JP2000156160A

JP2000156160A - 真空装置、及びプラズマディスプレイ装置の製造方法

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Publication number: JP2000156160A
Application number: JP10328887A
Authority: JP
Inventors: Ryuichi Terajima; 隆一寺島; Yukio Masuda; 行男増田; Toshiharu Kurauchi; 倉内　　利春; Takeshi Momono; 健桃野; Yoshio Sunaga; 芳雄砂賀; Hidenori Suwa; 秀則諏訪; Kyuzo Nakamura; 久三中村
Original assignee: Ulvac Inc
Current assignee: Ulvac Inc
Priority date: 1998-11-19
Filing date: 1998-11-19
Publication date: 2000-06-06
Anticipated expiration: 2018-11-19
Also published as: JP3830288B2; US6533630B1

Abstract

(57)【要約】【課題】スループットが高く、高品質のプラズマディス
プレイパネルを製造できる真空装置を提供する。【解決手段】プラズマディスプレイ装置を構成させるフ
ロントパネル６を成膜室２２内に搬入し、真空雰囲気中
でＭｇＯ薄膜を形成した後、大気に曝さずに位置合わせ
室１１内に搬入し、真空雰囲気中で脱ガス処理済みのリ
アパネル７との間の位置合わせを行う。水分等のガスが
吸着せず、薄膜の品質が劣化しない。位置合わせ後、大
気に曝さずにエージング処理し、ガス封入及び密封(封
着処理)を行うと更にスループットが高くなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイ装置を製造する真空装置にかかり、特に、スループ
ットを高くできる真空装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年では、薄型で大画面を構成できるプ
ラズマディスプレイ装置が注目されている。図９の符号
１０１は、ＡＣ型のプラズマディスプレイ装置の構造を
示しており、フロントパネル１２０とリアパネル１３０
とを有している。

【０００３】フロントパネル１２０とリアパネル１３０
の表面には、電極１２１、１３１がそれぞれ設けられて
いる。フロントパネル１２０とリアパネル１３０とは、
その電極１２１、１３１が互いに面し、各電極１２１、
１３１が、互いに垂直方向に延設されるように並行に対
向配置されており、複数の電極１２１、１３１のうち、
適当な電極１２１、１３１を選択して電圧を印加するこ
とで、プラズマディスプレイ装置１０１上の所望位置を
発光させられるように構成されている。

【０００４】このディスプレイ装置１０１のフロントパ
ネル１２０の製造工程を説明すると、図８を参照し、先
ず、透明なガラス基板１４１を用意する(図８(ａ))。こ
のガラス基板１４１上に透明導電膜(例えばＩＴＯ膜)１
４２を形成し(同図(ｂ))、次いで、金属薄膜１４３を形
成する(同図(ｃ))。

【０００５】透明導電膜１４２と金属薄膜１４３とをパ
ターニングし、透明電極１４４と補助電極１４５とから
成る電極１２１を形成した後(同図(ｄ))、その電極１２
１表面に透明誘電体層(例えば低融点ガラス層)１４６を
形成する(同図(ｅ))。

【０００６】最後に、ガラス基板１４１を真空槽内に搬
入し、透明誘電体層１４６表面に、蒸着法によってＭｇ
Ｏから成る保護膜１４７を形成し(同図(ｆ))、真空槽外
に取り出した後、別途形成しておいたリアパネル１３０
を上記のように並行に対向させ、相対的な位置合わせを
行う。

【０００７】次いで、フロントパネル１２０とリアパネ
ル１３０を封着し、パネル１２０、１３０間に残存する
大気を真空排気し、パネル１２０、１３０間を真空状態
にした後、真空排気しながら加熱脱ガスし、その後、パ
ネルに電圧を印加して放電させ、エージング処理を行
う。

【０００８】次いで、放電用ガスをパネル１２０、１３
０間に導入し、完全に密封し、プラズマディスプレイ装
置を作製した後、動作試験を行っている。

【０００９】しかしながら上記のような製造工程では、
保護膜１４７が一旦大気に曝されるため、水分の影響を
受け、劣化してしまうという問題がある(ＭｇＯがＭｇ
(ＯＨ)₂に変質してしまう)。また、封着した後、加熱脱
ガス及びエージング処理を行っているため、パネル１２
０、１３０間に存する小孔を介して真空排気しなければ
ならず、そのため、加熱脱ガス及びエージング処理に長
時間を要し、スループットが低いという問題もある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の不都合を解決するために創作されたものであり、その
目的は、スループットが高く、高品質のプラズマディス
プレイパネルを製造できる真空装置を提供することにあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１記載の発明は、真空雰囲気中で薄膜を形成
する成膜室と、プラズマディスプレイ装置を構成させる
フロントパネルとリアパネルを真空雰囲気中で相対的に
位置合わせできる位置合わせ室とを有し、前記成膜室内
で、前記フロントパネルの表面に薄膜を形成した後、大
気に曝さずに前記位置合わせ室に搬入し、前記位置合わ
せ室内で、前記フロントパネルと前記リアパネルとの相
対的な位置合わせが行えるように構成されたことを特徴
とする。

【００１２】請求項２記載の発明は、請求項１記載の真
空装置であって、前記リアパネルは、前記成膜室を通ら
ずに、前記位置合わせ室内に搬入できるように構成され
たことを特徴とする。

【００１３】請求項３記載の発明は、請求項１又は請求
項２のいずれか１項記載の真空装置であって、前記位置
合わせ室には封着室を有する組立ラインが接続され、前
記相対的な位置合わせが行われた一組のパネルを、大気
に曝さずに前記封着室内に搬入し、前記一組のパネル間
にガスを導入した状態で密封できるように構成されたこ
とを特徴とする。

【００１４】請求項４記載の発明は、請求項３記載の真
空装置であって、前記組立ラインは、前記密封を行う前
に、前記一組のパネルのエージングを行えるように構成
されたことを特徴とする。

【００１５】請求項５記載の発明は、請求項３又は請求
項４のいずれか１項記載の真空装置であって、前記組立
ラインには電源が設けられ、該電源により、前記相対的
な位置合わせが行われた一組のパネルに電圧を印加して
発光させ、動作確認が行えるように構成されたことを特
徴とする。

【００１６】請求項６記載の発明は、請求項５記載の真
空装置であって、前記組立ラインは、前記動作確認を、
前記一組のパネル間を密封する前に行えるように構成さ
れたことを特徴とする。

【００１７】請求項７記載の発明は、プラズマディスプ
レイ装置を構成させるフロントパネルとリアパネルのう
ち、前記フロントパネルを成膜室内に搬入し、真空雰囲
気中で薄膜を形成した後、大気に曝さずに位置合わせ室
に搬入し、他方のパネルとの間で相対的な位置合わせを
行うことを特徴とする。

【００１８】請求項８記載の発明は、請求項７記載のプ
ラズマディスプレイ装置の製造方法であって、前記相対
的な位置合わせを行った後、大気に曝さずに、前記２枚
のパネル間にガスを導入し、密封することを特徴とす
る。

【００１９】本発明は上記のように構成されており、プ
ラズマディスプレイ装置を構成させるフロントパネルを
成膜室内に搬入し、真空雰囲気中で薄膜を形成した後、
大気に曝さずに位置合わせ室に搬入し、真空雰囲気中で
リアパネルとの間の位置合わせができるようになってい
る。従って、成膜室内で形成された薄膜に水分等のガス
が吸着せず、薄膜の品質が劣化しないようになってい
る。

【００２０】リアパネルについても、脱ガス処理をした
後、位置合わせ室内に搬入するとよい。この場合、リア
パネルの脱ガス時間はフロントパネルの薄膜形成に要す
る時間よりも長いので、リアパネルは複数枚を連続して
脱ガス処理するようにすると、スループットが低下しな
い。

【００２１】フロントパネルとリアパネルの位置合わせ
を行った後、大気に曝さずにエージング処理し、ガス封
入及び密封(封着処理)を行うと、処理時間が短くて済
む。この場合、密封処理前にフロントパネル及びリアパ
ネルに電圧を印加し、発光検査を行うと、プラズマディ
スプレイ装置を製造するために、フロントパネル及びリ
アパネルを真空雰囲気内で連続的に処理が可能になる。
なお、エージング処理の前に加熱脱ガスを行うようにし
てもよい。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１を参照し、符号１は本発明の
一例の真空装置を示している。この真空装置１は、フロ
ントパネル側製造ライン２０と、リアパネル側製造ライ
ン３０と、位置合わせ室１１と、組立ライン４０とを有
している。

【００２３】フロントパネル側製造ライン２０とリアパ
ネル側製造ライン３０は、プラズマディスプレイ装置製
造工程の位置合わせ室１１の前段にあり、位置合わせ室
１１の入口側に接続されている。組立ライン４０は、製
造工程の位置合わせ室１１の後段にあたり、位置合わせ
室１１の出口側に接続されている。

【００２４】フロントパネル側製造ライン２０には、搬
入室２１と、該搬入室２１と位置合わせ室１１の間に配
置された成膜室２２とを有している。また、リアパネル
側製造ライン３０は、搬入室３１と、該搬入室３１と位
置合わせ室１１との間に配置された脱ガス室３２とを有
している。この真空装置１が有する各室は予め真空雰囲
気にされている。

【００２５】先ず、フロントパネル側製造ライン２０を
用いる製造工程を説明すると、搬入室２１を大気に開放
し、上記図８(ａ)〜(ｆ)の図８(ｅ)に示すような透明誘
電体層１４６が形成されたフロントパネルを、搬入室２
１内に搬入する。

【００２６】搬入室２１内部を真空排気した後、搬入室
２１内部を成膜室２２内部に接続し、フロントパネルを
成膜室２２内に搬入する。

【００２７】成膜室２２の構造の一例を図３に示す。こ
の成膜室２２は、真空槽７１を有しており、該真空槽７
１の底壁上には蒸発源７３が配置され、また天井側には
基板ホルダ７４が配置されている。真空槽７１外には、
電源７７とガス導入系７８が配置されている。ガス導入
系７８は、ガスボンベ８１と、マスフローコントローラ
８３とがこの順序で接続されており、ガスボンベ８１内
に充填された酸素ガスを、マスフローコントローラ８３
で流量制御しながら真空槽７１内に導入できるように構
成されている。

【００２８】蒸発源７３内には、ＭｇＯから成る蒸着材
料８６が配置されており、酸素ガスを導入した真空槽７
１内が所定圧力で安定した後、蒸着材料８６に電子ビー
ム８４を照射し、真空槽７１内に蒸着材料８６の蒸気を
放出させる。

【００２９】図３の符号６は、成膜室２２内に配置した
フロントパネルを示しており、その背面には、ヒータ７
６が設けられている。そのヒータ７６に通電し、フロン
トパネルを加熱すると共に、蒸発源７３から蒸着材料８
６の蒸気８８を放出させると、フロントパネル６表面の
透明誘電体層表面に、更にＭｇＯから成る保護膜が成長
する。その保護膜が所定膜厚に形成されると、成膜処理
を終了し、成膜室２２内と位置合わせ室１１内を接続
し、フロントパネルを位置合わせ室１１に搬入する。図
１の符号６は、位置合わせ室１１内に搬入したフロント
パネルを示している。

【００３０】なお、ここでは蒸着法を用いてＭｇＯ膜を
形成しているが、本発明はそれにものではなく、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法、又はＣＶＤ法を
用いて形成してもよい。

【００３１】上記のようなフロントパネル６の製造と並
行して、リアパネル側製造ライン３０では、リアパネル
の脱ガス処理が行われている。

【００３２】ここで、リアパネルの処理を説明すると、
先ず、リアパネルは、搬入室３１を介して脱ガス室３２
内に搬入する。脱ガス室３２内は、複数枚のリアパネル
を加熱できるように構成されており、それら複数枚のリ
アパネルを順次加熱し、脱ガス処理を行い、脱ガス処理
が終了したリアパネルから、位置合わせ室１１内に搬入
する。なお、ここでは、加熱による脱ガス処理を説明し
たが、加熱すると共にプラズマによるボンバードを併用
してもよい。

【００３３】図１の符号７は、位置合わせ室１１内に搬
入したリアパネルを示している。この位置合わせ室１１
は、図４に示すように、真空槽６１を有しており、該真
空槽６１底壁上には、フロントパネル用の載置台６２が
設けられている。該載置台６２底面には、軸６５が設け
られており、その下端部は、ベローズ６６を介して真空
槽６１外に導出され、モータ６７に接続されている。

【００３４】真空槽６１の天井側には、リアパネル用の
保持台６３が配置されており、該保持台６３には、基板
保持機構６４が設けられている。

【００３５】位置合わせ室１１内に搬入したフロントパ
ネル６は、ＭｇＯ保護膜を上方に向けて載置台６２上に
載置する。また、位置合わせ室１１内に搬入したリアパ
ネル７は、基板保持機構６４を用い、成膜面を下方に向
けて保持台６３に保持させる。

【００３６】その状態では、フロントパネル６とリアパ
ネル７は互いに平行になっており、モータ６６の動作に
より軸６５を動かし、フロントパネル６とリアパネル７
とを相対的に回転移動させ、所定の位置関係になるよう
に位置合わせをし、位置ズレしないようにクリップ等で
仮留めする。

【００３７】位置合わせ室１１後方の組立ライン４０に
は、エージング室４１と、検査室４２と、封着室４３
と、搬出室４４とが、位置合わせ室１１側からこの順序
で設けられている。位置合わせ室１１内で相対的な位置
合わせを行ったフロントパネル６とリアパネル６６は、
エージング室４１内に搬入する。

【００３８】エージング室４１には、図示しない放電用
電極が設けられており、真空排気しながら不活性ガスを
導入し、搬入されたフロントパネル６とリアパネル７に
電圧を印加してエージング放電を行う。エージング処理
後、フロントパネル６及びリアパネル７を検査室４２内
に搬入する。なお、エージング室４１に加熱装置を並設
し、エージング処理前にフロントパネル６及びリアパネ
ル７を２００〜５００℃に加熱し、脱ガスを行ってもよ
い。

【００３９】検査室４２の一例を図５に示す。この検査
室４２は、真空槽９１と、電源９３、９４a、９４bと、
検査電極９５、９６a、９６bとを有している。検査電極
９５、９６a、９６bは、その一端が真空槽９１内に配置
され、他端が真空槽９１外に気密に導出されている。

【００４０】電源９３、９４a、９４bは真空槽９１外に
配置されており、各検査電極９５、９６a、９６bの真空
槽９１外へ導出された部分は、電源９３、９４a、９４b
にそれぞれ接続されている。

【００４１】検査室４２内に搬入されたフロントパネル
６とリアパネル７上にそれぞれ形成され、表面に露出し
ている電極に対し、検査電極９５、９６a、９６bの先端
部分を当接させ、真空槽９１内にアルゴンガスやネオン
・キセノンガス等の不活性ガスを所定圧力まで導入した
後、電源９３、９４a、９４bを起動し、フロントパネル
６とリアパネル７に電圧を印加する。すると、一組のパ
ネル６、７間にプラズマが発生し、良品であった場合に
は、欠陥が無く発光する。

【００４２】その発光の状態を検査し、良品であった場
合は、封着室４３内に搬入し、処理を行う。不良であっ
た場合は、封着室４３での処理を行うことなく大気中に
取り出し、再生可能なものや使用可能な方のパネルを除
いて破棄する。

【００４３】良品であり、封着室４３内に搬入したフロ
ントパネル６及びリアパネル７は、封着処理を行う。こ
の封着処理は、フロントパネル６とリアパネル７間を放
電用の不活性ガスを封入した状態で密封する処理であ
り、封着処理を説明すると、リアパネル７表面の周辺部
分には、予めシール層が設けられており、シール層をフ
ロントパネル６に密着させ、封着室４３内を真空排気し
ながらシール層部分を加熱し、フロントパネル６とリア
パネル７とを、仮に密封する。

【００４４】この状態ではフロントパネル６とリアパネ
ル７とが接続された部分には、一部分貫通孔が存してお
り、一組のパネル６、７間に存する残留ガスは、封着室
４３の真空排気に伴って、排気されるようになってい
る。

【００４５】仮に密封した後、封着室４３内の真空雰囲
気が所定圧力まで回復したところで、封着室４３内に、
ネオン・キセノンガス等の放電用ガスを所定圧力まで導
入し、一組のパネル６、７間を放電用ガスで充満させ
る。そして、充満した状態で、貫通孔を塞ぎ、その一組
のパネル６、７間を気密に封止(密封)すると、プラズマ
ディスプレイパネルが得られる。

【００４６】最後に、製造されたプラズマディスプレイ
パネルを搬出室４４に搬入し、封着室４３との間を遮断
した後、搬出室４４に大気を導入すると、プラズマディ
スプレイ装置を取り出すことができる。

【００４７】以上説明したように、フロントパネル６と
リアパネル７は、搬入室２１、３１にそれぞれ搬入され
た後、搬出室４４から取り出されるまで、一貫して真空
雰囲気中で処理されるので、フロントパネル６表面に形
成されたＭｇＯ保護膜は大気に曝されることがなく、従
って、保護膜は劣化しない。

【００４８】また、フロントパネル６とリアパネル７
は、脱ガスがされ、位置合わせが行われた後、大気に曝
されることなくエージングされるので、エージング処理
によって放出させるべき吸着ガスが少なく、エージング
時間が短くて済む。

【００４９】本発明の方法を用いて形成したプラズマデ
ィスプレイ装置の、エージング時間に対する放電開始電
圧Ｖ_fと放電維持電圧Ｖ_sの測定を行った。ＭｇＯ膜の蒸
発条件を下記表１に示す。

【００５０】

【表１】

【００５１】また、そのプラズマディスプレイ装置の電
極構造と、放電電圧の測定条件を下記表２と表３にそれ
ぞれ示す。

【００５２】

【表２】

【００５３】

【表３】

【００５４】比較例として、上記表１の蒸発条件でＭｇ
Ｏ膜を形成したフロントパネルを、大気(湿度５４％)に
３０分間曝した後、真空雰囲気中で３５０℃で３時間加
熱脱ガスし、放電開始電圧Ｖ_fと放電維持電圧Ｖ_sの測定
を行った。電極構造と測定条件は、上記表２、表３に示
したとおりである。なお、この比較例のフロントパネル
において、加熱脱ガス開始時の圧力は８×１０^-5torr、
終了時の圧力は６．２×１０^-6torrであった。

【００５５】測定結果を図６、図７に示す。大気に曝し
た比較例の場合は、放電開始電圧Ｖ _f、放電維持電圧Ｖ_s
ともに高く、本実施例の方が優れていることが分かる。
また、電圧が一定になるまでの時間は、比較例の場合は
約１０分間を要しているのに対し、本実施例の場合は約
２分間であり、本実施例の方が速いことが分かる。

【００５６】なお、上記エージング室４１にて、フロン
トパネル６とリアパネル７を加熱して脱ガスさせた場
合、プラズマボンバードを併用すると、一組のパネル
６、７を、室温乃至１００℃程度に昇温させるだけで済
むので、冷却時間が不要であり、スループットが一層向
上して望ましい。

【００５７】次に、本発明の他の実施形態を説明する。
図２を参照し、符号２は、本発明の第二例の真空装置で
あり、第一例の真空装置１と同じ構造と同じ配置のフロ
ントパネル側製造ライン２０、リアパネル側製造ライン
３０、位置合わせ室１１とを有している。

【００５８】他方、この真空装置２は、第一例の真空装
置１とは異なる組立ライン５０を有している。その組立
ライン５０は、搬送通路５５を有しており、搬送通路５
５の一端は位置合わせ室１１に接続されている。

【００５９】搬送室５５は真空雰囲気に置かれており、
位置合わせ室１１内の真空雰囲気を維持しながら、位置
合わせ室１１内で位置合わせされたフロントパネル６及
びリアパネル７を、仮に固定した状態で、搬送通路５５
内に搬入できるように構成されている。

【００６０】搬送通路５５の、位置合わせ室１１とは反
対側の先端には、取出室５３が設けられており、搬送通
路５５の、位置合わせ室１１と取出室５３の間には、複
数の処理室５１₁〜５１₄が設けられている。各処理室５
１₁〜５１₄には、加熱装置とガス導入系が設けられてお
り(図示せず。)、各処理室５１₁〜５１₄は同じ構造に構
成されている。

【００６１】位置合わせ後の処理を行う場合、位置合わ
せ室１１で位置合わせされたフロントパネル６とリアパ
ネル７を、空いている処理室５１₁に搬入する。その処
理室５１₁内で、真空排気しながらエージングを行い、
放電用のガスを導入し、移動させることなく発光検査を
行う。

【００６２】続いて、放電用ガスの導入を停止し、同じ
処理室５１₁内で真空排気しながらフロントパネル６と
リアパネル７とを封着させる。

【００６３】融着後、処理室５１₁内の真空雰囲気が所
定の圧力まで回復したところで、処理室５１₁内に、再
度放電用ガスを導入し、パネル６、７間がその放電用ガ
スで充満された状態で密封処理すると、プラズマディス
プレイ装置が得られる。

【００６４】上記処理室５１₁内で処理を行っている間
に、位置合わせ室１１内で位置合わせが行われたフロン
トパネル６とリアパネル７を、別の処理室５１₂〜５１₄
に搬入し、上記のように、エージング、検査、封着(ガ
ス封入及び密封処理)の各処理を並行して行う。

【００６５】処理室５１₁〜５１₄内での処理が終了し、
作製されたプラズマディスプレイパネルは、搬送通路５
５を介して搬出室５３内に搬入し、搬出室５３と搬送通
路５５の間を遮断した後、搬出室５３内に大気を導入
し、プラズマディスプレイパネルを搬出する。

【００６６】このように、第二例の真空装置では、長時
間を要するエージング処理が、各処理室５１₁〜５１₄内
で並行して行われるので、多数のフロントパネル６及び
リアパネル７を連続して処理することが可能である。

【００６７】以上説明したように、本発明の真空装置を
用いれば、保護膜(ＭｇＯ)が劣化せず、また、エージン
グ処理も速いので、高品質のプラズマディスプレイパネ
ルを低コストで製造することが可能である。

【００６８】なお、上記第一例、第二例の真空装置で
は、発光検査後、ガス封入を行ったが、ガス封入後に発
光検査を行ってもよい。また、位置合わせ室内で、エー
ジング処理や発光検査を行えるようにしてもよい。

【００６９】

【発明の効果】高品質のＭｇＯ膜を形成できる。プラズ
マディスプレイ装置製造のスループットを高くすること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一例の真空装置

【図２】本発明の第二例の真空装置

【図３】本発明の用いることができるＭｇＯ膜成膜装置
の一例

【図４】本発明に用いることができる位置合わせ室の概
略構成図

【図５】検査室を説明するための図

【図６】エージング時間と放電開始電圧及び放電維持電
圧の関係を示すグラフ

【図７】エージング時間と放電開始電圧及び放電維持電
圧の関係を示すグラフ

【図８】(ａ)〜(ｆ)：フロントパネルの製造工程を説明
するための図

【図９】プラズマディスプレイパネルを説明するための
図

【符号の説明】

１、２……真空装置６……フロントパネル７……リアパネル１１……位置合わせ室２２……成膜室４３……封着室９３、９４a、９４b……電源

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者倉内利春茨城県つくば市東光台５−９−７日本真空技術株式会社筑波超材料研究所内 (72)発明者桃野健千葉県山武郡山武町横田523番地日本真空技術株式会社千葉超材料研究所内 (72)発明者砂賀芳雄神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技術株式会社内 (72)発明者諏訪秀則神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技術株式会社内 (72)発明者中村久三神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技術株式会社内Ｆターム(参考） 4K029 AA09 AA24 BA43 BA45 BA50 BB02 BC00 BC03 BC08 BC09 BD00 CA02 DB05 DB21 FA07 5C012 AA09 BC03 BC04 5C040 HA01 HA04 HA06 JA07 JA22 JA24 LA17 MA23 MA26

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】真空雰囲気中で薄膜を形成する成膜室と、プラズマディスプレイ装置を構成させるフロントパネル
とリアパネルを真空雰囲気中で相対的に位置合わせでき
る位置合わせ室とを有し、前記成膜室内で、前記フロントパネルの表面に薄膜を形
成した後、大気に曝さずに前記位置合わせ室に搬入し、
前記位置合わせ室内で、前記フロントパネルと前記リア
パネルとの相対的な位置合わせが行えるように構成され
た真空装置。
【請求項２】請求項１記載の真空装置であって、前記リ
アパネルは、前記成膜室を通らずに、前記位置合わせ室
内に搬入できるように構成された真空装置。
【請求項３】請求項１又は請求項２のいずれか１項記載
の真空装置であって、前記位置合わせ室には封着室を有
する組立ラインが接続され、前記相対的な位置合わせが行われた一組のパネルを、大
気に曝さずに前記封着室内に搬入し、前記一組のパネル
間にガスを導入した状態で密封できるように構成された
真空装置。
【請求項４】請求項３記載の真空装置であって、前記組
立ラインは、前記密封を行う前に、前記一組のパネルの
エージングを行えるように構成された真空装置。
【請求項５】請求項３又は請求項４のいずれか１項記載
の真空装置であって、前記組立ラインには電源が設けら
れ、該電源により、前記相対的な位置合わせが行われた
一組のパネルに電圧を印加して発光させ、動作確認が行
えるように構成された真空装置。
【請求項６】請求項５記載の真空装置であって、前記組
立ラインは、前記動作確認を、前記一組のパネル間を密
封する前に行えるように構成された真空装置。
【請求項７】プラズマディスプレイ装置を構成させるフ
ロントパネルとリアパネルのうち、前記フロントパネル
を成膜室内に搬入し、真空雰囲気中で薄膜を形成した
後、大気に曝さずに位置合わせ室に搬入し、他方のパネ
ルとの間で相対的な位置合わせを行うプラズマディスプ
レイ装置の製造方法。
【請求項８】請求項７記載のプラズマディスプレイ装置
の製造方法であって、前記相対的な位置合わせを行った
後、大気に曝さずに、前記２枚のパネル間にガスを導入
し、密封するプラズマディスプレイ装置の製造方法。