JP2002075209A - プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネルInfo
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- JP2002075209A JP2002075209A JP2000258670A JP2000258670A JP2002075209A JP 2002075209 A JP2002075209 A JP 2002075209A JP 2000258670 A JP2000258670 A JP 2000258670A JP 2000258670 A JP2000258670 A JP 2000258670A JP 2002075209 A JP2002075209 A JP 2002075209A
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマディスプレイパネルのエージング工
程において発光特性の安定化に時間がかかる。 【解決手段】 エージング用ガスに真空紫外線を強く発
生するガス、短波長の真空紫外線を発生するガスを用い
る。
程において発光特性の安定化に時間がかかる。 【解決手段】 エージング用ガスに真空紫外線を強く発
生するガス、短波長の真空紫外線を発生するガスを用い
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの製造方法に関する。
レイパネルの製造方法に関する。
【０００２】プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰ
と称する）は、ブラウン管にかわる表示デバイスとして
注目されており、ハイビジョンテレビ等の大型ディスプ
レイの用途で有望視されている。
と称する）は、ブラウン管にかわる表示デバイスとして
注目されており、ハイビジョンテレビ等の大型ディスプ
レイの用途で有望視されている。
【０００３】
【従来の技術】一般的なＡＣ型ＰＤＰの構造を図２に示
す。互いに相対して対をなす表示電極１０１、表示スキ
ャン電極１０２群がガラス基板１０３上に形成される。
これらの電極は透明電極と、透明電極の電気抵抗による
電圧低下を防ぐためのバス電極からなる。これらの表示
電極１０１、表示スキャン電極１０２群は誘電体層１０
４で被覆され、さらにＭｇＯ保護層１０５で被覆され
る。これに対し、一方のガラス基板１０６にはストライ
ブ状のアドレス電極１０７が形成される。アドレス電極
１０７は誘電体層１０８に被覆されさらに、アドレス電
極１０７に隣接するようにリブ１０９が形成される。リ
ブ１０９はアドレス放電時の隣接セルへの影響を断ち、
光のクロストークを防ぐ働きがある。次にそれぞれのリ
ブに赤、青、緑の蛍光体１１０がアドレス電極１０７を
被覆するように塗り分けられる。ガラス基板１０３とガ
ラス基板１０６は表示電極ギャップを保ちながら組み合
わされ、封止ガラスにより周囲を密閉する。その後、ガ
ラス基板に設けられた放電ガス通気口を通して、加熱し
ながらパネル内を排気し（排気工程）、排気完了後エー
ジング用ガスを封入する。パネル電極端子にエージング
用電力を供給できるようにエージング回路を接続した上
でエージングを実行する（エージング工程）。この排気
工程、エージング工程を複数回繰り返すことによりパネ
ル内の残留不純物ガスの量が所望のレベル以下になれ
ば、表示放電用ガスを封入し（ガス封入工程）、放電ガ
ス通気口を塞いだ（封止工程）構造となっている。
す。互いに相対して対をなす表示電極１０１、表示スキ
ャン電極１０２群がガラス基板１０３上に形成される。
これらの電極は透明電極と、透明電極の電気抵抗による
電圧低下を防ぐためのバス電極からなる。これらの表示
電極１０１、表示スキャン電極１０２群は誘電体層１０
４で被覆され、さらにＭｇＯ保護層１０５で被覆され
る。これに対し、一方のガラス基板１０６にはストライ
ブ状のアドレス電極１０７が形成される。アドレス電極
１０７は誘電体層１０８に被覆されさらに、アドレス電
極１０７に隣接するようにリブ１０９が形成される。リ
ブ１０９はアドレス放電時の隣接セルへの影響を断ち、
光のクロストークを防ぐ働きがある。次にそれぞれのリ
ブに赤、青、緑の蛍光体１１０がアドレス電極１０７を
被覆するように塗り分けられる。ガラス基板１０３とガ
ラス基板１０６は表示電極ギャップを保ちながら組み合
わされ、封止ガラスにより周囲を密閉する。その後、ガ
ラス基板に設けられた放電ガス通気口を通して、加熱し
ながらパネル内を排気し（排気工程）、排気完了後エー
ジング用ガスを封入する。パネル電極端子にエージング
用電力を供給できるようにエージング回路を接続した上
でエージングを実行する（エージング工程）。この排気
工程、エージング工程を複数回繰り返すことによりパネ
ル内の残留不純物ガスの量が所望のレベル以下になれ
ば、表示放電用ガスを封入し（ガス封入工程）、放電ガ
ス通気口を塞いだ（封止工程）構造となっている。
【０００４】前記エージング工程においてはエージング
用ガスが封入もしくはエージング用ガスが流されたパネ
ルに対して電力を供給し、パネルの点灯をおこなう。通
常、パネル点灯の初期段階においては大きな放電特性の
経時変化が現れる。前記点灯初期段階での大きな放電特
性の経時変化はパネル内の排気後の不純物ガスの残留に
起因すると考えられている。パネル内に残留した不純物
ガスのうち特に放電空間に残留した不純物ガスはセルの
放電に大きな影響を与える。エージング工程ではそれら
不純物ガスを放電プラズマの作用で脱離させた上で排気
工程、エージング工程を複数回繰り返すことにより、放
電空間を浄化する。従って、パネル内の不純物ガスを減
らすことによって、あらかじめ放電特性を安定化させる
目的でエージングが行われる。
用ガスが封入もしくはエージング用ガスが流されたパネ
ルに対して電力を供給し、パネルの点灯をおこなう。通
常、パネル点灯の初期段階においては大きな放電特性の
経時変化が現れる。前記点灯初期段階での大きな放電特
性の経時変化はパネル内の排気後の不純物ガスの残留に
起因すると考えられている。パネル内に残留した不純物
ガスのうち特に放電空間に残留した不純物ガスはセルの
放電に大きな影響を与える。エージング工程ではそれら
不純物ガスを放電プラズマの作用で脱離させた上で排気
工程、エージング工程を複数回繰り返すことにより、放
電空間を浄化する。従って、パネル内の不純物ガスを減
らすことによって、あらかじめ放電特性を安定化させる
目的でエージングが行われる。
【０００５】同時にパネル点灯初期段階においては大き
な発光特性の経時変化が現れる。前記点灯初期段階での
大きな発光特性の経時変化は蛍光体の色種や材料組成に
もよるが、点灯初期には輝度や色度の変化の大きいもの
がありそれが収束するまでエージングを続けることで発
光特性を安定化させる目的でエージングが行われる。エ
ージング工程はこのような放電特性の安定化と発光特性
の安定化という目的で行われる。
な発光特性の経時変化が現れる。前記点灯初期段階での
大きな発光特性の経時変化は蛍光体の色種や材料組成に
もよるが、点灯初期には輝度や色度の変化の大きいもの
がありそれが収束するまでエージングを続けることで発
光特性を安定化させる目的でエージングが行われる。エ
ージング工程はこのような放電特性の安定化と発光特性
の安定化という目的で行われる。
【０００６】図３に一般的なＰＤＰ用エージング装置の
構成を模式的に示す。エージング装置は前記工程で作製
されたパネルの内部空間１１２にエージング用ガス１１
３を封入したパネル１１１と放電電圧を印加するための
駆動回路１１４から構成される。パネル１１１はエージ
ング用ガスを導入できるように放電ガス通気口１１５を
有しており放電ガス通気口を通してガスの封入、排気が
行われる。エージング用ガス１１３には通常表示放電用
ガスと同一のものが用いられる。このガスは蛍光体発光
特性として効率良く蛍光体を励起するものであり、かつ
放電特性として低電圧で放電するものが選ばれる。ま
た、パネル寿命の観点から気体自身が化学的に不安定な
分子ガスを用いると放電によりガスが解離し、イオンが
電極をたたき出すスパッタリングが増加してしまうこと
から、化学的に安定な希ガスが用いられ、例えばＮｅ−
Ｘｅ混合ガスが用いられる。
構成を模式的に示す。エージング装置は前記工程で作製
されたパネルの内部空間１１２にエージング用ガス１１
３を封入したパネル１１１と放電電圧を印加するための
駆動回路１１４から構成される。パネル１１１はエージ
ング用ガスを導入できるように放電ガス通気口１１５を
有しており放電ガス通気口を通してガスの封入、排気が
行われる。エージング用ガス１１３には通常表示放電用
ガスと同一のものが用いられる。このガスは蛍光体発光
特性として効率良く蛍光体を励起するものであり、かつ
放電特性として低電圧で放電するものが選ばれる。ま
た、パネル寿命の観点から気体自身が化学的に不安定な
分子ガスを用いると放電によりガスが解離し、イオンが
電極をたたき出すスパッタリングが増加してしまうこと
から、化学的に安定な希ガスが用いられ、例えばＮｅ−
Ｘｅ混合ガスが用いられる。
【０００７】エージング工程では前記条件を満たすエー
ジングガスを封入もしくはエージング用ガスが流された
状態で、表示電極、表示スキャン電極間に駆動回路１１
４から電圧パルスを一定時間だけ印加することにより発
光特性と放電特性を安定させている。
ジングガスを封入もしくはエージング用ガスが流された
状態で、表示電極、表示スキャン電極間に駆動回路１１
４から電圧パルスを一定時間だけ印加することにより発
光特性と放電特性を安定させている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従来のエージングにお
いては、放電特性の安定化する時間よりも発光特性の安
定化する時間のうち時間の長い方にあわせてエージング
時間が決定されていた。ここで、放電特性の安定化はパ
ネル内の不純物ガスを減らすことを示すため、例えば、
パネル封着前に前面板および背面板の不純物をできるだ
け除去した上で封着を行うようなプロセスを用いた場
合、放電特性の安定化する時間は短くなり、より、発光
特性を短時間で安定化させることがエージング時間を短
縮するためには重要となってきている。
いては、放電特性の安定化する時間よりも発光特性の安
定化する時間のうち時間の長い方にあわせてエージング
時間が決定されていた。ここで、放電特性の安定化はパ
ネル内の不純物ガスを減らすことを示すため、例えば、
パネル封着前に前面板および背面板の不純物をできるだ
け除去した上で封着を行うようなプロセスを用いた場
合、放電特性の安定化する時間は短くなり、より、発光
特性を短時間で安定化させることがエージング時間を短
縮するためには重要となってきている。
【０００９】本発明は上述の問題に鑑み、エージング工
程での発光特性の安定化時間を短縮し、ＰＤＰを短時間
で製造する手法を提供することを目的としている。
程での発光特性の安定化時間を短縮し、ＰＤＰを短時間
で製造する手法を提供することを目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のＰＤＰの製造方法は、ＰＤＰに所定の時間
だけ放電を行い、発光特性または放電特性を安定化させ
るエージング工程を少なくとも１回以上行った後に、パ
ネル内を大気に曝すことなく、エージング用ガスを表示
放電用ガスに入れ替える工程を有するＰＤＰの製造方法
であって、表示放電用ガスでの放電時に発生する真空紫
外線よりも強い真空紫外線が放電時に発生するガスをエ
ージング用ガスに用いることを特徴とする。
に、本発明のＰＤＰの製造方法は、ＰＤＰに所定の時間
だけ放電を行い、発光特性または放電特性を安定化させ
るエージング工程を少なくとも１回以上行った後に、パ
ネル内を大気に曝すことなく、エージング用ガスを表示
放電用ガスに入れ替える工程を有するＰＤＰの製造方法
であって、表示放電用ガスでの放電時に発生する真空紫
外線よりも強い真空紫外線が放電時に発生するガスをエ
ージング用ガスに用いることを特徴とする。
【００１１】また、表示放電用ガスでの放電時に発生す
る真空紫外線よりも短波長の真空紫外線が放電時に発生
するガスをエージング用ガスに用いることを特徴とす
る。
る真空紫外線よりも短波長の真空紫外線が放電時に発生
するガスをエージング用ガスに用いることを特徴とす
る。
【００１２】また、ＰＤＰに導入するエージング用ガス
が加熱されたエージング用ガスであることを特徴とす
る。
が加熱されたエージング用ガスであることを特徴とす
る。
【００１３】真空紫外線は蛍光体の初期劣化を促進し、
その強度が強いほど、また、波長が短いほどその効果が
大きい。また、熱によっても蛍光体の初期劣化は促進さ
れる。このことから、本手法を用いることによりエージ
ング工程での発光特性の安定化時間を短縮し、ＰＤＰを
短時間で製造する手法を提供することができる。
その強度が強いほど、また、波長が短いほどその効果が
大きい。また、熱によっても蛍光体の初期劣化は促進さ
れる。このことから、本手法を用いることによりエージ
ング工程での発光特性の安定化時間を短縮し、ＰＤＰを
短時間で製造する手法を提供することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る実施の形態に
ついて図を用いて説明する。
ついて図を用いて説明する。
【００１５】図１は本発明の実施の形態におけるエージ
ング時の装置の構成を模式的に示したものである。ＰＤ
Ｐ１には図２に示す一般的な構造のＡＣ型ＰＤＰを用い
ており、図２に示す表示電極１０１、表示スキャン電極
１０２、誘電体層１０４、ＭｇＯ保護層１０５から構成
されたガラス基板１０３とアドレス電極１０７、誘電体
層１０８、リブ１０９、蛍光体１１０から構成されたガ
ラス基板１０６を組み合わせ封止ガラスにより周囲を密
閉した上で、図１に示すような装置に接続されている。
ング時の装置の構成を模式的に示したものである。ＰＤ
Ｐ１には図２に示す一般的な構造のＡＣ型ＰＤＰを用い
ており、図２に示す表示電極１０１、表示スキャン電極
１０２、誘電体層１０４、ＭｇＯ保護層１０５から構成
されたガラス基板１０３とアドレス電極１０７、誘電体
層１０８、リブ１０９、蛍光体１１０から構成されたガ
ラス基板１０６を組み合わせ封止ガラスにより周囲を密
閉した上で、図１に示すような装置に接続されている。
【００１６】ガラス基板１０６には表示領域をさけて一
ヶ所以上の放電ガス通気口２が設けられており、これら
にはガラス管３が取り付けられている。ガラス管３と放
電ガスを流すための配管４を接続する。配管４はバルブ
５ａ、５ｂ、５ｃを介してそれぞれ真空排気系６、エー
ジングガス導入系７、表示放電ガス導入系８と接続され
ている。接続後、パネル１を加熱しながらその内部空間
９を真空排気系６を通して真空にした（排気工程）後
に、エージングガス導入系７よりエージング用ガスを導
入した。
ヶ所以上の放電ガス通気口２が設けられており、これら
にはガラス管３が取り付けられている。ガラス管３と放
電ガスを流すための配管４を接続する。配管４はバルブ
５ａ、５ｂ、５ｃを介してそれぞれ真空排気系６、エー
ジングガス導入系７、表示放電ガス導入系８と接続され
ている。接続後、パネル１を加熱しながらその内部空間
９を真空排気系６を通して真空にした（排気工程）後
に、エージングガス導入系７よりエージング用ガスを導
入した。
【００１７】本実施の形態では、内部空間９に流すエー
ジング用ガスとしてＨｅを用い、放電ガス圧力を１００
〜７６０Ｔｏｒｒ（１３．３から１０１．０８ｋＰａ）
程度に設定した。
ジング用ガスとしてＨｅを用い、放電ガス圧力を１００
〜７６０Ｔｏｒｒ（１３．３から１０１．０８ｋＰａ）
程度に設定した。
【００１８】ガス圧力の調整後、駆動回路１０を用いて
前面板ガラス基板１０３に形成された表示電極、表示ス
キャン電極間に電圧パルスを印加し、パネル１の内部空
間９で放電を発生させる（エージング工程）。
前面板ガラス基板１０３に形成された表示電極、表示ス
キャン電極間に電圧パルスを印加し、パネル１の内部空
間９で放電を発生させる（エージング工程）。
【００１９】エージング用ガスとして用いたＨｅは放電
電圧が高いため通常表示放電用ガスには用いられない。
Ｈｅをエージング用ガスとしてエージングをおこなうと
エージング時の発光特性はより早く安定化した。これは
Ｈｅが放電時に真空紫外線を強く発生し、また、放電時
に短波長の真空紫外線を発生し、発光特性の経時変化が
促進されたためと推測される。
電圧が高いため通常表示放電用ガスには用いられない。
Ｈｅをエージング用ガスとしてエージングをおこなうと
エージング時の発光特性はより早く安定化した。これは
Ｈｅが放電時に真空紫外線を強く発生し、また、放電時
に短波長の真空紫外線を発生し、発光特性の経時変化が
促進されたためと推測される。
【００２０】エージング工程の後にエージングによって
パネル内にたたき出された不純物ガスを除去するために
再度排気工程を行い、表示放電ガス導入系８より表示放
電用ガスを導入し（ガス封入工程）、放電ガス通気口２
を塞ぎ（封止工程）ＰＤＰを作製した。本パネルの特性
を評価した結果、従来のエージング手法を用いた場合と
同等の特性を示すことが確認できた。
パネル内にたたき出された不純物ガスを除去するために
再度排気工程を行い、表示放電ガス導入系８より表示放
電用ガスを導入し（ガス封入工程）、放電ガス通気口２
を塞ぎ（封止工程）ＰＤＰを作製した。本パネルの特性
を評価した結果、従来のエージング手法を用いた場合と
同等の特性を示すことが確認できた。
【００２１】本エージング工程においてエージング用ガ
スを加熱して導入すると、エージング時の発光特性はよ
り早く安定化した。特にその加熱温度は２００℃以上で
あると効果が大きいことがわかっている。これは、蛍光
体が熱エネルギーにより劣化し、発光特性の経時変化が
促進されるためと推測される。
スを加熱して導入すると、エージング時の発光特性はよ
り早く安定化した。特にその加熱温度は２００℃以上で
あると効果が大きいことがわかっている。これは、蛍光
体が熱エネルギーにより劣化し、発光特性の経時変化が
促進されるためと推測される。
【００２２】また、エージング用ガスはＨｅを用いたが
放電時により真空紫外線を強く発生する、もしくは、放
電時により短波長の真空紫外線を発生するようなガスで
あれば同様の効果を得られることは言うまでもない。例
えば、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ等が考えられ、また、こ
れらの複数の組み合わせであっても問題はない。ただ
し、原子番号が小さいほど、より短波長の真空紫外線を
発生できることから、表示放電用ガスよりも原子番号の
小さい希ガスを多く含むことが好ましい。また、Ｎｅ、
Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ等の希ガスにＦ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロ
ゲンガスを混合しても同様の効果が期待できる。
放電時により真空紫外線を強く発生する、もしくは、放
電時により短波長の真空紫外線を発生するようなガスで
あれば同様の効果を得られることは言うまでもない。例
えば、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ等が考えられ、また、こ
れらの複数の組み合わせであっても問題はない。ただ
し、原子番号が小さいほど、より短波長の真空紫外線を
発生できることから、表示放電用ガスよりも原子番号の
小さい希ガスを多く含むことが好ましい。また、Ｎｅ、
Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ等の希ガスにＦ、Ｃｌ、Ｂｒ等のハロ
ゲンガスを混合しても同様の効果が期待できる。
【００２３】本実施の形態では、エージング工程を、パ
ネルへの放電ガスの導入、放電、排気の一連の動作を繰
り返すことにより行ったが、パネルに放電ガス導入口と
放電ガス排出口を設けることによりエージング用ガスを
流しながら行っても問題はない。
ネルへの放電ガスの導入、放電、排気の一連の動作を繰
り返すことにより行ったが、パネルに放電ガス導入口と
放電ガス排出口を設けることによりエージング用ガスを
流しながら行っても問題はない。
【００２４】本実施の形態を用いることにより、エージ
ング工程での発光特性の安定化時間を短縮し、ＰＤＰを
短時間で製造することができる。
ング工程での発光特性の安定化時間を短縮し、ＰＤＰを
短時間で製造することができる。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、ＰＤＰのエージング工
程での発光特性の安定化する時間を短縮し、ＰＤＰをよ
り短時間で製造する手法を提供することができる。
程での発光特性の安定化する時間を短縮し、ＰＤＰをよ
り短時間で製造する手法を提供することができる。
【図１】本発明に係るＰＤＰ用エージング時の装置構成
模式図
模式図
【図２】ＰＤＰパネルを示す斜視図
【図３】ＰＤＰ用エージング装置構成模式図
１ パネル ２ 放電ガス通気口 ３ ガラス管 ４ 配管 ５ａ，５ｂ，５ｃ バルブ ６ 真空排気系 ７ エージングガス導入系 ８ 表示放電ガス導入系 ９ 内部空間 １０ 駆動回路 １０１ 表示電極 １０２ 表示スキャン電極 １０３ ガラス基板 １０４ 誘電体層 １０５ ＭｇＯ保護層 １０６ ガラス基板 １０７ アドレス電極 １０８ 誘電体層 １０９ リブ １１０ 蛍光体 １１１ パネル １１２ 内部空間 １１３ エージング用ガス １１４ 駆動回路 １１５ 放電ガス通気口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安井 秀明 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 5C012 AA09 VV01 VV04 5C040 FA01 GB03 GB14 HA04 JA24 MA26
Claims (7)
- 【請求項１】 プラズマディスプレイパネルに所定の時
間だけ放電を行い、発光特性または放電特性を安定化さ
せるエージング工程を少なくとも１回以上行った後に、
パネル内を大気に曝すことなく、エージング用ガスを表
示放電用ガスに入れ替える工程を有するプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、 表示放電用ガスでの放電時に発生する真空紫外線よりも
強い真空紫外線が放電時に発生するガスをエージング用
ガスに用いることを特徴とするプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。 - 【請求項２】 プラズマディスプレイパネルに所定の時
間だけ放電を行い、発光特性または放電特性を安定化さ
せるエージング工程を少なくとも１回以上行った後に、
パネル内を大気に曝すことなく、エージング用ガスを表
示放電用ガスに入れ替える工程を有するプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、 表示放電用ガスでの放電時に発生する真空紫外線よりも
短波長の真空紫外線が放電時に発生するガスをエージン
グ用ガスに用いることを特徴とするプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。 - 【請求項３】 プラズマディスプレイパネルに所定の時
間だけ放電を行い、発光特性または放電特性を安定化さ
せるエージング工程を少なくとも１回以上行った後に、
パネル内を大気に曝すことなく、エージング用ガスを表
示放電用ガスに入れ替える工程を有するプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、 プラズマディスプレイパネルに導入するエージング用ガ
スがＨｅであることを特徴とする請求項１または２に記
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項４】 プラズマディスプレイパネルに所定の時
間だけ放電を行い、発光特性または放電特性を安定化さ
せるエージング工程を少なくとも１回以上行った後に、
パネル内を大気に曝すことなく、エージング用ガスを表
示放電用ガスに入れ替える工程を有するプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、 プラズマディスプレイパネルに導入するエージング用ガ
スが加熱されたエージング用ガスであることを特徴とす
る請求項１から３のいずれかに記載のプラズマディスプ
レイパネルの製造方法。 - 【請求項５】 プラズマディスプレイパネルに所定の時
間だけ放電を行い、発光特性または放電特性を安定化さ
せるエージング工程を少なくとも１回以上行った後に、
パネル内を大気に曝すことなく、エージング用ガスを表
示放電用ガスに入れ替える工程を有するプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、 プラズマディスプレイパネルに導入するエージング用ガ
スが２００℃以上に加熱されたエージング用ガスである
ことを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。 - 【請求項６】 請求項１から５のいずれかに記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法を実現することがで
きるプラズマディスプレイパネル用製造装置。 - 【請求項７】 請求項１から６のいずれかに記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法もしくは製造装置を
用いて製造したプラズマディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000258670A JP2002075209A (ja) | 2000-08-29 | 2000-08-29 | プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000258670A JP2002075209A (ja) | 2000-08-29 | 2000-08-29 | プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002075209A true JP2002075209A (ja) | 2002-03-15 |
Family
ID=18746943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000258670A Pending JP2002075209A (ja) | 2000-08-29 | 2000-08-29 | プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002075209A (ja) |
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2000
- 2000-08-29 JP JP2000258670A patent/JP2002075209A/ja active Pending
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