CN111765130A - 大容量真空控制装置 - Google Patents

大容量真空控制装置 Download PDF

Info

Publication number
CN111765130A
CN111765130A CN201910262524.0A CN201910262524A CN111765130A CN 111765130 A CN111765130 A CN 111765130A CN 201910262524 A CN201910262524 A CN 201910262524A CN 111765130 A CN111765130 A CN 111765130A
Authority
CN
China
Prior art keywords
vacuum
chamber
air
air inlet
valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910262524.0A
Other languages
English (en)
Inventor
游平政
宇威寰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiwan Chelic Corp ltd
Original Assignee
Taiwan Chelic Corp ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiwan Chelic Corp ltd filed Critical Taiwan Chelic Corp ltd
Priority to CN201910262524.0A priority Critical patent/CN111765130A/zh
Publication of CN111765130A publication Critical patent/CN111765130A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04FPUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F5/00Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
    • F04F5/14Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid
    • F04F5/16Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids
    • F04F5/20Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids for evacuating
    • F04F5/22Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids for evacuating of multi-stage type
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04FPUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F5/00Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
    • F04F5/44Component parts, details, or accessories not provided for in, or of interest apart from, groups F04F5/02 - F04F5/42
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04FPUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
    • F04F5/00Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
    • F04F5/44Component parts, details, or accessories not provided for in, or of interest apart from, groups F04F5/02 - F04F5/42
    • F04F5/48Control
    • F04F5/52Control of evacuating pumps

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Jet Pumps And Other Pumps (AREA)

Abstract

本发明公开了一种大容量真空控制装置,其本体内具有一控气室,能用以供一真空发生二口二位阀与一真空破坏二口二位阀设置其中,且控气室连通至本体外部设置的一真空发生电磁阀与一真空破坏电磁阀,一气压源连通该控制室至该本体内的一进气室,一吸入口与一真空压力开关则连通至本体内的一流道配合一逆止阀至一吸气室,该进气室的侧壁设置二真空产生器贯穿一吸气室与一排气室,该排气室还设有一消音器形成一排出口,借该真空产生器并联让该吸入口的流量增加,利用该真空发生电磁阀与该真空破坏电磁阀各别控制真空发生与破坏,借以获得真空节能的效果,让吸入口能于吸附工件时,不需持续大量输入压缩空气,就能保持一定时间进行相对应的动作。

Description

大容量真空控制装置
技术领域
本创作关于一种大容量真空控制装置,本体内部通过并联方式连接二真空产生器,让吸入口的流量得以提升外,更配置真空发生电磁阀与真空破坏电磁阀,使其能各别控制真空发生与真空破坏的状态。
背景技术
在目前工业自动化的发展过程中,气动真空技术已广泛应用于各种生产线中,请参阅图14所示,现有技术中的真空产生器(90)可见有一气压源(91)、一吸入口(92)以及一排出口(93),其内部构造相当简易,其运作是通过压缩空气由该气压源(91)输入通过该排出口(93)进行排气,通过卷吸作用使该吸入口(92)产生真空吸附的效果,进而达到吸附工件的目的;
前述真空产生器(90)为一种喷射式的真空产生器(90),通过压缩空气通过气压源(91)内设的喷嘴(94)产生一定程度的真空,根据其工作原理,它只能在更高的供应压力下达到极限真空度,且耗气量甚大,并不利于气动系统的节能。
因此,后续该类真空产生器(90)大致发展出高真空型和高抽吸流量型,前者曲线斜率大、后者平坦。但在喷嘴(94)直径一定的情况下,要获得高真空,则必然降低抽吸流量,而为获得大吸入流量,则必然增加其吸入口处的压力;又或者是可采用设计多及扩大压管方式,以两个三级扩压管式真空产生器并联,能使吸入流量再增加一倍,但也会让压缩空气的消耗量也增加一倍。
因此,由上述对于目前真空产生器的缺点,能够了解到实际使用上的各种问题,有鉴于此,本创作人透过精心的规划与设计,将保持真空吸力以及使压缩空气消耗量减少的设计特点整合重新设计出一种大容量真空控制装置,借以改善现有技术中的结构的各种问题。
发明内容
本创作主要之一目的,旨在提供一种让吸入口的流量增加以及能以真空发生电磁阀与真空破坏电磁阀进行各别控制真空发生与破坏的一种大容量真空控制装置。
为达上述目的,本创作之一种大容量真空控制阀,其包含有:一本体内具有一控气室,能用以供一真空发生二口二位阀与一真空破坏二口二位阀设置,且控气室连通至本体外部设置的一真空发生电磁阀与一真空破坏电磁阀,而一气压源连通该控气室至该本体内的一进气室,而一吸入口与一真空压力开关则连通该本体内的一流道配合一逆止阀至一吸气室,该进气室的侧壁设置有二真空产生器贯穿一吸气室与一排气室,该排气室更设有一消音器形成一排出口,借该真空产生器并联让该吸入口的流量增加,且利用该真空发生电磁阀与该真空破坏电磁阀各别控制真空发生与破坏的目的。
而本创作的另一目的,该本体内更有设于该吸入口与该本体内的连接处的一真空过滤网,借以达到真空过滤的目的。
附图说明
被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例,并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。
图1为本创作的立体图。
图2为本创作于第1图的准备状态的A-A剖面示意图。
图3为本创作于第1图的准备状态的B-B剖面示意图。
图4为本创作于第1图的准备状态的C-C剖面示意图。
图5为本创作于准备状态的回路示意图。
图6为本创作于真空发生状态的剖面示意图。
图7为本创作于真空发生状态的剖面示意图。
图8为本创作于真空发生状态的回路示意图。
图9为本创作于真空保持状态的剖面示意图。
图10为本创作于真空保持状态的回路示意图。
图11为本创作于真空破坏状态的剖面示意图。
图12为本创作于真空破坏状态的剖面示意图。
图13为本创作于真空破坏状态的回路示意图。
图14为现有技术的示意图。
附图标记说明:
(10)...本体
(11)...控气室
(12)...气压源
(13)...吸入口
(131)...真空过滤网
(14)...排出口
(15)...流道
(151)...逆止阀
(20)...真空发生电磁阀
(21)...真空发生二口二位阀
(30)...真空破坏电磁阀
(31)...真空破坏二口二位阀
(40)...真空压力开关
(41)...真空讯号
(50)...进气室
(51)...吸气室
(52)...排气室
(521)...消音器
(60)...真空产生器
(90)...真空产生器
(91)...气压源
(92)...吸入口
(93)...排出口
(94)...喷嘴
具体实施方式
通常根据本创作,该最佳的可行实施例,并配合图式及详细说明后,俾增加对本创作的了解;
首先,请先参阅图1-5所示,本创作为一种大容量真空控制装置,其结构包含有:一本体10,该本体10内部具有一控气室11,该控气室11主要用以供一真空发生二口二位阀21与一真空破坏二口二位阀31设置,且该控气室11连通至本体10外部设置的一真空发生电磁阀20与一真空破坏电磁阀30,由图1中可见该真空发生电磁阀20与该真空破坏电磁阀30呈横向并排设置。
其中,图2-4,还请以图1的A-A剖面、B-B剖面以及C-C剖面配合观看,能见一气压源12设置于该本体10的左侧,该气压源12连通该控气室11至该本体10内的一进气室50,而一吸入口13设于该本体10的上方,且该吸入口13与一真空压力开关40连通至该本体10内的一流道15,该真空压力开关40主要用以侦测该流道15内的真空度,借以产生一真空讯号41,该真空讯号41得以配合外部线材连接于前述真空发生电磁阀20与该真空破坏电磁阀30作相关连动,而该流道15配合一逆止阀151至一吸气室51,该逆止阀151于本创作中采用二个设置,其数量并不加以限制。
而该进气室50的侧壁还设置有二真空产生器60贯穿一吸气室51与一排气室52,该排气室52更设有一消音器521形成一排出口14,其前述的进气室50、吸气室51、以及排气室52皆设置于该本体10的下方,借该真空产生器60采用并联的方式,使该吸入口13的流量增加,且利用该真空发生电磁阀20与该真空破坏电磁阀30各别控制真空发生与破坏,且该吸入口13与该本体10内的连接处还设有一真空过滤网131,能进行真空过滤用。
请参阅如图5所示,为本创作于准备状态的回路图,可见该真空发生电磁阀20、真空发生二口二位阀21、真空破坏电磁阀30以及真空破坏二口二位阀31皆为关闭未启动的状态。
请参阅如图6-8所示,为本创作于真空发生状态,当气压源12输入压缩空气后,通过该真空发生电磁阀20后,将推动该真空发生二口二位阀21开启流通至该进气室50内,接续沿着本创作所设置的二真空产生器60通过吸气室51及排气室52,最终通过消音器521所设的排出口14排出,当中经过吸气室51时,该真空压力开关40侦测达预定目标后,该吸入口13将由本体10外部吸入大气压力,此大气压力经由流道15通过该逆止阀151流至该吸气室51内,借此得以让该吸入口13产生真空吸力,而该逆止阀151于本创作中设置为两片,但并不加以限制其数量。
请参阅如图9和10所示,为本创作于真空保持状态,当前述真空发生状态通过该真空压力开关40侦测达到真空度默认目标时,该真空发生二口二位阀21将由开启变为关闭,而真空发生电磁阀20也一样转为关闭,而流道15内的真空吸力将受到该逆止阀151的关闭,让该吸入口13仍能保持吸取工件的状态,让压缩空气不必持续供给维持真空,借以达成节约能源的目的。
再请参阅如图11-13所示,为本创作于真空破坏状态,当前述真空保持状态需要破坏时,压缩空气通过真空破坏电磁阀30后,将会推动该真空破坏二口二位阀31开启流通至该进气室50和该流道15,分别由吸入口13与排出口14排出,借以解除真空破坏状态。
综上所述,本创作大容量真空控制装置,主要透过本体10内部以并联方式将两个真空产生器60加以连接后,使吸入口13的流量得以增加,且利用该真空发生电磁阀20配合该真空发生二口二位阀21、以及真空破坏电磁阀30配合该真空破坏二口二位阀31,构成两组回路分别控制真空发生与破坏,借以获得真空节能的效果,让吸入口13得于吸附工件时,能不需持续大量输入压缩空气,也能保持一定时间进行相对应的动作。

Claims (2)

1.一种大容量真空控制装置,其特征在于,包含有:一本体(10),具有一控气室(11)供一真空发生二口二位阀(21)与一真空破坏二口二位阀(31)设置,且该控气室(11)连通至本体(10)外部设置的一真空发生电磁阀(20)与一真空破坏电磁阀(30),一气压源(12)连通该控气室(11)至该本体(10)内的一进气室(50),一吸入口(13)与一真空压力开关(40)连通该本体(10)内的一流道(15)配合一逆止阀(151)至一吸气室(51),该进气室(50)的侧壁设置二真空产生器(60)贯穿一吸气室(51)与一排气室(52),该排气室(52)还设有一消音器(521)形成一排出口(14),借该真空产生器(60)并联让该吸入口(13)的流量增加,以利用该真空发生电磁阀(20)与该真空破坏电磁阀(30)分别控制真空发生与破坏。
2.根据权利要求1所述的大容量真空控制装置,其特征在于,该本体(10)还包含有:一真空过滤网(131),设于该吸入口(13)与该本体(10)内的连接处。
CN201910262524.0A 2019-04-02 2019-04-02 大容量真空控制装置 Pending CN111765130A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910262524.0A CN111765130A (zh) 2019-04-02 2019-04-02 大容量真空控制装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910262524.0A CN111765130A (zh) 2019-04-02 2019-04-02 大容量真空控制装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111765130A true CN111765130A (zh) 2020-10-13

Family

ID=72718715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910262524.0A Pending CN111765130A (zh) 2019-04-02 2019-04-02 大容量真空控制装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN111765130A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111779717A (zh) * 2019-04-03 2020-10-16 台湾气立股份有限公司 具扩充功能的大容量真空控制装置
CN112917506A (zh) * 2021-01-29 2021-06-08 苏州安妮维斯电子科技有限公司 真空吸附机构

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5277468A (en) * 1991-01-30 1994-01-11 John A. Blatt Vacuum control apparatus
KR20000018408A (ko) * 1998-09-02 2000-04-06 조호영 다단의 노즐을 갖는 진공펌프
CN1287227A (zh) * 1999-09-03 2001-03-14 Smc株式会社 真空发生设备
US6397885B1 (en) * 2001-02-06 2002-06-04 Norgren Automotive, Inc. Vacuum control apparatus for maintaining the operating condition of a vacuum responsive device during loss and resumption of power
JP2003222100A (ja) * 2003-02-05 2003-08-08 Nippon Pisuko:Kk 真空発生器
WO2005066493A1 (en) * 2004-01-09 2005-07-21 Korea Pneumatic System Co., Ltd Vacuum ejector device
CN103016424A (zh) * 2012-11-22 2013-04-03 温州阿尔贝斯气动有限公司 一种集成式真空发生器
CN103459855A (zh) * 2011-03-28 2013-12-18 株式会社小金井 排出器
CN107725495A (zh) * 2017-11-16 2018-02-23 苏州亚米拉机械有限公司 真空自动发生控制装置
JP3219755U (ja) * 2018-05-16 2019-01-24 台灣氣立股▲ふん▼有限公司 真空保持型多段式真空発生及び真空破壊バルブ
CN210122973U (zh) * 2019-04-02 2020-03-03 台湾气立股份有限公司 大容量真空控制装置

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5277468A (en) * 1991-01-30 1994-01-11 John A. Blatt Vacuum control apparatus
KR20000018408A (ko) * 1998-09-02 2000-04-06 조호영 다단의 노즐을 갖는 진공펌프
CN1287227A (zh) * 1999-09-03 2001-03-14 Smc株式会社 真空发生设备
US6397885B1 (en) * 2001-02-06 2002-06-04 Norgren Automotive, Inc. Vacuum control apparatus for maintaining the operating condition of a vacuum responsive device during loss and resumption of power
JP2003222100A (ja) * 2003-02-05 2003-08-08 Nippon Pisuko:Kk 真空発生器
WO2005066493A1 (en) * 2004-01-09 2005-07-21 Korea Pneumatic System Co., Ltd Vacuum ejector device
CN103459855A (zh) * 2011-03-28 2013-12-18 株式会社小金井 排出器
CN103016424A (zh) * 2012-11-22 2013-04-03 温州阿尔贝斯气动有限公司 一种集成式真空发生器
CN107725495A (zh) * 2017-11-16 2018-02-23 苏州亚米拉机械有限公司 真空自动发生控制装置
JP3219755U (ja) * 2018-05-16 2019-01-24 台灣氣立股▲ふん▼有限公司 真空保持型多段式真空発生及び真空破壊バルブ
CN210122973U (zh) * 2019-04-02 2020-03-03 台湾气立股份有限公司 大容量真空控制装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111779717A (zh) * 2019-04-03 2020-10-16 台湾气立股份有限公司 具扩充功能的大容量真空控制装置
CN112917506A (zh) * 2021-01-29 2021-06-08 苏州安妮维斯电子科技有限公司 真空吸附机构
CN112917506B (zh) * 2021-01-29 2022-03-04 苏州安妮维斯电子科技有限公司 真空吸附机构

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103459855B (zh) 排出器
KR101066212B1 (ko) 퀵-릴리즈 진공펌프
CN111765130A (zh) 大容量真空控制装置
CN210122973U (zh) 大容量真空控制装置
WO2009090775A1 (ja) 真空発生装置
CN103016424B (zh) 一种集成式真空发生器
CN104979236B (zh) 一种化学液供给装置及其供给方法
CN210118294U (zh) 具扩充功能的大容量真空控制装置
TWI695948B (zh) 大容量真空控制裝置
TWM579683U (zh) Large capacity vacuum control unit
CN111779717A (zh) 具扩充功能的大容量真空控制装置
KR200438633Y1 (ko) 진공발생기가 일체화된 플레이트 흡착장치
TWM582102U (zh) Large capacity vacuum control device with expansion function
CN109045876B (zh) 一种压气引射过滤装置
CN207246133U (zh) 集成式真空发生器
TW202035905A (zh) 具擴充功能之大容量真空控制裝置
TWM581174U (zh) Energy-saving vacuum control valve
JP2004169677A (ja) 正圧負圧供給装置
JP6747479B2 (ja) 酸素濃縮装置
CN111692138A (zh) 集成式真空发生器及使用方法
TWI825939B (zh) 正負壓切換迴路
CN204490500U (zh) 直流制氧或氮系统
CN220121808U (zh) 一种晶圆真空过滤系统
TWM564655U (zh) Vacuum breaking structure of vacuum generator
CN213433721U (zh) 一种湿式真空泵降噪设备

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20201013