JP2001003098A - リンス性良好な微粒子除去用洗浄剤組成物 - Google Patents
リンス性良好な微粒子除去用洗浄剤組成物Info
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- JP2001003098A JP2001003098A JP11214105A JP21410599A JP2001003098A JP 2001003098 A JP2001003098 A JP 2001003098A JP 11214105 A JP11214105 A JP 11214105A JP 21410599 A JP21410599 A JP 21410599A JP 2001003098 A JP2001003098 A JP 2001003098A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被洗浄物表面に付着している微粒子に対する
洗浄性、かつ、洗浄後の水リンス工程におけるリンス性
に優れた洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 ａ）リン酸塩：０．５〜１５重量％
ｂ）Ａ群から選ばれる１種又は２種以上の界面活性剤：
０．１〜２０重量％ ｃ）水：残部からなる洗浄剤組成
物。 Ａ群：ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レンアルキルシクロヘキシルエーテル、ポリオキシエチ
レンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキ
シエチレンアルキルアミン、スルホン酸塩、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテルスルホン酸塩
洗浄性、かつ、洗浄後の水リンス工程におけるリンス性
に優れた洗浄剤組成物を提供する。 【解決手段】 ａ）リン酸塩：０．５〜１５重量％
ｂ）Ａ群から選ばれる１種又は２種以上の界面活性剤：
０．１〜２０重量％ ｃ）水：残部からなる洗浄剤組成
物。 Ａ群：ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチ
レンアルキルシクロヘキシルエーテル、ポリオキシエチ
レンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキ
シエチレンアルキルアミン、スルホン酸塩、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテルスルホン酸塩
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明の洗浄剤は、精密部品
の固体表面に付着した微粒子の除去性に優れた効果を発
揮する。本発明において精密部品とは、磁気記録部品、
シリコンやセラミックスのウエハ等の半導体材料、水晶
振動子等の電歪用部品、ＣＤ・複写機器・光記録機器等
に用いられる光電変換部品、カメラ・メガネ・光学機器
等に用いられるレンズ等が例示される。
の固体表面に付着した微粒子の除去性に優れた効果を発
揮する。本発明において精密部品とは、磁気記録部品、
シリコンやセラミックスのウエハ等の半導体材料、水晶
振動子等の電歪用部品、ＣＤ・複写機器・光記録機器等
に用いられる光電変換部品、カメラ・メガネ・光学機器
等に用いられるレンズ等が例示される。
【０００２】
【従来の技術】従来、精密部品の固体表面に付着した微
粒子の除去には脱脂洗浄を目的としたアルカリ洗浄剤が
用いられていた。アルカリ洗浄剤はノニオン系界面活性
剤・アニオン系界面活性剤・炭酸ナトリウム・珪酸ナト
リウム・ホウ酸ナトリウム・リン酸ナトリウム・水酸化
ナトリウム・水酸化カリウム・キレート剤・防錆剤等を
適宜配合した物である。又、精密部品の固体表面に付着
した微粒子の除去性及び洗浄後の水リンス工程における
リンス性に優れた洗浄剤に関する特許は過去提案されて
いない。しかしながら、従来のアルカリ洗浄剤は精密部
品の固体表面に付着した微粒子をある程度は除去できる
が、精密部品の高精度化が進み、従来では要求されなか
ったレベルの微粒子の除去までは困難となっている。
又、洗浄後の水リンス工程における水リンス性に関して
は問題となっている。
粒子の除去には脱脂洗浄を目的としたアルカリ洗浄剤が
用いられていた。アルカリ洗浄剤はノニオン系界面活性
剤・アニオン系界面活性剤・炭酸ナトリウム・珪酸ナト
リウム・ホウ酸ナトリウム・リン酸ナトリウム・水酸化
ナトリウム・水酸化カリウム・キレート剤・防錆剤等を
適宜配合した物である。又、精密部品の固体表面に付着
した微粒子の除去性及び洗浄後の水リンス工程における
リンス性に優れた洗浄剤に関する特許は過去提案されて
いない。しかしながら、従来のアルカリ洗浄剤は精密部
品の固体表面に付着した微粒子をある程度は除去できる
が、精密部品の高精度化が進み、従来では要求されなか
ったレベルの微粒子の除去までは困難となっている。
又、洗浄後の水リンス工程における水リンス性に関して
は問題となっている。
【０００３】
【課題を解決する為の手段】本発明は鋭意研究を行った
結果、リン酸塩と特定の界面活性剤を組み合わせる事に
よって、精密部品の固体表面の微粒子の除去性及び水リ
ンス工程におけるリンス性に優れた洗浄剤組成物が得ら
れる事を見出し、本発明を完成した。
結果、リン酸塩と特定の界面活性剤を組み合わせる事に
よって、精密部品の固体表面の微粒子の除去性及び水リ
ンス工程におけるリンス性に優れた洗浄剤組成物が得ら
れる事を見出し、本発明を完成した。
【０００４】
【発明の実施の形態】すなわち本発明は、ａ）リン酸
塩：０．５〜１５重量％ ｂ）Ａ群から選ばれる１種又
は２種以上の界面活性剤：０．１〜２０重量％ ｃ）
水：残部からなることを特徴とする精密部品の固体表面
の微粒子の除去性及び水リンス工程におけるリンス性に
優れた洗浄剤組成物を提供するものである。 Ａ群：ポリオキシエチレンアルキルエーテル ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ポリオキシエチレンアルキルシクロヘキシルエーテル ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエー
テル ポリオキシエチレンアルキルアミン スルホン酸塩 ポリオキシエチレンアルキルエーテルスルホン酸塩
塩：０．５〜１５重量％ ｂ）Ａ群から選ばれる１種又
は２種以上の界面活性剤：０．１〜２０重量％ ｃ）
水：残部からなることを特徴とする精密部品の固体表面
の微粒子の除去性及び水リンス工程におけるリンス性に
優れた洗浄剤組成物を提供するものである。 Ａ群：ポリオキシエチレンアルキルエーテル ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ポリオキシエチレンアルキルシクロヘキシルエーテル ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエー
テル ポリオキシエチレンアルキルアミン スルホン酸塩 ポリオキシエチレンアルキルエーテルスルホン酸塩
【０００５】本発明においてリン酸塩としては、例え
ば、リン酸二水素塩、リン酸水素二塩、リン酸三塩、ピ
ロリン酸塩、トリポリリン酸塩、テトラポリリン酸塩、
ヘキサメタリン酸塩、オクタメタリン酸塩（塩：ナトリ
ウム・カリウム）等が挙げられ、その中でもｐＨが中性
〜アルカリとなるものが特に微粒子の除去性に優れた効
果を発揮する。リン酸塩の添加量としては０．５〜１５
重量％程度、特に１〜１０重量％が望ましい。０．５％
未満では微粒子の除去性に効果が発現せず、一方１５％
を超えるとリン酸塩がリンス後に洗浄表面に残存して洗
浄された部品特性に影響を及ぼす事があり、又、洗浄剤
組成物自身の安定性が低下する。
ば、リン酸二水素塩、リン酸水素二塩、リン酸三塩、ピ
ロリン酸塩、トリポリリン酸塩、テトラポリリン酸塩、
ヘキサメタリン酸塩、オクタメタリン酸塩（塩：ナトリ
ウム・カリウム）等が挙げられ、その中でもｐＨが中性
〜アルカリとなるものが特に微粒子の除去性に優れた効
果を発揮する。リン酸塩の添加量としては０．５〜１５
重量％程度、特に１〜１０重量％が望ましい。０．５％
未満では微粒子の除去性に効果が発現せず、一方１５％
を超えるとリン酸塩がリンス後に洗浄表面に残存して洗
浄された部品特性に影響を及ぼす事があり、又、洗浄剤
組成物自身の安定性が低下する。
【０００６】本発明において界面活性剤としては、Ａ群
から選ばれる界面活性剤を１種又は２種以上の組み合わ
せで使用する。 Ａ群：ポリオキシエチレンアルキルエーテル ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ポリオキシエチレンアルキルシクロヘキシルエーテル ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエー
テル ポリオキシエチレンアルキルアミン スルホン酸塩 ポリオキシエチレンアルキルエーテルスルホン酸塩
から選ばれる界面活性剤を１種又は２種以上の組み合わ
せで使用する。 Ａ群：ポリオキシエチレンアルキルエーテル ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ポリオキシエチレンアルキルシクロヘキシルエーテル ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエー
テル ポリオキシエチレンアルキルアミン スルホン酸塩 ポリオキシエチレンアルキルエーテルスルホン酸塩
【０００７】界面活性剤の添加量としては、０．１〜２
０重量％程度、特に１〜１０重量％が望ましい。０．１
％未満では特別の効果が発現せず、一方２０重量％以上
では洗浄後の水リンス工程におけるリンス性が低下し、
界面活性剤がリンス後に洗浄表面に残存して洗浄された
部品特性に影響を及ぼす事がある。
０重量％程度、特に１〜１０重量％が望ましい。０．１
％未満では特別の効果が発現せず、一方２０重量％以上
では洗浄後の水リンス工程におけるリンス性が低下し、
界面活性剤がリンス後に洗浄表面に残存して洗浄された
部品特性に影響を及ぼす事がある。
【０００８】又、本発明洗浄剤組成物には、その効果を
損なわない範囲で必要に応じて無機ビルダー、キレート
剤、グリコールエーテル等を配合しても良い。
損なわない範囲で必要に応じて無機ビルダー、キレート
剤、グリコールエーテル等を配合しても良い。
【０００９】本発明の洗浄剤組成物は、特に上述のう
ち、精密研磨後の部品に対して好適な性能を発揮する
が、本発明の対象となる精密部品はこれらの例に限られ
るものではなく、製品の特性を低下させる汚染成分を付
着している一定形状の固体表面を持つ精密部品であれ
ば、本発明の洗浄剤組成物が適用できる。これらの汚染
物質が固体砥粒、例えば、ダイヤモンド・窒化ホウ素・
炭化珪素・アルミナ・酸化ジルコニウム・酸化セリウム
・酸化クロム・酸化マグネシウム・炭酸カルシウム・炭
酸バリウム・コロイダルシリカ・二酸化チタン等である
場合、本発明の洗浄剤組成物が特に有効である。又、汚
染物質として油脂・切削油・機械油・グリース等が存在
していても本発明の洗浄剤組成物を適用する事が出来
る。
ち、精密研磨後の部品に対して好適な性能を発揮する
が、本発明の対象となる精密部品はこれらの例に限られ
るものではなく、製品の特性を低下させる汚染成分を付
着している一定形状の固体表面を持つ精密部品であれ
ば、本発明の洗浄剤組成物が適用できる。これらの汚染
物質が固体砥粒、例えば、ダイヤモンド・窒化ホウ素・
炭化珪素・アルミナ・酸化ジルコニウム・酸化セリウム
・酸化クロム・酸化マグネシウム・炭酸カルシウム・炭
酸バリウム・コロイダルシリカ・二酸化チタン等である
場合、本発明の洗浄剤組成物が特に有効である。又、汚
染物質として油脂・切削油・機械油・グリース等が存在
していても本発明の洗浄剤組成物を適用する事が出来
る。
【００１０】本発明の洗浄剤組成物は浸漬法、超音波洗
浄法、揺動法、スクラブ洗浄法等の各種洗浄方式におい
て使用できる。以下に実施例を挙げて本発明を更に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
浄法、揺動法、スクラブ洗浄法等の各種洗浄方式におい
て使用できる。以下に実施例を挙げて本発明を更に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
【００１１】
【実施例】実施例１ リン酸三ナトリウム：５ｇ、（ＥＯ）１０ノニルフェニ
ルエーテル：５ｇ、（ＥＯ）３ラウリルエーテル硫酸ナ
トリウム：５ｇを水８５ｇ中に添加し、室温にて攪拌し
洗浄剤組成物を配合し、以下の試験を行なった。その結
果を表１に示す。ＥＯはオキシエチレンを表わす。（）
の後ろの数字はモル数。
ルエーテル：５ｇ、（ＥＯ）３ラウリルエーテル硫酸ナ
トリウム：５ｇを水８５ｇ中に添加し、室温にて攪拌し
洗浄剤組成物を配合し、以下の試験を行なった。その結
果を表１に示す。ＥＯはオキシエチレンを表わす。（）
の後ろの数字はモル数。
【００１２】実施例２〜５、比較例１〜５も実施例１と
同様の方法を用いて行なった。結果を表１中に示した。
同様の方法を用いて行なった。結果を表１中に示した。
【００１３】（１）洗浄性評価方法 ３．５インチのＮｉ−Ｐメッキハードディスク基板にア
ルミナスラリーを全体に塗布する。このテストピースを
３０℃に保った３％ａｑの洗浄剤に浸漬し、超音波で３
分間洗浄した。洗浄後、３０℃の純水に浸漬し、超音波
で１分間リンスした。洗浄・リンス後、顕微鏡によりそ
のアルミナ砥粒の除去性を評価した。 （評価基準） ◎：完全除去 ○：９０％以上除去 △：５０％以上除去 ×：５０％以下 （２）リンス性評価方法 上記洗浄評価後のテストピース表面をＸ線光電子分光測
定を行い、有機物起因Ｃ（Ｃ−Ｏ結合起因）の定量を行
い、ブランク（未処理基板）との比較により評価した。 （３）原液安定性 調製した洗浄剤組成物を室温にて１ケ月放置し、外観を
評価した。 （評価基準） ○：安定 ×：分離
ルミナスラリーを全体に塗布する。このテストピースを
３０℃に保った３％ａｑの洗浄剤に浸漬し、超音波で３
分間洗浄した。洗浄後、３０℃の純水に浸漬し、超音波
で１分間リンスした。洗浄・リンス後、顕微鏡によりそ
のアルミナ砥粒の除去性を評価した。 （評価基準） ◎：完全除去 ○：９０％以上除去 △：５０％以上除去 ×：５０％以下 （２）リンス性評価方法 上記洗浄評価後のテストピース表面をＸ線光電子分光測
定を行い、有機物起因Ｃ（Ｃ−Ｏ結合起因）の定量を行
い、ブランク（未処理基板）との比較により評価した。 （３）原液安定性 調製した洗浄剤組成物を室温にて１ケ月放置し、外観を
評価した。 （評価基準） ○：安定 ×：分離
【００１４】
【表１】
【００１５】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、精密部品固体
表面の微粒子の除去性及び洗浄後の水リンス工程におけ
るリンス性に優れた洗浄剤として有用なものである。
表面の微粒子の除去性及び洗浄後の水リンス工程におけ
るリンス性に優れた洗浄剤として有用なものである。
Claims (1)
- 【請求項１】 ａ）リン酸塩：０．５〜１５重量％
ｂ）Ａ群から選ばれる１種又は２種以上の界面活性剤：
０．１〜２０重量％ ｃ）水：残部 からなる洗浄剤組
成物。 Ａ群：ポリオキシエチレンアルキルエーテル ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ポリオキシエチレンアルキルシクロヘキシルエーテル ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエー
テル ポリオキシエチレンアルキルアミン スルホン酸塩 ポリオキシエチレンアルキルエーテルスルホン酸塩
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11214105A JP2001003098A (ja) | 1999-06-24 | 1999-06-24 | リンス性良好な微粒子除去用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11214105A JP2001003098A (ja) | 1999-06-24 | 1999-06-24 | リンス性良好な微粒子除去用洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001003098A true JP2001003098A (ja) | 2001-01-09 |
Family
ID=16650325
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11214105A Pending JP2001003098A (ja) | 1999-06-24 | 1999-06-24 | リンス性良好な微粒子除去用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001003098A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1283031A2 (en) * | 2001-09-28 | 2003-02-12 | Shiseido Co., Ltd. | Skin treatment composition |
| JP2008045119A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-28 | Sanyo Chem Ind Ltd | エレクトロニクス材料製造工程用薬剤 |
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-
1999
- 1999-06-24 JP JP11214105A patent/JP2001003098A/ja active Pending
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