JP2001093120A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/52—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with simultaneous movement of head and record carrier, e.g. rotation of head
- G11B5/53—Disposition or mounting of heads on rotating support
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- G11B5/3133—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure
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- G11B5/4893—Disposition of heads relative to moving tape
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＭＲ層の高さ合わせを容易に行うことができ
て、適正に記録再生が行える高記録密度化に最適な、ヘ
リカルスキャン方式の磁気記録再生装置に使用される薄
膜磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 基板２上に形成された下部シールド層４
と、下部シールド層４上に形成された下部ギャップ層５
と、下部ギャップ層５を介して下部シールド層４上に形
成された磁気抵抗効果層６と、磁気抵抗効果層６上に形
成された上部ギャップ層７と、上部ギャップ層７を介し
て磁気抵抗効果層６上に形成された上部シールド層８と
を備え、上部シールド層８の主面８ａ上に、凸部８ｂを
設けた。
て、適正に記録再生が行える高記録密度化に最適な、ヘ
リカルスキャン方式の磁気記録再生装置に使用される薄
膜磁気ヘッドを提供する。 【解決手段】 基板２上に形成された下部シールド層４
と、下部シールド層４上に形成された下部ギャップ層５
と、下部ギャップ層５を介して下部シールド層４上に形
成された磁気抵抗効果層６と、磁気抵抗効果層６上に形
成された上部ギャップ層７と、上部ギャップ層７を介し
て磁気抵抗効果層６上に形成された上部シールド層８と
を備え、上部シールド層８の主面８ａ上に、凸部８ｂを
設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ヘリカルスキャン
方式の磁気記録再生装置に使用される薄膜磁気ヘッドに
係り、特に再生用の磁気ヘッドとして磁気抵抗効果型磁
気ヘッドに関する。
方式の磁気記録再生装置に使用される薄膜磁気ヘッドに
係り、特に再生用の磁気ヘッドとして磁気抵抗効果型磁
気ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】図２４は従来のヘリカルスキャン方式の
磁気記録再生装置における回転ドラムの斜視図、図２５
はヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置における記
録方式を説明する平面図、図２６は複合型磁気ヘッドの
構成を示す平面図、図２７は磁気ヘッドが回転ドラムに
取り付けられた構成を示す斜視図、図２８は磁気ヘッド
が回転ドラムに取り付けられた構成を媒体摺動面側から
見た平面図、図２９は図２８中の範囲Ｘを拡大した構成
を含み、２つの磁気ヘッドの各ＭＲ層の高さ合わせを説
明する平面図、図３０は２つの磁気ヘッドの各ＭＲ層の
高さが相異なった場合の再生時の再生トラックを示す平
面図、図３１は磁気ヘッドをベース基板上に取り付ける
際の取り付け誤差を生じる場合を示す平面図である。
磁気記録再生装置における回転ドラムの斜視図、図２５
はヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置における記
録方式を説明する平面図、図２６は複合型磁気ヘッドの
構成を示す平面図、図２７は磁気ヘッドが回転ドラムに
取り付けられた構成を示す斜視図、図２８は磁気ヘッド
が回転ドラムに取り付けられた構成を媒体摺動面側から
見た平面図、図２９は図２８中の範囲Ｘを拡大した構成
を含み、２つの磁気ヘッドの各ＭＲ層の高さ合わせを説
明する平面図、図３０は２つの磁気ヘッドの各ＭＲ層の
高さが相異なった場合の再生時の再生トラックを示す平
面図、図３１は磁気ヘッドをベース基板上に取り付ける
際の取り付け誤差を生じる場合を示す平面図である。
【０００３】従来より、ＶＴＲ（Video-Tape-Recorde
ｒ）やコンピュータ用データ記録再生装置等の、磁気記
録媒体として磁気テープを用いた磁気記録再生装置で
は、ヘリカルスキャン方式による記録再生が行われてい
る。このヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置で
は、記録密度やデータの転送レートを向上するために複
数の磁気ヘッドが用いられ、例えば図２４に示すよう
に、回転ドラム６１の外周面上の対向する位置に２つの
磁気ヘッド７０，８０が取り付けられているものがあ
る。そして、これら磁気ヘッド７０，８０によって、回
転ドラム６１に巻き付けられた磁気テープ６３上に信号
を記録し、あるいは磁気テープ６３に記録された信号を
再生する。例えば、図２５に示すように、回転ドラム６
１が回転駆動して磁気ヘッド８０が磁気テープ６３に記
録する際には、記録するトラックＴ１２は磁気ヘッド７
０により直前に記録された別のトラックＴ１１の一部領
域に重複するようにされる、いわゆるガードバンドレス
による記録が行われる。また、再生の際には、各磁気ヘ
ッド７０，８０がそれぞれ対応する記録トラックＴ１
１，Ｔ１２上を順次走査して再生を行う。
ｒ）やコンピュータ用データ記録再生装置等の、磁気記
録媒体として磁気テープを用いた磁気記録再生装置で
は、ヘリカルスキャン方式による記録再生が行われてい
る。このヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置で
は、記録密度やデータの転送レートを向上するために複
数の磁気ヘッドが用いられ、例えば図２４に示すよう
に、回転ドラム６１の外周面上の対向する位置に２つの
磁気ヘッド７０，８０が取り付けられているものがあ
る。そして、これら磁気ヘッド７０，８０によって、回
転ドラム６１に巻き付けられた磁気テープ６３上に信号
を記録し、あるいは磁気テープ６３に記録された信号を
再生する。例えば、図２５に示すように、回転ドラム６
１が回転駆動して磁気ヘッド８０が磁気テープ６３に記
録する際には、記録するトラックＴ１２は磁気ヘッド７
０により直前に記録された別のトラックＴ１１の一部領
域に重複するようにされる、いわゆるガードバンドレス
による記録が行われる。また、再生の際には、各磁気ヘ
ッド７０，８０がそれぞれ対応する記録トラックＴ１
１，Ｔ１２上を順次走査して再生を行う。
【０００４】このようなヘリカルスキャン方式の磁気記
録再生装置に用いられる磁気ヘッド７０，８０として
は、従来よりＭＩＧ(Metal-In-Gap)ヘッドや積層型ヘッ
ド等が使用されてきた。近年、ＶＴＲやコンピュータ用
データ記録再生装置においては、磁気記録媒体への高記
録密度化を実現するために、よりトラック幅を狭くする
狭トラック化や高周波化が図られており、狭トラック化
のために磁気ギャップの幅を小さくする、いわゆる狭ギ
ャップ化が必要とされている。しかし、ＭＩＧヘッドで
は、磁気ギャップを研削により形成しているためにその
小型化が難しく、狭トラック化に対応できない。また、
狭トラック化のためには磁気ギャップを形成するための
突き合わせ面に高い研磨精度が要求されるが、微小な磁
気ギャップにおける研磨精度の向上が難しくなってい
る。また、高周波化に対応するためにはインダクタンス
を低くする必要があるが、ＭＩＧヘッドや積層型ヘッド
ではインダクタンスを低くすることができない。さら
に、ＭＩＧヘッドや積層型ヘッドでは、高記録密度化を
図った際にそれらの再生出力を十分大きくとれない欠点
があった。
録再生装置に用いられる磁気ヘッド７０，８０として
は、従来よりＭＩＧ(Metal-In-Gap)ヘッドや積層型ヘッ
ド等が使用されてきた。近年、ＶＴＲやコンピュータ用
データ記録再生装置においては、磁気記録媒体への高記
録密度化を実現するために、よりトラック幅を狭くする
狭トラック化や高周波化が図られており、狭トラック化
のために磁気ギャップの幅を小さくする、いわゆる狭ギ
ャップ化が必要とされている。しかし、ＭＩＧヘッドで
は、磁気ギャップを研削により形成しているためにその
小型化が難しく、狭トラック化に対応できない。また、
狭トラック化のためには磁気ギャップを形成するための
突き合わせ面に高い研磨精度が要求されるが、微小な磁
気ギャップにおける研磨精度の向上が難しくなってい
る。また、高周波化に対応するためにはインダクタンス
を低くする必要があるが、ＭＩＧヘッドや積層型ヘッド
ではインダクタンスを低くすることができない。さら
に、ＭＩＧヘッドや積層型ヘッドでは、高記録密度化を
図った際にそれらの再生出力を十分大きくとれない欠点
があった。
【０００５】一方、ハードディスク装置等の磁気記録再
生装置においては、既に各種の薄膜磁気ヘッドが用いら
れている。一般的に用いられる薄膜磁気ヘッドとして
は、主に、記録用として誘導型磁気ヘッド（インダクテ
ィブヘッド）があり、再生用として磁気抵抗効果（Magn
eto Resistive)型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）があり、
またこれらインダクティブヘッド及びＭＲヘッドを積層
形成してなる複合型磁気ヘッドが多用されている。この
ような薄膜磁気ヘッドは、薄膜形成プロセスにより一度
に大量生産でき、狭トラック化のための狭ギャップ化等
の微細寸法化に容易に対応できて高記録密度化を実現で
きるという利点を有している。また、特にＭＲヘッド
は、磁気記録媒体の相対速度に依存せず、信号磁界に直
接応答できて、高再生出力が得られるとともに、インダ
クタンスがＭＩＧヘッドや積層型ヘッド等に比べて格段
に低いため、高周波化に対応できる。
生装置においては、既に各種の薄膜磁気ヘッドが用いら
れている。一般的に用いられる薄膜磁気ヘッドとして
は、主に、記録用として誘導型磁気ヘッド（インダクテ
ィブヘッド）があり、再生用として磁気抵抗効果（Magn
eto Resistive)型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）があり、
またこれらインダクティブヘッド及びＭＲヘッドを積層
形成してなる複合型磁気ヘッドが多用されている。この
ような薄膜磁気ヘッドは、薄膜形成プロセスにより一度
に大量生産でき、狭トラック化のための狭ギャップ化等
の微細寸法化に容易に対応できて高記録密度化を実現で
きるという利点を有している。また、特にＭＲヘッド
は、磁気記録媒体の相対速度に依存せず、信号磁界に直
接応答できて、高再生出力が得られるとともに、インダ
クタンスがＭＩＧヘッドや積層型ヘッド等に比べて格段
に低いため、高周波化に対応できる。
【０００６】そこで、ヘリカルスキャン方式の磁気記録
再生装置においても、磁気ヘッドとして上記薄膜磁気ヘ
ッドを適用することが望まれている。例えば、ヘリカル
スキャン方式の磁気記録再生装置の磁気ヘッド７０，８
０に上記複合型磁気ヘッドを適用した場合、図２６に示
すように、磁気ヘッド７０は、ＭＲヘッド７１とインダ
クティブヘッド７２とから構成される。ＭＲヘッド７１
は、基板７１ａ上に、絶縁層７１ｂ、下部シールド層７
１ｃ、下部ギャップ層７１ｄ、ＭＲ層７１ｅ、上部ギャ
ップ層７１ｆ及び上部シールド層７１ｇが順次積層形成
されてなる。なお、引出し電極やハード層等は図示して
いない。インダクティブヘッド７２は、上部シールド層
を兼用する下部コア層７２ａ上に、ギャップ層７２ｂ、
上部コア層７２ｃ及び絶縁層７２ｄが順次積層形成され
てなる。ここで、下部シールド層７１ｃと上部シールド
層７１ｇとに挟まれた部分が、ＭＲヘッド７１の読み取
り用磁気ギャップＧａ’となる。また、下部コア層７２
ａと上部コア層７２ｃとに挟まれた部分が、インダクテ
ィブヘッド７２の書き込み用磁気ギャップＧｂ’とな
る。そして、図２７〜図２９に示すように、磁気ヘッド
７０がベース基板６２上にアジマス角θｘ’傾けた状態
で搭載されて、この磁気ヘッド７０が搭載されたベース
基板６２が回転ドラム６１の外周面の所定位置に取り付
けられる。同様に、磁気ヘッド８０は、図２９に示すよ
うに、ＭＲ層８１ｅを有するＭＲヘッド８１と、インダ
クティブヘッド８２とから構成され、読み取り用磁気ギ
ャップＧａ’’及び書き込み用磁気ギャップＧｂ’’を
有する。そして、磁気ヘッド８０は、図２４及び図２９
に示すように、ベース基板６２上にアジマス角θｙ’傾
けた状態で搭載されて、この磁気ヘッド８０が搭載され
たベース基板６２が回転ドラム６１の外周面の所定位置
に取り付けられる。
再生装置においても、磁気ヘッドとして上記薄膜磁気ヘ
ッドを適用することが望まれている。例えば、ヘリカル
スキャン方式の磁気記録再生装置の磁気ヘッド７０，８
０に上記複合型磁気ヘッドを適用した場合、図２６に示
すように、磁気ヘッド７０は、ＭＲヘッド７１とインダ
クティブヘッド７２とから構成される。ＭＲヘッド７１
は、基板７１ａ上に、絶縁層７１ｂ、下部シールド層７
１ｃ、下部ギャップ層７１ｄ、ＭＲ層７１ｅ、上部ギャ
ップ層７１ｆ及び上部シールド層７１ｇが順次積層形成
されてなる。なお、引出し電極やハード層等は図示して
いない。インダクティブヘッド７２は、上部シールド層
を兼用する下部コア層７２ａ上に、ギャップ層７２ｂ、
上部コア層７２ｃ及び絶縁層７２ｄが順次積層形成され
てなる。ここで、下部シールド層７１ｃと上部シールド
層７１ｇとに挟まれた部分が、ＭＲヘッド７１の読み取
り用磁気ギャップＧａ’となる。また、下部コア層７２
ａと上部コア層７２ｃとに挟まれた部分が、インダクテ
ィブヘッド７２の書き込み用磁気ギャップＧｂ’とな
る。そして、図２７〜図２９に示すように、磁気ヘッド
７０がベース基板６２上にアジマス角θｘ’傾けた状態
で搭載されて、この磁気ヘッド７０が搭載されたベース
基板６２が回転ドラム６１の外周面の所定位置に取り付
けられる。同様に、磁気ヘッド８０は、図２９に示すよ
うに、ＭＲ層８１ｅを有するＭＲヘッド８１と、インダ
クティブヘッド８２とから構成され、読み取り用磁気ギ
ャップＧａ’’及び書き込み用磁気ギャップＧｂ’’を
有する。そして、磁気ヘッド８０は、図２４及び図２９
に示すように、ベース基板６２上にアジマス角θｙ’傾
けた状態で搭載されて、この磁気ヘッド８０が搭載され
たベース基板６２が回転ドラム６１の外周面の所定位置
に取り付けられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うな薄膜磁気ヘッドからなる磁気ヘッド７０，８０を用
いたヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置では、磁
気ヘッド７０、８０の記録・再生を相互に連続的に行う
ために、図２９に示すように、ＭＲヘッド７１のＭＲ層
７１ｅと、ＭＲヘッド８１のＭＲ層８１ｅとが、ベース
基板６２からそれぞれ略同等な高さに位置することが必
要である。つまり、ベース基板６２からＭＲ層７１ｅの
端部までの高さｈ１が、ベース基板６２からＭＲ層８１
ｅの端部までの高さｈ２と略同寸法であることが必要で
ある。これは、以下の理由による。ベース基板６２から
ＭＲ層７１ｅの端部までの高さｈ１が、ベース基板６２
からＭＲ層８１ｅの端部までの高さｈ２と異なる場合、
図３０に示すように、各ＭＲヘッド７１、８１の記録ト
ラックＴ１１，Ｔ１２に対する再生トラックＲ１１，Ｒ
１２の相対的位置が互いに異なり、読み取り不良とな
る。即ち、図３０に示すように、ＭＲヘッド７１の再生
トラックＲ１１の位置をトラッキングにより記録トラッ
クＴ１１幅の中央に調整しても、記録トラックＴ１２を
再生する際にＭＲヘッド８１の再生トラックＲ１２の位
置が記録トラックＴ１２の中央に位置しない。そのた
め、ＭＲヘッド８１は、記録トラックＴ１２の中央部分
からずれた位置を再生することになり、記録トラックＴ
１２の記録信号の再生出力が落ちてしまい、連続的且つ
適正な再生が困難となる。よって、ヘリカルスキャン方
式の磁気記録再生装置では、ＭＲヘッド７１，８１の各
ＭＲ層７１ｅ，８１ｅのベース基板６２からの高さｈ
１，ｈ２が相等しい必要がある。
うな薄膜磁気ヘッドからなる磁気ヘッド７０，８０を用
いたヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置では、磁
気ヘッド７０、８０の記録・再生を相互に連続的に行う
ために、図２９に示すように、ＭＲヘッド７１のＭＲ層
７１ｅと、ＭＲヘッド８１のＭＲ層８１ｅとが、ベース
基板６２からそれぞれ略同等な高さに位置することが必
要である。つまり、ベース基板６２からＭＲ層７１ｅの
端部までの高さｈ１が、ベース基板６２からＭＲ層８１
ｅの端部までの高さｈ２と略同寸法であることが必要で
ある。これは、以下の理由による。ベース基板６２から
ＭＲ層７１ｅの端部までの高さｈ１が、ベース基板６２
からＭＲ層８１ｅの端部までの高さｈ２と異なる場合、
図３０に示すように、各ＭＲヘッド７１、８１の記録ト
ラックＴ１１，Ｔ１２に対する再生トラックＲ１１，Ｒ
１２の相対的位置が互いに異なり、読み取り不良とな
る。即ち、図３０に示すように、ＭＲヘッド７１の再生
トラックＲ１１の位置をトラッキングにより記録トラッ
クＴ１１幅の中央に調整しても、記録トラックＴ１２を
再生する際にＭＲヘッド８１の再生トラックＲ１２の位
置が記録トラックＴ１２の中央に位置しない。そのた
め、ＭＲヘッド８１は、記録トラックＴ１２の中央部分
からずれた位置を再生することになり、記録トラックＴ
１２の記録信号の再生出力が落ちてしまい、連続的且つ
適正な再生が困難となる。よって、ヘリカルスキャン方
式の磁気記録再生装置では、ＭＲヘッド７１，８１の各
ＭＲ層７１ｅ，８１ｅのベース基板６２からの高さｈ
１，ｈ２が相等しい必要がある。
【０００８】ところが、ＭＲヘッド７１，８１は、発明
者等が特願平１１−８３７０１にて開示したように、製
造工程中に、アジマス角θｘ’、θｙ’を設けるために
基板７１ａ，８１ａを所定の角度を持たせて切断する工
程を経るため、その際に切断寸法の誤差が生じることが
あり、ＭＲ層７１ｅ，８１ｅの位置にばらつきを生じる
場合がある。また、各磁気ヘッド７０，８０をベース基
板６２に取り付ける際には、図３１に示すように、磁気
ヘッド７０，８０が高さ方向ｈにずれて取り付けられる
ことがあり、取り付け誤差が無視できない。その結果、
ＭＲヘッド７１，８１において、各ＭＲ層７１ｅ，８１
ｅのベース基板６２からの高さｈ１，ｈ２が互いに異な
ってしまう場合がある。そのため、ヘリカルスキャン方
式の磁気記録再生装置では、ＭＲヘッド内におけるＭＲ
層の位置が相等しい複数の磁気ヘッドを選択して、これ
ら複数の磁気ヘッドをベース基板６２上に取り付ける際
に各ＭＲ層の端部の高さが相等しくなるように調整す
る、所謂高さ合わせ作業が必要となる。
者等が特願平１１−８３７０１にて開示したように、製
造工程中に、アジマス角θｘ’、θｙ’を設けるために
基板７１ａ，８１ａを所定の角度を持たせて切断する工
程を経るため、その際に切断寸法の誤差が生じることが
あり、ＭＲ層７１ｅ，８１ｅの位置にばらつきを生じる
場合がある。また、各磁気ヘッド７０，８０をベース基
板６２に取り付ける際には、図３１に示すように、磁気
ヘッド７０，８０が高さ方向ｈにずれて取り付けられる
ことがあり、取り付け誤差が無視できない。その結果、
ＭＲヘッド７１，８１において、各ＭＲ層７１ｅ，８１
ｅのベース基板６２からの高さｈ１，ｈ２が互いに異な
ってしまう場合がある。そのため、ヘリカルスキャン方
式の磁気記録再生装置では、ＭＲヘッド内におけるＭＲ
層の位置が相等しい複数の磁気ヘッドを選択して、これ
ら複数の磁気ヘッドをベース基板６２上に取り付ける際
に各ＭＲ層の端部の高さが相等しくなるように調整す
る、所謂高さ合わせ作業が必要となる。
【０００９】しかしながら、実際のＭＲ層７１ｅ，８１
ｅは、膜厚が非常に薄いため、ＭＲ層７１ｅ，８１ｅの
位置を光学顕微鏡等で確認することが難しく、ＭＲ層７
１ｅ，８１ｅの位置、つまりＭＲ層７１ｅ，８１ｅの端
部の高さが相等しい磁気ヘッドを選択することが困難で
あり、また、上述の高さ合わせ作業も非常に手間のかか
るものであった。そこで、本発明は、このような従来の
実情に鑑みて提案されたものであり、ＭＲ層の高さ合わ
せを容易に行うことができて、適正に記録再生が行える
高記録密度化に最適な、ヘリカルスキャン方式の磁気記
録再生装置に使用される薄膜磁気ヘッドを提供すること
を目的とする。
ｅは、膜厚が非常に薄いため、ＭＲ層７１ｅ，８１ｅの
位置を光学顕微鏡等で確認することが難しく、ＭＲ層７
１ｅ，８１ｅの位置、つまりＭＲ層７１ｅ，８１ｅの端
部の高さが相等しい磁気ヘッドを選択することが困難で
あり、また、上述の高さ合わせ作業も非常に手間のかか
るものであった。そこで、本発明は、このような従来の
実情に鑑みて提案されたものであり、ＭＲ層の高さ合わ
せを容易に行うことができて、適正に記録再生が行える
高記録密度化に最適な、ヘリカルスキャン方式の磁気記
録再生装置に使用される薄膜磁気ヘッドを提供すること
を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に完成された本発明の薄膜磁気ヘッドは、基板上に形成
された磁性材料からなる下部シールド層と、前記下部シ
ールド層上に形成された非磁性材料からなる下部ギャッ
プ層と、前記下部ギャップ層を介して前記下部シールド
層上に形成された磁気抵抗効果層と、前記磁気抵抗効果
層上に形成された非磁性材料からなる上部ギャップ層
と、前記上部ギャップ層を介して前記磁気抵抗効果層上
に形成された磁性材料からなる上部シールド層とを備
え、前記上部シールド層及び下部シールド層のうちの少
なくとも何れかのシールド層には、両主面のうちの少な
くとも一方の主面に、凸部及び凹部のうちの少なくとも
何れかが設けられていることを特徴とするものである。
このように、本発明の薄膜磁気ヘッドでは、シールド層
の主面上に凸部及び凹部のうちの少なくとも何れかが設
けられており、この凸部及び凹部のうちの少なくとも何
れかが磁気抵抗効果層と所定の位置関係となる位置に設
けられているため、これが磁気抵抗効果層を特定するマ
ーカとなる。よって、このマーカを認知することにより
磁気抵抗効果層の位置を特定することができる。その結
果、本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、磁気記録再生装
置に複数個取り付ける際に、このマーカの位置に基づい
て各磁気抵抗効果層の取り付け高さをそれぞれ合わせる
ことが可能となる。
に完成された本発明の薄膜磁気ヘッドは、基板上に形成
された磁性材料からなる下部シールド層と、前記下部シ
ールド層上に形成された非磁性材料からなる下部ギャッ
プ層と、前記下部ギャップ層を介して前記下部シールド
層上に形成された磁気抵抗効果層と、前記磁気抵抗効果
層上に形成された非磁性材料からなる上部ギャップ層
と、前記上部ギャップ層を介して前記磁気抵抗効果層上
に形成された磁性材料からなる上部シールド層とを備
え、前記上部シールド層及び下部シールド層のうちの少
なくとも何れかのシールド層には、両主面のうちの少な
くとも一方の主面に、凸部及び凹部のうちの少なくとも
何れかが設けられていることを特徴とするものである。
このように、本発明の薄膜磁気ヘッドでは、シールド層
の主面上に凸部及び凹部のうちの少なくとも何れかが設
けられており、この凸部及び凹部のうちの少なくとも何
れかが磁気抵抗効果層と所定の位置関係となる位置に設
けられているため、これが磁気抵抗効果層を特定するマ
ーカとなる。よって、このマーカを認知することにより
磁気抵抗効果層の位置を特定することができる。その結
果、本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、磁気記録再生装
置に複数個取り付ける際に、このマーカの位置に基づい
て各磁気抵抗効果層の取り付け高さをそれぞれ合わせる
ことが可能となる。
【００１１】また、前記シールド層に設けられた凸部及
び凹部のうちの少なくとも何れかは、その一部が前記磁
気抵抗効果層と対向する位置に設けられていることが好
ましい。これにより、磁気抵抗効果層の位置が容易に特
定される。また、本発明の薄膜磁気ヘッドは、磁気記録
媒体に対して相対的に移動して前記磁気記録媒体に対し
てデータを少なくとも読み込む薄膜磁気ヘッドであっ
て、前記シールド層に設けられた凸部及び凹部のうちの
少なくとも何れかの端部が、前記磁気記録媒体の前記磁
気抵抗効果層に対する移動方向を基準として、前記磁気
抵抗効果層の端部と略同一な高さ位置にあることが好ま
しい。これにより、磁気抵抗効果層の位置がより容易に
特定される。更に、前記シールド層に設けられた凸部及
び凹部のうちの少なくとも何れかは前記磁気抵抗効果層
の媒体摺動面の長手方向の幅と略同寸法の幅を有するこ
とが好ましい。これにより、磁気抵抗効果層の大きさ及
び位置が容易に特定される。なお、本発明の薄膜磁気ヘ
ッドは、前記上部シールド層上に形成された非磁性材料
からなるギャップ層と、前記ギャップ層を介して前記上
部シールド層上に形成された磁性材料からなる上部コア
層とを備えた構成である場合、前記シールド層に設けら
れた凸部及び凹部の何れも、前記上部コア層と対向する
位置とは外れた位置に設けられていることが好ましい。
これにより、凸部又は凹部の存在が書き込み用ギャップ
に影響しないで済む。
び凹部のうちの少なくとも何れかは、その一部が前記磁
気抵抗効果層と対向する位置に設けられていることが好
ましい。これにより、磁気抵抗効果層の位置が容易に特
定される。また、本発明の薄膜磁気ヘッドは、磁気記録
媒体に対して相対的に移動して前記磁気記録媒体に対し
てデータを少なくとも読み込む薄膜磁気ヘッドであっ
て、前記シールド層に設けられた凸部及び凹部のうちの
少なくとも何れかの端部が、前記磁気記録媒体の前記磁
気抵抗効果層に対する移動方向を基準として、前記磁気
抵抗効果層の端部と略同一な高さ位置にあることが好ま
しい。これにより、磁気抵抗効果層の位置がより容易に
特定される。更に、前記シールド層に設けられた凸部及
び凹部のうちの少なくとも何れかは前記磁気抵抗効果層
の媒体摺動面の長手方向の幅と略同寸法の幅を有するこ
とが好ましい。これにより、磁気抵抗効果層の大きさ及
び位置が容易に特定される。なお、本発明の薄膜磁気ヘ
ッドは、前記上部シールド層上に形成された非磁性材料
からなるギャップ層と、前記ギャップ層を介して前記上
部シールド層上に形成された磁性材料からなる上部コア
層とを備えた構成である場合、前記シールド層に設けら
れた凸部及び凹部の何れも、前記上部コア層と対向する
位置とは外れた位置に設けられていることが好ましい。
これにより、凸部又は凹部の存在が書き込み用ギャップ
に影響しないで済む。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用したＭＲヘッ
ド及びこのＭＲヘッドを用いたヘリカルスキャン方式の
磁気記録再生装置における回転ヘッド組立体の実施の形
態について図面を参照しながら説明する。図１は本発明
のＭＲヘッドを示す斜視図、図２は本発明のＭＲヘッド
の要部を示す斜視図、図３Ａは本発明のＭＲヘッドの構
成を示す平面図、図３Ｂは本発明のＭＲヘッドをベース
基板上に取り付けた様子を示す平面図、図４は本発明の
ＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平面図、図５は本発
明のＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平面図、図６は
本発明のＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平面図、図
７は本発明のＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平面
図、図８はヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置に
おける回転ドラムを示す斜視図、図９は本発明のＭＲヘ
ッドを回転ドラムに取り付けた構成を媒体摺動面側から
見た平面図、図１０は本発明のＭＲヘッドを回転ドラム
に取り付けた構成を示す斜視図、図１１は図１０の範囲
Ａを拡大した構成を含み、本発明のＭＲヘッドをヘリカ
ルスキャン方式の磁気記録再生装置に適用した構成を媒
体摺動面側から見た平面図、図１２は本発明のＭＲヘッ
ド上に記録用インダクティブヘッドを積層形成してなる
複合型磁気ヘッドの構成を示す平面図、図１３は本発明
のＭＲヘッドにおける上部シールド層上に凸部を形成す
る一工程を示す平面図、図１４は本発明のＭＲヘッドに
おける上部シールド層上に凸部を形成する一工程を示す
平面図、図１５は本発明のＭＲヘッドにおける上部シー
ルド層上に凸部を形成する一工程を示す平面図、図１６
は本発明のＭＲヘッドにおける上部シールド層上に凸部
を形成する一工程を示す平面図、図１７は本発明のＭＲ
ヘッドの製造方法の一工程を示す斜視図、図１８は本発
明のＭＲヘッドの製造方法の一工程を示す斜視図、図１
９は本発明のＭＲヘッドの製造方法の一工程を示す斜視
図、図２０は本発明のＭＲヘッドの製造方法のうちアジ
マス角を形成する工程を示す斜視図、図２１は本発明の
ＭＲヘッドにおける上部シールド層上に凹部を形成する
一工程を示す平面図、図２２は本発明のＭＲヘッドにお
ける上部シールド層上に凹部を形成する一工程を示す平
面図、図２３は本発明のＭＲヘッドにおける上部シール
ド層上に凹部を形成する一工程を示す平面図である。
ド及びこのＭＲヘッドを用いたヘリカルスキャン方式の
磁気記録再生装置における回転ヘッド組立体の実施の形
態について図面を参照しながら説明する。図１は本発明
のＭＲヘッドを示す斜視図、図２は本発明のＭＲヘッド
の要部を示す斜視図、図３Ａは本発明のＭＲヘッドの構
成を示す平面図、図３Ｂは本発明のＭＲヘッドをベース
基板上に取り付けた様子を示す平面図、図４は本発明の
ＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平面図、図５は本発
明のＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平面図、図６は
本発明のＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平面図、図
７は本発明のＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平面
図、図８はヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置に
おける回転ドラムを示す斜視図、図９は本発明のＭＲヘ
ッドを回転ドラムに取り付けた構成を媒体摺動面側から
見た平面図、図１０は本発明のＭＲヘッドを回転ドラム
に取り付けた構成を示す斜視図、図１１は図１０の範囲
Ａを拡大した構成を含み、本発明のＭＲヘッドをヘリカ
ルスキャン方式の磁気記録再生装置に適用した構成を媒
体摺動面側から見た平面図、図１２は本発明のＭＲヘッ
ド上に記録用インダクティブヘッドを積層形成してなる
複合型磁気ヘッドの構成を示す平面図、図１３は本発明
のＭＲヘッドにおける上部シールド層上に凸部を形成す
る一工程を示す平面図、図１４は本発明のＭＲヘッドに
おける上部シールド層上に凸部を形成する一工程を示す
平面図、図１５は本発明のＭＲヘッドにおける上部シー
ルド層上に凸部を形成する一工程を示す平面図、図１６
は本発明のＭＲヘッドにおける上部シールド層上に凸部
を形成する一工程を示す平面図、図１７は本発明のＭＲ
ヘッドの製造方法の一工程を示す斜視図、図１８は本発
明のＭＲヘッドの製造方法の一工程を示す斜視図、図１
９は本発明のＭＲヘッドの製造方法の一工程を示す斜視
図、図２０は本発明のＭＲヘッドの製造方法のうちアジ
マス角を形成する工程を示す斜視図、図２１は本発明の
ＭＲヘッドにおける上部シールド層上に凹部を形成する
一工程を示す平面図、図２２は本発明のＭＲヘッドにお
ける上部シールド層上に凹部を形成する一工程を示す平
面図、図２３は本発明のＭＲヘッドにおける上部シール
ド層上に凹部を形成する一工程を示す平面図である。
【００１３】本発明のＭＲヘッド１は、ＶＴＲやコンピ
ュータ用データ記録再生装置等の、磁気記録媒体として
磁気テープを用いたヘリカルスキャン方式の磁気記録再
生装置に使用されると好適な薄膜磁気ヘッドである。Ｍ
Ｒヘッド１は、図１、図２及び図３Ａに示すように、薄
膜形成プロセスによって、角柱状の基板２の一側面２ａ
上に、下地層である絶縁層３を介して、下部シールド層
４、下部ギャップ層５、ＭＲ層６、上部ギャップ層７、
上部シールド層８及び保護層である絶縁層９が順次積層
形成されてなる。また、保護板１０が基板２の一側面２
ａとともにＭＲ層６を挟持するように、絶縁層９に突き
合わされて接合されている。また、基板２の一側面２ａ
側には、図示しないＭＲヘッド１の引き出し電極が導出
される２つのボンディングパッド１１が形成されてい
る。ここで、下部シールド層４と上部シールド層８とに
挟まれた部分が、ＭＲヘッド１の読み取り用磁気ギャッ
プＧａとなる。また、ＭＲヘッド１は、基板２の端面２
ｂや保護板１０の側面１０ａが曲面状に形成されてテー
プ摺動面１ａとなされ、読み取り用の磁気ギャップＧａ
がこのテープ摺動面１ａに露出している。そして、磁気
ギャップＧａを通った磁気テープの記録信号からの磁界
がＭＲ層６により検出される。なお、ハードバイアス層
や電極層は、図示を省略したが、下部ギャップ層５上に
形成される。
ュータ用データ記録再生装置等の、磁気記録媒体として
磁気テープを用いたヘリカルスキャン方式の磁気記録再
生装置に使用されると好適な薄膜磁気ヘッドである。Ｍ
Ｒヘッド１は、図１、図２及び図３Ａに示すように、薄
膜形成プロセスによって、角柱状の基板２の一側面２ａ
上に、下地層である絶縁層３を介して、下部シールド層
４、下部ギャップ層５、ＭＲ層６、上部ギャップ層７、
上部シールド層８及び保護層である絶縁層９が順次積層
形成されてなる。また、保護板１０が基板２の一側面２
ａとともにＭＲ層６を挟持するように、絶縁層９に突き
合わされて接合されている。また、基板２の一側面２ａ
側には、図示しないＭＲヘッド１の引き出し電極が導出
される２つのボンディングパッド１１が形成されてい
る。ここで、下部シールド層４と上部シールド層８とに
挟まれた部分が、ＭＲヘッド１の読み取り用磁気ギャッ
プＧａとなる。また、ＭＲヘッド１は、基板２の端面２
ｂや保護板１０の側面１０ａが曲面状に形成されてテー
プ摺動面１ａとなされ、読み取り用の磁気ギャップＧａ
がこのテープ摺動面１ａに露出している。そして、磁気
ギャップＧａを通った磁気テープの記録信号からの磁界
がＭＲ層６により検出される。なお、ハードバイアス層
や電極層は、図示を省略したが、下部ギャップ層５上に
形成される。
【００１４】基板２は、アルミナチタンカーバイド（Ａ
ｌ2Ｏ3・ＴｉＣ）等の非磁性材料からなり、一側面２ａ
上に絶縁層３が形成されるとともに一端面２ｂが媒体摺
動面となされた支持基板である。絶縁層３は、アルミナ
（Ａｌ2Ｏ3）やＳｉＯ2等の絶縁性材料からなり、下地
層となされる。下部シールド層４及び上部シールド層８
は、センダストやＮｉ−Ｆｅ系合金（パーマロイ）、及
びＮｉ−Ｚｎヘマタイト等の多結晶フェライト等の磁性
材料からなる。下部ギャップ層５及び上部ギャップ層７
は、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）等の非磁性材料からなり、磁
気ギャップＧａの一部を構成する。ＭＲ層６は、下部ギ
ャップ層５上に形成され、例えば下から軟磁性層（ＳＡ
Ｌ層）、非磁性層（ＳＨＵＮＴ層）及び磁気抵抗効果膜
（ＭＲ膜）が順次積層形成されてなる。前記磁気抵抗効
果膜はＮｉ−Ｆｅ系合金（パーマロイ）からなり、前記
非磁性層はＴａ（タンタル）からなり、前記軟磁性層が
Ｎｉ−Ｆｅ−Ｎｂ系合金からなる。そして、下部ギャッ
プ層５、ＭＲ層６及び上部ギャップ層７が磁気ギャップ
Ｇａを構成する。絶縁層９は、絶縁層３と同様に、絶縁
性材料からなり、保護層となされる。
ｌ2Ｏ3・ＴｉＣ）等の非磁性材料からなり、一側面２ａ
上に絶縁層３が形成されるとともに一端面２ｂが媒体摺
動面となされた支持基板である。絶縁層３は、アルミナ
（Ａｌ2Ｏ3）やＳｉＯ2等の絶縁性材料からなり、下地
層となされる。下部シールド層４及び上部シールド層８
は、センダストやＮｉ−Ｆｅ系合金（パーマロイ）、及
びＮｉ−Ｚｎヘマタイト等の多結晶フェライト等の磁性
材料からなる。下部ギャップ層５及び上部ギャップ層７
は、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）等の非磁性材料からなり、磁
気ギャップＧａの一部を構成する。ＭＲ層６は、下部ギ
ャップ層５上に形成され、例えば下から軟磁性層（ＳＡ
Ｌ層）、非磁性層（ＳＨＵＮＴ層）及び磁気抵抗効果膜
（ＭＲ膜）が順次積層形成されてなる。前記磁気抵抗効
果膜はＮｉ−Ｆｅ系合金（パーマロイ）からなり、前記
非磁性層はＴａ（タンタル）からなり、前記軟磁性層が
Ｎｉ−Ｆｅ−Ｎｂ系合金からなる。そして、下部ギャッ
プ層５、ＭＲ層６及び上部ギャップ層７が磁気ギャップ
Ｇａを構成する。絶縁層９は、絶縁層３と同様に、絶縁
性材料からなり、保護層となされる。
【００１５】特に、上部シールド層８には、図３Ａに示
すように、一主面８ａ上のＭＲ層６と対向する位置に凸
部８ｂが形成されている。詳しくは、凸部８ｂは、図３
Ｂに示すように、磁気ヘッド１をアジマス角θｘを設け
てベース基板２２上に取り付ける際に、その端部８ｂ１
からベース基板２２までの距離、つまり凸部８ｂの高さ
Ｈｘが、ＭＲ層６の端部６ａからベース基板２２までの
距離、つまりＭＲ層６の所望の高さＨｏと略同寸法とな
るように設けられている。ここで、この凸部８ｂの凸部
高さｈ０はＭＲ層６の膜厚ｔよりも遙かに大きく、凸部
８ｂの大きさが光学顕微鏡等で認知できる程度の大きさ
となされている。なお、このＭＲ層６の膜厚ｔは約６０
０オングストロームである。このように、上部シールド
層８上においてＭＲ層６の所望の高さＨｏと略同寸法の
高さとなる位置に凸部８ｂを形成することにより、この
凸部８ｂを認知するだけで、ＭＲ層６の高さを直接特定
することができる。よって、この凸部８ｂを認知するこ
とにより、ＭＲ層６が所望の高さＨ０に位置するように
磁気ヘッド１をベース基板２２上に取り付ることができ
るとともに、この凸部８ｂを認知するだけで、製造後の
磁気ヘッド１においてＭＲ層６が所望の高さＨ０に位置
しているか否かも直接判断できる。
すように、一主面８ａ上のＭＲ層６と対向する位置に凸
部８ｂが形成されている。詳しくは、凸部８ｂは、図３
Ｂに示すように、磁気ヘッド１をアジマス角θｘを設け
てベース基板２２上に取り付ける際に、その端部８ｂ１
からベース基板２２までの距離、つまり凸部８ｂの高さ
Ｈｘが、ＭＲ層６の端部６ａからベース基板２２までの
距離、つまりＭＲ層６の所望の高さＨｏと略同寸法とな
るように設けられている。ここで、この凸部８ｂの凸部
高さｈ０はＭＲ層６の膜厚ｔよりも遙かに大きく、凸部
８ｂの大きさが光学顕微鏡等で認知できる程度の大きさ
となされている。なお、このＭＲ層６の膜厚ｔは約６０
０オングストロームである。このように、上部シールド
層８上においてＭＲ層６の所望の高さＨｏと略同寸法の
高さとなる位置に凸部８ｂを形成することにより、この
凸部８ｂを認知するだけで、ＭＲ層６の高さを直接特定
することができる。よって、この凸部８ｂを認知するこ
とにより、ＭＲ層６が所望の高さＨ０に位置するように
磁気ヘッド１をベース基板２２上に取り付ることができ
るとともに、この凸部８ｂを認知するだけで、製造後の
磁気ヘッド１においてＭＲ層６が所望の高さＨ０に位置
しているか否かも直接判断できる。
【００１６】また、凸部８ｂ１は、図４に示すように、
ＭＲ層６の中心線Ｃ１と凸部８ｂの中心線Ｃ２とが一致
する位置に設けられていても好ましい。これにより、凸
部８ｂの位置からＭＲ層６の中心位置を特定できる。更
に、このマーカとなる凸部８ｂ２は、図５に示すよう
に、ＭＲ層６の媒体摺動面における長手方向の幅と略同
寸法の幅を有するように形成されていても好ましい。こ
れにより、ＭＲ層６の位置をより容易に特定することが
できる。なお、凸部８ｂは、上述した図３〜図５に示す
ような位置に限らず、ＭＲ層６との間で所定の位置関係
となる位置に設けられていれば良い。すなわち、凸部８
ｂがＭＲ層６と所定の位置関係となる位置に設けられて
いることにより、この凸部８ｂを光学顕微鏡等で認知す
ることにより上記所定の位置関係に基づいてＭＲ層６の
位置を特定することができるからである。ここで、マー
カは、光学顕微鏡等で認知できる大きさとなされていれ
ば何れの形状であっても良く、凸部８ｂに限らず、凸部
が連続してなる段部や、図６に示すような凹部８ｄや、
凹部が連続してなる溝部であっても良い。また、凸部８
ｂは、上部シールド層８に限らず、下部シールド層４上
でも良く、つまり凸部８ｂのＭＲ層６に対する位置関係
が明確な状態で凸部８ｂが形成されていれば、上部シー
ルド層４及び下部シールド層８の主面４ａ，４ｂ，８
ａ，８ｃの何れの主面に形成されていても良い。但し、
下部シールド層４の主面４ａにマーカを形成する場合に
は、図７に示すように、下部ギャップ層５の厚みが上部
ギャップ７や絶縁層９の厚みよりも薄いことから、凸部
とするよりも凹部４ｃを形成した方がより容易に形成で
きる。
ＭＲ層６の中心線Ｃ１と凸部８ｂの中心線Ｃ２とが一致
する位置に設けられていても好ましい。これにより、凸
部８ｂの位置からＭＲ層６の中心位置を特定できる。更
に、このマーカとなる凸部８ｂ２は、図５に示すよう
に、ＭＲ層６の媒体摺動面における長手方向の幅と略同
寸法の幅を有するように形成されていても好ましい。こ
れにより、ＭＲ層６の位置をより容易に特定することが
できる。なお、凸部８ｂは、上述した図３〜図５に示す
ような位置に限らず、ＭＲ層６との間で所定の位置関係
となる位置に設けられていれば良い。すなわち、凸部８
ｂがＭＲ層６と所定の位置関係となる位置に設けられて
いることにより、この凸部８ｂを光学顕微鏡等で認知す
ることにより上記所定の位置関係に基づいてＭＲ層６の
位置を特定することができるからである。ここで、マー
カは、光学顕微鏡等で認知できる大きさとなされていれ
ば何れの形状であっても良く、凸部８ｂに限らず、凸部
が連続してなる段部や、図６に示すような凹部８ｄや、
凹部が連続してなる溝部であっても良い。また、凸部８
ｂは、上部シールド層８に限らず、下部シールド層４上
でも良く、つまり凸部８ｂのＭＲ層６に対する位置関係
が明確な状態で凸部８ｂが形成されていれば、上部シー
ルド層４及び下部シールド層８の主面４ａ，４ｂ，８
ａ，８ｃの何れの主面に形成されていても良い。但し、
下部シールド層４の主面４ａにマーカを形成する場合に
は、図７に示すように、下部ギャップ層５の厚みが上部
ギャップ７や絶縁層９の厚みよりも薄いことから、凸部
とするよりも凹部４ｃを形成した方がより容易に形成で
きる。
【００１７】以上のように構成される本発明のＭＲヘッ
ド１は、以下に示すようなヘリカルスキャン方式の磁気
記録再生装置における回転ヘッド組立体に搭載される。
ヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置における回転
ヘッド組立体２０では、図８に示すように、固定ドラム
２０ａ上に、これと同軸の回転ドラム２１が回転自在に
支持され、図示しないモータの動力により、回転ドラム
２１が図８中矢印方向に回転駆動される。そして、この
回転ヘッド組立体２０には、回転ドラム２１の外周面上
に複数の薄膜磁気ヘッドが搭載される。また、磁気記録
媒体である磁気テープ２３は、回転ヘッド組立体２０に
ヘリカル軌跡にて所定角度巻き付けられて図中矢印方向
へ走行する。この間、回転ドラム２１が回転し、この回
転ドラム２１に搭載された複数の薄膜磁気ヘッドが磁気
テープ２３上を走査する。
ド１は、以下に示すようなヘリカルスキャン方式の磁気
記録再生装置における回転ヘッド組立体に搭載される。
ヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置における回転
ヘッド組立体２０では、図８に示すように、固定ドラム
２０ａ上に、これと同軸の回転ドラム２１が回転自在に
支持され、図示しないモータの動力により、回転ドラム
２１が図８中矢印方向に回転駆動される。そして、この
回転ヘッド組立体２０には、回転ドラム２１の外周面上
に複数の薄膜磁気ヘッドが搭載される。また、磁気記録
媒体である磁気テープ２３は、回転ヘッド組立体２０に
ヘリカル軌跡にて所定角度巻き付けられて図中矢印方向
へ走行する。この間、回転ドラム２１が回転し、この回
転ドラム２１に搭載された複数の薄膜磁気ヘッドが磁気
テープ２３上を走査する。
【００１８】本発明のＭＲヘッド１は、図９及び図１０
に示すように、回転ドラム２１の外周面に取り付けられ
たベース基板２２の表面２２ａ上に、媒体摺動面１ｃが
回転ヘッド組立体２０の外周に露出するように配設され
る。そして、回転ヘッド組立体２０には、ＭＲヘッド１
の他に、記録用インダクティブヘッド及び再生用ＭＲヘ
ッドを併せ持つ複合型磁気ヘッド３１を搭載している。
また、ベース基板２２には、フレキシブルプリント配線
基板等の回路基板２２ｂも設けられ、その端子部２２ｂ
１とボンディングパッド１１とがボールボンディング法
で形成されたボール１１ａにより接続される。なお、回
転ヘッド組立体２０では、図８に示すように互いに対向
する位置に２個の薄膜ヘッドが搭載されているタイプに
限らず、３個以上の薄膜磁気ヘッドが搭載されていても
良い。また、回転ヘッド組立体２０に搭載される複数の
薄膜磁気ヘッドの構成としては、全てが複合型磁気ヘッ
ドである方式、記録用インダクティブヘッドと再生用Ｍ
Ｒヘッドとが別々に搭載されている方式、複合型磁気ヘ
ッドとＭＲヘッドとが混在している方式等の様々なタイ
プがある。
に示すように、回転ドラム２１の外周面に取り付けられ
たベース基板２２の表面２２ａ上に、媒体摺動面１ｃが
回転ヘッド組立体２０の外周に露出するように配設され
る。そして、回転ヘッド組立体２０には、ＭＲヘッド１
の他に、記録用インダクティブヘッド及び再生用ＭＲヘ
ッドを併せ持つ複合型磁気ヘッド３１を搭載している。
また、ベース基板２２には、フレキシブルプリント配線
基板等の回路基板２２ｂも設けられ、その端子部２２ｂ
１とボンディングパッド１１とがボールボンディング法
で形成されたボール１１ａにより接続される。なお、回
転ヘッド組立体２０では、図８に示すように互いに対向
する位置に２個の薄膜ヘッドが搭載されているタイプに
限らず、３個以上の薄膜磁気ヘッドが搭載されていても
良い。また、回転ヘッド組立体２０に搭載される複数の
薄膜磁気ヘッドの構成としては、全てが複合型磁気ヘッ
ドである方式、記録用インダクティブヘッドと再生用Ｍ
Ｒヘッドとが別々に搭載されている方式、複合型磁気ヘ
ッドとＭＲヘッドとが混在している方式等の様々なタイ
プがある。
【００１９】以上述べたように、本発明のＭＲヘッド１
は、上部シールド層８の一主面８ａ上において、ＭＲ層
６と所定の位置関係となる位置に、凸部８ｂが形成され
ているので、これがＭＲ層６を特定するマーカとなる。
よって、本発明によれば、光学顕微鏡等によりこの凸部
８ｂを認知することにより、凸部８ｂの位置から上記所
定の位置関係に基づいてＭＲ層６の位置を特定すること
ができる。その結果、ＭＲヘッド１をベース基板２２の
表面２２ａ上に取り付けて回転ドラム２１上に搭載する
際に、図１１に示すように、ベース基板２２からＭＲ層
６の端部までの高さを所望の高さＨ０に合うように調整
して取り付けることができ、また所望の高さＨ０の位置
に取り付けられたか否かも確認できる。
は、上部シールド層８の一主面８ａ上において、ＭＲ層
６と所定の位置関係となる位置に、凸部８ｂが形成され
ているので、これがＭＲ層６を特定するマーカとなる。
よって、本発明によれば、光学顕微鏡等によりこの凸部
８ｂを認知することにより、凸部８ｂの位置から上記所
定の位置関係に基づいてＭＲ層６の位置を特定すること
ができる。その結果、ＭＲヘッド１をベース基板２２の
表面２２ａ上に取り付けて回転ドラム２１上に搭載する
際に、図１１に示すように、ベース基板２２からＭＲ層
６の端部までの高さを所望の高さＨ０に合うように調整
して取り付けることができ、また所望の高さＨ０の位置
に取り付けられたか否かも確認できる。
【００２０】なお、回転ヘッド組立体２０に搭載される
薄膜ヘッド３１として複合型磁気ヘッドを用いる場合、
図１１及び図１２に示すように、本発明のＭＲヘッド１
上に記録用インダクティブ型磁気ヘッド４１を形成して
構成した複合型磁気ヘッドを用いると好ましい。薄膜磁
気ヘッド３１は、ＭＲヘッド１上に記録用インダクティ
ブヘッド４１が形成されている。このインダクティブヘ
ッド４１は、図１２に示すように、上部シールド層８と
兼用の下部コア層４２上に、ギャップ層４３を介して上
部コア層４４及び保護層である絶縁層４４が順次積層形
成されてなる。そして、下部コア層４２と上部コア層４
４とにより挟まれる部分が書き込み用の磁気ギャップＧ
ｂを構成する。なお、コイル層は図示していないが、上
部コア層４４の両サイドに形成されている。
薄膜ヘッド３１として複合型磁気ヘッドを用いる場合、
図１１及び図１２に示すように、本発明のＭＲヘッド１
上に記録用インダクティブ型磁気ヘッド４１を形成して
構成した複合型磁気ヘッドを用いると好ましい。薄膜磁
気ヘッド３１は、ＭＲヘッド１上に記録用インダクティ
ブヘッド４１が形成されている。このインダクティブヘ
ッド４１は、図１２に示すように、上部シールド層８と
兼用の下部コア層４２上に、ギャップ層４３を介して上
部コア層４４及び保護層である絶縁層４４が順次積層形
成されてなる。そして、下部コア層４２と上部コア層４
４とにより挟まれる部分が書き込み用の磁気ギャップＧ
ｂを構成する。なお、コイル層は図示していないが、上
部コア層４４の両サイドに形成されている。
【００２１】ギャップ層４３は、アルミナ（Ａｌ2Ｏ3）
やＳｉＯ2等の絶縁性材料からなる。上部コア層４４
は、パーマロイ等の軟磁性材料によってメッキ形成され
ている。このとき、ＭＲヘッド１の上部シールド層８の
主面８ａ上に形成される凸部８ｂ１は、ＭＲ層６と所定
の位置関係となる位置で、且つ書き込み用磁気ギャップ
Ｇｂを形成する上部コア層４４に対向する領域Ｗから外
れた位置に設けられていることが好ましい。凸部８ｂ１
の存在により磁気ギャップＧｂに与える影響を極力回避
するためである。なお、複合型磁気ヘッドの場合、この
マーカとなる凸部８ｂ１は、上部シールド層８及び下部
シールド層４の他の主面８ａ，８ｃ，４ａ，４ｂ上にお
いて形成されていても良いが、何れの主面上に形成され
る場合も磁気ギャップＧｂへの影響を回避するために、
上部コア層４４と対向する領域Ｗから外れた位置に形成
されることが好ましい。
やＳｉＯ2等の絶縁性材料からなる。上部コア層４４
は、パーマロイ等の軟磁性材料によってメッキ形成され
ている。このとき、ＭＲヘッド１の上部シールド層８の
主面８ａ上に形成される凸部８ｂ１は、ＭＲ層６と所定
の位置関係となる位置で、且つ書き込み用磁気ギャップ
Ｇｂを形成する上部コア層４４に対向する領域Ｗから外
れた位置に設けられていることが好ましい。凸部８ｂ１
の存在により磁気ギャップＧｂに与える影響を極力回避
するためである。なお、複合型磁気ヘッドの場合、この
マーカとなる凸部８ｂ１は、上部シールド層８及び下部
シールド層４の他の主面８ａ，８ｃ，４ａ，４ｂ上にお
いて形成されていても良いが、何れの主面上に形成され
る場合も磁気ギャップＧｂへの影響を回避するために、
上部コア層４４と対向する領域Ｗから外れた位置に形成
されることが好ましい。
【００２２】以上のように構成される本発明のＭＲヘッ
ド１は、次のように製造されるものである。まず、以下
のような行程を経て、ＭＲヘッド１の素子部を製造す
る。先ず、非磁性材料からなる基板２上に、絶縁性材料
からなる下地層として絶縁層３がスパッタリングにより
薄膜形成される。そして、この絶縁層３上に、磁性材料
からなる下部シールド層４をメッキ法により形成し、こ
の上に、非磁性材料からなる下部ギャップ層５及びＭＲ
層６をスパッタリングにより順次積層形成する。このと
き、ＭＲ層６は、フォトリソグラフィ技術によりフォト
レジストを用いてパターニングされた後、ミリングによ
り加工され、しかる後、レジストを剥離する行程により
短冊形状に形成する。なお、図示しないハード層は、Ｍ
Ｒ層が薄膜形成された後パターニングされる前段階で、
成膜、フォトリソグラフィ技術によるパターニング、ミ
リング加工及びレジスト剥離の行程を経ることにより所
望の形状に形成する。また、ＭＲ層６を短冊形状に加工
した後には、このＭＲ層６及び下部ギャップ５上に、電
極材料をスパッタリングにより成膜し、この電極材料層
をパターニング、ミリング加工及びレジスト剥離行程を
経ることにより、図示しない引出し電極を形成する。そ
して、これらの上に非磁性材料からなる上部ギャップ層
７をスパッタリングにより形成し、上部ギャップ層７上
に磁性材料からなる上部シールド層８をメッキ法により
薄膜形成する。
ド１は、次のように製造されるものである。まず、以下
のような行程を経て、ＭＲヘッド１の素子部を製造す
る。先ず、非磁性材料からなる基板２上に、絶縁性材料
からなる下地層として絶縁層３がスパッタリングにより
薄膜形成される。そして、この絶縁層３上に、磁性材料
からなる下部シールド層４をメッキ法により形成し、こ
の上に、非磁性材料からなる下部ギャップ層５及びＭＲ
層６をスパッタリングにより順次積層形成する。このと
き、ＭＲ層６は、フォトリソグラフィ技術によりフォト
レジストを用いてパターニングされた後、ミリングによ
り加工され、しかる後、レジストを剥離する行程により
短冊形状に形成する。なお、図示しないハード層は、Ｍ
Ｒ層が薄膜形成された後パターニングされる前段階で、
成膜、フォトリソグラフィ技術によるパターニング、ミ
リング加工及びレジスト剥離の行程を経ることにより所
望の形状に形成する。また、ＭＲ層６を短冊形状に加工
した後には、このＭＲ層６及び下部ギャップ５上に、電
極材料をスパッタリングにより成膜し、この電極材料層
をパターニング、ミリング加工及びレジスト剥離行程を
経ることにより、図示しない引出し電極を形成する。そ
して、これらの上に非磁性材料からなる上部ギャップ層
７をスパッタリングにより形成し、上部ギャップ層７上
に磁性材料からなる上部シールド層８をメッキ法により
薄膜形成する。
【００２３】次に、図１３に示すように、メッキ法によ
り形成された上部シールド層８の平坦面上に、フォトリ
ソグラフィ技術を用いてフォトレジスト１２を成膜し、
その後、フォトリソ装置により凸部８ｂを設ける位置が
凹部状となるようにパターニングする。その後、パター
ニングされたフォトレジストをマスクとしてミリング加
工を施し、図１４に示すように、凸部８ｂを設ける位置
に凹部１２ａを形成する。次に、図１５に示すように、
パターニングにより残されたフォトレジスト及び凹部１
２ａ上に、メッキ法により上部シールド層８と同様な磁
性材料を用いてメッキ層１３を形成する。そして、パタ
ーニングにより残されたフォトレジストを溶剤により剥
離して、図１６に示すような凸部８ｂが形成された上部
シールド層８が得られる。そして、この後、絶縁材料を
用いて、この上部シールド層８上にスパッタリングによ
り絶縁層９を薄膜形成して、図３に示すようなＭＲヘッ
ド１の素子部が得られる。
り形成された上部シールド層８の平坦面上に、フォトリ
ソグラフィ技術を用いてフォトレジスト１２を成膜し、
その後、フォトリソ装置により凸部８ｂを設ける位置が
凹部状となるようにパターニングする。その後、パター
ニングされたフォトレジストをマスクとしてミリング加
工を施し、図１４に示すように、凸部８ｂを設ける位置
に凹部１２ａを形成する。次に、図１５に示すように、
パターニングにより残されたフォトレジスト及び凹部１
２ａ上に、メッキ法により上部シールド層８と同様な磁
性材料を用いてメッキ層１３を形成する。そして、パタ
ーニングにより残されたフォトレジストを溶剤により剥
離して、図１６に示すような凸部８ｂが形成された上部
シールド層８が得られる。そして、この後、絶縁材料を
用いて、この上部シールド層８上にスパッタリングによ
り絶縁層９を薄膜形成して、図３に示すようなＭＲヘッ
ド１の素子部が得られる。
【００２４】つぎに、このように形成されるＭＲヘッド
１の素子部と、このＭＲヘッド１の素子部に設けられる
２つのボンディングパッド１１とからなる薄膜素子Ｚ
を、基板２上に、図１７に示すように、複数個マトリッ
クス状に形成する。その後、図１８に示すように、ＭＲ
ヘッド１のＭＲ層６の磁気ギャップＧａが露出する面が
並列して露出するように、基板２を切断してバー１４を
形成する。なお、図中の点線は、各ユニット毎の領域の
境界を示すものである。次に、図１９に示すように、ア
ルミナチタンカーバイド等の非磁性材料からなる角柱状
の保護板１０を、複数のＭＲヘッド１の素子部に接合さ
せて、２つのボンディングパッド１１を露出するように
して、樹脂からなる接着剤等の接着手段により張り合わ
せる。次に、図２０に示すように、バー１４を保護板１
０とともに各薄膜素子Ｚごとに切断する。このときの切
断方向は、図中実践で示したように境界から所定のアジ
マス角θｘだけ傾けて切断する。この切断面は基板２の
ＭＲ層６等が形成される面２ａとなる。このように、バ
ー１４の状態から切断するだけで、ＭＲ層６のアジマス
角θｘが決定される。そして、その後、基板２の側面２
及び保護板１０の側面１０ａを、研磨・研削工程を経て
成形することにより、なだらかな曲面状のテープ摺動面
１ｃを形成する。
１の素子部と、このＭＲヘッド１の素子部に設けられる
２つのボンディングパッド１１とからなる薄膜素子Ｚ
を、基板２上に、図１７に示すように、複数個マトリッ
クス状に形成する。その後、図１８に示すように、ＭＲ
ヘッド１のＭＲ層６の磁気ギャップＧａが露出する面が
並列して露出するように、基板２を切断してバー１４を
形成する。なお、図中の点線は、各ユニット毎の領域の
境界を示すものである。次に、図１９に示すように、ア
ルミナチタンカーバイド等の非磁性材料からなる角柱状
の保護板１０を、複数のＭＲヘッド１の素子部に接合さ
せて、２つのボンディングパッド１１を露出するように
して、樹脂からなる接着剤等の接着手段により張り合わ
せる。次に、図２０に示すように、バー１４を保護板１
０とともに各薄膜素子Ｚごとに切断する。このときの切
断方向は、図中実践で示したように境界から所定のアジ
マス角θｘだけ傾けて切断する。この切断面は基板２の
ＭＲ層６等が形成される面２ａとなる。このように、バ
ー１４の状態から切断するだけで、ＭＲ層６のアジマス
角θｘが決定される。そして、その後、基板２の側面２
及び保護板１０の側面１０ａを、研磨・研削工程を経て
成形することにより、なだらかな曲面状のテープ摺動面
１ｃを形成する。
【００２５】以上のようにして、図１〜図３に示すよう
な本発明のＭＲヘッド１が製造される。本発明のＭＲヘ
ッド１は、上部シールド層８の一主面８ａ上に凸部８ｂ
が形成され、この凸部８ｂがＭＲ層６の位置を特定する
マーカとなる。よって、本発明のＭＲヘッド１は、上記
の工程によりアジマス角θｘを設けるためにバー１４を
切断した際に切断工程での切断寸法の誤差等が生じて
も、ＭＲ層６の位置が所望の位置に形成されているか否
か、つまりＭＲ層６の端部の高さが所望の高さＨ０であ
るか否かを、この凸部８ｂを光学顕微鏡などにより認知
することにより判断することができる。そして、この凸
部８ｂにより特定したＭＲ層６の端部の高さが等しい複
数の磁気ヘッドを選択的にペアリングして、ベース基板
２２上に搭載することができる。また、上述したよう
に、本発明のＭＲヘッド１では、凸部８ｂを光学顕微鏡
等により認知することにより、ＭＲヘッド１をベース基
板２２上に取り付ける際にＭＲ層６の高さが所望の高さ
Ｈ０であるか否か、つまり取り付け誤差の有無を判断す
ることができ、更に取り付け高さを調整することが可能
となる。
な本発明のＭＲヘッド１が製造される。本発明のＭＲヘ
ッド１は、上部シールド層８の一主面８ａ上に凸部８ｂ
が形成され、この凸部８ｂがＭＲ層６の位置を特定する
マーカとなる。よって、本発明のＭＲヘッド１は、上記
の工程によりアジマス角θｘを設けるためにバー１４を
切断した際に切断工程での切断寸法の誤差等が生じて
も、ＭＲ層６の位置が所望の位置に形成されているか否
か、つまりＭＲ層６の端部の高さが所望の高さＨ０であ
るか否かを、この凸部８ｂを光学顕微鏡などにより認知
することにより判断することができる。そして、この凸
部８ｂにより特定したＭＲ層６の端部の高さが等しい複
数の磁気ヘッドを選択的にペアリングして、ベース基板
２２上に搭載することができる。また、上述したよう
に、本発明のＭＲヘッド１では、凸部８ｂを光学顕微鏡
等により認知することにより、ＭＲヘッド１をベース基
板２２上に取り付ける際にＭＲ層６の高さが所望の高さ
Ｈ０であるか否か、つまり取り付け誤差の有無を判断す
ることができ、更に取り付け高さを調整することが可能
となる。
【００２６】なお、上部シールド層８にマーカとして凹
部８ｄを設ける製造方法を以下に説明する。先ず、平坦
な面となされている状態の上部シード層８を形成するま
での工程は上述した工程と同様とする。そして、図２１
に示すように、上部シールド層８上に、フォトリソグラ
フィ技術を用いてフォトレジスト１５を成膜し、その
後、フォトリソ装置により凹部８ｄを設ける位置が凹部
状となるようにパターニングする。その後、図２２に示
すように、パターニングされたフォトレジストをマスク
としてミリング加工を施し、上部シールド層８に凹部８
ｄを形成する。そして、パターニングにより残されたフ
ォトレジスト１５を溶剤により剥離して、図２３に示す
ような凹部８ｄが形成された上部シールド層８が得られ
る。この後、絶縁材料を用いて、上部シールド層８上に
スパッタリングにより絶縁層９を薄膜形成して、図６に
示すようなＭＲヘッド１の素子部が得られる。
部８ｄを設ける製造方法を以下に説明する。先ず、平坦
な面となされている状態の上部シード層８を形成するま
での工程は上述した工程と同様とする。そして、図２１
に示すように、上部シールド層８上に、フォトリソグラ
フィ技術を用いてフォトレジスト１５を成膜し、その
後、フォトリソ装置により凹部８ｄを設ける位置が凹部
状となるようにパターニングする。その後、図２２に示
すように、パターニングされたフォトレジストをマスク
としてミリング加工を施し、上部シールド層８に凹部８
ｄを形成する。そして、パターニングにより残されたフ
ォトレジスト１５を溶剤により剥離して、図２３に示す
ような凹部８ｄが形成された上部シールド層８が得られ
る。この後、絶縁材料を用いて、上部シールド層８上に
スパッタリングにより絶縁層９を薄膜形成して、図６に
示すようなＭＲヘッド１の素子部が得られる。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の薄膜磁気ヘ
ッドには、シールド層の主面上に凸部及び凹部のうちの
少なくとも何れかが設けられており、この凸部及び凹部
のうちの少なくとも何れかが磁気抵抗効果層と所定の位
置関係となる位置に設けられているため、これが磁気抵
抗効果層を特定するマーカとなる。よって、このマーカ
を認知することにより磁気抵抗効果層の位置を特定する
ことができる。その結果、本発明の薄膜磁気ヘッドによ
れば、磁気記録再生装置に複数個取り付ける際に、この
マーカの位置に基づいて各磁気抵抗効果層の取り付け高
さをそれぞれ合わせることが可能となる。したがって、
本発明によれば、ヘリカルスキャン方式の磁気記録再生
装置に搭載するにあたり、記録再生特性に優れ且つ高記
録密度化に十分適応可能な薄膜磁気ヘッドを提供するこ
とができる。
ッドには、シールド層の主面上に凸部及び凹部のうちの
少なくとも何れかが設けられており、この凸部及び凹部
のうちの少なくとも何れかが磁気抵抗効果層と所定の位
置関係となる位置に設けられているため、これが磁気抵
抗効果層を特定するマーカとなる。よって、このマーカ
を認知することにより磁気抵抗効果層の位置を特定する
ことができる。その結果、本発明の薄膜磁気ヘッドによ
れば、磁気記録再生装置に複数個取り付ける際に、この
マーカの位置に基づいて各磁気抵抗効果層の取り付け高
さをそれぞれ合わせることが可能となる。したがって、
本発明によれば、ヘリカルスキャン方式の磁気記録再生
装置に搭載するにあたり、記録再生特性に優れ且つ高記
録密度化に十分適応可能な薄膜磁気ヘッドを提供するこ
とができる。
【図１】本発明のＭＲヘッドを示す斜視図。
【図２】本発明のＭＲヘッドの要部を示す斜視図。
【図３】本発明のＭＲヘッドの構成を示す平面図。
【図４】本発明のＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平
面図。
面図。
【図５】本発明のＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平
面図。
面図。
【図６】本発明のＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平
面図。
面図。
【図７】本発明のＭＲヘッドの他の実施の形態を示す平
面図。
面図。
【図８】ヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置にお
ける回転ドラムを示す斜視図。
ける回転ドラムを示す斜視図。
【図９】本発明のＭＲヘッドを回転ドラムに取り付けた
構成を示す斜視図。
構成を示す斜視図。
【図１０】本発明のＭＲヘッドを回転ドラムに取り付け
た構成を媒体摺動面側から見た平面図。
た構成を媒体摺動面側から見た平面図。
【図１１】本発明のＭＲヘッドをヘリカルスキャン方式
の磁気記録再生装置に適用した構成を媒体摺動面側から
見た平面図。
の磁気記録再生装置に適用した構成を媒体摺動面側から
見た平面図。
【図１２】本発明のＭＲヘッド上に記録用インダクティ
ブヘッドを積層形成してなる複合型磁気ヘッドの構成を
媒体摺動面側から見た平面図。
ブヘッドを積層形成してなる複合型磁気ヘッドの構成を
媒体摺動面側から見た平面図。
【図１３】本発明のＭＲヘッドにおける上部シールド層
に凸部を形成する一工程を示す平面図。
に凸部を形成する一工程を示す平面図。
【図１４】本発明のＭＲヘッドにおける上部シールド層
に凸部を形成する一工程を示す平面図。
に凸部を形成する一工程を示す平面図。
【図１５】本発明のＭＲヘッドにおける上部シールド層
に凸部を形成する一工程を示す平面図。
に凸部を形成する一工程を示す平面図。
【図１６】本発明のＭＲヘッドにおける上部シールド層
に凸部を形成する一工程を示す平面図。
に凸部を形成する一工程を示す平面図。
【図１７】本発明のＭＲヘッドの製造方法の一工程を示
す斜視図。
す斜視図。
【図１８】本発明のＭＲヘッドの製造方法の一工程を示
す斜視図。
す斜視図。
【図１９】本発明のＭＲヘッドの製造方法の一工程を示
す斜視図。
す斜視図。
【図２０】本発明のＭＲヘッドの製造方法のうちアジマ
ス角を形成する工程を示す斜視図。
ス角を形成する工程を示す斜視図。
【図２１】本発明のＭＲヘッドにおける上部シールド層
に凹部を形成する一工程を示す平面図。
に凹部を形成する一工程を示す平面図。
【図２２】本発明のＭＲヘッドにおける上部シールド層
に凹部を形成する一工程を示す平面図。
に凹部を形成する一工程を示す平面図。
【図２３】本発明のＭＲヘッドにおける上部シールド層
に凹部を形成する一工程を示す平面図。
に凹部を形成する一工程を示す平面図。
【図２４】従来のヘリカルスキャン方式の磁気記録再生
装置における回転ドラムの斜視図。
装置における回転ドラムの斜視図。
【図２５】ヘリカルスキャン方式の磁気記録再生装置に
おける記録方式を説明する平面図。
おける記録方式を説明する平面図。
【図２６】複合型磁気ヘッドの構成を示す平面図。
【図２７】磁気ヘッドが回転ドラムのベース基板上に取
り付けられた構成を示す斜視図。
り付けられた構成を示す斜視図。
【図２８】磁気ヘッドが回転ドラムに取り付けられた構
成を媒体摺動面側から見た平面図。
成を媒体摺動面側から見た平面図。
【図２９】図２８中の範囲Ｘを拡大した構成を含み、２
つの磁気ヘッドの各ＭＲ層の高さ合わせを説明する平面
図。
つの磁気ヘッドの各ＭＲ層の高さ合わせを説明する平面
図。
【図３０】２つの磁気ヘッドの各ＭＲ層の高さが相異な
った場合の再生時の再生トラックを示す平面図。
った場合の再生時の再生トラックを示す平面図。
【図３１】磁気ヘッドをベース基板上に取り付ける際の
取り付け誤差を生じる場合を示す平面図。
取り付け誤差を生じる場合を示す平面図。
１ ＭＲヘッド ２ 基板 ３ 絶縁層 ４ 下部シールド層 ５ 下部ギャップ層 ６ ＭＲ層 ７ 上部ギャップ層 ８ 上部シールド層 ８ｂ，８ｄ マーカ ９ 絶縁層 １０ 保護板 １１ ボンディングパッド ２０ 回転ヘッド組立体 ２１ 回転ドラム ２２ ベース基板 ２３ 磁気テープ
Claims (5)
- 【請求項１】 基板上に形成された磁性材料からなる下
部シールド層と、前記下部シールド層上に形成された非
磁性材料からなる下部ギャップ層と、前記下部ギャップ
層を介して前記下部シールド層上に形成された磁気抵抗
効果層と、前記磁気抵抗効果層上に形成された非磁性材
料からなる上部ギャップ層と、前記上部ギャップ層を介
して前記磁気抵抗効果層上に形成された磁性材料からな
る上部シールド層とを備え、前記上部シールド層及び下
部シールド層のうちの少なくとも何れかのシールド層に
は、両主面のうちの少なくとも一方の主面に、凸部及び
凹部のうちの少なくとも何れかが設けられていることを
特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記シールド層に設けられた凸部及び凹
部のうちの少なくとも何れかは、その一部が前記磁気抵
抗効果層と対向する位置に設けられていることを特徴と
する請求項１記載の薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項３】 磁気記録媒体に対して相対的に移動して
前記磁気記録媒体に対してデータを少なくとも読み込む
薄膜磁気ヘッドであって、前記シールド層に設けられた
凸部及び凹部のうちの少なくとも何れかの端部は、前記
磁気記録媒体の前記磁気抵抗効果層に対する移動方向を
基準として、前記磁気抵抗効果層の端部と略同一な高さ
位置にあることを特徴とする請求項１、又は２記載の薄
膜磁気ヘッド。 - 【請求項４】 前記シールド層に設けられた凸部及び凹
部のうちの少なくとも何れかは、前記磁気抵抗効果層の
媒体摺動面における長手方向の幅と略同寸法の幅を有す
ることを特徴とする請求項１〜３記載の薄膜磁気ヘッ
ド。 - 【請求項５】 前記上部シールド層上に形成された非磁
性材料からなるギャップ層と、前記ギャップ層を介して
前記上部シールド層上に形成された磁性材料からなる上
部コア層とを備え、前記シールド層に設けられた凸部及
び凹部の何れも、前記上部コア層と対向する位置とは外
れた位置に設けられていることを特報とする請求項１〜
４記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27177799A JP2001093120A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 薄膜磁気ヘッド |
| US09/670,145 US6683760B1 (en) | 1999-09-27 | 2000-09-26 | Thin film magnetic head comprising track positioning marker |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27177799A JP2001093120A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001093120A true JP2001093120A (ja) | 2001-04-06 |
Family
ID=17504716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27177799A Pending JP2001093120A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6683760B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001093120A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7130161B2 (en) | 2002-11-28 | 2006-10-31 | Alps Electric Co., Ltd. | Magnetic head having marker layer, and tape-medium reading and writing apparatus |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2002224414B2 (en) * | 2000-10-18 | 2006-10-19 | Clarity Technologies Incorporated | Method and device for diluting a fluid and detecting analytes within a diluted fluid |
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| US5202807A (en) | 1989-10-05 | 1993-04-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magnetic head device for providing high recording densities at high speeds |
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| TW326092B (en) * | 1996-06-28 | 1998-02-01 | Thomson Brandt Gmbh | Multitrack tape device using a movable magnetic head with a planar surface and comprising tape supporting means |
| JP3349925B2 (ja) * | 1996-09-10 | 2002-11-25 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
| JP2980041B2 (ja) * | 1996-11-26 | 1999-11-22 | 日本電気株式会社 | 複合ヘッドの製造方法 |
| US6305072B1 (en) * | 1996-11-28 | 2001-10-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for manufacturing thin film magnetic head |
| JP3474447B2 (ja) * | 1998-07-10 | 2003-12-08 | Ｔｄｋ株式会社 | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに薄膜磁気ヘッド用素材およびその製造方法 |
| JP3473939B2 (ja) * | 1998-10-13 | 2003-12-08 | Ｔｄｋ株式会社 | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JP2001067610A (ja) | 1999-08-31 | 2001-03-16 | Sony Corp | 磁気ヘッド及び回転磁気ヘッド装置並びに磁気ヘッドのトラック位置検索用マーカーの形成方法 |
-
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-
2000
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7130161B2 (en) | 2002-11-28 | 2006-10-31 | Alps Electric Co., Ltd. | Magnetic head having marker layer, and tape-medium reading and writing apparatus |
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