JPH10255972A

JPH10255972A - 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法およびその製造装置

Info

Publication number: JPH10255972A
Application number: JP9054678A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Shoji; 弘東海林; Chishio Hosokawa; 地潮細川
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 1997-03-10
Filing date: 1997-03-10
Publication date: 1998-09-25

Abstract

(57)【要約】【課題】プラズマ洗浄での基板の汚染を防止でき、連
続生産における基板の洗浄効果の低下を防止できるとと
もに洗浄室の洗浄の手間を簡略化できかつタクトタイム
を短縮できる有機ＥＬ素子の製造方法およびその製造装
置を提供する。【解決手段】筒状のプラズマ発生部４１を備えたプラ
ズマ洗浄装置２２を洗浄室２１に設け、その内部にプラ
ズマを発生させて電極付基板１７をプラズマ洗浄した
後、この電極付基板１７を洗浄室２１から移送路２４を
介して大気に晒すことなく成膜室２３に搬送し、この成
膜室２３で電極上に有機物膜を形成する。これにより、
洗浄室の内壁にプラズマが及ぶことがなくなるため、内
壁から生成した不純物による基板の汚染を確実に防止で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネッセンス素子の製造方法および有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の製造装置に関する。

【０００２】

【背景技術】近年、有機物層を含む発光デバイスである
有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）が
注目されており、ディスプレイ等への利用に向けて研究
が進められている。有機ＥＬ素子は、一般に、基板上に
陽極、発光層等の有機物層、および陰極を積層した構造
を備え、これらの各層は、真空蒸着法やスパッタ法等に
よって基板上に成膜されている。

【０００３】有機ＥＬ素子に用いられる基板は、表面に
ＩＴＯ膜等の透明電極を成膜した状態で供給されること
が多い。有機ＥＬ素子の製造にあたっては、この電極付
基板を有機溶媒中で超音波洗浄し、続いて、ＵＶオゾン
洗浄装置或いはプラズマ洗浄装置等により基板を洗浄し
た後、この洗浄装置から成膜室に搬送し、この成膜室内
で電極上に有機物層や陰極を蒸着していた。しかし、洗
浄装置から成膜室への移送時に基板が大気に晒されるた
め、大気中の有機物やダスト等が付着して基板が汚染さ
れ、発光面内に黒点状の未発光部分が発生するという不
具合があった。

【０００４】この点の不具合を解消するものとして、
真空槽内で基板をプラズマ表面処理した後、同じ真空槽
内で成膜を行う方法（特開平７−１４２１６８号公
報）、基板を基板洗浄室においてプラズマ表面処理し
た後、大気中に晒すことなく成膜室へ搬送し、この成膜
室において成膜を行う方法（特開平８−２２２３６８号
公報）が開示されている。これらの，の方法では、
洗浄した基板は成膜が完了するまで大気に晒されること
がないため、基板の汚染を抑制できる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】，の方法では、基
板の洗浄時にプラズマが真空槽の内壁や洗浄室の内壁に
も及ぶため、内壁を構成する材料から不純物が生成し、
この不純物が基板に付着して基板が汚染されることがあ
った。とくに、有機ＥＬ素子の連続製造を行う場合に
は、内壁から不純物が連続的に生成されることになるの
で、洗浄室等の内部が徐々に汚染されて基板の洗浄効果
が次第に低下するうえに、洗浄室内全体を頻繁に洗浄し
なければならないため手間がかかっていた。また、の
方法では、同一の真空槽内で基板の洗浄および成膜を行
うため、真空槽における工程（洗浄および成膜）の所要
時間が長くなることから、連続生産におけるタクトタイ
ムの短縮を図れなかった。

【０００６】本発明の目的は、プラズマ洗浄における基
板の汚染を防止でき、有機ＥＬ素子の連続生産において
は、基板の洗浄効果の低下を防止できるとともに洗浄室
の洗浄の手間を簡略化でき、かつ連続生産におけるタク
トタイムを短縮できる有機ＥＬ素子の製造方法およびそ
の製造装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の有機エレクトロ
ルミネッセンス素子の製造方法は、筒状のプラズマ発生
部の内部にプラズマを発生させて基板の洗浄を行うプラ
ズマ洗浄装置を洗浄室に設け、基板の表面に電極を形成
した電極付基板を前記プラズマ発生部の内部でプラズマ
処理した後、この電極付基板を前記洗浄室から大気に晒
すことなく成膜室に搬送し、この成膜室で前記電極上に
有機物膜を形成することを特徴とする。

【０００８】また、本発明の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子の製造装置は、基板の洗浄を行う洗浄室と、前
記洗浄室に設けられかつ筒状のプラズマ発生部の内部に
プラズマを発生させてその内部で基板を洗浄するプラズ
マ洗浄装置と、前記基板上に薄膜を形成する成膜室と、
前記洗浄室および成膜室を互いに連通する移送路と、こ
の移送路を開閉するための開閉手段とを備えたことを特
徴とする。

【０００９】ここで、筒状とは、端面が開放されたもの
に限定されず、基板の搬入および搬出が可能なものであ
れば端面が閉塞されたものも含む。本発明では、筒状の
プラズマ発生部を備えたプラズマ洗浄装置を洗浄室に設
け、そのプラズマ発生部の内部にプラズマを発生させて
電極付基板を洗浄するので、プラズマがプラズマ発生部
の外部に生成するのを防止できる。従って、洗浄室の内
壁にプラズマが及ぶことがなくなるため、この内壁から
不純物が生成して電極付基板に付着するのを防止できる
から、基板の汚染、とくに基板表面の電極の汚染を確実
に防止でき、優れた素子性能が得られる。

【００１０】また、プラズマ洗浄を繰り返し行っても、
プラズマによって洗浄室の内部が汚染されることがなく
なるので、連続生産においても基板の洗浄効果を高いま
ま維持できる。さらに、洗浄室内全体の汚染を低減でき
るため、洗浄室の洗浄の手間を簡略化できるうえに、連
続生産においても洗浄室の洗浄回数を少なくできるから
生産効率の向上を図ることができる。

【００１１】そして、基板の洗浄および有機物膜の成膜
をそれぞれ洗浄室および成膜室において行うので、洗浄
および成膜を別工程にできるから、洗浄および成膜を同
一の室で一つの工程として行うよりも連続生産における
タクトタイムを短縮できる。そして、基板を洗浄室から
大気に晒すことなく成膜室に搬送することで、大気中の
有機物やダスト等が基板、とくに基板表面の電極に付着
することがなくなるから、発光面内における未発光部分
の発生を確実に抑制できる。

【００１２】また、前述したプラズマ発生部は洗浄室内
に着脱可能に設置することが好ましく、これによると、
プラズマ発生部を交換できるようになるので、プラズマ
洗浄によってプラズマ発生部が汚染されても清浄なプラ
ズマ発生部と交換するだけで直ちに基板の洗浄を再開で
きるから、生産効率を高められる。さらに、プラズマ発
生部は取り外した状態で洗浄できるので容易に洗浄でき
る。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
に基づいて説明する。図１には、本実施形態の有機ＥＬ
素子１が示されている。この素子１は、基板１１と、こ
の基板１１上に成膜されたＩＴＯ膜からなる透明電極１
２（陽極）と、この透明電極１２上に成膜された有機物
膜である正孔注入層１３と、この正孔注入層１３上に成
膜された有機物膜である発光層１４と、この発光層１４
上に成膜された有機物膜である電子注入層１５と、この
電子注入層１５上に成膜された電極１６（陰極）とを備
えている。なお、本発明は、この有機ＥＬ素子１に適用
が限定されるわけでなく、例えば、正孔注入層と発光層
との間に正孔輸送層が挿入された構成のものもよく用い
られる素子構成である。

【００１４】このような有機ＥＬ素子１は、図２に示す
ような製造装置２を用いて製造される。本実施形態の有
機ＥＬ素子の製造装置２は、基板１１の表面に透明電極
１２を形成した電極付基板１７に対して洗浄および成膜
を行う装置であり、陽極形成装置は含まない。この装置
２は、電極付基板１７の洗浄を行う洗浄室２１と、この
洗浄室２１に設けられたプラズマ洗浄装置２２と、電極
付基板１７上に薄膜を形成する成膜室２３と、洗浄室２
１および成膜室２３を互いに連通する移送路２４と、こ
の移送路２４を開閉するための開閉手段としてのバルブ
２５とを有して構成されている。洗浄室２１は、室２１
内を真空にするための真空排気系３１および室２１内に
ガスを供給するためのガス供給系３２，３３を備えてい
る。これらのガス供給系３２，３３からはそれぞれアル
ゴンおよび酸素を室２１内に導入できるようになってい
る。

【００１５】プラズマ洗浄装置２２は、洗浄室２１内に
設置された円筒状のプラズマ発生部４１を備え、このプ
ラズマ発生部４１の内部にプラズマを発生させて電極付
基板１７を洗浄できるようになっている。プラズマ発生
部４１は、洗浄室２１内に着脱可能に設置された円筒状
のＲＦ（高周波）電極からなり、両端面が開口されてこ
れらの開口部４１Ａ，４１Ｂから電極付基板１７を出し
入れできるようになっている。このようなプラズマ発生
部４１はマッチングユニット４２を介してＲＦ（高周
波）電源４３に接続されている。なお、マッチングユニ
ット４２は、印加した高周波に対して反射波が最も少な
くなるように放電中のインピーダンスを調整するための
ユニットである。

【００１６】このプラズマ発生部４１の内部には、電極
付基板１７を保持するための基板ホルダ４４が設けら
れ、この基板ホルダ４４は接地されている。このような
プラズマ洗浄装置２２は、プラズマ発生部４１と基板ホ
ルダ４４との間に高周波電界を印加することにより放電
させ、プラズマ発生部４１内に存在するアルゴンおよび
酸素を励起させることでプラズマ発生部４１の内部にプ
ラズマを発生するように構成されている。

【００１７】また、洗浄室２１には、真空排気系３４を
備えたロードロック室２６が並設され、移送路２７を介
して互いに連通されている。この移送路２７には開閉手
段であるバルブ２８が設けられ、洗浄室２１を大気中に
開放することなく電極付基板１７を洗浄室２１に出し入
れできるようになっている。ロードロック室２６は、電
極付基板１７を保持する基板ホルダ３５および室２６内
に電極付基板１７を搬入するための搬入口３６を備え、
この搬入口３６には開閉用のバルブ３７が設けられてい
る。

【００１８】一方、洗浄室２１に隣接する成膜室２３
は、室２３内を真空にするための真空排気系５１と、蒸
着材料を蒸発させる蒸着源５２と、この蒸着源５２に対
向して設けられた基板ホルダ５３とを備え、有機ＥＬ素
子１の正孔注入層１３（図１参照）の成膜を行うように
構成されている。蒸着源５２は、蒸着材料を入れるため
のるつぼ５４を有し、正孔注入層１３を構成する蒸着材
料を入れたるつぼ５４を加熱することにより、基板ホル
ダ５３の基板１７に正孔注入層１３を蒸着できるように
なっている。なお、図示しないが、成膜室２３には、こ
の成膜室２３と同様な複数の成膜室が移送路およびバル
ブを介して連設され、各成膜室においてそれぞれ発光層
１４、電子注入層１５および電極１６を順次蒸着するよ
うに構成されている。

【００１９】このような装置２では、各室２１，２３，
２６内にそれぞれ搬送系２９が配設され、これらの搬送
系２９により、各室２１，２３，２６を大気中に開放す
ることなく電極付基板１７を移送して基板ホルダ４４，
５３にセットできるようになっている。なお、この搬送
系２９は、例えば、ベルト式のもの或いはトレイ式のも
のであってもよく、さらには、電極付基板１７を保持し
て移動させるアームを備えたロボットであってもよい。
また、装置全体の形態は、図示するようなインライン形
に限定されるものではなく、例えば、センターチャンバ
を中心に周囲に複数の成膜室および洗浄室を配置したク
ラスタ形に構成してもよい。

【００２０】次に、本実施形態の製造装置２を用いて有
機ＥＬ素子１を製造する方法について説明する。本実施
形態では、電極付基板１７を搬送しながら洗浄室２１お
よび成膜室２３でそれぞれ洗浄および成膜を行うことに
より素子１を連続的に製造する。すなわち、予め、基板
１１上に透明電極１２を成膜した電極付基板１７を用意
し、この電極付基板１７を有機溶媒中で超音波洗浄して
おく。次いで、ロードロック室２６のバルブ３７を開
き、超音波洗浄した電極付基板１７を搬入口３６からロ
ードロック室２６内に搬入して基板ホルダ３５に装着す
る。この後、バルブ３７を閉めて、真空排気系３４によ
りロードロック室２６内の圧力が１．３３×１０^-3Ｐａ
未満になるまで排気する。また、洗浄室２１内に清浄な
プラズマ発生部４１を設置し、真空排気系３１によって
洗浄室２１内の圧力が１．３３×１０^-3Ｐａ未満になる
まで排気する。

【００２１】次いで、ロードロック室２６と洗浄室２１
の間のバルブ２８を開けて移送路２７を開放し、各室２
６，２１の搬送系２９により、電極付基板１７をロード
ロック室２６から移送路２７を通じて洗浄室２１内に移
送し、プラズマ発生部４１の開口部４１Ａからその内部
に搬入して基板ホルダ４４に保持させる。このとき、電
極付基板１７は、透明電極１２側の面がプラズマに晒さ
れる向き（図２中透明電極１２が下方向になる向き）に
装着する。なお、電極付基板１７の移送時には、洗浄室
２１への不純物の流入を防止するために、ロードロック
室２６内の圧力を洗浄室２１内の圧力よりも若干低くし
ておく。続いて、バルブ２８を閉めてから、ガス供給系
３２，３３からそれぞれアルゴンおよび酸素を洗浄室２
１内に導入する。これらのガスは、洗浄室２１内の圧力
が４．００〜６．６７Ｐａになるように供給し、また、
酸素の分圧が１．３３Ｐａ以上になるように調整する。

【００２２】次に、ＲＦ電極であるプラズマ発生部４１
により、１０Ｗ〜５００Ｗでプラズマ発生部４１内にプ
ラズマを１０秒間〜３分間発生させ、このプラズマ発生
部４１の内部で電極付基板１７をプラズマ処理する。な
お、プラズマ洗浄のタクトタイムを短縮するためには、
プラズマ洗浄時間は１０秒間〜３０秒間とすることが好
ましい。すると、電極付基板１７の表面はプラズマによ
って清浄化され、とくに、酸素のプラズマによって有機
物からなる不純物が効率よく灰化される。通常、ＩＴＯ
膜からなる透明電極１２のプラズマ洗浄にアルゴンを用
いると、電極１２表面の酸素分子が還元されて素子１に
悪影響を及ぼすが、本実施形態では酸素ガスを用いるの
で電極１２の還元が抑制される。このプラズマ洗浄装置
２２では、筒状のプラズマ発生部４１の内部に放電させ
るので、プラズマがプラズマ発生部４１の外部に生成す
ることはほとんどない。

【００２３】一方、成膜室２３の蒸着源５２には正孔注
入層１３の蒸着材料を入れたるつぼ５４を装着してお
き、真空排気系５１によって室２３内の圧力が洗浄室２
１よりも若干高い圧力になるまで排気する。次いで、洗
浄室２１と成膜室２３との間のバルブ２５を開けて移送
路２４を開放し、各室２１，２３の搬送系２９により、
電極付基板１７をプラズマ発生部４１の開口部４１Ｂか
ら搬出し、洗浄室２１から移送路２４を通じて成膜室２
３内に移送して基板ホルダ５３に保持させる。これによ
り、プラズマ洗浄後の電極付基板１７は、洗浄室２１か
ら大気に晒されることなく成膜室２３に搬送される。続
いて、バルブ２５を閉じて移送路２４を閉塞し、蒸着源
５２の正孔注入層１３の蒸着材料を加熱して蒸発させ、
電極付基板１７の陽極１２上に正孔注入層１３を成膜す
る。

【００２４】この後、正孔注入層１３の成膜と同様にし
て、発光層１４、電子注入層１５および陰極１６をそれ
ぞれ図示しない各成膜室において成膜する。このとき、
成膜室間の電極付基板１７の搬送は、移送路を通じて電
極付基板１７を大気に晒すことなく行う。

【００２５】また、複数の有機ＥＬ素子１を連続的に製
造する場合、プラズマ洗浄を繰り返すことによりプラズ
マ発生部４１の内壁が徐々に汚染されるので、プラズマ
発生部４１を定期的に清浄なプラズマ発生部４１に交換
し、汚染されたプラズマ発生部４１は取り外した状態で
洗浄する。

【００２６】このような本実施形態によれば、以下のよ
うな効果がある。すなわち、筒状のプラズマ発生部４１
を備えたプラズマ洗浄装置２２を洗浄室２１に設け、そ
のプラズマ発生部４１の内部にプラズマを発生させて電
極付基板１７を洗浄するので、プラズマがプラズマ発生
部４１の外部に生成するのを防止できる。従って、洗浄
室２１の内壁にプラズマが及ぶことがなくなるため、こ
の内壁から不純物が生成して電極付基板１７に付着する
のを防止できるから、基板１１の汚染、とくに基板１１
表面の電極１２の汚染を確実に防止でき、優れた素子性
能が得られる。

【００２７】また、プラズマ洗浄を繰り返し行っても、
プラズマによって洗浄室２１の内部が汚染されることが
なくなるので、連続生産においても電極付基板１７の洗
浄効果を高いまま維持できる。さらに、洗浄室２１内全
体の汚染を低減できるため、洗浄室２１の洗浄の手間を
簡略化できるうえに、連続生産においても洗浄室２１の
洗浄回数を少なくできるから生産効率の向上を図ること
ができる。

【００２８】さらに、電極付基板１７の洗浄と、正孔注
入層１３、発光層１４、電子注入層１５および陰極１６
の成膜とをそれぞれ洗浄室２１および成膜室２３におい
て行うので、洗浄および成膜を別工程にできるから、洗
浄および成膜を同一の室で一つの工程として行うよりも
連続生産におけるタクトタイムを短縮できる。そして、
電極付基板１７を洗浄室２１から移送路２４を介して大
気に晒すことなく成膜室２３に搬送するので、大気中の
有機物やダスト等が電極付基板１７、とくに陽極１２の
表面に付着することがなくなるから、発光面内における
未発光部分の発生を確実に抑制できる。同様に、成膜室
間の基板の移送を大気に晒すことなく行うので、各層１
２〜１６の界面に大気中の不純物が混入するのを確実に
防止できるから、優れた素子性能を確保できる。

【００２９】また、プラズマ発生部４１は洗浄室２１内
に着脱可能に設置されているので、プラズマ洗浄によっ
てプラズマ発生部４１が汚染されても清浄なプラズマ発
生部４１と交換するだけで直ちに電極付基板１７の洗浄
を再開できるから、生産効率を高められる。さらに、プ
ラズマ発生部４１は取り外した状態で洗浄できるので容
易に洗浄できる。

【００３０】なお、本発明は前記実施形態に限定される
ものではなく、本発明の目的を達成できる他の構成等を
含み、以下に示すような変形なども本発明に含まれる。
すなわち、前記実施形態の円筒状のプラズマ発生部４１
は、電極付基板１７の搬入および搬出のために一対の開
口部４１Ａ，４１Ｂを備えていたが、図３に示すよう
に、一方の端面を閉塞して他方の端面を開口させたプラ
ズマ発生部１４１を用いてプラズマ洗浄装置１２２を構
成し、一つの開口部１４１Ａから電極付基板１７の搬入
および搬出を行うようにしてもよい。このような製造装
置３によると、プラズマ発生部４１の外部に一層プラズ
マが生成しにくくなるので洗浄室２１内の汚染をより低
減できる。さらに、プラズマ洗浄時にプラズマ発生部４
１の端面を閉塞してプラズマ発生部４１を密閉し、その
内部で電極付基板１７を洗浄するように構成してもよ
い。

【００３１】また、本発明のプラズマ発生部の形状は円
筒状に限定されず、例えば、多角形断面の筒状に形成し
てもよい。そして、前記実施形態では、搬送系２９を単
純化するためにプラズマ発生部４１を電極付基板１７の
搬送方向に沿って設置したが、例えば、図３に示すよう
に、プラズマ発生部１４１をその端面が搬送方向と直交
するように配置してもよい。

【００３２】前記実施形態のプラズマ発生部４１は、そ
れ自身をＲＦ電極とすることによりプラズマを発生させ
る方式のものであったが、プラズマ発生部４１の内部に
プラズマを作ることができれば、プラズマ生成の方式、
構造は任意である。例えば、ガラスや石英からなる筒状
のチャンバを一対の電極により挟み込み、高周波電界を
印加してチャンバ内にプラズマを発生させるようにして
もよい。或いは、コイルの中に石英等からなる筒状の容
器を入れ、この容器内部にプラズマを発生させるように
してもよい。

【００３３】前記実施形態では、透明電極１２にＩＴＯ
膜を採用したためアルゴンおよび酸素の混合ガスを用い
てプラズマを作ったが、具体的なガスの種類は基板に設
けた電極の種類に応じて適宜選択すればよく、例えば、
アルゴンのみであってもよく、或いは、酸素のみであっ
てもよい。また、有機ＥＬ素子は、前記実施形態の構造
に限定されず、本発明は、他の構造の有機ＥＬ素子にも
適用できる。

【００３４】

【発明の効果】以上に述べたように、本発明によれば、
筒状のプラズマ発生部を備えたプラズマ洗浄装置を洗浄
室に設け、そのプラズマ発生部の内部にプラズマを発生
させて電極付基板を洗浄するので、プラズマがプラズマ
発生部の外部に生成するのを防止できる。従って、洗浄
室の内壁にプラズマが及ぶことがなくなるため、この内
壁から不純物が生成して電極付基板に付着するのを防止
できるから、基板の汚染、とくに基板表面の電極の汚染
を確実に防止できる。

【００３５】また、プラズマ洗浄を繰り返し行っても、
プラズマによって洗浄室の内部が汚染されることがなく
なるので、連続生産においても基板の洗浄効果を高いま
ま維持できる。さらに、洗浄室内全体の汚染を低減でき
るため、洗浄室の洗浄の手間を簡略化できるうえに、連
続生産においても洗浄室の洗浄回数を少なくできるから
生産効率の向上を図ることができる。

【００３６】そして、基板の洗浄および有機物膜の成膜
をそれぞれ洗浄室および成膜室において行うので、洗浄
および成膜を別工程にできるから、洗浄および成膜を同
一の室で一つの工程として行うよりも連続生産における
タクトタイムを短縮できる。そして、基板を洗浄室から
大気に晒すことなく成膜室に搬送するため、大気中の有
機物やダスト等が基板、とくに基板表面の電極に付着す
ることがなくなるから、発光面内における未発光部分の
発生を確実に抑制できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の有機ＥＬ素子の一実施形態を示す断面
図。

【図２】本発明の有機ＥＬ素子の製造装置の一実施形態
を示す模式図。

【図３】本発明の他の有機ＥＬ素子の製造装置の要部を
示す模式図。

【符号の説明】

１有機エレクトロルミネッセンス素子２，３有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置１１基板１２透明電極（電極）１３正孔注入層（有機物膜）１４発光層（有機物膜）１５電子注入層（有機物膜）１７電極付基板２１洗浄室２２，１２２プラズマ洗浄装置２３成膜室２４，２７移送路２５，２８，３７バルブ（開閉手段）４１，１４１プラズマ発生部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】筒状のプラズマ発生部の内部にプラズマ
を発生させて基板の洗浄を行うプラズマ洗浄装置を洗浄
室に設け、基板の表面に電極を形成した電極付基板を前
記プラズマ発生部の内部でプラズマ処理した後、この電
極付基板を前記洗浄室から大気に晒すことなく成膜室に
搬送し、この成膜室で前記電極上に有機物膜を形成する
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の
製造方法。
【請求項２】基板の洗浄を行う洗浄室と、前記洗浄室
に設けられかつ筒状のプラズマ発生部の内部にプラズマ
を発生させてその内部で基板を洗浄するプラズマ洗浄装
置と、前記基板上に薄膜を形成する成膜室と、前記洗浄
室および成膜室を互いに連通する移送路と、この移送路
を開閉するための開閉手段とを備えたことを特徴とする
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項３】請求項２に記載した有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の製造装置において、前記プラズマ発生
部は前記洗浄室内に着脱可能に設置されていることを特
徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装
置。