TWM579683U - Large capacity vacuum control unit - Google Patents

Abstract

一種大容量真空控制裝置，其本體內具有一控氣室，能用以供一真空發生二口二位閥與一真空破壞二口二位閥設置其中，且控氣室連通至本體外部設置的一真空發生電磁閥與一真空破壞電磁閥，而一氣壓源連通該控制室至該本體內的一進氣室，而一吸入口與一真空壓力開關則連通至本體內的一流道配合一逆止閥至一吸氣室，該進氣室的側壁設置二真空產生器貫穿一吸氣室與一排氣室，該排氣室更設有一消音器形成一排出口，藉該真空產生器並聯讓該吸入口之流量增加外，更利用該真空發生電磁閥與該真空破壞電磁閥各別控制真空發生與破壞，藉以獲得真空節能的效果，讓吸入口能於吸附工件時，不需持續大量輸入壓縮空氣，亦能保持一定時間進行相對應的動作。

Description

大容量真空控制裝置

本創作係關於一種大容量真空控制裝置，本體內部透過並聯方式連接二真空產生器，讓吸入口之流量得以提升外，更配置真空發生電磁閥與真空破壞電磁閥，使其能各別控制真空發生與真空破壞之狀態。

在目前工業自動化的發展過程中，氣動真空技術已廣泛應用於各種生產線中，請參閱如第14圖所示，習用的真空產生器(90)可見有一氣壓源(91)、一吸入口(92)、以及一排出口(93)，其內部構造相當簡易，其運作係透過壓縮空氣由該氣壓源(91)輸入通過該排出口(93)進行排氣，透過捲吸作用使該 吸入口(92)產生真空吸附的效果，進而達成吸附工件之目的；

前述真空產生器(90)係為一種噴射式的真空產生器(90)，透過壓縮空氣通過氣壓源(91)內設的噴嘴(94)產生一定程度的真空，根據其工作原理，它只能在更高的供應壓力下達到極限真空度，且耗氣量甚大，並不利於氣動系統的節能；

因此，後續該類真空產生器(90)大致發展出高真空型和高抽吸流量型，前者曲線斜率大、後者平坦。但在噴嘴(94)直徑一定的情況下，要獲得高真空，則必然降低抽吸流量，而為獲得大吸入流量，則必然增加其吸入口處的壓力；又或者是可採用設計多及擴大壓管方式，以兩個三級擴壓管式真空產生器並聯，能使吸入流量再增加一倍，但也會讓壓縮空氣的消耗量也增加一倍；

因此，由上述對於目前真空產生器之缺點，能夠瞭解到實際使用上的各種問題，有鑑於此，本創作人透過精心的規劃與設計，將保持真空吸力、以及使壓縮空氣消耗量減少之設計特點整合重新設計出一種大容量真空控制裝置，藉以改善習用結構的各種問題。

本創作主要之一目的，旨在提供一種讓吸入口之流量增加、以及能以真空發生電磁閥與真空破壞電磁閥進行各別控制真空發生與破壞的一種大容量真空控制裝置；

為達上述目的，本創作之一種大容量真空控制閥，其包含有：一本體內具有一控氣室，能用以供一真空發生二口二位閥與一真空破壞二口二位閥設置，且控氣室連通至本體外部設置的一真空發生電磁閥與一真空破壞電磁閥，而一氣壓源連通該控氣室至該本體內的一進氣室，而一吸入口與一真空壓力開關則連通該本體內的一流道配合一逆止閥至一吸氣室，該進氣室的側壁設置有二真空產生器貫穿一吸氣室與一排氣室，該排氣室更設有一消音器形成一排出口，藉該真空產生器並聯讓該吸入口之流量增加，且利用該真空發生電磁閥與該真空破壞電磁閥各別控制真空發生與破壞之目的。

而本創作之另一目的，該本體內更有設於該吸入口與該本體內之連接處的一真空過濾網，藉以達成真空過濾之目的。

通常根據本創作，該最佳之可行之實施例，並配合圖式及詳細說明後，俾增加對本創作之瞭解；

首先，請先參閱如圖式第1～5圖所示，本創作係為一種大容量真空控制裝置，其結構包含有：一本體(10)，該本體(10)內部具有一控氣室(11)，該控氣室(11)主要用以供一真空發生二口二位閥(21)與一真空破壞二口二位閥(31)設置，且該控氣室(11)連通至本體(10)外部設置的一真空發生電磁閥(20)與一真空破壞電磁閥(30)，由第1圖中可見該真空發生電磁閥(20)與該真空破壞電磁閥(30)係呈橫向併排設置；

其中，第2～4圖，還請以第1圖的A-A剖面、B-B剖面、以及C-C剖面配合觀看，能見一氣壓源(12)設置於該本體(10)的左側，該氣壓源(12)連通該控氣室(11)至該本體(10)內的一進氣室(50)，而一吸入口(13)設於該本體(10)的上方，且該吸入口(13)與一真空壓力開關(40)連通至該本體(10)內的一流道(15)，該真空壓力開關(40)主要係用以偵測該流道(15)內的真空度，藉以產生一真空訊號(41)，該真空訊號(41)得以配合外部線材連結於前述真空發生電磁閥(20)與該真空破壞電磁閥(30)作相關連動，而該流道(15)配合一逆止閥(151)至一吸氣室(51)，該逆止閥(151)於本創作中係採二個設置，其數量並不加以限制；

而該進氣室(50)的側壁還設置有二真空產生器(60)貫穿一吸氣室(51)與一排氣室(52)，該排氣室(52)更設有一消音器(521)形成一排出口(14)，其前述的進氣室(50)、吸氣室(51)、以及排氣室(52)皆設置於該本體(10)的下方，藉該真空產生器(60)採用並聯的方式，使該吸入口(13)之流量增加，且利用該真空發生電磁閥(20)與該真空破壞電磁閥(30)各別控制真空發生與破壞，且該吸入口(13)與該本體(10)內的連接處更設有一真空過濾網(131)，能進行真空過濾用。

請參閱如第5圖所示，係為本創作於準備狀態的迴路圖，可見該真空發生電磁閥(20)、真空發生二口二位閥(21)、真空破壞電磁閥(30)、以及真空破壞二口二位閥(31)皆為關閉未啓動的狀態。

請參閱如第6～8圖所示，係為本創作於真空發生狀態，當氣壓源(12)輸入壓縮空氣後，通過該真空發生電磁閥(20)後，將推動該真空發生二口二位閥(21)開啓流通至該進氣室(50)內，接續沿著本創作所設置的二真空產生器(60)通過吸氣室(51)、及排氣室(52)，最終通過消音器(521)所設的排出口(14)排出，當中經過吸氣室(51)時，該真空壓力開關(40)偵測達預定目標後，該吸入口(13)將由本體(10)外部吸入大氣壓力，此大氣壓力經由流道(15)通過該逆止閥(151)流至該吸氣室(51)內，藉此得以讓該吸入口(13)產生真空吸力，而該逆止閥(151)於本創作中設置為兩片，但並不加以限制其數量；

請參閱如第9～10圖所示，係為本創作於真空保持狀態，當前述真空發生狀態透過該真空壓力開關(40)偵測達到真空度預設目標時，該真空發生二口二位閥(21)將由開啓變為關閉，而真空發生電磁閥(20)也一樣轉為關閉，而流道(15)內的真空吸力將受到該逆止閥(151)的關閉，讓該吸入口(13)仍能保持吸取工件的狀態，讓壓縮空氣不必持續供給維持真空，藉以達成節約能源之目的；

再請參閱如第11～13圖所示，係為本創作於真空破壞狀態，當前述真空保持狀態需要破壞時，壓縮空氣通過真空破壞電磁閥(30)後，將會推動該真空破壞二口二位閥(31)開啓流通至該進氣室(50)和該流道(15)，分別由吸入口(13)與排出口(14)排出，藉以解除真空破壞狀態；

綜上所述，本創作大容量真空控制裝置，主要透過本體(10)內部以並聯方式將兩個真空產生器(60)加以連接後，使吸入口(13)之流量得以增加，且利用該真空發生電磁閥(20)配合該真空發生二口二位閥(21)、以及真空破壞電磁閥(30)配合該真空破壞二口二位閥(31)，構成兩組迴路各別控制真空發生與破壞，藉以獲得真空節能的效果，讓吸入口(13)得於吸附工件時，能不需持續大量輸入壓縮空氣，亦能保持一定時間進行相對應的動作。

(10)‧‧‧本體 (11)‧‧‧控氣室 (12)‧‧‧氣壓源 (13)‧‧‧吸入口 (131)‧‧‧真空過濾網 (14)‧‧‧排出口 (15)‧‧‧流道 (151)‧‧‧逆止閥 (20)‧‧‧真空發生電磁閥 (21)‧‧‧真空發生二口二位閥 (30)‧‧‧真空破壞電磁閥 (31)‧‧‧真空破壞二口二位閥 (40)‧‧‧真空壓力開關 (41)‧‧‧真空訊號 (50)‧‧‧進氣室 (51)‧‧‧吸氣室 (52)‧‧‧排氣室 (521)‧‧‧消音器 (60)‧‧‧真空產生器 (90)‧‧‧真空產生器 (91)‧‧‧氣壓源 (92)‧‧‧吸入口 (93)‧‧‧排出口 (94)‧‧‧噴嘴

[第1圖]係為本創作的立體圖。 [第2圖]係為本創作於第1圖之準備狀態的A-A剖面示意圖。 [第3圖]係為本創作於第1圖之準備狀態的B-B剖面示意圖。 [第4圖]係為本創作於第1圖之準備狀態的C-C剖面示意圖。 [第5圖]係為本創作於準備狀態的迴路示意圖。 [第6圖]係為本創作於真空發生狀態的剖面示意圖。 [第7圖]係為本創作於真空發生狀態的剖面示意圖。 [第8圖]係為本創作於真空發生狀態的迴路示意圖。 [第9圖]係為本創作於真空保持狀態的剖面示意圖。 [第10圖]係為本創作於真空保持狀態的迴路示意圖。 [第11圖]係為本創作於真空破壞狀態的剖面示意圖。 [第12圖]係為本創作於真空破壞狀態的剖面示意圖。 [第13圖]係為本創作於真空破壞狀態的迴路示意圖。 [第14圖]係為習知技術的示意圖。

Claims (2)

1. 一種大容量真空控制裝置，其包含有：一本體(10)，具有一控氣室(11)供一真空發生二口二位閥(21)與一真空破壞二口二位閥(31)設置，且該控氣室(11)連通至本體(10)外部設置的一真空發生電磁閥(20)與一真空破壞電磁閥(30)，一氣壓源(12)連通該控氣室(11)至該本體(10)內的一進氣室(50)，而一吸入口(13)與一真空壓力開關(40)則連通該本體(10)內的一流道(15)配合一逆止閥(151)至一吸氣室(51)，該進氣室(50)的側壁設置二真空產生器(60)貫穿一吸氣室(51)與一排氣室(52)，該排氣室(52)更設有一消音器(521)形成一排出口(14)，藉該真空產生器(60)並聯讓該吸入口(13)之流量增加，且利用該真空發生電磁閥(20)與該真空破壞電磁閥(30)各別控制真空發生與破壞。
2. 依據申請專利範圍第1項所述之大容量真空控制裝置，其中該本體(10)，更包含有：一真空過濾網(131)，設於該吸入口(13)與該本體(10)內的連接處。