JPH03230447A - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 プラズマディスプレイパネル（ＦＤＰ）の製造方法に関
し、 表示動作の安定化に要する時間を短縮し、生産性の向上
を図ることを目的とし、 少なくとも片側の基板に電極、誘電体層、及び保護用酸
化膜を順次形成した一対の基板を間隙を設けて対向配置
し、両基板の周囲を封止して放電空間を形成したプラズ
マディスプレイパネルの製造方法において、前記放電空
間に対して還元ガスの充填及び排出を行う工程を含むこ
とを特徴として構成される。

〔産業上の利用分野〕

本発明は、ＦＤＰの製造方法に関する。

ＦＤＰは、薄い奥行きで大型の表示画面を実現できるた
め、各種機器の表示手段として広く利用されつつある。

それ故、生産性の向上による低価格化が要望されている
。

〔従来の技術〕

周知のように、ＦＤＰは、表示面側及び背面側の一対の
透明基板を放電間隙を設けて対向配置し、少なく一方の
透明基板の内側に設けた電極によって画定される放電セ
ルを選択的に発光可能に構成されている。

例えば、ＡＣ（交流）駆動方式の対向電極型ＦＤＰの製
造においては、一対のガラス基板のそれぞれの表面に、
複数の帯状の電極、誘電体層、保護膜を順次形成し、各
ガラス基板の電極が格子状に対向するように両ガラス基
板を所定の間隙を設けて配置し、封止ガラスによって周
囲を密封する。

保護膜は、誘電体層の劣化を防止するとともに、２次電
子放出により放電開始電圧を下げる作用をもつ。

そして、排気処理によって間隙を真空状態とした後に、
所定の圧力となるように放電用のガスを封入し、ＦＤＰ
の組み立てを終える。

その後、従来においては、全ての放電セルを所定時間だ
け発光させる処理、すなわちエージングが行われる。エ
ージングを実施することにより、内部において各放電セ
ルの近辺が化学的及び物理的に浄化され、その後の発光
が安定なものとなる。

〔発明が解決しようとする課題］ しかしながら、Ｍｇ０（酸化マグネシウム）などの酸化
金属膜からなる保護膜を有したＦＤＰに対しては、４８
時間以上のエージングが必要であり、ＰＤＰの生産性が
低いという問題があった。

本発明は、上述の問題に鑑み、表示動作の安定化に要す
る時間を短縮し、生産性の向上を図ることを目的として
いる。

〔課題を解決するための手段］ 本発明に関係する製造方法は、上述の課題を解決するた
め、第１図〜第３図に示すように、電極１３．１４、誘
電体層１５，１６、及び保護用酸化膜２１．２２を順次
形成した一対の基板１１゜１２を間隙を設けて対向配置
し、両基板Ｉ１．１２の周囲を封止して放電空間１９を
形成したプラズマディスプレイパネルの放電空間１９に
対して還元ガスの充填及び排出を行う工程を含ませたこ
とを特徴とする。

（作　用） 放電空間１９に対して還元ガスが充填される。

還元ガスは、保護用酸化膜２１．２２の表層部に存在す
る過剰の酸素を放電空間１９に析出させ、保護用酸化膜
２１．２２を還元する。

これにより、放電特性に影響を与える保護用酸化膜２１
．２２の酸化状態が安定なものとなる。

析出された酸素は、還元ガスとともに外部へ排出される
。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説明する。

第３図は本発明の実施例に係る対向放電型ＰＤＰＩの断
面図である。

ＰＤＰ　１は、表示側のガラス基板１１、背面側のガラ
ス基板１２、各ガラス基板１１．１２の表面に形成され
たｘｉｌ極１３及びＹｌを極１４、遮光マスク２０、低
融点ガラスからなる誘電体層１５１６、酸化マグネシウ
ムからなる保護膜２１，２２、周囲を密封する封止ガラ
ス１７、及び球状のスペーサ８８・・・などから構成さ
れ、スペーサ８によって間隙寸法が規定された放電空間
１９には、ネオン（Ｎｅ）及びキセノン（Ｘｅ）を混合
した放電ガスが封入されている。第３図において、ガラ
ス基板１１の上面が表示面となる。

なお、ＰＤＰ　１の製造段階においては、放電空間１９
を真空状態とした後に放電ガスを注入するために、封止
ガラス１７に図外の通気路が設けられる。

第２図は本発明を実施するための排気装置３０の概略の
構成を示す図である。

排気装置３０は、封止ガラス１７による密封工程を経た
段階の多数のＰＤＰ　１　ａを一括して加熱可能なベー
キング炉３１、配管３４を介して各ＰＤＰ１ａの放電空
間１９の内部気体を吸引する真空ポンプ３２、窒素ガス
ポンへ３５、水素ガスボンベ３７、放電ガスボンベ３６
、及びＰＤＰ　１　ａに対する排気又はガスの充填を切
り換えるための弁装置３３から構成されている。なお、
水素ガスポンへ３７には、水素の容量比を２０％とした
アルゴン（Ａ　ｒ　）と水素の混合ガスが充填されてい
る。また、各ガスポンへ３５．３６．３７には、ガス圧
を調整するための調圧弁が設けられている。

第１図は本発明に係る排気処理を示す図である。

第２図をも参照しつつ、まず、多数のＰＤＰ　１ａをヘ
ーキング炉３１内にてそれぞれ配管３４に接続する。そ
して、各ポンへ３５〜３７に至る経路が閉し、配管３４
と真空ポンプ３２とが連通ずるように弁装置３３を切り
換える。

常温で、ＰＤＰ　１　ａに対する排気を開始し、放電空
間１９が１０−’　［Ｔｏ　ｒ　ｒ］程度の真空状態に
なった時点ＬＯで、排気を行いつつヘーキング炉３１に
よる加熱を始め、ＰＤＰ　１　ａを昇温する。

加熱により、放電空間１９の残留ガスの運動が活発にな
る。したがって、残留ガスが真空ポンプ３２によって吸
引され易（なり、ヘーキング炉３１内の温度が３６０ビ
Ｃ１に達した時点ｔ１で、放電空間１９は１０−’　［
Ｔｏ　ｒ　ｒ］程度の真空状態になる。

その後、３６０ビＣ］の温度を時点ｔ１〜ｔ３までの約
４時間の期間Ｔにおいて一定に保ち、ヘーキングを継続
する。

本実施例では、ベーキング中の期間Ｔにおいて、放電空
間１９への浄化用ガス（窒素ガス又は水素ガス）の充填
と排気とを３０分毎に交互に行う。

すなわち、時点Ｌ１で弁装置３３を切り換え、まず、放
電空間１９の圧力が５００〜６００［Ｔｏｒｒ］になる
ように窒素ガス（Ｎ２）を充填する。

これにより、熱エネルギーを得て放電空間１９を活発に
運動するＮ　ｔ　（分子）が、保護膜２１．２２の表面
などに吸着している残留ガス（分子）に衝突し、両分子
間で運動エネルギーの交換が起こり、残留ガスが弾き飛
ばされるように吸着状態から解放されて放電空間１９で
活発に運動する。

１回目のＮ、の充填から３０分が経過した時点で、弁装
置３３を切り換え、−旦、真空ポンプ３２によって放電
空間１９の内部気体の吸引を行う。

吸着状態から解放された残留ガスは、Ｎ２とともに排気
される。

３０分の排気の後に、２回目のＮｚの充填を行って再び
排気する。３回目のＮ２の充填及び排気が終了した時点
ｔ２で弁装！３３を切り換える。

そして、続いて水素ガス（Ｎ２）を放電空間１９に充填
する。

Ｎ２は、保護膜２１．２２の表層部に存在する過剰の酸
素を放電空間１９に析出させ、保護膜２１．２２を還元
する。

これにより、従来において実施されていたエージングの
効果と同様に、放電特性に影響を与える保護膜２１．２
２の酸化状態が安定なものとなる。

Ｎ２の充填から３０分が経過した時点で、弁装置３３を
切り換え、真空ポンプ３２によって放電空間１９の内部
気体の吸引を行う。これにより、析出された酸素がＮ２
とともに外部へ排出される。

期間Ｔが終了すると、排気を続けながら、へ−キング炉
３１による保温を停止し、ＰＤＰ　１　ａを自然冷却す
る。

その後においては、放電空間１９に、放電ガスポンへ３
６から放電ガスを５００〜６００［Ｔ。

ｒｒ］の圧力になるように封入し、ＰＤＰ　Ｉを完成さ
せる。

上述の実施例によれば、水素ガスの充填を含む排気処理
を実施することにより、ＰＤＰ　１の表示動作が安定と
なるので、エージングを省略することができ、ＰＤＰ　
１の製造工数を削減できる。

上述の実施例によれば、残留ガスの内のＣＯは、Ｎ２と
分子量が等しい（ともに分子量は２８）ので、Ｎ２との
運動エネルギーの交換の効率が高く、吸着状態から解放
されて排出され易い。

つまり、分子を衝突させて物理的に残留ガスの吸着状態
を解くために充填するガスをＮ２とすることにより、特
にＰＤＰ　１において放電特性や寿命に対する影響が大
きい残留ガスとして知られるＣＯを効率よく排出するこ
とが可能となり、ＰＤＰｌの信転性の向上及び長寿命化
を図ることができる。

上述の実施例において、排気処理についての設定条件（
排気プロファイル）、すなわち、加熱温度、Ｎ２又はＮ
２の充填圧力、充填期間又は排気期間の長さ、ガスの充
填と排気の繰り返しの回数などは、排気処理の対象に応
して適宜設定することができる。

なお、本発明は、対向放電型ＦＤＰに限らず面放電型Ｆ
ＤＰにも通用可能である。

［発明の効果］ 本発明によれば、表示動作の安定化に要する時間を短縮
することができ、ＰＤＰの生産性が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る排気処理を示す図、第２図は本発
明を実施するための排気装置の概略の構成を示す図、 第３図は本発明の実施例に係るＦＤＰの断面図である。 図において、 ｌはＦＤＰ　（プラズマディスプレイパネル）、１１．
１２はガラス基板（基板）、 １３はｘｉａ極（電極）、 １４はＹ電極（電極）、 １５．１６は誘電体層、 １９は放電空間、 ２１．２２は保護膜（保護用酸化膜）である。 本発明に係る排気処理を示す図 第１図 本発明を実施するための排気装置の概略の構成を示す間
第２図 本発明の実施例に係るＦＤＰの断面図 第３図 １１、１２ ３ ４ １５、１６ ９ ２１．２２ ＦＤＰ　（プラズマディスプレイパネル）ガラス基板（
基板） Ｘ電極（電極） Ｙ電極（電極） 誘電体層 放電空間 保護膜（保護用酸化膜）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）少なくとも片側の基板に電極（１３）（１４）、
   誘電体層（１５）（１６）、及び保護用酸化膜（２１）
   （２２）を順次形成した一対の基板（１１）（１２）を
   間隙を設けて対向配置し、両基板（１１）（１２）の周
   囲を封止して放電空間（１９）を形成したプラズマディ
   スプレイパネルの製造方法において、 前記放電空間（１９）に対して還元ガスの充填及び排出
   を行う工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレ
   イパネルの製造方法。