JP2000195016A

JP2000195016A - 薄膜磁気ヘッド

Info

Publication number: JP2000195016A
Application number: JP10368039A
Authority: JP
Inventors: Kenji Honda; 賢治本田
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1998-12-24
Filing date: 1998-12-24
Publication date: 2000-07-14
Also published as: US6563674B1

Abstract

(57)【要約】【課題】磁気記録再生装置の磁気ディスクに設けられ
た一対の薄膜磁気ヘッドにおいて、容易に引き出し線の
形状パターンを変更でき、特性が安定した薄膜磁気ヘッ
ドを提供する。【解決手段】磁気ディスク１を挟んで相対向して配設
された、一対のスライダ３ａ及び３ｂにおいて、コイル
Ｃａ及びＣｂの外周端と引き出し線６ａ１及び６ｂ１と
の接続部を、書き込みギャップＧと反対側に位置させ
る。また、一端がＭＲ素子（図示せず）の導電層Ｅａ２
及びＥｂ２と接続され、他端が他の導電層の端部に近接
された位置に置かれて引き出し線６ａ４及び６ｂ４と接
続された中間接続線８ａ及び８ｂを設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録再生装置
等に用いられる薄膜磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】図５は、従来の薄膜磁気ヘッドを用いた
磁気記録再生装置の説明図であり、同図Ａは磁気記録再
生装置の要部断面図であり、同図Ｂは、スライダの斜視
図である。また、図６〜図１０は、従来の薄膜磁気ヘッ
ドに使用されるスライダのトレーリング側端面の概略平
面図である。

【０００３】ハードディスク装置等の磁気記録再生録装
置においては、図５Ａに示すように、円盤状で薄い複数
枚の磁気ディスク５１は、間隔を置いて積層されて設け
られており、各磁気ディスク５１の上下には、その磁気
ディスク５１を挟んで２つ一組で対向された状態で磁気
ヘッドＨが設けられている。

【０００４】図５Ａ及び図５Ｂに示すように、磁気ヘッ
ドＨは、板バネ材料やフレキシブル回路基板等により構
成された支持部材５２と、その先端に取り付けられた２
つのスライダ（上側のスライダ５３ａ及び下側のスライ
ダ５３ｂ）とを有している。スライダ５３ａ、５３ｂ
は、アルミナ・チタンカーバイド（Ａｌ₂Ｏ₃・ＴｉＣ）
等のセラミックス材からなる。図５Ｂに例示したのは、
断面凹字状とされたいわゆる２レールのスライダ（下側
のスライダ５３ｂ）である。スライダ５３ａ及び５３ｂ
の各々のトレーリング側端面Ｔａ及びＴｂにはそれぞ
れ、薄膜からなるヘッド素子５４ａ及び５４ｂと、外部
の処理回路（図示せず）との接続端子となる４つのボン
ディングパッド５５ａ１、〜５５ａ４及び５５ｂ１〜５
５ｂ４とが並設されている。

【０００５】ヘッド素子５４ａ及び５４ｂは、読み出し
用の磁気抵抗効果（Magneto Resistive）型磁気ヘッド
（以下、ＭＲヘッドと称す）と、その上に積層された書
き込み用の誘導型磁気ヘッド（以下、インダクティブヘ
ッドと称す）とからなる、いわゆる複合型薄膜磁気ヘッ
ドである。図６に示すように、ＭＲヘッドは、ＭＲ素子
（図示せず）と、ＭＲ素子（図示せず）の両端部に接続
された導電層Ｅａ１、Ｅａ２及びＥｂ１、Ｅｂ２とを有
している。尚、ボンディングパッド５５ａ４及び５５ｂ
４側の導電層を、それぞれＥａ１及びＥｂ１とする。ま
た、インダクティブヘッドは、ニッケル（Ｎｉ）及び銅
（Ｃｕ）等の低抵抗導電性材料からなる、絶縁層（図示
せず）に覆われた平面螺旋状のコイルＣａ及びＣｂを有
する。

【０００６】また、それぞれのスライダ５３ａ及び５３
ｂにおいて、４本の引き出し線５６ａ１〜５６ａ４及び
５６ｂ１〜５６ｂ４は、それぞれニッケル（Ｎｉ）及び
銅（Ｃｕ）等の低抵抗導電性材料からなり、図６に示し
たように、ヘッド素子５４ａ及び５４ｂ側方のトレーリ
ング側端面Ｔａ及びＴｂに設けられている。引き出し線
５６ａ１及び５６ｂ１は、それらの一端がコイルＣａ及
びＣｂの中央端と、コイルＣａ及びＣｂを跨ぐようにし
て絶縁層（図示せず）上に設けられた上部接続線５７ａ
及び５７ｂにより接続されている。また、引き出し線５
６ａ２及び５６ｂ２は、それぞれの一端がボンディング
パッド５５ａ４及び５５ｂ４側の側部に位置するコイル
Ｃａ及びＣｂの外周端と連続して接続されている。ま
た、引き出し線５６ａ３及び５６ｂ３は、それぞれの一
端がボンディングパッド５５ａ４及び５５ｂ４側の導電
層Ｅａ１及びＥｂ１と、引き出し線５６ａ４及び５６ｂ
４は、他方の導電層Ｅａ２及びＥｂ２と、それぞれコン
タクトホール（図示せず）を介して接続されている。ま
た、４本の引き出し線５６ａ１〜５６ａ４及び５６ｂ１
〜５６ｂ４の他端は、それぞれの上層に設けられたボン
ディングパッド５５ａ１〜５５ａ４及び５５ｂ１〜５５
ｂ４に接続されている。また、ボンディングパッド５５
ａ１〜５５ａ４及び５５ｂ１〜５５ｂ４には、それぞれ
金の細線からなるワイヤ（図示せず）等が取り付けら
れ、外部に設けられた処理回路（図示せず）と接続され
ており、ボンディングパッド５５ａ１、５５ａ２及び５
５ｂ１、５５ｂ２からは、インダクティブヘッドによる
書き込み用の信号電流が供給され、ボンディングパッド
５５ａ３、５５ｄａ４及び５５ｂ３、５５ｂ４からは、
ＭＲヘッドによる読み出し用の電流（センス電流）が供
給される。

【０００７】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を以下に
説明する。まず、スライダ５３ａ及び５３ｂのトレーリ
ング側端面Ｔａ及びＴｂに形成されたＭＲヘッド上に、
Ｎｉ−Ｆｅ系合金（パーマロイ）からなる下部コア層
（上部シールド層；図示せず）、非磁性材料層（図示せ
ず）、第１の絶縁層（図示せず）を順次積層する。次
に、フォトリソグラフィ及びメッキにより、第１の絶縁
層（図示せず）の上に銅等を用いてコイルＣａ及びＣｂ
を形成する。また、同じ工程で、引き出し線５６ａ１〜
５６ａ４及び５６ｂ１〜５６ｂ４を同じ層に形成する。
尚、引き出し線５６ａ１及び５６ｂ１は、コイルＣａ及
びＣｂの側部に位置する外周端と連続して形成される。
また、引き出し線５６ａ３、５６ａ４及び５６ｂ３、５
６ｂ４は、予め設けてあったコンタクトホール（図示せ
ず）により、ＭＲ素子（図示せず）に接続されている２
つの導電層Ｅａ１、Ｅａ２及びＥｂ１、Ｅｂ２にそれぞ
れ接続される。また、引き出し線５６ａ２及び５６ｂ２
の一端部は、コイルＣａ及びＣｂの側部に位置するよう
に設けられている。

【０００８】次に、コイルＣａ及びＣｂを覆うように、
有機樹脂材料等を塗布して第２の絶縁層（図示せず）を
フォトリソグラフィにより形成する。尚、第２の絶縁層
には、コイルＣａ及びＣｂの中央端へのコンタクトホー
ル（図示せず）を設けておく。引き続き、第２の絶縁層
（図示せず）の上に、Ｎｉ−Ｆｅ系合金（パーマロイ）
等を用いて、フレームメッキ法により上部コア層（図示
せず）を形成すると共に、同じ工程で引き出し線５６ａ
１及び５６ｂ１の一端部とコイルＣａ及びＣｂの中央端
とを、コンタクトホール（図示せず）を介して接続し、
コイルＣａ及びＣｂを跨ぐように上部接続線５７ａ及び
５７ｂを形成する。尚、引き出し線５６ａ１〜５６ａ４
及び５６ｂ１〜５６ｂ４の他端には、上部コア層（図示
せず）の高さを超えるように後の工程で形成するボンデ
ィングパッド５５ａ１〜５５ａ４及び５５ｂ１〜５５ｂ
４との接続部材となるバンプ（図示せず）を形成してお
く。

【０００９】次に、上部コア層（図示せず）、引き出し
線５６ａ１〜５６ａ４及び５６ｂ１〜５６ｂ４等の上層
を覆うように、アルミナ等からなる保護層（図示せず）
をスパッタにより形成する。そして、保護層（図示せ
ず）下にあるバンプ（図示せず）が研磨されて一部が露
出するまで表面を研磨し、露出したバンプ（図示せず）
上に金からなるボンディングパッド５５ａ１〜５５ａ４
及び５５ｂ１〜５５ｂ４をメッキにより形成して、スラ
イダ５３ａ及び５３ｂが完成する。このスライダ５３ａ
及び５３ｂを支持部材５２に取り付け、処理回路に接続
されるフレキシブル回路基板（図示せず）とボンディン
グパッド５５ａ１〜５５ａ４及び５５ｂ１〜５５ｂ４と
を、金の細線からなるワイヤ（図示せず）等により接続
し、磁気ヘッドＨが得られる。

【００１０】磁気ヘッドＨは、磁気ディスク５１の両面
に効率よく記録するため、対向する２つのヘッド素子５
４ａ及び５４ｂの位置が同じになるようにされた、図６
に示したような２種類のスライダ５３ａ、５３ｂが準備
される。一般的に、２種類のスライダ５３ａ、５３ｂ
は、引き出し線５６ａ１〜５６ａ４及び５６ｂ１〜５６
ｂ４の形状パターン及びコイルＣａ及びＣｂの巻回方向
等が鏡像関係の対称にされた、「ミラーパターン」が用
いられている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】従来のハードディスク
装置等の磁気記録装置においては、それぞれの磁気ヘッ
ドＨでの書き込み信号及び読み出し信号は、フレキシブ
ル回路基板（図示せず）で個別に接続された、アナログ
処理回路で処理されていた。その際に、ボンディングパ
ッド５５ａ１〜５５ａ４及び５５ｂ１〜５５ｂ４のそれ
ぞれの電極の極性を考慮する必要がない場合には、図６
に示したように、対向する２つのスライダ５３ａ、５３
ｂにおいて、上述の「ミラーパターン」を適用すること
による問題は生じていなかった。

【００１２】近時、磁気記録再生装置においては、信号
処理の確実性を増すために、従来の各磁気ヘッドＨにそ
れぞれ接続されていた複数のアナログ処理回路での処理
に代わり、複数の磁気ヘッドＨからの信号を１つのデジ
タル処理回路によって処理する手段が採られるようにな
っている。併せて、デジタル処理回路と接続する上での
制約等からボンディングパッド５５ａ１〜５５ａ４及び
５５ｂ１〜５５ｂ４における電極の極性が決定されるよ
うになっている。さらに、磁気記録信号の書き込み時
に、コイルＣａ及びＣｂにおいて書き込み電流Ｉｗが流
れる方向、及び導電層Ｅａ１、Ｅａ２及びＥｂ１、Ｅｂ
２を通ってＭＲ素子（図示せず）を流れる読み出し（セ
ンス）電流Ｉｓの流れる方向を、上下で同じ方向にする
場合も生じている。

【００１３】このような中で、これまでの「ミラーパタ
ーン」のスライダ５３ａ、５３ｂを用いると、例えば、
ボンディングパッド５５ａ１、５５ａ２及び５５ｂ１及
び５５ｂ２における極性が、図７（簡単のためインダク
ティブヘッド部分のみを表示）に示すように非対称とな
るように決定された場合には、磁気ディスク５１に対す
る書き込み電流Ｉｗが流れる方向が逆となり、信号処理
の確実性を向上させることができない。

【００１４】この問題を解決する手段として、従来のよ
うに「ミラーパターン」としてコイルＣａ及びＣｂの巻
回方向を逆向きだったものを、図８に示すように、非対
称としてコイルＣａ及びＣｂの巻回方向を同一にするこ
とである。この手段に依れば、書き込み電流Ｉｗが流れ
る方向を同じにすることができる。しかし、コイルＣｂ
の外周端と引き出し線５６ｂ２との接続点を、ボンディ
ングパッド５５ｂ４側の側方とすると、コイルＣｂの巻
き数、即ち全長がコイルＣａと異なり、２つのコイルＣ
ａ及びＣｂにおけるインダクタンス等の特性に差が生
じ、確実な信号処理が実現できない。

【００１５】また、２つのコイルＣａ及びＣｂにおける
巻き数を同じとすると、図９に示すように、コイルＣｂ
の外周端と引き出し線５６ｂ２との接続点は、ボンディ
ングパッド５５ｂ４側と対向する側になり、引き出し線
５６ｂ２の形状パターンを大きく引き回さなければなら
なくなる。しかし、このようにすると、上側のスライダ
５３ａと下側のスライダ５３ｂとで引き出し線の全長が
異なり、それらの抵抗の差が原因となって信号の強さや
同期性にずれが生じ、書き込みエラーが発生しやすくな
る。

【００１６】また、センス電流Ｉｓに関しては、ＭＲ素
子（図示せず）の着磁方向に依存し、例えば、その着磁
方向が左から右へ向いており、図１０に示すようにボン
ディングパッド５５ａ３、５５ａ４及び５５ｂ３、５５
ｂ４の極性が非対称に決定されたとすると、センス電流
Ｉｓもトラック幅方向の左から右へ流す必要があるた
め、下側のスライダ５３ｂのボンディングパッド５５ｂ
３及び５５ｂ４の形状パターンを変更して引き回す必要
がある。この理由は、引き出し線５６ｂ３及び５６ｂ４
が同じ層に形成されており、且つそれらの間には引き出
し線５６ｂ１及び５６ｂ２が介在しているため、引き出
し線５６ｂ３又は５６ｂ４を引き回して接続することが
事実上出来ないことによる。しかし、このようにボンデ
ィングパッド５５ｂ３及び５５ｂ４を複雑に引き回す
と、それらの形状パターンを微小なスライダ５３ａｂの
トレーリング側端面Ｔｂに形成するのが煩雑且つ困難と
なるばかりでなく、ボンディングパッド５５ｂ３及び５
５ｂ４と引き出し線５６ｂ３及び５６ｂ４を合わせた配
線の長さが、上側のスライダ５３ａと下側のスライダ５
３ｂとで異なり、配線抵抗の差が原因となって２つのス
ライダ５３ａ及び５３ｂの間で信号の強さ等ずれが生
じ、エラーが発生しやすくなる。

【００１７】このように、一対の磁気ヘッドにおいて、
所望の書き込み電流及び読み出し電流の方向や、所望の
ボンディングパッドに接続される各電流の極性に対応す
る場合、従来の薄膜磁気ヘッドでは、コイルの巻回方向
やＭＲ素子の着磁方向に依存して、引き出し線やボンデ
ィングパッドの形状パターンを工夫して対応していた
が、上述のように配線の長さが異なるために抵抗の差が
生じて、デジタル処理回路に対応する事が十分にできな
かった。また、所望の書き込み電流及び読み出し電流の
方向や、所望のボンディングパッドに接続される各電流
の極性に対応するために、引き出し線やボンディングパ
ッドを形成する際の、フォトリソグラフィのマスクパタ
ーンを多数準備しなければならず、コスト上昇に繋がっ
ていた。

【００１８】本発明が解決しようとする課題は、磁気記
録再生装置の磁気ディスクに設けられた一対の薄膜磁気
ヘッドにおいて、容易に引き出し線の形状パターンを変
更でき、特性が安定した薄膜磁気ヘッドを提供すること
である。

【００１９】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の第１の解決手段として、本発明の薄膜磁気ヘッドは、
下部コア層とコイルと上部コア層とを有する書き込み用
の誘導型磁気ヘッドを備え、前記コイルの中央端と接続
された第１の引き出し線と、書き込みギャップと反対側
に位置する前記コイルの外周端に接続された第２の引き
出し線とを有する構成とした。

【００２０】また、第２の解決手段として、本発明の薄
膜磁気ヘッドは、磁気抵抗効果素子と、該磁気抵抗効果
素子の両端にそれぞれ接続された２つの導電層とを有す
る読み出し用の磁気抵抗効果型磁気ヘッドを備え、一端
が一方の前記導電層と接続配置され、他端が他方の前記
導電層に近接させた中間接続線を有し、該中間接続線の
他端に接続された引き出し線と、他方の前記導電層に接
続させた引き出し線との間に電流を流すようにした構成
とした。

【００２１】また、第３の解決手段として、本発明の薄
膜磁気ヘッドは、磁気抵抗効果素子と、該磁気抵抗効果
素子の両端にそれぞれ接続配置された２つの導電層とを
有する読み出し用の磁気抵抗効果型磁気ヘッドと、下部
コア層とコイルと上部コア層とを有し、前記磁気抵抗効
果型磁気ヘッドの上方に積層された書き込み用の誘導型
磁気ヘッドとを備え、前記コイルの中央端と接続された
第１の引き出し線と、書き込みギャップと反対側に位置
する前記コイルの外周端に接続された第２の引き出し線
と、一端が一方の前記導電層と接続配置され、他端が他
方の前記導電層に近接させ、前記第１及び第２の引き出
し線と異なる層に設けられた中間接続線と、該中間接続
線の他端に接続された第３の引き出し線と、他方の前記
導電層に接続させた第４の引き出し線とを有する構成と
した。

【００２２】また、第４の解決手段として、本発明の薄
膜磁気ヘッドは、１つの磁気記録媒体を挟んで相対向し
て配設された一対の薄膜磁気ヘッドが、前記薄膜磁気ヘ
ッドである構成とした。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の薄膜磁気ヘッド
の実施の形態について説明する。図１は、本発明の薄膜
磁気ヘッドに使用される２レールタイプのスライダのト
レーリング側端面の概略平面図である。また、図２は、
本発明の薄膜磁気ヘッドに使用される２レールタイプの
スライダの製造方法を説明するための工程図である。ま
た、図３は、本発明の薄膜磁気ヘッドに使用される２レ
ールタイプのスライダのトレーリング側端面の概略平面
図である。また、図４は、本発明の薄膜磁気ヘッドに使
用される３レールタイプのスライダのトレーリング側端
面の概略平面図である。

【００２４】従来の薄膜磁気ヘッドと同様に、ハードデ
ィスク装置等の磁気記録再生装置の、間隔を置いて積層
された円盤状で薄い複数枚の磁気ディスク１の上下に、
２つ一組で対向された磁気ヘッドは、板バネ材料やフレ
キシブル回路基板等により構成された支持部材（図示せ
ず）の先端に２つのスライダ（上側のスライダ３ａ及び
下側のスライダ３ｂ）が取り付けられてなる。スライダ
３ａ及び３ｂの各々のトレーリング側端面Ｔａ及びＴｂ
には、図１に示すように、薄膜からなるヘッド素子４ａ
及び４ｂと、外部の処理回路（図示せず）との接続端子
となる４つのボンディングパッド５ａ１〜５ａ４及び５
ｂ１〜５ｂ４とが並設されている。

【００２５】ヘッド素子４ａ及び４ｂは、読み出し用の
ＭＲヘッドと、その上に積層された書き込み用のインダ
クティブヘッドとからなる、いわゆる複合型薄膜磁気ヘ
ッドである。ＭＲヘッドは、ＭＲ素子（図示せず）と、
ＭＲ素子（図示せず）の両端部に接続された導電層Ｅａ
１、Ｅａ２及びＥｂ１、Ｅｂ２とを有している。尚、ボ
ンディングパッド５ａ４及び５ｂ４側の導電層を、それ
ぞれＥａ１及びＥｂ１とする。また、インダクティブヘ
ッドは、Ｎｉ及びＣｕ等の低抵抗導電性材料からなる、
絶縁層（図示せず）に覆われた平面螺旋状のコイルＣａ
及びＣｂを有する。

【００２６】また、それぞれのスライダ３ａ及び３ｂに
おいて、４本の引き出し線６ａ１〜６ａ４及び６ｂ１〜
６ｂ４は、それぞれＮｉ及びＣｕ等の低抵抗導電性材料
からなり、ヘッド素子４ａ及び４ｂ側方のトレーリング
側端面Ｔａ及びＴｂに設けられている。引き出し線６ａ
１及び６ｂ１は、その一端が磁気ディスク１に対面した
書き込みギャップＧの反対側に位置された、コイルＣａ
及びＣｂの外周端と連続して接続されている。また、引
き出し線６ａ２及び６ｂ２は、それぞれの一端がコイル
Ｃａ及びＣｂの中央端と、コイルＣａ及びＣｂを跨ぐよ
うにして絶縁層（図示せず）上に設けられた上部接続線
７ａ及び７ｂにより接続されている。また、引き出し線
６ａ３及び６ｂ３は、それぞれの一端がボンディングパ
ッド５ａ４及び５ｂ４側の導電層Ｅａ１及びＥｂ１と、
コンタクトホール（図示せず）を介して接続されてい
る。また、中間接続線８ａ及び８ｂは、一端が他方の導
電層Ｅａ２及びＥｂ２に接続され、コイルＣａ及びＣｂ
の周囲を周回するようにして他端が導電層Ｅａ１及びＥ
ｂ１に近接させた位置におかれ、その他端には引き出し
線６ａ４及び６ｂ４の一端が、コンタクトホール（図示
せず）を介して接続されている。

【００２７】また、４本の引き出し線６ａ１〜６ａ４及
び６ｂ１〜６ｂ４の他端は、それぞれの上層に設けられ
た４つのボンディングパッド５ａ１〜５ａ４及び５ｂ１
〜５ｂ４に接続されている。また、ボンディングパッド
５ａ１〜５ａ４及び５ｂ１〜５ｂ４には、それぞれ金の
細線からなるワイヤ（図示せず）等が取り付けられ、外
部に設けられた処理回路（図示せず）と接続されてお
り、ボンディングパッド５ａ１、５ａ２及び５ｂ１、５
ｂ２からはインダクティブヘッドによる書き込み用の信
号電流が供給され、ボンディングパッド５ａ３、５ｄａ
４及び５ｂ３、５ｂ４からはＭＲヘッドによる読み出し
用の電流（センス電流）が供給される。

【００２８】次に、本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
について、図面を参照して説明する。尚、以下の図面で
は上側のスライダ３ａについて例示している。まず、図
２Ａに示すように、スライダ３ａ及び３ｂのトレーリン
グ側端面Ｔａ及びＴｂに形成されたＭＲ素子（図示せ
ず）の両端部に、導電層Ｅａ１、Ｅａ２及びＥｂ１、Ｅ
ｂ２等を形成してＭＲヘッドを形成する。次に、ＭＲヘ
ッド上に、Ｎｉ−Ｆｅ系合金からなる上部シールド層
（図示せず）をメッキにより形成する。この際、図２Ｂ
に示すように、同じ工程で中間接続線８ａ及び８ｂを形
成し、それらの一端は、コンタクトホール（図示せず）
を介して導電層Ｅａ２及びＥｂ２に接続し、他端は他方
の導電層Ｅａ１及びＥｂ１のそばに位置するように設け
る。次に、非磁性材料層（図示せず）、第１の絶縁層
（図示せず）を順次積層する。

【００２９】次に、図２Ｃに示すように、フォトリソグ
ラフィ及びメッキにより、第１の絶縁層（図示せず）の
上に銅等を用いてコイルＣａ及びＣｂを形成する。ま
た、同じ工程で、引き出し線６ａ１〜６ａ４及び６ｂ１
〜６ｂ４を同じ層に形成する。尚、引き出し線６ａ１及
び６ｂ１は、磁気ディスク１に対面した書き込みギャッ
プＧと反対側に位置する外周端に連続して形成する。ま
た、引き出し線６ａ２及び６ｂ２は、それぞれの一端が
コイルＣａ及びＣｂの外周端と引き出し線６ａ１及び６
ｂ１との接続部の側に位置するように設ける。また、引
き出し線６ａ３及び６ｂ３の一端は、非磁性材料層（図
示せず）及び第１の絶縁層（図示せず）に予め設けてあ
ったコンタクトホール（図示せず）により、ＭＲ素子
（図示せず）に接続されている導電層Ｅａ１及びＥｂ１
と接続する。また、引き出し線６ａ４及び６ｂ４の一端
は、引き出し線６ａ３及び６ｂ３と導電層Ｅａ２及びＥ
ｂ２との接続部の側に近接させて位置するように設けら
れた中間接続線８ａ及び８ｂと、非磁性材料層（図示せ
ず）及び第１の絶縁層（図示せず）に予め設けてあった
コンタクトホール（図示せず）により接続するように設
ける。

【００３０】次に、コイルＣａ及びＣｂ、中間接続線８
ａ及び８ｂ、引き出し線６ａ１〜６ａ４及び６ｂ１〜６
ｂ４（但し他端を除く領域）の上を覆うように、有機樹
脂材料等を塗布して第２の絶縁層（図示せず）を設け
る。尚、第２の絶縁層には、コイルＣａ及びＣｂの中央
端へのコンタクトホール（図示せず）を設けておく。引
き続き、第２の絶縁層（図示せず）の上に、Ｎｉ−Ｆｅ
系合金（パーマロイ）等を用いて、フレームメッキ法に
より上部コア層（図示せず）を形成する。この工程と同
時に、図２Ｄに示すように、引き出し線６ａ２及び６ｂ
２の一端部とコイルＣａ及びＣｂの中央端とを、第２の
絶縁層（図示せず）に設けたコンタクトホール（図示せ
ず）を介して接続するように、コイルＣａ及びＣｂ及び
中間接続線８ａ及び８ｂを跨ぐように上部接続線７ａ及
び７ｂを設ける。尚、引き出し線６ａ１〜６ａ４及び６
ｂ１〜６ｂ４の他端には、上部コア層（図示せず）の高
さを超えるように後の工程で形成するボンディングパッ
ド５ａ１〜５ａ４及び５ｂ１〜５ｂ４との接続部材とな
るバンプ（図示せず）を形成しておく。

【００３１】次に、上部コア層（図示せず）、引き出し
線６ａ１〜６ａ４及び６ｂ１〜６ｂ４等の上層を覆うよ
うに、アルミナ等からなる保護層（図示せず）をスパッ
タにより形成する。そして、保護層（図示せず）下にあ
るバンプ（図示せず）が研磨されて一部が露出するまで
表面を研磨し、露出したバンプ（図示せず）上に金から
なるボンディングパッド５ａ１〜５ａ４及び５ｂ１〜５
ｂ４をメッキにより形成する。最後に、研磨等により形
状を整えて、図１に示したようなスライダ３ａ及び３ｂ
が完成する。このスライダ３ａ及び３ｂを支持部材（図
示せず）に取り付け、処理回路に接続されるフレキシブ
ル回路基板（図示せず）とボンディングパッド５ａ１〜
５ａ４及び５ｂ１〜５ｂ４とを金の細線からなるワイヤ
（図示せず）等により接続し、磁気ヘッドが得られる。

【００３２】図１Ａに示した一対のスライダ３ａ及び３
ｂでは、それぞれが「ミラーパターン」の関係にあり、
磁気ディスク１側から書き込みギャップＧを臨んだ場合
に、ボンディングパッド５ａ１〜５ａ４等が右側に位置
する上側のスライダ３ａと、ボンディングパッド５ｂ１
〜５ｂ４等が左側に位置する下側のスライダ３ｂとで
は、コイルＣａ及びＣｂやＭＲ素子（即ち導電層Ｅａ
１、Ｅａ２及びＥｂ１、Ｅｂ２）からの引き出し線６ａ
１〜６ａ４及び６ｂ１〜６ｂ４の引き出し方向が異な
る。また、ボンディングパッド５ａ１〜５ａ４とボンデ
ィングパッド５ｂ１〜５ｂ４とにおいて、それぞれの書
き込み側のボンディングパッド６ａ１、６ａ２及び６ｂ
１、６ｂ２の極性、読み出し側のボンディングパッド６
ａ３、６ａ４及び６ｂ３、６ｂ４の極性がそれぞれ非対
称である場合、書き込み電流Ｉｗ及びセンス電流Ｉｓが
流れる方向は、スライダ３ａ及び３ｂで共に逆方向とな
る（この場合、ＭＲ素子（図示せず）の着磁方向も逆向
きである）。

【００３３】書き込み電流Ｉｗが流れる方向を同じにす
る必要が生じた場合には、図１Ｂに示すように、下側の
スライダ３ｂの巻回方向を反転してコイルＣｂの上側の
スライダ３ａのコイルＣａと逆方向として、同じ方向に
巻回されたものにするだけで対応できる。この時、上述
のようにコイルＣａ及びＣｂの外周端と引き出し線６ａ
１及び６ｂ１との接続部を、磁気ディスク１に対面した
書き込みギャップＧと反対側に設けたことで、上側のス
ライダ３ａの引き出し線６ａ１と６ａ２を合わせた配線
の長さが、下側のスライダ３ｂの引き出し線６ｂ１と６
ｂ２を合わせた配線の長さと略同じとなる。

【００３４】上述のように各引き出し線６ａ１〜６ａ４
の引き出し位置を規定しておくことで、インダクティブ
ヘッドと接続された各ボンディングパッド５ａ１、５ａ
２及び５ｂ１、５ｂ２の極性や、書き込み電流Ｉｗの方
向が種々規定されても、コイルＣａ及び／又はＣｂの巻
回方向を適宜反転するだけで、上下のスライダ３ａ及び
３ｂの間で配線長さを変えることなく、様々に対応する
ことができる。また、各配線の電気抵抗が同じとなり、
確実な信号処理や、統一された信号の強さが実現され
る。

【００３５】また、センス電流Ｉｓが流れる方向を同じ
にする必要が生じた場合には、それぞれのＭＲ素子（図
示せず）の着磁方向を同じにした上で、図１Ａでは導電
層Ｅｂ１に接続されていた引き出し線６ｂ３を図１Ｂで
は中間接続線８ｂに、逆に、図１Ａでは中間接続線８ｂ
に接続されていた引き出し線６ｂ４を図１Ｂでは導電層
Ｅｂ１にそれぞれ入れ替えて接続するだけで実現するこ
とができる。

【００３６】また、ボンディングパッド５ａ１〜５ａ４
及び５ｂ１〜５ｂ４等が設けられた側の反対側にある導
電層Ｅａ２及びＥｂ２と接続され、他の引き出し線の下
層をくぐるようにされた中間接続線８ａ及び８ｂを設け
て、その他端をもう一方の導電層Ｅａ１及びＥｂ１の側
に設けておくことで、ＭＲ素子（図示せず）の着磁方向
に依るセンス電流Ｉｓの方向やボンディングパッド５ａ
３、５ａ４及び５ｂ３、５ｂ４の極性が種々異なる場合
にも、図３Ａ及び図３Ｂに示したように、引き出し線６
ａ３、６ａ４及び６ｂ３、６ｂ４やボンディングパッド
５ａ３、５ａ４及び５ｂ３、５ｂ４を引き回すことなく
設けることができる。また、中間接続線８ａ及び８ｂの
他端まで、並びに導電層Ｅａ１及びＥａ２までの引き出
し線の形状パターンが上側のスライダ３ａと下側のスラ
イダ３ｂとで若干異なるものの、上側のスライダ３ａの
引き出し線６ａ３、６ａ４とボンディングパッド５ａ
３、５ａ４とを合わせた配線の長さと、下側のスライダ
３ｂの引き出し線６ｂ３、６ｂ４とボンディングパッド
５ｂ３、５ｂ４とを合わせた配線の長さは、略同じとす
ることができる。

【００３７】また、コイルＣａ及びＣｂの巻回方向や、
引き出し線６ａ１〜６ａ４及び６ｂ１〜６ｂ４の形状パ
ターンが変更された場合にも、それらをフォトリソグラ
フィで形成する際の露光マスクの形状パターンを変える
だけで済み、その他の工程が増えることもないので、安
価に且つ容易に製造することができる。また、中間接続
線８ａ及び８ｂは、下部コア層（図示せず）をメッキで
形成する際に同時に形成するので、工程を増やすことな
く容易に製造できる。

【００３８】尚、本実施の形態では、インダクティブヘ
ッドとＭＲヘッドとが積層された複合型の薄膜磁気ヘッ
ドについて説明したが、各ヘッドを別々に設けた薄膜磁
気ヘッド等の場合においても同様である。

【００３９】上述の実施の形態では、ヘッド素子がスラ
イダの各々のトレーリング側端面の端部に位置して配設
された、いわゆる２レールタイプのスライダについて説
明したが、ヘッド素子がトレーリング側端面の中央に位
置されて、両側に各２つのボンディングパッドが配設さ
れている、いわゆる３レールタイプのスライダについて
も適用できる。図４Ａに示した３レールタイプのスライ
ダ３ａ及び３ｂでは、それぞれが「ミラーパターン」の
関係にある。磁気ディスク１側からスライダ３ａの書き
込みギャップＧを臨んだ場合に、コイルＣａと接続して
いる１組のボンディングパッド５ａ１及び５ａ２と、Ｍ
Ｒ素子（即ち導電層Ｅａ１、Ｅａ２）と接続しているボ
ンディングパッド５ａ３及び５ａ４とが、それぞれコイ
ルＣａの両側に位置している。同様に、スライダ３ｂに
ついても、コイルＣｂと接続している１組のボンディン
グパッド５ｂ１及び５ｂ２と、ＭＲ素子（即ち導電層Ｅ
ｂ１、Ｅｂ２）と接続しているボンディングパッド５ｂ
３及び５ｂ４とが、それぞれコイルＣｂの両側に位置し
ている。この例では、書き込み電流Ｉｗ及びセンス電流
Ｉａが流れる方向は、スライダ３ａ及び３ｂで逆方向と
なる（この場合、ＭＲ素子（図示せず）の着磁方向も逆
向きである。

【００４０】書き込み電流Ｉｗが流れる方向を同じにす
る必要が生じた場合には、図３Ｂに示すように、下側の
スライダ３ｂの巻回方向を反転してコイルＣｂの上側の
スライダ３ａのコイルＣａと逆方向として、同じ方向に
巻回されたものにするだけで対応できる。この時、図１
に示した２レールタイプのスライダと同様に、コイルＣ
ａ及びＣｂの外周端と引き出し線６ａ１及び６ｂ１との
接続部を、磁気ディスク１に対面した書き込みギャップ
Ｇと反対側に設けたことで、上側のスライダ３ａの引き
出し線６ａ１と６ａ２を合わせた配線の長さが、下側の
スライダ３ｂの引き出し線６ｂ１と６ｂ２を合わせた配
線の長さと略同じとなる。

【００４１】また、センス電流Ｉｓが流れる方向を同じ
にする必要が生じた場合には、それぞれのＭＲ素子（図
示せず）の着磁方向を同じにした上で、図１Ａでは導電
層Ｅｂ１に接続されていた引き出し線６ｂ３を図３Ｂで
は中間接続線８ｂに、逆に、図３Ａでは中間接続線８ｂ
に接続されていた引き出し線６ｂ４を図３Ｂでは導電層
Ｅｂ１にそれぞれ入れ替えて接続するだけで実現するこ
とができる。

【００４２】このように、３レールタイプのスライダに
おいても、各ボンディングパッド５ａ１〜５ａ４におけ
る電極の極性や、ＭＲ素子の着磁方向に依るセンス電流
Ｉｓの方向が決定された中で、書き込み電流やセンス電
流を適宜変える必要が生じた場合に、コイルの巻回方向
を変えて対応しようとする際に、各引き出し線の全長
（配線長さ）が同じとなるようにコイル及びＭＲ素子
（即ち導電層）からの引き出し位置を規定しておくこと
で、容易に対応できる。

【００４３】

【発明の効果】本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、下部
コア層とコイルと上部コア層とを有する書き込み用の誘
導型磁気ヘッドを備え、コイルの中央端と接続された第
１の引き出し線と、書き込みギャップと反対側に位置す
るコイルの外周端に接続された第２の引き出し線とを有
することにより、ボンディングパッドの極性が規定さ
れ、所望の書き込み電流の方向を変更する必要が生じた
場合に、コイルの巻回方向を適宜反転するだけで対応で
き、コイルに接続する引き出し線を複雑に引き回すこと
なく設けることができる。また、コイルの長さが異なる
ことがないため、インダクタンス等の特性を統一でき、
確実に信号処理が行われる。また、コイルの反転前後
で、引き出し線とボンディングパッドとを合わせた配線
の長さが変化しないため、各配線の電気抵抗が同じとな
り、確実な信号処理や、統一された信号の強さが実現さ
れる。また、引き出し線やボンディングパッドを形成す
る際の、フォトリソグラフィのマスクパターンを変える
だけで、様々な極性や書き込み電流の方向に容易に対応
できる。

【００４４】また、本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、
磁気抵抗効果素子と、磁気抵抗効果素子の両端にそれぞ
れ接続された２つの導電層とを有する読み出し用の磁気
抵抗効果型磁気ヘッドを備え、一端が一方の導電層と接
続配置され、他端が他方の導電層に近接させた中間接続
線を有し、中間接続線の他端に接続された引き出し線
と、他方の導電層に接続させた引き出し線との間に電流
を流すようにしたことにより、ボンディングパッドの極
性が規定され、所望のセンス電流の方向を変更する必要
が生じた場合に、ＭＲ素子の着磁方向を変更した上で、
導電層に接続されていた一方の引き出し線と中間接続線
に接続されていた他方の引き出し線とをそれぞれ入れ替
えるだけで対応でき、各引き出し線を複雑に引き回すこ
となく設けることができる。また、２つの引き出し線の
入れ替え前後で、引き出し線とボンディングパッドとを
合わせた配線の長さが変化しないため、各配線の電気抵
抗が同じとなり、確実な信号処理や、統一された信号の
強さが実現される。また、引き出し線やボンディングパ
ッドを形成する際の、フォトリソグラフィのマスクパタ
ーンを変えるだけで、様々な極性やセンス電流の方向に
容易に対応できる。

【００４５】また、本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、
磁気抵抗効果素子と、磁気抵抗効果素子の両端にそれぞ
れ接続配置された２つの導電層とを有する読み出し用の
磁気抵抗効果型磁気ヘッドと、下部コア層とコイルと上
部コア層とを有し、磁気抵抗効果型磁気ヘッドの上方に
積層された書き込み用の誘導型磁気ヘッドとを備え、コ
イルの中央端と接続された第１の引き出し線と、書き込
みギャップと反対側に位置するコイルの外周端に接続さ
れた第２の引き出し線と、一端が一方の導電層と接続配
置され、他端が他方の導電層に近接させ、第１及び第２
の引き出し線と異なる層に設けられた中間接続線と、中
間接続線の他端に接続された第３の引き出し線と、他方
の導電層に接続させた第４の引き出し線とを有すること
により、ボンディングパッドの極性が規定され、所望の
書き込み電流及び／又はセンス電流の方向を変更する必
要が生じた場合に、コイルの巻回方向の反転及び／又は
導電層に接続されていた第３の引き出し線と中間接続線
に接続されていた第４の引き出し線との入れ替えで対応
でき、各引き出し線を複雑に引き回すことなく設けるこ
とができる。また、中間接続線をそれぞれの引き出し線
と異なる層に設けたことで、複雑な引き回しパターンを
設ける必要がない。また、コイルの巻回方向の反転前後
及び又は引き出し線の入れ替え前後で、引き出し線とボ
ンディングパッドとを合わせた配線の長さが変化しない
ため、各配線の電気抵抗が同じとなり、確実な信号処理
や、統一された信号の強さが実現される。また、引き出
し線やボンディングパッドを形成する際の、フォトリソ
グラフィのマスクパターンを変えるだけで、様々な極性
やセンス電流の方向に容易に対応できる。

【００４６】また、本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、
１つの磁気記録媒体を挟んで相対向して配設された一対
の薄膜磁気ヘッドが、薄膜磁気ヘッドであることによ
り、２つの薄膜磁気ヘッドの間で、ボンディングパッド
の極性がそれぞれ異なり、所望の書き込み電流及び／又
はセンス電流の方向を変更する必要が生じた場合に、い
ずれか又は両方のコイルの巻回方向の反転及び／又は導
電層に接続されていた引き出し線と中間接続線に接続さ
れていた引き出し線との入れ替えによって対応すること
ができる。また、コイルの巻回方向の反転前後及び又は
引き出し線の入れ替え前後で、引き出し線とボンディン
グパッドとを合わせた配線の長さが変化しないため、各
配線の電気抵抗が同じとなり、確実な信号処理や、統一
された信号の強さが実現される。また、引き出し線やボ
ンディングパッドを形成する際の、フォトリソグラフィ
のマスクパターンを変えるだけで、様々な極性やセンス
電流の方向に容易に対応できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の薄膜磁気ヘッドに使用される２レール
タイプのスライダのトレーリング側端面の概略平面図で
ある。

【図２】本発明の薄膜磁気ヘッドに使用される２レール
タイプのスライダの製造方法を説明するための工程図で
ある。

【図３】本発明の薄膜磁気ヘッドに使用される２レール
タイプのスライダのトレーリング側端面の概略平面図で
ある。

【図４】本発明の薄膜磁気ヘッドに使用される３レール
タイプのスライダのトレーリング側端面の概略平面図で
ある。

【図５】従来の薄膜磁気ヘッドを用いた磁気記録再生装
置の説明図である。

【図６】従来の薄膜磁気ヘッドに用いられるスライダの
トレーリング側端面の概略平面図である。

【図７】従来の薄膜磁気ヘッドに使用されるスライダの
トレーリング側端面の概略平面図である。

【図８】従来の薄膜磁気ヘッドに使用されるスライダの
トレーリング側端面の概略平面図である。

【図９】従来の薄膜磁気ヘッドに使用されるスライダの
トレーリング側端面の概略平面図である。

【図１０】従来の薄膜磁気ヘッドに使用されるスライダ
のトレーリング側端面の概略平面図である。

【符号の説明】

１磁気ディスク３ａ上側のスライダ３ｂ下側のスライダ４ａ、４ｂヘッド素子５ａ１〜５ａ４、５ｂ１〜５ｂ４ボンディングパッド６ａ１〜６ａ４、６ｂ１〜６ｂ４引き出し線７ａ、７ｂ上部接続線８ａ、８ｂ中間接続線Ｔａ、Ｔｂトレーリング側端面Ｅａ１、Ｅａ２、Ｅｂ１、Ｅｂ２導電層Ｃａ、ＣｂコイルＧ書き込みギャップＩｗ書き込み電流Ｉｓセンス電流

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下部コア層とコイルと上部コア層とを
有する書き込み用の誘導型磁気ヘッドを備え、前記コイ
ルの中央端と接続された第１の引き出し線と、書き込み
ギャップと反対側に位置する前記コイルの外周端に接続
された第２の引き出し線とを有することを特徴とする薄
膜磁気ヘッド。
【請求項２】磁気抵抗効果素子と、該磁気抵抗効果素
子の両端にそれぞれ接続された２つの導電層とを有する
読み出し用の磁気抵抗効果型磁気ヘッドを備え、一端が
一方の前記導電層と接続配置され、他端が他方の前記導
電層に近接させた中間接続線を有し、該中間接続線の他
端に接続された引き出し線と、他方の前記導電層に接続
させた引き出し線との間に電流を流すようにしたことを
特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項３】磁気抵抗効果素子と、該磁気抵抗効果素
子の両端にそれぞれ接続配置された２つの導電層とを有
する読み出し用の磁気抵抗効果型磁気ヘッドと、下部コ
ア層とコイルと上部コア層とを有し、前記磁気抵抗効果
型磁気ヘッドの上方に積層された書き込み用の誘導型磁
気ヘッドとを備え、前記コイルの中央端と接続された第
１の引き出し線と、書き込みギャップと反対側に位置す
る前記コイルの外周端に接続された第２の引き出し線
と、一端が一方の前記導電層と接続配置され、他端が他
方の前記導電層に近接させ、前記第１及び第２の引き出
し線と異なる層に設けられた中間接続線と、該中間接続
線の他端に接続された第３の引き出し線と、他方の前記
導電層に接続させた第４の引き出し線とを有することを
特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項４】１つの磁気記録媒体を挟んで相対向して
配設された一対の薄膜磁気ヘッドが、請求項１、請求項
２又は請求項３に記載の前記薄膜磁気ヘッドであること
を特徴とする薄膜磁気ヘッド。