JP2579401B2

JP2579401B2 - 洗浄剤組成物

Info

Publication number: JP2579401B2
Application number: JP4100141A
Authority: JP
Inventors: 俊連長; 英次山西; 敏明麻生
Original assignee: Tama Kagaku Kogyo Co Ltd
Current assignee: Tama Kagaku Kogyo Co Ltd
Priority date: 1992-03-27
Filing date: 1992-03-27
Publication date: 1997-02-05
Anticipated expiration: 2012-02-05
Also published as: JPH05271699A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、洗浄剤組成物に係
り、特に限定するものではないが、より詳しくは洗浄後
に特に高い清浄度が要求されるような精密に加工する必
要のあるガラスや精密に加工されたガラス、例えば、光
学ガラス用のレンズ、プリズム、光ファイバー等の光学
的性質を利用する部品に用いられるガラス、半導体のリ
ソグラフィー工程で必要とされるレチクル、マスク、液
晶用のガラス基板、太陽電池用ガラス基板、水晶基板等
のエレクトロニクス関連の各種ガラス基板等の洗浄、ま
た、シリコンウェーハやＧａ−Ａｓ、Ｇａ−Ｐ等の化合
物半導体ウェーハの洗浄、更には、セラミックス等の半
導体や超微量分析関係の治具の洗浄等に適した洗浄剤組
成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、レンズ等の光学ガラスについて
は、研磨後に有機溶剤で保護膜や油脂汚れを溶解除去
し、その後に無機アルカリ洗浄剤でガラス表面を軽くエ
ッチングすることによりこの表面に残留した研磨材や汚
れを除去することが行われている。

【０００３】しかしながら、光学ガラスの洗浄剤につい
ては、特別に良いというものがなく、他の一般業務用の
洗浄剤を使用しているのが実情であり、また、この様な
光学ガラスにおいては、厳密な屈折率と分散能が要求さ
れるために、ガラス自身の化学的耐久性を犠牲にしてこ
の屈折率や分散能を追求する場合が多く、このために洗
浄時にガラスに潜傷やヤケが発生することがあり、この
問題を如何に解決するかが重要な課題になっている。こ
こで、ガラスの潜傷とは、研磨工程でガラス表面に生じ
た目に見えない微小な傷が無機アルカリ洗浄剤で洗浄す
る際にそのエッチング作用により目視できるまで拡大さ
れた傷であり、また、ガラスのヤケとは、水とガラスの
相互作用によってガラスの極薄い部分の表面状態が変化
し、ガラス表面が光沢を失ったり曇りを生じる現象であ
る。そして、このガラスの潜傷に関しては、無機アルカ
リ洗浄剤のアルカリ濃度が高くなればそれだけ多くなっ
てそのレンズは不良品となり、また、アルカリ濃度を低
くしすぎるとガラス表面のエッチングができなくなって
このガラス表面に食い込んだ研磨材を除去できなくなる
という問題が生じる。そして、ガラスのヤケについて
も、その発生原因にはいろいろあると考えられるが、何
れにしても従来の無機アルカリ洗浄剤では、多くの組成
の光学ガラスについて、潜傷と共にこのヤケの問題が発
生するという問題があった。

【０００４】一方、液晶ディスプレイ用のガラスについ
ては、現在、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、無アル
カリガラス等が使用されており、当初は腕時計や電卓等
の表面積の小さなディスプレイが主体であったが、近年
ではパソコン、ワープロ、テレビ等のように表面積が大
きく、かつ、画素数の多いディスプレイが多くなり、そ
れに伴って基板面全体の清浄度が製造歩留りに直接関係
するようになり、洗浄剤自体の高純度化と洗浄力の向上
が強く要求されるようになってきた。

【０００５】しかるに、従来においては、この様な液晶
ディスプレイに使用するガラス基板について特にその専
用の洗浄剤があまり開発されておらず、デバイスに悪影
響を与える金属不純物（特に、アルカリ金属）を含有す
る無機アルカリやキレート剤を主成分とする洗浄剤をそ
のまま使用しているのが実情であり、洗浄中の洗浄液に
よるエッチングによって発生した基板面の潜傷による微
小な面荒れや、洗浄後に基板表面に吸着して残存したア
ルカリ金属等の金属不純物あるいは微小なパーティクル
等が問題になっていた。特にＴＦＴ用基板ガラスの場
合、洗浄後にガラス表面にアルカリ金属が吸着されて残
存する可能性があったり、また、このガラス表面が薄い
ＳｉＯ₂でコートされている場合にはこの酸化膜中にア
ルカリ金属が入り込んでその内部で可動イオンとなり、
基板上に形成されたデバイスの信頼性を著しく悪化させ
てしまう虞があり、更には、クリーンルーム内のアルカ
リ金属による汚染という問題も発生して好ましくない。

【０００６】そして、この問題は、液晶の集積度が上が
り、かつ、ガラスの表面積が大きくなるにつれて、ます
ます重大な問題としてクローズアップし、如何にして解
決するかが重要な課題になってきた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、この様な問題を生じることのない洗浄剤を開発すべ
く鋭意研究を重ねた結果、有機アルカリである水酸化第
四級アンモニウム塩基をアルカリ基材とし、これに所定
の割合で非イオン界面活性剤とアルカノールアミンとを
添加して得られ、実質的に金属イオンを含まない有機ア
ルカリ水溶液が優れた洗浄力を有し、しかも、洗浄時に
ガラスやウェーハ等の表面に潜傷やヤケ等のダメージを
生ぜしめることが少ないことを見出し、本発明を完成し
た。

【０００８】従って、本発明の目的は、種々のガラスや
ウェーハ等に対して優れた洗浄力を有し、しかも、ガラ
スやウェーハ等の表面に対するダメージの少ない新しい
洗浄剤組成物を提供することにある。

【０００９】また、本発明の他の目的は、実質的に金属
イオンを含まず、種々のガラスやウェーハ等に対して優
れた洗浄力を発揮すると共にガラスやウェーハ等の表面
に対してダメージが少なく、特に光学ガラスや液晶用ガ
ラス基板、また、シリコンウェーハやＧａ−Ａｓ、Ｇａ
−Ｐ等の化合物半導体ウェーハ、更には、セラミックス
等の半導体や超微量分析関係の治具等の精密に加工する
必要のある、あるいは、精密に加工されたガラスやウェ
ーハ等の洗浄に最適な洗浄剤組成物を提供することにあ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、水
酸化第四級アンモニウム塩基０．０２〜２重量％、非イ
オン系界面活性剤０．０１〜２重量％及びアルカノール
アミン０．０５〜５重量％を含有する有機アルカリ水溶
液からなり、実質的に金属イオンを含まない洗浄剤組成
物である。

【００１１】本発明の洗浄剤組成物においてその強アル
カリ成分として使用される水酸化第四級アンモニウム塩
基としては、実質的に金属イオンを含まず、しかも、ガ
ラスやウェーハ等に対するエッチング量が比較的少ない
ものがよく、具体的には、テトラメチルアンモニウムハ
イドロオキサイド（ＴＭＡＨ）、トリメチルヒドロキシ
エチルアンモニウムハイドロオキサイド（コリン）、メ
チルトリヒドロキシエチルアンモニウムハイドロオキサ
イド、ジメチルジヒドロキシエチルアンモニウムハイド
ロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキ
サイド、トリメチルエチルアンモニウムハイドロオキサ
イド等を挙げることができる。これらは、その１種のみ
を単独で使用できるほか、２種以上を適宜組み合わせて
使用することもできる。また、これらのうち特に好まし
いものは、そのアルカリの強度、経済性、入手し易さ等
等の観点からＴＭＡＨやコリンである。そして、これら
の水酸化第四級アンモニウム塩基については、光学ガラ
スや液晶用ガラス基板等の精密加工用ガラスやウエハ等
の洗浄に使用する場合には金属イオンやハロゲンイオン
を実質的に含まない超高純度のものであるのがよく、こ
の様な水酸化第四級アンモニウム塩基は、例えば、特公
昭６３−１５３５５号公報記載の方法等により製造する
ことができる。

【００１２】この水酸化第四級アンモニウム塩基の使用
量については、通常０．０１〜２０重量％、好ましくは
０．０２〜２重量％の範囲である。使用量が２０重量％
より多くなるとアルカリが強くなり過ぎてガラスやウェ
ーハ等を過剰にエッチングし、ガラスやウェーハ等の表
面状態を変えてしまう虞があり、また、０．０１重量％
より少ないと良好な洗浄性を保てずに洗浄不良を起こす
虞がある。

【００１３】本発明においては、上記水酸化第四級アン
モニウム塩基に加えて非イオン性界面活性剤を使用す
る。この非イオン性界面活性剤は、水酸化第四級アンモ
ニウム塩基との相互作用によって油脂や微粒子等の汚染
物質を除去する作用を有し、洗浄剤組成物の洗浄性を更
に向上させるものであり、金属イオンを実質的に含まな
いことが必要であり、泡立ちが少なく、洗浄性を向上さ
せる作用に優れているものが好ましく、より好ましくは
ハロゲンイオンも含まないものである。この様な非イオ
ン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンノニルフ
ェノールエーテル型、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル型、ポリプロピレングリコールにエチレンオキサイ
ドを付加したプルロニック型等のものが好適に使用され
る。

【００１４】これらの非イオン性界面活性剤の使用量
は、通常０．００５〜５重量％、好ましくは０．０１〜
２重量％、好ましくは０．０１〜０．５重量％の範囲で
あり、５重量％を越えて使用すると泡立ちや濯ぎの問題
が生じて好ましくなく、逆に０．００５重量％より少な
いと洗浄力を向上させる作用が十分に発揮されない。

【００１５】更に、本発明においては、より一層優れた
洗浄力を得る目的でアルカノールアミンを添加する。洗
浄力を向上させるためにしばしば使用されるキレート化
合物はその多くのものがガラスやウェーハ等に対して強
い浸蝕作用を有しているが、本発明で使用するアルカノ
ールアミンは、洗浄力を向上させ、洗浄剤自体の使用可
能回数（洗浄液の寿命）を向上させるという作用を有す
るにもかかわらず、ガラスやウェーハ等の表面に対する
ダメージが極めて少ないという優れた性質を有してい
る。この様なアルカノールアミンの具体例としては、ト
リメタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエタノ
ールアミン、モノエタノールアミン等を挙げることがで
き、特に入手のし易さ、経済性、効果等の観点からトリ
エタノールアミンが好ましい。これらのアルカノールア
ミンは、その１種のみを単独で使用できるほか、２種以
上を混合して使用することもできる。

【００１６】このアルカノールアミンの使用量は、通常
０．０１〜１０重量％、好ましくは０．０５〜５重量％
の範囲であり、この使用量が１０重量％を越えると洗浄
性能の低下という問題が生じ、また、経済性の点からも
好ましくない。また、０．０１重量％より少ないと洗浄
力を向上させ、その寿命を改善する作用が充分に発揮さ
れない。

【００１７】本発明の洗浄剤組成物は、常温においても
優れた洗浄効果を示すことは勿論、適度な加熱下での洗
浄や超音波を使用する洗浄においても好適に使用するこ
とができる。

【００１８】なお、本発明の洗浄剤組成物においては、
その必要とする性能を損なわない範囲で上記必須成分に
加えて、例えばエチレンジアミン四酢酸、ジエチレント
リアミン五酢酸等のキレート化合物やそのアンモニウム
塩、あるいは、例えばクエン酸、グルコン酸、シュウ
酸、酒石酸、マレイン酸等のような有機酸やその塩（但
し、アルカリ金属や金属不純物を実質的に含まない形の
塩）のような金属イオン封鎖力を有する化合物等の第三
成分を、各種ガラスやウェーハ等の組成に応じて、その
ガラスやウェーハ等の浸食があまり進まない程度の添加
量で添加し、洗浄力の増強及び洗浄液の寿命の向上等の
性能を付与することもできる。

【００１９】

【実施例】以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明
の洗浄剤組成物を具体的に説明する。なお、これらの実
施例及び比較例は本発明の技術的範囲を何ら限定するも
のではない。

【００２０】実施例１及び２並びに比較例１〜４水酸化第四級アンモニウム塩基として特公昭６３−１５
３５５号公報記載の方法で製造したＴＭＡＨを使用し、
非イオン性界面活性剤としてポリオキシエチレンノニル
フェノールエーテル（ＰＮＥ−Ｂ、エチレンオキサイド
付加モル数：１５）を使用し、また、アルカノールアミ
ンとしてトリエタノールアミン（ＴＥＡ）を使用し、表
１に示す割合で配合して実施例及び比較例の洗浄剤組成
物を調製した。なお、比較例４では水酸化ナトリウム、
キレート剤及び非イオン性界面活性剤を含有する市販の
無機アルカリ洗浄剤を１０倍に希釈して使用した（１０
％−無機市販品）。

【００２１】得られた実施例１及び２並びに比較例１〜
４の洗浄剤組成物について、そのｐＨを測定すると共
に、下記の組成を有する３種のレンズ用ガラス（ＳＫ１
６、ＬａＦ３及びＢＫ７）に対する洗浄性及びそのレン
ズ表面状態の変化を調べた。結果を表１に示す。〔レンズ用ガラスの組成（重量％）〕ＳＫ１６；ＳｉＯ₂：３０．８、ＢａＯ：４８．７、Ｂ
₂Ｏ₃：１７．９、その他：２．６ＬａＦ３；Ｂ₂Ｏ₃：３７．３、Ｌａ₂Ｏ₃：２５．
７、ＣａＯ：１０．７、ＰｂＯ：１０．７、その他：１
５．６ＢＫ７；ＳｉＯ₂：６８．９、Ｂ₂Ｏ₃：１０．１、
Ｎａ₂Ｏ：８．８、その他：１２．２

【００２２】なお、種々のレンズに対する洗浄性及び表
面状態は、洗浄剤組成物の溶液中に指紋（油脂）を付着
させたレンズを浸漬し、２８ｋＨｚの超音波の作用下に
室温で３分間洗浄し、次いで純水で２分間リンスした
後、窒素ガス雰囲気中で乾燥し、白熱灯の下で指紋の除
去性及び表面状態を目視にて観察し、以下の基準で評価
した。

【００２３】〔洗浄性〕５：指紋が完全に除去出来た、４：指紋がわずかに残っ
ている、３：指紋が全体的に薄く残っている、２：指紋
が殆ど落ちていない、及び、１：浸漬前と全く変わらな
い。

【００２４】〔表面状態〕５：洗浄前と変化なし、４：潜傷が僅かに確認できる、
３：潜傷がはっきりと確認できる、２：潜傷が数多く確
認できる、及び、１：激しい潜傷が表面全体を覆ってい
る。

【００２５】

【表１】

【００２６】また、上記実施例１の洗浄剤組成物と比較
例４で使用した無機市販品の洗浄剤を純水で５０倍に希
釈したものについて、含有されている不純物の金属イオ
ンの含有量を原子吸光法で測定した。結果を下記に示
す。〔実施例１の洗浄剤組成物〕Ｎａ：＜１ｐｐｂ、Ｋ：＜１ｐｐｂ、Ｆｅ：＜１ｐｐ
ｂ、Ａｌ：＜１ｐｐｂ、Ｃｕ：＜１ｐｐｂ、及び、Ｃａ：＜１ｐｐｂ〔比較例４の市販品〕Ｎａ：９，０００ｐｐｍ、Ｋ：２．８ｐｐｍ、Ｆｅ：３
８０ｐｐｂ、Ａｌ：１９０ｐｐｂ、Ｃｕ：６ｐｐｂ、及び、Ｃａ：７
８０ｐｐｂ

【００２７】以上の結果から明らかなように、本発明の
洗浄剤組成物は、アルカリ金属不純物等が実質的に含ま
れていない超高純度のものであり、しかも、洗浄力に優
れているので、単にガラス用としてのみに限らず、シリ
コンウェーハやＧａ−Ａｓ、Ｇａ−Ｐ等の化合物半導体
ウェーハ、更には、セラミックス等の半導体や超微量分
析関係の治具の洗浄等に対しても極めて有用なものであ
ることが判明した。

【００２８】実施例３及び比較例５〜９ＴＭＡＨ、ポリオキシエチレンノニルフェノールエーテ
ル（ＰＮＥ−Ｂ、エチレンオキサイド付加モル数：１
５）、トリエタノールアミン（ＴＥＡ）及び水酸化ナト
リウム（ＮａＯＨ）を使用し、表２に示す割合で配合し
て実施例及び比較例の洗浄剤組成物を調製した。なお、
比較例９では上記比較例４と同じ市販の無機アルカリ洗
浄剤を１０倍に希釈して使用した。

【００２９】得られた各実施例及び比較例の洗浄剤組成
物について、そのｐＨを測定すると共に、上記実施例１
で使用したと同じ３種のレンズ用ガラスに対するエッチ
ング量を調べ、実施例３の場合を１として各比較例５〜
９の場合を相対的なエッチング量比として数値で表し
た。結果を表２に示す。

【００３０】なお、エッチング量の測定は、洗浄剤組成
物の溶液を７０℃に加温し、この溶液中に予めメトラー
で重量を測定した各レンズを浸漬し、２８ｋＨｚの超音
波の作用下で２４時間洗浄し、次いで純水で２分間リン
スした後、アセトンに１分間浸漬し、窒素ガス雰囲気中
で乾燥させ、再びメトラーで重量を測定してエッチング
量を調べた。

【００３１】

【表２】

【００３２】実施例４〜１３及び比較例１０〜１４水酸化第四級アンモニウム塩基としてＴＭＡＨ又はコリ
ンを使用し、非イオン性界面活性剤としてポリオキシエ
チレンノニルフェノールエーテル（ＰＮＥ−Ａ、エチレ
ンオキサイド付加モル数：１０）、ポリオキシエチレン
ノニルフェノールエーテル（ＰＮＥ−Ｂ、エチレンオキ
サイド付加モル数：１５）、ポリオキシエチレンノニル
フェノールエーテル（ＰＮＥ−Ｃ、エチレンオキサイド
付加モル数：２０）又はプルロニック型Ｄ（ＯＰＧ−
Ｄ、平均分子量：２０５０、酸化エチレン含有量：５０
％）を使用し、また、アルカノールアミンとしてモノエ
タノールアミン（ＭＥＡ）、ジエタノールアミン（ＤＥ
Ａ）又はトリエタノールアミン（ＴＥＡ）を使用し、水
をバランスとしてこれらを表３に示す割合で配合し、実
施例４〜１３及び比較例１０〜１４の洗浄剤組成物を調
製した。

【００３３】この様にして調製した各実施例及び比較例
の洗浄剤組成物を使用し、指紋、手袋の跡、微粒子（ガ
ラス粉、大気塵埃等）を付着させて汚染させたアクティ
ブマトリクス形ＬＣＤ用ガラス基板〔コーニングジャパ
ン（株）社製商品名：コーニング７０５９）について下
記の方法でその洗浄試験を行った。

【００３４】すなわち、テフロン製の洗浄キャリアに上
記被洗浄体ガラス基板をセットし、これを上記各実施例
及び比較例の洗浄剤組成物の溶液中に浸漬し、６０℃で
１５分間２８ｋＨｚの超音波を使用して洗浄し、次いで
超純水によるすすぎを５分間行い、遠心力を利用したリ
ンサードライヤーで乾燥し、クリーンベンチ内に設置し
た高輝度ハロゲンランプを使用してガラス表面の清浄度
を判定した。

【００３５】この清浄度の判定は、５：汚れ落ちが非常
に良好（指紋、手袋の跡等は完全に洗浄されており、微
粒子もほとんど除去されている）、４：汚れ落ちが良好
（指紋、手袋の跡等は完全に洗浄されているが、微粒子
については若干の残存が認められる）、３：汚れ落ちが
やや劣る（指紋、手袋の跡等の若干の残渣が認められ、
微粒子、特に微細なものについてはかなりの残存が認め
られる）、２：不良（各汚染について、洗浄前より若干
良くなった程度である）、及び、１：ほとんど洗浄され
ていない、の５段階法で評価した。結果を表３に示す。

【００３６】

【表３】

【００３７】実施例１４〜１７及び比較例１５〜１９水酸化第四級アンモニウム塩基として上記実施例１及び
２で用いたのと同じＴＭＡＨを使用し、非イオン性界面
活性剤としてポリオキシエチレンノニルフェノールエー
テル（ＰＮＥ−Ｂ、エチレンオキサイド付加モル数：１
５）とポリオキシエチレンアルキルエーテル（ＰＡＥ、
ＨＬＢ値１４．２）を使用し、また、アルカノールアミ
ンとしてトリエタノールアミン（ＴＥＡ）とジエタノー
ルアミン（ＤＥＡ）を使用し、表４に示す割合で配合し
て各実施例及び比較例の洗浄剤組成物を調製した。な
お、比較例１９ではアミノアルコールと非イオン性界面
活性剤を含む市販のワックス用洗浄剤の１０％水溶液
（超純水で希釈）を使用した（１０％−有機市販品）。

【００３８】このようにして得られた実施例１４〜１７
及び比較例１５〜１９の洗浄剤組成物について、下記の
方法でシリコンウェーハ表面に付着したワックス除去性
を調べた。結果を表４に示す。〔ワックス除去性〕すなわち、市販のワックス〔日化精工（株）製商品名：
スカイリキッドＨＦ−３５−１１〕を４インチのシリコ
ンウェーハ上に２ｍｌ滴下し、１０００ｒｐｍで３秒間
回転させて２．４μｍの膜厚のワックス層を形成し、こ
れを９５℃で４分環ホットプレート上でベークし、ワッ
クス洗浄試験用の試験用ウェーハを調製し、この調製し
た試験用ウェーハを洗浄剤組成物中に室温下で１０分間
浸漬し、その後純水で５分間リンスし、リンサードライ
ヤーで乾燥した後、ワックスの除去性を肉眼で観察し、
○：ワックスが完全に除去されている、△：ワックスが
一部残っている、×：ワックスが全体に薄く残ってい
る、及び、××：ワックスがほとんど除去されていな
い、の４段階で評価した。

【００３９】

【表４】

【００４０】更に、上記ワックス除去性試験と同様にし
て調製したワックス層２．７μｍの４インチシリコンウ
ェーハを、そのワックス層を上にして、実施例１４の洗
浄剤組成物並びに比較例１９で使用した有機市販品ワッ
クス用洗浄剤の３．３％水溶液（超純水で希釈）の５０
０ｍｌ中にそれぞれ浸漬し、ゆっくりと攪拌しながらワ
ックス層全体が溶解するまでの時間を測定した。結果
は、実施例１４の洗浄剤組成物が３５秒であり、比較例
１９の有機市販品ワックス用洗浄剤が９０秒であった。

【００４１】次に、上記実施例１４の洗浄剤組成物５０
０ｍｌ中に４インチシリコンウェーハを常温で３時間浸
漬し、その後純水でリンスして乾燥し、斜光にてミラー
面の荒れ具合を観察した。結果は、ミラー面の荒れは観
察されず、実施例２洗浄剤組成物浸漬前と変化がなかっ
た。

【００４２】

【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、優れた洗浄力
を有するだけでなく、ガラスやウェーハ等の表面に対す
る潜傷やヤケ等のダメージが極めて少なく、しかも、実
質的に金属イオンを含まないので、特に高い清浄度が要
求される精密加工用ガラス、例えば、光学ガラス用のレ
ンズ、プリズム、光ファイバー等の光学的性質を利用す
る部品に用いられるガラス、半導体のリソグラフィー工
程で必要とされるレチクル、マスク、液晶用のガラス基
板、太陽電池用ガラス基板、水晶基板等のエレクトロニ
クス関連の各種ガラス基板等の洗浄に好適であり、ま
た、シリコンウェーハやＧａ−Ａｓ、Ｇａ−Ｐ等の化合
物半導体ウェーハ等の洗浄にも好適であり、更には、セ
ラミックス等の半導体や超微量分析関係の治具の洗浄等
に対しても極めて有用である。

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】水酸化第四級アンモニウム塩基０．０２
〜２重量％、非イオン系界面活性剤０．０１〜２重量％
及びアルカノールアミン０．０５〜５重量％を含有する
有機アルカリ水溶液からなり、実質的に金属イオンを含
まないことを特徴とする洗浄剤組成物。
【請求項２】水酸化第四級アンモニウムが、下記一般
式（１）〔Ｒ¹ ₄Ｎ⁺〕ＯＨ^- （１）（但し、式中Ｒ¹は炭素数１〜４のアルキル基又はヒド
ロキシアルキル基を示し、互いに同じであっても異なっ
ていてもよい）で表される化合物である請求項１記載の
洗浄剤組成物。
【請求項３】アルカノールアミンが下記一般式（２）Ｒ² ₃Ｎ（２）（但し、式中Ｒ²は互いに同一又は異なる水素原子、炭
素数１〜３のアルキル基、炭素数２又は３のヒドロキシ
アルキル基又は炭素数２又は３のアミノアルキル基、若
しくは、Ｒ²の何れか２つが互いに結合して５〜７員環
の窒素含有環を形成し、かつ、残りのＲ²の１つがヒド
ロキシアルキル基又はアミノアルキル基を示す）で表さ
れる化合物である請求項１記載の洗浄剤組成物。