JPH04245138A - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの製造方法Info
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- JPH04245138A JPH04245138A JP1067391A JP1067391A JPH04245138A JP H04245138 A JPH04245138 A JP H04245138A JP 1067391 A JP1067391 A JP 1067391A JP 1067391 A JP1067391 A JP 1067391A JP H04245138 A JPH04245138 A JP H04245138A
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Landscapes
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
パネル(PDP)の製造方法に関し、特に内部の放電空
間を清浄化するための排気処理に特徴を有する。
パネル(PDP)の製造方法に関し、特に内部の放電空
間を清浄化するための排気処理に特徴を有する。
【0002】PDPでは、放電空間の残留不純物が表示
動作の信頼性及び寿命に影響を与える。それ故、残留不
純物をできるだけ除去した良質の放電空間を形成しなけ
ればならない。
動作の信頼性及び寿命に影響を与える。それ故、残留不
純物をできるだけ除去した良質の放電空間を形成しなけ
ればならない。
【0003】
【従来の技術】周知のように、PDPは、表示面側及び
背面側の一対の透明基板を放電空間を設けて対向配置し
、透明基板の内側に設けた電極群の交差部に画定される
放電セルを選択的に発光可能に構成されている。
背面側の一対の透明基板を放電空間を設けて対向配置し
、透明基板の内側に設けた電極群の交差部に画定される
放電セルを選択的に発光可能に構成されている。
【0004】PDPの製造に際しては、一対のガラス基
板のそれぞれの表面に、複数の帯状の電極、誘電体層な
どを順次形成し、両ガラス基板を100μm程度の間隙
を設けて対向配置した後、封止ガラスによって周囲を密
封する。
板のそれぞれの表面に、複数の帯状の電極、誘電体層な
どを順次形成し、両ガラス基板を100μm程度の間隙
を設けて対向配置した後、封止ガラスによって周囲を密
封する。
【0005】その後、排気処理によって内部を清浄化し
た後に、所定の圧力となるように放電ガスを封入し、P
DPの組み立てを終える。
た後に、所定の圧力となるように放電ガスを封入し、P
DPの組み立てを終える。
【0006】従来においては、排気処理として、一対の
ガラス基板を350℃程度に加熱(ベーキング)した状
態で、真空ポンプを用いて内部気体を背面側ガラス基板
に設けた1つの通気孔から吸引していた。
ガラス基板を350℃程度に加熱(ベーキング)した状
態で、真空ポンプを用いて内部気体を背面側ガラス基板
に設けた1つの通気孔から吸引していた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】特に、大型のPDP及
び放電空間を区画するための隔壁を有したPDPでは、
通気孔から離れた部位の排気が困難であり、内部に大気
が残存し易い。また、内表面に吸着した不純ガス又は内
表層に含まれる不純物を充分に取り除くことができなか
った。つまり、内部の清浄化が不十分になり易いという
問題があった。
び放電空間を区画するための隔壁を有したPDPでは、
通気孔から離れた部位の排気が困難であり、内部に大気
が残存し易い。また、内表面に吸着した不純ガス又は内
表層に含まれる不純物を充分に取り除くことができなか
った。つまり、内部の清浄化が不十分になり易いという
問題があった。
【0008】内部の清浄化が不十分であると、その後に
封入する放電ガスと内部に残留する大気及び不純物とが
混ざることから、放電ガス組成が変化して表示動作が不
安定になる。
封入する放電ガスと内部に残留する大気及び不純物とが
混ざることから、放電ガス組成が変化して表示動作が不
安定になる。
【0009】本発明は、上述の問題に鑑み、内部空間の
充分な清浄を可能にすることを目的としている。
充分な清浄を可能にすることを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
め、請求項1の発明に係る製造方法は、図1に示すよう
に、対向配置した一対の基板11,21の周囲を封止し
た後、内部空間30を清浄化するための排気処理を行う
プラズマディスプレイパネル1の製造方法において、前
記一方の基板21に少なくとも2つの通気孔41,42
を設け、前記2つの通気孔41,42の内の一方の通気
孔41によって前記内部空間30の排気を行い、前記他
方の通気孔42から当該内部空間30に清浄用ガス60
を導入する。
め、請求項1の発明に係る製造方法は、図1に示すよう
に、対向配置した一対の基板11,21の周囲を封止し
た後、内部空間30を清浄化するための排気処理を行う
プラズマディスプレイパネル1の製造方法において、前
記一方の基板21に少なくとも2つの通気孔41,42
を設け、前記2つの通気孔41,42の内の一方の通気
孔41によって前記内部空間30の排気を行い、前記他
方の通気孔42から当該内部空間30に清浄用ガス60
を導入する。
【0011】請求項2の発明に係る製造方法は、前記2
つの通気孔41,42を、前記内部空間30の排気と前
記清浄用ガス60の導入とに交互に切り替えて用いる。
つの通気孔41,42を、前記内部空間30の排気と前
記清浄用ガス60の導入とに交互に切り替えて用いる。
【0012】請求項3の発明に係る製造方法は、前記一
対の基板11,21を加熱した状態で、前記内部空間3
0の排気及び前記清浄用ガス60の導入を行う。
対の基板11,21を加熱した状態で、前記内部空間3
0の排気及び前記清浄用ガス60の導入を行う。
【0013】請求項4の発明に係る製造方法は、前記内
部空間30の排気及び前記清浄用ガス60の導入を行っ
た後に、前記内部空間30内で放電を生じさせる。
部空間30の排気及び前記清浄用ガス60の導入を行っ
た後に、前記内部空間30内で放電を生じさせる。
【0014】
【作用】一対の基板11,21を加熱した状態で、一方
及び他方の通気孔41,42を交互に切り替えて、内部
空間30の排気と清浄用ガス60の導入とが順に又は並
行して行われる。
及び他方の通気孔41,42を交互に切り替えて、内部
空間30の排気と清浄用ガス60の導入とが順に又は並
行して行われる。
【0015】清浄用ガス60は、内部空間30に行き渡
り、内表面との衝突などの物理的作用又は化学反応によ
って不純物を内部空間30に析出させる。析出された不
純物は、清浄用ガス60とともに外部へ排出される。
り、内表面との衝突などの物理的作用又は化学反応によ
って不純物を内部空間30に析出させる。析出された不
純物は、清浄用ガス60とともに外部へ排出される。
【0016】内部空間30での放電による清浄化によっ
て、さらに不純物が内部空間30に析出する。
て、さらに不純物が内部空間30に析出する。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。
明する。
【0018】図2は本発明に係るPDP1の断面図であ
る。
る。
【0019】PDP1は、表示側のガラス基板11、背
面側のガラス基板21、横方向に延びる一対の透明電極
からなる放電維持電極対12及びバス電極15、低融点
ガラスからなる誘電体層17、MgOからなる保護膜1
8、横方向壁19aと縦方向壁19bとからなる格子状
の隔壁19、縦方向に延びるアドレス電極22及び隔壁
25、所定の配置パターンで設けられた蛍光体28、及
びガラス基板11,21の周囲を封止する封止ガラス3
1などから構成され、内部の放電空間30には、例えば
ネオン及びキセノンを混合した放電ガスが封入されてい
る。
面側のガラス基板21、横方向に延びる一対の透明電極
からなる放電維持電極対12及びバス電極15、低融点
ガラスからなる誘電体層17、MgOからなる保護膜1
8、横方向壁19aと縦方向壁19bとからなる格子状
の隔壁19、縦方向に延びるアドレス電極22及び隔壁
25、所定の配置パターンで設けられた蛍光体28、及
びガラス基板11,21の周囲を封止する封止ガラス3
1などから構成され、内部の放電空間30には、例えば
ネオン及びキセノンを混合した放電ガスが封入されてい
る。
【0020】なお、PDP1の製造段階においては、後
述の排気処理のために、背面側のガラス基板21に一対
の通気孔41,42(図1参照)が設けられている。
述の排気処理のために、背面側のガラス基板21に一対
の通気孔41,42(図1参照)が設けられている。
【0021】図1は本発明を実施するための排気装置5
0の構成を模式的に示す図である。
0の構成を模式的に示す図である。
【0022】排気装置50は、封止ガラス31による密
封工程を経た段階の多数のPDP1aを一括して加熱可
能なベーキング炉51、図示しない配管を介してPDP
1aの放電空間(内部空間)30内の気体を吸引する真
空ポンプ52、バルブ装置53、清浄用ガス60を充填
したガスボンベ54、調圧弁55、及びPDP1aに対
して放電電圧を印加するための電源装置56から構成さ
れている。
封工程を経た段階の多数のPDP1aを一括して加熱可
能なベーキング炉51、図示しない配管を介してPDP
1aの放電空間(内部空間)30内の気体を吸引する真
空ポンプ52、バルブ装置53、清浄用ガス60を充填
したガスボンベ54、調圧弁55、及びPDP1aに対
して放電電圧を印加するための電源装置56から構成さ
れている。
【0023】なお、清浄用ガス60としては、水分など
の不純物を含まず且つ内表面に吸着されにくいガス、例
えば上述の放電ガス、窒素、酸素、アルゴン、キセノン
などを用いることができる。
の不純物を含まず且つ内表面に吸着されにくいガス、例
えば上述の放電ガス、窒素、酸素、アルゴン、キセノン
などを用いることができる。
【0024】次に、PDP1aに対する排気処理を説明
する。
する。
【0025】上述したように、ガラス基板21には、そ
の四隅の内の対角となる2つの隅に、表示領域を避けて
通気孔41,42が設けられており、これら通気孔41
,42にはそれぞれガラス管43,44が取り付けられ
ている。
の四隅の内の対角となる2つの隅に、表示領域を避けて
通気孔41,42が設けられており、これら通気孔41
,42にはそれぞれガラス管43,44が取り付けられ
ている。
【0026】まず、PDP1aをベーキング炉51内に
配置し、ガラス管43,44とバルブ装置53に通ずる
配管とをガラス加工などによって接続する。
配置し、ガラス管43,44とバルブ装置53に通ずる
配管とをガラス加工などによって接続する。
【0027】次に、バルブ装置53の内部流路の切替え
によって、ガスボンベ54に至る流路を閉じる。そして
、真空ポンプ52を用いて、一方の通気孔(例えば通気
孔41)から内部空間30内の気体を吸引する。すなわ
ち排気を開始する。
によって、ガスボンベ54に至る流路を閉じる。そして
、真空ポンプ52を用いて、一方の通気孔(例えば通気
孔41)から内部空間30内の気体を吸引する。すなわ
ち排気を開始する。
【0028】内部空間30が10−4[Torr]程度
の真空状態になった時点で、排気を続けつつベーキング
炉51による加熱を始め、PDP1aを昇温する。加熱
によって内部空間30の残留ガスの運動が活発になり、
残留ガスが真空ポンプ52によって吸引され易くなる。
の真空状態になった時点で、排気を続けつつベーキング
炉51による加熱を始め、PDP1aを昇温する。加熱
によって内部空間30の残留ガスの運動が活発になり、
残留ガスが真空ポンプ52によって吸引され易くなる。
【0029】ベーキング炉51内が350℃程度の温度
に達すると、その温度を維持しつつ、ガスボンベ54か
ら他方の通気孔(例えば通気孔42)に至る流路を開き
、図1に実線矢印で示すように、排気と並行して内部空
間30に清浄用ガス60を導入する。
に達すると、その温度を維持しつつ、ガスボンベ54か
ら他方の通気孔(例えば通気孔42)に至る流路を開き
、図1に実線矢印で示すように、排気と並行して内部空
間30に清浄用ガス60を導入する。
【0030】導入された清浄用ガス60は、通気孔42
から通気孔41に向かって内部空間30に行き渡るよう
に流れる間に内部空間30内の残留ガスを吸収し、内部
空間30を清浄化する。
から通気孔41に向かって内部空間30に行き渡るよう
に流れる間に内部空間30内の残留ガスを吸収し、内部
空間30を清浄化する。
【0031】内部空間30の排気と清浄用ガス60の導
入とを30分程度続けた後、バルブ装置53の内部流路
を切り替えて、図1に破線矢印で示すように、以前とは
逆に通気孔42から排気を行いつつ、通気孔41から清
浄用ガス60を内部空間30に導入する。これにより、
内部空間30内は均一に清浄化される。
入とを30分程度続けた後、バルブ装置53の内部流路
を切り替えて、図1に破線矢印で示すように、以前とは
逆に通気孔42から排気を行いつつ、通気孔41から清
浄用ガス60を内部空間30に導入する。これにより、
内部空間30内は均一に清浄化される。
【0032】その後、30分毎に通気孔41,42を排
気孔とガス導入孔とに交互に切り替えて用い、内部空間
30の排気と清浄用ガス60の導入とを並行して行い、
内部空間30の清浄化を2時間程度続ける。
気孔とガス導入孔とに交互に切り替えて用い、内部空間
30の排気と清浄用ガス60の導入とを並行して行い、
内部空間30の清浄化を2時間程度続ける。
【0033】次に、清浄用ガス60の導入を停止し、排
気を行いつつPDP1aを自然冷却する。PDP1aが
常温に戻った後に排気を停止する。
気を行いつつPDP1aを自然冷却する。PDP1aが
常温に戻った後に排気を停止する。
【0034】続いて、清浄用ガス60が放電ガスの場合
は清浄用ガス60を内部空間30に導入し、また、清浄
用ガス60が放電ガス以外の場合は図示しないガスボン
ベから放電ガスを導入する。
は清浄用ガス60を内部空間30に導入し、また、清浄
用ガス60が放電ガス以外の場合は図示しないガスボン
ベから放電ガスを導入する。
【0035】そして、電源装置56によって、帯状導電
部材71,72を介してPDP1aに所定の電圧を印加
し、内部空間30で放電を生じさせる。これにより、内
部空間30の内表層から不純物が析出する。
部材71,72を介してPDP1aに所定の電圧を印加
し、内部空間30で放電を生じさせる。これにより、内
部空間30の内表層から不純物が析出する。
【0036】以降においては、放電ガスを一旦排気した
後、内部空間30に再び放電ガスを500〜600[T
orr]程度の圧力になるように封入する。そして、ガ
ラス加工によって、通気孔41,42を塞ぐようにガラ
ス管43,44を溶断し、PDP1の組み立てを終える
。
後、内部空間30に再び放電ガスを500〜600[T
orr]程度の圧力になるように封入する。そして、ガ
ラス加工によって、通気孔41,42を塞ぐようにガラ
ス管43,44を溶断し、PDP1の組み立てを終える
。
【0037】上述の実施例によれば、内部空間30で清
浄用ガス60の流れが生じることから、内部空間30を
短時間で均一に清浄化することができ、また、PDP1
aの加熱及び放電を併用することによって不純物を効率
的に取り除くことができる。
浄用ガス60の流れが生じることから、内部空間30を
短時間で均一に清浄化することができ、また、PDP1
aの加熱及び放電を併用することによって不純物を効率
的に取り除くことができる。
【0038】上述の実施例においては、排気と清浄用ガ
ス60の導入とを並行して行うものとして説明したが、
一方の通気孔41から排気を行った後、排気を一旦停止
して他方の通気孔42から清浄用ガス60を導入するよ
うにしてもよい。
ス60の導入とを並行して行うものとして説明したが、
一方の通気孔41から排気を行った後、排気を一旦停止
して他方の通気孔42から清浄用ガス60を導入するよ
うにしてもよい。
【0039】上述の実施例において、ガラス基板21に
3つ以上の通気孔を設けてもよい。また、本発明は、面
放電型のPDP1に限らず、対向放電形式のPDP及び
セグメント表示方式のPDPの製造にも適用することが
できる。
3つ以上の通気孔を設けてもよい。また、本発明は、面
放電型のPDP1に限らず、対向放電形式のPDP及び
セグメント表示方式のPDPの製造にも適用することが
できる。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、内部空間を十分に且つ
均一に清浄することが可能となる。
均一に清浄することが可能となる。
【0041】請求項2乃至請求項4の発明によれば、内
部空間の清浄化の効率を高めることができる。
部空間の清浄化の効率を高めることができる。
【図1】本発明を実施するための排気装置の構成を模式
的に示す図である。
的に示す図である。
【図2】本発明に係るPDPの断面図である。
1 PDP(プラズマディスプレイパネル)11,2
1 ガラス基板(基板) 30 放電空間(内部空間) 41,42 通気孔 60 清浄用ガス
1 ガラス基板(基板) 30 放電空間(内部空間) 41,42 通気孔 60 清浄用ガス
Claims (4)
- 【請求項1】対向配置した一対の基板(11)(21)
の周囲を封止した後、内部空間(30)を清浄化するた
めの排気処理を行うプラズマディスプレイパネル(1)
の製造方法において、前記一方の基板(21)に少なく
とも2つの通気孔(41)(42)を設け、前記2つの
通気孔(41)(42)の内の一方の通気孔(41)に
よって前記内部空間(30)の排気を行い、前記他方の
通気孔(42)から当該内部空間(30)に清浄用ガス
(60)を導入することを特徴とするプラズマディスプ
レイパネルの製造方法。 - 【請求項2】前記2つの通気孔(41)(42)を、前
記内部空間(30)の排気と前記清浄用ガス(60)の
導入とに交互に切り替えて用いることを特徴とする請求
項1記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項3】前記一対の基板(11)(21)を加熱し
た状態で、前記内部空間(30)の排気及び前記清浄用
ガス(60)の導入を行うことを特徴とする請求項1又
は請求項2記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。 - 【請求項4】請求項1又は請求項2記載の排気及び前記
清浄用ガス(60)の導入を行った後に、前記内部空間
(30)内で放電を生じさせることを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1067391A JP3165453B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1067391A JP3165453B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04245138A true JPH04245138A (ja) | 1992-09-01 |
JP3165453B2 JP3165453B2 (ja) | 2001-05-14 |
Family
ID=11756778
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1067391A Expired - Fee Related JP3165453B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3165453B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6221190B1 (en) | 1997-08-29 | 2001-04-24 | Chugai Ro Co., Ltd. | Method and apparatus for processing glass panel |
US9548232B2 (en) | 2012-06-20 | 2017-01-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Attaching apparatus |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100358805B1 (ko) | 2000-03-07 | 2002-10-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 리튬 이차 전지용 음극 활물질 및 그의 제조 방법 |
-
1991
- 1991-01-31 JP JP1067391A patent/JP3165453B2/ja not_active Expired - Fee Related
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