JP4428723B2 - 電子放出素子の製造法及びそのための記憶媒体又は記録媒体 - Google Patents
電子放出素子の製造法及びそのための記憶媒体又は記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4428723B2 JP4428723B2 JP2008553562A JP2008553562A JP4428723B2 JP 4428723 B2 JP4428723 B2 JP 4428723B2 JP 2008553562 A JP2008553562 A JP 2008553562A JP 2008553562 A JP2008553562 A JP 2008553562A JP 4428723 B2 JP4428723 B2 JP 4428723B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- vacuum
- electron emission
- base member
- reduced pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/26—Sealing together parts of vessels
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
- H01J31/10—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes
- H01J31/12—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes with luminescent screen
- H01J31/123—Flat display tubes
- H01J31/125—Flat display tubes provided with control means permitting the electron beam to reach selected parts of the screen, e.g. digital selection
- H01J31/127—Flat display tubes provided with control means permitting the electron beam to reach selected parts of the screen, e.g. digital selection using large area or array sources, i.e. essentially a source for each pixel group
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/40—Closing vessels
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2329/00—Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
- H01J2329/02—Electrodes other than control electrodes
- H01J2329/04—Cathode electrodes
- H01J2329/0407—Field emission cathodes
- H01J2329/041—Field emission cathodes characterised by the emitter shape
- H01J2329/0413—Microengineered point emitters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2329/00—Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
- H01J2329/02—Electrodes other than control electrodes
- H01J2329/04—Cathode electrodes
- H01J2329/0407—Field emission cathodes
- H01J2329/0439—Field emission cathodes characterised by the emitter material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2329/00—Electron emission display panels, e.g. field emission display panels
- H01J2329/02—Electrodes other than control electrodes
- H01J2329/04—Cathode electrodes
- H01J2329/0407—Field emission cathodes
- H01J2329/0439—Field emission cathodes characterised by the emitter material
- H01J2329/0471—Borides
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Description
2 第二容器
3 基板仕込室
4 取り出し室
5、51、52、53、54、55 ゲートバルブ
11 ターゲット
12 基板
13、15、42、43 基板ホルダー
14 スパッタガス導入系
16 加熱機構
17 プラズマ電極
18 プラズマソース用ガス導入系
19 スパッタリング用高周波電源系
191、221、502 ブロッキングコンデンサ
192、222、503 整合回路
193、223、504 高周波電源
194 スパッタリング用直流電源(第一直流バイアス電源)
20 (アニール用)基板バイアス電源(第三直流電源)
21 基板バイアス電源(第二直流電源)
22 プラズマソース用高周波電源系
23、501 高周波電源193からの低周波成分をカットする低周波カットフィルター
24 高周波カットフィルター
101 カソード
102 磁場発生装置
103 磁場領域
201、207 ガラス基板
202 カソード電極
203 LaB6薄膜
204 真空空間
205 アノード電極
206 蛍光体膜
208 電子源基板
209 突起
210 蛍光体基板
211 直流電源
401 真空マスク装着装置
402 マグネトロンスパッタリング装置
403 真空組立装置
404 第1ロードロックチャンバ
405 406 407 408 409 ゲートバルブ
410 コンピュタ
411 演算回路部
413、414,415,416,417,418、419、420 制御バスライン
421 記憶部
412 時間制御部
51 マスク開口部
52 マスク
601 表示側基板
602 三原色蛍光体マトリクス
603 ブラックマトリクス
604 アノード電極
605 スペーサ材
606 背面基板
607 絶縁物膜
608 走査線
609 信号線
610 電子放出素子を内部に配置したホール
電子放出ベース部材を含まない第2領域にはLaB6膜が形成されない。この結果、表示の時に、画素以外での不要電子源となる第2領域のLaB6膜から発生した電子による不要発光を生じない。このため、これが原因となる表示コントラストの低下やちらつき光の無い高い表示品位の表示を得ることが出来る。
また、本発明は、低仕事関数物質膜として、他に、例えば、CeB6膜、BaLaB6膜やカーボン含有LaB6膜などを用いることができる。
シール材を用いてシールする。上記所定の間隔は、予め設けたスペーサ材によって、決定される。スペーサ材は、柱状体であってもよく、板状体であってもよく、所定の間隔毎に配置される。シール材は、予め、第1ガラス基板又は第2ガラス基板に設けられ、第1ガラス基板と第2ガラス基板との間を真空にするためにシールすることができる。シール材は、好ましくは、低融点金属(例えば、イリジウム、錫)や有機樹脂接着剤などを用いることができる。
Claims (12)
- 蛍光体を配した第1基板を用意し、真空又は減圧空間に配する第1工程、
電子放出ベース部材を設けた第2基板を用意し、真空又は減圧空間に配する第2工程、
前記第2工程から真空又は減圧空間を維持した状態で、前記電子放出ベース部材を含む第1領域を開口し、前記電子放出ベース部材を含むまない第2領域を遮蔽したマスクを配する第3工程、
前記第3工程から真空又は減圧空間を維持した状態で、低仕事関数物質を有するターゲットを用いたスパッタリング法により、前記第2工程を経た第2基板にスパッタ粒子を堆積させる第4工程、及び
前記第1工程及び前記第4工程から真空又は減圧空間を維持した状態で、前記第1工程を経た第1基板と前記第4工程を経た第2基板とを対向させ、該第1基板と第2基板とをシール材でシールし、真空又は減圧容器を作成する第5工程、
を有する、ことを特徴とする電子放出素子の製造法。 - 前記電子放出ベース部材は、スピント型電子放出素子である、ことを特徴とする請求項1記載の製造法。
- 前記ターゲットは、ホウ素原子(B)及びランタン原子(La)を含有する焼結体を有する、ことを特徴とする請求項1記載の製造法。
- 前記第4工程の堆積物は、ホウ素原子(B)及びランタン原子(La)を含有する結晶性堆積物を有する、ことを特徴とする請求項1記載の製造法。
- 蛍光体を配した第1基板を用意し、真空又は減圧空間に配する第1工程、電子放出ベース部材を設けた第2基板を用意し、真空又は減圧空間に配する第2工程、前記第2工程から真空又は減圧空間を維持した状態で、前記電子放出ベース部材を含む第1領域を開口し、前記電子放出ベース部材を含むまない第2領域を遮蔽したマスクを配する第3工程、第3工程から真空又は減圧空間を維持した状態で、低仕事関数物質を有するターゲットを用いたスパッタリング法により、前記第2工程を経た第2基板にスパッタ粒子を堆積させる第4工程、及び前記第1工程及び前記第4工程から真空又は減圧空間を維持した状態で、前記第1工程を経た第1基板と前記第4工程を経た第2基板とを対向させ、該第1基板と第2基板とをシール材でシールし、真空又は減圧容器を作成する第5工程を実行するための制御プログラムを有する、ことを特徴とする電子放出素子の製造のための記憶媒体。
- 前記電子放出ベース部材は、スピント型電子放出素子である、ことを特徴とする請求項5記載の記憶媒体。
- 前記ターゲットは、ホウ素原子(B)及びランタン原子(La)を含有する焼結体を有する、ことを特徴とする請求項5記載の記憶媒体。
- 前記第4工程の堆積物は、ホウ素原子(B)及びランタン原子(La)を含有する結晶性堆積物を有する、ことを特徴とする請求項5記載の記憶媒体。
- 蛍光体を配した第1基板を用意し、真空又は減圧空間に配する第1工程、電子放出ベース部材を設けた第2基板を用意し、真空又は減圧空間に配する第2工程、前記第2工程から真空又は減圧空間を維持した状態で、前記電子放出ベース部材を含む第1領域を開口し、前記電子放出ベース部材を含むまない第2領域を遮蔽したマスクを配する第3工程、第3工程から真空又は減圧空間を維持した状態で、低仕事関数物質を有するターゲットを用いたスパッタリング法により、前記第2工程を経た第2基板にスパッタ粒子を堆積させる第4工程、及び前記第1工程及び前記第4工程から真空又は減圧空間を維持した状態で、前記第1工程を経た第1基板と前記第4工程を経た第2基板とを対向させ、該第1基板と第2基板とをシール材でシールし、真空又は減圧容器を作成する第5工程を実行するための制御プログラムを有する、ことを特徴とする電子放出素子の製造のための記録媒体。
- 前記電子放出ベース部材は、スピント型電子放出素子である、ことを特徴とする請求項9記載の記録媒体。
- 前記ターゲットは、ホウ素原子(B)及びランタン原子(La)を含有する焼結体を有する、ことを特徴とする請求項9記載の記録媒体。
- 前記第4工程の堆積物は、ホウ素原子(B)及びランタン原子(La)を含有する結晶性堆積物を有する、ことを特徴とする請求項9記載の記録媒体。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2008/061753 WO2009157088A1 (ja) | 2008-06-27 | 2008-06-27 | 電子放出素子の製造法及びそのための記憶媒体又は記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP4428723B2 true JP4428723B2 (ja) | 2010-03-10 |
JPWO2009157088A1 JPWO2009157088A1 (ja) | 2011-12-01 |
Family
ID=41444164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008553562A Expired - Fee Related JP4428723B2 (ja) | 2008-06-27 | 2008-06-27 | 電子放出素子の製造法及びそのための記憶媒体又は記録媒体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090325330A1 (ja) |
JP (1) | JP4428723B2 (ja) |
CN (1) | CN101689452A (ja) |
WO (1) | WO2009157088A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101835921A (zh) * | 2008-05-22 | 2010-09-15 | 佳能安内华股份有限公司 | 溅射用靶、薄膜的制造方法以及显示装置 |
US20140021500A1 (en) * | 2010-12-20 | 2014-01-23 | Ocean's King Lighting Science & Technology Co., Ltd. | Light emitting device and manufacturing method thereof |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08148083A (ja) * | 1994-11-22 | 1996-06-07 | Futaba Corp | フィールドエミッタの表面改質方法 |
JPH11135018A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-05-21 | Canon Inc | 画像形成装置の製造方法、製造装置および画像形成装置 |
JP2000156160A (ja) * | 1998-11-19 | 2000-06-06 | Ulvac Japan Ltd | 真空装置、及びプラズマディスプレイ装置の製造方法 |
JP2001143608A (ja) * | 1999-11-15 | 2001-05-25 | Sony Corp | 炭素薄膜の加工方法、冷陰極電界電子放出素子の製造方法、及び冷陰極電界電子放出表示装置の製造方法 |
JP2001332173A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-11-30 | Canon Inc | 画像表示装置の製造法及び製造装置 |
JP2005005076A (ja) * | 2003-06-11 | 2005-01-06 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 電子放出型表示装置の製造方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4453884B2 (ja) * | 1999-11-24 | 2010-04-21 | 大日本印刷株式会社 | スパッタ用メタルマスクおよびカラーフィルタの製造方法 |
JP2005327504A (ja) * | 2004-05-12 | 2005-11-24 | Sonac Kk | 電界電子放出素子の製造方法 |
-
2008
- 2008-06-27 WO PCT/JP2008/061753 patent/WO2009157088A1/ja active Application Filing
- 2008-06-27 JP JP2008553562A patent/JP4428723B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-06-27 CN CN200880001000A patent/CN101689452A/zh active Pending
-
2009
- 2009-02-12 US US12/369,811 patent/US20090325330A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08148083A (ja) * | 1994-11-22 | 1996-06-07 | Futaba Corp | フィールドエミッタの表面改質方法 |
JPH11135018A (ja) * | 1997-08-29 | 1999-05-21 | Canon Inc | 画像形成装置の製造方法、製造装置および画像形成装置 |
JP2000156160A (ja) * | 1998-11-19 | 2000-06-06 | Ulvac Japan Ltd | 真空装置、及びプラズマディスプレイ装置の製造方法 |
JP2001143608A (ja) * | 1999-11-15 | 2001-05-25 | Sony Corp | 炭素薄膜の加工方法、冷陰極電界電子放出素子の製造方法、及び冷陰極電界電子放出表示装置の製造方法 |
JP2001332173A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-11-30 | Canon Inc | 画像表示装置の製造法及び製造装置 |
JP2005005076A (ja) * | 2003-06-11 | 2005-01-06 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 電子放出型表示装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2009157088A1 (ja) | 2011-12-01 |
US20090325330A1 (en) | 2009-12-31 |
WO2009157088A1 (ja) | 2009-12-30 |
CN101689452A (zh) | 2010-03-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100709173B1 (ko) | 화상표시장치 및 그 제조방법 | |
JP3302313B2 (ja) | 帯電防止膜、及び、画像形成装置とその製造方法 | |
JPH0737535A (ja) | 電界放出型カソードを用いたフラットディスプレイ | |
KR20010101872A (ko) | 전자 빔 장치 | |
JP4428722B2 (ja) | 電子放出素子の製造法及びそのための記憶媒体又は記録媒体 | |
JP2006127794A (ja) | 画像表示装置 | |
JP4428723B2 (ja) | 電子放出素子の製造法及びそのための記憶媒体又は記録媒体 | |
JP2006066265A (ja) | 画像表示装置 | |
JP2006066272A (ja) | 画像表示装置 | |
JP2003323855A (ja) | 画像形成装置 | |
US7710362B2 (en) | Electron emission display (EED) and method of driving the same | |
Van Gorkom | Introduction to Zeus displays | |
JP4792060B2 (ja) | マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法 | |
JPH02299129A (ja) | 画像表示装置の製造方法 | |
JP3478774B2 (ja) | 画像表示装置 | |
KR20060013545A (ko) | 스퍼터 이온 펌프, 그 제조 방법 및 스퍼터 이온 펌프를구비한 화상 표시 장치 | |
JP3581586B2 (ja) | スペーサの製造方法及び電子線装置の製造方法 | |
JP3647342B2 (ja) | 画像形成装置 | |
JP2004349021A (ja) | スパッタイオンポンプ、その製造方法、およびスパッタイオンポンプを備えた画像表示装置 | |
JP3136415B2 (ja) | 画像表示装置の製造方法 | |
KR100464295B1 (ko) | 전계방출표시소자및그제조방법 | |
JP4235058B2 (ja) | 表示装置の製造方法 | |
JP3938185B2 (ja) | 画像表示装置およびその製造方法 | |
JP3920811B2 (ja) | スパッタイオンポンプの製造方法 | |
JP2003229056A (ja) | 構造支持体の製造方法、構造支持体およびそれを備える電子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091209 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091214 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121225 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131225 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |