JP2000123599A - 不揮発性半導体メモリic及びそのバーンインテスト方法 - Google Patents

不揮発性半導体メモリic及びそのバーンインテスト方法

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JP2000123599A JP10288598A JP28859898A JP2000123599A JP 2000123599 A JP2000123599 A JP 2000123599A JP 10288598 A JP10288598 A JP 10288598A JP 28859898 A JP28859898 A JP 28859898A JP 2000123599 A JP2000123599 A JP 2000123599A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】バーンインテストに関連する作業や装置が簡素
なもので済むようにする。 【解決手段】フラッシュメモリ11と共にCPU21も
搭載した不揮発性半導体メモリIC60において、CP
U21のプログラムコードを保持するマスクROM61
と、CPU21によって一時記憶に用いられるSRAM
62とを備え、CPU21は、フラッシュメモリ11に
アクセスしてその良否テストを行う処理(61a)と、
その結果のステータス62aをSRAM62に一時退避
させる処理(61a)と、ステータス62aをSRAM
62からフラッシュメモリ11へ転記する処理(61
a)とを行う。これにより、一連の工程が迅速で正確に
而も手間無く処理される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、フラッシュメモ
リ等の不揮発性半導体メモリを搭載したICに関し、さ
らにはフラッシュメモリ等と共にCPUも搭載した不揮
発性半導体メモリICに関し、詳しくは、不揮発性半導
体メモリ部分を対象としたバーンインテストの結果を後
の使用に反映させる技術に関する。
【0002】
【従来の技術】図4にブロック図を示したIC10は、
シンプルな構造の不揮発性半導体メモリICであり、不
揮発性半導体メモリとしてフラッシュメモリ11を搭載
している。フラッシュメモリ11は、電気的に一括消去
および再書込の可能な多数のメモリセルがアレイ状に配
設されており、アドレスデコーダやセンスアンプ等から
なるアクセス回路12が付加されている。そして、IC
10は、外部から端子13等を介してアクセス回路12
に読み書き制御信号やアドレス信号A等が入力される
と、これに応じてフラッシュメモリ11内の該当アドレ
スにアクセスしてデータ信号Dを出力する等のことを行
う。
【0003】また、図5にブロック図を示したIC20
は、フラッシュメモリ11(不揮発性半導体メモリ)と
共にCPUもワンチップ内に搭載したCPU内蔵フラッ
シュメモリICである。これは、CPU21によるフラ
ッシュメモリ11へのアクセスが可能なように両者をバ
ス結合させるバスライン22を有し、さらに、アプリケ
ーション等に応じて必要であれば、アプリケーションプ
ログラム等を保持するためのROM23や、アプリケー
ションプログラムの実行に際して利用される作業メモリ
用のDRAM24なども、適宜導入され、バスライン2
2に接続される。
【0004】さらに、IC20には、フラッシュメモリ
11へのアクセスをCPU21経由で行うのか端子13
経由で直接行うのかといった動作モードの選択切換のた
めに、ロジック回路25も設けられ、外部から端子26
等を介してロジック回路25にモード信号Mやリセット
信号R等が入力されると、リセット時に指定されたモー
ドに応じて適宜の選択切換信号S1,S2等が生成さ
れ、通常モードでは選択切換信号S1に応じてCPU2
1がバスライン22を介してフラッシュメモリ11にア
クセスするよう作動する。これに対し、バーンインテス
ト等を想定したテストモードでは、選択切換信号S2に
応じてアクセス回路12がフラッシュメモリ11の接続
状態を切り換え、フラッシュメモリ11がバスライン2
2から切り離されて端子13の方に接続される。そし
て、テストモードでは、IC10同様に、フラッシュメ
モリ11に対し端子13を介する直接的な外部アクセス
が有効となる。
【0005】なお、これら(10,20)の中間的な機
能を持つメモリICとして、特開平9−219099号
公報に記載のものも知られている。このICでは、バー
ンインテストに対処するために、フラッシュメモリ11
と共に内蔵する回路が、CPUではなく、セルフバーン
イン回路となっている。そして、IC10と同様の機能
や使い方に加えて、バーンインテストに際しては、テス
トモードの信号入力が無くてもテストを行って、そのテ
スト結果をテスタ等へ送出する。
【0006】何れにしても、このような従来の不揮発性
半導体メモリICは、全数が、あるは抜き取られた一部
が、バーンインテストにかけられる。図6は、そのよう
な従来のバーンインテストの状況を示す模式図である。
バーンインテストの結果、フラッシュメモリ11に不良
個所があっても、それが一部に止まり大部分が正常な状
態でその合計容量が必要容量に足りていれば、その不良
個所をアクセス対象から除外することでメモリICの歩
留まりを上げることが可能なので、この場合、バーンイ
ンテストの工程(図6(a)参照)に加えて、テスト後
の不揮発性半導体メモリICに必要なアクセス情報を書
き込む書込工程(図6(b)参照)も行われる。
【0007】テスト工程では(図6(a)参照)、IC
10等を加熱器30にセットして加熱しながら、加熱器
30にケーブル31を介して接続されたテスタ40を用
いて、サイクルテストやバーンインテストを行うが、テ
ストの主体がテスタ40なので、テスタ40から加熱器
30及びIC10等に対して温度の設定やテストデータ
の書き込み読み出し等のアクセスがなされる。また、そ
のテスト結果や、テスト結果に基づく良否判定によって
得られたアクセス情報などは、テスタ40に付属したデ
ィスプレイ41やプリンタ42によって表示されたりプ
リント出力される。
【0008】バーンインテストが済むと、IC10等は
加熱器30から外されて書込工程にまわされる(図6
(b)参照)。そして、この書込工程では、IC10等
をROMライタ50にセットする。それから、先ほどの
プリンタ42の出力等のうちからそのIC10等に該当
するものを抽出するとともに、そのフラッシュメモリ1
1内の不良個所を示すだけのデータ(テスト結果)をそ
のままマップ11aとして、あるいはその代替え領域の
アドレス等を示すフラグビットやアドレスリスト等から
なる利用し易い構造のデータ(アクセス情報)に変換す
ることでマップ11aを生成してから、そのマップ11
aをフラッシュメモリ11の余剰領域に書き込む。この
工程は、作業者がプリンタ42の出力等を参照しながら
ROMライタ50を操作することで、行われる。
【0009】マップ11aの書き込まれたIC10等の
使用に際しては、マップ11aを利用して不良個所への
書込や読出が回避される。こうして、バーンインテスト
の結果を後の使用に反映させることで、不揮発性半導体
メモリの一部に不良があっても、多くの不揮発性半導体
メモリICは、不都合無く使用できるようになる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の不揮発性半導体メモリICでは、不揮発性半
導体メモリにアクセスして行うバーンインテストの工程
(図6(a)参照)と、そのテスト結果に基づくアクセ
ス情報をその不揮発性半導体メモリに書き込む書込工程
(図6(b)参照)とが、人手の介在を要する別個の工
程になっていた。このため、多数のICを処理する場
合、ROMライタ50の操作などにも膨大な手間が掛か
るうえ、提示されたアクセス情報の出力(41,42)
と、各IC(10,20)とを正確に対応付けるのも厄
介であった。また、不揮発性半導体メモリの容量や構造
もアプリケーション等により多種に及ぶが、そのような
メモリを搭載したICの種類ごとに、関連装置であるテ
スタも種々改変する必要があった。
【0011】そこで、不揮発性半導体メモリICの検査
工程に要する工数を削減するとともに、検査結果の確実
な利用を図るべく、ICのバーンインテストに関連する
作業について、各工程を連続して自動処理しうるように
することや、その作業に要する装置を共用化したり更に
は不要にしたりすることが課題となる。なお、特開平9
−219099号公報に記載のものは、セルフバーンイ
ン回路を内蔵したことでテスタ共用化率の向上等に寄与
しているとも言えるが、専らバーンインテスト中にテス
タとやりとりする制御信号等を少なくすることで、一度
に多数のチップをテストできるようにしたものに過ぎな
い。このため、作業者の手間や、異種ICに対するテス
タの広範な適合性などについては全く考慮されておら
ず、ましてや、テスト結果を後の使用に反映させるとい
う機能を前提とした解決など、微塵もなされていない。
【0012】この発明は、このような課題を解決するた
めになされたものであり、バーンインテストに関連する
作業や装置が簡素なもので済む不揮発性半導体メモリI
Cを実現することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために発明された第1乃至第3の解決手段について、
その構成および作用効果を以下に説明する。
【0014】[第1の解決手段]第1の解決手段の不揮
発性半導体メモリICは(、出願当初の請求項1に記載
の如く)、不揮発性半導体メモリICにおいて、不揮発
性半導体メモリを搭載した不揮発性半導体メモリICに
おいて、前記不揮発性半導体メモリにアクセスしてその
良否テストを行うテスト手段と、そのテスト結果または
それに基づいて生成したアクセス情報を前記不揮発性半
導体メモリに書き込む書込手段とを備えたものである。
【0015】このような第1の解決手段の不揮発性半導
体メモリICにあっては、テスト手段によって不揮発性
半導体メモリがアクセスされてその良否テストが行われ
るとともに、書込手段によってそのテスト結果またはそ
れに基づいて生成したアクセス情報が不揮発性半導体メ
モリに書き込まれることから、後の使用時に不揮発性半
導体メモリのテスト結果またはアクセス情報を参照する
ことが可能となるので、バーンインテスト結果を後の使
用に反映させることができる。しかも、テスト手段およ
び書込手段がICの方に具わっているので、IC自身が
主体的に働いて、テスト工程および書込工程が共に自動
的に行われる。
【0016】これにより、テスト工程と書込工程との間
に人手を介在させる必要が無くなるうえ、一連の工程が
迅速に且つ正確に行なわれる。また、処理の主体がテス
タ等からIC自身に替わったことにより、テスタが簡素
化・共通化されるとともに、ROMライタ等の書込装置
が不要となる。したがって、この発明によれば、バーン
インテストに関連する作業や装置が簡素なもので済む不
揮発性半導体メモリICを、テスト結果を後の使用に反
映させる機能を損なうことなく、実現することができ
る。
【0017】[第2の解決手段]第2の解決手段の不揮
発性半導体メモリICは(、出願当初の請求項2に記載
の如く)、上記の第1の解決手段の不揮発性半導体メモ
リICであって、前記の書き込みに先だって前記テスト
結果または前記アクセス情報を一時退避させておく一時
退避手段も備えたものである。
【0018】このような第2の解決手段の不揮発性半導
体メモリICにあっては、バーンインテストに際して得
られたテスト結果またはアクセス情報は、バーンインテ
ストが終わるまで一時退避手段によって一時退避させら
れ、その後に不揮発性半導体メモリへ書き込まれる。こ
れにより、バーンインテスト中の不安定な不揮発性半導
体メモリへの書込が回避され、不揮発性半導体メモリが
安定状態になってから不揮発性半導体メモリへの書込が
行われるので、不揮発性半導体メモリに書き込まれたテ
スト結果またはアクセス情報がその後も正確に保存され
ることとなる。したがって、この発明によれば、バーン
インテストに関連する作業や装置が簡素なもので済む不
揮発性半導体メモリICであって、テスト結果を確実に
利用できるものを実現することができる。
【0019】[第3の解決手段]第3の解決手段の不揮
発性半導体メモリICは(、出願当初の請求項3に記載
の如く)、不揮発性半導体メモリと共にCPUも搭載し
た不揮発性半導体メモリICにおいて、前記CPUのプ
ログラムコードを保持するROMと、前記CPUによっ
て一時記憶に用いられる記憶手段とを備え、前記CPU
が、前記不揮発性半導体メモリにアクセスしてその良否
テストを行うテスト処理と、そのテスト結果またはそれ
に基づいて生成したアクセス情報を前記記憶手段に一時
退避させる一時退避処理と、前記テスト結果または前記
アクセス情報を前記記憶手段から前記不揮発性半導体メ
モリへ転記する転記処理とを行うものである。
【0020】このような第3の解決手段の不揮発性半導
体メモリICにあっては、CPUのプログラム処理によ
って、テスト工程および書込工程が共にIC主体で自動
的に行われる。また、テスト結果またはアクセス情報の
一時退避もCPUのプログラム処理によって行われる
が、その退避場所には不揮発性半導体メモリと別の記憶
手段が用いられる。しかも、その記憶手段は、小容量で
足りるので、不揮発性半導体メモリより安定したメモリ
構造が採用される。さらに、CPUや、それ用のROM
も、一般に論理回路やマスクROM等で具現化され、高
温環境下で不揮発性半導体メモリより安定しているの
で、テストおよび書込の処理が確実に行われる。
【0021】このように、不揮発性半導体メモリと並置
されている既存のCPUを利用してテスト工程および書
込工程が進められるようにしたことにより、多少のRO
Mと一時退避用記憶手段とを追加するだけで済むので、
ICの回路規模やチップサイズの増大を極力抑えること
ができる。したがって、この発明によれば、バーンイン
テストに関連する作業や装置が簡素なもので済む不揮発
性半導体メモリICであって、テスト結果を確実に利用
できるものを、チップ収量をほとんど落とすことなく、
実現することができる。
【0022】
【発明の実施の形態】このような解決手段で達成された
本発明の不揮発性半導体メモリICについて、これを実
施するための形態を説明する。図面を引用してその具体
的な構成を説明するが、図1は、その内部構造を示すブ
ロック図であり、従来例の図5に対応している。なお、
従来と同様の構成要素には同一の符号を付して示したの
で、再度の重複する説明はこれを割愛して、以下、従来
との相違点を中心に述べる。
【0023】このIC60(不揮発性半導体メモリI
C)が従来のIC20と相違するのは、CPU21によ
って実行されるテストルーチン61aのプログラムコー
ドを保持するマスクROM61(テストルーチン保持用
のROM)と、そのテスト中にCPU21によってステ
ータス62aの一時記憶に用いられるSRAM62(一
時退避用の記憶手段)とが、追加して内蔵された点であ
る。また、これに伴ってロジック回路25はロジック回
路63に改造され、ロジック回路63は、テストモード
であってもバーンインテストのときには、CPU21を
作動させてテストルーチン61aを実行させるととも
に、外部から端子26等を介して転記指示信号Cも入力
しこれに応じてテストルーチン61aの転記処理を実行
させるようになっている。
【0024】マスクROM61は、バスライン22に接
続された小容量のメモリで足り、ICの構造が同じであ
る限りテストルーチン61aも共通するので、記憶内容
が固定していて、高温下でも安定なメモリとなってい
る。また、SRAM62は、テスト結果のデータである
ステータス62aを記憶できれば良いことから、これも
バスライン22に接続された小容量のメモリで足りるの
で、例えば6トランジスタからなり双安定状態を静的に
維持しうるようなセル構造を持ち、高温下でも安定なメ
モリとなっている。
【0025】CPU21によって実行されるテストルー
チン61aは、高温下で不良の発現しやすいフラッシュ
メモリ11(不揮発性半導体メモリ)に加温しながらア
クセスしてその良否テストを行うテスト工程と、バーン
インテストの結果またはそれに基づいて生成したアクセ
ス情報すなわちステータス62aを最終的にはフラッシ
ュメモリ11(不揮発性半導体メモリ)に書き込む書込
工程とを、連続して自動的に行うようになっている。し
かも、その際、ステータス62aのフラッシュメモリ1
1への書き込みに先だってフラッシュメモリ11が不安
定な状態のうちはそれを一時退避させておき、その後に
フラッシュメモリ11が安定な状態になってからステー
タス62aをマップ11aとしてフラッシュメモリ11
に書き込むために、バーンインテストの最中にはステー
タス62aをSRAM62に書き込むとともに、バーン
インテストの最後またはその後に転記指示信号Cを受け
るとそのとき、ステータス62aをSRAM62からフ
ラッシュメモリ11の余剰領域に転記するようになって
いる。
【0026】この実施例の不揮発性半導体メモリICに
ついて、その使用態様及び動作を、図面を引用して説明
する。図2は、それにバーンインテストを行っていると
ころの状況図である。また、図3は、そのときの動作説
明図であり、(a)が時間の経過に伴う加熱温度の変化
を示し、(b)〜(d)がメモリへのアクセス状態を示
している。
【0027】このようなメモリIC60に対するバーン
インテストも、IC60を加熱器30にセットして加熱
しながら行われるが(図2参照)、この場合に用いられ
るテスタ70は、従来のテスタ40より簡素化されてい
る。すなわち、加熱器30に対して温度の設定を指示す
る温度設定ルーチン71等は従来同様に残るが、テスト
の具体的な処理や良否判定の処理がテストルーチン61
aの機能としてIC60に取り込まれたことに対応し
て、テストデータの書込や読出のルーチンさらには良否
判定のルーチンは省略され、ディスプレイ41やプリン
タ42は有っても良いが必須で無いものとなっている。
そして、適宜のタイミングでケーブル31を介してIC
60に対しモード信号Mやリセット信号Rを送出するだ
けのテストモード設定ルーチン72と、同様に転記指示
信号Cを送出するだけの転記指示ルーチン73とが、導
入されている。
【0028】かかるテスタ70及び加熱器30が作動し
て、IC60のバーンインテストが開始すると(図3参
照)、温度設定ルーチン71が加熱器30に指示して、
当初は25゜C等の室温になっていたIC60の雰囲気
温度が(図3(a)のt1参照)、先ず一定時間(図3
(a)のt1〜t2参照)は約70゜C程度になり、次
に続く暫くの間(図3(a)のt2〜t3参照)はそれ
より高い約125゜Cになり、その後に所定の降温時間
(図3(a)のt3〜t4参照)を経て室温に戻る。
【0029】また、それと並行して、テストモード設定
ルーチン72及び転記指示ルーチン73の処理によっ
て、テストの開始時(図3(a)のt1参照)又はその
直後に、サイクルテストを指示するモード信号M及びリ
セット信号RがIC60に送出される。これを受けて、
IC60では、テストルーチン61aによる内部処理に
よって、サイクルテストが繰り返される(図3(a)の
t1〜t2参照)。このとき、フラッシュメモリ11に
は、全領域に亘って、所定のテストデータの書き込みと
読み出しチェックとが行われる(図3(b)参照)。こ
うして、仕様上の限界状態でも消去や読み書きの動作が
正しくなされるか否かが確認される。
【0030】さらに、次の昇温時(図3(a)のt2参
照)又はその直後には、バーンインテストを指示するモ
ード信号M及びリセット信号Rがテスタ70からIC6
0に送出される。これを受けて、IC60では、やはり
テストルーチン61aによる内部処理によって、サイク
ルテストで書き込まれたデータを対象として読出チェッ
クが繰り返される(図3(c)参照)。このとき、フラ
ッシュメモリ11は、高温のため、書き込みや消去は不
確実な状態となっていても、読み出しは可能な状態であ
り、多くのデータが正しく読み出されるが、室温状態等
では正常であっても過酷な環境や長期間経過後に誤動作
するであろう不安定な領域に書き込まれたデータについ
ては誤読が発生し易くなっている。
【0031】そして、テストルーチン61aによって、
フラッシュメモリ11のうちバーンインテスト中(図3
(a)のt2〜t3参照)に一度でも正しく読み出せな
かった箇所については、その局所領域を含むセクタやブ
ロック等の所定範囲領域単位で、SRAM62のステー
タス62aにおける不良フラグがセットされる(図3
(c)参照)。こうして、不揮発性半導体メモリ11に
アクセスしてその良否テストを行うテスト工程が行われ
るとともに、そのテストの結果得られたアクセス情報6
2aが記憶手段62に一時退避させられた状態で作成さ
れる。
【0032】それから、所定の降温時間を経てIC60
が室温に戻った頃に(図3(a)のt4参照)、転記指
示ルーチン73の処理によって、転記指示信号Cがテス
タ70からIC60に送出される。これを受けて、IC
60では、やはりテストルーチン61aによる内部処理
によって、SRAM62のステータス62aが読み出さ
れてフラッシュメモリ11のマップ11aのところに書
き込まれる。こうして、退避していたアクセス情報62
aが記憶手段62から不揮発性半導体メモリ11へ転記
される。
【0033】その後、バーンインテストの済んだメモリ
IC60は、加熱器30から外されるが、その時点で、
フラッシュメモリ11の中に、テスト結果を反映したマ
ップ11aが書き込まれているので、良品であれば直ち
に、その後の使用に供されることとなる。こうして、こ
の実施例のIC60は、作業者がROMライタ50等を
用いて書き込むまでも無く、自力でアクセス情報を作り
上げるので、テスト工程および書込工程の作業が楽にな
るばかりか短時間で済む。また、テスタは、簡素なもの
で済むうえ、指令を出すだけなので各種の不揮発性半導
体メモリICのテスタに同じものを用いることができ
る。さらに、ROMライタ50も必要無い。
【0034】なお、上記実施例では、一時退避用記憶手
段としてSRAM62を挙げたが、これは一例であり、
SRAM62やCPU21等と同様に、フラッシュメモ
リ11よりも高温下で安定しているものであれば良く、
例えばレジスタファイルでも良い。また、加熱器30に
IC60を一個ずつ載せ替えてテストする場合について
述べたが、加熱器30にIC60を多数個載せてテスト
する場合にも、本発明は、適用可能であり、有効であ
る。
【0035】さらに、上記実施例では、マップ11aを
フラッシュメモリ11内の既定領域に書き込むようにし
たが、マップ11aがフラッシュメモリ11内の何処に
あっても利用できるように、マップ11aを書き込む前
に一旦全領域のデータを消去しておいてから書き込むこ
とにしても良い。その際、不良個所を避けるとともに、
マップ11aの先頭などに検知しやすい所定パターンを
付加しておくのも良い。
【0036】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の第1の解決手段の不揮発性半導体メモリICにあって
は、IC自身が主体的に働いてテスト工程および書込工
程が行われるようにしたことにより、一連の工程が迅速
で正確に而も手間無く処理され、その結果、バーンイン
テストに関連する作業や装置が簡素なもので済む不揮発
性半導体メモリICを実現することができたという有利
な効果が有る。
【0037】また、本発明の第2の解決手段の不揮発性
半導体メモリICにあっては、バーンインテスト中の不
安定な不揮発性半導体メモリへの書込が回避されるよう
にしたことにより、テスト結果またはアクセス情報が正
確に保存されることとなり、その結果、バーンインテス
トに関連する作業や装置が簡素なもので済む不揮発性半
導体メモリICであってテスト結果を確実に利用できる
ものを実現することができたという有利な効果を奏す
る。
【0038】さらに、本発明の第3の解決手段の不揮発
性半導体メモリICにあっては、内蔵のCPUを利用し
てテスト及び書込が行われるようにしたことにより、I
Cの回路規模やチップサイズの増大が抑えられ、その結
果、バーンインテストに関連する作業や装置が簡素なも
ので済む不揮発性半導体メモリICであってテスト結果
を確実に利用できるものをチップ収量の低下無しで実現
することができたという有利な効果が有る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の不揮発性半導体メモリICの一実施
例について、その内部構造を示すブロック図である。
【図2】 そのバーンインテストを行うときの状況図
である。
【図3】 その動作説明図であり、(a)が加温状
態、(b)〜(d)がメモリへのアクセス状態を示して
いる。
【図4】 従来のフラッシュメモリICである。
【図5】 従来のCPU内蔵フラッシュメモリICであ
る。
【図6】 従来のバーンインテストの状況である。
【符号の説明】
10 IC(不揮発性半導体メモリIC) 11 フラッシュメモリ(記憶素子部、不揮発性半
導体メモリ) 11a マップ(良否分布図、代替リスト、アク
セス情報) 12 アクセス回路(駆動増幅回路、読書制御回
路) 13 端子(ICピン、リード、外部配線接続端
子) 20 IC(不揮発性半導体メモリIC) 21 CPU(マイクロプロセッサ演算部) 22 バスライン 23 ROM(アプリケーションプログラム保持用
メモリ) 24 DRAM(アプリケーションプログラム用作
業メモリ) 25 ロジック回路(論理回路、周辺回路、I/F
回路、制御回路) 26 端子(ICピン、リード、外部配線接続端
子) 30 加熱器 31 ケーブル 40 テスタ 41 ディスプレイ(表示装置、提示装置、出力装
置) 42 プリンタ(印刷装置、提示装置、出力装置) 50 ROMライタ 60 IC(不揮発性半導体メモリIC) 61 マスクROM(テストルーチン保持用メモ
リ) 61a テストルーチン(書込,一時退避,転記
等の処理・手段) 62 SRAM(一時退避用の記憶手段) 62a ステータス(テスト結果、一時退避中の
アクセス情報) 63 ロジック回路(論理回路、周辺回路、I/F
回路、制御回路) 70 テスタ 71 温度設定ルーチン 72 テストモード設定ルーチン 73 転記指示ルーチン
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年11月11日(1999.11.
11)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 不揮発性半導体メモリIC及びそのバ
ーンインテスト方法
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】不揮発性半導体メモリを搭載した不揮発性
    半導体メモリICにおいて、前記不揮発性半導体メモリ
    にアクセスしてその良否テストを行うテスト手段と、そ
    のテスト結果またはそれに基づいて生成したアクセス情
    報を前記不揮発性半導体メモリに書き込む書込手段とを
    備えたことを特徴とする不揮発性半導体メモリIC。
  2. 【請求項2】前記の書き込みに先だって前記テスト結果
    または前記アクセス情報を一時退避させておく一時退避
    手段を備えたことを特徴とする請求項1記載の不揮発性
    半導体メモリIC。
  3. 【請求項3】不揮発性半導体メモリと共にCPUも搭載
    した不揮発性半導体メモリICにおいて、前記CPUの
    プログラムコードを保持するROMと、前記CPUによ
    って一時記憶に用いられる記憶手段とを備え、前記CP
    Uは、前記不揮発性半導体メモリにアクセスしてその良
    否テストを行うテスト処理と、そのテスト結果またはそ
    れに基づいて生成したアクセス情報を前記記憶手段に一
    時退避させる一時退避処理と、前記テスト結果または前
    記アクセス情報を前記記憶手段から前記不揮発性半導体
    メモリへ転記する転記処理とを行うものであることを特
    徴とする不揮発性半導体メモリIC。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002037503A1 (fr) * 2000-11-02 2002-05-10 Hitachi, Ltd. Memoire a semi-conducteur, procede pour tester une memoire a semi-conducteur et procede de fabrication de memoires a semi-conducteur
KR100415086B1 (ko) * 2001-06-28 2004-01-13 주식회사 하이닉스반도체 플래쉬 메모리를 내장한 마이크로 콘트롤러 장치 및 그제어 방법
JP2009514088A (ja) * 2005-11-01 2009-04-02 サンディスク アイエル リミテッド フラッシュメモリをテストするための方法、システム、および、コンピュータで読み取り可能なコード
JP2012247435A (ja) * 2012-08-21 2012-12-13 Renesas Electronics Corp 半導体装置のテスト方法

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8027194B2 (en) 1988-06-13 2011-09-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory system and method of accessing a semiconductor memory device
DE60043651D1 (de) * 1999-02-01 2010-02-25 Renesas Tech Corp Integrierte halbleiterschaltung und nichtflüchtiges speicherelement
US6563746B2 (en) * 1999-11-09 2003-05-13 Fujitsu Limited Circuit for entering/exiting semiconductor memory device into/from low power consumption mode and method of controlling internal circuit at low power consumption mode
JP3509001B2 (ja) * 1999-12-07 2004-03-22 松下電器産業株式会社 自己診断テスト回路機能を備えた半導体集積回路および半導体集積回路のテスト方法
DE10040890C1 (de) * 2000-08-18 2002-01-31 Trw Automotive Electron & Comp System und Verfahren zum sicheren Hochtemperaturbetrieb eines Flash-Speichers
US6421283B1 (en) * 2000-09-27 2002-07-16 Conexant Systems, Inc. Trap and patch system for virtual replacement of defective volatile memory cells
JP2002323993A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Nec Corp シングルチップマイクロコンピュータ並びにその試験方法及び試験プログラム
JP2003158243A (ja) * 2001-11-21 2003-05-30 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置及び半導体装置の動作頻度の記録方法
KR20040066553A (ko) * 2003-01-20 2004-07-27 삼성전자주식회사 멀티칩 패키지의 통합 번인 검사 방법
US7730368B2 (en) 2003-10-31 2010-06-01 Sandisk Il Ltd. Method, system and computer-readable code for testing of flash memory
US7424659B2 (en) * 2003-10-31 2008-09-09 Sandisk Il Ltd. System-in-package and method of testing thereof
JP4889961B2 (ja) * 2005-05-06 2012-03-07 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路及びそのバーインテスト方法
FR2890468A1 (fr) * 2005-09-08 2007-03-09 St Microelectronics Sa Procede de verification de l'effacement par bloc d'une memoire
US7167405B1 (en) * 2005-09-19 2007-01-23 Lattice Semiconductor Corporation Data transfer verification systems and methods
US7598166B2 (en) * 2006-09-08 2009-10-06 International Business Machines Corporation Dielectric layers for metal lines in semiconductor chips
CN102129403A (zh) * 2010-01-14 2011-07-20 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 嵌入式设备烧机测试方法
CN103578546A (zh) * 2012-07-30 2014-02-12 美的集团股份有限公司 一种用于空调器存储芯片的数据烧录方法及系统
CN103561051A (zh) * 2013-09-27 2014-02-05 深圳市芯海科技有限公司 一种烧录芯片数据的远程保护系统及方法
CN103778964B (zh) * 2013-12-30 2016-08-17 上海晨思电子科技有限公司 一种NAND Flash烧写数据的处理、使用方法及装置、系统
US9659137B2 (en) * 2014-02-18 2017-05-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of verifying layout of mask ROM
US9865360B2 (en) * 2015-10-22 2018-01-09 Sandisk Technologies Llc Burn-in memory testing
TWI717952B (zh) * 2019-12-26 2021-02-01 慧榮科技股份有限公司 獨立橋接測試方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4556975A (en) * 1983-02-07 1985-12-03 Westinghouse Electric Corp. Programmable redundancy circuit

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002037503A1 (fr) * 2000-11-02 2002-05-10 Hitachi, Ltd. Memoire a semi-conducteur, procede pour tester une memoire a semi-conducteur et procede de fabrication de memoires a semi-conducteur
US6829181B1 (en) 2000-11-02 2004-12-07 Renesas Technology Corp. Semiconductor memory, method of testing semiconductor memory, and method of manufacturing semiconductor memory
US6940781B2 (en) 2000-11-02 2005-09-06 Renesas Technology Corp. Semiconductor memory, method of testing semiconductor memory and method of manufacturing semiconductor memory
KR100415086B1 (ko) * 2001-06-28 2004-01-13 주식회사 하이닉스반도체 플래쉬 메모리를 내장한 마이크로 콘트롤러 장치 및 그제어 방법
JP2009514088A (ja) * 2005-11-01 2009-04-02 サンディスク アイエル リミテッド フラッシュメモリをテストするための方法、システム、および、コンピュータで読み取り可能なコード
JP2012247435A (ja) * 2012-08-21 2012-12-13 Renesas Electronics Corp 半導体装置のテスト方法

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