JPS62218589A - スクラブ洗浄用洗浄剤 - Google Patents
スクラブ洗浄用洗浄剤Info
- Publication number
- JPS62218589A JPS62218589A JP6014986A JP6014986A JPS62218589A JP S62218589 A JPS62218589 A JP S62218589A JP 6014986 A JP6014986 A JP 6014986A JP 6014986 A JP6014986 A JP 6014986A JP S62218589 A JPS62218589 A JP S62218589A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- scrubbing
- polishing
- anionic surfactant
- colloidal silica
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000003599 detergent Substances 0.000 title abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 claims description 12
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 claims 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 17
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 abstract 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- -1 alkyl sulfuric acid Chemical compound 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000019832 sodium triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気ディスク用サブストレートの研磨後のスク
ラブ洗浄に用いる洗浄剤に関するものである。
ラブ洗浄に用いる洗浄剤に関するものである。
(従来の技術)
磁気ディスク用サブストレートには、アルミニウム合金
サブストレートやアルミニウム合金表面にメッキしたい
わゆるメッキサブストレートが用いられている。
サブストレートやアルミニウム合金表面にメッキしたい
わゆるメッキサブストレートが用いられている。
上記サブストレートは、通常、アルミナ粉末を砥粒とし
た研磨剤と、その支持体としてスウェードタイプのボリ
シングクロスを用いて研磨した後、スクラブ洗浄が行わ
れ、メッキ工程又はリンス工程に供される。この洗浄方
法としては、ナイロンブラシによる方法、スポンジによ
る方法、ポリシングバットによる方法などが一般的であ
り、使用される洗浄剤としては市販中性洗剤、工業用洗
剤が一般に用いられている。
た研磨剤と、その支持体としてスウェードタイプのボリ
シングクロスを用いて研磨した後、スクラブ洗浄が行わ
れ、メッキ工程又はリンス工程に供される。この洗浄方
法としては、ナイロンブラシによる方法、スポンジによ
る方法、ポリシングバットによる方法などが一般的であ
り、使用される洗浄剤としては市販中性洗剤、工業用洗
剤が一般に用いられている。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし乍ら、上記洗浄方法のいずれによっても、研磨時
にサブストレート表面に強固に付着した研磨粉を完全に
除去することは困難であり5表面に疵をつけることさえ
あるという欠点があった。
にサブストレート表面に強固に付着した研磨粉を完全に
除去することは困難であり5表面に疵をつけることさえ
あるという欠点があった。
本発明は、上記従来技術の欠点を解消し、表面を疵つけ
ることなく完全に研磨粉を除去できる優れた洗浄効果を
有するスクラブ洗浄剤を提供することを目的とするもの
である。
ることなく完全に研磨粉を除去できる優れた洗浄効果を
有するスクラブ洗浄剤を提供することを目的とするもの
である。
(問題点を解決するための手段)
上記目的を達成するため1本発明者は、サブストレート
表面に強固に付着した研磨粉や潤滑用油剤を機械的に削
り取るにはコロイダルシリカを含む洗浄剤が効果的であ
ることを見い出し、これに基づいて更に洗浄効果を向上
させる添加成分を研究した結果、本発明をなしたもので
ある。
表面に強固に付着した研磨粉や潤滑用油剤を機械的に削
り取るにはコロイダルシリカを含む洗浄剤が効果的であ
ることを見い出し、これに基づいて更に洗浄効果を向上
させる添加成分を研究した結果、本発明をなしたもので
ある。
すなわち、本発明に係るスクラブ洗浄用洗浄剤は、平均
粒径0.02μm以上のコロイダルシリカ1〜20%及
び陰イオン性界面活性剤0.1〜2゜0%を含み、残部
が水及び不純物からなることを特徴とするものである。
粒径0.02μm以上のコロイダルシリカ1〜20%及
び陰イオン性界面活性剤0.1〜2゜0%を含み、残部
が水及び不純物からなることを特徴とするものである。
以下に本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明ではスクラブ洗浄剤中にコロイダルシリカ
を添加することを特徴の一つとしている。
を添加することを特徴の一つとしている。
このコロイダルシリカは、研磨時にディスクサブストレ
ートの表面に強固に付着した研磨粉や潤滑用油剤を機械
的に削り取るのに不可欠である。但し、その平均粒径は
0.02μm以」−とする必要があり、0.02μm以
上であれば、サブストレート表面に疵をつけることなく
、また再付着等の問題も生じない。なお、現状では平均
粒径0.2μm以下のものが入手可能である。一方、平
均粒径が0゜02μm未満では洗浄効果が不充分となり
、また再付着等の問題が起るので、好ましくない。
ートの表面に強固に付着した研磨粉や潤滑用油剤を機械
的に削り取るのに不可欠である。但し、その平均粒径は
0.02μm以」−とする必要があり、0.02μm以
上であれば、サブストレート表面に疵をつけることなく
、また再付着等の問題も生じない。なお、現状では平均
粒径0.2μm以下のものが入手可能である。一方、平
均粒径が0゜02μm未満では洗浄効果が不充分となり
、また再付着等の問題が起るので、好ましくない。
また、スクラブ洗浄剤に添加するコロイダルシリカの濃
度も重要であり、20%を超えると再付着や硬化現象が
認められるようになり、逆に1%未満では上記機械的洗
浄効果が不充分となるので、]、〜20%の濃度範囲で
添加する。
度も重要であり、20%を超えると再付着や硬化現象が
認められるようになり、逆に1%未満では上記機械的洗
浄効果が不充分となるので、]、〜20%の濃度範囲で
添加する。
上記平均粒径及び添加濃度にて含むコロイダルシリカは
、アルミナやカーボランダムなどの他の微粉末に比べて
平均粒径がほぼ均一で、かつ、球状を示しており、また
硬度も比較的軟らかである。
、アルミナやカーボランダムなどの他の微粉末に比べて
平均粒径がほぼ均一で、かつ、球状を示しており、また
硬度も比較的軟らかである。
したが1て、研磨後の鏡面を機械的に洗浄する場合に好
適である。
適である。
次に、本発明の他の特徴として、スクラブ洗浄剤に陰イ
オン性界面活性剤を添加する点である。
オン性界面活性剤を添加する点である。
この陰イオン性界面活性剤の主な添加効果とじては、コ
ロイダルシリカとの共存下にあって1表面張力低下によ
る洗浄効果の一層の向上と、機械的に洗浄された研磨粉
がサブストレート表面に再付着するのを防止することに
ある。そのためには。
ロイダルシリカとの共存下にあって1表面張力低下によ
る洗浄効果の一層の向上と、機械的に洗浄された研磨粉
がサブストレート表面に再付着するのを防止することに
ある。そのためには。
0.1〜2.0%の濃度で添加する必要がある。陰イオ
ン性界面活性剤としては特に限定されず、例えば、アル
キル硫酸或いはこれにエチレンオキサイドを付加したア
ルキル硫酸、ラウリル硫酸等の塩類を挙げることができ
る。
ン性界面活性剤としては特に限定されず、例えば、アル
キル硫酸或いはこれにエチレンオキサイドを付加したア
ルキル硫酸、ラウリル硫酸等の塩類を挙げることができ
る。
なお、界面活性剤としては陽イオン性や非イオン性のも
のも考えられるが、これらはサブストレート表面への吸
着が大きいため、リンス工程においても吸着膜が除去で
きず、その後のメッキやスパッタリングに悪影響を与え
ることになるので、好ましくない。
のも考えられるが、これらはサブストレート表面への吸
着が大きいため、リンス工程においても吸着膜が除去で
きず、その後のメッキやスパッタリングに悪影響を与え
ることになるので、好ましくない。
この点、陰イオン性の界面活性剤であると、コロイダル
シリカとの共存下において安定で、かつ。
シリカとの共存下において安定で、かつ。
良好な洗浄効果が得られ、サブストレート表面への吸着
も少ないので、スクラブ洗浄後のリンス工程で容易に除
去される効果がある。
も少ないので、スクラブ洗浄後のリンス工程で容易に除
去される効果がある。
上記化学成分の研磨剤には、更に潤滑効果、洗浄効果を
向上させるため、トリポリリン酸ソーダ、ヘキサポリリ
ン酸ソーダ等の添加剤を必要に応じて含めることが可能
である。
向上させるため、トリポリリン酸ソーダ、ヘキサポリリ
ン酸ソーダ等の添加剤を必要に応じて含めることが可能
である。
スクラブ洗浄に当たって、本発明の研磨剤は、従来と同
様、ナイロンブラシ、スポンジ、ポリシングパットなど
を用いてスクラブ洗浄することができるが、特にスクラ
ブ用にポリシングパットを用いたときに上記効果が顕著
である。
様、ナイロンブラシ、スポンジ、ポリシングパットなど
を用いてスクラブ洗浄することができるが、特にスクラ
ブ用にポリシングパットを用いたときに上記効果が顕著
である。
次に本発明の実施例を示す。
(実施例)
Ni−Pメッキした磁気ディスクサブストレートを、市
販アルミナ系研磨剤とスウェード系ラッピングクロスを
用いて研磨した後、第1表に示すスクラブ洗浄剤を用い
、かつ、第2表に示す洗浄条件で洗浄を実施し、光学顕
微鏡で表面状況を観察し、洗浄効果、表面疵の程度、濡
れ性、洗浄剤再付着の程度などを調べた。それらの結果
を第2表に示す。
販アルミナ系研磨剤とスウェード系ラッピングクロスを
用いて研磨した後、第1表に示すスクラブ洗浄剤を用い
、かつ、第2表に示す洗浄条件で洗浄を実施し、光学顕
微鏡で表面状況を観察し、洗浄効果、表面疵の程度、濡
れ性、洗浄剤再付着の程度などを調べた。それらの結果
を第2表に示す。
第2表かられかるように、本発明の洗浄剤によれば、い
ずれも従来の洗浄剤及び比較例の洗浄剤に比べて明らか
に良好な結果が得ら九でいる。
ずれも従来の洗浄剤及び比較例の洗浄剤に比べて明らか
に良好な結果が得ら九でいる。
(発明の効果)
以上詳述したように、本発明によれば、スクラブ洗浄剤
にコロイダルシリカ及び陰イオン性界面活性剤を添加し
たので、表面に疵をつけることなく研磨粉を除去でき、
しかも再付着等の問題もなく、良好な洗浄効果が得られ
、作業性も優れている。
にコロイダルシリカ及び陰イオン性界面活性剤を添加し
たので、表面に疵をつけることなく研磨粉を除去でき、
しかも再付着等の問題もなく、良好な洗浄効果が得られ
、作業性も優れている。
Claims (2)
- (1)平均粒径0.02μm以上のコロイダルシリカ1
〜20%及び陰イオン性界面活性剤0.1〜2.0%を
含み、残部が水及び不純物からなることを特徴とするス
クラブ洗浄用洗浄剤。 - (2)前記陰イオン性界面活性剤は、必要によりエチレ
ンオキサイドを付加したアルキル硫酸の塩である特許請
求の範囲第(1)項記載のスクラブ洗浄用洗浄剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6014986A JPS62218589A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | スクラブ洗浄用洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6014986A JPS62218589A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | スクラブ洗浄用洗浄剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62218589A true JPS62218589A (ja) | 1987-09-25 |
Family
ID=13133805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6014986A Pending JPS62218589A (ja) | 1986-03-18 | 1986-03-18 | スクラブ洗浄用洗浄剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62218589A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998021289A1 (fr) * | 1996-11-14 | 1998-05-22 | Kao Corporation | Composition abrasive utilisee dans la fabrication de la base d'un support d'enregistrement magnetique, et procede de fabrication de cette base a l'aide de cette composition |
-
1986
- 1986-03-18 JP JP6014986A patent/JPS62218589A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998021289A1 (fr) * | 1996-11-14 | 1998-05-22 | Kao Corporation | Composition abrasive utilisee dans la fabrication de la base d'un support d'enregistrement magnetique, et procede de fabrication de cette base a l'aide de cette composition |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI388659B (zh) | Detergent composition | |
JP5819589B2 (ja) | 研磨用組成物を用いた方法 | |
JP4814251B2 (ja) | シリコン電極アセンブリ表面から汚染を除去するための洗浄方法、電極アセンブリ及び酸溶液 | |
US4581042A (en) | Composition for removing hard-water build-up | |
JP5417095B2 (ja) | 洗浄剤組成物、およびガラス製ハードディスク基板の洗浄方法 | |
JP5518392B2 (ja) | 電子デバイス基板用洗浄剤組成物、および電子デバイス基板の洗浄方法 | |
JPWO2007119775A1 (ja) | ガラス基板の加工方法及びガラス基板加工用リンス剤組成物 | |
JP4130514B2 (ja) | 精密洗浄剤組成物 | |
JP2001003081A (ja) | 微粒子除去用洗浄剤組成物 | |
JPS62218589A (ja) | スクラブ洗浄用洗浄剤 | |
JP2000309796A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
JP2579401B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
US10570355B2 (en) | Cleaning agent composition for glass hard disk substrate | |
JP2002273358A (ja) | 光学素子の洗浄方法 | |
KR100264777B1 (ko) | 연마기능을 갖는 자동차용 세척 및 광택제 조성물 | |
JP4268402B2 (ja) | メモリーハードディスク基板の製造方法 | |
JP2012252773A (ja) | 電子材料製造工程用パーティクル固着防止液 | |
US6394106B1 (en) | Cleaning solutions and methods for semiconductor wafers | |
JPH01243433A (ja) | セラミック基板用表面処理剤 | |
JP2011105824A (ja) | 硬質表面用洗浄剤組成物 | |
JP2002069492A (ja) | 微粒子除去用洗浄剤組成物 | |
JP2002212597A (ja) | 精密部品用水系洗浄剤組成物 | |
JPH0751718B2 (ja) | 自動車用洗浄剤 | |
JP4010359B2 (ja) | 金属膜付基板の洗浄方法 | |
JP5808649B2 (ja) | 電子材料用洗浄剤 |