JP2001074000A - 真空発生用ユニット - Google Patents

真空発生用ユニット

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JP2001074000A JP25064399A JP25064399A JP2001074000A JP 2001074000 A JP2001074000 A JP 2001074000A JP 25064399 A JP25064399 A JP 25064399A JP 25064399 A JP25064399 A JP 25064399A JP 2001074000 A JP2001074000 A JP 2001074000A
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pressure fluid
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pressure
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茂和 永井
Kichiji Ito
吉治 伊藤
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隆史 遠山
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本体部の長手方向と略直交する幅方向の寸法を
減縮して小型・軽量化を図ることが可能な真空発生用ユ
ニットを提供することにある。 【解決手段】圧縮空気供給ポート36に連通する第1通
路48、真空ポート62に連通する第6通路64、電磁
弁用排気ポート38に連通する第8通路116をそれぞ
れ略平行に配設し、しかも、本体部20に、圧力流体供
給用電磁弁22、真空破壊用電磁弁24、流量調整ねじ
114、サクションフィルタ94および真空圧力スイッ
チ96を順次直列に配設する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、吸着用パ
ッド等の吸着手段に対して負圧を供給することが可能な
真空発生用ユニットに関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、吸着用パッドに負圧を供給す
る手段として真空発生用ユニットが利用されている。こ
の種の真空発生用ユニットは、一般的に、負圧を発生さ
せるエゼクタと、チューブを介して吸着用パッド等の吸
着手段に連通接続される真空ポートと、前記エゼクタや
真空ポートに圧縮空気を送給し、あるいは遮断する圧力
流体供給用電磁弁および真空破壊用電磁弁が設けられた
弁機構部と、前記真空ポートに発生する負圧を検出する
真空スイッチ部等から構成される。
【0003】このような従来技術に係る真空発生用ユニ
ットの概略動作について説明する。
【0004】弁機構部を介してエゼクタに圧縮空気を供
給し負圧を発生させる。前記エゼクタで発生した負圧
は、真空ポートに接続されたチューブを通じて吸着用パ
ッドに送給され、吸着用パッドに発生した負圧作用によ
ってワークが吸着される。このようにして吸着用パッド
に吸着保持されたワークは、ロボットのアームの変位作
用下に所定の位置まで搬送される。
【0005】次に、吸着用パッドに保持されたワークを
離脱させる場合、圧縮空気を弁機構部から真空ポートに
連通する通路を介して吸着用パッドに送給することによ
り、前記吸着用パッドの負圧状態が解除される。この結
果、ワークが吸着用パッドから離間し所望の位置に搬送
される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来から、
本体部の長手方向と略直交する幅方向の寸法を減縮する
ことにより、できるだけ小型・軽量化したいという要請
がある。例えば、複数の真空発生ユニットを連設してマ
ニホールド化した場合、本体部の幅方向の寸法を減縮す
ることにより、極めて小型・軽量な電磁弁マニホールド
が得られ、設置された空間の有効利用を図ることができ
るからである。
【0007】本発明は、前記要請に鑑みてなされたもの
であり、本体部の長手方向と略直交する幅方向の寸法を
減縮して小型・軽量化を図ることが可能な真空発生用ユ
ニットを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、本発明は、圧力流体供給源に接続される圧力流体
供給ポート、吸着手段に接続される真空ポートおよび前
記圧力流体供給ポートから供給された圧力流体を外部に
排出する排出ポートが設けられた本体部と、前記圧力流
体供給ポートから供給された圧力流体の作用下に負圧を
発生させるエゼクタ部と、前記本体部に搭載される電磁
弁部および検出部と、を備え、前記圧力流体供給ポート
に連通する通路、前記真空ポートに連通する通路、電磁
弁用排気ポートに連通する通路がそれぞれ略平行に配設
されることを特徴とする。
【0009】この場合、前記本体部に、圧力流体供給用
電磁弁、真空破壊用電磁弁、流量調整ねじ、フィルタお
よび真空圧力スイッチを順次直列に配設するとよい。ま
た、前記圧力流体供給ポートに連通する通路に対して第
1オン/オフ弁および第2オン/オフ弁が略平行に配設
され、前記第1オン/オフ弁は、圧力流体供給用電磁弁
から供給されるパイロット圧の作用下にオフ状態からオ
ン状態に切り換わり、前記第2オン/オフ弁は、真空破
壊用電磁弁から供給されるパイロット圧の作用下にオフ
状態からオン状態に切り換わるように設けるとよい。
【0010】また、前記真空圧力スイッチは、第1ケー
シングと第2ケーシングとを有し、前記第1ケーシング
に形成された複数の突起部を第2ケーシングに形成され
た複数の係止用孔部にそれぞれ挿入して第1ケーシング
と第2ケーシングとを組み付けるとよい。
【0011】本発明によれば、通路の配置を前記のよう
に設け、さらに、本体部に対して圧力流体供給用電磁
弁、真空破壊用電磁弁、流量調整ねじ、フィルタおよび
真空圧力スイッチを順次直列に配設することにより、本
体部の長手方向と略直交する幅方向の寸法を抑制するこ
とができる。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明に係る真空発生用ユニット
について好適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照し
ながら以下詳細に説明する。
【0013】図1において、参照数字10は、本発明の
実施の形態に係る真空発生用ユニットを示す。
【0014】この真空発生用ユニット10は、長手方向
に沿って直列に連結された第1ブロック体12、第2ブ
ロック体14、第3ブロック体16および第4ブロック
体18からなる本体部20と、前記本体部20の上面部
に配設された圧力流体供給用電磁弁22および真空破壊
用電磁弁24からなる電磁弁部26と、前記本体部20
の内部に配設され、ノズル28およびディフューザ30
を有するエゼクタ部32と、前記第4ブロック体18に
装着されワークの吸着状態を確認する検出部34とから
構成される。前記ノズル28は、第2ブロック体14と
一体化して形成してもよい。なお、前記圧力流体供給用
電磁弁22および真空破壊用電磁弁24は、それぞれ同
一構成要素からなり、ノーマルクローズタイプに設定さ
れている。また、前記圧力流体供給用電磁弁22および
真空破壊用電磁弁24はノーマルクローズタイプに限定
されるものではなく、図示しないノーマルオープンタイ
プの電磁弁、自己保持型電磁弁あるいはタイマー付電磁
弁等を用いてもよい。
【0015】前記第1乃至第4ブロック体12、14、
16、18は、それぞれ略同一の幅寸法を有し、扁平な
薄肉状に形成されている(図2および図3参照)。第1
ブロック体12の一側面には、エゼクタ部32に圧縮空
気を供給するための圧縮空気供給ポート(圧力流体供給
ポート)36が形成され、前記圧縮空気供給ポート36
に近接する上部側には、電磁弁用排気ポート38が形成
されている。また、第1ブロック体12の室40内に
は、パイロット圧の供給作用下にオフ状態からオン状態
に切り換わる第1オン/オフ弁42が配設され、第2ブ
ロック体14の室44内には、パイロット圧の供給作用
下にオフ状態からオン状態に切り換わる第2オン/オフ
弁46が配設される。
【0016】圧縮空気供給ポート36は、第1ブロック
体12および第2ブロック体14の略中央部に沿って所
定長だけ延在する第1通路48に連通し、前記第1通路
48から分岐して圧力流体供給用電磁弁22に連通する
第2通路50および真空破壊用電磁弁24に連通する第
3通路52が形成されている。また、前記第1通路48
から分岐して第1オン/オフ弁42に連通する第4通路
54および第2オン/オフ弁46に連通する第5通路5
6が形成され、前記第4通路54および第5通路56を
介して第1オン/オフ弁42および第2オン/オフ弁4
6にそれぞれ圧縮空気が供給される。
【0017】さらに、圧力流体供給用電磁弁22と第1
オン/オフ弁42との間には、前記圧力流体供給用電磁
弁22を付勢してオン状態とすることにより前記第1オ
ン/オフ弁42にパイロット圧を供給する第1パイロッ
ト通路58が形成され、真空破壊用電磁弁24と第2オ
ン/オフ弁46との間には、前記真空破壊用電磁弁24
を付勢してオン状態とすることにより前記第2オン/オ
フ弁46にパイロット圧を供給する第2パイロット通路
60が形成されている。
【0018】エゼクタ部32を構成するノズル28とデ
ィフューザ30との間には、真空ポート62に連通し、
第1通路48と略平行に延在する第6通路64が形成さ
れ、前記エゼクタ部32において発生する負圧は、チュ
ーブ等を介して接続された図示しない吸着用パッド等の
吸着手段に供給される。ディフューザ30は、第3ブロ
ック体16に形成された排気ポート66に連通し、エゼ
クタ部32に供給された圧縮空気はこの排気ポート(排
出ポート)66に連通するサイレンサ68(図7参照)
を通じて外部に排気される。
【0019】第2オン/オフ弁46には第6通路64に
連通し且つ略平行に延在する第7通路70が接続され、
前記第2オン/オフ弁46がオン状態となることにより
第7通路70を介して圧縮空気が供給される。従って、
真空ポート62に連通する第6通路64に圧縮空気(正
圧)が供給されることにより負圧状態が解除される。
【0020】第1オン/オフ弁42および第2オン/オ
フ弁46は、それぞれ同一構成要素からなり、図4に示
されるように、略水平方向に所定距離だけ変位自在に設
けられた弁体72と、前記弁体72を囲繞するように円
筒状に形成され、前記室40内に固定されたリテーナ7
4とを有する。前記弁体72の一端側の外周面には、前
記リテーナ74の着座部76に着座して室40を閉塞す
る第1リング体78が装着され、前記弁体72の他端側
の外周面には、リテーナ74の内壁面に沿って摺動する
第2リング体80が装着されている。前記第1および第
2リング体78、80は、天然ゴムまたは合成ゴム等の
弾性材料によって形成されている。
【0021】また、前記弁体72には、該弁体72の略
中央部から第1リング体78まで延在する段付環状溝8
2が形成され、さらに、リテーナ74の段部84に当接
することにより弁体72の右方向への変位量を規制する
ストッパ部86が形成されている。前記リテーナ74に
は、段付環状溝82に連通する孔部88が形成されてい
る。なお、参照数字90は、パッキンを示し、参照数字
92は、Oリングを示している。
【0022】前記第4通路54を介して供給される圧縮
空気の作用下に、弁体72が図4に示されるように左方
向に変位し、第1リング体78がリテーナ74の着座部
76に着座することにより室40が閉塞され、第1オン
/オフ弁42がオフ状態となる。一方、圧力流体供給用
電磁弁22の付勢作用下に第1パイロット通路58を介
して供給されるパイロット圧によって弁体72が図5に
示されるように右方向に変位し、第1リング体78が着
座部76から離間することにより第1オン/オフ弁42
がオン状態となる。この場合、第4通路54を介して供
給された圧縮空気は、図5中、矢印で示すように、段付
環状溝82並びに第1リング体78と着座部76との間
の空間を経由してエゼクタ部32に導出される。
【0023】従って、第1オン/オフ弁42がオフ状態
にある場合、エゼクタ部32に対する圧縮空気の供給が
停止され、前記第1オン/オフ弁42がオン状態となる
ことにより、圧縮空気がエゼクタ部32に供給される。
【0024】検出部34は、負圧作用下に真空ポート6
2から吸引された空気中に含まれる塵埃等を除去するた
めのサクションフィルタ94と、内部に図示しない半導
体圧力センサが配設され、予め設定された閾値に到達し
たときに検出信号を導出する真空圧力スイッチ96とを
含む。前記サクションフィルタ94および真空圧力スイ
ッチ96は、それぞれ第4ブロック体18と気密に連結
される。
【0025】前記真空圧力スイッチ96は、第6通路6
4に連通する通路98を介して吸着用パッドに供給され
る負圧を導入し、前記導入された圧力流体の負圧を図示
しない半導体圧力センサによって検出することにより、
ワークの吸着状態を確認する機能を営む。なお、前記通
路98中に、図示しない半導体圧力センサを保護するた
めのフィルタ(図示せず)を設けるとよい。また、真空
圧力スイッチの操作手段としては、トリマータイプある
いはアップボタン、ダウンボタンを含むプッシュタイプ
のいずれであってもよい。
【0026】また、真空圧力スイッチ96は、図6に示
されるように、係止手段100を介して一体的に連結さ
れる第1ケーシング102および第2ケーシング104
と、前記第1ケーシング102および第2ケーシング1
04によって形成された内部空間に配設される回路基板
106と、カバープレート108とを有する。前記係止
手段100は、第1ケーシング102の開口部近傍の側
壁面に形成された複数の突起部110と、第2ケーシン
グ104の側壁面に形成され、前記突起部110が挿入
される係止用孔部112とから構成される。
【0027】なお、図1において、参照数字114は、
第2オン/オフ弁46がオン状態となることにより、第
7通路70を流通する真空破壊用の圧力流体の流量を調
整する流量調整ねじを示し、参照数字116は、圧力流
体供給用電磁弁22および真空破壊用電磁弁24と電磁
弁用排気ポート38とをそれぞれ連通させる第8通路を
示し、この第8通路116は第1通路48と略平行とな
るように配置されている。
【0028】本発明の実施の形態に係る真空発生用ユニ
ット10は、基本的には以上のように構成されるもので
あり、次にその動作並びに作用効果について図7に示す
回路構成図に基づいて説明する。なお、初期状態におい
ては、圧力流体供給用電磁弁22および真空破壊用電磁
弁24は、それぞれ、オフ状態にあるものとする。
【0029】図示しない圧縮空気供給源から供給された
圧縮空気は、圧縮空気供給ポート36を介して第1通路
48に導入される。第1通路48に導入された圧縮空気
は、前記第1通路48に連通する第1オン/オフ弁42
の室40内に供給され、前記圧縮空気の作用下に、弁体
72が図4に示されるように左方向に変位して、前記第
1オン/オフ弁42がオフ状態になっている。
【0030】このような状態において、図示しないコン
トローラから出力されたオン信号によって圧力流体供給
用電磁弁22をオン状態とする。なお、このとき真空破
壊用電磁弁24は、オフ状態のままである。前記圧力流
体供給用電磁弁22がオン状態となることにより、第1
パイロット通路58を介して第1オン/オフ弁42にパ
イロット圧が供給され、前記パイロット圧の押圧作用下
に弁体72が右方向に変位して第1オン/オフ弁42が
オン状態となる。前記第1オン/オフ弁42がオン状態
となることにより第1通路48に導入された圧縮空気は
第1オン/オフ弁42を通過してエゼクタ部32に供給
される。
【0031】エゼクタ部32では、ノズル28のノズル
孔からディフューザ30に向かって圧縮空気が噴出する
ことにより負圧が発生し、この負圧は、第6通路64お
よび真空ポート62に接続されたチューブを介して図示
しない吸着用パッドに供給される。
【0032】従って、図示しないロボットのアームを操
作することによって吸着用パッドがワークに接触し、負
圧作用下に吸着用パッドがワークを吸着すると負圧がさ
らに上昇し、この負圧は真空圧力スイッチ96の図示し
ない半導体圧力センサによって検出される。前記半導体
圧力センサによって検出された吸着確認信号は、図示し
ないコントローラに送られ、前記コントローラは、吸着
確認信号を受け取ることにより、吸着用パッドによって
ワークが確実に吸着されたことを確認する。
【0033】次に、ワークが所定距離だけ移動した後、
前記吸着用パッドの負圧を解除してワークを所定位置に
離脱させる場合について説明する。
【0034】図示しないコントローラは、圧力流体供給
用電磁弁22にオフ信号を導出する。この結果、圧力流
体供給用電磁弁22がオフ状態となることにより第1オ
ン/オフ弁42がオフ状態となり、エゼクタ部32に対
する圧縮空気の供給が停止し、真空ポート62から吸着
用パッドに対する負圧の供給が停止する。
【0035】一方、図示しないコントローラは、真空破
壊用電磁弁24にオン信号を導出し、前記真空破壊用電
磁弁24をオン状態にする。前記真空破壊用電磁弁24
がオン状態となることにより、第2パイロット通路60
を介して第2オン/オフ弁46にパイロット圧が供給さ
れ、前記パイロット圧の押圧作用下に弁体72が右方向
に変位して第2オン/オフ弁46がオン状態となる。前
記第2オン/オフ弁46がオン状態となることにより、
第1通路48に導入された圧縮空気は、第2オン/オフ
弁46を通過し、第7通路70および第6通路64を経
由して真空ポート62に供給される。この結果、圧縮空
気供給ポート36から供給された圧縮空気は、真空ポー
ト62を経由して吸着用パッドに圧縮空気が供給され、
該吸着用パッドのワークに対する吸着状態が解除され
る。
【0036】ワークが吸着用パッドから離脱することに
より負圧状態から大気圧状態となり、前記大気圧を図示
しない半導体圧力センサによって検出し、半導体圧力セ
ンサは、図示しないコントローラにワーク離脱信号を送
る。コントローラは、前記ワーク離脱信号を受け取るこ
とにより、吸着用パッドからワークが離脱したことを確
認する。このようにして吸着用パッドからワークを確実
に離脱させることができる。
【0037】本実施の形態では、圧縮空気供給ポート3
6に連通する第1通路48と、真空ポート62に連通す
る第6通路64と、電磁弁用排気ポート38に連通する
第8通路116とを、それぞれ略平行に配置し、また、
本体部20の下部側に第1オン/オフ弁42を、上部側
に第2オン/オフ弁46を、それぞれ第1通路48と略
平行となるように配置している。さらに、本実施の形態
では、本体部20の上部に、圧力流体供給用電磁弁2
2、真空破壊用電磁弁24、流量調整ねじ114、サク
ションフィルタ94および真空圧力スイッチ96をそれ
ぞれ順次直列に搭載している。
【0038】本実施の形態では、このように配置するこ
とにより、本体部20の軸線方向と略直交する幅方向の
寸法を抑制して、小型・軽量化を図ることができる。従
って、真空発生用ユニット10が設置されるスペースの
有効利用を図ることができる。
【0039】また、本実施の形態では、真空圧力スイッ
チ96の第1ケーシング102と第2ケーシング104
とを、複数の突起部110と係止用孔部112とからな
る係止手段によって一体的に連結することにより、組み
付け作業を簡便に行うことができるという利点がある。
【0040】なお、本実施の形態に係る真空発生用ユニ
ット10を複数個連設してマニホールド化してもよいこ
とは勿論である。
【0041】
【発明の効果】本発明によれば、以下の効果が得られ
る。
【0042】すなわち、本体部の軸線方向と略直交する
幅方向の寸法を抑制して、小型・軽量化を図ることがで
きる。従って、真空発生用ユニットが設置されるスペー
スの有効利用を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係る真空発生用ユニット
の軸線方向に沿った概略縦断面図である。
【図2】図1の矢印A方向からみた矢視図である。
【図3】図1の矢印B方向からみた矢視図である。
【図4】図1の真空発生用ユニットを構成する第1オン
/オフ弁の拡大縦断面図である。
【図5】図4の第1オン/オフ弁の弁体が右方向に変位
してオン状態となったときの動作説明図である。
【図6】真空圧力スイッチを構成する第1ケーシングと
第2ケーシングとの係止手段を示す分解斜視図である。
【図7】図1に示す真空発生用ユニットの回路構成図で
ある。
【符号の説明】
10…真空発生用ユニット 12、14、1
6、18…ブロック体 20…本体部 22…圧力流体
供給用電磁弁 24…真空破壊用電磁弁 28…ノズル 30…ディフューザ 32…エゼクタ
部 36…圧縮空気供給ポート 38…電磁弁用
排気ポート 40、44…室 42、46…オ
ン/オフ弁 48、50、52、54、56、64、70、98、1
16…通路 58、60…パイロット通路 62…真空ポー
ト 72…弁体 94…サクショ
ンフィルタ 96…真空圧力スイッチ 102、104
…ケーシング 110…突起部 112…係止用
孔部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠山 隆史 茨城県筑波郡谷和原村絹の台4−2−2 エスエムシー株式会社筑波技術センター内 Fターム(参考) 3H079 AA18 AA23 BB01 CC19 DD02 DD09 DD16 DD42 DD52

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】圧力流体供給源に接続される圧力流体供給
    ポート、吸着手段に接続される真空ポートおよび前記圧
    力流体供給ポートから供給された圧力流体を外部に排出
    する排出ポートが設けられた本体部と、 前記圧力流体供給ポートから供給された圧力流体の作用
    下に負圧を発生させるエゼクタ部と、 前記本体部に搭載される電磁弁部および検出部と、 を備え、前記圧力流体供給ポートに連通する通路、前記
    真空ポートに連通する通路、電磁弁用排気ポートに連通
    する通路がそれぞれ略平行に配設されることを特徴とす
    る真空発生用ユニット。
  2. 【請求項2】請求項1記載の真空発生用ユニットにおい
    て、 前記本体部には、圧力流体供給用電磁弁、真空破壊用電
    磁弁、流量調整ねじ、フィルタおよび真空圧力スイッチ
    が順次直列に配設されることを特徴とする真空発生用ユ
    ニット。
  3. 【請求項3】請求項1または2記載の真空発生用ユニッ
    トにおいて、 前記圧力流体供給ポートに連通する通路に対して第1オ
    ン/オフ弁および第2オン/オフ弁が略平行に配設さ
    れ、前記第1オン/オフ弁は、圧力流体供給用電磁弁か
    ら供給されるパイロット圧の作用下にオフ状態からオン
    状態に切り換わり、前記第2オン/オフ弁は、真空破壊
    用電磁弁から供給されるパイロット圧の作用下にオフ状
    態からオン状態に切り換わることを特徴とする真空発生
    用ユニット。
  4. 【請求項4】請求項2記載の真空発生用ユニットにおい
    て、 前記真空圧力スイッチは、第1ケーシングと第2ケーシ
    ングとを有し、前記第1ケーシングに形成された複数の
    突起部を第2ケーシングに形成された複数の係止用孔部
    にそれぞれ挿入することにより第1ケーシングと第2ケ
    ーシングとが組み付けられることを特徴とする真空発生
    用ユニット。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107191632A (zh) * 2017-06-13 2017-09-22 苏州卫水环保科技有限公司 一种组合八通阀

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6752599B2 (en) * 2000-06-09 2004-06-22 Alink M, Inc. Apparatus for photoresist delivery
KR100454082B1 (ko) 2001-10-15 2004-10-26 한국뉴매틱(주) 진공 발생/파기 장치
KR100433284B1 (ko) * 2001-11-01 2004-05-28 한국뉴매틱(주) 진공이송 시스템용 부압 발생/해제 장치
US7083392B2 (en) * 2001-11-26 2006-08-01 Shurflo Pump Manufacturing Company, Inc. Pump and pump control circuit apparatus and method
US8337166B2 (en) 2001-11-26 2012-12-25 Shurflo, Llc Pump and pump control circuit apparatus and method
ATE306619T1 (de) * 2003-04-03 2005-10-15 Festo Ag & Co Vakuumerzeugervorrichtung
JP2005163619A (ja) * 2003-12-02 2005-06-23 Smc Corp 真空発生用ユニット
US8540493B2 (en) 2003-12-08 2013-09-24 Sta-Rite Industries, Llc Pump control system and method
DE102004031924B4 (de) * 2004-06-23 2006-05-04 J. Schmalz Gmbh Vorrichtung zum Erzeugen eines Unterdrucks
US7845913B2 (en) 2004-08-26 2010-12-07 Pentair Water Pool And Spa, Inc. Flow control
US7874808B2 (en) 2004-08-26 2011-01-25 Pentair Water Pool And Spa, Inc. Variable speed pumping system and method
US8469675B2 (en) * 2004-08-26 2013-06-25 Pentair Water Pool And Spa, Inc. Priming protection
US8480373B2 (en) 2004-08-26 2013-07-09 Pentair Water Pool And Spa, Inc. Filter loading
US7686589B2 (en) 2004-08-26 2010-03-30 Pentair Water Pool And Spa, Inc. Pumping system with power optimization
US7854597B2 (en) 2004-08-26 2010-12-21 Pentair Water Pool And Spa, Inc. Pumping system with two way communication
US8019479B2 (en) * 2004-08-26 2011-09-13 Pentair Water Pool And Spa, Inc. Control algorithm of variable speed pumping system
US8602745B2 (en) 2004-08-26 2013-12-10 Pentair Water Pool And Spa, Inc. Anti-entrapment and anti-dead head function
KR200370181Y1 (ko) * 2004-09-15 2004-12-14 신영제어기 주식회사 진공파괴용 체적이 구비된 진공발생유니트
US8197231B2 (en) 2005-07-13 2012-06-12 Purity Solutions Llc Diaphragm pump and related methods
KR100732006B1 (ko) * 2005-08-04 2007-06-27 신영제어기 주식회사 진공파괴용 체적이 구비된 진공발생유니트
CN100443740C (zh) * 2006-07-28 2008-12-17 南京理工大学 流量自调式射流真空发生器
SE530787C2 (sv) * 2007-01-16 2008-09-09 Xerex Ab Ejektoranordning med luftningsfunktion
KR100730323B1 (ko) * 2007-03-15 2007-06-19 한국뉴매틱(주) 필터 카트리지를 이용한 진공 시스템
JP4678604B2 (ja) * 2007-08-01 2011-04-27 Smc株式会社 真空発生ユニット
DE102007058114A1 (de) * 2007-12-04 2009-06-10 Festo Ag & Co. Kg Vakuumerzeugervorrichtung und Verfahren zu ihrem Betreiben
ES2688385T3 (es) 2008-10-06 2018-11-02 Pentair Water Pool And Spa, Inc. Método para operar un sistema de seguridad de liberación de vacío
US8564233B2 (en) 2009-06-09 2013-10-22 Sta-Rite Industries, Llc Safety system and method for pump and motor
US9556874B2 (en) 2009-06-09 2017-01-31 Pentair Flow Technologies, Llc Method of controlling a pump and motor
US8436559B2 (en) 2009-06-09 2013-05-07 Sta-Rite Industries, Llc System and method for motor drive control pad and drive terminals
DE102009047083C5 (de) * 2009-11-24 2013-09-12 J. Schmalz Gmbh Druckluftbetriebener Unterdruckerzeuger oder Unterdruckgreifer
WO2011100703A1 (en) 2010-02-12 2011-08-18 Aspen Motion Technologies Inc. D/B/A Vacuum valve apparatus and method
KR200460938Y1 (ko) 2010-08-20 2012-06-15 신영제어기 주식회사 진공발생장치.
KR200460937Y1 (ko) 2010-08-20 2012-06-15 신영제어기 주식회사 진공발생장치.
EP2649318A4 (en) 2010-12-08 2017-05-10 Pentair Water Pool and Spa, Inc. Discharge vacuum relief valve for safety vacuum release system
EP2774009B1 (en) 2011-11-01 2017-08-16 Pentair Water Pool and Spa, Inc. Flow locking system and method
US9610392B2 (en) 2012-06-08 2017-04-04 Fresenius Medical Care Holdings, Inc. Medical fluid cassettes and related systems and methods
US9885360B2 (en) 2012-10-25 2018-02-06 Pentair Flow Technologies, Llc Battery backup sump pump systems and methods
DE102013007183A1 (de) * 2013-04-25 2014-10-30 Nilfisk-Advance A/S Schmutzsauger mit Abreinigungssteuerung für den oder die Filter
KR101472503B1 (ko) * 2014-04-24 2014-12-12 한국뉴매틱(주) 이젝터 어셈블리 및 진공펌프
JP1525031S (ja) * 2014-08-07 2015-06-01
EP3192756B1 (en) 2016-01-15 2021-09-29 Piab Ab Controlling a vacuum system comprising a vacuum generator
JP6780821B2 (ja) * 2018-06-15 2020-11-04 Smc株式会社 真空エジェクタ及び封止弁ユニット
KR102093224B1 (ko) * 2018-09-17 2020-03-25 한국에스엠씨 주식회사 진공 공압 모듈
CN109915645B (zh) * 2019-01-21 2024-06-04 深圳市速牌科技有限公司 一种角阀
CN109681476B (zh) * 2019-02-28 2024-01-16 星宇电子(宁波)有限公司 一种真空发生装置
CN109707872B (zh) * 2019-02-28 2023-10-24 星宇电子(宁波)有限公司 一种真空发生器用真空破坏装置
CN111765130A (zh) * 2019-04-02 2020-10-13 台湾气立股份有限公司 大容量真空控制装置
CN111779717A (zh) * 2019-04-03 2020-10-16 台湾气立股份有限公司 具扩充功能的大容量真空控制装置
KR102225162B1 (ko) * 2020-06-19 2021-03-09 (주)브이텍 진공 시스템용 에어-밸브 유닛
KR102554189B1 (ko) * 2021-12-28 2023-07-12 주식회사 엔유씨전자 방음커버가 구비된 블렌더
DE102022110636A1 (de) 2022-05-02 2023-11-02 Festo Se & Co. Kg Vakuumerzeugervorrichtung
DE102022110635A1 (de) 2022-05-02 2023-11-02 Festo Se & Co. Kg Vakuumerzeugervorrichtung

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE450725B (sv) * 1980-12-11 1987-07-20 Piab Ab Ejektoranordning
JPS619599U (ja) * 1984-06-20 1986-01-21 株式会社 妙徳 エゼクタポンプ
JPH0353039Y2 (ja) * 1987-05-30 1991-11-19
JPH0545904Y2 (ja) * 1987-05-30 1993-11-29
US4880358A (en) * 1988-06-20 1989-11-14 Air-Vac Engineering Company, Inc. Ultra-high vacuum force, low air consumption pumps
JPH0439439Y2 (ja) * 1990-05-01 1992-09-16
US5320497A (en) * 1991-06-26 1994-06-14 Smc Kabushiki Kaisha Vacuum feeding apparatus
JP3418411B2 (ja) * 1991-09-06 2003-06-23 Smc株式会社 真空ユニット
SE469291B (sv) * 1991-10-31 1993-06-14 Piab Ab Ejektorarrangemang innefattande minst tvaa tryckluftsdrivna ejektorer samt foerfarande foer att med minst tvaa tryckluftsdrivna ejektorer aastadkomma ett oenskat undertryck paa kortast moejliga tid och med minsta energifoerbrukning
US5683227A (en) * 1993-03-31 1997-11-04 Smc Corporation Multistage ejector assembly
KR0140498B1 (ko) * 1993-08-24 1998-06-01 김광호 자동부품공급장치(auto tray feeder)의 랙박스(rack box)교환장치 및 방법
DE19732056A1 (de) * 1997-07-25 1999-01-28 Schuler Pressen Gmbh & Co Vakuumsystem für ein Transfersystem
DE19817249C1 (de) * 1998-04-18 1999-08-26 Schmalz J Gmbh Ejektor
IL125791A (en) * 1998-08-13 2004-05-12 Dan Greenberg Vacuum pump

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107191632A (zh) * 2017-06-13 2017-09-22 苏州卫水环保科技有限公司 一种组合八通阀
CN107191632B (zh) * 2017-06-13 2023-12-01 苏州卫水环保科技有限公司 一种组合八通阀

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DE10042488B4 (de) 2007-04-05
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