JPH06196789A - パルスレーザ発生装置およびそれを用いた装置 - Google Patents
パルスレーザ発生装置およびそれを用いた装置Info
- Publication number
- JPH06196789A JPH06196789A JP4357374A JP35737492A JPH06196789A JP H06196789 A JPH06196789 A JP H06196789A JP 4357374 A JP4357374 A JP 4357374A JP 35737492 A JP35737492 A JP 35737492A JP H06196789 A JPH06196789 A JP H06196789A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 パルスエネルギー検出器の校正をより正確に
行って出力パルスのエネルギーをより正確に制御できる
ようにする。 【構成】 パルスレーザ光を出力するレーザ発生手段
と、その出力光のエネルギーをパルス毎に検出するパル
スエネルギー検出手段と、その検出結果に基きレーザ発
生手段の出力光のエネルギーをパルス毎に制御する制御
手段とを備えたパルスレーザ発生装置において、前記レ
ーザ発生手段の平均出力を検出する平均出力検出手段
と、前記レーザ発生手段の出力光のパルスの周波数を検
出する周波数検出手段とを備え、前記制御手段は、前記
平均出力検出手段および周波数検出手段から所定のタイ
ミングで前記平均出力と周波数を得、これらを用いてパ
ルス毎のエネルギーを算出し、これに基き前記パルスエ
ネルギー検出手段を校正するものである。
行って出力パルスのエネルギーをより正確に制御できる
ようにする。 【構成】 パルスレーザ光を出力するレーザ発生手段
と、その出力光のエネルギーをパルス毎に検出するパル
スエネルギー検出手段と、その検出結果に基きレーザ発
生手段の出力光のエネルギーをパルス毎に制御する制御
手段とを備えたパルスレーザ発生装置において、前記レ
ーザ発生手段の平均出力を検出する平均出力検出手段
と、前記レーザ発生手段の出力光のパルスの周波数を検
出する周波数検出手段とを備え、前記制御手段は、前記
平均出力検出手段および周波数検出手段から所定のタイ
ミングで前記平均出力と周波数を得、これらを用いてパ
ルス毎のエネルギーを算出し、これに基き前記パルスエ
ネルギー検出手段を校正するものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はパルス毎にエネルギーの
コントロールが行われる、例えば半導体製造装置用のエ
キシマレーザのような高精度パルスレーザ発生装置に関
する。
コントロールが行われる、例えば半導体製造装置用のエ
キシマレーザのような高精度パルスレーザ発生装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、パルス毎にエネルギー制御される
パルスレーザにおいては、図２に示すように、レーザチ
ャンバ１、出力ミラー２、ウインド３および全反射ミラ
ー４を有する基本部分から射出されるレーザ光の一部
が、部分透過ミラー５によってエネルギー検出器７に導
入され、エネルギー検出器７によりパルスエネルギーが
パルス毎に検出される。そして通常、レーザに印加され
る放電電圧が、パルス毎に変化され、エネルギーが一定
となるように制御される。レーザ光の大半は、部分透過
ミラー５を透過し、機械的シャッタ８を介して半導体製
造等のプロセスに供給される。
パルスレーザにおいては、図２に示すように、レーザチ
ャンバ１、出力ミラー２、ウインド３および全反射ミラ
ー４を有する基本部分から射出されるレーザ光の一部
が、部分透過ミラー５によってエネルギー検出器７に導
入され、エネルギー検出器７によりパルスエネルギーが
パルス毎に検出される。そして通常、レーザに印加され
る放電電圧が、パルス毎に変化され、エネルギーが一定
となるように制御される。レーザ光の大半は、部分透過
ミラー５を透過し、機械的シャッタ８を介して半導体製
造等のプロセスに供給される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例に使用されるパルスエネルギー検出器は、通常、パ
ルスエネルギーが検出できる固体素子であるフォトダイ
オードやパイロ素子が多く使用されており、短期間の検
出値の安定性については余り問題がないが、数カ月以上
経過した場合の安定性について問題がある。すなわち、
長期間にわたって使用すると測定値が１方向にドリフト
するという問題が生じ、このため定期的に別の測定器を
用いてパルスエネルギー検出器を校正しなければならな
いという欠点がある。また、エキシマレーザの場合、長
期間レーザを使用していると、レーザの内部の電極が消
耗し、出射されるレーザのビーム形状が変化する。そし
てこのように、レーザ内部の放電電極の劣化やウインド
ウの汚れなどによりビームの形状が変化すると、エネル
ギー検出器は通常、光を検知する部分が余り大きくな
く、ビームの一部を検知しているため、ビーム形状変化
の影響を受けて校正値が変化してしまうという問題があ
る。
来例に使用されるパルスエネルギー検出器は、通常、パ
ルスエネルギーが検出できる固体素子であるフォトダイ
オードやパイロ素子が多く使用されており、短期間の検
出値の安定性については余り問題がないが、数カ月以上
経過した場合の安定性について問題がある。すなわち、
長期間にわたって使用すると測定値が１方向にドリフト
するという問題が生じ、このため定期的に別の測定器を
用いてパルスエネルギー検出器を校正しなければならな
いという欠点がある。また、エキシマレーザの場合、長
期間レーザを使用していると、レーザの内部の電極が消
耗し、出射されるレーザのビーム形状が変化する。そし
てこのように、レーザ内部の放電電極の劣化やウインド
ウの汚れなどによりビームの形状が変化すると、エネル
ギー検出器は通常、光を検知する部分が余り大きくな
く、ビームの一部を検知しているため、ビーム形状変化
の影響を受けて校正値が変化してしまうという問題があ
る。
【０００４】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、パルスレーザ発生装置において、パルスエ
ネルギー検出器の校正をより正確に行って出力パルスの
エネルギーをより正確に制御できるようにすることにあ
る。
題点に鑑み、パルスレーザ発生装置において、パルスエ
ネルギー検出器の校正をより正確に行って出力パルスの
エネルギーをより正確に制御できるようにすることにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明では、パルスレーザ光を出力するレーザ発生手段
と、その出力光のエネルギーをパルス毎に検出するパル
スエネルギー検出手段と、その検出結果に基きレーザ発
生手段の出力光のエネルギーをパルス毎に制御する制御
手段とを備えたパルスレーザ発生装置において、前記レ
ーザ発生手段の平均出力を検出する平均出力検出手段
と、前記レーザ発生手段の出力光のパルスの周波数を検
出する周波数検出手段とを備え、前記制御手段は、前記
平均出力検出手段および周波数検出手段から所定のタイ
ミングで前記平均出力と周波数を得、これらを用いてパ
ルス毎のエネルギーを算出し、これに基き前記パルスエ
ネルギー検出手段を校正するものであることを特徴とす
る。
本発明では、パルスレーザ光を出力するレーザ発生手段
と、その出力光のエネルギーをパルス毎に検出するパル
スエネルギー検出手段と、その検出結果に基きレーザ発
生手段の出力光のエネルギーをパルス毎に制御する制御
手段とを備えたパルスレーザ発生装置において、前記レ
ーザ発生手段の平均出力を検出する平均出力検出手段
と、前記レーザ発生手段の出力光のパルスの周波数を検
出する周波数検出手段とを備え、前記制御手段は、前記
平均出力検出手段および周波数検出手段から所定のタイ
ミングで前記平均出力と周波数を得、これらを用いてパ
ルス毎のエネルギーを算出し、これに基き前記パルスエ
ネルギー検出手段を校正するものであることを特徴とす
る。
【０００６】通常は、前記レーザ発生手段の出力光の外
部への供給を開閉制御するシャッタを備え、このシャッ
タはまた、閉時に前記出力光を反射してその光路外へ導
くミラーを有し、前記平均出力検出手段はこれによって
反射される出力光に基づいて前記レーザ発生手段の平均
出力を検出するものである。また、前記周波数検出手段
は、前記パルスエネルギー検出手段の検出結果に基づい
て前記パルス周波数を検出するものである。
部への供給を開閉制御するシャッタを備え、このシャッ
タはまた、閉時に前記出力光を反射してその光路外へ導
くミラーを有し、前記平均出力検出手段はこれによって
反射される出力光に基づいて前記レーザ発生手段の平均
出力を検出するものである。また、前記周波数検出手段
は、前記パルスエネルギー検出手段の検出結果に基づい
て前記パルス周波数を検出するものである。
【０００７】さらに、前記光路外へ反射される出力光に
基づいてそのビーム形状を検出する手段を備え、前記制
御手段は、そのビーム形状の変化に応じて前記パルスエ
ネルギー検出手段を校正するものであるのが好ましい。
また、所定のインタフェースを介して前記パルスエネル
ギー検出手段の校正値を外部の装置に出力するするよう
にしたり、前記パルスエネルギー検出手段の校正値の履
歴を記録する手段を有するようにしたり、してもよい。
基づいてそのビーム形状を検出する手段を備え、前記制
御手段は、そのビーム形状の変化に応じて前記パルスエ
ネルギー検出手段を校正するものであるのが好ましい。
また、所定のインタフェースを介して前記パルスエネル
ギー検出手段の校正値を外部の装置に出力するするよう
にしたり、前記パルスエネルギー検出手段の校正値の履
歴を記録する手段を有するようにしたり、してもよい。
【０００８】
【作用】本発明によれば、例えばレーザ光の出射を制御
する機械的シャッタに反射ミラーを設置して機械的シャ
ッタが閉じている時（ビームを出射していない時）に、
レーザ発生手段の平均出力およびパルス周波数を検出
し、これらを用いてパルス毎のエネルギーを算出し、そ
してこれに基きパルスエネルギー検出手段を校正するよ
うにしたため、あるいはさらに出力光のビームプロファ
イルをチェックし、その変化に応じて前記校正を行うよ
うにしたため、長期間にわたって出力光のパルスエネル
ギーが正確に制御され、安定化する。したがって、本装
置を用いた加工装置、露光装置、測定装置等において
は、極めて出力の安定したレーザ光が供給される。
する機械的シャッタに反射ミラーを設置して機械的シャ
ッタが閉じている時（ビームを出射していない時）に、
レーザ発生手段の平均出力およびパルス周波数を検出
し、これらを用いてパルス毎のエネルギーを算出し、そ
してこれに基きパルスエネルギー検出手段を校正するよ
うにしたため、あるいはさらに出力光のビームプロファ
イルをチェックし、その変化に応じて前記校正を行うよ
うにしたため、長期間にわたって出力光のパルスエネル
ギーが正確に制御され、安定化する。したがって、本装
置を用いた加工装置、露光装置、測定装置等において
は、極めて出力の安定したレーザ光が供給される。
【０００９】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。図１は本発明の一実施例に係るパルスレー
ザ発生装置の構成図である。同図において、１はレーザ
チャンバ、２は出力ミラー、３はウインド、４は全反射
ミラーであり、これらはレーザの発振に必要な基本部分
である。このレーザの基本部分から発振したレーザ光は
一部が部分透過ミラー５で反射され、拡散板６を介して
パルスエネルギー検出器７へ入射し、残りの大半のビー
ムは部分透過ミラー５を透過し、機械的シャッタ８ａを
介してプロセスに使用される。
て説明する。図１は本発明の一実施例に係るパルスレー
ザ発生装置の構成図である。同図において、１はレーザ
チャンバ、２は出力ミラー、３はウインド、４は全反射
ミラーであり、これらはレーザの発振に必要な基本部分
である。このレーザの基本部分から発振したレーザ光は
一部が部分透過ミラー５で反射され、拡散板６を介して
パルスエネルギー検出器７へ入射し、残りの大半のビー
ムは部分透過ミラー５を透過し、機械的シャッタ８ａを
介してプロセスに使用される。
【００１０】機械的シャッタ８ａは、裏面にレーザ光を
反射させるミラーが取り付けられており、レーザ光をプ
ロセスに使用する時は開き、使用しない時は閉じて光路
を遮断する。８ｂは機械的シャッタ８ａ裏面のミラーに
よって反射されたレーザ光の光路上に設けられ、表面に
ミラーを有する機械的シャッタ、１１はこれによって反
射されるレーザ光を吸収するように表面がコーティング
されたビームダンパ１１である。機械的シャッタ８ａか
らの反射レーザ光は通常、機械的シャッタ８ｂのミラー
によって反射され、ビームダンパ１１に吸収される。
反射させるミラーが取り付けられており、レーザ光をプ
ロセスに使用する時は開き、使用しない時は閉じて光路
を遮断する。８ｂは機械的シャッタ８ａ裏面のミラーに
よって反射されたレーザ光の光路上に設けられ、表面に
ミラーを有する機械的シャッタ、１１はこれによって反
射されるレーザ光を吸収するように表面がコーティング
されたビームダンパ１１である。機械的シャッタ８ａか
らの反射レーザ光は通常、機械的シャッタ８ｂのミラー
によって反射され、ビームダンパ１１に吸収される。
【００１１】１２は機械的シャッタ８ｂの後方に設けら
れたビームスプリッタ、９は長時間の安定性のあるサー
モパイル素子のような平均エネルギーを測定する平均出
力検出器、１０はビーム形状の経時的変化が測定できる
ように配置されたビーム形状検出器である。ビームスプ
リッタ１２は、平均出力検出器９とビーム形状検出器１
０にビームが入射するようにビームを分割する。
れたビームスプリッタ、９は長時間の安定性のあるサー
モパイル素子のような平均エネルギーを測定する平均出
力検出器、１０はビーム形状の経時的変化が測定できる
ように配置されたビーム形状検出器である。ビームスプ
リッタ１２は、平均出力検出器９とビーム形状検出器１
０にビームが入射するようにビームを分割する。
【００１２】レーザのパルスエネルギーを一定に保つた
めのパルスエネルギー検出器７の校正は、制御装置２０
の指令により定期的に機械的シャッタ８ｂを開いて、平
均出力検出器９の測定値と、パルスエネルギー検出器７
から得られるパルスエネルギーとレーザの発振周波数か
ら計算される出力とを比較することにより行う。また、
ビーム形状検出器１０でビームのプロファイルの変化を
検出する。図３はこの検出結果を示すグラフである。測
定されたビーム形状は図中の曲線で示される。同図に示
すように、あらかじめ強度の基準レベルを測定してお
き、基準レベルより強度の大きい領域の巾Ｗがある範囲
内±ＷO をはずれた時、パルスエネルギー検出器７を校
正するようにする。すなわち、ビーム形状に変化があっ
た時、および一定の周期で、パルスエネルギー検出器７
を平均出力検出器９で自動校正する。
めのパルスエネルギー検出器７の校正は、制御装置２０
の指令により定期的に機械的シャッタ８ｂを開いて、平
均出力検出器９の測定値と、パルスエネルギー検出器７
から得られるパルスエネルギーとレーザの発振周波数か
ら計算される出力とを比較することにより行う。また、
ビーム形状検出器１０でビームのプロファイルの変化を
検出する。図３はこの検出結果を示すグラフである。測
定されたビーム形状は図中の曲線で示される。同図に示
すように、あらかじめ強度の基準レベルを測定してお
き、基準レベルより強度の大きい領域の巾Ｗがある範囲
内±ＷO をはずれた時、パルスエネルギー検出器７を校
正するようにする。すなわち、ビーム形状に変化があっ
た時、および一定の周期で、パルスエネルギー検出器７
を平均出力検出器９で自動校正する。
【００１３】なお、本実施例においては、パルスエネル
ギー検出器７を定期的に校正するため、機械的シャッタ
８ｂを開閉するようにしているが、これは、平均出力検
出器９に不必要なエネルギーが照射することにより非常
に長い期間の経時劣化を防ぐためである。したがって、
この代わりに、ビームダンパ１１の位置に平均出力検出
器９を配置するとともに、これに入射するビームのエネ
ルギー密度をビームエキスパンダなどの光学系で低くし
て入射させるようにしてもよい。また、機械的シャッタ
８ｂが閉じている時のパルスレーザの発振を制御装置２
０により可能なかぎり少なくすれば、同様にビームダン
パ１１の位置に平均出力検出器９を配置してもよい。ま
た、機械的シャッタの裏面に反射ミラーを配置する代わ
りに、シャッタとミラーを別の構造体とし、その位置が
入れ替わるような構成としてもよいことはいうまでもな
い。
ギー検出器７を定期的に校正するため、機械的シャッタ
８ｂを開閉するようにしているが、これは、平均出力検
出器９に不必要なエネルギーが照射することにより非常
に長い期間の経時劣化を防ぐためである。したがって、
この代わりに、ビームダンパ１１の位置に平均出力検出
器９を配置するとともに、これに入射するビームのエネ
ルギー密度をビームエキスパンダなどの光学系で低くし
て入射させるようにしてもよい。また、機械的シャッタ
８ｂが閉じている時のパルスレーザの発振を制御装置２
０により可能なかぎり少なくすれば、同様にビームダン
パ１１の位置に平均出力検出器９を配置してもよい。ま
た、機械的シャッタの裏面に反射ミラーを配置する代わ
りに、シャッタとミラーを別の構造体とし、その位置が
入れ替わるような構成としてもよいことはいうまでもな
い。
【００１４】また、レーザを光源とするステッパのよう
な露光装置や精密なエネルギー制御の必要なレーザ加工
機の場合、露光装置や加工機側にもレーザ内蔵のエネル
ギー検出器とは別にエネルギーを検出する検出器が内蔵
されている。したがって、パルスレーザと露光装置ある
いはレーザ加工機にＩ／Ｆを設け、レーザ内蔵のエネル
ギー検出器を校正した時、露光装置内蔵の検出器もその
時期に合わせて校正することにより、長期間エネルギー
が安定した露光装置あるいはレーザ加工機を供給するこ
とができる。
な露光装置や精密なエネルギー制御の必要なレーザ加工
機の場合、露光装置や加工機側にもレーザ内蔵のエネル
ギー検出器とは別にエネルギーを検出する検出器が内蔵
されている。したがって、パルスレーザと露光装置ある
いはレーザ加工機にＩ／Ｆを設け、レーザ内蔵のエネル
ギー検出器を校正した時、露光装置内蔵の検出器もその
時期に合わせて校正することにより、長期間エネルギー
が安定した露光装置あるいはレーザ加工機を供給するこ
とができる。
【００１５】また、エネルギー校正を行う毎に校正値の
変化を制御装置内に記録する機能を設ければ長期変動の
履歴がわかり、レーザの診断に有効であるとともに、本
レーザを光源とする露光装置や加工機および測定装置に
内蔵されているエネルギー検出器の校正履歴と比較すれ
ば露光装置や加工機の光学系の劣化等を検出することが
できる。
変化を制御装置内に記録する機能を設ければ長期変動の
履歴がわかり、レーザの診断に有効であるとともに、本
レーザを光源とする露光装置や加工機および測定装置に
内蔵されているエネルギー検出器の校正履歴と比較すれ
ば露光装置や加工機の光学系の劣化等を検出することが
できる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、例
えばレーザ光の出射を制御する機械的シャッタが閉じて
いる時に、レーザ発生手段の平均出力およびパルス周波
数を検出し、これらを用いてパルス毎のエネルギーを算
出し、そしてこれに基きパルスエネルギー検出手段を所
定のタイミングで校正するようにしたため、あるいはさ
らに出力光のビーム形状を検出し、その変化に応じて前
記校正を行うようにしたため、長期間にわたって出力光
のパルスエネルギーが正確に制御され、その絶対値が安
定化する。したがって、本装置の光源としての信頼性を
大幅に向上させることができる。また通常、プロセスに
レーザ光を使用していない、レーザ光の出射を制御する
機械的シャッタが閉じている時に、エネルギーの校正を
自動的に行うことにより、プロセスに対してもまったく
ロスを発じさせないという効果がある。
えばレーザ光の出射を制御する機械的シャッタが閉じて
いる時に、レーザ発生手段の平均出力およびパルス周波
数を検出し、これらを用いてパルス毎のエネルギーを算
出し、そしてこれに基きパルスエネルギー検出手段を所
定のタイミングで校正するようにしたため、あるいはさ
らに出力光のビーム形状を検出し、その変化に応じて前
記校正を行うようにしたため、長期間にわたって出力光
のパルスエネルギーが正確に制御され、その絶対値が安
定化する。したがって、本装置の光源としての信頼性を
大幅に向上させることができる。また通常、プロセスに
レーザ光を使用していない、レーザ光の出射を制御する
機械的シャッタが閉じている時に、エネルギーの校正を
自動的に行うことにより、プロセスに対してもまったく
ロスを発じさせないという効果がある。
【図１】 本発明の一実施例に係るパルスレーザ発生装
置を示す構成図である。
置を示す構成図である。
【図２】 従来例に係るパルスレーザ発生装置を示す構
成図である。
成図である。
【図３】 図１の装置において、ビーム形状検出器でビ
ームのプロファイルの変化を検出した結果を示すグラフ
である。
ームのプロファイルの変化を検出した結果を示すグラフ
である。
１：レーザチャンバ、２：出力ミラー、３：ウインド、
４：全反射ミラー、５：部分透過ミラー、６：拡散板、
７：パルスエネルギー検出器、８ａ，８ｂ：機械的シャ
ッタ、１１：ビームダンパ、９：平均出力検出器、１
０：ビーム形状検出器、１２：ビームスプリッタ、２
０：制御装置。
４：全反射ミラー、５：部分透過ミラー、６：拡散板、
７：パルスエネルギー検出器、８ａ，８ｂ：機械的シャ
ッタ、１１：ビームダンパ、９：平均出力検出器、１
０：ビーム形状検出器、１２：ビームスプリッタ、２
０：制御装置。
Claims (9)
- 【請求項１】 パルスレーザ光を出力するレーザ発生手
段と、その出力光のエネルギーをパルス毎に検出するパ
ルスエネルギー検出手段と、その検出結果に基きレーザ
発生手段の出力光のエネルギーをパルス毎に制御する制
御手段とを備えたパルスレーザ発生装置において、前記
レーザ発生手段の平均出力を検出する平均出力検出手段
と、前記レーザ発生手段の出力光のパルスの周波数を検
出する周波数検出手段とを備え、前記制御手段は、前記
平均出力検出手段および周波数検出手段から所定のタイ
ミングで前記平均出力と周波数を得、これらを用いてパ
ルス毎のエネルギーを算出し、これに基き前記パルスエ
ネルギー検出手段を校正するものであることを特徴とす
るパルスレーザ発生装置。 - 【請求項２】 前記レーザ発生手段の出力光の外部への
供給を開閉制御するシャッタを備え、このシャッタはま
た、閉時に前記出力光を反射してその光路外へ導くミラ
ーを有し、前記平均出力検出手段はこれによって反射さ
れる出力光に基づいて前記レーザ発生手段の平均出力を
検出するものであることを特徴とする請求項１記載のパ
ルスレーザ発生装置。 - 【請求項３】 前記周波数検出手段は、前記パルスエネ
ルギー検出手段の検出結果に基づいて前記パルス周波数
を検出するものであることを特徴とする請求項１記載の
パルスレーザ発生装置。 - 【請求項４】 前記光路外へ反射される出力光に基づい
てそのビーム形状を検出する手段を備え、前記制御手段
は、そのビーム形状の変化に応じて前記パルスエネルギ
ー検出手段を校正するものであることを特徴とする請求
項２記載のパルスレーザ発生装置。 - 【請求項５】 所定のインタフェースを介して前記パル
スエネルギー検出手段の校正値を外部の装置に出力する
ことを特徴とする請求項１記載のパルスレーザ発生装
置。 - 【請求項６】 前記パルスエネルギー検出手段の校正値
の履歴を記録する手段を有することを特徴とする請求項
１記載のパルスレーザ発生装置。 - 【請求項７】 請求項１〜６記載のパルスレーザ発生装
置を備えたことを特徴とする加工装置。 - 【請求項８】 請求項１〜６記載のパルスレーザ発生装
置を備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項９】 請求項１〜６記載のパルスレーザ発生装
置を備えたことを特徴とする測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35737492A JP3542359B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | パルスレーザ装置および該装置を用いた露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35737492A JP3542359B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | パルスレーザ装置および該装置を用いた露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06196789A true JPH06196789A (ja) | 1994-07-15 |
| JP3542359B2 JP3542359B2 (ja) | 2004-07-14 |
Family
ID=18453808
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35737492A Expired - Lifetime JP3542359B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | パルスレーザ装置および該装置を用いた露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3542359B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000077759A (ja) * | 1998-08-27 | 2000-03-14 | Toshiba Corp | レーザ装置及び多結晶シリコンの製造方法 |
| JP2007180452A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体レーザの駆動制御装置及び駆動制御方法 |
| JP2011142187A (ja) * | 2010-01-06 | 2011-07-21 | Nikon Corp | レーザ装置 |
| JP2012015164A (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザ診断装置 |
| WO2016031068A1 (ja) * | 2014-08-29 | 2016-03-03 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置 |
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1992
- 1992-12-24 JP JP35737492A patent/JP3542359B2/ja not_active Expired - Lifetime
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