JPS62218589A - スクラブ洗浄用洗浄剤 - Google Patents

スクラブ洗浄用洗浄剤

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Publication number
JPS62218589A
JPS62218589A JP6014986A JP6014986A JPS62218589A JP S62218589 A JPS62218589 A JP S62218589A JP 6014986 A JP6014986 A JP 6014986A JP 6014986 A JP6014986 A JP 6014986A JP S62218589 A JPS62218589 A JP S62218589A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
scrubbing
polishing
anionic surfactant
colloidal silica
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6014986A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideyoshi Usui
碓井 栄喜
Hideo Fujimoto
日出男 藤本
Yutaka Kaneda
豊 金田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
Priority to JP6014986A priority Critical patent/JPS62218589A/ja
Publication of JPS62218589A publication Critical patent/JPS62218589A/ja
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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は磁気ディスク用サブストレートの研磨後のスク
ラブ洗浄に用いる洗浄剤に関するものである。
(従来の技術) 磁気ディスク用サブストレートには、アルミニウム合金
サブストレートやアルミニウム合金表面にメッキしたい
わゆるメッキサブストレートが用いられている。
上記サブストレートは、通常、アルミナ粉末を砥粒とし
た研磨剤と、その支持体としてスウェードタイプのボリ
シングクロスを用いて研磨した後、スクラブ洗浄が行わ
れ、メッキ工程又はリンス工程に供される。この洗浄方
法としては、ナイロンブラシによる方法、スポンジによ
る方法、ポリシングバットによる方法などが一般的であ
り、使用される洗浄剤としては市販中性洗剤、工業用洗
剤が一般に用いられている。
(発明が解決しようとする問題点) しかし乍ら、上記洗浄方法のいずれによっても、研磨時
にサブストレート表面に強固に付着した研磨粉を完全に
除去することは困難であり5表面に疵をつけることさえ
あるという欠点があった。
本発明は、上記従来技術の欠点を解消し、表面を疵つけ
ることなく完全に研磨粉を除去できる優れた洗浄効果を
有するスクラブ洗浄剤を提供することを目的とするもの
である。
(問題点を解決するための手段) 上記目的を達成するため1本発明者は、サブストレート
表面に強固に付着した研磨粉や潤滑用油剤を機械的に削
り取るにはコロイダルシリカを含む洗浄剤が効果的であ
ることを見い出し、これに基づいて更に洗浄効果を向上
させる添加成分を研究した結果、本発明をなしたもので
ある。
すなわち、本発明に係るスクラブ洗浄用洗浄剤は、平均
粒径0.02μm以上のコロイダルシリカ1〜20%及
び陰イオン性界面活性剤0.1〜2゜0%を含み、残部
が水及び不純物からなることを特徴とするものである。
以下に本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明ではスクラブ洗浄剤中にコロイダルシリカ
を添加することを特徴の一つとしている。
このコロイダルシリカは、研磨時にディスクサブストレ
ートの表面に強固に付着した研磨粉や潤滑用油剤を機械
的に削り取るのに不可欠である。但し、その平均粒径は
0.02μm以」−とする必要があり、0.02μm以
上であれば、サブストレート表面に疵をつけることなく
、また再付着等の問題も生じない。なお、現状では平均
粒径0.2μm以下のものが入手可能である。一方、平
均粒径が0゜02μm未満では洗浄効果が不充分となり
、また再付着等の問題が起るので、好ましくない。
また、スクラブ洗浄剤に添加するコロイダルシリカの濃
度も重要であり、20%を超えると再付着や硬化現象が
認められるようになり、逆に1%未満では上記機械的洗
浄効果が不充分となるので、]、〜20%の濃度範囲で
添加する。
上記平均粒径及び添加濃度にて含むコロイダルシリカは
、アルミナやカーボランダムなどの他の微粉末に比べて
平均粒径がほぼ均一で、かつ、球状を示しており、また
硬度も比較的軟らかである。
したが1て、研磨後の鏡面を機械的に洗浄する場合に好
適である。
次に、本発明の他の特徴として、スクラブ洗浄剤に陰イ
オン性界面活性剤を添加する点である。
この陰イオン性界面活性剤の主な添加効果とじては、コ
ロイダルシリカとの共存下にあって1表面張力低下によ
る洗浄効果の一層の向上と、機械的に洗浄された研磨粉
がサブストレート表面に再付着するのを防止することに
ある。そのためには。
0.1〜2.0%の濃度で添加する必要がある。陰イオ
ン性界面活性剤としては特に限定されず、例えば、アル
キル硫酸或いはこれにエチレンオキサイドを付加したア
ルキル硫酸、ラウリル硫酸等の塩類を挙げることができ
る。
なお、界面活性剤としては陽イオン性や非イオン性のも
のも考えられるが、これらはサブストレート表面への吸
着が大きいため、リンス工程においても吸着膜が除去で
きず、その後のメッキやスパッタリングに悪影響を与え
ることになるので、好ましくない。
この点、陰イオン性の界面活性剤であると、コロイダル
シリカとの共存下において安定で、かつ。
良好な洗浄効果が得られ、サブストレート表面への吸着
も少ないので、スクラブ洗浄後のリンス工程で容易に除
去される効果がある。
上記化学成分の研磨剤には、更に潤滑効果、洗浄効果を
向上させるため、トリポリリン酸ソーダ、ヘキサポリリ
ン酸ソーダ等の添加剤を必要に応じて含めることが可能
である。
スクラブ洗浄に当たって、本発明の研磨剤は、従来と同
様、ナイロンブラシ、スポンジ、ポリシングパットなど
を用いてスクラブ洗浄することができるが、特にスクラ
ブ用にポリシングパットを用いたときに上記効果が顕著
である。
次に本発明の実施例を示す。
(実施例) Ni−Pメッキした磁気ディスクサブストレートを、市
販アルミナ系研磨剤とスウェード系ラッピングクロスを
用いて研磨した後、第1表に示すスクラブ洗浄剤を用い
、かつ、第2表に示す洗浄条件で洗浄を実施し、光学顕
微鏡で表面状況を観察し、洗浄効果、表面疵の程度、濡
れ性、洗浄剤再付着の程度などを調べた。それらの結果
を第2表に示す。
第2表かられかるように、本発明の洗浄剤によれば、い
ずれも従来の洗浄剤及び比較例の洗浄剤に比べて明らか
に良好な結果が得ら九でいる。
(発明の効果) 以上詳述したように、本発明によれば、スクラブ洗浄剤
にコロイダルシリカ及び陰イオン性界面活性剤を添加し
たので、表面に疵をつけることなく研磨粉を除去でき、
しかも再付着等の問題もなく、良好な洗浄効果が得られ
、作業性も優れている。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)平均粒径0.02μm以上のコロイダルシリカ1
    〜20%及び陰イオン性界面活性剤0.1〜2.0%を
    含み、残部が水及び不純物からなることを特徴とするス
    クラブ洗浄用洗浄剤。
  2. (2)前記陰イオン性界面活性剤は、必要によりエチレ
    ンオキサイドを付加したアルキル硫酸の塩である特許請
    求の範囲第(1)項記載のスクラブ洗浄用洗浄剤。
JP6014986A 1986-03-18 1986-03-18 スクラブ洗浄用洗浄剤 Pending JPS62218589A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998021289A1 (fr) * 1996-11-14 1998-05-22 Kao Corporation Composition abrasive utilisee dans la fabrication de la base d'un support d'enregistrement magnetique, et procede de fabrication de cette base a l'aide de cette composition

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998021289A1 (fr) * 1996-11-14 1998-05-22 Kao Corporation Composition abrasive utilisee dans la fabrication de la base d'un support d'enregistrement magnetique, et procede de fabrication de cette base a l'aide de cette composition

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