JPH09184900A - パルスｘ線照射装置 - Google Patents
パルスｘ線照射装置Info
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- JPH09184900A JPH09184900A JP7343482A JP34348295A JPH09184900A JP H09184900 A JPH09184900 A JP H09184900A JP 7343482 A JP7343482 A JP 7343482A JP 34348295 A JP34348295 A JP 34348295A JP H09184900 A JPH09184900 A JP H09184900A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 試料やレジストなどの被照射物への積算Ｘ線
照射量が、予め設定されたＸ線照射量に一致するよう
に、或いは許容範囲内に納まるように、短時間にＸ線照
射を行うことができるパルスＸ線照射装置を提供する。 【解決手段】 被照射物１１７上の被照射領域内に照射
されたＸ線の量を検出するか、或いは推定するＸ線量検
出部１１８、１２１と、照射すべきＸ線量の設定値を記
憶する記憶部と、検出または推定されたＸ線量を積算す
ると共に、その積算量をＸ線量設定値と比較する演算部
と、パルス励起エネルギービーム１０８の強度を検出す
るか、或いは推定するビーム強度検出部１１０と、パル
ス励起エネルギービーム１０８の強度を変化させるビー
ム強度調整部と、前記Ｘ線量検出部１１８、１２１、記
憶部、演算部、ビーム強度検出部１１０、及びビーム強
度調整部の動作を制御する制御部１２２と、を具備す
る。
照射量が、予め設定されたＸ線照射量に一致するよう
に、或いは許容範囲内に納まるように、短時間にＸ線照
射を行うことができるパルスＸ線照射装置を提供する。 【解決手段】 被照射物１１７上の被照射領域内に照射
されたＸ線の量を検出するか、或いは推定するＸ線量検
出部１１８、１２１と、照射すべきＸ線量の設定値を記
憶する記憶部と、検出または推定されたＸ線量を積算す
ると共に、その積算量をＸ線量設定値と比較する演算部
と、パルス励起エネルギービーム１０８の強度を検出す
るか、或いは推定するビーム強度検出部１１０と、パル
ス励起エネルギービーム１０８の強度を変化させるビー
ム強度調整部と、前記Ｘ線量検出部１１８、１２１、記
憶部、演算部、ビーム強度検出部１１０、及びビーム強
度調整部の動作を制御する制御部１２２と、を具備す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＸ線顕微鏡、Ｘ線分
析装置，Ｘ線縮小露光装置などのＸ線装置に用いて好適
なパルスＸ線照射装置に関するものである。
析装置，Ｘ線縮小露光装置などのＸ線装置に用いて好適
なパルスＸ線照射装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、Ｘ線照射装置は、Ｘ線管やＳＯＲ
光のように時間的に連続発光するＸ線源を用いる場合に
は、試料やレジストなどの被照射物に一定量のＸ線を照
射するために、Ｘ線源と被照射物の間にシヤッターを設
けて、シャッターが開いている時間を制御することによ
り、照射Ｘ線量が設定照射量となるようにしていた。
光のように時間的に連続発光するＸ線源を用いる場合に
は、試料やレジストなどの被照射物に一定量のＸ線を照
射するために、Ｘ線源と被照射物の間にシヤッターを設
けて、シャッターが開いている時間を制御することによ
り、照射Ｘ線量が設定照射量となるようにしていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】Ｘ線の出力が時間的に
安定である、前記連続発光可能なＸ線源に対する照射Ｘ
線量の制御は容易であるが、パルスＸ線源であり、その
Ｘ線出力がショット毎に揺らぐ場合には、積算Ｘ線照射
量を設定Ｘ線照射量と一致させることが非常に困難であ
るという問題点があった。
安定である、前記連続発光可能なＸ線源に対する照射Ｘ
線量の制御は容易であるが、パルスＸ線源であり、その
Ｘ線出力がショット毎に揺らぐ場合には、積算Ｘ線照射
量を設定Ｘ線照射量と一致させることが非常に困難であ
るという問題点があった。
【０００４】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
ものであり、試料やレジストなどの被照射物への積算Ｘ
線照射量が、予め設定されたＸ線照射量に一致するよう
に、或いは許容範囲内に納まるように、短時間にＸ線照
射を行うことができるパルスＸ線照射装置を提供するこ
とを目的とする。
ものであり、試料やレジストなどの被照射物への積算Ｘ
線照射量が、予め設定されたＸ線照射量に一致するよう
に、或いは許容範囲内に納まるように、短時間にＸ線照
射を行うことができるパルスＸ線照射装置を提供するこ
とを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は第一
に「減圧された真空容器内の標的部材にパルス励起エネ
ルギービームを照射してプラズマを形成させ、該プラズ
マからＸ線を取り出して被照射物に照射するパルスＸ線
照射装置において、前記被照射物上の被照射領域内に照
射された前記Ｘ線の量を検出するか、或いは推定するＸ
線量検出部と、該Ｘ線量検出部により検出または推定さ
れたＸ線量、その積算量及び前記被照射物に照射すべき
Ｘ線量の設定値を記憶する記憶部と、前記検出または推
定されたＸ線量を積算すると共に、その積算量を前記Ｘ
線量設定値と比較する演算部と、前記パルス励起エネル
ギービームの強度を変化させるビーム強度調整部と、前
記Ｘ線量検出部、記憶部、演算部、及びビーム強度調整
部の動作を制御する制御部と、を具備したことを特徴と
するパルスＸ線照射装置（請求項１）」を提供する。
に「減圧された真空容器内の標的部材にパルス励起エネ
ルギービームを照射してプラズマを形成させ、該プラズ
マからＸ線を取り出して被照射物に照射するパルスＸ線
照射装置において、前記被照射物上の被照射領域内に照
射された前記Ｘ線の量を検出するか、或いは推定するＸ
線量検出部と、該Ｘ線量検出部により検出または推定さ
れたＸ線量、その積算量及び前記被照射物に照射すべき
Ｘ線量の設定値を記憶する記憶部と、前記検出または推
定されたＸ線量を積算すると共に、その積算量を前記Ｘ
線量設定値と比較する演算部と、前記パルス励起エネル
ギービームの強度を変化させるビーム強度調整部と、前
記Ｘ線量検出部、記憶部、演算部、及びビーム強度調整
部の動作を制御する制御部と、を具備したことを特徴と
するパルスＸ線照射装置（請求項１）」を提供する。
【０００６】また、本発明は第二に「減圧された真空容
器内の標的部材にパルス励起エネルギービームを照射し
てプラズマを形成させ、該プラズマからＸ線を取り出し
て被照射物に照射するパルスＸ線照射装置において、前
記被照射物上の被照射領域内に照射された前記Ｘ線の量
を検出するか、或いは推定するＸ線量検出部と、該Ｘ線
量検出部により検出または推定されたＸ線量、その積算
量及び前記被照射物に照射すべきＸ線量の設定値を記憶
する記憶部と、前記検出または推定されたＸ線量を積算
すると共に、その積算量を前記Ｘ線量設定値と比較する
演算部と、前記パルス励起エネルギービームの強度を検
出するか、或いは推定するビーム強度検出部と、前記パ
ルス励起エネルギービームの強度を変化させるビーム強
度調整部と、前記Ｘ線量検出部、記憶部、演算部、ビー
ム強度検出部、及びビーム強度調整部の動作を制御する
制御部と、を具備した事を特徴とするパルスＸ線照射装
置（請求項２）」を提供する。
器内の標的部材にパルス励起エネルギービームを照射し
てプラズマを形成させ、該プラズマからＸ線を取り出し
て被照射物に照射するパルスＸ線照射装置において、前
記被照射物上の被照射領域内に照射された前記Ｘ線の量
を検出するか、或いは推定するＸ線量検出部と、該Ｘ線
量検出部により検出または推定されたＸ線量、その積算
量及び前記被照射物に照射すべきＸ線量の設定値を記憶
する記憶部と、前記検出または推定されたＸ線量を積算
すると共に、その積算量を前記Ｘ線量設定値と比較する
演算部と、前記パルス励起エネルギービームの強度を検
出するか、或いは推定するビーム強度検出部と、前記パ
ルス励起エネルギービームの強度を変化させるビーム強
度調整部と、前記Ｘ線量検出部、記憶部、演算部、ビー
ム強度検出部、及びビーム強度調整部の動作を制御する
制御部と、を具備した事を特徴とするパルスＸ線照射装
置（請求項２）」を提供する。
【０００７】また、本発明は第三に「前記ビーム強度調
整部を前記パルス励起エネルギービームの光路中に設け
た透過率可変のフィルターによる調整機構としたことを
特徴とする請求項１または２記載のパルスＸ線照射装置
（請求項３）」を提供する。また、本発明は第四に「前
記パルス励起エネルギービームの発生源をＱスイッチレ
ーザー装置とし、かつ、前記ビーム強度調整部を該Ｑス
イッチレーザー装置の発振器内に設置されたＱスイッチ
の、Ｑスイッチ作動指示信号とレーザー媒質の励起開始
信号との時間差を調整する遅延時間調整機構としたこと
を特徴とする請求項１または２記載のパルスＸ線照射装
置（請求項４）」を提供する。
整部を前記パルス励起エネルギービームの光路中に設け
た透過率可変のフィルターによる調整機構としたことを
特徴とする請求項１または２記載のパルスＸ線照射装置
（請求項３）」を提供する。また、本発明は第四に「前
記パルス励起エネルギービームの発生源をＱスイッチレ
ーザー装置とし、かつ、前記ビーム強度調整部を該Ｑス
イッチレーザー装置の発振器内に設置されたＱスイッチ
の、Ｑスイッチ作動指示信号とレーザー媒質の励起開始
信号との時間差を調整する遅延時間調整機構としたこと
を特徴とする請求項１または２記載のパルスＸ線照射装
置（請求項４）」を提供する。
【０００８】また、本発明は第五に「前記レーザー媒質
の励起開始信号が前記Ｑスイッチレーザー装置に設けた
発振器内のレーザー媒質の励起を開始する信号であるこ
とを特徴とする請求項４記載のパルスＸ線照射装置（請
求項５）」を提供する。また、本発明は第六に「前記レ
ーザー媒質の励起開始信号が前記Ｑスイッチレーザー装
置に設けた増幅器内のレーザー媒質の励起を開始する信
号であることを特徴とする請求項４記載のパルスＸ線照
射装置（請求項６）」を提供する。
の励起開始信号が前記Ｑスイッチレーザー装置に設けた
発振器内のレーザー媒質の励起を開始する信号であるこ
とを特徴とする請求項４記載のパルスＸ線照射装置（請
求項５）」を提供する。また、本発明は第六に「前記レ
ーザー媒質の励起開始信号が前記Ｑスイッチレーザー装
置に設けた増幅器内のレーザー媒質の励起を開始する信
号であることを特徴とする請求項４記載のパルスＸ線照
射装置（請求項６）」を提供する。
【０００９】また、本発明は第七に「前記パルス励起エ
ネルギービームの発生源を放電励起レーザー装置とし、
かつ、前記ビーム強度調整部を該放電励起レーザー装置
のエネルギー蓄積キャパシターの充電電圧を調整する充
電電圧調整機構としたことを特徴とする請求項１または
２記載のパルスＸ線照射装置（請求項７）」を提供す
る。
ネルギービームの発生源を放電励起レーザー装置とし、
かつ、前記ビーム強度調整部を該放電励起レーザー装置
のエネルギー蓄積キャパシターの充電電圧を調整する充
電電圧調整機構としたことを特徴とする請求項１または
２記載のパルスＸ線照射装置（請求項７）」を提供す
る。
【００１０】また、本発明は第八に「前記演算部は、前
記記憶部に記憶されたＸ線量及びその積算量に基づい
て、それまでの所定期間内における１ショットあたりの
平均Ｘ線量を算出し、また前記記憶部は、その平均Ｘ線
量を記憶することを特徴とする請求項１〜７記載のパル
スＸ線照射装置（請求項８）」を提供する。また、本発
明は第九に「前記記憶部は、前記パルス励起エネルギー
ビームの強度と前記ビーム強度調整部の調整機構にかか
る調整量との相関データ、及び前記ビームの強度もしく
は前記調整量と前記照射Ｘ線量との相関データを記憶す
ることを特徴とする請求項１〜８記載のパルスＸ線照射
装置（請求項９）」を提供する。
記記憶部に記憶されたＸ線量及びその積算量に基づい
て、それまでの所定期間内における１ショットあたりの
平均Ｘ線量を算出し、また前記記憶部は、その平均Ｘ線
量を記憶することを特徴とする請求項１〜７記載のパル
スＸ線照射装置（請求項８）」を提供する。また、本発
明は第九に「前記記憶部は、前記パルス励起エネルギー
ビームの強度と前記ビーム強度調整部の調整機構にかか
る調整量との相関データ、及び前記ビームの強度もしく
は前記調整量と前記照射Ｘ線量との相関データを記憶す
ることを特徴とする請求項１〜８記載のパルスＸ線照射
装置（請求項９）」を提供する。
【００１１】また、本発明は第十に「前記制御部は、前
記被照射物に照射すべきＸ線量の設定値と前記被照射物
への照射Ｘ線積算量との差がそれまでの所定期間内にお
ける１ショットあたりの平均Ｘ線照射量よりも小さくな
ったときに、前記ビーム強度調整部の調整機構を動作さ
せて、次のショットにおける照射Ｘ線量が前記差と等し
くなるように、前記パルス励起エネルギービームの強度
を設定することを特徴とする請求項１〜９記載のパルス
Ｘ線照射装置（請求項10）」を提供する。
記被照射物に照射すべきＸ線量の設定値と前記被照射物
への照射Ｘ線積算量との差がそれまでの所定期間内にお
ける１ショットあたりの平均Ｘ線照射量よりも小さくな
ったときに、前記ビーム強度調整部の調整機構を動作さ
せて、次のショットにおける照射Ｘ線量が前記差と等し
くなるように、前記パルス励起エネルギービームの強度
を設定することを特徴とする請求項１〜９記載のパルス
Ｘ線照射装置（請求項10）」を提供する。
【００１２】
【発明の実施の形態】減圧された真空容器内の標的部材
にパルス励起エネルギービームを照射してプラズマを形
成させ、該プラズマからＸ線を取り出して被照射物に照
射するパルスＸ線照射装置において、被照射領域内に照
射するＸ線露光量が設定値（設定Ｘ線露光量）と一致す
るように短時間でＸ線露光を行うためには、標的部材に
許容上限強度の励起エネルギービームを照射させて発生
させたＸ線により露光を続け、積算Ｘ線露光量と設定Ｘ
線露光量との差がそれまでの平均露光量（１ショットあ
たり）よりも小さくなったときに、その差分だけのＸ線
が発生するように、励起エネルギービームを調整すれば
よい。
にパルス励起エネルギービームを照射してプラズマを形
成させ、該プラズマからＸ線を取り出して被照射物に照
射するパルスＸ線照射装置において、被照射領域内に照
射するＸ線露光量が設定値（設定Ｘ線露光量）と一致す
るように短時間でＸ線露光を行うためには、標的部材に
許容上限強度の励起エネルギービームを照射させて発生
させたＸ線により露光を続け、積算Ｘ線露光量と設定Ｘ
線露光量との差がそれまでの平均露光量（１ショットあ
たり）よりも小さくなったときに、その差分だけのＸ線
が発生するように、励起エネルギービームを調整すれば
よい。
【００１３】そこで、被照射領域内に照射されるＸ線の
量（Ｘ線露光量）が設定Ｘ線露光量と等しくなるよう
に、或いは設定露光量との差が許容範囲内となるよう
に、短時間にてＸ線を照射することができるように、本
発明（請求項１〜10）のパルスＸ線照射装置は、被照射
物上の被照射領域内に照射されたＸ線の量を検出する
か、或いは推定するＸ線量検出部と、該Ｘ線量検出部に
より検出または推定されたＸ線量、その積算量及び前記
被照射物に照射すべきＸ線量の設定値を記憶する記憶部
と、前記検出または推定されたＸ線量を積算すると共
に、その積算量を前記Ｘ線量設定値と比較する演算部
と、前記プラズマを形成するためのパルス励起エネルギ
ービームの強度を変化させるビーム強度調整部と、前記
Ｘ線量検出部、記憶部、演算部、及びビーム強度調整部
の動作を制御する制御部とを具備している。
量（Ｘ線露光量）が設定Ｘ線露光量と等しくなるよう
に、或いは設定露光量との差が許容範囲内となるよう
に、短時間にてＸ線を照射することができるように、本
発明（請求項１〜10）のパルスＸ線照射装置は、被照射
物上の被照射領域内に照射されたＸ線の量を検出する
か、或いは推定するＸ線量検出部と、該Ｘ線量検出部に
より検出または推定されたＸ線量、その積算量及び前記
被照射物に照射すべきＸ線量の設定値を記憶する記憶部
と、前記検出または推定されたＸ線量を積算すると共
に、その積算量を前記Ｘ線量設定値と比較する演算部
と、前記プラズマを形成するためのパルス励起エネルギ
ービームの強度を変化させるビーム強度調整部と、前記
Ｘ線量検出部、記憶部、演算部、及びビーム強度調整部
の動作を制御する制御部とを具備している。
【００１４】照射Ｘ線露光量と設定Ｘ線露光量との差は
ゼロであるか、或いはできるだけ小さいことが好まし
く、そのために、本発明にかかるパルスＸ線照射装置
は、前記パルス励起エネルギービームの強度を検出する
か、或いは推定するビーム強度検出部を更に具備し、ま
た前記制御部に該ビーム強度検出部の動作を制御する機
能を付加することが好ましい（請求項２）。
ゼロであるか、或いはできるだけ小さいことが好まし
く、そのために、本発明にかかるパルスＸ線照射装置
は、前記パルス励起エネルギービームの強度を検出する
か、或いは推定するビーム強度検出部を更に具備し、ま
た前記制御部に該ビーム強度検出部の動作を制御する機
能を付加することが好ましい（請求項２）。
【００１５】かかる構成にすることにより、後述する相
関データの随時補正が可能となる。本発明にかかるビー
ム強度調整部をパルス励起エネルギービームの光路中に
設けた透過率可変のフィルターによる調整機構とする
と、容易にビーム強度を調整できるので好ましい（請求
項３）。本発明にかかるパルス励起エネルギービームの
発生源をＱスイッチレーザー装置とし、かつ、ビーム強
度調整部を該Ｑスイッチレーザー装置の発振器内に設置
されたＱスイッチの、Ｑスイッチ作動指示信号とレーザ
ー媒質の励起開始信号との時間差を調整する遅延時間調
整機構とすると、ビームパターン、ビーム広がり角、及
びビーム光軸の不都合な変化を引き起こすことなくビー
ム強度を調整できるので好ましい（請求項４）。
関データの随時補正が可能となる。本発明にかかるビー
ム強度調整部をパルス励起エネルギービームの光路中に
設けた透過率可変のフィルターによる調整機構とする
と、容易にビーム強度を調整できるので好ましい（請求
項３）。本発明にかかるパルス励起エネルギービームの
発生源をＱスイッチレーザー装置とし、かつ、ビーム強
度調整部を該Ｑスイッチレーザー装置の発振器内に設置
されたＱスイッチの、Ｑスイッチ作動指示信号とレーザ
ー媒質の励起開始信号との時間差を調整する遅延時間調
整機構とすると、ビームパターン、ビーム広がり角、及
びビーム光軸の不都合な変化を引き起こすことなくビー
ム強度を調整できるので好ましい（請求項４）。
【００１６】例えば、Ｑ−スイッチ固体レーザーの場
合、レーザー媒質を励起する励起エネルギーを変えるこ
とでレーザーエネルギーを可変にできるが、励起エネル
ギーを変えると、レーザー媒質内の熱的な歪みが変化し
て、その結果、レーザーパターン、ビーム広がり角、ま
たはレーザー光軸にかかる不都合な変化が発生して好ま
しくないが、本発明（請求項４）のように、Ｑ−スイッ
チのタイミングとレーザー媒質励起のタイミングとの時
間差を変えるだけであれば、そのような不都合は起こら
ない。
合、レーザー媒質を励起する励起エネルギーを変えるこ
とでレーザーエネルギーを可変にできるが、励起エネル
ギーを変えると、レーザー媒質内の熱的な歪みが変化し
て、その結果、レーザーパターン、ビーム広がり角、ま
たはレーザー光軸にかかる不都合な変化が発生して好ま
しくないが、本発明（請求項４）のように、Ｑ−スイッ
チのタイミングとレーザー媒質励起のタイミングとの時
間差を変えるだけであれば、そのような不都合は起こら
ない。
【００１７】また、本発明（請求項４）のような構成に
することにより、高繰り返しレーザーに於いてもレーザ
ーエネルギーを可変にすることができる。前記レーザー
媒質の励起開始信号としては、前記Ｑスイッチレーザー
装置に設けた発振器内のレーザー媒質の励起を開始する
信号（請求項５）、または前記Ｑスイッチレーザー装置
に設けた増幅器内のレーザー媒質の励起を開始する信号
（請求項６）を用いることができる。
することにより、高繰り返しレーザーに於いてもレーザ
ーエネルギーを可変にすることができる。前記レーザー
媒質の励起開始信号としては、前記Ｑスイッチレーザー
装置に設けた発振器内のレーザー媒質の励起を開始する
信号（請求項５）、または前記Ｑスイッチレーザー装置
に設けた増幅器内のレーザー媒質の励起を開始する信号
（請求項６）を用いることができる。
【００１８】本発明にかかるパルス励起エネルギービー
ムの発生源を放電励起レーザー発生部とした場合には、
前記ビーム強度調整部を該放電励起レーザー装置のエネ
ルギー蓄積キャパシターの充電電圧を調整する充電電圧
調整機構とすると、容易にレーザーエネルギーを変化さ
せることができるので好ましい（請求項７）。前述した
ように、被照射領域内に照射するＸ線露光量が設定値
（設定Ｘ線露光量）と一致するように短時間でＸ線露光
を行うためには、標的部材に許容上限強度の励起エネル
ギービームを照射させて発生させたＸ線により露光を続
け、積算Ｘ線露光量と設定Ｘ線露光量との差がそれまで
の平均露光量（１ショットあたり）よりも小さくなった
ときに、その差分だけのＸ線が発生するように、励起エ
ネルギービームを調整すればよい。
ムの発生源を放電励起レーザー発生部とした場合には、
前記ビーム強度調整部を該放電励起レーザー装置のエネ
ルギー蓄積キャパシターの充電電圧を調整する充電電圧
調整機構とすると、容易にレーザーエネルギーを変化さ
せることができるので好ましい（請求項７）。前述した
ように、被照射領域内に照射するＸ線露光量が設定値
（設定Ｘ線露光量）と一致するように短時間でＸ線露光
を行うためには、標的部材に許容上限強度の励起エネル
ギービームを照射させて発生させたＸ線により露光を続
け、積算Ｘ線露光量と設定Ｘ線露光量との差がそれまで
の平均露光量（１ショットあたり）よりも小さくなった
ときに、その差分だけのＸ線が発生するように、励起エ
ネルギービームを調整すればよい。
【００１９】そこで、かかる制御をより正確かつ短時間
に行う上で、本発明にかかる演算部は、記憶部に記憶さ
れたＸ線量及びその積算量に基づいて、それまでの所定
期間内における１ショットあたりの平均Ｘ線量を算出
し、また本発明にかかる記憶部は、その平均Ｘ線量を記
憶しておくことが好ましい（請求項８）。また、同じく
前記制御をより正確かつ短時間に行う上で、本発明にか
かる記憶部は、パルス励起エネルギービームの強度とビ
ーム強度調整部の調整機構にかかる調整量との相関デー
タ、及び前記ビームの強度もしくは前記調整量と照射Ｘ
線量との相関データを記憶しておくことが好ましい（請
求項９）。
に行う上で、本発明にかかる演算部は、記憶部に記憶さ
れたＸ線量及びその積算量に基づいて、それまでの所定
期間内における１ショットあたりの平均Ｘ線量を算出
し、また本発明にかかる記憶部は、その平均Ｘ線量を記
憶しておくことが好ましい（請求項８）。また、同じく
前記制御をより正確かつ短時間に行う上で、本発明にか
かる記憶部は、パルス励起エネルギービームの強度とビ
ーム強度調整部の調整機構にかかる調整量との相関デー
タ、及び前記ビームの強度もしくは前記調整量と照射Ｘ
線量との相関データを記憶しておくことが好ましい（請
求項９）。
【００２０】パルス励起エネルギービームの強度とビー
ム強度調整部の調整機構にかかる調整量との相関データ
としては、例えば、Ｑスイッチレーザー（パルス励起エ
ネルギービームの一例）のエネルギー値と、Ｑスイッチ
作動指示信号及びレーザー媒質の励起開始信号の時間差
との相関データが利用できる。かかるデータを記憶部に
記憶させておくことにより、即座に必要とするエネルギ
ー値を有するパルスレーザー光を発信させることができ
る。
ム強度調整部の調整機構にかかる調整量との相関データ
としては、例えば、Ｑスイッチレーザー（パルス励起エ
ネルギービームの一例）のエネルギー値と、Ｑスイッチ
作動指示信号及びレーザー媒質の励起開始信号の時間差
との相関データが利用できる。かかるデータを記憶部に
記憶させておくことにより、即座に必要とするエネルギ
ー値を有するパルスレーザー光を発信させることができ
る。
【００２１】また、前記ビームの強度もしくは前記調整
量と照射Ｘ線量との相関データとしては、例えば、パル
スレーザーのエネルギー値もしくは前記時間差と、照射
Ｘ線量との相関データが利用できる。かかるデータを記
憶部に記憶させておくことにより、即座に必要とする露
光量を有するＸ線を発生させることができる。
量と照射Ｘ線量との相関データとしては、例えば、パル
スレーザーのエネルギー値もしくは前記時間差と、照射
Ｘ線量との相関データが利用できる。かかるデータを記
憶部に記憶させておくことにより、即座に必要とする露
光量を有するＸ線を発生させることができる。
【００２２】Ｘ線源としてレーザープラズマＸ線源（Ｌ
ＰＸ）などのプラズマＸ線源を用いた場合には、プラズ
マまたはその周辺から放出される飛散粒子が、Ｘ線源と
被照射物との間にある光学素子上に付着・堆積し、次第
にＸ線の透過率（反射率）が低下して被照射領域内への
露光量が減少する。この様な場合に於いても、前記相関
データを記憶部に記憶させておくことにより、即座に必
要とする露光量を有するＸ線を発生させることができ
る。
ＰＸ）などのプラズマＸ線源を用いた場合には、プラズ
マまたはその周辺から放出される飛散粒子が、Ｘ線源と
被照射物との間にある光学素子上に付着・堆積し、次第
にＸ線の透過率（反射率）が低下して被照射領域内への
露光量が減少する。この様な場合に於いても、前記相関
データを記憶部に記憶させておくことにより、即座に必
要とする露光量を有するＸ線を発生させることができ
る。
【００２３】例えば、先ずはじめに、光学素子が汚れて
いない状態におけるパルスレーザー（Ｑスイッチレーザ
ー）のエネルギー値もしくは前記時間差と、照射Ｘ線量
との相関データを記憶部に記憶させる。Ｘ線照射装置の
運転中に運転開始時と同じレーザーエネルギー値である
にもかかわらず、照射Ｘ線量が減少した場合には光学素
子の汚れによる減少と考えられる。
いない状態におけるパルスレーザー（Ｑスイッチレーザ
ー）のエネルギー値もしくは前記時間差と、照射Ｘ線量
との相関データを記憶部に記憶させる。Ｘ線照射装置の
運転中に運転開始時と同じレーザーエネルギー値である
にもかかわらず、照射Ｘ線量が減少した場合には光学素
子の汚れによる減少と考えられる。
【００２４】そこで、運転中の所定レーザーエネルギー
値に対する照射Ｘ線量と運転開始時の同一レーザーエネ
ルギー値に対する照射Ｘ線量の比を求めれば、それが光
学系の透過率（伝達率）の減少率になるので、この値を
用いて、パルスレーザーのエネルギー値もしくは前記時
間差と、照射Ｘ線量との相関データを随時補正すること
により、即座に必要とする露光量を有するＸ線を発生さ
せることができる。
値に対する照射Ｘ線量と運転開始時の同一レーザーエネ
ルギー値に対する照射Ｘ線量の比を求めれば、それが光
学系の透過率（伝達率）の減少率になるので、この値を
用いて、パルスレーザーのエネルギー値もしくは前記時
間差と、照射Ｘ線量との相関データを随時補正すること
により、即座に必要とする露光量を有するＸ線を発生さ
せることができる。
【００２５】また、前記制御をより正確かつ短時間に行
う上で、本発明にかかる制御部は、被照射物に照射すべ
きＸ線量の設定値と被照射物への照射Ｘ線積算量との差
がそれまでの所定期間内における１ショットあたりの平
均Ｘ線照射量よりも小さくなったときに、前記ビーム強
度調整部の調整機構を動作させて、次のショットにおけ
る照射Ｘ線量が前記差と等しくなるように、前記パルス
励起エネルギービームの強度を設定することが好ましい
（請求項10）。
う上で、本発明にかかる制御部は、被照射物に照射すべ
きＸ線量の設定値と被照射物への照射Ｘ線積算量との差
がそれまでの所定期間内における１ショットあたりの平
均Ｘ線照射量よりも小さくなったときに、前記ビーム強
度調整部の調整機構を動作させて、次のショットにおけ
る照射Ｘ線量が前記差と等しくなるように、前記パルス
励起エネルギービームの強度を設定することが好ましい
（請求項10）。
【００２６】以下、本発明を実施例により更に詳細に説
明するが、本発明はこの例に限定されるものではない。
明するが、本発明はこの例に限定されるものではない。
【００２７】
【実施例】図１は本実施例のＸ線照射装置の概略構成ブ
ロック図である。該装置では、パルス励起エネルギービ
ームの発生源としてフラッシュランプ励起のＱ−スイッ
チＹＡＧレーザー装置１０１を用いている。レーザー出
力光はミラー１０７で反射された後、レンズ１１１によ
り真空容器１１２内に配置された標的１１３上に集光さ
れ、プラズマ１１４を生成させる。
ロック図である。該装置では、パルス励起エネルギービ
ームの発生源としてフラッシュランプ励起のＱ−スイッ
チＹＡＧレーザー装置１０１を用いている。レーザー出
力光はミラー１０７で反射された後、レンズ１１１によ
り真空容器１１２内に配置された標的１１３上に集光さ
れ、プラズマ１１４を生成させる。
【００２８】プラズマ１１４から輻射されたＸ線の一部
１１５は、Ｘ線光学系１１６により結像されて被照射物
１１７上に照射される。このとき、照射されるＸ線の一
部は開口付きＸ線検出器（Ｘ線量検出部の一例）１１８
により検出され、その出力信号は制御処理部１２２に伝
えられる。制御処理部１２２は、後述する記憶部、演算
部及び制御部を内蔵したマイクロコンピュータである。
１１５は、Ｘ線光学系１１６により結像されて被照射物
１１７上に照射される。このとき、照射されるＸ線の一
部は開口付きＸ線検出器（Ｘ線量検出部の一例）１１８
により検出され、その出力信号は制御処理部１２２に伝
えられる。制御処理部１２２は、後述する記憶部、演算
部及び制御部を内蔵したマイクロコンピュータである。
【００２９】Ｘ線検出器１１８の出力と被照射物１１７
上へ照射されるＸ線量は予め較正されており、Ｘ線検出
器１１８の出力信号から被照射物１１７上への照射Ｘ線
量を知ることができるようになっている。Ｘ線検出器１
１８の出力信号は、前記演算部の積算器により積算され
るとともに、１ショットあたりの平均Ｘ線量が演算部に
より求められて前記記憶部に記憶される。また、記憶部
には予め、パルスレーザーの出力エネルギー値と、Ｑス
イッチ（例えば、ポッケルスセルなど）１０２の作動指
示信号及びレーザー媒質の励起開始信号の時間差との相
関データと、前記エネルギー値もしくは前記時間差と照
射Ｘ線量の相関データが記憶されている。
上へ照射されるＸ線量は予め較正されており、Ｘ線検出
器１１８の出力信号から被照射物１１７上への照射Ｘ線
量を知ることができるようになっている。Ｘ線検出器１
１８の出力信号は、前記演算部の積算器により積算され
るとともに、１ショットあたりの平均Ｘ線量が演算部に
より求められて前記記憶部に記憶される。また、記憶部
には予め、パルスレーザーの出力エネルギー値と、Ｑス
イッチ（例えば、ポッケルスセルなど）１０２の作動指
示信号及びレーザー媒質の励起開始信号の時間差との相
関データと、前記エネルギー値もしくは前記時間差と照
射Ｘ線量の相関データが記憶されている。
【００３０】なお、前記レーザー媒質の励起開始信号
は、発振器段１０５及び増幅器段１０６のフラッシュラ
ンプのトリガー信号とした。積算器の積算値（被照射物
上に照射されたＸ線の積算露光量に相当）の設定値（設
定Ｘ線露光量）に対する差が前記１ショットあたりの平
均Ｘ線量よりも小さくなったとき、前記記憶部に記憶さ
れた相関データに基づいて、前記設定値と積算値の差に
等しいＸ線量となるように、前記信号の時間差をレーザ
ー装置１０１内に設けた遅延時間調整機構により調整す
ることで最終ショットにかかるパルスレーザーのエネル
ギー値を設定して照射する。
は、発振器段１０５及び増幅器段１０６のフラッシュラ
ンプのトリガー信号とした。積算器の積算値（被照射物
上に照射されたＸ線の積算露光量に相当）の設定値（設
定Ｘ線露光量）に対する差が前記１ショットあたりの平
均Ｘ線量よりも小さくなったとき、前記記憶部に記憶さ
れた相関データに基づいて、前記設定値と積算値の差に
等しいＸ線量となるように、前記信号の時間差をレーザ
ー装置１０１内に設けた遅延時間調整機構により調整す
ることで最終ショットにかかるパルスレーザーのエネル
ギー値を設定して照射する。
【００３１】この様にすることにより、被照射物への積
算Ｘ線照射量が、予め設定されたＸ線照射量に一致する
ように、或いは許容範囲内に納まるように、短時間にパ
ルスＸ線照射を行うことができる。さらに、レーザー光
１０８の一部をビームスプリッター１０９によりレーザ
ーエネルギー測定器（ビーム強度検出部の一例）１１０
に入射させ、レーザーエネルギーをモニターすることに
より、先に述べたように、光学素子の汚れによる相関デ
ータの変化を補正しながら露光を行うことができる。
算Ｘ線照射量が、予め設定されたＸ線照射量に一致する
ように、或いは許容範囲内に納まるように、短時間にパ
ルスＸ線照射を行うことができる。さらに、レーザー光
１０８の一部をビームスプリッター１０９によりレーザ
ーエネルギー測定器（ビーム強度検出部の一例）１１０
に入射させ、レーザーエネルギーをモニターすることに
より、先に述べたように、光学素子の汚れによる相関デ
ータの変化を補正しながら露光を行うことができる。
【００３２】また、照射Ｘ線の一部をモニターすること
ができない場合には、他の場所に置かれているＸ線検出
器の出力信号から推定しても良い。図１では、利用しよ
うとするＸ線１１５及びプラズマ１１４に対して対称な
位置に透過型回折格子を用いた分光器を設置し、そのス
ペクトルを１次元検出器（Ｘ線量検出部の一例）１２１
により測定している。
ができない場合には、他の場所に置かれているＸ線検出
器の出力信号から推定しても良い。図１では、利用しよ
うとするＸ線１１５及びプラズマ１１４に対して対称な
位置に透過型回折格子を用いた分光器を設置し、そのス
ペクトルを１次元検出器（Ｘ線量検出部の一例）１２１
により測定している。
【００３３】ここで、１次元検出器１２１により検出さ
れたスペクトルのうち、Ｘ線光学系１１６で使用されて
いる波長域の信号と被照射物１１７に照射されているＸ
線量とを予め較正しておく。そして、１次元検出器１２
１で検出されたスペクトルを積算することにより、被照
射物１１７上に照射された積算露光量を知ることができ
る。
れたスペクトルのうち、Ｘ線光学系１１６で使用されて
いる波長域の信号と被照射物１１７に照射されているＸ
線量とを予め較正しておく。そして、１次元検出器１２
１で検出されたスペクトルを積算することにより、被照
射物１１７上に照射された積算露光量を知ることができ
る。
【００３４】プラズマから輻射されるＸ線量及びスペク
トルの角度分布は、プラズマに対して対称と考えられる
ので、この様な位置で観察することにより、照射Ｘ線と
同じ強度及びスペクトルをモニターできる。本実施例で
は、パルス励起エネルギービームの発生源としてフラッ
シュランプ励起Ｑ−スイッチＹＡＧレーザー装置を用い
たが、レーザーダイオード励起の固体レーザー装置を用
いても良い。
トルの角度分布は、プラズマに対して対称と考えられる
ので、この様な位置で観察することにより、照射Ｘ線と
同じ強度及びスペクトルをモニターできる。本実施例で
は、パルス励起エネルギービームの発生源としてフラッ
シュランプ励起Ｑ−スイッチＹＡＧレーザー装置を用い
たが、レーザーダイオード励起の固体レーザー装置を用
いても良い。
【００３５】また、パルス励起エネルギービームの発生
源として放電励起型のレーザー装置を用いてもよく、こ
の場合には、レーザーエネルギーを調整する機構（ビー
ム強度調整部の一例）として、励起エネルギー蓄積キャ
パシターの充電電圧を調整する充電電圧調整機構とすれ
ばよい。また、レーザーエネルギーを調整する機構を前
記レーザーの光路中に設けた透過率可変のフィルターに
よる調整機構としてもよい。
源として放電励起型のレーザー装置を用いてもよく、こ
の場合には、レーザーエネルギーを調整する機構（ビー
ム強度調整部の一例）として、励起エネルギー蓄積キャ
パシターの充電電圧を調整する充電電圧調整機構とすれ
ばよい。また、レーザーエネルギーを調整する機構を前
記レーザーの光路中に設けた透過率可変のフィルターに
よる調整機構としてもよい。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
試料やレジストなどの被照射物への積算Ｘ線照射量が、
予め設定されたＸ線照射量に一致するように、或いは許
容範囲内に納まるように、短時間にパルスＸ線照射を行
うことができる。
試料やレジストなどの被照射物への積算Ｘ線照射量が、
予め設定されたＸ線照射量に一致するように、或いは許
容範囲内に納まるように、短時間にパルスＸ線照射を行
うことができる。
【図１】は、実施例のＸ線照射装置の概略構成ブロック
図である。
図である。
１０１…Ｑ−スイッチＹＡＧレーザー装置（パルス励起
エネルギービーム発生源の一例） １０２…Ｑ−スイッチ（ポッケルスセル） １０３，１０４…レーザー媒質（ＹＡＧロッド） １０５…発振器段 １０６…増幅器段 １０７…ミラー １０８…レーザー光（励起エネルギービームの一例） １０９…ビームスプリッター １１０…レーザーエネルギー測定器（ビーム強度検出部
の一例） １１１…レンズ １１２…真空容器 １１３…標的部材 １１４…プラズマ １１５…利用する（取り出す）Ｘ線 １１６…Ｘ線光学系 １１７…被照射物 １１８…Ｘ線検出器（Ｘ線量検出部の一例） １１９…スリット １２０…透過型回折格子 １２１…１次元検出器（Ｘ線量検出部の一例） １２２…制御処理装置（制御部の一例） 以上
エネルギービーム発生源の一例） １０２…Ｑ−スイッチ（ポッケルスセル） １０３，１０４…レーザー媒質（ＹＡＧロッド） １０５…発振器段 １０６…増幅器段 １０７…ミラー １０８…レーザー光（励起エネルギービームの一例） １０９…ビームスプリッター １１０…レーザーエネルギー測定器（ビーム強度検出部
の一例） １１１…レンズ １１２…真空容器 １１３…標的部材 １１４…プラズマ １１５…利用する（取り出す）Ｘ線 １１６…Ｘ線光学系 １１７…被照射物 １１８…Ｘ線検出器（Ｘ線量検出部の一例） １１９…スリット １２０…透過型回折格子 １２１…１次元検出器（Ｘ線量検出部の一例） １２２…制御処理装置（制御部の一例） 以上
Claims (10)
- 【請求項１】 減圧された真空容器内の標的部材にパル
ス励起エネルギービームを照射してプラズマを形成さ
せ、該プラズマからＸ線を取り出して被照射物に照射す
るパルスＸ線照射装置において、 前記被照射物上の被照射領域内に照射された前記Ｘ線の
量を検出するか、或いは推定するＸ線量検出部と、 該Ｘ線量検出部により検出または推定されたＸ線量、そ
の積算量及び前記被照射物に照射すべきＸ線量の設定値
を記憶する記憶部と、 前記検出または推定されたＸ線量を積算すると共に、そ
の積算量を前記Ｘ線量設定値と比較する演算部と、 前記パルス励起エネルギービームの強度を変化させるビ
ーム強度調整部と、 前記Ｘ線量検出部、記憶部、演算部、及びビーム強度調
整部の動作を制御する制御部と、を具備したことを特徴
とするパルスＸ線照射装置。 - 【請求項２】 減圧された真空容器内の標的部材にパル
ス励起エネルギービームを照射してプラズマを形成さ
せ、該プラズマからＸ線を取り出して被照射物に照射す
るパルスＸ線照射装置において、 前記被照射物上の被照射領域内に照射された前記Ｘ線の
量を検出するか、或いは推定するＸ線量検出部と、 該Ｘ線量検出部により検出または推定されたＸ線量、そ
の積算量及び前記被照射物に照射すべきＸ線量の設定値
を記憶する記憶部と、 前記検出または推定されたＸ線量を積算すると共に、そ
の積算量を前記Ｘ線量設定値と比較する演算部と、 前記パルス励起エネルギービームの強度を検出するか、
或いは推定するビーム強度検出部と、 前記パルス励起エネルギービームの強度を変化させるビ
ーム強度調整部と、 前記Ｘ線量検出部、記憶部、演算部、ビーム強度検出
部、及びビーム強度調整部の動作を制御する制御部と、
を具備した事を特徴とするパルスＸ線照射装置。 - 【請求項３】 前記ビーム強度調整部を前記パルス励起
エネルギービームの光路中に設けた透過率可変のフィル
ターによる調整機構としたことを特徴とする請求項１ま
たは２記載のパルスＸ線照射装置。 - 【請求項４】 前記パルス励起エネルギービームの発生
源をＱスイッチレーザー装置とし、かつ、前記ビーム強
度調整部を該Ｑスイッチレーザー装置の発振器内に設置
されたＱスイッチの、Ｑスイッチ作動指示信号とレーザ
ー媒質の励起開始信号との時間差を調整する遅延時間調
整機構としたことを特徴とする請求項１または２記載の
パルスＸ線照射装置。 - 【請求項５】 前記レーザー媒質の励起開始信号が前記
Ｑスイッチレーザー装置に設けた発振器内のレーザー媒
質の励起を開始する信号であることを特徴とする請求項
４記載のパルスＸ線照射装置。 - 【請求項６】 前記レーザー媒質の励起開始信号が前記
Ｑスイッチレーザー装置に設けた増幅器内のレーザー媒
質の励起を開始する信号であることを特徴とする請求項
４記載のパルスＸ線照射装置。 - 【請求項７】 前記パルス励起エネルギービームの発生
源を放電励起レーザー装置とし、かつ、前記ビーム強度
調整部を該放電励起レーザー装置のエネルギー蓄積キャ
パシターの充電電圧を調整する充電電圧調整機構とした
ことを特徴とする請求項１または２記載のパルスＸ線照
射装置。 - 【請求項８】 前記演算部は、前記記憶部に記憶された
Ｘ線量及びその積算量に基づいて、それまでの所定期間
内における１ショットあたりの平均Ｘ線量を算出し、ま
た前記記憶部は、その平均Ｘ線量を記憶することを特徴
とする請求項１〜７記載のパルスＸ線照射装置。 - 【請求項９】 前記記憶部は、前記パルス励起エネルギ
ービームの強度と前記ビーム強度調整部の調整機構にか
かる調整量との相関データ、及び前記ビームの強度もし
くは前記調整量と前記照射Ｘ線量との相関データを記憶
することを特徴とする請求項１〜８記載のパルスＸ線照
射装置。 - 【請求項10】 前記制御部は、前記被照射物に照射すべ
きＸ線量の設定値と前記被照射物への照射Ｘ線積算量と
の差がそれまでの所定期間内における１ショットあたり
の平均Ｘ線照射量よりも小さくなったときに、前記ビー
ム強度調整部の調整機構を動作させて、次のショットに
おける照射Ｘ線量が前記差と等しくなるように、前記パ
ルス励起エネルギービームの強度を設定することを特徴
とする請求項１〜９記載のパルスＸ線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34348295A JP3775840B2 (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | パルスｘ線照射装置、ｘ線縮小露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34348295A JP3775840B2 (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | パルスｘ線照射装置、ｘ線縮小露光装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004198739A Division JP3941801B2 (ja) | 2004-07-06 | 2004-07-06 | パルス状のｘ線を照射する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09184900A true JPH09184900A (ja) | 1997-07-15 |
| JP3775840B2 JP3775840B2 (ja) | 2006-05-17 |
Family
ID=18361868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34348295A Expired - Lifetime JP3775840B2 (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | パルスｘ線照射装置、ｘ線縮小露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3775840B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003096763A1 (en) * | 2002-05-09 | 2003-11-20 | Hamamatsu Photonics K.K. | X-ray generator |
| JP2004006336A (ja) * | 2002-04-30 | 2004-01-08 | Xtreme Technologies Gmbh | パルス駆動されるガス放電連関式の放射線源における放射線出力を安定化するための方法 |
| US6891927B2 (en) | 2002-06-24 | 2005-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Light generation apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| JP2006128157A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム |
| WO2006126444A1 (ja) | 2005-05-23 | 2006-11-30 | Nikon Corporation | センサの校正方法、露光方法、露光装置、デバイス製造方法、および反射型マスク |
| JP2010045354A (ja) * | 2008-08-14 | 2010-02-25 | Asml Netherlands Bv | 放射源、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 |
| JP2011014913A (ja) * | 2010-07-16 | 2011-01-20 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム |
| JP2012216768A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-08 | Gigaphoton Inc | レーザシステム、極端紫外光生成システム、およびレーザ光生成方法 |
| US10224686B2 (en) | 2014-07-01 | 2019-03-05 | Gigaphoton Inc. | Laser apparatus, EUV light generation system, and method of controlling laser apparatus |
| JP2019537045A (ja) * | 2016-11-04 | 2019-12-19 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 可変幅レーザパルスを使用したドーズ量制御及びレーザ安定化を伴うｅｕｖ ｌｐｐ源 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5765730B2 (ja) | 2010-03-11 | 2015-08-19 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成装置 |
-
1995
- 1995-12-28 JP JP34348295A patent/JP3775840B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004006336A (ja) * | 2002-04-30 | 2004-01-08 | Xtreme Technologies Gmbh | パルス駆動されるガス放電連関式の放射線源における放射線出力を安定化するための方法 |
| CN100342758C (zh) * | 2002-05-09 | 2007-10-10 | 浜松光子学株式会社 | X射线发生装置 |
| WO2003096763A1 (en) * | 2002-05-09 | 2003-11-20 | Hamamatsu Photonics K.K. | X-ray generator |
| US7298826B2 (en) | 2002-05-09 | 2007-11-20 | Hamamatsu Photonics K.K. | X-ray generator |
| US6891927B2 (en) | 2002-06-24 | 2005-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Light generation apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| JP2006128157A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム |
| WO2006126444A1 (ja) | 2005-05-23 | 2006-11-30 | Nikon Corporation | センサの校正方法、露光方法、露光装置、デバイス製造方法、および反射型マスク |
| JP2010045354A (ja) * | 2008-08-14 | 2010-02-25 | Asml Netherlands Bv | 放射源、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 |
| US9414477B2 (en) | 2008-08-14 | 2016-08-09 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2011014913A (ja) * | 2010-07-16 | 2011-01-20 | Komatsu Ltd | 極端紫外光源装置用ドライバレーザシステム |
| JP2012216768A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-08 | Gigaphoton Inc | レーザシステム、極端紫外光生成システム、およびレーザ光生成方法 |
| US10224686B2 (en) | 2014-07-01 | 2019-03-05 | Gigaphoton Inc. | Laser apparatus, EUV light generation system, and method of controlling laser apparatus |
| JP2019537045A (ja) * | 2016-11-04 | 2019-12-19 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 可変幅レーザパルスを使用したドーズ量制御及びレーザ安定化を伴うｅｕｖ ｌｐｐ源 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3775840B2 (ja) | 2006-05-17 |
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