JPWO2008152928A1 - プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、2007年6月15日に、日本に出願された特願2007−158704号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
PDPは、前面基板と背面基板とが封着材を介して貼り合わされ、内部に放電ガスが封入されたものである。PDPとして、前面基板に維持電極および走査電極が形成され、背面基板にアドレス電極が形成された3電極面放電型が主流となっている。走査電極とアドレス電極との間に電圧を印加して放電を発生させると、封入された放電ガスがプラズマ化して紫外線が放出される。この紫外線により、背面基板に形成された蛍光体が励起されて、可視光が放出されるようになっている。
一方、前面基板工程のうち保護膜形成工程のスループットは、成膜レートの向上や成膜装置の大型化により短縮されている。ここで、PDP製造ライン全体のスループットを保護膜形成工程のそれと同じにするためには、多くの封着・エージング装置が必要となる。この場合、エネルギー消費量が増大してしまい、このことがPDPの製造コスト低減のための大きな課題となっている。
上記のプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、第1基板と第2基板とを当接させる前の排気コンダクタンスが大きい状態で保護膜から不純ガスを離脱させるので、短時間で清浄化を行うことが可能になる。また保護膜を280℃以上に加熱するので、保護膜に吸着した不純ガスの約70%以上を離脱させることが可能になる(図6参照)。すなわち、封着後のパネル内における不純ガスの含有量を低下させることができる。これにより、パネルの放電電圧を安定させることが可能になるため、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することができる。したがって、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、保護膜への不純ガスの吸着を抑制することが可能になり、その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、第1基板を350℃以上に加熱することにより、保護膜形成中に吸着した不純ガスを離脱させることが可能になり、また第1基板の放置中に新たな不純ガスが吸着するのを抑制することが可能になる。これにより、清浄化時間の短縮に加えて、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になる。その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。また、保護膜形成工程と封着工程との間において第1基板を待機させることができるので、柔軟な工程設計が可能になり、その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループットをさらに向上させることができる。
この場合、大気中または制御された雰囲気中で第1基板を加熱するので、保護膜形成工程から封着工程まで第1基板を真空中に保持する必要がなくなる。これにより、さらに柔軟な工程設計が可能になり、その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループットを向上させることができる。
この場合、封着後のパネル内における不純ガスの含有量を低下させることが可能になる。これにより、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になり、その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、第1基板および第2基板のうち一方の基板から離脱した不純ガスが他方の基板に入射するのを防止することが可能になる。これにより、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になり、その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、キャリアガス供給手段を新たに設ける必要がないので、その結果、製造コストを低減することができる。
この場合、蛍光体および封着材における不純ガスの吸着量を低下させることが可能になる。したがって、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になり、その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、封着材における不純ガスの吸着量をさらに低下させることが可能になる。したがって、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になり、その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、封着後のパネル内における不純ガスの含有量を低下させることが可能になる。これにより、プラズマディスプレイパネルの放電電圧が安定するので、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になる。したがって、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、第1基板および第2基板における不純ガスの吸着量をさらに低下させた状態で封着を行うことが可能になる。したがって、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になり、その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
上記のプラズマディスプレイパネルの製造装置によれば、第1基板と第2基板とを当接させる前に保護膜を加熱して、保護膜から不純ガスを離脱させるので、短時間で清浄化を行うことができる。また、成膜室において保護膜の脱ガスと両基板の封着とを連続して行うことができるため、封着後のパネル内における不純ガスの含有量を低下させることができる。これにより、プラズマディスプレイパネルの放電電圧を安定させることが可能になるため、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することができる。したがって、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、保護膜への不純ガスの吸着をさらに抑制することが可能になるため、封着後のパネル内における不純ガスの含有量を低下させることができる。したがって、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、第2基板の蛍光体および封着材への不純ガスの吸着を抑制することが可能になるため、封着後のパネル内における不純ガスの含有量を低下させることができる。したがって、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になり、その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、封着材への不純ガスの吸着をさらに抑制することが可能になるため、封着後のパネル内における不純ガスの含有量を低下させることができる。したがって、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、封着室における不純ガスの濃度を監視することにより、封着後のパネル内における不純ガスの含有量を低下させることができる。これにより、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になり、その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、第1基板および第2基板における不純ガスの吸着量をさらに低下させた状態で封着を行うことが可能になる。したがって、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になり、その結果、プラズマディスプレイパネルの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
2 背面基板
14 保護膜
17 蛍光体
20 封着材
50 プラズマディスプレイパネルの製造装置
64 成膜室
82 封着室
96 残留ガス分析計(ガス分析手段)
100 プラズマディスプレイパネル
S66 保護膜形成工程
S78 封着材塗布工程
S84 封着工程
S801 第1脱ガス工程
S802 第2脱ガス工程
(プラズマディスプレイパネル)
図1は、3電極AC型プラズマディスプレイパネルの分解斜視図である。このプラズマディスプレイパネル(以下「PDP」という。)100は、対向配置された前面基板(第1基板)1および背面基板(第2基板)2と、両基板1,2の間に形成された複数の放電室16とを備えている。
そのアドレス電極11を覆うように、誘電体層19が形成されている。また、互いに隣接するアドレス電極11の間における誘電体層19の上面には、アドレス電極11と平行に隔壁(リブ)15が形成されている。さらに、互いに隣接する隔壁15の間における誘電体層19の上面および隔壁15の側面には、蛍光体17が配設されている。この蛍光体17は、赤、緑、青の何れかの蛍光を発光するものである。
図2Bは、図2AのA−A線における側面断面図である。図2Bに示すように、前面基板1と背面基板2とが貼り合わされることにより、互いに隣接する隔壁15の間に放電室16が形成されている。この放電室16の内部には、NeおよびXeの混合ガス等からなる放電ガスが封入されている。
図3は、本発明の第1実施形態に係るPDPの製造方法のフローチャートである。PDPの製造工程は、パネル工程(S50)と、モジュール・セット工程(S52)との2つに大きく分けられる。そのパネル工程(S50)は、前面基板工程(S60)と、背面基板工程(S70)と、パネル化工程(S80)との3つに分けられる。
なお、図示しないが、チャンバ90には真空計が装着されている。またチャンバ90の大気側には、両基板のアライメントを行うためのCCDカメラ機構が設けられている。
パネル化工程(S80)では、前面基板1を加熱して保護膜から不純ガスを離脱させる第1脱ガス工程(S801)を行う。さらに、両基板のアライメント工程(S82)と、放電ガス導入および封着工程(S84)とを行う。なお必要な場合には、短時間のエージング工程(S86)をも行う。
また、図6の結果から、大きなピークが確認された280℃以上に前面基板1を加熱すれば、保護膜に吸着した不純ガスの70%以上が放出されることがわかる。そこで本実施形態では、保護膜が形成された前面基板1を、真空中または制御された雰囲気中で280℃以上に加熱することとされている(第1脱ガス工程;S801)。
次に、フック機構91aおよびピン機構92aをチャンバ内部に伸長させて前面基板1および背面基板2を互いに当接させる。両基板1,2が加圧された状態で、封着材20を430〜450℃程度に加熱して、両基板1,2を封着する(S84)。なお封着材20を430〜450℃程度に加熱し、次にフック機構91aおよびピン機構92aをチャンバ内部に伸長させて前面基板1および背面基板2を互いに当接させ、両基板1,2を加圧して封着してもよい。封着後のパネルは、図4に示す冷却・取出室84へ搬送されて、約150℃まで冷却され、その後に取り出される。
本実施形態では、封着室内の不純ガスの濃度を20ppm以下まで低下させる。不純ガス濃度が少なくとも20ppmあれば、AC型PDPの動作電圧を増加させるという報告があるからである。
なお、本実施形態に係るPDPの作製においては、保護膜形成後の前面基板を、封着室において280℃以上に加熱(第1脱ガス処理)した後に、両基板を封着した。
これに対して、従来技術に係るPDPの作製においては、保護膜形成後の前面基板を真空中に120分放置した後に、両基板を封着・封止した。なお両基板の封着中に、350℃で90分間の清浄化を行った。
この結果から、本実施形態に係るPDPの製造方法および製造装置を採用することにより、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現できることが確認された。したがって、PDPの製造におけるスループットを向上させることができる。また消費電力を低減することが可能になり、その結果、省エネルギー化を実現することができる。
図11は、エージング試験の結果を示すグラフである。本実施形態に係るPDPにおいては、図10に示す放電電圧(実線)に対して、図11に示す放置後のPDPの放電電圧が、ほとんど変化していない。それに対して、従来技術に係るPDPでは、不純ガスの清浄化が不十分であるため、放置後には放電電圧が上昇する。
この結果から、本実施形態に係るPDPでは、封着前の第1脱ガス処理により不純ガスの清浄化が十分に行われているので、パネル内の不純ガスの含有量が低くなり、放電電圧が上昇しないことが確認された。これにより、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現できる。これに伴って、PDPの製造におけるスループットの向上および省エネルギー化を実現することができる。
上記のPDPの製造方法によれば、前面基板と背面基板とを当接させる前の排気コンダクタンスが大きい状態で保護膜から不純ガスを離脱させるので、短時間で清浄化を行うことが可能になり、したがって、封着工程中の清浄化が不要になる。また保護膜を280℃以上に加熱するので、保護膜に吸着した不純ガスの約70%以上を離脱させることが可能になり(図6参照)、したがって、封着後のパネル内における不純ガスの含有量を低下させることができる。これにより、パネルの放電電圧を安定させることが可能になるため、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することができる。したがって、PDPの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、保護膜への不純ガスの吸着を抑制することが可能になるため、第1脱ガス工程を短時間で行うことができる。したがって、PDPの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、蛍光体および封着材における不純ガスの吸着量を低下させることが可能になるため、パネルの放電電圧を安定させることができる。したがって、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になり、その結果、PDPの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
この場合、封着材における不純ガスの吸着量をさらに低下させることが可能になる。したがって、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になり、その結果、PDPの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
一般に、両基板の封着温度(封着材が溶解する温度)は約420〜430℃であるが、図6のグラフによれば、この封着温度以上で加熱した場合にも不純ガスが放出される(ガラス基板からの放出ガスであると考えられる。)。そこで封着工程の前に、封着温度以上の温度(例えば450℃)で前面基板および背面基板を予備加熱する。この予備加熱工程は封着室において、第1脱ガス工程に続けてまたは第1脱ガス工程と同時に行うことが可能である。これにより、前面基板および背面基板における不純ガスの吸着量をさらに低下させた状態で封着を行うことが可能になる。したがって、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することが可能になり、その結果、PDPの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。
次に、本発明の第2実施形態に係るPDPの製造方法および製造装置について説明する。
第2実施形態では、前面基板に対する保護膜形成工程と第1脱ガス工程との間に、予備脱ガス工程を備えている点で第1実施形態と異なっている。なお第1実施形態と同様の構成となる部分については、その詳細な説明を省略する。
また、(c)の放出ガス量は(a)の1/3以下であり、PDPにとって問題のないレベルである。特に(c)の真空保持時間を短縮すれば、(b)より放出ガス量が少なくなると考えられる。そこで、本実施形態では(c)の方法を採用している。
その後、蛍光体および封着材が形成された背面基板2を封着室82に搬送し、前面基板1との封着を行う。
上記のPDPの製造方法によれば、保護膜形成中に吸着した不純ガスを予備脱ガス工程において離脱させることが可能になり、また第1基板の真空保持中に新たな不純ガスが吸着するのを抑制することが可能になる。これにより、保護膜形成直後と同等の不純ガス吸着状態を実現することが可能になり(図12参照)、したがって、清浄化時間を短縮することができる。また、パネル内における不純ガスの含有量が低下されて、放電電圧を安定させることが可能になるため、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することができる。したがって、PDPの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。また、保護膜形成工程と封着工程との間において第1基板を待機させることができるので、柔軟な工程設計が可能になり、その結果、PDPの製造におけるスループットを向上させることができる。
次に、本発明の第3実施形態に係るPDPの製造方法および製造装置について説明する。
上述した第2実施形態に係るPDPの製造方法では、真空中で予備脱ガス工程を行うのに対して、第3実施形態に係るPDPの製造方法では、大気中または制御された雰囲気中で予備脱ガス工程を行う。なお第1実施形態または第2実施形態と同様の構成となる部分については、その詳細な説明を省略する。
これ以外にも、(A)では、(B)に比べて、保護膜の結晶性を改善することができる。具体的には、(111)ピーク強度が増加し半値幅が減少する。またパネル化後の放電遅れを大幅に改善することができる。
図14は、第3実施形態に係るPDPの製造装置のブロック図である。第3実施形態に係るPDPの製造装置53は、保護膜形成装置53aと、パネル化装置53bとに分離されている。保護膜形成装置53aは、前面基板の仕込室61と、前面基板を150〜350℃程度に加熱する加熱室62と、電子ビーム蒸着法等により保護膜を形成する成膜室64と、前面基板の取出室65aとを備えている。一方、パネル化装置53bでは、前面基板ライン60bの後端、背面基板ライン70の後端、およびパネル化ライン80の前端が、それぞれ搬送室55に接続されている。背面基板ライン70およびパネル化ライン80は、第1実施形態と同様に構成されている。これに対して前面基板ライン60bは、前面基板の仕込室61および加熱室66のみを備え、成膜室を備えていない。
その後、蛍光体および封着材が形成された背面基板2を封着室82に搬送し、前面基板1との封着を行う。
上記のPDPの製造方法によれば、第1基板を350℃以上に加熱することにより、保護膜形成中に吸着した不純ガスを離脱させることが可能になり、また第1基板の放置中に新たな不純ガスが吸着するのを抑制することが可能になるので、清浄化時間の短縮することができる。また、パネル内における不純ガスの含有量が低下されて、放電電圧を安定させることが可能になるため、エージング時間の短縮またはエージングレスを実現することができる。したがって、PDPの製造におけるスループット向上および省エネルギーを実現することができる。また、大気中での加熱は安価に実施することが可能であるため、製造コストを低減することができる。
すなわち、各実施形態で挙げた具体的な材料や構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
例えば、上記実施形態ではMgOからなる保護膜を例にして説明したが、SrOやCaO等のアルカリ土類金属の酸化物、または他の材料からなる保護膜についても、本発明を同様に適用することが可能である。
Claims (17)
- 封着された第1基板と第2基板との間に放電ガスが充填されてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
プラズマ放電に対する保護膜が形成された前記第1基板を、真空中または制御された雰囲気中で280℃以上に加熱することにより、前記保護膜から不純ガスを離脱させる第1脱ガス工程と;
前記保護膜から前記不純ガスが離脱された前記第1基板と、前記第2基板と、を当接させて封着する封着工程と;
を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第1脱ガス工程の前に、真空中または制御された雰囲気中で前記第1基板に前記保護膜を形成する保護膜形成工程をさらに有し、
前記保護膜形成工程から前記第1脱ガス工程までの間は、前記第1基板が真空中または制御された雰囲気中に保持される。 - 請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第1脱ガス工程の前に、前記保護膜が形成された前記第1基板を、真空中で350℃以上に加熱することにより、前記保護膜から不純ガスを離脱させる予備脱ガス工程をさらに有し、
前記予備脱ガス工程から前記第1脱ガス工程までの間は、前記第1基板が真空中に保持される。 - 請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第1脱ガス工程の前に、前記保護膜が形成された前記第1基板を、大気中または制御された雰囲気中で350℃以上に加熱することにより、前記保護膜から不純ガスを離脱させる予備脱ガス工程をさらに有する。 - 請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記封着工程を、雰囲気中の前記不純ガスの濃度を所定値以下に保持した状態で行う。 - 請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第1脱ガス工程では、前記第1基板と前記第2基板とが互いに対向配置された状態で、前記第1基板または前記第2基板から離脱した前記不純ガスの平均自由工程が、前記第1基板と前記第2基板との間隔より短くなるように、前記第1基板と前記第2基板との間にキャリアガスが導入される。 - 請求項6に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記キャリアガスは、前記放電ガスと同じ種類のガスである。 - 請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記封着工程の前に、蛍光体および封着材が配設された前記第2基板を、真空中または制御された雰囲気中で加熱することにより、前記蛍光体および前記封着材から前記不純ガスを離脱させる第2脱ガス工程をさらに有する。 - 請求項8に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第2脱ガス工程の前に、真空中または制御された雰囲気中で前記第2基板に封着材を塗布する封着材塗布工程をさらに有し、
前記封着材塗布工程から前記第2脱ガス工程までの間、前記第2基板が真空中または制御された雰囲気中に保持される。 - 請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記封着工程では、前記不純ガスの分圧が2.0Pa以下の前記放電ガスが導入される。 - 請求項1に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記封着工程の前に、真空中または制御された雰囲気中で、前記第1基板および前記第2基板を、前記封着工程における封着温度以上の温度で予備加熱する工程をさらに有する。 - 真空中または制御された雰囲気中で第1基板と第2基板とが封着される封着室を備えたプラズマディスプレイパネルの製造装置であって、
前記封着室は、前記第1基板と前記第2基板とを当接させる前に、プラズマ放電に対する保護膜が形成された前記第1基板が、真空中または制御された雰囲気中で280℃以上に加熱されるように構成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造装置。 - 請求項12に記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置であって、
前記第1基板に前記保護膜が形成される成膜室をさらに備え、
前記成膜室から前記封着室にかけて、前記第1基板が真空中または制御された雰囲気中に保持されるように構成されている。 - 請求項12に記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置であって、
蛍光体および封着材の配設された前記第2基板が、真空中または制御された雰囲気中で加熱される加熱室をさらに備え、
前記加熱室から前記封着室にかけて、前記第2基板が真空中または制御された雰囲気中に保持されるように構成されている。 - 請求項14に記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置であって、
真空中または制御された雰囲気中で前記第2基板に封着材が塗布される塗布室をさらに備え、
前記塗布室から前記加熱室および前記封着室にかけて、前記第2基板が真空中または制御された雰囲気中に保持されるようになっている。 - 請求項12に記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置であって、
前記封着室には、前記雰囲気中の前記不純ガスの濃度を測定可能なガス分析手段が設けられている。 - 請求項12に記載のプラズマディスプレイパネルの製造装置であって、
前記封着室は、前記第1基板と前記第2基板とを当接させる前に、真空中または制御された雰囲気中で、前記第1基板および前記第2基板が、封着温度以上の温度で予備加熱されるように構成されている。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Citations (4)
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JPS5210067A (en) * | 1975-07-07 | 1977-01-26 | Ibm | Method of manufacturing gas discharge display panel |
JP2000156160A (ja) * | 1998-11-19 | 2000-06-06 | Ulvac Japan Ltd | 真空装置、及びプラズマディスプレイ装置の製造方法 |
JP2001202887A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガス放電パネルの製造方法およびその製造装置 |
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Patent Citations (4)
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JP2000156160A (ja) * | 1998-11-19 | 2000-06-06 | Ulvac Japan Ltd | 真空装置、及びプラズマディスプレイ装置の製造方法 |
JP2001202887A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガス放電パネルの製造方法およびその製造装置 |
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