JP2000191966A - 酸化物膜形成用インキおよび金属酸化物膜の形成方法 - Google Patents
酸化物膜形成用インキおよび金属酸化物膜の形成方法Info
- Publication number
- JP2000191966A JP2000191966A JP36938998A JP36938998A JP2000191966A JP 2000191966 A JP2000191966 A JP 2000191966A JP 36938998 A JP36938998 A JP 36938998A JP 36938998 A JP36938998 A JP 36938998A JP 2000191966 A JP2000191966 A JP 2000191966A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- forming
- oxide film
- film
- silicon oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】４００℃以上の高温で焼成しても硬度、耐摩耗
性、耐久性に優れるケイ素を含有する酸化物被膜を、安
定して形成する。 【解決手段】インキ中の被膜形成成分として、メチルト
リアルコキシシランの加水分解および重縮合により形成
された酸化ケイ素ゾルを含有する。
性、耐久性に優れるケイ素を含有する酸化物被膜を、安
定して形成する。 【解決手段】インキ中の被膜形成成分として、メチルト
リアルコキシシランの加水分解および重縮合により形成
された酸化ケイ素ゾルを含有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車用窓ガラスなど
の車両用板ガラス、ビル用窓ガラス、鏡用ガラスなどの
建築建材用板ガラスなどの各種の分野のガラス物品、さ
らにはセラミックス、金属などの表面に、印刷法などに
よって薄膜を印刷する際の酸化物膜形成用インキおよび
そのインキを用いて形成される金属酸化物膜の形成方法
に関する。
の車両用板ガラス、ビル用窓ガラス、鏡用ガラスなどの
建築建材用板ガラスなどの各種の分野のガラス物品、さ
らにはセラミックス、金属などの表面に、印刷法などに
よって薄膜を印刷する際の酸化物膜形成用インキおよび
そのインキを用いて形成される金属酸化物膜の形成方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、酸化ケイ素等を含む酸化物薄膜を
ガラス基板上にスクリーン印刷法で成膜する方法として
は、例えば、金属アルコキシドと増粘剤を含む薄膜形成
用液体をスクリーン印刷し、印刷膜を形成したのち、５
５０〜６５０温度で加熱して曲げ加工、または／且つ強
化加工を施すと同時に、該印刷膜を焼成して金属酸化物
を主成分とする機能性薄膜を形成する方法（特公平７−
１７４０７号公報等）が知られている。
ガラス基板上にスクリーン印刷法で成膜する方法として
は、例えば、金属アルコキシドと増粘剤を含む薄膜形成
用液体をスクリーン印刷し、印刷膜を形成したのち、５
５０〜６５０温度で加熱して曲げ加工、または／且つ強
化加工を施すと同時に、該印刷膜を焼成して金属酸化物
を主成分とする機能性薄膜を形成する方法（特公平７−
１７４０７号公報等）が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、従来
の上記の方法は、薄膜形成用の原料としての金属アルコ
キシドの具体的開示はない。
の上記の方法は、薄膜形成用の原料としての金属アルコ
キシドの具体的開示はない。
【０００４】
【問題点を解決するための手段】本発明は、酸化ケイ素
を形成する原料として、メチルトリアルコキシシランの
加水分解および重縮合により形成された酸化ケイ素ゾル
を少なくとも含むインキを用いることを特徴とするもの
であり、そのインキにより形成したケイ素を含有する酸
化物被膜は、硬度、耐摩耗性、耐久性を備えるととも
に、該インキの安定性も極めて向上し、各種印刷などで
のトラブルも発現することなく安定して印刷膜形成がで
きることが判明した。
を形成する原料として、メチルトリアルコキシシランの
加水分解および重縮合により形成された酸化ケイ素ゾル
を少なくとも含むインキを用いることを特徴とするもの
であり、そのインキにより形成したケイ素を含有する酸
化物被膜は、硬度、耐摩耗性、耐久性を備えるととも
に、該インキの安定性も極めて向上し、各種印刷などで
のトラブルも発現することなく安定して印刷膜形成がで
きることが判明した。
【０００５】すなわち、本発明は、インキ中の被膜形成
成分として、メチルトリアルコキシシランの加水分解お
よび重縮合により形成された酸化ケイ素ゾルを少なくと
も含むことを特徴とする酸化物膜形成用インキに関す
る。
成分として、メチルトリアルコキシシランの加水分解お
よび重縮合により形成された酸化ケイ素ゾルを少なくと
も含むことを特徴とする酸化物膜形成用インキに関す
る。
【０００６】また、酸化ケイ素の含有量は、インキ中の
被膜形成成分のうち酸化物換算で１０〜１００モル％で
あることが好ましく、さらにインキ副成分として、増粘
成分としてのニトロセルロースと、溶媒としてのエチル
カルビトールまたはブチルカルビトールの内の少なくと
も１種が添加されてなることが好ましい。さらに、イン
キ中の固形分は１〜１０重量％であることが好適であ
る。
被膜形成成分のうち酸化物換算で１０〜１００モル％で
あることが好ましく、さらにインキ副成分として、増粘
成分としてのニトロセルロースと、溶媒としてのエチル
カルビトールまたはブチルカルビトールの内の少なくと
も１種が添加されてなることが好ましい。さらに、イン
キ中の固形分は１〜１０重量％であることが好適であ
る。
【０００７】また、本発明は、基材表面に、メチルトリ
アルコキシシランの加水分解および重縮合により形成さ
れた酸化ケイ素ゾルを少なくとも含むインキを塗布した
後、４００℃以上の焼成温度で焼成することにより、該
基材表面にシリカを含む金属酸化物被膜を形成してなる
ことを特徴とする酸化物膜の形成方法に関する。該酸化
物膜中の酸化ケイ素の含有量は１０〜１００モル％であ
ることが好ましい。
アルコキシシランの加水分解および重縮合により形成さ
れた酸化ケイ素ゾルを少なくとも含むインキを塗布した
後、４００℃以上の焼成温度で焼成することにより、該
基材表面にシリカを含む金属酸化物被膜を形成してなる
ことを特徴とする酸化物膜の形成方法に関する。該酸化
物膜中の酸化ケイ素の含有量は１０〜１００モル％であ
ることが好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明は、被膜形成成分としての
メチルトリアルコキシシランの加水分解および重縮合に
より形成された酸化ケイ素ゾル等の成分と、増粘剤およ
び溶媒等の副成分を混合調整後、基材表面に塗布成膜し
たのち、乾燥・焼成させることにより酸化ケイ素を含む
酸化物膜を固化形成することができる。
メチルトリアルコキシシランの加水分解および重縮合に
より形成された酸化ケイ素ゾル等の成分と、増粘剤およ
び溶媒等の副成分を混合調整後、基材表面に塗布成膜し
たのち、乾燥・焼成させることにより酸化ケイ素を含む
酸化物膜を固化形成することができる。
【０００９】本発明のインキ中の被膜形成成分は、メチ
ルトリアルコキシシランの加水分解および重縮合により
形成された酸化ケイ素ゾルを少なくとも含み、場合によ
ってはケイ素金属を除く金属アルコキシド、金属アセチ
ルアセトナート、金属有機酸塩、金属化合物の加水分解
および重縮合により形成されたケイ素以外の他の金属酸
化物のゾルとの混合物も用いることが出来る。
ルトリアルコキシシランの加水分解および重縮合により
形成された酸化ケイ素ゾルを少なくとも含み、場合によ
ってはケイ素金属を除く金属アルコキシド、金属アセチ
ルアセトナート、金属有機酸塩、金属化合物の加水分解
および重縮合により形成されたケイ素以外の他の金属酸
化物のゾルとの混合物も用いることが出来る。
【００１０】酸化ケイ素を含む酸化物膜を形成するイン
キの主な原料としては、メチルトリアルコキシシランの
加水分解および重縮合により形成された酸化ケイ素ゾル
を少なくとも含むものであるが、、酸化ケイ素以外の金
属酸化物も含有することも出来る。
キの主な原料としては、メチルトリアルコキシシランの
加水分解および重縮合により形成された酸化ケイ素ゾル
を少なくとも含むものであるが、、酸化ケイ素以外の金
属酸化物も含有することも出来る。
【００１１】メチルトリアルコキシシランとしては、例
えばメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ランなどを用いることができる。また、メチルトリアル
コキシシランの加水分解および重縮合により形成された
酸化ケイ素ゾルは、場合によっては市販品でもよく、例
えば市販品のゾルとしては、ＭＴＳ−２（東芝シリコー
ン製）などを用いることができる。
えばメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ランなどを用いることができる。また、メチルトリアル
コキシシランの加水分解および重縮合により形成された
酸化ケイ素ゾルは、場合によっては市販品でもよく、例
えば市販品のゾルとしては、ＭＴＳ−２（東芝シリコー
ン製）などを用いることができる。
【００１２】酸化ケイ素以外の金属酸化物としては、被
膜成分としての酸化チタン、酸化アルミ、酸化ジルコニ
ウム、酸化スズなどが可能であり、それらを形成するた
めの原料としては、微粒子状、ゾル状等特に限定するも
のではない。酸化ケイ素ゾルの含有量は、インキ中の被
膜成分に対して酸化物換算で１０〜１００モル％である
ことが好ましく、１０モル％未満では硬度、耐摩耗性に
よる特性向上が望めないからである。
膜成分としての酸化チタン、酸化アルミ、酸化ジルコニ
ウム、酸化スズなどが可能であり、それらを形成するた
めの原料としては、微粒子状、ゾル状等特に限定するも
のではない。酸化ケイ素ゾルの含有量は、インキ中の被
膜成分に対して酸化物換算で１０〜１００モル％である
ことが好ましく、１０モル％未満では硬度、耐摩耗性に
よる特性向上が望めないからである。
【００１３】さらにまた、インキ中の固形分（固形分と
は、インキ全体量に対する金属酸化物としての合計量）
の含有率は、酸化物換算で１〜１０重量％であることが
好ましく、１重量％未満では、例えば一回の印刷などで
得られる膜厚が薄くなり過ぎて、印刷むらが目立ち易く
なり、得られた薄膜の外観が好ましくなくなり、１０重
量％を超えると、一回の印刷などで得られる膜厚が厚く
なり易く、特に５００ｎｍ以上になるとクラックが発生
し易いし、しかもこのため、耐トラバース性やテーバー
摩耗性、強度などの薄膜強度も低下するためであり、１
〜１０重量％にすることで、スクリーン印刷、グラビア
印刷、凹版印刷などの直後の膜厚が比較的厚くなる成膜
法においても、最終熱処理後にもクラックのない均質な
被膜が得られる。
は、インキ全体量に対する金属酸化物としての合計量）
の含有率は、酸化物換算で１〜１０重量％であることが
好ましく、１重量％未満では、例えば一回の印刷などで
得られる膜厚が薄くなり過ぎて、印刷むらが目立ち易く
なり、得られた薄膜の外観が好ましくなくなり、１０重
量％を超えると、一回の印刷などで得られる膜厚が厚く
なり易く、特に５００ｎｍ以上になるとクラックが発生
し易いし、しかもこのため、耐トラバース性やテーバー
摩耗性、強度などの薄膜強度も低下するためであり、１
〜１０重量％にすることで、スクリーン印刷、グラビア
印刷、凹版印刷などの直後の膜厚が比較的厚くなる成膜
法においても、最終熱処理後にもクラックのない均質な
被膜が得られる。
【００１４】インキに加える増粘成分としてニトロセル
ロースを用いると、増粘効果はもちろん、エチルセルロ
ースなどに比べて燃焼性が良く、焼成後の膜の外観や膜
強度を低下させる炭素成分の残留が少ない。また特にグ
レードをＪＩＳ Ｋ ６７０３に指定の品種および粘度
記号がＨ７以上（Ｈ７、Ｈ２０、Ｈ６０、Ｈ８０、Ｈ１
２０）が好ましく、より良好な増粘効果と、印刷性が得
られる。
ロースを用いると、増粘効果はもちろん、エチルセルロ
ースなどに比べて燃焼性が良く、焼成後の膜の外観や膜
強度を低下させる炭素成分の残留が少ない。また特にグ
レードをＪＩＳ Ｋ ６７０３に指定の品種および粘度
記号がＨ７以上（Ｈ７、Ｈ２０、Ｈ６０、Ｈ８０、Ｈ１
２０）が好ましく、より良好な増粘効果と、印刷性が得
られる。
【００１５】なお、増粘成分の添加量は５〜２５重量％
が好ましく、インキの粘度をスクリーン印刷、グラビア
印刷、凹版印刷などの印刷法に適した１０〜１００ポイ
ズにすることができる。１０ポイズ未満では印刷時には
インキの粘度が低過ぎて、スクリーン版上でインキが広
がり易く、版上でのインキの乾燥を抑制し難く、良好な
パターニングが得られなくなる。また１００ポイズを超
えるとスクリーン印刷時の印刷性が著しく悪くなるばか
りでなく、最終的に焼成が完了した薄膜中にニトロセル
ロースの燃え残りのカーボンが残留して膜が黄褐色に着
色したり、膜面の均質性が損なわれたり、さらに膜の機
械的、化学的耐久性が低下したりし易くなるからであ
る。
が好ましく、インキの粘度をスクリーン印刷、グラビア
印刷、凹版印刷などの印刷法に適した１０〜１００ポイ
ズにすることができる。１０ポイズ未満では印刷時には
インキの粘度が低過ぎて、スクリーン版上でインキが広
がり易く、版上でのインキの乾燥を抑制し難く、良好な
パターニングが得られなくなる。また１００ポイズを超
えるとスクリーン印刷時の印刷性が著しく悪くなるばか
りでなく、最終的に焼成が完了した薄膜中にニトロセル
ロースの燃え残りのカーボンが残留して膜が黄褐色に着
色したり、膜面の均質性が損なわれたり、さらに膜の機
械的、化学的耐久性が低下したりし易くなるからであ
る。
【００１６】このようなニトロセルロースの種類、添加
量、粘度を調整することによって印刷性、得られる薄膜
の均質性を損なうことなくしかも得られる薄膜の屈折率
や耐久性の低下を防止することができる。なお、印刷法
としてはパターニングのし易さから、スクリーン印刷が
特に好ましい。
量、粘度を調整することによって印刷性、得られる薄膜
の均質性を損なうことなくしかも得られる薄膜の屈折率
や耐久性の低下を防止することができる。なお、印刷法
としてはパターニングのし易さから、スクリーン印刷が
特に好ましい。
【００１７】インキに添加する単独でニトロセルロース
を溶かす溶剤としては、アセトン、酢酸メチル、メチル
エチルケトン、イソプロピルアセテート、ジエチルケト
ン、第２酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、イソブ
チルアセテート、メチルセロソルブ、酢酸ブチル、第２
酢酸アミル、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセ
テート、乳酸メチル、酢酸アミル、乳酸エチル、シクロ
ヘキサノン、エチルセロソルブアセテート、ジアセトン
アルコール、ブチルセロソルブ、乳酸ブチル、エチルカ
ルビトール、ブチルカルビトール、３−メトキシブタノ
ール、３−メトキシブチルアセテートなどの溶剤を用い
ることができる。特に、カルビトール類は蒸発しにくい
ことから、インキの溶剤として用いた場合、濃度変化が
少なく安定したインキが得られる。またＳｉ源やその他
の金属酸化物源から供給される、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、
ヘキシレングリコールなどのアルコール類、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒、水などの溶媒を
濃度調整などの目的で上記溶剤に加えて用いることがで
きる。
を溶かす溶剤としては、アセトン、酢酸メチル、メチル
エチルケトン、イソプロピルアセテート、ジエチルケト
ン、第２酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、イソブ
チルアセテート、メチルセロソルブ、酢酸ブチル、第２
酢酸アミル、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセ
テート、乳酸メチル、酢酸アミル、乳酸エチル、シクロ
ヘキサノン、エチルセロソルブアセテート、ジアセトン
アルコール、ブチルセロソルブ、乳酸ブチル、エチルカ
ルビトール、ブチルカルビトール、３−メトキシブタノ
ール、３−メトキシブチルアセテートなどの溶剤を用い
ることができる。特に、カルビトール類は蒸発しにくい
ことから、インキの溶剤として用いた場合、濃度変化が
少なく安定したインキが得られる。またＳｉ源やその他
の金属酸化物源から供給される、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、
ヘキシレングリコールなどのアルコール類、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒、水などの溶媒を
濃度調整などの目的で上記溶剤に加えて用いることがで
きる。
【００１８】さらにまた、溶媒としてエチルカルビトー
ルもしくはブチルカルビトールあるいはこれらの混合物
を用いると、例えば印刷などの前のインキの急激な乾燥
を抑制でき、かつ印刷などの後被膜が比較的低温（約２
００℃程度）で乾燥でき、したがってこれらによって、
ポットライフが長くしかも印刷などの後には比較的低温
で薄膜が乾燥するため、最終温度の加熱処理によって均
一な膜面をもつ被膜が得られる。
ルもしくはブチルカルビトールあるいはこれらの混合物
を用いると、例えば印刷などの前のインキの急激な乾燥
を抑制でき、かつ印刷などの後被膜が比較的低温（約２
００℃程度）で乾燥でき、したがってこれらによって、
ポットライフが長くしかも印刷などの後には比較的低温
で薄膜が乾燥するため、最終温度の加熱処理によって均
一な膜面をもつ被膜が得られる。
【００１９】該インキを用いた印刷膜は、用途に応じた
膜強度と耐久性を得るために熱処理する必要があり、特
にケイ素の原料であるメチルトリアルコキシシランのメ
チル基が燃焼する約４００℃以上で熱処理することが望
ましい。
膜強度と耐久性を得るために熱処理する必要があり、特
にケイ素の原料であるメチルトリアルコキシシランのメ
チル基が燃焼する約４００℃以上で熱処理することが望
ましい。
【００２０】
【実施例１】メチルトリメトキシシラン（ＣＨ3Ｓｉ
（ＯＣＨ3）3）を出発原料とし、これに溶媒のイソプロ
ピルアルコール、加水分解用の水、酸触媒として酢酸を
反応させてシリカゾルを合成した。
（ＯＣＨ3）3）を出発原料とし、これに溶媒のイソプロ
ピルアルコール、加水分解用の水、酸触媒として酢酸を
反応させてシリカゾルを合成した。
【００２１】このシリカゾル溶液に増粘剤としてニトロ
セルロースＨ７（ダイセル製）をインキ全体の約１６重
量％添加し、該シリカ膜形成用インキの溶質濃度が酸化
物換算で２重量％となるよう、エチルカルビトールを溶
媒として添加し、良く混合攪拌しシリカ膜形成用インキ
とした。なお、インキの粘度を測ったところ２０ポイズ
であった。なお、 基材は、ソーダライムガラス板（２
ｍｍ厚、クリアー）を用いた。
セルロースＨ７（ダイセル製）をインキ全体の約１６重
量％添加し、該シリカ膜形成用インキの溶質濃度が酸化
物換算で２重量％となるよう、エチルカルビトールを溶
媒として添加し、良く混合攪拌しシリカ膜形成用インキ
とした。なお、インキの粘度を測ったところ２０ポイズ
であった。なお、 基材は、ソーダライムガラス板（２
ｍｍ厚、クリアー）を用いた。
【００２２】次に、所定形状にパターニングした３５０
メッシュのテトロンスクリーンをガラス板上にのせ、シ
ョアー硬度ＨＳ６１のスキージーを用いて前記シリカ膜
形成用インキで基材表面にスクリーン印刷しところ、均
質できれいにパターニングされた印刷膜が得られた。そ
の後、６００℃で１０分間加熱処理を行ったところ、膜
厚が１５０ｎｍのシリカ膜付きガラスが得られた。
メッシュのテトロンスクリーンをガラス板上にのせ、シ
ョアー硬度ＨＳ６１のスキージーを用いて前記シリカ膜
形成用インキで基材表面にスクリーン印刷しところ、均
質できれいにパターニングされた印刷膜が得られた。そ
の後、６００℃で１０分間加熱処理を行ったところ、膜
厚が１５０ｎｍのシリカ膜付きガラスが得られた。
【００２３】
【実施例２】シリカゾル溶液として、ＭＴＳ−２（東芝
シリコーン製）を用いた以外は、実施例１と同様とし
た。
シリコーン製）を用いた以外は、実施例１と同様とし
た。
【００２４】
【実施例３】シリカゾル溶液として、ＭＴＳ−２を用
い、これにチタンイソプロポキシドを出発原料としたチ
タニアゾルをＳiＯ2：ＴiＯ2＝９０：１０（モル％）と
なるように混合したものをゾル溶液として用いた以外
は、実施例１と同様とした。
い、これにチタンイソプロポキシドを出発原料としたチ
タニアゾルをＳiＯ2：ＴiＯ2＝９０：１０（モル％）と
なるように混合したものをゾル溶液として用いた以外
は、実施例１と同様とした。
【００２５】
【比較例１】テトラエトキシシランを出発原料とした以
外は、実施例１と同様とした。上記膜の耐トラバース試
験、硬度試験、ヘーズ値を評価した。得られた結果を表
１に示す。
外は、実施例１と同様とした。上記膜の耐トラバース試
験、硬度試験、ヘーズ値を評価した。得られた結果を表
１に示す。
【００２６】なお、評価は以下の方法により行った。 （１）．耐トラバース試験；摩耗布にＪＩＳ Ｌ ０８
０３に準じたブロード布、圧着面積を６.２５ｃｍ2とし
て、０.１ｋｇ／ｃｍ2の荷重を加え、摺動速度３０往復
／分、摺動長１０ｃｍで１,０００回摺動し、膜の剥離
の有無と著しい膜の傷付きの有無で膜の密着性を評価し
た。 （２）．硬度試験；シリカ膜付きガラスをＪＩＳ Ｋ
５４００に準じて、鉛筆心の硬さによる傷の有無を評価
した。なお、傷の付かない一番硬い鉛筆心を鉛筆硬度と
した。 （３）．ヘーズ値；ヘーズメータを用いて、曇価の測定
を行った。
０３に準じたブロード布、圧着面積を６.２５ｃｍ2とし
て、０.１ｋｇ／ｃｍ2の荷重を加え、摺動速度３０往復
／分、摺動長１０ｃｍで１,０００回摺動し、膜の剥離
の有無と著しい膜の傷付きの有無で膜の密着性を評価し
た。 （２）．硬度試験；シリカ膜付きガラスをＪＩＳ Ｋ
５４００に準じて、鉛筆心の硬さによる傷の有無を評価
した。なお、傷の付かない一番硬い鉛筆心を鉛筆硬度と
した。 （３）．ヘーズ値；ヘーズメータを用いて、曇価の測定
を行った。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【発明の効果】本発明の酸化物膜形成用インキは、メチ
ルトリアルコキシシランを酸化ケイ素の原料として用い
ることで、スクリーン印刷などの印刷法で作製した酸化
ケイ素を含む酸化物膜は、その他の成膜方法のディップ
コート法、ロールコート法、スピンコート法などに比べ
て硬度、耐摩耗性、耐久性で遜色がなく、低コストで優
れたものが得られる。
ルトリアルコキシシランを酸化ケイ素の原料として用い
ることで、スクリーン印刷などの印刷法で作製した酸化
ケイ素を含む酸化物膜は、その他の成膜方法のディップ
コート法、ロールコート法、スピンコート法などに比べ
て硬度、耐摩耗性、耐久性で遜色がなく、低コストで優
れたものが得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 秀樹 三重県松阪市大口町1510 セントラル硝子 株式会社硝子研究所内 (72)発明者 西田 佳弘 三重県松阪市大口町1510 セントラル硝子 株式会社硝子研究所内 Ｆターム(参考） 4G059 AA01 AA11 AC08 EA05 EB07 EB09 4J039 AA02 AB02 BA21 BC15 BC57 BE12 BE23 CA07 EA34 EA36 EA44 FA01 FA04 FA06 GA03 GA10
Claims (6)
- 【請求項１】インキ中の被膜形成成分として、メチルト
リアルコキシシランの加水分解および重縮合により形成
された酸化ケイ素ゾルを含むことを特徴とする酸化物膜
形成用インキ。 - 【請求項２】酸化ケイ素の含有量は、インキ中の被膜形
成成分のうち酸化物換算で１０〜１００モル％であるこ
とを特徴とする請求項１記載の酸化物膜形成用インキ。 - 【請求項３】インキ副成分として、増粘成分としてのニ
トロセルロースと、溶媒としてのエチルカルビトールま
たはブチルカルビトールの内の少なくとも１種が添加さ
れてなることを特徴とする請求項１乃至２記載の酸化物
膜形成用インキ。 - 【請求項４】インキ中の固形分は１〜１０重量％である
ことを特徴とする請求項１乃至３記載の酸化物膜形成用
インキ。 - 【請求項５】基材表面に、メチルトリアルコキシシラン
の加水分解および重縮合により形成された酸化ケイ素ゾ
ルを少なくとも含むインキを塗布した後、４００℃以上
の焼成温度で焼成することにより、該基材表面にシリカ
を含む金属酸化物被膜を形成してなることを特徴とする
金属酸化物膜の形成方法。 - 【請求項６】酸化物膜中の酸化ケイ素の含有量は１０〜
１００モル％であることを特徴とする請求項５記載の金
属酸化物膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36938998A JP2000191966A (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | 酸化物膜形成用インキおよび金属酸化物膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36938998A JP2000191966A (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | 酸化物膜形成用インキおよび金属酸化物膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000191966A true JP2000191966A (ja) | 2000-07-11 |
Family
ID=18494300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36938998A Pending JP2000191966A (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | 酸化物膜形成用インキおよび金属酸化物膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000191966A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010125371A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Yokohama National Univ | 酸化物触媒粒子の担持方法 |
| JP2015053487A (ja) * | 2006-11-01 | 2015-03-19 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 凹凸層及び凹凸層を作製する刻印方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62230873A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-09 | Yoshio Ichikawa | 耐熱耐候性の印刷用インキの組成物 |
| JPH02301944A (ja) * | 1989-05-17 | 1990-12-14 | Asahi Glass Co Ltd | 陰極線管用ガラスバルブの補強方法及びその補強被膜形成用組成物 |
| JPH05124818A (ja) * | 1991-11-06 | 1993-05-21 | Nissan Chem Ind Ltd | 金属酸化物被膜形成用塗布液 |
| JPH0625578A (ja) * | 1992-07-06 | 1994-02-01 | Central Glass Co Ltd | 薄膜形成用インキ |
| JPH07173423A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-11 | Central Glass Co Ltd | 薄膜形成用のインキ |
| JPH10363A (ja) * | 1996-06-13 | 1998-01-06 | Dainippon Toryo Co Ltd | 光化学活性を有する塗膜の形成方法 |
| JPH1041293A (ja) * | 1996-07-25 | 1998-02-13 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜形成用塗布液の製造法、シリカ系被膜及び半導体装置 |
-
1998
- 1998-12-25 JP JP36938998A patent/JP2000191966A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62230873A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-09 | Yoshio Ichikawa | 耐熱耐候性の印刷用インキの組成物 |
| JPH02301944A (ja) * | 1989-05-17 | 1990-12-14 | Asahi Glass Co Ltd | 陰極線管用ガラスバルブの補強方法及びその補強被膜形成用組成物 |
| JPH05124818A (ja) * | 1991-11-06 | 1993-05-21 | Nissan Chem Ind Ltd | 金属酸化物被膜形成用塗布液 |
| JPH0625578A (ja) * | 1992-07-06 | 1994-02-01 | Central Glass Co Ltd | 薄膜形成用インキ |
| JPH07173423A (ja) * | 1993-12-20 | 1995-07-11 | Central Glass Co Ltd | 薄膜形成用のインキ |
| JPH10363A (ja) * | 1996-06-13 | 1998-01-06 | Dainippon Toryo Co Ltd | 光化学活性を有する塗膜の形成方法 |
| JPH1041293A (ja) * | 1996-07-25 | 1998-02-13 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカ系被膜形成用塗布液、シリカ系被膜形成用塗布液の製造法、シリカ系被膜及び半導体装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015053487A (ja) * | 2006-11-01 | 2015-03-19 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ | 凹凸層及び凹凸層を作製する刻印方法 |
| US11619878B2 (en) | 2006-11-01 | 2023-04-04 | Koninklijke Philips N.V. | Method for making relief layer |
| JP2010125371A (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-10 | Yokohama National Univ | 酸化物触媒粒子の担持方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CH621818A5 (ja) | ||
| JP4117679B2 (ja) | 安定性の良い金属コロイドとその用途 | |
| JPH0339548B2 (ja) | ||
| US7531242B2 (en) | Silicone-coated architectural glass | |
| JP2000191966A (ja) | 酸化物膜形成用インキおよび金属酸化物膜の形成方法 | |
| JPS61166849A (ja) | フエノ−ル樹脂含有水性組成物 | |
| JP3317668B2 (ja) | 光触媒膜形成用インキおよび光触媒膜の形成方法 | |
| JPH09263716A (ja) | 導電性に優れた透明導電膜用オーバーコート組成物 | |
| JP2771105B2 (ja) | 薄膜形成用のインキ | |
| JP2002161238A (ja) | コーティング材組成物およびその塗装品 | |
| JP2001089707A (ja) | 酸化物膜形成用インキおよび酸化物膜の形成方法 | |
| JP2000203884A (ja) | 高耐久性撥水ガラスおよびその製造方法 | |
| JP2006265344A (ja) | 酸化ケイ素系被膜形成用組成物及び酸化ケイ素系被膜付き基体の製造方法 | |
| JP2005281132A (ja) | 撥水性のガラスの製法 | |
| JP3270422B2 (ja) | ガラス物品 | |
| JP4706699B2 (ja) | 安定性の良い金属コロイドとその用途 | |
| JPH09295835A (ja) | 防曇性薄膜及びその形成法 | |
| JP2000144122A (ja) | コーティング液組成物および該組成物を用いた被膜 の形成方法 | |
| JP2000144054A (ja) | 防汚性ハードコーティング材組成物およびその塗装品 | |
| JPS63117074A (ja) | コ−テイング用組成物およびその製造方法 | |
| JP2000017227A (ja) | コーティング組成物 | |
| JP2000119596A (ja) | 防汚性ハードコーティング材組成物およびその塗装品 | |
| JP3609277B2 (ja) | 透明着色ガラスの作製方法 | |
| JPH08259260A (ja) | 緑色透明ガラス着色剤組成物 | |
| JP2003073146A (ja) | 防曇鏡およびその製造方法 |