JP2000353725A - チップ実装方法及びその装置 - Google Patents
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Abstract
る基板にチップを実装する際、Z軸送り装置の送り機構
の熱膨張等に影響されずに良好に実装することができる
と共にチップのバンプ形状を矯正できるようにする。 【解決手段】 Z軸送り装置3で昇降され得るホルダー
支持手段15に静圧空気軸受18を介してツールホルダ
ー17が装着されていると共にツールホルダー17に、
チップ1を保持し得るツール2が装着され、更に、ホル
ダー支持手段15に、ツールホルダー17の高さ位置を
検出してZ軸送り装置3の駆動制御手段22にフィード
バックする高さ検出手段23が装着されている。なお、
ホルダー支持手段15は、加圧ポート19及びバランス
圧ポート20を有している。
Description
にチップを実装するチップ実装方法及びその装置に関す
るものである。
ップを保持しているツールを、基板保持ステージに支持
されている基板(例えば、液晶基板等)の上方から降下
させて行うが、その際、基板に対するチップの加圧力
(押付け圧力)を一定に保たなければならない。
位置を制御する為のZ軸送り装置と、基板に対するチッ
プの加圧力を検出してZ軸送り装置にフィードバックす
る加圧力検出手段とを備えている。
において示されているように、ネジ軸送り型に設けられ
ているが、同図において、チップ実装装置は、チップ1
を保持しているツール2を、Z軸送り装置3によって降
下させて、基板保持ステージ4に支持されている基板5
に実装するものであって、Z軸送り装置3は、装置フレ
ーム9に装着のサーボモータ6で送り機構7(例えば、
ボールネジ)を回転させ、これに螺着せしめられている
スライダー8を、装置フレーム9に装着のガイドレール
10で案内して昇降せしめる。
ラケット11に、加圧力検出手段のロードセル12を介
在させて装着されているツール2も一緒に昇降せしめら
れるが、その際、エンコーダ13で高さ位置が検出され
てサーボモータ6にフィードバックされる。よって、ツ
ール2は、上方の待機位置から降下せしめられて所定高
さに位置決めされる。
環境温度の影響を受けて熱膨張していると、ツール2が
所定高さ位置と異なる位置に位置決めされてしまう為
に、目標とする接地後のチップ高さ位置(チップが基板
に接触せしめられた後のチップ高さ位置)が得られず、
これではバンプの形状を所定に保つことができない。
2で実際の加圧力を検出してサーボモータ6のトルク制
御にフィードバックしているが、フィードバック時間が
遅く、しかも、サーボトルク制御の精度が悪いこと等の
為に、微小な加圧力の制御が難しかった。なお、送り機
構7の熱膨張は、ヒートツールを装着している場合にお
いて顕著である。本発明は、このような欠点に鑑み、そ
れらを解消すべく鋭意検討の結果得られたものである。
チップ実装装置は、請求項1に記載するように、ホルダ
ー支持手段を上下動せしめるZ軸送り装置と、前記ホル
ダー支持手段に上下動し得るように装着されたツールホ
ルダーと、前記ツールホルダーに装着されたツールとを
備えたチップ実装装置において、前記ツールホルダーの
高さ位置を検出して前記Z軸送り装置の駆動制御手段に
フィードバックする高さ検出手段を前記ホルダー支持手
段に装着したことを特徴とするものである。
求項6に記載するように、基板保持ステージに支持され
ている基板の上方からチップを保持しているツールを降
下させて前記チップを熱圧着するチップ実装方法におい
て、前記基板に接地せしめられた前記チップの接地高さ
位置を検出すると共にそれに基づく前記ツールの上昇制
御によって前記基板のハンダバンプの形状矯正を行うこ
とを特徴とするものである。
は、上述の従来のそれと略同一に設けられている(図1
5参照)。従って、これの詳述は省略するが、ホルダー
支持手段15は、スライダー8に装着されているホルダ
ーブラッケット16に装着されている。また、ツールホ
ルダー17は、上下動し得るようにホルダー支持手段1
5に装着されている。また、ツール2は、ツールホルダ
ー17の下端に装着されている。
リンダーのシリンダーチューブで構成されていると共に
ツールホルダー17は、前記エアーシリンダーのピスト
ンで構成されているが、かかるツールホルダー17は、
一般にエアーベアリングと呼ばれている静圧空気軸受1
8を介してホルダー支持手段15に装着されている。
められている加圧ポート19及びバランス圧ポート20
から供給される加圧エアー同士の差圧をもってツールホ
ルダー17の上下動を所定に制御することができてツー
ル2を所定レベルに位置決めせしめることができ、か
つ、その際、微小圧で制御することができる。
支持手段15に設けられている孔21から供給される加
圧エアーを多孔質体で均一に分散させてツールホルダー
17の下部を非接触状態に支持し得るので、その支持箇
所の摩擦抵抗が無視することができる程度に極めて小さ
く、しかも、ツールホルダー17のヘッド部分もホルダ
ー支持手段15に対して遊嵌せしめられているので、同
様にその箇所の摩擦抵抗も無視することができる程度に
極めて小さい為に、微小圧で制御することができる。
ー17の上下動を許容するが回転させないように非接触
状態に支持し得る為に静圧空気直進軸受とも呼ばれてい
ると共に上述のようにエアーシリンダー型に設けること
は従来、公知である(例えば、特開平10−34093
1号公報において開示されている)。
手段15に対して、ツールホルダー17の上端位置を検
出してZ軸送り装置3の駆動制御手段22(例えば、サ
ーボモータ)にフィードバックする高さ検出手段23
(例えば、渦電流式センサ等)を装着している。
膨張に影響されずにツール2の高さ位置制御を常時、高
精度に行うことができ、しかも、基板保持ステージ4に
保持されている基板5に対するチップ1の接地時に、ホ
ルダー支持手段15に対してツール2が浮上(相対的に
上方へ移動)せしめられたストローク分を高さ検出手段
23で測定し、それに基づく制御信号をZ軸送り装置3
の駆動制御手段22にフィードバックして所定に駆動制
御することができ、従って、送り機構7が熱膨張してい
ても接地高さ位置を正確に検出することができる。
するが、ツールホルダー17はその分、浮上されている
為、チップ1のバンプ潰れよるショートが発生しない。
更に、その浮上分を高さ検出手段23で測定してZ軸送
りにフィードバックする為、冷却させてハンダを固着さ
せるときに正確な高さ位置制御を行うことができ、従っ
て、良好なバンプ形状に実装することができる。
おいては、チップ1を基板5に接地せしめた後、ツール
2を加熱し、かつ、冷却してハンダを固着させるが、そ
の時、熱膨張によってバンプが押し潰される為、バンプ
形状の矯正(チップ1を引き上げての矯正)が余儀なく
されている。
度が要求される為、上述のような従来技術では、送り機
構7の熱膨張の影響を受けて、そのような精度が得られ
なかったが、本発明によると、高精度にチップ高さを制
御することができるので、チップ1のバンプを過度に押
し潰すことなく良好に実装することができる。
おけるホルダー支持手段15及びツールホルダー17の
一連の昇降(上下動)制御態様が示されているが、図2
においては、実装を開始しようとする状態が示されてい
ると共に図3においては、その時のバンプ1aの形状が
示されている。
ダバンプ1aが基板5のパッドに接地された状態が示さ
れていると共に図5においては、その時のバンプ姿(点
接触された姿)が示されている。
送りが続行されてツールホルダー17が浮上、すなわ
ち、ホルダー支持手段15に対してツールホルダー17
が離別され始めた状態が示されている。
3が設定高さを検出し、ツールホルダー17がホルダー
支持手段15と図示Xだけ離別せしめられて送り機構に
よる送りが停止された状態が示されている。なお、この
状態においては、バンプ高さのバラツキや基板の反り等
の為に、基板5のパッドに対して全てのバンプ1aが接
触しておらず、その一部が接触しているにすぎない。
ト20からのエアー供給が停止される一方において加圧
ポート19からのエアー供給が行われてツールホルダー
17が下方へ移動せしめられた状態が示されている。な
お、その際、少し高めに加圧することにより、全てのバ
ンプ1aを図9において示されているように基板5のパ
ッドに対して面接触せしめることができ、そして、その
後、バンプ1aがツール2で加熱されて溶融し始める。
に、加圧ポート19からのエアー供給が停止される一方
においてバランス圧ポート20からのエアー供給が行わ
れるが、その際において、ツールホルダー2の自重を打
ち消して数gの微小な加圧力で制御される為にバンプ形
状を損わない。
への送り機構による送りが開始されて高さ検出手段23
が高さゼロを検出、すなわち、ツールホルダー17に対
してホルダー支持手段15が最大に上昇せしめられた状
態が示されている。
の送り機構による送りが続行され、従って、チップ1が
上方へ移動せしめられて(引き上げられて)バンプ1a
の形状が矯正される姿が示されているが、かかる引き上
げストロークは必要に応じて適宜に選択され、かつ、そ
の後、送り機構による送りが停止された状態においてバ
ンプ1aが冷却せしめられる。図13においては、その
時のバンプ1aの形状が示されている。
明においては、図14において示されているように設け
てもよい。このチップ実装装置においては、ツール2が
装着されているツールホルダー17を、ホルダー支持手
段15に装着されている直進軸受25で上下動し得るよ
うに支持していると共にホルダー支持手段15を、スラ
イダー8に装着されているホルダーブラッケット16に
装着している。
7のスライド(上下動)を許容するが回転させないよう
に支持している。
出してZ軸送り装置3の駆動制御手段22(例えば、サ
ーボモータ)にフィードバックする高さ検出手段23
(例えば、渦電流式センサ等)をホルダー支持手段15
に装着していると共にツールホルダー17の上端にロー
ドセル12を装着している。
27を装着しているが、エアーシリンダー26はブラケ
ット28に装着され、かつ、このブラケット28の図示
されていない左端は、装置フレーム(図示されていな
い)に装着されているガイドレールにスライド自在に係
合せしめられている。
左端が前記装置フレームに固着せしめられていると共に
図示のように、両者に弾性体(引っ張りコイルバネ)2
9が係止されている。
エアーシリンダー26のピストンロッド26aによって
ツールホルダー17をホルダー支持手段15の上端面に
押し付けた状態のまま両者を一緒に上下動させることが
できる。
が、本発明おいていうチップ1とは、例えば、ICチッ
プ、半導体チップ、光素子、表面実装部品、ウエハな
ど、その種類や大きさに関係なく、基板5に対して接合
せしめる方の対象物をいうと共に基板5とは、例えば、
樹脂基板、ガラス基板、フィルム基板、ウエハ、チップ
など、その種類や大きさに関係なく、チップ1が接合せ
しめられる方の対象物をいう。
を保持(又は支持)する手段は、吸気孔による吸着保持
手段、静電気による静電保持手段、磁石や磁気などによ
る磁気保持手段、複数の可動爪によって基板を掴む機械
的手段、単数又は複数の可動爪によって基板を押さえる
機械的手段など、いかなる形態の保持手段であってもよ
い。
ル2の先端にアタッチメントを装着した場合において、
かかるアタッチメントの加圧面)にチップ1を保持する
手段についても、吸気孔による吸着保持手段だけでな
く、静電気による静電保持手段、磁石や磁気などによる
磁気保持手段、複数の可動爪によってチップ1を掴む機
械的手段、一つの可動爪によってチップ1を押さえる機
械的手段など、いかなる形態の保持手段であってもよ
い。
要に応じて、固定型、可動型のいずれに設けてもよく、
かつ、可動型に設ける場合においては、平行移動制御、
回転制御、昇降制御、平行移動制御と回転制御、平行移
動制御と昇降制御、回転制御と昇降制御、平行移動と回
転制御と昇降制御、等のように各種態様に制御し得るよ
うに設けてもよい。
は、例えば、ハンダバンプ、スタッドバンプなど、基板
5に設けられたパッド(例えば、電極、ダミー電極な
ど)と接合せしめられる方の対象物であると共に基板に
設けられたパッドとは、例えば、配線を伴った電極、配
線につながっていないダミー電極など、チップ1に設け
られているバンプ1a(例えば、ハンダバンプ、スタッ
ドバンプなど)と接合せしめられる方の対象物をいう。
いても、例えば、ボールネジ型やリニアモータ型等、ス
ライダー8を移動させ得る限りにおいては、いかなる型
式のものであってもよい。
とは、チップを搭載するマウント装置やチップを接合す
るボンディング装置に加えて、例えば、基板とチップ、
基板と接着材(ACF、NCFなど)等、予め対象物同
士が接触(搭載又は仮圧着など)されたものを加圧、加
熱及び/又は振動手段(超音波、ピエゾ素子、磁歪素
子、ボイスコイルなど)によって固着又は転写させる装
置を包含する広い概念の装置をいう。
ものに限定されず、保持し得ないものであってもよい。
また、ヒータを備えた所謂、ヒートツールに限定され
ず、ヒータを備えていないものであってもよく、かつ、
チップ1を保持し得るものにおけるその保持手段は、真
空吸着保持する為の吸気孔を加圧面(ツール先端面)に
開口せしめたもの、或いは、他の形態の保持手段であっ
てもよい。
ツール2を装着することに限定されず、必要ならば、ロ
ードセルを介在させて装着してもよい。また、図14に
おいて示されているチップ実装装置においては、ツール
ホルダー17の上端にロードセル12(加圧検出手段)
を装着しているが、これに代えて、ブラケット28の上
面に装着、すなわち、アタッチメント30の装着に代え
て、そこにロードセル12を装着する一方において、ツ
ールホルダー17の上端にアタッチメント30を装着し
てもよい。
みに限定されず、他のセンサー(レーザや光センサー
等)であってもよく、また、Z軸送り装置は、ネジ軸送
り型に限定されず、他の型式、例えば、リニアモータ型
等であってもよいと共にその駆動制御手段についても、
サーボモータ或いはその他の手段であってもよい。
ポートを使用しないで、加圧ポートのみで制御してもよ
いと共に高さ検出手段は、ツールホルダーの高さ位置を
検出することによってツールの高さ位置を測定(間接的
にボンディングツールの高さ位置を検出)するように装
着すること以外に、ツールの高さ位置を直接、検出し得
るように装着してもよい。
り装置のボールネジ軸等の送り機構の熱膨張に影響され
ずにツールの高さ位置制御を常時、高精度に行うことが
できる。その為、ツールがチップを保持している場合に
おいては、チップ高さを高精度に制御することができて
チップのバンプを過度に押し潰すことなく良好に実装す
ることができると共にバンプ形状の矯正を行うことがで
きるチップ実装方法及び装置を得ることができる。
である。
図である。
(点接触状態)を示す図である。
ツールホルダーの浮上状態を示す図である。
を示す図である。
エアー供給状態を示す図である。
れた状態を示す図である。
制御する状態を示す図である。
段を図示矢印方向へ移動する姿を示す図である。
ある。
ある。
Claims (8)
- 【請求項1】 ホルダー支持手段を上下動せしめるZ軸
送り装置と、前記ホルダー支持手段に上下動し得るよう
に装着されたツールホルダーと、前記ツールホルダーに
装着されたツールとを備えたチップ実装装置において、
前記ツールホルダーの高さ位置を検出して前記Z軸送り
装置の駆動制御手段にフィードバックする高さ検出手段
を前記ホルダー支持手段に装着したことを特徴とするチ
ップ実装装置。 - 【請求項2】 ホルダー支持手段がエアーシリンダーの
シリンダーチューブであると共にツールホルダーが前記
エアーシリンダーのピストンであることを特徴とする請
求項1に記載のチップ実装装置。 - 【請求項3】 ピストンが静圧空気軸受を介してシリン
ダーチューブに装着されていることを特徴とする請求項
2に記載のチップ実装装置。 - 【請求項4】 ツールがチップを保持し得るものである
ことを特徴とする請求項1,2又は3に記載のチップ実
装装置。 - 【請求項5】 ツールがヒータを備えていることを特徴
とする請求項1,2,3又は4に記載のチップ実装装
置。 - 【請求項6】 基板保持ステージに支持されている基板
の上方からチップを保持しているツールを降下させて前
記チップを熱圧着するチップ実装方法において、前記基
板に接地せしめられた前記チップの接地高さ位置を検出
すると共にそれに基づく前記ツールの上昇制御によって
前記基板のバンプの形状矯正を行うことを特徴とするチ
ップ実装方法。 - 【請求項7】 ツールの上昇制御を、チップと基板の熱
膨張分を吸収し得るように行うことを特徴とする請求項
6に記載のチップ実装方法。 - 【請求項8】 チップの接地時に一時的に加圧力を高め
ると共にバンプの加熱溶融後において加圧力を低下せし
めることを特徴とする請求項6又は7に記載のチップ実
装方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2000103857A JP4577941B2 (ja) | 1999-04-05 | 2000-04-05 | チップ実装方法及びその装置 |
PCT/JP2000/008734 WO2002049094A1 (fr) | 1999-04-05 | 2000-12-11 | Procédé et dispositif de montage de microcircuit |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11-97715 | 1999-04-05 | ||
JP9771599 | 1999-04-05 | ||
JP2000103857A JP4577941B2 (ja) | 1999-04-05 | 2000-04-05 | チップ実装方法及びその装置 |
PCT/JP2000/008734 WO2002049094A1 (fr) | 1999-04-05 | 2000-12-11 | Procédé et dispositif de montage de microcircuit |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000353725A true JP2000353725A (ja) | 2000-12-19 |
JP4577941B2 JP4577941B2 (ja) | 2010-11-10 |
Family
ID=27278760
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000103857A Expired - Lifetime JP4577941B2 (ja) | 1999-04-05 | 2000-04-05 | チップ実装方法及びその装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4577941B2 (ja) |
WO (1) | WO2002049094A1 (ja) |
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- 2000-04-05 JP JP2000103857A patent/JP4577941B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-11 WO PCT/JP2000/008734 patent/WO2002049094A1/ja active Application Filing
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Also Published As
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---|---|
JP4577941B2 (ja) | 2010-11-10 |
WO2002049094A1 (fr) | 2002-06-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070307 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100204 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100405 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100601 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100730 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100818 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100824 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130903 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4577941 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |