JPH03257739A - ガス放電パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、ガス放電型の表示パネル（これをガス放電
パネルさらにはパネルと略称することもある。）の製造
方法に関するものであり、特に放電ガスの封入工程に特
徴を有するガス放電パネルの製造方法に間するものであ
る。

（従来の技術） ガス放電パネルは、モノクローム表示のもの及びフルカ
ラー表示のものがある。そして、フルカラー表示のもの
は、例えば壁掛は型の高品位テレビ等に好適なものとし
で期待されている。以下、フルカラー表示か可能なガス
放電パネルを例に挙げ従来のパネルの構造につき説明す
る。

この種の従来のガス放電パネルとしでは、例えば文献（
電子通信学会技術研寛報告ＥＩＤ８７−７２１９８８）
Ｐ、５５〜６０）に開示されているものかあった。第３
図は、その説明に供する図であり、このガス放電パネル
の一部を切り欠いて示した部分的斜視図である。

このガス放電パネルは、前面基板１１と、これに対向す
る背面基板２１とを具える。さらに両基板Ｎ、２１周に
、表示陽極母線１２、該陽極母線と種火陽極母線との電
極とする部分を露出する窓を有する絶縁膜１３、表示陽
極１２ａ、セル間隔壁１４、セル間隔壁１４により放電
空間が規定される表示セル１５及び各表示セル内に設け
られた蛍光体１６１Ｆ！：具える。さらに、両基板Ｉ＋
、２１間に表示陰極母線）７、表示陰極１７ａ　、　ｆ
！火陰極１７ｂ、種火放電空間１８、種火陽極母線１９
、種火陽極１９ａ及び種火放電空間１８の種火を表示セ
ル１５に供給するためのプライミングホール２０を具え
る０表示セル１５及び種火放電空間１８内には放電ガス
が導入されている。

このような構成のガス放電パネルでは、表示陽極１２ａ
及び表示陰極１７ａ間に数百ボルトの電圧を印加すると
表示セル１５でプラズマ放電が起こる。

そして、この放電の際に生じた紫外線によって蛍光体１
６は励起発光し、この結果カラー表示が得られる。放電
ガスとしては、Ｈｅ−Ｘｅ　（ヘリウム−キセノン）系
混合ガスが用いられることが多い。この放電ガスによれ
ば、蛍光体を励起発光させ易い波長の紫外線が得られ易
いがらである。

また、このような構成のガス放電パネルの製造に当たり
放電空間内への放電ガスの封入は、従来は以下に説明す
るように行われていた。

一つの方法は、放電ガスを導入するばかりにまで組み立
てか終了したガス放電パネルを３００〜５００′Ｃ程度
の温度で加熱しながら当該パネルの放電空間内を高真空
状態になるまで排気し、次に、真空状態を維持したまま
パネル温度を下げ、次に、放電空間内に放電ガスを導入
し、その後チップオフして放電ガスを放電空間に封入す
る方法である。なあ、チップオフとは、パネルの放電ガ
ス封入口を焼きちぎって封入口を封止することを云う。

ここで、ガス放電パネルにおいてはエージング放電か必
要になる。その理由は、ガス放電パネルでは、放電ガス
封入工程に至るまでの種々の工程中で行われる何度かの
高温処理等によって放電用電極等か酸化される等が起こ
っているため、放電ガス封入後の状態のパネルではパネ
ル本来の特性が得られず、エージング放電によって酸化
膜等を除去してパネル本来の特性を出す必要があるがら
である。このエージング放電を実施すると、例えば、放
電電圧のバラツキを小さく出来、さらに各表示セルの発
光を安定化出来る等のｆ！々の効果が得られる。

そこで、上述の方法で放電ガスを封入したガス放電パネ
ルの場合は、放電ガス封入後の状態のパネル（外観的に
は最終的な製品となった状態のパネル）に対しエージン
グ放電が実施される。

また、放電空間内への放電ガスの別の封入方法として、
例えば特開昭５７−１３６４９号公報に開示の方法があ
った。この方法は、主ガスと副ガスとで構成した放電ガ
スを用いたガス放電パネルを製造するに当たり、副ガス
の濃度を放電ガス本来の濃度より小さくしたエージング
用ガスを放電空間内に先す導入し、このエージングガス
によってエージング放電を行い、その後、放電空間内に
副ガスの濃度を本来の濃度とした放電ガスを封入すると
いう方法であった。この方法は、最初から放電ガスを封
入しエージング放電を行ってしまう方法に比へ、エージ
ングを効率的に行えるという。具体的には、純ネオン（
Ｎｅ）ガスによってエージング放電を行った後、ネオン
ガスに０．２％程度のキセノンガスを含有させたガスを
放電ガスとして放電空間内に封入しでいた。

（発明か解決しようとする課題） しかしながら、上述した従来の放電ガスの封入方法のう
ちの前者の方法（放電ガスを直ぐに封入する方法）の場
合、エージング放電を開始させるための電圧（この電圧
をエージング開始電圧と称することにする。）は、がな
り高くしないとエリング放電を開始させることが出来な
かった。

従って、いざエージング放電が開始されるとパネルには
必要以上に高い電圧か印７１１１１されてしまい、この
ため、電極に大きなスパッタ衝撃が加わりパネル損傷等
を招く。これを防止するため、エージング放電か開始さ
れるまでは大きな抵抗を持つ電流制限抵抗を用い、エー
ジング放電開始後はバネルへの印加電圧を下げる等の方
法が用いられるが、この方法は面倒であった。

また、上述した従来の放電ガスの封入方法のうちの、副
ガスを少くしたエージジグ用ガスを用いエージング放電
を行いその後放電ガスを封入する方法は、副ガスを用い
ないガス即ちペニングガスてないガスてエージング放１
１１を行うことになるためこの際の動作電圧は高くせざ
るを得ない、従って、前者の方法と同様な問題点が生し
でしまう。

この発明はこのような点に鑑みなされたものであり、従
ってこの発明の目的は、エージング放電時にパネルに与
える損傷を従来より低減出来熱も所望の放電ガスを封入
出来る工程を有するガス放電パネルの製造方法を提供す
ることにある。

（課題を解決するための手段） この目的の達成を図るため、この出願に係る発明者は種
々の検討を重ねた。その結果、ガス放電パネルに対し行
うエージング放電の効果は、エージング放電に用いるガ
スのｆ！類によらず同様に得られ、さらにガス放電パネ
ルに封入される本来の放電ガスよりも放電電圧か低いガ
スを用いた場合にも同様に得られるということを見出し
この発明を完成するに至った。

従って、この発明によれば、対向配Ｍされた一枚の基板
と、これら基板間に放電空間を構成するための隔壁と、
この放電空間に封入されている放電ガスを放電させるた
めの電極と、前述の放電空間に露出されている蛍光体と
を具えるガス放電パネルを製造するに当たり、 放電空間内への放電ガスの封入を下記の〔ａ〕〜〔ｂ〕
の工程を含む工程で行うことを特徴とする。

■・・・前述の放電空間内を排気したこの該放電空間内
に放電電圧か放電ガスのそれより低いエージング用ガス
を導入する工程。

■・・・このエージング用ガスを導入した状態で当該ガ
ス放電パネルを所定時間放電させる工程。

■・・・前述の所定時間の放電後前述の放電空間内を再
び排気し、その後前述の放電ガスを封入する工程。

なお、この発明の実施に当たり、放電ガスをＨｅ−Ｘｅ
系の混合ガス、Ｈｅ−Ｋｒ（クリプトン）系の混合ガス
またはＨｅ−Ｘｅ−Ｋｒ系の混合ガス等とした場合は、
エージング用ガスとして例えばＮｅ−Ａｒ（アルゴン）
系の混合ガス又はＮｅ−Ｘｅ系の混合ガスを用いれば、
放電開始電圧及びイオン衝撃各々が放電ガスのそれより
低いエージング用ガスによるエージング放電が行える。

勿論他に好適なガスがあることは明らかである。

（作用） この発明の構成によれば、エージング用ガスは本来の放
電ガスより放電電圧が低いガスとされているので、エー
ジング放電開始時及びエージング放電中にわたってガス
放電パネルには当該ガス放電パネルの定格以下の電圧が
印加されるたけである。このため、スパッタ衝撃も低減
出来、また、放電電極表面の変化が激しく起こるエージ
ング放電において、過電圧による電極損（ａを起こすこ
となく目的とする電極クリーニングがなされる。

また、エージング放電終了後に放電空間内を再排気して
いるので、エージング放電時に反応生成物等が生じた場
合でもこれを放電空間内から除去出来る。

（実施例） 以下、図面を参照してこの発明のガス放電パネルの製造
方法の実施例につき説明する。なお、説明に用いる図は
、この発明を理解出来る程度に各構成成分の寸法、形状
及び配曹関係を概略的に示しであるにすぎない。

第１図は、ガス放電パネルの製造方法の実施例の説明に
供するフローチャートであり、特に、実施例の放電ガス
封入工程を示したフローチャート。第２図は、放電ガス
が封入されるガス放電パネル３１（第２図中、斜線を付
したもの）と、エージング放電及び放電ガス封入の両方
を実施出来る装Ｍ４１（以下、ガス封入装置１４１と略
称する。）との禮続開係を示した図である。

ガス放電パネルの製造方法の説明に先立ち、ガス封入袋
フ４１の構成について説明する。

このガス封入装置１４１は、蓋部材４３及びこの蓋部材
４３と組合わせて用いる土台４５ヲ具えている。蓋部材
４３は上下方向に移動出来かつ土台４５に対し着脱が可
能な構成となっている。、さらに、蓋部材４３の土台４
５側の面と、土台４５の蓋部材４３１！Ｉの面とには、
ガス放電パネルを加熱するためのヒータ（図示せず）を
それぞれ設けである０Ｍ部材４３を土台４５に接しで固
定することによりガス放電パネル３１が収納される空間
が構成されこの空間内においてガス放電パネルの熱処理
を効率的に行える。また、土台４５上には、ガス放電パ
ネル３１のエージング放電を実施するための駆動回路取
り付は治具４７を設けである。また、この治具４７には
この治具４７とガス放電パネル３１とヲ掃続するための
ＦＰＣ４９（フレキシブルプリント配線板４９）を設け
である。ガス放電パネルのエージング放電を行う際に駆
動回路取り付は治具４７にはパネルの駆動回路か取りつ
けられる（詳細は後述する。）。

さらに、このガス封入装貫４１は、ガス放電パネル３１
の放電空間内を排気するための排気装Ｍ５１を具える。

排気装？ｌ１５１は、配管５３及びチップ管５５ヲ介し
ガス放電パネル３１の放電ガス封入口と接続しである。

ここで、チップ管５５とはガス封入管のことであり、放
電ガス空間に放電ガスを封入後焼きちぎることによって
封入口を圧閉出来るもである。

さらに、このガス封入袋＝４１は、ガス放電パネルのエ
ージング放電時のエージジグ用ガス供給源５７、ホーミ
ング処理（？＆述する。）用のカス供給源５９及び放電
ガス供給源６１を具える。これらカス供給源５７，５９
．６１は開閉バルブを介し配管５３に接続しである。ま
た、配管５３の、ガス供給源５７，５９．６１と接続さ
れた部分よりチップ管５５側の部分には開閉バルブ６３
ａを、排気装Ｍ５１側の部分には開閉バルブ６３ｂをそ
れぞれ設けである。なあ、この実施例では、エージング
用ガスとしてＮｅ−Ａｒガス（Ａｒ７ｊ０．３％含有す
るガス）を用い、ホーミング用ガスとしてＮ２　　Ｎ２
系のガスを用い、放電ガスとしてＨｅ−Ｘｅガス（Ｘｅ
を５％含有するガス）を用いている。

次に、第１図のフローチャートを参照して、ガス放電パ
ネルの製造方法の実施例特に放電ガス封入の実施例につ
き説明する。なお、以下の説明においては、第２図も適
宜参照されたい。

放電ガスを導入するばかりにまで組み立てが終了したガ
ス放電パネル３１をチップ管５５を介し配管５３と接続
することにより、ガス放電パネル３１をガス封入袋Ｍ４
１にセ・ン卜する（第１図ステップＳ１）。ここで、ガ
ス放電パネル３１は放電ガス注入口か在りさえすればど
のような方法で組み立てられたものまたどのような構造
のものでも良い。

次に、蓋部材４３でＭをした後、蓋部材４３及び土台４
５各々に取り付けであるヒータ（図示せず）を作動させ
ガス放電パネルをこれが所定温度になるまで加熱する。

またこの際、各ガス供給源５７，５９゜６１の開閉バル
ブを閉めた状態で開閉バルブ６３ａ。

６３ｂを開けて排気装Ｍ５１を作動させ、ガス放電パネ
ル３１の放電空間内を排気する（ステップＳ２）。

次に、所定温度を維持した状態で開閉バルブ６３ｂを閉
めた後ホーミング用ガス供給源５９の開閉バルブを開け
て、放電空間内にホーミング用ガスを導入し、ホーミン
グ処理を行う（ステップＳ３）。ここで、ホーミング処
理とは、放電空間内に主に還元性ガスを導入してＭ電電
極などに形成されている酸化物等を還元させ除去しで、
ガス放電パネルの特性向上を図ろうとする処理のことで
ある。

次に、排気装置１５１により放電空間内を既に説明した
手順で排気する（ステ・ンブＳ４）。この排気によりホ
ーミング用ガスは放電空間内から排気される。ざらに、
ホーミング処理によって反応生成物か生した場合はこれ
も一緒に排気される。

次に、ガス放電パネルの温度が下げられる（ステップ５
）。

次に、駆動回路取り付は治具４７にパネルの駆動回路（
図示せず）を取り付け、また、ＦＰＣ４９を介しパネル
と駆動回路取り付は治具とを接続する。

次に、エージング用ガス供給源５９の開閉バルブを開は
放電空間内に放電電圧が放電ガスのそれより低いエージ
ング用ガスとしてＮｅ−Ａｒ　（０゜３％）ガスを導入
する（ステップＳ６）。

次に、ガス放電パネルの全てのＸ電極及びＹ電極（第３
図のガス放電パネルの例で云えば全ての表示陽極母線１
２及び表示陰極母線１７）にエージング電圧を印加しく
ステップＳ７）、その状態でガス放電パネル３１ヲ所定
時間放電させる（ステップ３８．９）、この実施例の場
合、Ｎｅ−Ａｒ（０３％）ガスの放電電圧が、Ｈｅ−Ｘ
ｅ　（５％）ガスのものより１００Ｖ程度低いので、エ
ージング放電は当該ガスパネルを実際に使用する場合の
動作電圧より低いエージング電圧によって行うことかで
きる。

エージング放電終了後、ガス放電パネルの放電空間内を
排気装Ｍ５１により再び排気する（ステップ５１０）。

その後、放電ガス供給源６１の開閉バルブを開けて放電
室ｎ内に放電ガスとしてこの場合Ｈｅ−Ｘｅ　（５％）
ガスを導入する（ステップ５１１）。その後、チップ管
をチップオフする（ステップ５１２）。

以上の処理により放電ガスの封入が終了する。

なあ、放電ガス封入の際には必要に応しパネル内に水銀
を投入しても良い。これによれば、放電電極の耐スパツ
タ性を向上させることか出来る。

水銀を用いる場合は、チップオフしさらに水銀拡散処理
をした後、第２次エージング放電を行う。

上述においては、この発明のガス放電パネルの製造方法
の実施例につき説明したが、この発明は上述の実施例の
みに限られるものではなく以下に説明するようなｆ！々
の変更を加えることか出来る。

上述の実施例では、放電ガスをＨｅ−Ｘｅ　（５％）ガ
スとし、該放電ガスより放電電圧か低いエージング用ガ
スをＮｅ−Ａｒ（０，３％）ガスとしていたが、この発
明の効果はこれらのガスの場合にのみ得られるものでは
なく、他の組み合わせにおいても同様に得られる。具体
例として、放電ガスはＨｅ−にｒ（クリプトン）系の混
合ガスまたはＨｅ−Ｘｅ−Ｋｒ系の混合ガス、エージン
グ用ガスはＮｅ−Ａｒガス又はＮｅ−Ｘｅ系のガスヲ挙
げることか出来る。

（発明の効果） 上述した説明からも明らかなように、この発明のガス放
電パネルの製造方法によれば、放電ガスより放電電圧か
低いエージング用ガスを用いてエージング放電を行った
後該エージング用ガスを放電ガスに入れ換えで放電ガス
の封入か行われる。

このため、エージング放電開始時及びエージング放電中
にわたってガス放電パネルには当該ガス放電パネルの定
格以下の電圧が印加されるたけである。このため、スパ
ッタ衝！ｌ小ざ〈出来、また、放電電極表面の変化か激
しく起こるエージング放電において、過電圧による電極
損ｉを起こすことなく目的とする電極クリーニングかな
される。従って、放電ガスを封入して得られるガス放電
パネルは、安定に放電するものになる。

また、エージング放電終了後に放電空間内を再排気して
いるので、エージング放電時に反応生成物等か生した場
合でもこれを放電空間内から除去出来る効果も期待出来
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は、製造方法の実施例を示すフロチャート、 第２図は、ガス封入工程で用いた装置の説明に供する図
、 第３図は、従来技術の説明に供する図である。 ３１・・・ガス放電パネル、　４１・・・ガス封入製画
４３・・・・・・蓋部材、　　　　４５・・・土台４７
・・・駆動回路取り付は治具 ４９・・・ＦＰＣｌ　　　　　５１・・・排気装百５３
・・・配管、　　　　　　　５５・・・チップ管５７・
・・エージング用ガス供給源 ５９・・・ホーミング用ガス供給源 ６１・・・放電ガス供給源、　６３ａ、６３ｂ・・・開
閉バルブ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）対向配置された二枚の基板と、これら基板間に放
   電空間を構成するための隔壁と、該放電空間に封入され
   ている放電ガスを放電させるための電極と、前記放電空
   間に露出されている蛍光体とを具えるガス放電パネルを
   製造するに当たり、放電空間内への放電ガスの封入を下
   記の〔ａ〕〜〔ｂ〕の工程を含む工程で行うことを特徴
   とするガス放電パネルの製造方法。 〔ａ〕・・・前記放電空間内を排気した後該放電空間内
   に放電電圧が放電ガスのそれより低いエージング用ガス
   を導入する工程。 〔ｂ〕・・・該エージング用ガスを導入した状態で当該
   ガス放電パネルを所定時間放電させる工程。 〔ｃ〕・・・前記所定時間の放電後前記放電空間内を再
   び排気し、その後前記放電ガスを封入する工程。