JP2000205966A - 真空紫外レ―ザの波長測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 正確にレーザ光の波長特性を測定することが
可能な、真空紫外レーザの波長測定装置を提供する。 【解決手段】 入射したレーザ光１１，１１Ａの波長特
性に対応した光パターン２９，３９を生成する分光手段
２５，３８を備え、この光パターン２９，３９に基づい
て、真空紫外レーザ１から発振する真空紫外領域のレー
ザ光１１の波長特性を測定する、真空紫外レーザ１の波
長測定装置３において、入射した光パターン２９，３９
の強度分布に対応する強度分布の蛍光パターン１４を発
生する蛍光板１５と、この蛍光板１５から発生した蛍光
パターン１４の強度分布を測定するパターン検出器１７
と、測定された蛍光パターン１４の強度分布に基づいて
レーザ光１１の波長特性を演算する演算装置２８とを備
えている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空紫外レーザか
ら発振したレーザ光の波長特性を測定する波長測定装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、真空紫外領域と呼ばれる約２
０nm〜２００nm程度の波長を有するレーザ光１１を発振
させる真空紫外レーザが知られており、例えばＡｒＦレ
ーザ（１９３nm）やＦ2レーザ（１５７nm）等がある。
このような真空紫外レーザは、主としてレーザリソグラ
フィ等の精密加工に使用される。精密加工を良好に行な
うためには、真空紫外レーザに波長選択素子を搭載し
て、被加工物に照射されるレーザ光の中心波長を安定さ
せ、かつ波長のスペクトル幅を狭くする（これを、レー
ザ光を狭帯域化すると言う）必要がある。さらに、精密
加工を好適に行なうためには、上記のレーザ光の中心波
長及びスペクトル幅（以下、波長特性と総称する）を、
所定の許容範囲に収める必要がある。そのためには、狭
帯域化されたレーザ光１１の波長特性を正確に測定し、
その測定値に基づいて波長特性を制御しなければならな
い。

【０００３】図５に、従来技術に係る波長測定装置を備
えた、Ｆ2レーザ装置の構成図を示す。同図においてＦ2
レーザ装置１は、レーザガスを封入し、その内部で放電
を起こしてレーザ光１１を発振させるレーザチャンバ２
と、レーザチャンバ２から発振したレーザ光１１を狭帯
域化する狭帯域化ユニット１０と、レーザ光１１の波長
特性を測定する波長測定装置３と、波長測定装置３及び
狭帯域化ユニット１０に電気的に接続されて、狭帯域化
されたレーザ光１１の波長特性を所定の許容範囲内に収
めるように制御する波長コントローラ４とを備えてい
る。

【０００４】レーザチャンバ２内には、レーザガスとし
て例えばフッ素（Ｆ2）とヘリウム（Ｈｅ）とが所定の
圧力比で封入されている。レーザチャンバ２内の所定位
置には１組の放電電極（図示せず）が設置されており、
この放電電極間に高電圧を印加することにより、レーザ
光１１を発振させている。発振したレーザ光１１は、レ
ーザチャンバ２の後端部（図中左方）に設けられたリア
ウィンドウ９を透過して、レーザチャンバ２の外部後方
（図中左方）に設けられた狭帯域化ユニット１０に入射
する。狭帯域化ユニット１０の内部には、エタロンやグ
レーティング等の波長選択素子（図示せず）が所定位置
に配置され、レーザ光１１を狭帯域化している。狭帯域
化されたレーザ光１１は、レーザチャンバ２を通過して
レーザチャンバ２の前端部に設けられたフロントウィン
ドウ７を透過し、その一部がレーザチャンバ２の外部前
方に設けられたフロントミラー８を部分透過して外部に
出射する。

【０００５】このとき、出射したレーザ光１１の波長特
性を測定するために、レーザ光１１の光軸上にはビーム
スプリッタ１２が設けられている。レーザ光１１は、ビ
ームスプリッタ１２でその一部を図中下方に反射されて
サンプル光１１Ａとなり、波長測定装置３に入射してそ
の波長特性を測定される。

【０００６】同図に示すように、波長測定装置３は、サ
ンプル光１１Ａを拡散する拡散板２４と、拡散されたサ
ンプル光１１Ａの波長特性に応じた干渉縞２９を生成す
るモニタエタロン２５と、この干渉縞２９を結像する結
像レンズ２７と、この結像された干渉縞２９の強度分布
を測定するパターン検出器１７（例えばラインセンサ）
と、このパターン検出器１７の出力からサンプル光１１
Ａの波長特性を演算する演算装置２８とを備えている。
また、この演算装置２８は、算出したサンプル光１１Ａ
の波長特性を波長コントローラ４に送信している。波長
コントローラ４は、この波長特性に基づいて狭帯域化ユ
ニット１０に指令信号を出力し、レーザ光１１の波長特
性が所定の範囲内に収まるように狭帯域化ユニット１０
を制御している。このようなフィードバック制御を行な
うことにより、レーザ光１１の波長特性を制御すること
ができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来技術には、次に述べるような問題点がある。

【０００８】即ち、干渉縞２９は、レーザ光１１と同じ
波長を有している。真空紫外領域の光はその波長が短
く、波長に反比例する光子（フォトン）のエネルギーが
非常に大きい。そのため、入射した干渉縞２９のフォト
ンのエネルギーによってパターン検出器１７が損傷し、
その波長特性を正確に測定できないという問題がある。

【０００９】また、これによりレーザ光１１の波長特性
の測定値が不正確となるため、この測定値に基づいて波
長コントローラ４により制御しているレーザ光１１の波
長特性が変動する。これにより、被加工物に照射される
レーザ光１１の波長特性が変動し、図示しない加工機内
部におけるレーザ光１１の焦点位置が変動して精密加工
が不良となるという問題がある。また、加工時には、こ
のような波長特性を常に測定しながら加工を行なってお
り、波長特性が所定の範囲からはずれると、加工機に加
工を停止するように信号を出力している。このとき、波
長特性の測定が不正確となることにより、波長特性が良
好であるにも拘らず加工を停止したり、波長特性が不良
であるにも拘らず加工を継続してしまったりするという
問題がある。

【００１０】本発明は、上記の問題点に着目してなされ
たものであり、正確にレーザ光の波長特性を測定するこ
とが可能な、真空紫外レーザの波長測定装置を提供する
ことを目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、請求項１の発明は、入射したレー
ザ光の波長特性に対応した光パターンを生成する分光手
段を備え、この光パターンに基づいて、真空紫外レーザ
から発振する真空紫外領域のレーザ光の波長特性を測定
する、真空紫外レーザの波長測定装置において、入射し
た光パターンの強度分布に対応する強度分布の蛍光パタ
ーンを発生する蛍光板と、この蛍光板から発生した蛍光
パターンの強度分布を測定するパターン検出器と、測定
された蛍光パターンの強度分布に基づいてレーザ光の波
長特性を演算する演算装置とを備えている。

【００１２】請求項１に記載の発明によれば、分光手段
によって生成される干渉縞等の光パターンを蛍光板に入
射させ、この蛍光板から発生する蛍光パターンの強度分
布をパターン検出器によって測定し、この測定値に基づ
いて演算装置によってレーザ光の波長特性を演算してい
る。このように、蛍光パターンの強度分布を測定するこ
とにより、レーザ光をパターン検出器に直接入射させる
ことなくレーザ光の波長特性を測定することができる。
蛍光は真空紫外領域のレーザ光よりも波長が長く、フォ
トンのエネルギーが小さいので、レーザ光を直接入射さ
せた場合のようにパターン検出器が損傷することがな
い。これにより、波長測定装置の故障が少なくなり、真
空紫外レーザの稼働率を向上できる。また、真空紫外レ
ーザのレーザ光の波長特性を常に正確に測定することが
できるので、この測定値に基づいて精密な波長特性の制
御が可能となる。これにより、レーザリソグラフィ等の
精密な加工用の光源として真空紫外レーザを使用する場
合にも、被加工物に所定の許容範囲の波長特性のレーザ
光を照射できるので、良好な加工が可能となる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図を参照しながら、本発明
に係る実施形態を詳細に説明する。尚、各実施形態にお
いて、前記従来技術の説明に使用した図、及びその実施
形態よりも前出の実施形態の説明に使用した図と同一の
要素には同一符号を付し、重複説明は省略する。

【００１４】まず、図１〜図３に基づいて、本発明の第
１実施形態を説明する。本実施形態では、真空紫外レー
ザとしてＦ2レーザ装置を例にとって説明する。図１
は、本実施形態に係る波長測定装置を備えたＦ2レーザ
装置の構成図を示している。同図において、Ｆ2レーザ
装置１は、レーザガスを封入し、その内部で放電を起こ
してレーザ光１１を発振させるレーザチャンバ２と、こ
のレーザチャンバ２から発振されるレーザ光１１を狭帯
域化する狭帯域化ユニット１０と、狭帯域化されたレー
ザ光１１の波長特性を測定する波長測定装置３と、狭帯
域化ユニット１０及び波長測定装置３に電気的に接続さ
れ、測定されたレーザ光１１の波長特性に基づいてレー
ザ光１１の波長特性を制御する波長コントローラ４とを
備えている。

【００１５】レーザチャンバ２内には、レーザガスとし
て、例えばフッ素（Ｆ2）とヘリウム（Ｈｅ）とが所定
の圧力比で封入されている。レーザチャンバ２内の所定
位置には１組の放電電極（図示せず）が設置されてお
り、この放電電極間に高電圧を印加することにより、約
１５７nmの波長を有するレーザ光１１を発振させてい
る。尚、一般にこのようなＦ2レーザ装置１において、
高電圧はパルス状に印加され、レーザ光１１はパルス発
振する。

【００１６】発振したレーザ光１１は、レーザチャンバ
２の後端部（図中左端部）に設けられたリアウィンドウ
９を透過して、レーザチャンバ２の外部後方（図中左
方）に設けられた狭帯域化ユニット１０に入射する。狭
帯域化ユニット１０は、例えば２個のプリズム３２，３
２と、レーザ光１１の発振波長を選択するグレーティン
グ３３とを備えている。プリズム３２，３２によってそ
のビーム幅を拡げられたレーザ光１１は、グレーティン
グ３３に入射して回折され、所定の波長特性のレーザ光
１１のみが入射光と同じ方向に折り返される。このグレ
ーティング３３が波長選択素子であり、レーザ光１１を
狭帯域化している。そして、グレーティング３３は、波
長コントローラ４からの出力信号に基づいて回転する回
転アクチュエータ３４上に搭載されている。波長コント
ローラ４は、回転アクチュエータ３４を回転させてレー
ザ光１１のグレーティング３３に対する入射角を変更
し、レーザ光１１の波長特性を制御している。

【００１７】狭帯域化されたレーザ光１１は、狭帯域化
ユニット１０から出射してレーザチャンバ２を通過し、
レーザチャンバ２の前端部に設けられたフロントウィン
ドウ７を透過する。フロントウィンドウ７を透過したレ
ーザ光１１の一部は、レーザチャンバ２の外部前方に設
けられたフロントミラー８で部分反射されてレーザチャ
ンバ２内に戻るが、残りのレーザ光１１はフロントミラ
ー８を部分透過してＦ2レーザ装置１の外部に出射す
る。

【００１８】出射したレーザ光１１の光軸上には、レー
ザ光１１の一部をサンプリングするためのビームスプリ
ッタ１２が設けられている。レーザ光１１は、このビー
ムスプリッタ１２によって一部を図中下方に反射され、
サンプル光１１Ａとなって波長測定装置３に入射する。
このとき、ビームスプリッタ１２で反射されてもその波
長特性は変化しないので、サンプル光１１Ａの波長特性
を測定することにより、レーザ光１１の波長特性を知る
ことができる。波長測定装置３は、後述する所定の演算
処理によってサンプル光１１Ａの波長特性を測定し、こ
の波長特性に応じた電気信号を波長コントローラ４に出
力する。上述したように、波長コントローラ４はこの波
長特性の検出値に基づき、狭帯域化ユニット１０に指令
信号を出力してグレーティング３３が搭載されている回
転アクチュエータ３４を回転させ、レーザ光１１の波長
特性を制御する。

【００１９】以下、波長測定装置３について詳細に説明
する。同図に示すように、波長測定装置３は、入射した
サンプル光１１Ａを拡散する拡散板２４と、拡散された
サンプル光１１Ａの波長特性に対応した干渉縞２９を生
成するモニタエタロン２５と、この干渉縞２９を結像す
る結像レンズ２７とを備えている。また、波長測定装置
３は、結像された上記干渉縞２９の強度分布に対応する
強度分布の蛍光パターン１４を発生する蛍光板１５と、
この蛍光板１５から発生した蛍光パターン１４を結像す
る第２結像レンズ３０と、この結像された蛍光パターン
１４の強度分布を測定するパターン検出器１７と、測定
された蛍光パターン１４の強度分布に基づいてレーザ光
１１の波長特性を演算する演算装置２８とを備えてい
る。

【００２０】波長測定装置３に入射したサンプル光１１
Ａは、拡散板２４で拡散されて強度分布を均一化された
後、その波長特性に対応した干渉縞２９を生成するモニ
タエタロン２５に入射する。図２に、モニタエタロン２
５によって生成された干渉縞２９の、１次元の強度分布
の一例を示す。同図において、縦軸がＸ方向の所定の座
標に対する干渉縞２９の強度であり、横軸が例えば図１
におけるＸ方向の座標である。同図において、干渉縞２
９の縞間隔２９Ａがサンプル光１１Ａの中心波長を示
し、干渉縞２９の縞幅２９Ｂがサンプル光１１Ａのスペ
クトル幅を示している。

【００２１】図１において、モニタエタロン２５で生成
された干渉縞２９は、結像レンズ２７によって、サンプ
ル光１１Ａの光軸上（図中下方）に配置された、蛍光体
１６をその表面にコーティングした、或いはその内部に
含有した蛍光板１５に結像される。このような蛍光板１
５は、入射した干渉縞２９の強度分布に応じた強度分布
で、かつ干渉縞２９の波長よりも長い波長（一般的に可
視光）の蛍光パターン１４を、蛍光板１５を透過する方
向（図中下向き）に発生させる。発生した蛍光パターン
１４は、第２結像レンズ３０によって、ラインセンサ等
を備えたパターン検出器１７上に結像される。このパタ
ーン検出器１７は、結像された蛍光パターン１４の強度
分布を測定して干渉縞２９の縞間隔２９Ａ及び縞幅２９
Ｂを検出し、これに応じた電気信号を演算装置２８に送
信する。演算装置２８は、受信した電気信号に基づいて
演算を行なってサンプル光１１Ａの中心波長及びスペク
トル幅からなる波長特性を算出し、算出した波長特性の
データを波長コントローラ４に送信する。上述したよう
に、波長コントローラ４は、これらの波長特性のデータ
に基づき、狭帯域化ユニット１０に指令信号を出力して
レーザ光１１の波長特性が所定の値になるように制御し
ている。

【００２２】尚、蛍光板１５の材質としては、真空紫外
領域の光をほとんど透過せず、かつ蛍光１４の波長に近
い波長の光の大部分を透過するようなものが好ましく、
例えば光学ガラスのＢＫ７等が好適である。これによ
り、サンプル光１１Ａがパターン検出器１７に到達する
ことが少なくなり、波長測定装置３の損傷が起こりにく
くなる。或いは、内部に蛍光体１６を含有した、例えば
蛍光ガラス（（株）住田光学ガラス社製の商品名ルミラ
ス等）を使用してもよい。また、蛍光体１６の材質とし
ては、りん酸塩蛍光体（通称フォスファー）や希土類イ
オン等が好適である。さらに、ＢＫ７等のガラス板上に
サリチル酸を塗布して蛍光板１５としてもよい。さら
に、他の望ましい実施形態としては、蛍光板１５の表面
等で乱反射したサンプル光１１Ａがパターン検出器１７
に到達しないように、真空紫外領域の光を透過せず、か
つ蛍光パターン１４の波長に近い波長の光を透過するよ
うな紫外線フィルタ２０を、パターン検出器１７の前面
に備えるのが好適である。

【００２３】さらに、蛍光板１５が発生させる蛍光パタ
ーン１４の強度は、蛍光板１５に入射する干渉縞２９の
強度に正確に比例しているのが好適である。干渉縞２９
の強度と蛍光パターン１４の強度が比例していれば、蛍
光パターン１４の強度分布を測定することにより、サン
プル光１１Ａの波長特性を容易に検出することができる
からである。そして、蛍光板１５の発生させる蛍光パタ
ーン１４の強度が干渉縞２９の強度に比例しない場合に
は、予め入射する干渉縞２９の強度と蛍光パターン１４
の強度との関係を調べておき、演算装置２８でその関係
を補正して波長特性を演算するようにすればよい。

【００２４】また、真空紫外領域の光は空気中の酸素に
非常に良く吸収されるため、レーザ光１１は空気中を通
ることによってそのパワーが大きく減衰する。この減衰
を防ぐために、図１に示すようにレーザ光１１及びサン
プル光１１Ａの光路と、波長測定装置３と、狭帯域化ユ
ニット１０とをカバー２２で覆っている。そして、この
カバー２２で覆われた内部の空間を図示しない真空ポン
プで真空引きするか、又は図示しないパージ手段によっ
て酸素を含まないガスでパージするように構成するのが
好適である。

【００２５】また、干渉縞２９を蛍光板１５に長時間照
射し続けると、干渉縞２９のフォトンのエネルギーによ
って干渉縞２９が当たる部分の蛍光体１６が劣化し、入
射した干渉縞２９の強度分布に応じた強度分布の蛍光パ
ターン１４が発せられなくなることがある。このような
蛍光体１６の劣化を防ぐためには、サンプル光１１Ａの
光軸に対して垂直方向（図中Ｘ，Ｙ方向）に所定距離だ
け移動することが可能な移動アクチュエータ２１を備
え、蛍光板１５をその移動アクチュエータ２１により移
動自在に設置するのがよい。パルス発振したレーザ光１
１のパルス数は、演算装置２８によってカウントされ
る。そして、干渉縞２９が所定パルス数だけ蛍光板１５
に照射される毎に演算装置２８からの信号に基づいて移
動アクチュエータ２１によって蛍光板１５を所定距離だ
け移動させ、サンプル光１１Ａの照射位置を変更する。
これにより、蛍光体１６の劣化が少なくなり、蛍光板１
５の寿命が長くなる。

【００２６】図３に、本実施形態に係る波長測定装置３
の他の構成例を示す。同図において、結像レンズ２７に
よって結像された干渉縞２９は、蛍光体１６を所定の一
側の表面にコーティングした蛍光板１５に対して、所定
の入射角で斜めに入射する。この蛍光板１５は、入射し
た干渉縞２９の強度分布に応じた強度分布の蛍光パター
ン１４を、前記一側の表面に発生させる。この発生した
蛍光パターン１４は、ＣＣＤ等を備えたパターン検出器
１７上に第２結像レンズ３０で結像される。そして、こ
の像に基づいて蛍光パターン１４の強度分布をパターン
検出器１７で検出し、演算装置２８によってサンプル光
１１Ａの波長特性を算出している。

【００２７】次に、図４に基づいて、第２実施形態につ
いて説明する。同図は、本実施形態に係る波長測定装置
３の構成図である。同図において、波長測定装置３は、
２個の凹面鏡３６，３７と、入射したサンプル光１１Ａ
の波長特性に応じた角度でサンプル光１１Ａを回折する
回折格子３８と、回折された回折光３９の強度分布に応
じた蛍光パターン１４を発生する蛍光板１５と、蛍光パ
ターン１４を結像する結像レンズ２７と、結像した像の
強度分布を測定するパターン検出器１７と、この強度分
布に基づいてサンプル光１１Ａの波長特性を演算する演
算装置２８とを備えている。

【００２８】同図において、図示しないＦ2レーザ装置
から出射したレーザ光１１は、光軸上に置かれたビーム
スプリッタ１２でその一部を反射され、サンプル光１１
Ａとなって波長測定装置３に入射する。ピンホール３５
で回折されて拡散したサンプル光１１Ａは、第１の凹面
鏡３６によって略平行光に整形され、回折格子３８に入
射する。回折格子３８は、サンプル光１１Ａをその波長
特性に応じた角度で回折し、回折光３９を出射する。回
折光３９は、第２の凹面鏡３７及びミラー４０を介して
所定の集光位置に集光される。即ち、この集光された回
折光３９の強度分布を検出することにより、サンプル光
１１Ａの波長特性を測定することができる。しかしなが
ら、この回折光３９をパターン検出器１７に直接入射さ
せて測定すると、従来技術と同様にパターン検出器１７
が損傷するという問題がある。そのため、本実施形態で
は蛍光板１５を前記集光位置に配置し、蛍光板１５の一
面側に回折光３９を集光させている。これにより、蛍光
板１５の他面側に、回折光３９の強度分布に応じた蛍光
パターン１４が発生する。この蛍光パターン１４の強度
分布を、結像レンズ２７によってパターン検出器１７に
結像させ、その強度分布を検出することにより、サンプ
ル光１１Ａの波長特性を測定することが可能である。

【００２９】以上説明したように、本発明によれば、レ
ーザ光１１又はサンプル光１１Ａの波長特性に応じた光
パターン（上記第１、第２実施形態によれば、それぞれ
干渉縞２９及び回折光３９）を分光手段（上記第１、第
２実施形態によれば、それぞれモニタエタロン２５及び
回折格子３８）によって生成する。そして、この光パタ
ーン２９，３９を蛍光板１５に照射し、この蛍光板１５
から発せられる蛍光パターン１４の強度分布をパターン
検出器１７で測定して、レーザ光１１の波長特性を検出
している。即ち、レーザ光１１をパターン検出器１７に
直接入射させることなく、レーザ光１１の波長特性を測
定することが可能である。蛍光パターン１４が発する蛍
光は真空紫外領域のレーザ光１１よりも波長が長いの
で、フォトンのエネルギーが小さく、レーザ光１１を直
接入射させた場合のようにパターン検出器１７が損傷す
ることがない。これにより、波長測定装置３の故障が少
なくなり、Ｆ2レーザ装置１の稼働率が向上する。ま
た、レーザ光１１の波長特性を長時間にわたって正確に
測定することが可能であり、この測定値に基づいて長期
間の精密な波長特性の制御が可能となる。これにより、
レーザリソグラフィ等の精密な加工用の光源としてＦ2
レーザ装置１を使用する場合にも、被加工物に正確に所
定の波長特性のレーザ光１１を照射できるので、良好な
加工が可能となる。

【００３０】また、上記第１、第２実施形態では、ビー
ムスプリッタ１２によってレーザ光１１の一部をサンプ
ル光１１Ａとして取り出し、レーザ光１１の波長特性を
常に測定するようにしている。しかしながら、本発明は
このような形態に限られるものではなく、所定の時間間
隔をおいて定期的に（例えば１日に１度）、レーザ光１
１の波長特性を測定するような場合にも応用可能であ
る。即ち、図１において、通常の発振時にはビームスプ
リッタ１２を配置せず、レーザ光１１の波長を測定する
時にのみ、ビームスプリッタ１２と同じ位置に全反射ミ
ラーを配置する。そして、この全反射ミラーで全反射さ
れたレーザ光１１、又はこのレーザ光１１をフィルタ等
で減光した光を波長測定装置３に入射させ、発生する蛍
光パターン１４に基づいてレーザ光１１の波長特性を検
出するようにしてもよい。或いは、ビームスプリッタ１
２や全反射ミラーを設けずに波長測定装置３をレーザ光
１１の光軸上に配置して、レーザ光１１又はこのレーザ
光１１をフィルタ等で減光した光を波長測定装置３に入
射し、レーザ光１１の波長特性を直接測定するようにし
てもよい。

【００３１】また、狭帯域化ユニット１０の内部に波長
選択素子としてグレーティング３３を備えてレーザ光１
１を狭帯域化し、このグレーティング３３をレーザ光１
１に対して回転させることにより、レーザ光１１の波長
特性を制御している。しかしながら、本発明はこのよう
な形態に限られるものではなく、例えば狭帯域化ユニッ
ト１０の内部にエタロンを備えてレーザ光１１を狭帯域
化し、このエタロンに対するレーザ光１１の入射角を変
更することにより、レーザ光１１の波長特性を制御して
もよい。

【００３２】また、真空紫外レーザとしてＦ2レーザ装
置を例にとって説明したが、これに限られるものではな
く、真空紫外領域の波長（約２０nm〜２００nm）の光を
発振するレーザであればよい。真空紫外レーザには、例
えばＡｒＦレーザ、ＡｒＣｌレーザ、Ｘｅ2レーザ、Ｋ
ｒ2レーザ、Ａｒ2レーザ、Ｈ2レーザ、Ｈ2ラマンレー
ザ、Ｘｅオージェレーザ等が含まれる。これらの真空紫
外レーザの波長特性を測定する場合にも、本発明が適用
可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態に係る波長測定装置を備
えたＦ2レーザ装置の構成図。

【図２】干渉縞の強度分布の一例の説明図。

【図３】本実施形態に係る波長測定装置の他の構成例を
示す構成図。

【図４】第２実施形態に係る波長測定装置の構成図。

【図５】従来技術に係る波長測定装置を備えたＦ2レー
ザ装置の構成図。

【符号の説明】

１：Ｆ2レーザ装置、２：レーザチャンバ、３：波長測
定装置、４：波長コントローラ、７：フロントウィンド
ウ、８：フロントミラー、９：リアウィンドウ、１０：
狭帯域化ユニット、１１：レーザ光、１１Ａ：サンプル
光、１２：ビームスプリッタ、１４：蛍光パターン、１
５：蛍光板、１６：蛍光体、１７：パターン検出器、２
０：紫外線フィルタ、２１：移動アクチュエータ、２
２：カバー、２４：拡散板、２５：モニタエタロン、２
７：結像レンズ、２８：演算装置、２９：干渉縞、３
０：第２結像レンズ、３２：プリズム、３３：グレーテ
ィング、３４：回転アクチュエータ、３５：ピンホー
ル、３６：凹面鏡、３７：凹面鏡、３８：回折格子、３
９：回折光、４０：ミラー。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G020 AA05 CB23 CB43 CB44 CC02 CC13 CC23 CD04 CD24 CD28 CD31 2G065 AA20 AB05 AB09 AB11 AB16 BA04 BA29 BB28 BB29 BB30 BC13 CA23 DA05 DA20 5F072 AA04 HH05 JJ20 KK07 KK08 KK15 KK30 MM12 MM18 RR05

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 入射したレーザ光(11,11A)の波長特性に
   対応した光パターン(29,39)を生成する分光手段(25,38)
   を備え、 この光パターン(29,39)に基づいて、真空紫外レーザ(1)
   から発振する真空紫外領域のレーザ光(11)の波長特性を
   測定する、真空紫外レーザ(1)の波長測定装置(3)におい
   て、 入射した光パターン(29,39)の強度分布に対応する強度
   分布の蛍光パターン(14)を発生する蛍光板(15)と、 この蛍光板(15)から発生した蛍光パターン(14)の強度分
   布を測定するパターン検出器(17)と、 測定された蛍光パターン(14)の強度分布に基づいてレー
   ザ光(11)の波長特性を演算する演算装置(28)とを備えた
   ことを特徴とする波長測定装置(3)。