JP2022525735A - 圧力制御スペクトル特徴調整器 - Google Patents

圧力制御スペクトル特徴調整器 Download PDF

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Abstract

装置が、ガス放電チャンバを備え、光ビームを生成するように構成されたガス放電システムと、ガス放電チャンバにより生成された前駆光ビームと光通信するスペクトル特徴調整器とを備える。スペクトル特徴調整器は、大気圧未満の圧力に保持される内部を画定する本体と、前駆光ビームを透過させる、ガス放電チャンバと本体の内部との間に画定された少なくとも１つの光学経路と、前駆光ビームと相互作用するように構成された、内部内の光学素子の一セットとを備える。【選択図】 図６

Description

関連出願の相互参照
[0001] この出願は、２０１９年３月２７日に出願されたPRESSURE-CONTROLLED SPECTRAL FEATURE ADJUSTERと題する米国出願第６２／８２４，５２５号の優先権を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
[0002] 開示される主題は、圧力制御スペクトル特徴調整器に関する。
[0003] 半導体リソグラフィ（又はフォトリソグラフィ）では、集積回路（ＩＣ）の製造に半導体（例えばシリコン）基板（ウェーハとも呼ばれる）上で種々の物理的及び化学的プロセスが実行されることが必要である。フォトリソグラフィ露光装置（スキャナとも呼ばれる）とは、所望のパターンを基板のターゲット領域上に付与する機械である。基板は光源から生成される光ビームによって照射される。光ビームは、可視光とｘ線との中間の紫外線領域の波長を有し、約１０ナノメートル（ｎｍ）から約４００ｎｍの波長を有する。光ビームは、例えば約１００ｎｍから約４００ｎｍの範囲に収まり得る波長を含む、深紫外線（ＤＵＶ）領域の波長、又は約１０ｎｍから約１００ｎｍの間の波長を含む極端紫外線（ＥＵＶ）領域の波長を有することができる。これらの波長領域は厳密ではなく、ＤＵＶ又はＥＵＶと見なされる光は重複することがある。光源から出力された光ビームのスペクトル特徴又は特性（例えば、帯域幅又は波長）は、これらを制御する能力だけでなく正確に知ることも重要である。
[0004] 一部の一般的な態様において、スペクトル特徴調整器が、大気圧未満の圧力に保持される内部を画定する本体と、紫外線領域の波長を有する光ビームを透過させる、本体を通る少なくとも１つの光学経路と、光ビームと相互作用するように構成され、１つ以上の作動可能な光学素子を含む内部内の光学素子の一セットと、１つ以上の作動可能な光学素子と通信し、１つ以上の作動可能な光学素子の物理的特徴を調整するように構成された、内部内の作動システムと、を備える。
[0005] 実施形態が以下の特徴の１つ以上を含むことができる。例えば、スペクトル特徴調整器は、内部及びスペクトル特徴調整器の外部の真空ポンプと流体連通する、本体の壁に画定された真空ポートを備えることができる。スペクトル特徴調整器は、内部内の圧力を測定するように構成された圧力センサを備えることができる。
[0006] 光学素子の一セットは、屈折素子の一セット及び回折素子を含むことができる。各屈折素子はプリズムであってよく、回折素子は格子であってよい。屈折素子の一セットは４つのプリズムの一セットを含むことができる。
[0007] 作動システムは、作動可能な光学素子ごとに、作動可能な光学素子の物理的特徴を調整するように構成されたアクチュエータを含むことができる。
[0008] スペクトル特徴調整器はまた、作動システム、及びスペクトル特徴調整器の外部にある制御システムと通信する、本体に画定された作動インターフェイスを備えることができる。
[0009] 内部は、１６キロパスカル（ｋＰａ）以下、１２ｋＰａ以下、又は８ｋＰａ以下の圧力に保持することができる。内部は、動作圧力の４００パスカル（Ｐａ）の範囲内又は動作圧力の１４０Ｐａの範囲内又は動作圧力の２０Ｐａの範囲内に保持することができる。
[0010] 内部にはヘリウムがない可能性がある。内部はパージガスを含むことができる。パージガスは窒素を含むことができる。
[0011] 本体は、内部をパージガスの源と流体連通させるパージポートを含むことができる。
[0012] 本体の少なくとも一部は、ガス放電チャンバのガス放電本体に物理的に結合する運動減衰デバイスによって画定することができ、光学経路は、運動減衰デバイスの内部を通ってガス放電本体に画定された光ポートから延在することができる。本体は密閉することができ、運動減衰デバイスの内部は本体の内部と同じ圧力に保持することができる。
[0013] 他の一般的な態様において、装置が、ガス放電チャンバを含み、光ビームを生成するように構成されたガス放電システムと、ガス放電チャンバにより生成された前駆光ビームと光通信するスペクトル特徴調整器と、を備える。スペクトル特徴調整器は、大気圧未満の圧力に保持される内部を画定する本体と、前駆光ビームを透過させる、ガス放電チャンバと本体の内部との間に画定された少なくとも１つの光学経路と、前駆光ビームと相互作用するように構成された、内部内の光学素子の一セットと、を備える。
[0014] 実施形態が以下の特徴の１つ以上を含むことができる。例えば、装置は、ガス放電システム及びスペクトル特徴調整器と通信する制御装置を備えることができる。装置は、内部内の圧力を測定するように構成された圧力センサを備えることができる。制御装置は、圧力センサと通信し、測定された圧力を受け、測定された圧力が圧力の許容範囲内にあるかどうかを判定するように構成された圧力モジュールを備えることができる。装置はまた真空ポンプを備えることができる。スペクトル特徴調整器は、内部及び真空ポンプと流体連通する、本体に画定された真空ポートを備えることができる。圧力モジュールは、真空ポンプと通信することができ、測定された圧力に関する判定に少なくとも部分的に基づいて、真空ポンプの動作を制御するように構成することができる。
[0015] スペクトル特徴調整器は、内部の１つ以上の光学素子と通信し、１つ以上の光学素子の物理的特徴を調整することによって前駆光ビームの１つ以上のスペクトル特徴を調整するように構成された作動システムを内部内に備えることができる。制御装置は、光ビームの１つ以上のスペクトル特徴の推定値を受け取り、受け取った推定値に基づいて作動システムへの信号を調整するように構成された、作動システムと通信するスペクトル特徴モジュールを備えることができる。
[0016] 装置はまた、内部と流体連通するパージガス源を備えることができる。制御装置は、パージガス源と通信し、パージガス源から内部へのパージガスの流れを制御するように構成されたパージガスモジュールを備えることができる。
[0017] ガス放電システムは、前駆光ビームからシード光ビームを生成するように構成されたガス放電チャンバを含む第１のガス放電ステージと、シード光ビームを受け、シード光ビームを増幅することによってガス放電システムから光ビームを生成するように構成された第２のガス放電ステージと、を含むことができる。ガス放電チャンバを含む第１のガス放電ステージは、エネルギー源を収容することができ、第１の利得媒体を含むガス混合物を含むことができ、第２のガス放電ステージは、エネルギー源を収容し、第２の利得媒体を含むガス混合物を含むガス放電チャンバを含むことができる。
[0018] ガス放電チャンバは、エネルギー源を収容し、第１の利得媒体を含むガス混合物を含むことができる。
[0019] 内部は１６ｋＰａ以下、１２ｋＰａ以下、又は８ｋＰａ以下の圧力に保持することができる。
[0020] 本体は、光学素子の一セットを収容する一次本体、及び一次本体とガス放電チャンバのガス放電本体との間の運動減衰デバイスを備えることができ、運動減衰デバイスの内部はガス放電チャンバと内部との間に光学経路の少なくとも一部を提供する。装置は、本体の内部とガス放電チャンバとの間に密閉分離を提供する、運動減衰デバイスとガス放電チャンバとの間にある光学窓を備えることができる。運動減衰デバイスの内部及び本体の内部は、運動減衰デバイスの内部が本体の内部と同じ圧力となるように、互いに対して流体的に開口していることがある。
[0021] 他の一般的な態様において、光ビームのスペクトル特徴を制御する方法が、ガス放電システムをスタンバイモードで動作させる間に、スペクトル特徴調整器の本体の内部にパージガスを注入すること、及びスペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が大気圧未満になるまで、スペクトル特徴調整器本体の内部から物質を吸い出すことを含む。方法は、スペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が圧力動作範囲内にあるかどうかを判定すること、及びスペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が圧力動作範囲内にあると判定された場合に、ガス放電システムをスタンバイモードで動作させることからガス放電システムを出力モードで動作させることに切り替えることを含む。
[0022] 実施形態が以下の特徴の１つ以上を含むことができる。例えば、方法は、ガス放電システムを出力モードで動作させる間に、スペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が圧力動作範囲内にあるかどうかを判定すること、及び、スペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が圧力動作範囲外にあると判定された場合に、スペクトル特徴調整器本体の内部の圧力を調整することを含むことができる。スペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が圧力動作範囲を上回ると判定された場合に、方法は、スペクトル特徴調整器本体の内部から物質を吸い出すことを含む、スペクトル特徴調整器本体の内部の圧力を調整することを含むことができる。スペクトル特徴調整器本体の内部の圧力を調整することは、制御された方法でスペクトル特徴調整器本体の内部を大気にさらすこと、又はスペクトル特徴調整器本体の内部から物質を吸い出すことを中止することを含むことができる。
[0023] 圧力の動作範囲は、１６ｋＰａ以下、１２ｋＰａ以下、又は８ｋＰａ以下の動作圧力を中心とすることがある。圧力の動作範囲は、４００Ｐａ、１４０Ｐａ、又は２０Ｐａであってよい。
[0024] 方法はまた、ガス放電システムをスタンバイモードで動作させるのに先立って、光学経路経由でガス放電システムのスペクトル特徴調整器の内部と光通信する、ガス放電システムのガス放電キャビティから、スペクトル特徴調整器本体の内部を気密遮断することを含むことができる。ガス放電システムは、前駆光ビームがスペクトル特徴調整器本体内の内部内の光学素子と相互作用するように、前駆光ビームをガス放電キャビティとスペクトル特徴調整器本体の内部との間に指向することによって出力モードで動作させることができる。

[0025] 制御された環境を有する内部を画定し、光ビームと相互作用するように構成される光学素子を収容する本体を備えるスペクトル特徴調整器のブロック図である。 [0026] スペクトル特徴調整器の内部とスペクトル特徴調整器の外部との間の連絡を示す図１のスペクトル特徴調整器の実施形態のブロック図である。 [0027] 光学素子に結合された作動システムの詳細を示す図１のスペクトル特徴調整器の実施形態のブロック図である。 [0028] ガス放電システムからの前駆光ビームと相互作用するように構成された図１のスペクトル特徴調整器の実施形態のブロック図である。 [0029] ガス放電システムとスペクトル特徴調整器との間の光学経路の詳細を示す、図４のスペクトル特徴調整器の実施形態のブロック図である。 [0030] ガス放電システムとスペクトル特徴調整器との間の光学経路の実施形態及びガス放電システムの実施形態を示す、図４及び図５のスペクトル特徴調整器の実施形態のブロック図である。 [0031] ガス放電システムの２ステージの実施形態を示す、図４から図６のスペクトル特徴調整器の実施形態のブロック図である。 [0032] ガス放電システムのシングルステージの実施形態を示す、図４から図６のスペクトル特徴調整器の実施形態のブロック図である。 [0033] 図１から図６のスペクトル特徴調整器の実施形態の上面図である。 [0034] 光ビームがどのようにして図９Ａのスペクトル特徴調整器内のプリズムである光学素子と相互作用するのかを示す模式図である。 [0035] 図９Ａのスペクトル特徴調整器の本体の上面である。 [0035] 図９Ａのスペクトル特徴調整器の本体の下面斜視図である。 [0036] 図１から図８のスペクトル特徴調整器と相互作用する光ビームの光学スペクトルを示すグラフである。 [0037] 図１から図８のスペクトル特徴調整器内の圧力を制御するための手順の実施のフローチャートである。
[0038] 図１を参照すると、スペクトル特徴調整器１００が内部１０４を画定する本体１０２を備える。スペクトル特徴調整器１００は、本体１０２に画定された少なくとも１つの光学経路１０６を備え、光学経路１０６は紫外線領域の波長を有する光ビーム１０８を透過させるように構成される。したがって、光学経路１０６は約１０ナノメートル（ｎｍ）から約４００ｎｍの波長を有する光ビーム１０８を透過させる。スペクトル特徴調整器１００が深紫外線（ＤＵＶ）光源に組み込まれている一部の実施形態では、光学経路１０６は、例えば約１００ｎｍから約４００ｎｍのＤＵＶ領域の波長を有する光ビーム１０８を透過させる。光ビーム１０８は、連続モードではなくむしろ光パルスの形で光を発する光ビームであってよい。
[0039] スペクトル特徴調整器１００は、光学素子１１０－ｉ（ｉは正の整数）のセット１１０を備える。この例では、４個の光学素子１１０－１、１１０－２、１１０－３、１１０－４が示されている（ｉ＝４）が、セット１１０は４個より少ない又は４個より多い光学素子１１０－ｉを含むことができる。セット１１０内の各光学素子１１０－ｉは光ビーム１０８と光学的に相互作用するように構成される。これは、光ビーム１０８が各光学素子１１０－ｉとの相互作用によって光学的に修正されることを意味する。したがって、例えば光ビーム１０８は、１つ以上の光学素子１１０－ｉとの相互作用によって、屈折、反射、偏向、回折、透過、拡張若しくは収縮、又は拡大されることがある。セット内の各光学素子１１０－ｉは、セット内の他の光学素子１１０－ｉと区別することができる。一例として、光学素子１１０－ｉの１つ以上は、プリズムなどの屈折光学素子であってよい。別の例として、光学素子１１０－ｉの１つ以上は、ミラー又はビームスプリッタなどの反射光学素子であってよい。光学素子１１０－ｉの少なくとも１つは、格子などの回折光学素子であってよい。動作時、光ビーム１０８はスペクトル特徴調整器１００に指向され、光ビーム１０８がどのように光学素子１１０－ｉと光学的に相互作用したかに基づいて光ビーム１０８の調整が行われる。このようにして、光ビーム１０８の１つ以上のスペクトル特徴（帯域幅又は波長など）は調整可能である。
[0040] 光学素子１１０－ｉの少なくとも一部は作動可能である。例えば、図１の実施形態では、光学素子１１０－１、１１０－２、１１０－４が作動可能である。作動可能な光学素子１１０－１、１１０－２、１１０－４は、光ビーム１０８との相互作用が修正され得るように何らかの方法で物理的に調整可能である。作動可能な光学素子１１０－１、１１０－２、又は１１０－４の調整は、光ビーム１０８が作動可能な光学素子１１０－１、１１０－２、又は１１０－４と相互作用している間、又は光ビーム１０８と作動可能な光学素子１１０－１、１１０－２、又は１１０－４との間に相互作用がない間に行われることがある。作動可能な光学素子１１０－１、１１０－２、１１０－４は、各作動可能な光学素子１１０－１、１１０－２、１１０－４の１つ以上の物理的特徴が調整可能であることから物理的に調整可能である。例えば、作動可能な光学素子１１０－１、１１０－２、１１０－４のそれぞれの物理的特徴は、回転、並進、振動、ねじれ、及び／又は反りが行われることによって物理的に調整することができる。例えば、作動可能な光学素子１１０－１は、作動可能な光学素子１１０－２が並進されるように構成できる一方、回転されるように構成することができる。他の例では、作動可能な光学素子１１０－４の屈折率などの特性が変調されるように構成することができる。また、異なる作動可能な光学素子１１０－１、１１０－２、１１０－４は異なる方法で物理的に調整することができる。
[0041] スペクトル特徴調整器１００はまた、内部１０４内に収容された作動システム１２０を備える。作動システム１２０は、１つ以上の作動可能な光学素子１１０－１、１１０－２、１１０－４と連絡する。このようにして、作動システム１２０は、作動可能な光学素子１１０－１、１１０－２、１１０－４の物理的特徴の調整に影響を及ぼすように構成される。光学素子１１０－ｉのセット１１０及び作動システム１２０の実施形態は図３及び図９Ａを参照して提供される。
[0042] 本体１０２の内部１０４内の環境を制御して、セット１１０内の光学素子１１０－ｉなどの内部１０４にさらされたコンポーネント及び作動システム１２０に発生し得る損傷を減らすことができる。特定の化学物質、元素、又は混合物が、光学素子１１０－ｉに損傷を与えたり、光ビーム１０８がどのように光学素子１００－ｉと相互作用するかに悪影響を及ぼしたりすることがある。一例として、酸素は、光ビーム１０８がセット１１０内の光学素子１１０－ｉと相互作用している間に光ビーム１０８を減衰することがある。酸素は光ビーム１０８と相互作用する際にオゾンなどの他の望ましくない化学物質を作り出すことがあり、このような望ましくない化学物質は光学素子１１０－ｉ及び／又は作動システム１２０に損傷を与えることがある。他の化学物質、元素、又は混合物はさらに、スペクトル特徴調整器１００の動作中（つまり光ビーム１０８が光学素子１１０－ｉと相互作用する間）に熱くなることがある。熱くなると、一部の化学物質、元素、又は混合物は、内部１０４内の光ビーム１０８が横切る経路の屈折率に大きい変化をもたらすことがあり、これが望ましくない熱レンズ効果を生み出すことがある。最終的に、これらの問題はスペクトル特徴調整器１００の動作の低下を引き起こす。特に、これらの問題は、スペクトル特徴調整器１００による光ビーム１０８の１つ以上のスペクトル特徴の制御精度又は調整精度の低下を引き起こし、また、光ビーム１０８のエネルギー又は出力などの他の性能パラメータの低下につながることもある。
[0043] このため、望ましくない化学物質、元素、又は混合物は、スペクトル特徴調整器１００の動作中（つまり光ビーム１０８が光学素子１１０－ｉの１つ以上と相互作用している間）又はそれ以外の時に内部１０４から除去される。例えば酸素は、窒素やヘリウムなどの（気体状の）別の化学物質を用いて内部１０４から追い出すことができる。ただし、パージガスの使用は、パージガスが光ビーム１０８の経路を横断して流れるために内部１０４内に圧力及び屈折率の過渡変化を引き起こす可能性がある。このような過渡変化は、光ビーム１０８のスペクトル特徴又は性能パラメータの過渡変化につながる可能性がある。これらの過渡変化を少なくし、またパージガスの量又は必要性を減らすために、内部１０４は大気圧ＰＡＴＭより低い圧力ＰＩに保持される。実際には、内部１０４内の真空環境を維持することによって、パージガスとしてヘリウムを使用する必要性を排除することが可能である。
[0044] 内部１０４を準大気圧ＰＩに維持することによって、本体１０２で使用される任意のパージガス（窒素など）の密度を低くすることも可能である。また、内部１０４内のパージガスの屈折率はパージガスの密度、圧力、及び温度の関数である。内部１０４内のパージガスの密度及び圧力を低くすることによって、パージガスの温度変化とともに起こる屈折率の変化による望ましくない熱レンズ効果が大幅に減少する。内部１０４内のパージガスの密度の低下はまた、光学コンポーネントからパージガスへの対流熱伝達速度を低下させることによってパージガスの昇温速度を低下させることがある。
[0045] 内部１０４の圧力ＰＩは、圧力ＰＩが圧力の許容範囲内に維持されるように、またスペクトル特徴調整器１００の動作中の圧力ＰＩの変動を減少させるために（例えば以下で考察されるような制御装置を使用して）制御される。
[0046] 以下で考察されるように、内部１０４内の真空環境を維持するために、本体１０２は、内部１０４と本体１０２の外側の領域との圧力差に耐えるように設計される。また、以下で考察されるように、作動システム１２０は内部１０４内の減圧ＰＩに耐えるようにも設計される。さらに、あまり多くのパージガスが必要とされることはないが、依然としてパージガスを使用することが可能である。
[0047] 一部の実施形態では、内部１０４内の圧力ＰＩは動作圧力Ｐｏの許容範囲ΔＰ内に保持される。動作圧力Ｐｏは約１６キロパスカル（ｋＰａ）以下であってよい。本体１０２の外側の圧力は約１気圧（ａｔｍ）であり、１気圧は約１０１ｋＰａ（又は約７６０ｔｏｒｒ）である。一部の実施形態では、圧力ＰＩは、動作圧力Ｐｏの約４００Ｐａの範囲内、動作圧力Ｐｏの１３３Ｐａの範囲内、又は動作圧力Ｐｏの１３Ｐａの範囲内に保持される。
[0048] 内部１０４内の圧力ＰＩを大気圧ＰＡＴＭ未満に維持するために、また光ビーム１０８が通過できるようにするために、光学経路１０６は本体１０２の壁に形成された光学窓１０７を備えることができる。光学窓１０７は、光ビーム１０８の波長を透過させる材料から作られ、また、内部１０４と本体１０２の外部との圧力差に耐えるように構成される。光学窓１０７は、波長が非常に短く（例えば１９３ナノメートル（ｎｍ）又は２４８ｎｍのＤＵＶ波長）、損失が最小限の非常に高いパルスエネルギーのレーザパルスを透過できる材料から作ることができる。例えば、光学窓１０７は、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、又は溶融シリカから構成された結晶構造であってよい。例えば図５及び図６に示される一部の実施形態では、光学窓は、光ビーム１０８の望ましくない反射が光ビーム１０８の経路に沿って進まないようにするために、光ビーム１０８の方向と平行でない表面の法線を有する。
[0049] 図２を参照すると、スペクトル特徴調整器１００はスペクトル特徴調整器２００として実装される。スペクトル特徴調整器２００は、内部圧力ＰＩと外部圧力ＰＡＴＭとの圧力差に耐えられる硬い非反応性材料から作られる本体２０２を備える。本体２０２は、Ｏリングやガスケットなどの適切な封止デバイスを使用して密封されるいくつかの部分に分けて作ることができる。本体２０２は、外部と内部１０４との間の連絡が本体２０２を通過できるように機械加工可能であることがある。
[0050] 例えば、連絡はフィードスルー又は真空ポートによって可能になることがある。本体２０２を通過する連絡は、（内部１０４に又は内部１０４からガスを流す）流体ベースであってよい。本体２０２を通過する流体ベースの連絡の一例は、物質を内部１０４から吸い出すための真空ポート、又はパージガスを内部１０４に通すためのポートである。本体２０２を通過する連絡は、電磁信号を内部１０４に又は内部１０４から送信する電磁ベースであってよい。本体２０２を通過する電磁ベースの連絡の一例は、電磁信号を送信するのに使用されるケーブルの種類に適したフィードスルーである。例えば、同軸フィードスルー、複数ピンフィードスルー、又はパワーフィードスルーが本体２０２にあってよい。本体２０２を通過する連絡は機械ベースであってよい。例えば、運動フィードスルーを使用して、正確で繰り返し可能な動き又は粗動位置決めを行うことができる。本体２０２を通過する連絡は熱ベースであってよい。例えば、本体２０２は、熱電対材料対によって信号を本体２０２の壁を通じて伝送するように設計された１つ以上の熱電対フィードスルーを備えることができる。本体２０２を通過する連絡は光ベースであってよい。例えば、本体２０２には、それぞれが密閉され、光が本体２０２の内部１０４と外部との間を通過できるようにする１つ以上の光学窓（光学窓１０７など）を装着することができる。
[0051] 一部の実施形態では、本体２０２はステンレス鋼から作られる壁又は構造体から構成される。本体２０２を通じた連絡の例は次に図２を参照して考察される。
[0052] 本体２０２は、本体２０２の壁に画定された真空ポート２２２を備えて構成される。真空ポート２２２は、内部１０４と、またスペクトル特徴調整器２００の本体２０２の外部の真空ポンプ２２４と流体連通する。真空ポンプ２２４の動作は圧力制御モジュール２２６によって制御される。
[0053] 本体２０２はまた、本体２０２の内部１０４内の圧力ＰＩを測定するように構成された圧力センサ２２８を収容する。一部の実施形態では、圧力センサ２２８は、Ａに示される本体２０２の内部１０４の内側に取り付けられる。他の実施形態では、圧力センサ２２８は、Ｂに示される真空ポンプ２２４につながるガスフィードスルーに取り付けられる。このように真空ポンプ２２４につながるガスフィードスルーに圧力センサ２２８を配置することは、圧力センサ２２８が光ビーム１０８の反射及び光ビーム１０８により生成される迷光からより保護されることを保証する。圧力センサ２２８は、Ｍｅｔｔｌｅｒ Ｔｏｌｅｄｏ社製の光学溶存酸素センサ（optical dissolved oxygen sensors）などの光ベースの酸素（Ｏ２）センサであってよい。
[0054] 本体２０２は、作動システム１２０のコンポーネントと外部スペクトル特徴制御モジュール２３２との間のあらゆる連絡のためのフィードスルー（すなわち、密閉リンク又は経路）を提供する作動インターフェイス２２９を備える。このような連絡は電気的又は機械的であってよい。したがって、作動インターフェイス２２９は、それぞれが特定の連絡に対応するか又は作動システム１２０の特定のコンポーネントとの連絡に対応する、１つ以上の密閉されたフィードスルーを含むことができる。
[0055] 内部１０４でパージガスが使用される場合は、本体２０２はパージガス源２３６への流体経路を提供するパージポート２３４も備える。パージガスは、（１つ以上の流体制御バルブを備え得る）パージガス制御モジュール２３８の制御下でパージポート２３４から内部１０４内に放出することができる。パージガスは窒素（Ｎ２）、ネオン（Ｎｅ）、アルゴン（Ａｒ）、又は二酸化炭素（ＣＯ２）などの任意の非反応性ガスであってよい。さらに、内部１０４が準大気圧に保持されるため、パージガスとしてヘリウムなどの不活性ガスを使用することを回避することが可能である。
[0056] 図３を参照すると、一部の実施形態では、作動システム１２０は各作動可能な光学素子１１０－ｉについて、作動可能な光学素子１１０－ｉの物理的特徴を調整するように構成されたアクチュエータ３２０－ｉを含む作動システム３２０として構成される。例えば作動システム３２０は、光学素子１１０－１、１１０－２、及び１１０－４とそれぞれ結合されたアクチュエータ３２０－１、３２０－２、及び３２０－４を備える。アクチュエータ３２０－ｉとその対応する光学素子１１０－ｉとの間のリンクは物理的であってよい。例えば、光学素子１１０－１は、アクチュエータ３２０－１である可動マウントに取り付けることができる。このようなマウントは、回転可能、並進可能、又は回転可能かつ並進可能であってよい。別の例として、光学素子１１０－２は、例えば曲げることによって光学素子１１０－２の形状を変化させるデバイスに取り付けることができる。
[0057] 図４を参照すると、装置４３０が、ガス放電システム４４０により生成された前駆光ビーム４０８を受けるように構成されたスペクトル特徴調整器４００を備える。スペクトル特徴調整器１００と同様、スペクトル特徴調整器４００は内部４０４を画定する本体４０２を備える。スペクトル特徴調整器４００は、本体４０２に画定された少なくとも１つの光学経路４０６を備え、光学経路４０６は紫外線領域の波長を有する前駆光ビーム４０８を透過させるように構成される。したがって、光学経路４０６は、約１０ナノメートル（ｎｍ）から約４００ｎｍ、又は例えば約１００ｎｍから約４００ｎｍのＤＵＶ領域の波長を有する光ビームを透過させる。光学経路４０６には、光学窓１０７と同様の光学窓４０７を装着することができる。
[0058] スペクトル特徴調整器４００は、光学素子４１０－ｉ（ｉは正の整数）のセット４１０を備える。この例では、５個の光学素子４１０－１、４１０－２、４１０－３、４１０－４、４１０＿５が示されている（すなわちｉ＝５）が、セット４１０は５個より少ない又は５個より多い光学素子４１０－ｉを含むことができる。セット４１０内の各光学素子４１０－ｉは前駆光ビーム４０８と光学的に相互作用するように構成される。これは、前駆光ビーム４０８が各光学素子４１０－ｉとの相互作用によって光学的に修正されることを意味する。したがって、例えば光ビーム４０８は、光学素子４１０－ｉとの相互作用によって、屈折、反射、偏向、回折、透過、拡張若しくは収縮、又は拡大されることがある。セット内の各光学素子４１０－ｉは、セット内の他の光学素子４１０－ｉと区別することができる。以上で考察したように、光学素子４１０－ｉの１つ以上は、プリズムなどの屈折光学素子、ミラー又はビームスプリッタなどの反射光学素子、及び／又は格子などの回折光学素子であってよい。動作時、前駆光ビーム４０８は、前駆光ビーム４０８がどのように光学素子４１０－ｉと光学的に相互作用したかに基づいて前駆光ビーム４０８の調整を行うスペクトル特徴調整器４００に指向される。このようにして、スペクトル特徴調整器４００は、前駆光ビーム４０８の１つ以上のスペクトル特徴（帯域幅又は波長など）を修正する。
[0059] ガス放電システム４４０は、前駆光ビーム４０８から光ビーム４３２を生成するように構成される。光ビーム４０８は連続モードではなくむしろ光パルスの形で光を発する光ビームであってよい。このように、ガス放電システム４４０から出力された光ビーム４３２はまたパルス光ビーム４３２である。光ビーム４３２は、基板Ｗのパターニングのためのフォトリソグラフィ露光装置などの装置４４４に提供されることがある、又は装置で使用される前にさらなる光学的処理（光増幅、コヒーレンス低減など）が施されることがある。
[0060] 図５を参照すると、一部の実施形態では、装置４３０は装置５３０として設計され、装置５３０はガス放電システム５４０により生成された前駆光ビーム４０８を受けるように構成されたスペクトル特徴調整器５００を備える。ガス放電システム５４０は、ガス放電チャンバ５４２を画定するガス放電本体５４１を備える。ガス放電システム５４０は、図５に示されていない、第２のガス放電本体及びチャンバ並びにビーム修正光学系などの他のコンポーネントを備えることができる。ガス放電システム５４０はフォトリソグラフィ露光装置４４４により使用される光ビーム４３２を出力する。
[0061] スペクトル特徴調整器５００は、光学素子４１０－ｉのセット４１０を収容するように構成された一次本体５０２Ａを含む本体５０２を備える。本体５０２は、運動減衰デバイスである二次本体５０２Ｂを、一次本体５０２Ａとガス放電チャンバ５４２を画定するガス放電本体５４１との間に備える。したがって、内部５０４は、（一次本体５０２Ａにより画定された）一次内部５０４Ａ及び（二次本体５０２Ｂにより画定された）二次内部５０４Ｂから延在する。運動減衰デバイス５０２Ｂの内部５０４Ｂ及び一次本体５０２Ａの内部５０４Ａは、運動減衰デバイス５０２Ｂの内部５０４Ｂが一次本体５０２Ａの内部５０４Ａと同じ圧力（ＰＩ）となるように互いに流体連通する。光ビーム４０８は、光学経路５０６に沿って進んでいる間、二次内部５０４Ｂを通過する。したがって、運動減衰デバイス５０２Ｂの内部５０４Ｂは、ガス放電チャンバ５４２と内部５０４との間に光学経路５０６の少なくとも一部を提供する。
[0062] 光学経路５０６は、運動減衰デバイス５０２Ｂとガス放電チャンバ５４２との間にある光学窓５０７を含む。二次本体５０２Ｂの内部は光学窓から内部５０４まで延在する。光学窓５０７は本体５０２の内部５０４とガス放電チャンバ５４２との間に密閉分離を提供する。この実施形態では、光学窓５０７はガス放電本体５４１に嵌め込まれる。
[0063] 運動減衰デバイス５０２Ｂは、本体の一方（例えばガス放電本体５４１）の振動が本体の他方（例えば本体５０２）に与える影響を減らす又は防ぐように、本体５０２をガス放電本体５４１から機械的に絶縁する任意のデバイスであってよい。例えば、ガス放電本体５４１の振動は運動減衰デバイス５０２Ｂによって減衰され、本体５０２の振動は運動減衰デバイス５０２Ｂによって減衰される。一部の実施形態では、運動減衰デバイス５０２Ｂはベローズである。ベローズは、本体５０２とガス放電本体５４１との間で熱膨張及び取付公差（例えば、高低差又は角度オフセット）をバランスさせるために補償を提供することもできる。
[0064] ベローズ５０２Ｂはエッジ溶接されたベローズ５０２Ｂであってよく、つまり密閉シールを提供するためにガス放電本体５４１に溶接される。ベローズ５０２Ｂは圧力差（ＰＩ－ＰＡＴＭ）を受けるため、収縮又は膨張することがある。したがって、ベローズ５０２Ｂの壁はこのような圧力差に耐えるように構成される必要がある。
[0065] 図５の挿入部分に示されるように、光学窓５０７は、光ビーム４０８が光学窓５０７と相互作用するときにその法線Ｎが光ビーム４０８の経路又は軸方向Ｄ＿４０８と一致しない（つまり、平行にならない）ように特別に切断し傾けることができる。
[0066] 図６には、制御の側面を示す装置５３０の実施形態６３０が示されている。図６では、スペクトル特徴調整器６００は、ガス放電システム６４０により生成された前駆光ビーム４０８を受けるように構成される。図５の装置５３０と同様、ガス放電システム６４０は、ガス放電チャンバ６４２を画定するガス放電本体６４１を備え、スペクトル特徴調整器６００は、光学素子４１０－ｉのセット４１０を収容するように構成された一次本体６０２Ａを含む本体６０２を備える。本体６０２は、運動減衰デバイスである二次本体６０２Ｂを一次本体６０２Ａとガス放電本体６４１との間に備える。運動減衰デバイス６０２Ｂの内部は、ガス放電チャンバ６４２と内部６０４との間に光学経路６０６の少なくとも一部を提供する。ガス放電システム６４０は図６に示されていない他のコンポーネントを備えることができる。
[0067] 装置６３０は、ガス放電システム６４０及びスペクトル特徴調整器６００と連絡する制御装置６５０を備える。制御装置６５０は、装置６３０のいくつかの特徴を制御することに特化した様々なモジュール６２６、６３８、６３１、６４３を備える。装置６３０の他の特徴を制御するための他のモジュール（図示せず）が制御装置６５０に備えられてもよい。さらに、モジュール６２６、６３８、６３１、６４３のそれぞれは同じ場所に位置しても、それぞれ制御されている特徴の近くにあってもよい。
[0068] 制御装置６５０は、ガス放電システム６４０内の１つ以上の要素、コンポーネント、又はシステムと連絡するように構成される光源制御モジュール６４３を含むことができる。光源制御モジュール６４３は、制御装置６５０の他のモジュールよりもガス放電システム６４０の近くに配置することができる。例えば、光源制御モジュール６４３は、ガス放電システム６４０内の１つ以上の要素、コンポーネント、又はシステムへの電力を制御するための電力制御サブモジュールを含むことができる。別の例として、光源制御モジュール６４３は、ガス放電システム６４０内のガス放電チャンバ６４２又は他の任意のガス放電チャンバ内の１つ以上のガス成分を制御するための流体制御サブモジュールを含むことができる。
[0069] 制御装置６５０は、真空ポンプ６２４と、また内部６０４の圧力センサ６２８に連通する圧力制御モジュール６２６を備える。真空ポンプ６２４は、本体６０２に画定された真空ポート６２２によって、本体６０２の内部６０４と流体連通する。これによって真空ポンプ２２４の動作が、圧力センサ６２８からの測定された圧力ＰＩに基づいて圧力制御モジュール６２６によって制御される。圧力制御モジュール６２６は、圧力センサ６２８から測定された圧力ＰＩを受け取り、測定された圧力ＰＩが動作圧力Ｐｏの許容範囲内にあるかどうかを判定するように構成される。以上で考察したように、動作圧力Ｐｏは約１６キロパスカル（ｋＰａ）以下であってよい。一部の実施形態では、圧力ＰＩは、動作圧力Ｐｏ近くの約４００Ｐａの範囲内に保持される。すなわちＰＩはＰｏ＋／－２００Ｐａに保持される。他の実施形態では、圧力ＰＩは、動作圧力Ｐｏ近くの約１４０Ｐａの範囲内に保持される。すなわちＰＩはＰｏ＋／－７０Ｐａに保持される。他の実施形態では、圧力ＰＩは、動作圧力Ｐｏ近くの約２０Ｐａの範囲内に保持される。すなわちＰＩはＰｏ＋／－１０Ｐａに保持される。
[0070] 制御装置６５０はスペクトル特徴制御モジュール６３１を備える。スペクトル特徴制御モジュール６３１は、本体６０２を通過する連絡を提供する作動インターフェイス６２９を介して作動システム１２０と連絡する。一部の実施形態では、作動インターフェイス６２９は、スペクトル特徴制御モジュール６３１と作動システム１２０との間に電磁信号用の１つ以上のインターフェイスを提供する単一のフィードスルーであってよい。他の実施形態では、作動インターフェイス６２９は、それぞれがスペクトル特徴制御モジュール６３１と作動システム１２０内のアクチュエータの１つ（例えばアクチュエータ３２０－ｉのいずれか１つ）との間に電磁信号用のインターフェイスを提供する、（例えば図９Ａ及び図１０Ｂに示されるような）複数のフィードスルーを備えることができる。代替的に、スペクトル特徴制御モジュール６３１と作動システム１２０との間の通信を無線にすることも可能であり、その場合、作動インターフェイス６２９は必要とされない。
[0071] スペクトル特徴制御モジュール６３１は、作動システム１２０に１つ以上の光学素子４１０－ｉの調整又は修正を指示するための１つ以上の信号を作動システム１２０に送信することによって前駆光ビーム４０８の少なくとも１つのスペクトル特徴（波長又は帯域幅など）を調整する。前駆光ビーム４０８のスペクトル特徴の修正は、前駆光ビーム４０８から生成される光ビーム４３２のスペクトル特徴も修正する。以上で考察したように、ガス放電システム６４０から出力された光ビーム４３２は、基板をパターニングするのに光ビーム４３２を使用するフォトリソグラフィ露光装置４４４に供給することができる。したがって、スペクトル特徴制御モジュール６３１は、光ビーム４３２の所望のスペクトル特徴に関する指示を受けるためにフォトリソグラフィ露光装置４４４と通信することができる。スペクトル特徴制御モジュール６３１とフォトリソグラフィ露光装置４４４との間に通信チャネル（有線でも無線でもよい）を設けることができる。スペクトル特徴制御モジュール６３１がフォトリソグラフィ露光装置４４４から得る情報は、光ビーム４３２の１つ以上の特徴を変更せよとのフォトリソグラフィ露光装置４４４からの要求を含むことができる。
[0072] 例えば、フォトリソグラフィ露光装置４４４は、基板上に所望のパターニング又はリソグラフィの結果をもたらすために、光ビーム４３２の１つ以上のスペクトル特徴の値の条件を定める。フォトリソグラフィ露光装置４４４は、基板のパターニングに応じて光ビーム４３２からの１つの特定のスペクトル特徴又はスペクトル特徴のセットを要求する。
[0073] 一例では、フォトリソグラフィ露光装置４４４は、光ビーム４３２の各パルスが、基板をパターニングするのに使用される場合に複数の個別のスペクトル特徴の中から選択される１つのスペクトル特徴を有することを要求する。光ビーム４３２の波長がパルスごとに一セットの離散的な個別の値の間で変化することが望ましいことがある。これは波長が隣接した連続パルスごとに変化することを意味することがある。代替的に、波長は１パルスおきに変化する（よって、波長は２つの連続パルスのための１つの離散値、別の２つの連続パルスのための離散値などにとどまる）。
[0074] 波長を変更することは、例えばフォトリソグラフィ露光装置４４４の観点から見れば貴重な成果を生む可能性がある。具体的には、光ビーム４３２がフォトリソグラフィ露光装置４４４を横切るときの光ビーム４３２の色収差が、光ビーム４３２の波長と、基板における光ビーム４３２のパルスの（基板の像面と直交する軸方向に沿った）焦点面の位置との相関関係をもたらすことができる。そして、光ビーム４３２が基板と相互作用する又は基板に衝突する際の光ビーム４３２の焦点面を変化させることが望ましい場合がある。したがって、光ビーム４３２の波長を変化させることによって、フォトリソグラフィ露光装置４４４内の基板における光ビーム４３２の焦点面を調整することができる。この例では、フォトリソグラフィ露光装置４４４は、スペクトル特徴制御モジュール６３１にそのような基板のパターニングに必要とされるように波長を調整するよう指示する。
[0075] 制御装置６５０は、パージガス源６３６から供給されるパージガスの量を調整する１つ以上の流体制御バルブを制御するように構成されるパージガス制御モジュール６３８を備えることができる。パージガスは、本体６０２の内部６０４への流体連通を提供するパージポート６３４経由で内部６０４に供給される。以上で考察したように、パージガスは窒素（Ｎ２）などの任意の非反応性ガスであってよい。さらに、内部６０４が準大気圧に保持されるため、パージガスとしてヘリウムなどの不活性ガスを使用することを回避することが可能である。
[0076] パージポート６３４は一次本体６０２Ａに形成されるように示されているが、代替的に、パージポート６３４を二次本体６０２Ｂ（ベローズ）に配置することが可能である。
[0077] 制御装置６５０及びモジュール（モジュール６２６、６３８、６３１、６４３など）のそれぞれは、デジタル電子回路、コンピュータハードウェア、ファームウェア、及びソフトウェアの１つ以上を備える。制御装置６５０はメモリを備えることができ、メモリは読み取り専用メモリ及び／又はランダムアクセスメモリであってよい。コンピュータプログラム指示及びデータを有形に具体化するのに好適な記憶デバイスは、例として、ＥＰＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、及びフラッシュメモリデバイスなどの半導体メモリデバイス、内部ハードディスク及び取り外し可能なディスクなどの磁気ディスク、磁気光学ディスク、及びＣＤ－ＲＯＭディスクを含む、全ての形態の不揮発性メモリを含む。制御装置６５０及びモジュール（モジュール６２６、６３８、６３１、６４３など）のそれぞれはまた、１つ以上の入力デバイス（キーボード、タッチスクリーン、マイクロホン、マウス、ハンドヘルド入力デバイスなど）と、１つ以上の出力デバイス（スピーカーやモニタなど）とを備えることができる。
[0078] 制御装置６５０及びモジュール（モジュール６２６、６３８、６３１、６４３など）のそれぞれは、１つ以上のプログラマブルプロセッサと、プログラマブルプロセッサにより実行される機械可読記憶デバイス内に有形に具体化された１つ以上のコンピュータプログラム製品とを備える。１つ以上のプログラマブルプロセッサは、それぞれ指示のプログラムを実行して、入力データを操作して適切な出力を生成することによって所望の機能を実行することができる。通常、プロセッサは、メモリから指示及びデータを受け取る。以上のものはいずれも、特殊設計ＡＳＩＣ（特定用途向け集積回路）に補完されても内蔵されてもよい。
[0079] 各モジュール及びモジュール６２６、６３８、６３１、６４３のそれぞれは、プロセッサなどの１つ以上のプロセッサにより実行されるコンピュータプログラム製品の一セットを含む。さらに、モジュール６２６、６３８、６３１、６４３はいずれもメモリ内に格納されているデータにアクセスすることができる。各モジュール６２６、６３８、６３１、６４３は他のコンピュータからデータを受け取り、その後このようなデータを必要に応じて解析することができる。各モジュール６２６、６３８、６３１、６４３は、１つ以上の他のモジュールと通信することができる。
[0080] 制御装置６５０（及びモジュール６２６、６３８、６３１、６４３）は、（全てのコンポーネントが同一の場所に配置され得る）ボックスとして表されているが、制御装置６５０又は任意のモジュール６２６、６３８、６３１、６４３は物理的に互いに離れているコンポーネントから構成することが可能である。例えばスペクトル特徴制御モジュール６３１は、本体６０２と物理的に同一の場所に配置することができる。
[0081] モジュール６２６、６３８、６３１、６４３はいずれも互いに通信することができる。一部の実施形態では、圧力制御モジュール６２６は光源制御モジュール６４３と通信する。例えば、圧力制御モジュール６２６から光源制御モジュール６４３に情報を提供することができる。このような情報は、真空ポンプ６２４の故障を光源制御モジュール６４３に示して光源制御モジュール６４３の迅速なシャットダウン又は停止を可能にする。他の例では、光源制御モジュール６４３は動作圧力Ｐｏの値を圧力制御モジュール６２６に提供することができる。スペクトル特徴制御モジュール６３１は光源制御モジュール６４３と直接通信することができる。さらに、圧力制御モジュール６２６とパージガス制御モジュール６３８はいずれもスペクトル特徴制御モジュール６３１と直接通信することができる。
[0082] 図７を参照すると、２ステージガス放電システム７４０であるガス放電システム６４０の実施形態が示されている。２ステージガス放電システム７４０は、ガス放電チャンバ６４２を画定するガス放電本体６４１を含む第１のガス放電ステージ７５１と、第２のガス放電ステージ７５２とを備える。ガス放電システム７４０は、装置４４４への光パルスの光ビーム４３２を生成する光源の役割を果たす。
[0083] 第１のガス放電ステージ７５１は主発振器（ＭＯ）の役割を果たし、第２のガス放電ステージ７５２は電力増幅器（ＰＡ）の役割を果たす。ＭＯ７５１は、一セットのパワー光学系７５４経由でシード光ビーム７５３をＰＡ７５２に供給する。ＭＯ７５１は、典型的には増幅が行われる利得媒体と、光共振器などの光フィードバック機構とを備える。ＰＡ７５２は、典型的にはＭＯ７５１からシードレーザビーム７５３がシードされたときに増幅が行われる利得媒体を備える。ＰＡ７５２は、再生式リング共振器として設計される場合、電力リング増幅器（ＰＲＡ）として説明され、この場合には十分な光フィードバックがリング設計から提供されることがある。スペクトル特徴調整器６００はＭＯ７５１から前駆光ビーム４０８を受けて、比較的低い出力パルスエネルギーで前駆光ビーム４０８の中心波長及び帯域幅などのスペクトル特徴の微調整を可能にする。ＰＡ７５２は、（パワー光学系７５４経由で）ＭＯ７５１からシード光ビーム７５３を受け、増幅光ビーム７３２を生成するためにシード光ビーム７５３を増幅して、フォトリソグラフィ露光装置４４４によるフォトリソグラフィで使用するのに必要な出力のための電力を得る。増幅光ビーム７３２は、１つ以上のパルス伸長器、光シャッタ、又は解析モジュールを含み得る一セットの出力光学系７５５によって指向され、一セットの出力光学系７５５の出力はフォトリソグラフィ露光装置４４４に指向された光ビーム４３２である。
[0084] ＭＯ７５１のガス放電チャンバ６４２は、２つの細長い電極と、利得媒体としての機能を果たすレーザガスと、電極間でガスを循環させるファンとを収容する。ガス放電チャンバ６４２の一方の側にあるスペクトル特徴調整器６００と、シード光ビーム７５３をＰＡ７５２に出力するためのガス放電チャンバ６４２の第２の側にある出力カプラ７０７（部分透過光学素子など）との間にレーザ共振器が形成される。
[0085] ＰＡ７５２はガス放電チャンバも備え、ＰＡ７５２が再生式リング増幅器である場合は、ＰＡ７５２は、光ビームを反射してそのガス放電チャンバに戻して循環経路を形成するビームリフレクタ又はビーム反転デバイスも備える。ＰＡガス放電チャンバはまた、一対の細長い電極、利得媒体として機能するレーザガス、及び電極間でガスを循環させるためのファンを備える。シード光ビーム７５３は、ＰＡ７５２のガス放電チャンバを繰り返し通過することによって増幅される。ＰＡ７５２は、増幅光ビーム７３２を形成するために、シード光ビーム７５３をインカップルし、ＰＡ７５２からの増幅された放射の一部をアウトカップルするための手段（例えば、部分反射ミラー）を提供するビーム修正光学システムを備えることができる。
[0086] ＭＯ７５１のガス放電チャンバ６４２及びＰＡ７５２のガス放電チャンバで使用されるレーザガスは、必要とされる波長及び帯域幅付近のレーザビームを生成するのに適した任意のガスであってよい。例えば、レーザガスは、約１９３ｎｍの波長の光を発するフッ化アルゴン（ＡｒＦ）、又は約２４８ｎｍの波長の光を発するフッ化クリプトン（ＫｒＦ）を含む。
[0087] 図８を参照すると、シングルステージガス放電システム８４０であるガス放電システム６４０の実施形態が示されている。シングルステージガス放電システム８４０は、ガス放電チャンバ６４２を画定するガス放電本体６４１を含むガス放電ステージ８５１を備える。ガス放電システム８４０は、装置４４４への光パルスの光ビーム４３２を生成する光源の役割を果たす。ガス放電チャンバ６４２は、２つの細長い電極と、利得媒体としての機能を果たすレーザガスと、電極間でガスを循環させるファンとを収容する。ガス放電チャンバ６４２の一方の側にあるスペクトル特徴調整器６００と、光ビーム８５３を出力するためのガス放電チャンバ６４２の第２の側にある出力カプラ８０７（部分透過光学素子など）との間にレーザ共振器が形成される。ガス放電チャンバ６４２で使用されるレーザガスは、必要とされる波長及び帯域幅付近のレーザビームを生成するのに適した任意のガスであってよい。例えば、レーザガスは、約１９３ｎｍの波長の光を発するフッ化アルゴン（ＡｒＦ）、又は約２４８ｎｍの波長の光を発するフッ化クリプトン（ＫｒＦ）を含む。
[0088] ガス放電システム８４０はまた、１つ以上のパルス伸長器、光シャッタ、又は解析モジュールを含み得る一セットの光学系８５５を備え、一セットの出力光学系８５５の出力はフォトリソグラフィ露光装置４４４に指向された光ビーム４３２である。
[0089] 図９Ａを参照すると、５個の光学素子９１０－１、９１０－２、９１０－３、９１０－４、９１０－５（一般に９１０－ｉと呼ばれ、この場合ｉは１、２、３、４、又は５とされる）のセット９１０を収容する内部９０４と作動システム９２０とを画定する本体９０２を備える、スペクトル特徴調整器１００の実施形態９００が示されている。作動システム９２０は、それぞれ対応する作動可能な光学素子のためのアクチュエータ９２０－１、９２０－２、９２０－３、９２０－４、９２０－５（一般に９２０－ｉと呼ばれ、この場合ｉは１、２、３、４、又は５とされる）を含む。光学素子９１０－ｉのそれぞれは、光学経路９０６を横切って内部９０４に入る光ビーム１０８と相互作用するように配置される。
[0090] ５個の光学素子のセット９１０は、格子であり得る分散光学素子９１０－１と、プリズムであり得る屈折光学素子９１０－２、９１０－３、９１０－４、９１０－５から構成されるビームエキスパンダとを含む。格子９１０－１は光ビーム１０８を分散及び反射させるように設計された反射格子であってよい。したがって、格子９１０－１は、ＤＵＶ領域の波長を有する光ビーム１０８と相互作用するのに適した材料から作られる。プリズム９１０－２、９１０－３、９１０－４、９１０－５のそれぞれは、光ビーム１０８がプリズムの本体を通過するときに光ビーム１０８の分散及び方向転換を行う役割を果たす透過プリズムである。プリズム９１０－２、９１０－３、９１０－４、９１０－５のそれぞれは、光ビーム１０８の波長の透過を可能にするフッ化カルシウムなどの材料から作ることができる。
[0091] 光ビーム１０８は光学経路９０６経由で内部９０４に入り、次いでプリズム９１０－５、プリズム９１０－４、プリズム９１０－３、プリズム９１０－２の順に通過した後、格子９１０－１の回折面９１１－１に衝突する。ビーム１０８がプリズム９１０－５、９１０－４、９１０－３、９１０－２を通過する度に、光ビーム１０８は光学的に拡大され、次の光学コンポーネントに向けて方向転換される（ある角度で屈折される）。光ビーム１０８は格子９１０－１から回折及び反射され、プリズム９１０－２、プリズム９１０－３、プリズム９１０－４、及びプリズム９１０－５の順に戻った後、光学経路９０６を逆向きに通過して内部９０４から出る。格子９１０－１から連続したプリズム９１０－２、９１０－３、９１０－４、９１０－５を通過する度に、光ビーム１０８は光学経路９０６に向かって移動するにつれて光学的に圧縮される。
[0092] 図９Ｂに示すように、特定のプリズムＰ（プリズム９１０－２、９１０－３、９１０－４、９１０－５のいずれでもよい）の回転は、光ビーム１０８がその回転プリズムＰの入射面Ｈ（Ｐ）に衝突する入射角を変化させる。２つの局所的光学品質、つまり、その回転プリズムＰを通る光ビーム１０８の光学倍率ＯＭ（Ｐ）及びビーム屈折角δ（Ｐ）は、その回転プリズムＰの入射面Ｈ（Ｐ）に衝突する光ビーム１０８の入射角の関数である。プリズムＰを通る光ビーム１０８の光学倍率ＯＭ（Ｐ）は、そのプリズムＰに入る光ビーム１０８の横方向幅Ｗｉ（Ｐ）に対する、そのプリズムＰから出る光ビーム１０８の横方向幅Ｗｏ（Ｐ）の比率である。さらに、再度図９Ａを参照すると、１つ以上のプリズムＰにおける光ビーム１０８の局所的光学倍率ＯＭ（Ｐ）の変化は、光ビーム１０８の光学倍率ＯＭの全体的な変化を生じさせ、１つ以上のプリズムＰを通る局所的ビーム屈折角δ（Ｐ）の変化は、格子９１０－１の回折面９１１－１における光ビーム１０８の入射角の全体的な変化を生じさせる。光ビーム１０８の波長は、光ビーム１０８が格子９１０－１の回折面９１１－１に衝突する入射角を変更することによって調整することができる一方、光ビーム１０８の帯域幅は、光ビーム１０８の光学倍率ＯＭを変更することによって調整することができる。
[0093] 格子９１０－１は、高ブレーズ角エシェル格子であってよく、格子式を満たす任意の入射角で格子９１０－１に入射する光ビーム１０８が反射及び回折されることになる。格子式は、格子９１０－１のスペクトル次数と、回折波長（すなわち回折光ビームの波長）と、格子９１０－１の回折面９１１－１への光ビーム１０８の入射角と、格子９１０－１の回折面９１１－１から離れるように回折される光ビーム１０８の出射角と、格子９１０－１の回折面９１１－１に入射する光ビーム１０８の垂直発散度と、格子９１０－１の回折面９１１－１の溝間隔と、の間の関係を提供する。格子９１０－１への光ビーム１０８の入射角が、格子９１０－１からの光ビーム１０８の出射角と等しくなるように格子９１０－１が使用される場合は、格子９１０－１及びプリズム９１０－２、９１０－３、９１０－４、９１０－５のセットは、リトロー配置で配置されていると見なされ、格子９１０－１から反射される光ビーム１０８の波長はリトロー波長である。
[0094] アクチュエータ９２０－１、９２０－２、９２０－３、９２０－５のそれぞれは対応する光学素子９１０－１、９１０－２、９１０－３、９１０－５に接続されている。各アクチュエータ９２０－１、９２０－２、９２０－３、９２０－５は、対応する光学素子を動作させる又は制御するための機械デバイスである。アクチュエータ９２０－２、９２０－３、９２０－５は、スペクトル特徴制御モジュール６３１からエネルギーを受け取り、そのエネルギーを対応する光学素子に与えられる何らかの運動に変換する。例えば、アクチュエータ９２０－２、９２０－３、９２０－５は、対応するプリズム９１０－２、９１０－３、９１０－５を回転させるための力デバイス及び回転ステージのうちのいずれか１つであってよい。アクチュエータ９２０－１、９２０－２、９２０－３、９２０－５は、例えば、線形ステッピングモータ、回転ステッピングモータなどのモータ、バルブ、圧力制御デバイス、圧電デバイス、油圧アクチュエータ、及びボイスコイルを含むことができる。この実施形態では、プリズム９１０－４は、静止状態に保たれるか又はアクチュエータに物理的に結合されない。アクチュエータ９２０－１は、（この実施形態では格子である）光学素子９１０－１を曲げるように構成されたビーム補正デバイスであってよい。
[0095] プリズム９１０－２、９１０－３、９１０－４、９１０－５のそれぞれはパルス光ビーム１０８が透過される直角プリズムである。内部９０４の内部におけるプリズム９１０－２、９１０－３、９１０－４、９１０－５を通過する光ビーム１０８の伝搬方向はスペクトル特徴調整器９００のＸＳ－ＹＳ平面内にある。プリズム９１０－２は、プリズム９１０－２をスペクトル特徴調整器９００のＺＳ軸と平行な軸を軸として回転させるアクチュエータ９２０－２に物理的に結合されている。プリズム９１０－３は、プリズム９１０－３をスペクトル特徴調整器９００のＺＳ軸と平行な軸を軸として回転させるアクチュエータ９２０－３に物理的に結合されている。
[0096] また、プリズム９１０－５は、プリズム９１０－５をスペクトル特徴調整器９００のＺＳ軸と平行な軸を軸として回転させるように構成されたアクチュエータ９２０－５に物理的に結合されている。アクチュエータ９２０－５は、回転シャフトと回転シャフトに固定された回転プレートとを有する回転ステッピングモータを備えることができ、プリズム９１０－５は回転プレートに固定されている。回転シャフト及び回転プレートはＺＳ軸と平行なシャフト軸の周りを回転し、これによってプリズム９１０－５はＺＳ軸と平行なプリズム軸の周りを回転する。回転ステッピングモータは、位置制御のための組み込まれたステッピングモータ機能を用いる従来の電磁モータである直接駆動ステッピングモータであってよい。より高い運動分解能が必要とされ得る他の実施形態では、ステッピングモータは圧電モータ技術を用いることができる。回転ステッピングモータは、プリズム９１０－５の急速回転をもたらすために可変周波数駆動制御方法を用いるモータコントローラで制御される回転ステージであってよい。
[0097] この実施形態では、図９Ａに示される、また図１０Ａ及び１０Ｂに示されるように、各アクチュエータ９２０－２、９２０－３、９２０－５は、それぞれが本体９０２を通過する通信を提供する対応する作動インターフェイス９２９－２、９２９－３、９２９－５を経由してスペクトル特徴制御モジュール６３１と通信する。例えば、各アクチュエータ９２０－２、９２０－３、９２０－５からのワイヤは、対応する作動インターフェイス９２９－２、９２９－３、９２９－５において密閉された電気的フィードスルーを通過する。代替的に、各アクチュエータ９２０－２、９２０－３、９２０－５は、本体９０２を通過する単一の通信を提供する単一の作動インターフェイス９２９を介してスペクトル特徴制御モジュール６３１と通信することが可能である。各アクチュエータ９２０－２、９２０－３、９２０－５からのワイヤの全ては、作動インターフェイス９２９において単一の密閉された電気的フィードスルーを通過する。
[0098] 作動インターフェイス９２９－２、９２９－３、９２９－５は、対応するアクチュエータ９２０－２、９２０－３、９２０－５を制御するのに必要とされる有線通信を提供することができる。この通信は電力信号及び駆動信号の両方を含む。電力信号は、駆動信号と干渉する可能性があるノイズを低減するために専用の密閉された電気的フィードスルー経由で送信される必要がある場合がある。電力信号専用の１つ以上の電気的フィードスルーは、駆動信号におけるノイズ干渉をさらに減らすために追加の電気絶縁性を有するように構成することができる。さらに、作動インターフェイス９２９－２、９２９－３、９２９－５を介して提供される有線通信は、このような伝送に使用される任意の絶縁ワイヤカバーのガス放出を回避するために、内部９０４を通過し光学素子９１０－ｉと相互作用する光ビーム１０８から生成される迷走放射から保護することができる。例えば、重いステンレス鋼編組ワイヤ導管を使用して、アクチュエータ９２０－２、９２０－３、９２０－５からの有線通線を対応する作動インターフェイス９２９－２、９２９－３、９２９－５を介して提供することができる。
[0099] アクチュエータ９２０－１は、（自動制御の場合はスペクトル特徴制御モジュール６３１の一部であり、手動制御の場合は人間のオペレータであり得る）外部の制御デバイス６３１－１と機械的作動インターフェイス９２９－１を介して通信する。機械的作動インターフェイス９２９－１は、アクチュエータ９２０－１を制御するための壁貫通型回転機構を可能にする機械的フィードスルーを備える。
[0100] 図１１を参照すると、本明細書で考察されるスペクトル特徴調整器１００、２００、３００、４００、５００、６００のいずれかにより制御される光ビーム１０８のスペクトル特徴は、光ビーム１０８の光学スペクトル１１６０の任意の態様又は表現である。光学スペクトル１１６０は発光スペクトルと呼ぶことができる。光学スペクトル１１６０は、光ビーム１０８の光エネルギー、スペクトル強度、又は出力が異なる波長にどのように分布されるかについての情報を含む。光ビーム１０８の光学スペクトル１１６０は、スペクトル強度１１６１（必ずしも絶対較正を伴わない）が波長１１６２（又は波長に反比例する光周波数）の関数としてプロットされる図又はグラフの形態で示されている。
[0101] スペクトル特徴の一例は、光学スペクトル１１６０の幅１１６３の測度である帯域幅である。この幅１１６３はレーザ光の波長又は周波数で与えることができる。光学スペクトル１１６０の詳細に関連する任意の適切な数学的構成（すなわちメトリック（ｍｅｔｒｉｃ））を用いて、光ビーム１０８の帯域幅を特徴付ける値を推定することができる。例えば、光学スペクトル１１６０の最大ピーク強度のある割合（Ｘ）における光学スペクトルの全幅（ＦＷＸＭと呼ばれる）を用いて、光ビーム１０８の帯域幅を特徴付けることができる。別の例として、積分スペクトル強度のある割合（Ｙ）を含む光学スペクトル１１６０の幅（ＥＹと呼ばれる）を用いて、光ビーム１０８の帯域幅を特徴付けることができる。スペクトル特徴の別の例は、特定の（例えば最大）スペクトル強度における光学スペクトル１１６０の波長値１１６４であり得る波長である。
[0102] 図１２を参照すると、スペクトル特徴調整器内の圧力を制御するための手順１２７０が行われる。手順１２７０を考察する際、スペクトル特徴調整器６００を参照しているが、手順１２７０は、本明細書に記載のスペクトル特徴調整器１００、２００、３００、４００、５００、又は６００のいずれも適用することができる。手順１２７０は制御装置６５０によって行うことができる。
[0103] 手順１２７０は、ガス放電システム６４０が再起動又はスタンバイモードで再起動する準備ができた後に開始する。この状況では、ガス放電システム６４０は動作可能な状態であるが、スペクトル特徴調整器６００はまだ動作可能な状態ではない。したがって、スタンバイモードでは、ガス放電システム６４０は動作を待っている動作可能な状態であり、光源制御モジュール６４３はガス放電システム６４０をスタンバイモードで動作させる（１２７１）。例えば、ガス充填及びパージがスタンバイモードの間アクティブであり、ファンは、システム６４０の任意の放電チャンバの電極間でガスを循環させ続けるように構成される。しかしながら、スタンバイモードの間、ガス放電システム６４０は装置４４４により使用される光ビーム４３２を生成していない（したがって、電極はガス放電システム６４０の放電チャンバ内の１つ以上のレーザガスにエネルギーを与えていない）。
[0104] ガス放電システム６４０の再起動後（ガス放電システム６４０が依然としてスタンバイモードにある（１２７１）間）、スペクトル特徴調整器６００はまだ動作可能な状態になっていない。つまり、内部６０４内の圧力は制御されておらず、パージガスが内部６０４をパージするのに使用されていない。したがって、スペクトル特徴調整器６００は封止され、パージガス制御モジュール６３８はパージガス源６３６を動作させて内部６０４にパージガス（Ｎ２など）を注入する（１２７２）。パージガスを使用して、ガス放電システム６４０の再起動の前に内部６０４に入った可能性がある他の望ましくないガス成分（酸素など）を本体６０２の内部６０４から排出することができる。
[0105] 圧力制御モジュール６２６は真空ポンプ６２４を動作させて内部６０４から物質を吸い出す（１２７３）。圧力制御モジュール６２６は、例えば圧力センサ６２８からの測定された圧力ＰＩを分析することによって、圧力ＰＩが動作圧力Ｐｏの動作範囲ΔＰ内にあるかどうかを判定する（１２７４）。
[0106] 圧力制御モジュール６２６は、圧力ＰＩが動作圧力Ｐｏの動作範囲ΔＰ内にないと判定した場合（１２７４）、真空ポンプ６２４を動作させ続けて内部６０４から物質を吸い出す（１２７３）。圧力ＰＩが動作圧力Ｐｏの動作範囲ΔＰ内にあると圧力制御モジュール６２６が判定した場合（１２７４）、光源制御モジュール６４３は、ガス放電システム６４０をスタンバイモードで動作させること（１２７１）から、ガス放電システム６４０を出力モードで動作させること（１２７５）に切り替える。例えば、圧力制御モジュール６２６は、光源制御モジュール６４３にガス放電システム６４０を出力モードで動作させることを開始するよう指示するための信号を光源制御モジュール６４３に送信する。
[0107] ガス放電システム６４０の出力モードでの動作（１２７５）は、前駆光ビーム４０８を生成すること、スペクトル特徴調整器６００との相互作用によって前駆光ビーム４０８のスペクトル特徴を調整すること、及び前駆光ビーム４０８から装置４４４により使用される光ビーム４３２を形成することを含む。ガス放電システム６４０の出力モードでの動作中（１２７５）、前駆光ビーム４０８がスペクトル特徴調整器６００内のセット４１０の光学素子４１０－ｉと相互作用しているため、スペクトル特徴調整器６００の本体６０２の内部６０４内の圧力は動作圧力Ｐｏの動作範囲ΔＰで保持される必要がある。これは、前駆光ビーム４０８のスペクトル特徴（帯域幅及び波長など）が、前駆光ビーム４０８が通過する内部６０４内の圧力変化によって直接影響される又は変更されるためである。
[0108] 圧力制御モジュール６２６は、スペクトル特徴調整器本体６０２の内部６０４内の圧力ＰＩが動作圧力Ｐｏの動作範囲ΔＰ外にあるかどうかを判定する（１２７６）。例えば、圧力制御モジュール６２６は圧力センサ６２８からの測定された圧力ＰＩを動作圧力Ｐｏと比較する。内部６０４内の圧力ＰＩが動作圧力Ｐｏの動作範囲ΔＰ外にあると圧力制御モジュール６２６が判定した場合（１２７６）、スペクトル特徴調整器本体６０２の内部６０４内の圧力は調整される（１２７７）。
[0109] 例えば、圧力制御モジュール６２６は、スペクトル特徴調整器本体６０２の内部６０４内の圧力ＰＩが動作圧力Ｐｏの動作範囲ΔＰより大きいと判定した場合（１２７６）に、スペクトル特徴調整器本体６０２の内部６０４から物質を吸い出すための信号を真空ポンプ６２４に送信することができる。別の例として、圧力制御モジュール６２６は、スペクトル特徴調整器本体６０２の内部６０４内の圧力ＰＩが動作圧力Ｐｏの動作範囲ΔＰより小さいと判定した場合（１２７６）に、スペクトル特徴調整器本体６０２の内部６０４からの物質の吸い出しを中止するための信号を真空ポンプ６２４に送信することができる。又は、圧力制御モジュール６２６は、真空ポンプ６２４又は何らかの他のポンプが、内部６０４内の圧力ＰＩが上昇できるように制御された方法でスペクトル特徴調整器本体６０２の内部６０４を大気にさらすことを要求することができる。代替的又は付加的に、圧力制御モジュール６２６は、パージポート６３４経由でより多くのパージガスを内部６０４に入力するための信号をパージガス制御モジュール６３８に送信することが可能である。
[0110] スタンバイモード（１２７４）と出力モード（１２７６）の両方においてスペクトル特徴調整器６００内の圧力を動作範囲内に制御することによって、光ビーム４３２の特定の特性（スペクトル特徴やエネルギーなど）を許容範囲内に維持することが可能である。
[0111] 他の実施形態は以下の請求項の範囲内にある。
[0112] 本発明の他の態様を以下の番号付けされた条項に記載する。
１．大気圧未満の圧力に保持される内部を画定する本体と、
紫外線領域の波長を有する光ビームを透過させる、本体を通る少なくとも１つの光学経路と、
光ビームと相互作用するように構成され、１つ以上の作動可能な光学素子を含む内部内の光学素子の一セットと、
１つ以上の作動可能な光学素子と通信し、１つ以上の作動可能な光学素子の物理的特徴を調整するように構成された、内部内の作動システムと、を備えたスペクトル特徴調整器。
２．内部及びスペクトル特徴調整器の外部の真空ポンプと流体連通する、本体の壁に画定された真空ポートをさらに備えた、条項１のスペクトル特徴調整器。
３．内部内の圧力を測定するように構成された圧力センサをさらに備えた、条項１のスペクトル特徴調整器。
４．光学素子の一セットが
屈折素子の一セットと、
回折素子とを備えた、条項１のスペクトル特徴調整器。
５．各屈折素子がプリズムであり、回折素子が格子である、条項４のスペクトル特徴調整器。
６．屈折素子の一セットが４つのプリズムの一セットを含む、条項５のスペクトル特徴調整器。
７．作動システムが、作動可能な光学素子ごとに、作動可能な光学素子の物理的特徴を調整するように構成されたアクチュエータを含む、条項１のスペクトル特徴調整器。
８．作動システム、及びスペクトル特徴調整器の外部にある制御システムと通信する、本体に画定された作動インターフェイスをさらに備えた、条項１のスペクトル特徴調整器。
９．内部が、１６キロパスカル（ｋＰａ）以下、１２ｋＰａ以下、又は８ｋＰａ以下の圧力に保持された、条項１のスペクトル特徴調整器。
１０．内部が、動作圧力の４００パスカル（Ｐａ）の範囲内又は動作圧力の１４０Ｐａの範囲内又は動作圧力の２０Ｐａの範囲内に保持された、条項１のスペクトル特徴調整器。
１１．内部にヘリウムがない、条項１のスペクトル特徴調整器。
１２．内部がパージガスを含む、条項１のスペクトル特徴調整器。
１３．パージガスが窒素を含む、条項１２のスペクトル特徴調整器。
１４．本体が、内部をパージガスの源と流体連通させるパージポートを含む、条項１のスペクトル特徴調整器。
１５．本体の少なくとも一部が、ガス放電チャンバのガス放電本体に物理的に結合する運動減衰デバイスによって画定され、光学経路が、運動減衰デバイスの内部を通ってガス放電本体に画定された光ポートから延在する、条項１のスペクトル特徴調整器。
１６．本体が密閉され、運動減衰デバイスの内部が本体の内部と同じ圧力に保持された、条項１５のスペクトル特徴調整器。
１７．ガス放電チャンバを含み、光ビームを生成するように構成されたガス放電システムと、
ガス放電チャンバにより生成された前駆光ビームと光通信するスペクトル特徴調整器と、を備えた装置であって、スペクトル特徴調整器が、
大気圧未満の圧力に保持される内部を画定する本体と、
前駆光ビームを透過させる、ガス放電チャンバと本体の内部との間に画定された少なくとも１つの光学経路と、
前駆光ビームと相互作用するように構成された、内部内の光学素子の一セットと、を備えた装置。
１８．ガス放電システム及びスペクトル特徴調整器と通信する制御装置をさらに備えた、条項１７の装置。
１９．内部内の圧力を測定するように構成された圧力センサをさらに備えた、条項１８の装置。
２０．制御装置が、圧力センサと通信し、測定された圧力を受け、測定された圧力が圧力の許容範囲内にあるかどうかを判定するように構成された圧力モジュールを含む、条項１９の装置。
２１．真空ポンプをさらに備え、スペクトル特徴調整器が、内部及び真空ポンプと流体連通する、本体に画定された真空ポートを備えた、条項２０の装置。
２２．圧力モジュールが、真空ポンプと通信し、測定された圧力に関する判定に少なくとも部分的に基づいて、真空ポンプの動作を制御するように構成された、条項２１の装置。
２３．スペクトル特徴調整器が内部内に作動システムを含み、作動システムが、内部の１つ以上の光学素子と通信し、１つ以上の光学素子の物理的特徴を調整することによって前駆光ビームの１つ以上のスペクトル特徴を調整するように構成された、条項１８の装置。
２４．制御装置が、作動システムと通信するスペクトル特徴モジュールを備え、スペクトル特徴調整器が光ビームの１つ以上のスペクトル特徴の推定値を受け取り、受け取った推定値に基づいて作動システムへの信号を調整するように構成された、条項２３の装置。
２５．内部と流体連通するパージガス源をさらに備え、制御装置が、パージガス源と通信し、パージガス源から内部へのパージガスの流れを制御するように構成されたパージガスモジュールを含む、条項１８の装置。
２６．ガス放電システムが、
前駆光ビームからシード光ビームを生成するように構成されたガス放電チャンバを含む第１のガス放電ステージと、
シード光ビームを受け、シード光ビームを増幅することによってガス放電システムから光ビームを生成するように構成された第２のガス放電ステージと、を含む、条項１７の装置。
２７．ガス放電チャンバを含む第１のガス放電ステージがエネルギー源を収容し、第１の利得媒体を含むガス混合物を含み、
第２のガス放電ステージが、エネルギー源を収容し、第２の利得媒体を含むガス混合物を含むガス放電チャンバを含む、条項２６の装置。
２８．ガス放電チャンバが、エネルギー源を収容し、第１の利得媒体を含むガス混合物を含む、条項１７の装置。
２９．内部が、１６ｋＰａ以下、１２ｋＰａ以下、又は８ｋＰａ以下の圧力に保持された、条項１７の装置。
３０．本体が、光学素子の一セットを収容する一次本体、及び一次本体とガス放電チャンバのガス放電本体との間の運動減衰デバイスを備え、運動減衰デバイスの内部がガス放電チャンバと内部との間に光学経路の少なくとも一部を提供する、条項１７の装置。
３１．本体の内部とガス放電チャンバとの間に密閉分離を提供する、運動減衰デバイスとガス放電チャンバとの間にある光学窓をさらに備えた、条項３０の装置。
３２．運動減衰デバイスの内部及び本体の内部が、運動減衰デバイスの内部が本体の内部と同じ圧力となるように、互いに対して流体的に開口している、条項３０の装置。
３３．光ビームのスペクトル特徴を制御する方法であって、方法が、
ガス放電システムをスタンバイモードで動作させる間に、
スペクトル特徴調整器の本体の内部にパージガスを注入すること、及び
スペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が大気圧未満になるまで、スペクトル特徴調整器本体の内部から物質を吸い出すこと、
スペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が圧力動作範囲内にあるかどうかを判定すること、並びに
スペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が圧力動作範囲内にあると判定された場合に、ガス放電システムをスタンバイモードで動作させることからガス放電システムを出力モードで動作させることに切り替えること、を含む方法。
３４．ガス放電システムを出力モードで動作させる間に、
スペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が圧力動作範囲内にあるかどうかを判定すること、及び
スペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が圧力動作範囲外にあると判定された場合に、スペクトル特徴調整器本体の内部の圧力を調整すること、をさらに含む、条項３３の方法。
３５．スペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が圧力動作範囲を上回ると判定された場合に、スペクトル特徴調整器本体の内部の圧力を調整することが、スペクトル特徴調整器本体の内部から物質を吸い出すことを含む、条項３４の方法。
３６．スペクトル特徴調整器本体の内部内の圧力が圧力動作範囲を下回ると判定された場合に、スペクトル特徴調整器本体の内部の圧力を調整することが、制御された方法でスペクトル特徴調整器本体の内部を大気にさらすこと、又はスペクトル特徴調整器本体の内部から物質を吸い出すことを中止することを含む、条項３４の方法。
３７．圧力の動作範囲が、１６ｋＰａ以下、１２ｋＰａ以下、又は８ｋＰａ以下の動作圧力を中心とする、条項３３の方法。
３８．圧力の動作範囲が、４００Ｐａ、１４０Ｐａ、又は２０Ｐａである、条項３３の方法。
３９．ガス放電システムをスタンバイモードで動作させるのに先立って、光学経路経由でガス放電システムのスペクトル特徴調整器の内部と光通信する、ガス放電システムのガス放電キャビティから、スペクトル特徴調整器本体の内部を気密遮断することをさらに含む、条項３３の方法。
４０．ガス放電システムを出力モードで動作させることが、前駆光ビームがスペクトル特徴調整器本体の内部内の光学素子と相互作用するように、前駆光ビームをガス放電キャビティとスペクトル特徴調整器本体の内部との間に指向することを含む、条項３９の方法。

Claims (26)

  1. 大気圧未満の圧力に保持される内部を画定する本体と、
    紫外線領域の波長を有する光ビームを透過させる、前記本体を通る少なくとも１つの光学経路と、
    前記光ビームと相互作用するように構成され、１つ以上の作動可能な光学素子を含む前記内部内の光学素子の一セットと、
    前記１つ以上の作動可能な光学素子と通信し、前記１つ以上の作動可能な光学素子の物理的特徴を調整するように構成された、前記内部内の作動システムと、を備えたスペクトル特徴調整器。
  2. 前記光学素子の一セットが
    屈折素子の一セットと、
    回折素子とを備えた、請求項１のスペクトル特徴調整器。
  3. 各屈折素子がプリズムであり、前記回折素子が格子である、請求項２のスペクトル特徴調整器。
  4. 前記屈折素子の一セットが４つのプリズムの一セットを含む、請求項３のスペクトル特徴調整器。
  5. 前記作動システムが、作動可能な光学素子ごとに、前記作動可能な光学素子の物理的特徴を調整するように構成されたアクチュエータを含む、請求項１のスペクトル特徴調整器。
  6. 前記作動システム、及び前記スペクトル特徴調整器の外部にある制御システムと通信する、前記本体に画定された作動インターフェイスをさらに備えた、請求項１のスペクトル特徴調整器。
  7. 前記内部にヘリウムがない、請求項１のスペクトル特徴調整器。
  8. 前記内部がパージガスを含む、請求項１のスペクトル特徴調整器。
  9. 前記本体が、前記内部を前記パージガスの源と流体連通させるパージポートを含む、請求項１のスペクトル特徴調整器。
  10. 前記本体の少なくとも一部が、ガス放電チャンバのガス放電本体に物理的に結合する運動減衰デバイスによって画定され、前記光学経路が、前記運動減衰デバイスの内部を通って前記ガス放電本体に画定された光ポートから延在する、請求項１のスペクトル特徴調整器。
  11. ガス放電チャンバを含み、光ビームを生成するように構成されたガス放電システムと、
    前記ガス放電チャンバにより生成された前駆光ビームと光通信するスペクトル特徴調整器と、を備えた装置であって、前記スペクトル特徴調整器が、
    大気圧未満の圧力に保持される内部を画定する本体と、
    前記前駆光ビームを透過させる、前記ガス放電チャンバと前記本体の前記内部との間に画定された少なくとも１つの光学経路と、
    前記前駆光ビームと相互作用するように構成された、前記内部内の光学素子の一セットと、を備えた装置。
  12. 前記ガス放電システム及び前記スペクトル特徴調整器と通信する制御装置をさらに備えた、請求項１１の装置。
  13. 前記内部内の圧力を測定するように構成された圧力センサをさらに備えた、請求項１２の装置。
  14. 前記スペクトル特徴調整器が前記内部内に作動システムを含み、前記作動システムが、前記内部の１つ以上の光学素子と通信し、前記１つ以上の光学素子の物理的特徴を調整することによって前記前駆光ビームの１つ以上のスペクトル特徴を調整するように構成された、請求項１２の装置。
  15. 前記制御装置が、前記作動システムと通信するスペクトル特徴モジュールを備え、前記スペクトル特徴調整器が前記光ビームの１つ以上のスペクトル特徴の推定値を受け取り、受け取った前記推定値に基づいて前記作動システムへの信号を調整するように構成された、請求項１４の装置。
  16. 前記ガス放電システムが、
    前記前駆光ビームからシード光ビームを生成するように構成された前記ガス放電チャンバを含む第１のガス放電ステージと、
    前記シード光ビームを受け、前記シード光ビームを増幅することによって前記ガス放電システムから前記光ビームを生成するように構成された第２のガス放電ステージと、を含む、請求項１１の装置。
  17. 前記ガス放電チャンバを含む前記第１のガス放電ステージがエネルギー源を収容し、第１の利得媒体を含むガス混合物を含み、
    前記第２のガス放電ステージが、エネルギー源を収容し、第２の利得媒体を含むガス混合物を含むガス放電チャンバを含む、請求項１６の装置。
  18. 前記ガス放電チャンバが、エネルギー源を収容し、第１の利得媒体を含むガス混合物を含む、請求項１１の装置。
  19. 前記本体が、前記光学素子の一セットを収容する一次本体、及び前記一次本体と前記ガス放電チャンバのガス放電本体との間の運動減衰デバイスを備え、前記運動減衰デバイスの内部が前記ガス放電チャンバと前記内部との間に前記光学経路の少なくとも一部を提供する、請求項１１の装置。
  20. 前記運動減衰デバイスの前記内部及び前記本体の前記内部が、前記運動減衰デバイスの前記内部が前記本体の前記内部と同じ圧力となるように、互いに対して流体的に開口している、請求項１９の装置。
  21. 光ビームのスペクトル特徴を制御する方法であって、前記方法が、
    ガス放電システムをスタンバイモードで動作させる間に、
    スペクトル特徴調整器の本体の内部にパージガスを注入すること、及び
    前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部内の圧力が大気圧未満になるまで、前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部から物質を吸い出すこと、
    前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部内の圧力が圧力動作範囲内にあるかどうかを判定すること、並びに
    前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部内の圧力が前記圧力動作範囲内にあると判定された場合に、前記ガス放電システムを前記スタンバイモードで動作させることから前記ガス放電システムを出力モードで動作させることに切り替えること、を含む方法。
  22. 前記ガス放電システムを出力モードで動作させる間に、
    前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部内の圧力が圧力動作範囲内にあるかどうかを判定すること、及び
    前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部内の圧力が前記圧力動作範囲外にあると判定された場合に、前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部の圧力を調整すること、をさらに含む、請求項２１の方法。
  23. 前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部内の圧力が前記圧力動作範囲を上回ると判定された場合に、前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部の圧力を調整することが、前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部から物質を吸い出すことを含む、請求項２２の方法。
  24. 前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部内の圧力が前記圧力動作範囲を下回ると判定された場合に、前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部の圧力を調整することが、制御された方法で前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部を大気にさらすこと、又は前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部から物質を吸い出すことを中止することを含む、請求項２２の方法。
  25. 前記ガス放電システムをスタンバイモードで動作させるのに先立って、光学経路経由で前記ガス放電システムの前記スペクトル特徴調整器の前記内部と光通信する、前記ガス放電システムのガス放電キャビティから、前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部を気密遮断することをさらに含む、請求項２１の方法。
  26. 前記ガス放電システムを出力モードで動作させることが、前駆光ビームが前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部内の光学素子と相互作用するように、前記前駆光ビームを前記ガス放電キャビティと前記スペクトル特徴調整器本体の前記内部との間に指向することを含む、請求項２５の方法。

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