範囲が望ましい。
須元素であって、１０原子％未満では結晶構造がα−鉄
と同一構造の立方晶組織となるため、高磁気特性、特に
高保磁力が得られず、３０原子％を越えるとＲリッチな
非磁性相が多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）が低下して
すぐれた特性の永久磁石が得られない。よって、Ｒは１
０原子％〜３０原子％の範囲が望ましい。
【００２２】Ｂは、上記系永久磁石における必須元素で
あって、２原子％未満では菱面体構造が主相となり高い
保磁力（ｉＨｃ）は得られず、２８原子％を越えるとＢ
リッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）が
低下するため、すぐれた永久磁石が得られない。よっ
て、Ｂは２原子％〜２８原子％の範囲が望ましい。
あって、２原子％未満では菱面体構造が主相となり高い
保磁力（ｉＨｃ）は得られず、２８原子％を越えるとＢ
リッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）が
低下するため、すぐれた永久磁石が得られない。よっ
て、Ｂは２原子％〜２８原子％の範囲が望ましい。
【００２３】Ｆｅは、上記系永久磁石において必須元素
であり、６５原子％未満では残留磁束密度（Ｂｒ）が低
下し、８０原子％を越えると高い保磁力が得られないの
で、Ｆｅは６５原子％〜８０原子％の含有が望ましい。
であり、６５原子％未満では残留磁束密度（Ｂｒ）が低
下し、８０原子％を越えると高い保磁力が得られないの
で、Ｆｅは６５原子％〜８０原子％の含有が望ましい。
【００２４】また、Ｆｅの一部をＣｏで置換すること
は、得られる磁石の磁気特性を損うことなく、温度特性
を改善することができるが、Ｃｏ置換量がＦｅの２０％
を越えると、逆に磁気特性が劣化するため好ましくな
い。Ｃｏの置換量がＦｅとＣｏの合計量で５原子％〜１
５原子％の場合は、（Ｂｒ）は置換しない場合に比較し
て増加するため、高磁束密度を得るために好ましい。
は、得られる磁石の磁気特性を損うことなく、温度特性
を改善することができるが、Ｃｏ置換量がＦｅの２０％
を越えると、逆に磁気特性が劣化するため好ましくな
い。Ｃｏの置換量がＦｅとＣｏの合計量で５原子％〜１
５原子％の場合は、（Ｂｒ）は置換しない場合に比較し
て増加するため、高磁束密度を得るために好ましい。
【００２５】また、Ｒ、Ｂ、Ｆｅの他、工業的生産上不
可避的不純物の存在を許容でき、例えば、Ｂの一部を
４．０ｗｔ％以下のＣ、２．０ｗｔ％以下のＰ、２．０
ｗｔ％以下のＳ、２．０ｗｔ％以下のＣｕのうち少なく
とも１種、合計量で２．０ｗｔ％以下で置換することに
より、永久磁石の製造性改善、低価格化が可能である。
可避的不純物の存在を許容でき、例えば、Ｂの一部を
４．０ｗｔ％以下のＣ、２．０ｗｔ％以下のＰ、２．０
ｗｔ％以下のＳ、２．０ｗｔ％以下のＣｕのうち少なく
とも１種、合計量で２．０ｗｔ％以下で置換することに
より、永久磁石の製造性改善、低価格化が可能である。
【００２６】さらに、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｂ
ｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、
Ｇａ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｈｆ、のうち少なくとも１種
は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に対してその保磁力、減磁
曲線の角型性を改善あるいは製造性の改善、低価格化に
効果があるため添加することができる。なお、添加量の
上限は、磁石材料の（ＢＨ）ｍａｘを２０ＭＧＯｅ以上
とするには、（Ｂｒ）が少なくとも９ｋＧ以上必要とな
るため、該条件を満たす範囲が望ましい。
ｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、
Ｇａ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｈｆ、のうち少なくとも１種
は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に対してその保磁力、減磁
曲線の角型性を改善あるいは製造性の改善、低価格化に
効果があるため添加することができる。なお、添加量の
上限は、磁石材料の（ＢＨ）ｍａｘを２０ＭＧＯｅ以上
とするには、（Ｂｒ）が少なくとも９ｋＧ以上必要とな
るため、該条件を満たす範囲が望ましい。
【００２７】また、この発明の永久磁石は平均結晶粒径
が１〜８０μｍの範囲にある正方晶系の結晶構造を有す
る化合物を主相とし、体積比で１％〜５０％の非磁性相
（酸化物相を除く）を含むことを特徴とする。この発明
による永久磁石は、保磁力ｉＨｃ≧１ｋＯｅ、残留磁束
密度Ｂｒ＞４ｋＧ、を示し、最大エネルギー積（ＢＨ）
ｍａｘは、（ＢＨ）ｍａｘ≧１０ＭＧＯｅを示し、最大
値は２５ＭＧＯｅ以上に達する。
が１〜８０μｍの範囲にある正方晶系の結晶構造を有す
る化合物を主相とし、体積比で１％〜５０％の非磁性相
（酸化物相を除く）を含むことを特徴とする。この発明
による永久磁石は、保磁力ｉＨｃ≧１ｋＯｅ、残留磁束
密度Ｂｒ＞４ｋＧ、を示し、最大エネルギー積（ＢＨ）
ｍａｘは、（ＢＨ）ｍａｘ≧１０ＭＧＯｅを示し、最大
値は２５ＭＧＯｅ以上に達する。
【００２８】この発明は、磁石表面をイオンスパッター
法等により清浄化した後、前記磁石体表面にめっき法あ
るいはイオンプレーティング法等の気相薄膜形成法によ
り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石との密着性及びポリイミド
樹脂との密着性の良好な特定膜厚のＡｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、
Ｚｎ、Ｓｎ、Ｆｅ等の金属または合金被膜による下地金
属膜を形成後、下地金属膜活性化のためプラズマ照射
し、その上にポリイミド樹脂を蒸着重合により形成する
ことにより、目的とする耐塩水性にすぐれ、特にエレベ
ーター用モーターに使用可能な高性能Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石が得られることを特徴とする。
法等により清浄化した後、前記磁石体表面にめっき法あ
るいはイオンプレーティング法等の気相薄膜形成法によ
り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石との密着性及びポリイミド
樹脂との密着性の良好な特定膜厚のＡｌ、Ｔｉ、Ｎｉ、
Ｚｎ、Ｓｎ、Ｆｅ等の金属または合金被膜による下地金
属膜を形成後、下地金属膜活性化のためプラズマ照射
し、その上にポリイミド樹脂を蒸着重合により形成する
ことにより、目的とする耐塩水性にすぐれ、特にエレベ
ーター用モーターに使用可能な高性能Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石が得られることを特徴とする。
【００２９】
【実施例】１５Ｎｄ−６Ｄｙ−７２Ｆｅ−７Ｂ組成の鋳
造インゴットを粉砕し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理
後に径１２ｍｍ×２ｍｍ寸法の磁石体試験片を得た。そ
の磁気特性を表１に示す。
造インゴットを粉砕し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理
後に径１２ｍｍ×２ｍｍ寸法の磁石体試験片を得た。そ
の磁気特性を表１に示す。
【００３０】真空容器内を１×１０-3Ｐａ以下に真空排
気し、Ａｒガス圧１０Ｐａ、−５００Ｖで２０分間表面
スパッターを行って、磁石体表面を清浄化した後、表２
に示すイオンプレーティング条件にて、磁石体表面に表
２に示すＴｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｆｅの下地金属被膜
層を形成した。なお、Ｎｉ下地被膜層は電気めっき法に
て形成した。
気し、Ａｒガス圧１０Ｐａ、−５００Ｖで２０分間表面
スパッターを行って、磁石体表面を清浄化した後、表２
に示すイオンプレーティング条件にて、磁石体表面に表
２に示すＴｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｆｅの下地金属被膜
層を形成した。なお、Ｎｉ下地被膜層は電気めっき法に
て形成した。
【００３１】その後、プラズマ照射条件として、真空容
器内を１×１０-3Ｐａ以下に真空排気した後、Ａｒガス
を２０Ｐａになるまで導入し、１３．５６ＭＨｚの高周
波によりグロー放電を起こし、プラズマ照射を３０分間
行った。
器内を１×１０-3Ｐａ以下に真空排気した後、Ａｒガス
を２０Ｐａになるまで導入し、１３．５６ＭＨｚの高周
波によりグロー放電を起こし、プラズマ照射を３０分間
行った。
【００３２】次いで、真空容器内を１×１０-2Ｐａの真
空度に設定し、１つの蒸発源としてピロメリット酸二無
水物を２２０℃で加熱するとともに、もう１つの蒸発源
としてジアミノジフエニルエーテルを２１０℃で加熱し
て、さらに磁石基板を１７０℃に加熱して、１．５時間
処理を行い、原料モノマーを磁石表面に蒸着重合させて
ポリアミック酸被膜を生成させた。
空度に設定し、１つの蒸発源としてピロメリット酸二無
水物を２２０℃で加熱するとともに、もう１つの蒸発源
としてジアミノジフエニルエーテルを２１０℃で加熱し
て、さらに磁石基板を１７０℃に加熱して、１．５時間
処理を行い、原料モノマーを磁石表面に蒸着重合させて
ポリアミック酸被膜を生成させた。
【００３３】次に常圧下、窒素雰囲気で３００℃で１時
間加熱してイミド化処理を行い、ポリイミド樹脂膜を生
成させることにより、ポリイミド樹脂膜を８μｍ厚に形
成した。
間加熱してイミド化処理を行い、ポリイミド樹脂膜を生
成させることにより、ポリイミド樹脂膜を８μｍ厚に形
成した。
【００３４】その後、得られたポリイミド樹脂膜を表面
に有する永久磁石試験片を、温度８０℃、相対湿度９０
％の条件下で１０００時間放置後に、並びに塩水噴霧試
験（ＪＩＳ Ｚ２３７１、３４〜３６℃、５％中性Ｎａ
Ｃｌ溶液で試験）１５０時間後の表面発錆状況と磁気特
性を測定した。その測定結果を表３、表４に示す。
に有する永久磁石試験片を、温度８０℃、相対湿度９０
％の条件下で１０００時間放置後に、並びに塩水噴霧試
験（ＪＩＳ Ｚ２３７１、３４〜３６℃、５％中性Ｎａ
Ｃｌ溶液で試験）１５０時間後の表面発錆状況と磁気特
性を測定した。その測定結果を表３、表４に示す。
【００３５】比較例１ 実施例１と同一組成の磁石体試験片を実施例１と同一条
件にて表面清浄化した後、実施例１と同一条件にて磁石
表面にＡｌの下地金属被膜層を５μｍ形成し、その後ポ
リイミド樹脂膜を８μｍ厚に形成した。
件にて表面清浄化した後、実施例１と同一条件にて磁石
表面にＡｌの下地金属被膜層を５μｍ形成し、その後ポ
リイミド樹脂膜を８μｍ厚に形成した。
【００３６】その後、実施例１と同一の温度８０℃、相
対湿度９０％の条件下で１０００時間放置後および塩水
噴霧試験（ＪＩＳ Ｚ２３７１）１５０時間後の表面発
錆状況と磁気特性を測定し、その結果を表３、表４に示
す。
対湿度９０％の条件下で１０００時間放置後および塩水
噴霧試験（ＪＩＳ Ｚ２３７１）１５０時間後の表面発
錆状況と磁気特性を測定し、その結果を表３、表４に示
す。
【００３７】
【表１】
【００３８】
【表２】
【００３９】
【表３】
【００４０】
【表４】
【００４１】
【発明の効果】この発明によるＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石
は、本系永久磁石表面に被覆した特定の所定膜厚みの下
地金属層の表面にプラズマ照射した後、蒸着重合法によ
りポリイミド樹脂にて被履したことにより、実施例に示
すごとく、すぐれた密着性と共にすぐれた耐塩水性と耐
熱性を達成しており、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石が本来有
するすぐれた磁石特性を、エレベーター用永久磁石等の
苛酷な用途に提供でき、モーターの小型軽量化に寄与す
ることが可能である。
は、本系永久磁石表面に被覆した特定の所定膜厚みの下
地金属層の表面にプラズマ照射した後、蒸着重合法によ
りポリイミド樹脂にて被履したことにより、実施例に示
すごとく、すぐれた密着性と共にすぐれた耐塩水性と耐
熱性を達成しており、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石が本来有
するすぐれた磁石特性を、エレベーター用永久磁石等の
苛酷な用途に提供でき、モーターの小型軽量化に寄与す
ることが可能である。
Claims (1)
- 【請求項１】 主相が正方晶からなるＲ−Ｆｅ−Ｂ系永
久磁石体表面に被覆した膜厚３．０μｍ〜１０．０μｍ
の下地金属膜表面にプラズマ照射した後、膜厚２．０μ
ｍ〜１０μｍのポリイミド膜を被覆することを特徴とす
る耐塩水性にすぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9165101A JPH10340823A (ja) | 1997-06-05 | 1997-06-05 | 耐塩水性にすぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9165101A JPH10340823A (ja) | 1997-06-05 | 1997-06-05 | 耐塩水性にすぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10340823A true JPH10340823A (ja) | 1998-12-22 |
Family
ID=15805920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9165101A Pending JPH10340823A (ja) | 1997-06-05 | 1997-06-05 | 耐塩水性にすぐれたＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10340823A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001160508A (ja) * | 1999-09-24 | 2001-06-12 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
| JP2001167917A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-06-22 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
| WO2007015361A1 (ja) * | 2005-08-02 | 2007-02-08 | Ulvac, Inc. | 締結具 |
| JP2008190600A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Ulvac Japan Ltd | 締結具とその製造方法及び真空装置の組立方法 |
| JP2010042347A (ja) * | 2008-08-12 | 2010-02-25 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 磁性金属異物の除去方法及び磁性金属異物の除去装置 |
-
1997
- 1997-06-05 JP JP9165101A patent/JPH10340823A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001160508A (ja) * | 1999-09-24 | 2001-06-12 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
| JP2001167917A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-06-22 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
| JP4529260B2 (ja) * | 1999-09-27 | 2010-08-25 | 日立金属株式会社 | Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
| WO2007015361A1 (ja) * | 2005-08-02 | 2007-02-08 | Ulvac, Inc. | 締結具 |
| JP5072095B2 (ja) * | 2005-08-02 | 2012-11-14 | 株式会社アルバック | 締結具及びその製造方法 |
| JP2008190600A (ja) * | 2007-02-02 | 2008-08-21 | Ulvac Japan Ltd | 締結具とその製造方法及び真空装置の組立方法 |
| JP2010042347A (ja) * | 2008-08-12 | 2010-02-25 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 磁性金属異物の除去方法及び磁性金属異物の除去装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050421 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050425 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050816 |