JP2000119847A - 酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体 - Google Patents
酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マグネトロンスパッタリングによる局部的エ
ロージョンに対応できる効率的なスパッタリングを可能
とし、スパッタ性能に影響を与えることがなくＩＴＯ等
の酸化物焼結体ターゲットの高価な原料の使用量を可能
な限り節減し、かつ一体成形が困難な大型品を容易に製
造できる酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体
を提供する。 【解決手段】 マグネトロンスパッタリング用酸化物焼
結体ターゲット組立体において、中央の非エロージョン
部には酸化物焼結体が存在せず、該中央の非エロージョ
ン部のバッキングプレートの面は金属Ｉｎ等のろう材に
覆われており、ターゲットの最もスパッタされやすい部
分の厚さが非エロージョンに比べて肉厚であるレースト
ラック形状となるように分割されたターゲットの各部分
が組み合わされている酸化物焼結体スパッタリングター
ゲット組立体。
ロージョンに対応できる効率的なスパッタリングを可能
とし、スパッタ性能に影響を与えることがなくＩＴＯ等
の酸化物焼結体ターゲットの高価な原料の使用量を可能
な限り節減し、かつ一体成形が困難な大型品を容易に製
造できる酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体
を提供する。 【解決手段】 マグネトロンスパッタリング用酸化物焼
結体ターゲット組立体において、中央の非エロージョン
部には酸化物焼結体が存在せず、該中央の非エロージョ
ン部のバッキングプレートの面は金属Ｉｎ等のろう材に
覆われており、ターゲットの最もスパッタされやすい部
分の厚さが非エロージョンに比べて肉厚であるレースト
ラック形状となるように分割されたターゲットの各部分
が組み合わされている酸化物焼結体スパッタリングター
ゲット組立体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、スパッタ性能に
影響を与えることがなくＩＴＯ、ＺｎＯ系、Ｉｎ2Ｏ3−
ＺｎＯ系、ＭｇＯ系等の酸化物焼結体からなる高価なタ
ーゲット原料の使用量を節減でき、かつ一体成形が困難
な大型品を容易に製造できる酸化物焼結体スパッタリン
グターゲット組立体に関する。
影響を与えることがなくＩＴＯ、ＺｎＯ系、Ｉｎ2Ｏ3−
ＺｎＯ系、ＭｇＯ系等の酸化物焼結体からなる高価なタ
ーゲット原料の使用量を節減でき、かつ一体成形が困難
な大型品を容易に製造できる酸化物焼結体スパッタリン
グターゲット組立体に関する。
【０００２】
【従来の技術】透明導電膜形成用ＩＴＯ、ＺｎＯ系、Ｉ
ｎ2Ｏ3−ＺｎＯ系、ＭｇＯ系等の薄膜は、液晶ディスプ
レイ、タッチパネル、ＥＬディスプレイ等を中心とする
表示デバイスの透明電極として広く用いられている。多
くの場合ＩＴＯ等の透明導電膜形成用酸化物薄膜はスパ
ッタリングによって形成される。スパッタリング装置の
開発当初は２極式スパッタリング装置が使用されてい
た。しかし、この２極式スパッタリング装置は印加電圧
が高く、また基板温度が上昇し、成膜速度が低い等の欠
点を有していた。そのため、３極式や４極式スパッタリ
ング装置などの工夫がなされたり、高周波スパッタリン
グ装置などが開発されたが、十分なものとは言えなかっ
た。このようなことから最近ではターゲットの裏側にマ
グネットを配置し、このマグネットから発生する磁束に
よりプラズマを拘束して、電離したイオンガスをターゲ
ットに集束させ、スパッタ効率を高めたマグネトロンス
パッタリング装置が開発された。これが現在のＩＴＯ薄
膜等の透明導電膜形成用スパッタリング装置の主流にな
っている。
ｎ2Ｏ3−ＺｎＯ系、ＭｇＯ系等の薄膜は、液晶ディスプ
レイ、タッチパネル、ＥＬディスプレイ等を中心とする
表示デバイスの透明電極として広く用いられている。多
くの場合ＩＴＯ等の透明導電膜形成用酸化物薄膜はスパ
ッタリングによって形成される。スパッタリング装置の
開発当初は２極式スパッタリング装置が使用されてい
た。しかし、この２極式スパッタリング装置は印加電圧
が高く、また基板温度が上昇し、成膜速度が低い等の欠
点を有していた。そのため、３極式や４極式スパッタリ
ング装置などの工夫がなされたり、高周波スパッタリン
グ装置などが開発されたが、十分なものとは言えなかっ
た。このようなことから最近ではターゲットの裏側にマ
グネットを配置し、このマグネットから発生する磁束に
よりプラズマを拘束して、電離したイオンガスをターゲ
ットに集束させ、スパッタ効率を高めたマグネトロンス
パッタリング装置が開発された。これが現在のＩＴＯ薄
膜等の透明導電膜形成用スパッタリング装置の主流にな
っている。
【０００３】このマグネトロンスパッタリング装置は高
速かつ低温で成膜できるが、磁場によってプラズマが閉
じこめられるため、スパッタイオンガスがターゲットの
一定の部分にのみに集中し、これによってターゲットが
局部的に侵食されるという現象が生じた。一般に この
局部的な侵食部をエロージョン部と呼んでいるが、この
ようにエロージョン部が局部的な場合、ターゲットの大
半が使用されずに残るという欠点がある。すなわち、ス
パッタリングによる侵食部分がバッキングプレートの近
傍位置（ある深さ）に達した場合に、そのターゲットの
寿命が尽きてしまい、交換する必要がある。換言すれ
ば、局部的エロージョン部が進行すると、その局部的エ
ロージョン部がターゲット全体の寿命を決めてしまうと
いうことになる。透明導電膜を形成するＩＴＯ等のター
ゲットは大面積であることが多いので、上記のような局
部的なエロージョンはターゲットの使用効率を大きく低
下させる原因となっていた。
速かつ低温で成膜できるが、磁場によってプラズマが閉
じこめられるため、スパッタイオンガスがターゲットの
一定の部分にのみに集中し、これによってターゲットが
局部的に侵食されるという現象が生じた。一般に この
局部的な侵食部をエロージョン部と呼んでいるが、この
ようにエロージョン部が局部的な場合、ターゲットの大
半が使用されずに残るという欠点がある。すなわち、ス
パッタリングによる侵食部分がバッキングプレートの近
傍位置（ある深さ）に達した場合に、そのターゲットの
寿命が尽きてしまい、交換する必要がある。換言すれ
ば、局部的エロージョン部が進行すると、その局部的エ
ロージョン部がターゲット全体の寿命を決めてしまうと
いうことになる。透明導電膜を形成するＩＴＯ等のター
ゲットは大面積であることが多いので、上記のような局
部的なエロージョンはターゲットの使用効率を大きく低
下させる原因となっていた。
【０００４】このような問題を解決しようとして、マグ
ネトロンスパッタリング用セラミックスターゲットをエ
ロージョン領域と非エロージョン領域とに分け、エロー
ジョン領域の材料を厚く、非エロージョン領域を薄く形
成するという一体型のターゲットが提案された（特開平
６−１７２９９１号公報）。また、エロージョン領域に
集中的に材料を配置したドーナツ型の透明導電膜用スパ
ッタリングターゲットの提案もなされた（特開平１−２
９０７６４号公報）。上記２種の改良型ターゲットは、
局部的な侵食部のターゲットの厚さを増加させ、ターゲ
ットの寿命を延ばす意味でそれなりの効果はあるが、タ
ーゲットが一体型であるにもかかわらず中心部や縁部に
段差を形成する必要があるので、製造工程、すなわち加
圧焼結や研削等の加工工程中に割れが発生するおそれが
ある。したがって、これらは比較的小型のターゲットに
は有効であるが、大面積を必要とするターゲットには不
向きであるという欠点があった。
ネトロンスパッタリング用セラミックスターゲットをエ
ロージョン領域と非エロージョン領域とに分け、エロー
ジョン領域の材料を厚く、非エロージョン領域を薄く形
成するという一体型のターゲットが提案された（特開平
６−１７２９９１号公報）。また、エロージョン領域に
集中的に材料を配置したドーナツ型の透明導電膜用スパ
ッタリングターゲットの提案もなされた（特開平１−２
９０７６４号公報）。上記２種の改良型ターゲットは、
局部的な侵食部のターゲットの厚さを増加させ、ターゲ
ットの寿命を延ばす意味でそれなりの効果はあるが、タ
ーゲットが一体型であるにもかかわらず中心部や縁部に
段差を形成する必要があるので、製造工程、すなわち加
圧焼結や研削等の加工工程中に割れが発生するおそれが
ある。したがって、これらは比較的小型のターゲットに
は有効であるが、大面積を必要とするターゲットには不
向きであるという欠点があった。
【０００５】また、分割型のマグネトロンスパッタリン
グ用ターゲットとして、周囲に肉厚のドーナツ状のター
ゲット、中心部に薄肉の円盤ターゲットを形成する提案
もある（特開平３−２８７７６３号公報）。しかし、こ
の場合分割という構想は主として内部の円盤ターゲット
とドーナツ状ターゲットの間だけで、エロージョン領域
に配置されるドーナツ状ターゲットが一体型である以
上、このような形状の大型ターゲットの製造は難しいと
いう上記と同様の問題がある。
グ用ターゲットとして、周囲に肉厚のドーナツ状のター
ゲット、中心部に薄肉の円盤ターゲットを形成する提案
もある（特開平３−２８７７６３号公報）。しかし、こ
の場合分割という構想は主として内部の円盤ターゲット
とドーナツ状ターゲットの間だけで、エロージョン領域
に配置されるドーナツ状ターゲットが一体型である以
上、このような形状の大型ターゲットの製造は難しいと
いう上記と同様の問題がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、マグネトロ
ンスパッタリングによる局部的エロージョンに対応でき
る効率的なスパッタリングを可能とし、スパッタ性能に
影響を与えることがなくＩＴＯ等の酸化物焼結体の高価
なターゲット原料の使用量を可能な限り節減し、かつ一
体成形が困難な大型品を容易に製造できるＩＴＯ等の酸
化物焼結体スパッタリングターゲット組立体を提供す
る。
ンスパッタリングによる局部的エロージョンに対応でき
る効率的なスパッタリングを可能とし、スパッタ性能に
影響を与えることがなくＩＴＯ等の酸化物焼結体の高価
なターゲット原料の使用量を可能な限り節減し、かつ一
体成形が困難な大型品を容易に製造できるＩＴＯ等の酸
化物焼結体スパッタリングターゲット組立体を提供す
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、 １ マグネトロンスパッタリング用酸化物焼結体ターゲ
ット組立体において、中央の非エロージョン部には酸化
物焼結体が存在せず、該中央の非エロージョン部のバッ
キングプレートの面は前記ターゲット材を構成する元
素、または前記ターゲット材を構成する元素を含むろう
材に覆われており、ターゲットの最もスパッタされやす
い部分の厚さが非エロージョン部に比べて肉厚であるレ
ーストラック形状となるように分割された酸化物焼結体
ターゲットの各部分が組み合わされていることを特徴と
する酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体 ２ 酸化物焼結体ターゲット組立体は平面的にみて矩形
の両端部分と、その間に配置された一対又は複数対の平
行部分からなり、これらの両端部分と平行部分との間に
酸化物焼結体が存在しない中央の非エロージョン部を備
えていることを特徴とする上記１に記載する酸化物焼結
体スパッタリングターゲット組立体 ３ 矩形の両端部分はそれぞれ馬蹄形の肉厚部とその周
囲の薄肉部とを備え、平行部分に形成された肉厚部と薄
肉部は酸化物焼結体ターゲット組立時に、前記馬蹄形の
肉厚部と薄肉部の端部のそれぞれに整列してレーストラ
ック形状となることを特徴とする上記２に記載する酸化
物焼結体スパッタリングターゲット組立体 ４ 肉厚部の断面形状は略台形であり、その斜面の平均
斜度が５°以上９０°未満であることを特徴とする上記
１〜３のそれぞれに記載する酸化物焼結体スパッタリン
グターゲット組立体 ５ 肉厚部と薄肉部との間又は肉厚部の周縁に、直斜
面、上弧面、下弧面若しくはこれらの組合せ又はこれら
と平面若しくは垂直面との組合せから選択した少なくと
も１種の連続又は不連続な斜面を備えていることを特徴
とする上記１〜４に記載する酸化物焼結体スパッタリン
グターゲット組立体 ６ 水平面、斜面、弧面、垂直面の各交点となる稜部分
又は角部が、Ｒ０．１ｍｍ以上で面取りされていること
を特徴とする上記５に記載する酸化物焼結体スパッタリ
ングターゲット組立体 ７ 平板状のターゲットをスパッタした場合のエロージ
ョンプロファイルと略台形の肉厚部をもつターゲットの
斜面との仮想交点と、該肉厚部の頂面からの距離が５ｍ
ｍ以下であることを特徴とする上記５又は６に記載する
酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体 ８ スパッタ表面の中心線平均表面粗さＲａが４μｍ以
下、ターゲットの相対密度が８０％以上であり、かつタ
ーゲットの密度分布が０．０４％以内であることを特徴
とする上記１〜７のそれぞれに記載する酸化物焼結体ス
パッタリングターゲット組立体 を提供する。
ット組立体において、中央の非エロージョン部には酸化
物焼結体が存在せず、該中央の非エロージョン部のバッ
キングプレートの面は前記ターゲット材を構成する元
素、または前記ターゲット材を構成する元素を含むろう
材に覆われており、ターゲットの最もスパッタされやす
い部分の厚さが非エロージョン部に比べて肉厚であるレ
ーストラック形状となるように分割された酸化物焼結体
ターゲットの各部分が組み合わされていることを特徴と
する酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体 ２ 酸化物焼結体ターゲット組立体は平面的にみて矩形
の両端部分と、その間に配置された一対又は複数対の平
行部分からなり、これらの両端部分と平行部分との間に
酸化物焼結体が存在しない中央の非エロージョン部を備
えていることを特徴とする上記１に記載する酸化物焼結
体スパッタリングターゲット組立体 ３ 矩形の両端部分はそれぞれ馬蹄形の肉厚部とその周
囲の薄肉部とを備え、平行部分に形成された肉厚部と薄
肉部は酸化物焼結体ターゲット組立時に、前記馬蹄形の
肉厚部と薄肉部の端部のそれぞれに整列してレーストラ
ック形状となることを特徴とする上記２に記載する酸化
物焼結体スパッタリングターゲット組立体 ４ 肉厚部の断面形状は略台形であり、その斜面の平均
斜度が５°以上９０°未満であることを特徴とする上記
１〜３のそれぞれに記載する酸化物焼結体スパッタリン
グターゲット組立体 ５ 肉厚部と薄肉部との間又は肉厚部の周縁に、直斜
面、上弧面、下弧面若しくはこれらの組合せ又はこれら
と平面若しくは垂直面との組合せから選択した少なくと
も１種の連続又は不連続な斜面を備えていることを特徴
とする上記１〜４に記載する酸化物焼結体スパッタリン
グターゲット組立体 ６ 水平面、斜面、弧面、垂直面の各交点となる稜部分
又は角部が、Ｒ０．１ｍｍ以上で面取りされていること
を特徴とする上記５に記載する酸化物焼結体スパッタリ
ングターゲット組立体 ７ 平板状のターゲットをスパッタした場合のエロージ
ョンプロファイルと略台形の肉厚部をもつターゲットの
斜面との仮想交点と、該肉厚部の頂面からの距離が５ｍ
ｍ以下であることを特徴とする上記５又は６に記載する
酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体 ８ スパッタ表面の中心線平均表面粗さＲａが４μｍ以
下、ターゲットの相対密度が８０％以上であり、かつタ
ーゲットの密度分布が０．０４％以内であることを特徴
とする上記１〜７のそれぞれに記載する酸化物焼結体ス
パッタリングターゲット組立体 を提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】酸化物焼結体からなるスパッタリ
ングターゲット組立体（部品）の製造に際し、例えばＩ
ＴＯ焼結体に基づいて説明すると、平均粒径が２μｍの
酸化インジウム粉と同粒径の酸化錫粉を重量比９０：１
０となるように秤量し、これに成形用バインダーを加え
て均一に混合する。次に、この混合粉を金型に充填し、
加圧成形した後、高温で焼結して得る。一般に、ＩＴＯ
ターゲットは７０重量％以上の酸化インジウムと酸化錫
を主成分とするが、透明導電膜の導電性又は透明度を向
上させるために、上記成分以外に第三成分を添加しても
よい。上記ＩＴＯスパッタリングターゲット組立部品の
酸化インジウム粉と酸化錫粉の粒径及び配合割合は一例
を示すもので、本発明においてはこれに制限されること
はない。また、本発明においては通常のＩＴＯのみなら
ずＺｎＯ系、Ｉｎ2Ｏ3−ＺｎＯ系、ＭｇＯ系等の酸化物
焼結体ターゲット材料の全てに適応できるもので、本発
明はこれらを全てを包含する。
ングターゲット組立体（部品）の製造に際し、例えばＩ
ＴＯ焼結体に基づいて説明すると、平均粒径が２μｍの
酸化インジウム粉と同粒径の酸化錫粉を重量比９０：１
０となるように秤量し、これに成形用バインダーを加え
て均一に混合する。次に、この混合粉を金型に充填し、
加圧成形した後、高温で焼結して得る。一般に、ＩＴＯ
ターゲットは７０重量％以上の酸化インジウムと酸化錫
を主成分とするが、透明導電膜の導電性又は透明度を向
上させるために、上記成分以外に第三成分を添加しても
よい。上記ＩＴＯスパッタリングターゲット組立部品の
酸化インジウム粉と酸化錫粉の粒径及び配合割合は一例
を示すもので、本発明においてはこれに制限されること
はない。また、本発明においては通常のＩＴＯのみなら
ずＺｎＯ系、Ｉｎ2Ｏ3−ＺｎＯ系、ＭｇＯ系等の酸化物
焼結体ターゲット材料の全てに適応できるもので、本発
明はこれらを全てを包含する。
【０００９】上記の例をさらに続けて説明すると、前記
のようにして得たＩＴＯスパッタリングターゲット焼結
体を平面研削盤で研削して、ＩＴＯターゲット組立部品
の素材とする。仕上工程ではＩＴＯターゲット組立体部
品の表面を、サンドペーパー、研磨布などを用いて磨い
て平滑にする。この仕上工程においてサンドブラスト処
理を用いてもよい。例えば、ブラスト材としてガラスビ
ーズ、アルミナビーズまたはジルコニアビーズなどを用
いることによりターゲット表面のエッジをもつ凹凸を減
らし、またこれらの凹凸間の研削屑を除去することが可
能である。次に、エアーブローあるいは流水洗浄などの
清浄処理を行なう。超音波洗浄を使用することもでき
る。また、スパッタ面に付着している粒子を粘着テープ
の引き剥がしとともに除去する方法（テープピール法）
を使用してもよい。
のようにして得たＩＴＯスパッタリングターゲット焼結
体を平面研削盤で研削して、ＩＴＯターゲット組立部品
の素材とする。仕上工程ではＩＴＯターゲット組立体部
品の表面を、サンドペーパー、研磨布などを用いて磨い
て平滑にする。この仕上工程においてサンドブラスト処
理を用いてもよい。例えば、ブラスト材としてガラスビ
ーズ、アルミナビーズまたはジルコニアビーズなどを用
いることによりターゲット表面のエッジをもつ凹凸を減
らし、またこれらの凹凸間の研削屑を除去することが可
能である。次に、エアーブローあるいは流水洗浄などの
清浄処理を行なう。超音波洗浄を使用することもでき
る。また、スパッタ面に付着している粒子を粘着テープ
の引き剥がしとともに除去する方法（テープピール法）
を使用してもよい。
【００１０】このようにして作製したＩＴＯスパッタリ
ングターゲット組立体の外観を図１に示す。ＩＴＯター
ゲット組立部品１を平面的にみて矩形の両端部分３と、
その間に配置された一対又は複数対の平行部分４から構
成し、これらの矩形の両端部分３と平行部分４との間に
ＩＴＯが存在しない中央の非エロージョン部が形成され
るように組み立てる。この組立体のレーストラックの平
面形状はほぼ楕円形状を呈する。ＩＴＯターゲット組立
体１は平行部分４が一対のときは両端部分３を含め合計
で４部品からなり、また平行部分４が二対のときは合計
で６部品の組立体から構成される。平行部分４はさらに
それ以上の複数対の組立部分から構成することができ
る。このように同形の平行部分４を単に増やすだけで、
長尺かつ大型のＩＴＯターゲット組立体を得ることがで
きる。レーストラックを一定の曲率で湾曲させることも
できるが、この場合の組立体はその曲率に合わせた楕円
形に制限される。
ングターゲット組立体の外観を図１に示す。ＩＴＯター
ゲット組立部品１を平面的にみて矩形の両端部分３と、
その間に配置された一対又は複数対の平行部分４から構
成し、これらの矩形の両端部分３と平行部分４との間に
ＩＴＯが存在しない中央の非エロージョン部が形成され
るように組み立てる。この組立体のレーストラックの平
面形状はほぼ楕円形状を呈する。ＩＴＯターゲット組立
体１は平行部分４が一対のときは両端部分３を含め合計
で４部品からなり、また平行部分４が二対のときは合計
で６部品の組立体から構成される。平行部分４はさらに
それ以上の複数対の組立部分から構成することができ
る。このように同形の平行部分４を単に増やすだけで、
長尺かつ大型のＩＴＯターゲット組立体を得ることがで
きる。レーストラックを一定の曲率で湾曲させることも
できるが、この場合の組立体はその曲率に合わせた楕円
形に制限される。
【００１１】バッキングプレート２上に金属Ｉｎろう７
を全面に施し、この上に前記ＩＴＯターゲット組立体１
を載せて接合する。したがって、ＩＴＯが存在しない中
央の非エロージョン部には金属Ｉｎろう７が露出する構
成となる。金属Ｉｎろう７を接合するＩＴＯターゲット
組立体１の背面のみに施す場合には、バッキングプレー
ト２の露出面に他の金属Ｉｎを被覆する。上記のよう
に、バッキングプレート２に金属Ｉｎろう７を全面に施
す場合には、接合と中央の非エロージョン部への金属Ｉ
ｎの被覆が一度ですむので工程が簡単になるという特徴
を有する。これによって、中央の非エロージョン部には
高価なＩＴＯが存在しないので、原料コストを大幅に減
らすことができる。そして、万が一中央の非エロージョ
ン部がスパッタされた場合でも金属Ｉｎが飛来するだけ
なので、これがＩＴＯ成膜の汚染源となることはない。
なお、成膜条件（薄膜の種類）によっては他のろう材を
使用することもできる。すなわち、中央の非エロージョ
ン部にはターゲット材を構成する元素またはターゲット
材を構成する元素を含むろう材が使用できる。このよう
に、これらのろう材はスパッタリングによって形成され
た膜の汚染とならない材料を使用することが条件となる
が、その条件を満たすならば、材料として特に制限され
るものはない。
を全面に施し、この上に前記ＩＴＯターゲット組立体１
を載せて接合する。したがって、ＩＴＯが存在しない中
央の非エロージョン部には金属Ｉｎろう７が露出する構
成となる。金属Ｉｎろう７を接合するＩＴＯターゲット
組立体１の背面のみに施す場合には、バッキングプレー
ト２の露出面に他の金属Ｉｎを被覆する。上記のよう
に、バッキングプレート２に金属Ｉｎろう７を全面に施
す場合には、接合と中央の非エロージョン部への金属Ｉ
ｎの被覆が一度ですむので工程が簡単になるという特徴
を有する。これによって、中央の非エロージョン部には
高価なＩＴＯが存在しないので、原料コストを大幅に減
らすことができる。そして、万が一中央の非エロージョ
ン部がスパッタされた場合でも金属Ｉｎが飛来するだけ
なので、これがＩＴＯ成膜の汚染源となることはない。
なお、成膜条件（薄膜の種類）によっては他のろう材を
使用することもできる。すなわち、中央の非エロージョ
ン部にはターゲット材を構成する元素またはターゲット
材を構成する元素を含むろう材が使用できる。このよう
に、これらのろう材はスパッタリングによって形成され
た膜の汚染とならない材料を使用することが条件となる
が、その条件を満たすならば、材料として特に制限され
るものはない。
【００１２】ＩＴＯターゲット組立体１の矩形の両端部
分３はそれぞれ馬蹄形の肉厚部５とその周囲の薄肉部６
を備えている。平行部分４にも同様に平行な肉厚部５と
それを挟んで薄肉部６を有し、平行部分４のＩＴＯター
ゲット組立時に、両端部分３の前記馬蹄形の肉厚部５と
薄肉部６の端部及び平行部分４の肉厚部５と薄肉部６の
端部又は平行部分４の肉厚部５と薄肉部６の端部同志が
それぞれ整列して無端状のレーストラックを形成する。
ＩＴＯターゲット組立体１の両端部分３は馬蹄形の肉厚
部５とその周囲の薄肉部６は全体として、平面的にみて
ほぼ矩形なので加工が容易であり、この両端部分３の粉
末成形用金型も最少１個ですむ利点がある。また、図に
示すように比較的コンパクトな形状をもつので、焼結や
取扱いの際に割れを発生することがなく、加工歩留まり
が大幅に向上する。ＩＴＯターゲット組立体１の１対又
は複数対で作製される平行部分４も基本的には同形状と
することができる。上記両端部分３と同様に粉末成形用
金型も最少１個ですみ、焼結や取扱いの際に割れを発生
することがなく、加工歩留まりも大幅に向上する。上記
にも説明した通り、ここではＩＴＯターゲット組立体に
ついて説明したが、酸化物焼結体ターゲット材料全般に
適用できることは言うまでもない。また、上記に述べた
バッキングプレート及び中央の非エロージョン部に適用
するろう材は、これらの酸化物焼結体ターゲット材料の
種類に応じて適宜選択することができる。
分３はそれぞれ馬蹄形の肉厚部５とその周囲の薄肉部６
を備えている。平行部分４にも同様に平行な肉厚部５と
それを挟んで薄肉部６を有し、平行部分４のＩＴＯター
ゲット組立時に、両端部分３の前記馬蹄形の肉厚部５と
薄肉部６の端部及び平行部分４の肉厚部５と薄肉部６の
端部又は平行部分４の肉厚部５と薄肉部６の端部同志が
それぞれ整列して無端状のレーストラックを形成する。
ＩＴＯターゲット組立体１の両端部分３は馬蹄形の肉厚
部５とその周囲の薄肉部６は全体として、平面的にみて
ほぼ矩形なので加工が容易であり、この両端部分３の粉
末成形用金型も最少１個ですむ利点がある。また、図に
示すように比較的コンパクトな形状をもつので、焼結や
取扱いの際に割れを発生することがなく、加工歩留まり
が大幅に向上する。ＩＴＯターゲット組立体１の１対又
は複数対で作製される平行部分４も基本的には同形状と
することができる。上記両端部分３と同様に粉末成形用
金型も最少１個ですみ、焼結や取扱いの際に割れを発生
することがなく、加工歩留まりも大幅に向上する。上記
にも説明した通り、ここではＩＴＯターゲット組立体に
ついて説明したが、酸化物焼結体ターゲット材料全般に
適用できることは言うまでもない。また、上記に述べた
バッキングプレート及び中央の非エロージョン部に適用
するろう材は、これらの酸化物焼結体ターゲット材料の
種類に応じて適宜選択することができる。
【００１３】肉厚部５すなわちレーストラックの断面形
状は略台形であり、その両斜面８は５°以上９０°未
満、好ましくは１０°以上６０°以下、より好ましくは
１５°以上４５°以下の角度とするのが良い。ターゲッ
トの最もスパッタされ易い部分、すなわち肉厚部５が集
中的にスパッタリングされる。そして前記傾斜面８にお
いても大部分がエロージョン部となるが、肉厚部５より
エロージョンの量は少く、縁部に近付くに従ってその量
は減少する。このように、傾斜面はエロージョンの局所
的進行を緩和することができる。薄肉部６もスパッタさ
れることもあるが、その量は少ない。薄肉部６の幅はス
パッタされる領域の安全を見込んで設計する。
状は略台形であり、その両斜面８は５°以上９０°未
満、好ましくは１０°以上６０°以下、より好ましくは
１５°以上４５°以下の角度とするのが良い。ターゲッ
トの最もスパッタされ易い部分、すなわち肉厚部５が集
中的にスパッタリングされる。そして前記傾斜面８にお
いても大部分がエロージョン部となるが、肉厚部５より
エロージョンの量は少く、縁部に近付くに従ってその量
は減少する。このように、傾斜面はエロージョンの局所
的進行を緩和することができる。薄肉部６もスパッタさ
れることもあるが、その量は少ない。薄肉部６の幅はス
パッタされる領域の安全を見込んで設計する。
【００１４】ターゲットの肉厚部が略台形である断面形
状を図２（ａ）に示す。中央が肉厚部、両端が薄肉部と
なっている。本発明の他の例であるターゲットのレース
トラックの断面形状を図２（ｂ）〜（ｃ）、図３（ｄ）
〜（ｆ）及び図４（ｇ）〜（ｉ）に示す。図２（ｂ）の
ターゲットの肉厚部の頂面（上面）は平坦で、斜面（直
斜面）はターゲットの縁部まで連続的に傾斜している。
このように斜面又は円弧面がターゲットの縁部まで続く
ものは、薄肉部を形成しなくてもよいが、さらに安全を
見込んで斜面又は円弧面の周囲に薄肉部を形成してもよ
い。図２（ｃ）に示すターゲットの肉厚部の頂面は平坦
で、両端部は上弧面で連続的に傾斜しターゲットの縁部
までなだらかに続き、そこを終点とする。図３（ｄ）に
示すターゲットの両端部は、途中の水平面を挟んで直斜
面が２段に形成されている。このように段差があるもの
は図に示す通り、不連続な斜面を形成する。図３（ｅ）
に示すターゲットの肉厚部の頂面は平坦で、両端部はタ
ーゲットの縁部まで連続的に傾斜する斜面（直斜面）を
有する。図３（ｆ）に示すターゲットの肉厚部の頂面は
平坦で、両端部は下弧面でターゲットの縁部まで連続的
に続いている。図４（ｇ）に示すターゲットの断面は凸
型の上弧面であり、平坦部はなくターゲットの外端まで
続いている。図４（ｈ）に示すターゲットの断面は肉厚
部から薄肉部まで段階的（この場合は２段）に減少して
いる例を示す。各段の接合は垂直面をもつ例である。図
４（ｉ）に示すターゲットの断面は肉厚部から薄肉部ま
で傾斜面と垂直面で結合した不連続面をもつ例である。
図２〜図４の（ｂ）〜（ｇ）はいづれも肉厚部が台形以
外の他の例（台形に近似するものを含む）を示してい
る。ターゲットの肉厚部、薄肉部、さらにはこれらの間
の傾斜部（面）は上記直斜面、上弧面、下弧面若しくは
これらの組合せ又はこれらと平面若しくは垂直面との組
合せから選択した少なくとも１種の連続又は不連続な面
を用いて適宜作成することができる。図２〜図４の
（ａ）〜（ｇ）に示すターゲットの斜面と肉厚部又は薄
肉部との接合部（角部）の細部は表示していないが、こ
れらの角が急峻であるとターゲット材料の成形又は焼結
の際にむらが生ずることがあり、また取り扱い作業中に
破損のおそれがあるので、図６に示すように角部をなだ
らかな曲面になるように作成することが望ましい。図６
はその代表例で、角のＲ取りをし傾斜部を曲面化した例
である。図中斜線部はターゲット材を示す。このよう
に、水平面、斜面、弧面、垂直面の各交点となる稜部分
又は角部をＲ０．１ｍｍ以上で面取りすることが、上記
のような欠点の防止に効果的である。
状を図２（ａ）に示す。中央が肉厚部、両端が薄肉部と
なっている。本発明の他の例であるターゲットのレース
トラックの断面形状を図２（ｂ）〜（ｃ）、図３（ｄ）
〜（ｆ）及び図４（ｇ）〜（ｉ）に示す。図２（ｂ）の
ターゲットの肉厚部の頂面（上面）は平坦で、斜面（直
斜面）はターゲットの縁部まで連続的に傾斜している。
このように斜面又は円弧面がターゲットの縁部まで続く
ものは、薄肉部を形成しなくてもよいが、さらに安全を
見込んで斜面又は円弧面の周囲に薄肉部を形成してもよ
い。図２（ｃ）に示すターゲットの肉厚部の頂面は平坦
で、両端部は上弧面で連続的に傾斜しターゲットの縁部
までなだらかに続き、そこを終点とする。図３（ｄ）に
示すターゲットの両端部は、途中の水平面を挟んで直斜
面が２段に形成されている。このように段差があるもの
は図に示す通り、不連続な斜面を形成する。図３（ｅ）
に示すターゲットの肉厚部の頂面は平坦で、両端部はタ
ーゲットの縁部まで連続的に傾斜する斜面（直斜面）を
有する。図３（ｆ）に示すターゲットの肉厚部の頂面は
平坦で、両端部は下弧面でターゲットの縁部まで連続的
に続いている。図４（ｇ）に示すターゲットの断面は凸
型の上弧面であり、平坦部はなくターゲットの外端まで
続いている。図４（ｈ）に示すターゲットの断面は肉厚
部から薄肉部まで段階的（この場合は２段）に減少して
いる例を示す。各段の接合は垂直面をもつ例である。図
４（ｉ）に示すターゲットの断面は肉厚部から薄肉部ま
で傾斜面と垂直面で結合した不連続面をもつ例である。
図２〜図４の（ｂ）〜（ｇ）はいづれも肉厚部が台形以
外の他の例（台形に近似するものを含む）を示してい
る。ターゲットの肉厚部、薄肉部、さらにはこれらの間
の傾斜部（面）は上記直斜面、上弧面、下弧面若しくは
これらの組合せ又はこれらと平面若しくは垂直面との組
合せから選択した少なくとも１種の連続又は不連続な面
を用いて適宜作成することができる。図２〜図４の
（ａ）〜（ｇ）に示すターゲットの斜面と肉厚部又は薄
肉部との接合部（角部）の細部は表示していないが、こ
れらの角が急峻であるとターゲット材料の成形又は焼結
の際にむらが生ずることがあり、また取り扱い作業中に
破損のおそれがあるので、図６に示すように角部をなだ
らかな曲面になるように作成することが望ましい。図６
はその代表例で、角のＲ取りをし傾斜部を曲面化した例
である。図中斜線部はターゲット材を示す。このよう
に、水平面、斜面、弧面、垂直面の各交点となる稜部分
又は角部をＲ０．１ｍｍ以上で面取りすることが、上記
のような欠点の防止に効果的である。
【００１５】図５に、平板状のターゲットをスパッタし
た場合のエロージョンプロファイルと本発明の台形の肉
厚部をもつターゲットのプロファイルとを示すターゲッ
ト断面説明図を示す。図５において、横軸はターゲット
の寸法（ｍｍ）であり、縦軸はエロージョンの深さ（Er
osion Depth）又は台形の肉厚部の高さ（ｍｍ）を示
す。平板状のターゲットをスパッタした場合のエロージ
ョンプロファイル９と本発明の台形の肉厚部をもつター
ゲットの傾斜面１０との仮想交点Ａと、該肉厚部の頂面
１１からの距離を、５ｍｍ以下、好ましくは２ｍｍ以
下、より好ましくは０．４ｍｍ以下とする。これによっ
て、エロージョンプロファイルに対応させてＩＴＯ等の
酸化物焼結体のターゲット原料の節減を図ることができ
る。
た場合のエロージョンプロファイルと本発明の台形の肉
厚部をもつターゲットのプロファイルとを示すターゲッ
ト断面説明図を示す。図５において、横軸はターゲット
の寸法（ｍｍ）であり、縦軸はエロージョンの深さ（Er
osion Depth）又は台形の肉厚部の高さ（ｍｍ）を示
す。平板状のターゲットをスパッタした場合のエロージ
ョンプロファイル９と本発明の台形の肉厚部をもつター
ゲットの傾斜面１０との仮想交点Ａと、該肉厚部の頂面
１１からの距離を、５ｍｍ以下、好ましくは２ｍｍ以
下、より好ましくは０．４ｍｍ以下とする。これによっ
て、エロージョンプロファイルに対応させてＩＴＯ等の
酸化物焼結体のターゲット原料の節減を図ることができ
る。
【００１６】ＩＴＯ等の酸化物焼結体ターゲットの組立
体１のスパッタ表面の中心線平均表面粗さＲａが４μｍ
以下、好ましくは１μｍ以下、ターゲットの相対密度が
８０％以上、好ましくは９０％以上であり、かつターゲ
ットの密度分布が０．０４％以内、好ましくは０．０２
％以内とする。ＩＴＯ等の酸化物焼結体のターゲット組
立体１が分割された複数の部品から構成する以上、製造
工程でのバラツキは避ける必要がある。上記の数値の範
囲において、好ましいＩＴＯ等の酸化物焼結体スパッタ
リングターゲット組立体１が得られる。特に、ターゲッ
トの密度分布が上記の範囲にあると、均一なスパッタ成
膜が得られる。
体１のスパッタ表面の中心線平均表面粗さＲａが４μｍ
以下、好ましくは１μｍ以下、ターゲットの相対密度が
８０％以上、好ましくは９０％以上であり、かつターゲ
ットの密度分布が０．０４％以内、好ましくは０．０２
％以内とする。ＩＴＯ等の酸化物焼結体のターゲット組
立体１が分割された複数の部品から構成する以上、製造
工程でのバラツキは避ける必要がある。上記の数値の範
囲において、好ましいＩＴＯ等の酸化物焼結体スパッタ
リングターゲット組立体１が得られる。特に、ターゲッ
トの密度分布が上記の範囲にあると、均一なスパッタ成
膜が得られる。
【００１７】
【発明の効果】マグネトロンスパッタリングによる局部
的エロージョンに対応できる効率的なスパッタリングを
可能とし、スパッタ性能に影響を与えることがなく高価
なＩＴＯ等の酸化物焼結体のターゲット原料の使用量を
可能な限り節減し、かつ一体成形が困難な大型品を容易
に製造できる酸化物焼結体スパッタリングターゲット組
立体を提供する。ＩＴＯ等の酸化物焼結体ターゲット組
立体の両端部分は馬蹄形の肉厚部とその周囲の薄肉部は
全体として、平面的にみてほぼ矩形なので加工が容易で
あり、この両端部分の粉末成形用金型も最少１個ですむ
利点がある。また、比較的コンパクトな形状をもつの
で、焼結や取扱いの際に割れを発生することがなく、加
工歩留まりが大幅に向上する。同様に、ＩＴＯ等の酸化
物焼結体ターゲット組立体の１対又は複数対で作製され
る平行部分も基本的には同形状とすることができる。上
記両端部分と同様に粉末成形用金型も最少１個ですみ、
比較的単純な形状を有しているので、焼結や取扱いの際
に割れを発生することがなく、加工歩留まりも大幅に向
上する。また、この平行部分の対を増やすことにより、
ＩＴＯ等の酸化物焼結体ターゲット組立体の形状をより
大型化することができ、成膜条件に応じてＩＴＯ等の酸
化物焼結体ターゲット組立体の寸法の交換が容易にでき
る（可変である）という特徴を有する。レーストラック
の断面形状は略台形であり、その台形肉厚部に集中的に
エロージョンが発生する。そして前記傾斜面においても
一部エロージョン部となるが、その傾斜面は局所的進行
を緩和することができる。また、必要に応じてレースト
ラックの断面形状を、例えば肉厚部と薄肉部との間に、
直斜面、上弧面、下弧面若しくはこれらの組合せ又はこ
れらと平面若しくは垂直面との組合せから選択した少な
くとも１種の連続又は不連続な斜面を備えるように、変
形できる。これによって、様々なエロージョンに対応で
きるターゲット形状とすることができる。レーストラッ
クの中央に位置する非エロージョン部には金属Ｉｎろう
等のターゲット材を構成する元素、またはターゲット材
を構成する元素を含むろう材等の酸化物焼結体のスパッ
タリング薄膜の汚染とならない材料（金属）が露出する
構成となっているので、万が一中央の非エロージョン部
がスパッタされた場合でも金属Ｉｎ等の無害な材料が飛
来するだけなので、これがＩＴＯ等の酸化物成膜の汚染
源となることを防止できる。このように、簡単な工程で
安定した品質のスパッタ膜を得ることができる。以上に
よって、エロージョンプロファイルに対応させてＩＴＯ
等の酸化物焼結体ターゲットの肉厚部を集中的に配置
し、全体として無駄を省き、ＩＴＯ等の酸化物焼結体タ
ーゲットの大幅な効率化と原材料の節減を図ることがで
きる。
的エロージョンに対応できる効率的なスパッタリングを
可能とし、スパッタ性能に影響を与えることがなく高価
なＩＴＯ等の酸化物焼結体のターゲット原料の使用量を
可能な限り節減し、かつ一体成形が困難な大型品を容易
に製造できる酸化物焼結体スパッタリングターゲット組
立体を提供する。ＩＴＯ等の酸化物焼結体ターゲット組
立体の両端部分は馬蹄形の肉厚部とその周囲の薄肉部は
全体として、平面的にみてほぼ矩形なので加工が容易で
あり、この両端部分の粉末成形用金型も最少１個ですむ
利点がある。また、比較的コンパクトな形状をもつの
で、焼結や取扱いの際に割れを発生することがなく、加
工歩留まりが大幅に向上する。同様に、ＩＴＯ等の酸化
物焼結体ターゲット組立体の１対又は複数対で作製され
る平行部分も基本的には同形状とすることができる。上
記両端部分と同様に粉末成形用金型も最少１個ですみ、
比較的単純な形状を有しているので、焼結や取扱いの際
に割れを発生することがなく、加工歩留まりも大幅に向
上する。また、この平行部分の対を増やすことにより、
ＩＴＯ等の酸化物焼結体ターゲット組立体の形状をより
大型化することができ、成膜条件に応じてＩＴＯ等の酸
化物焼結体ターゲット組立体の寸法の交換が容易にでき
る（可変である）という特徴を有する。レーストラック
の断面形状は略台形であり、その台形肉厚部に集中的に
エロージョンが発生する。そして前記傾斜面においても
一部エロージョン部となるが、その傾斜面は局所的進行
を緩和することができる。また、必要に応じてレースト
ラックの断面形状を、例えば肉厚部と薄肉部との間に、
直斜面、上弧面、下弧面若しくはこれらの組合せ又はこ
れらと平面若しくは垂直面との組合せから選択した少な
くとも１種の連続又は不連続な斜面を備えるように、変
形できる。これによって、様々なエロージョンに対応で
きるターゲット形状とすることができる。レーストラッ
クの中央に位置する非エロージョン部には金属Ｉｎろう
等のターゲット材を構成する元素、またはターゲット材
を構成する元素を含むろう材等の酸化物焼結体のスパッ
タリング薄膜の汚染とならない材料（金属）が露出する
構成となっているので、万が一中央の非エロージョン部
がスパッタされた場合でも金属Ｉｎ等の無害な材料が飛
来するだけなので、これがＩＴＯ等の酸化物成膜の汚染
源となることを防止できる。このように、簡単な工程で
安定した品質のスパッタ膜を得ることができる。以上に
よって、エロージョンプロファイルに対応させてＩＴＯ
等の酸化物焼結体ターゲットの肉厚部を集中的に配置
し、全体として無駄を省き、ＩＴＯ等の酸化物焼結体タ
ーゲットの大幅な効率化と原材料の節減を図ることがで
きる。
【図１】本発明のＩＴＯ等の酸化物焼結体スパッタリン
グターゲット組立体の外観説明図である。
グターゲット組立体の外観説明図である。
【図２】本発明のターゲットの肉厚部、すなわちレース
トラックの断面形状の種々の例を示す概略説明図（ａ）
〜（ｃ）である。
トラックの断面形状の種々の例を示す概略説明図（ａ）
〜（ｃ）である。
【図３】同上（ｄ）〜（ｆ）である。
【図４】同上（ｇ）〜（ｉ）である。
【図５】平板状のターゲットをスパッタした場合のエロ
ージョンプロファイルと本発明の台形の肉厚部とをもつ
ターゲットのプロファイルを示すターゲット断面の説明
図である。
ージョンプロファイルと本発明の台形の肉厚部とをもつ
ターゲットのプロファイルを示すターゲット断面の説明
図である。
【図６】角部がなだらかな曲面になるようにＲ取りし、
傾斜部を曲面化した例を示す説明図である。
傾斜部を曲面化した例を示す説明図である。
１ ＩＴＯ等の酸化物焼結体スパッタリングターゲット
組立体 ２ バッキングプレート ３ ターゲット組立体の両端部 ４ ターゲット組立体の平行部 ５ レーストラックの馬蹄形肉厚部又は平行肉厚部 ６ レーストラックの薄肉部 ７ 金属Ｉｎ（ろう）露出部 ８ 肉厚部と薄肉部間の傾斜面 ９ 平板状のターゲットをスパッタした場合のエロージ
ョンプロファイル １０ 本発明の台形の肉厚部をもつターゲットのプロフ
ァイル １１ 台形の肉厚部の頂面 １２ 傾斜面８の角度 Ａ 平板状のターゲットをスパッタした場合のエロージ
ョンプロファイルと台形の肉厚部をもつターゲットの傾
斜面との仮想交点
組立体 ２ バッキングプレート ３ ターゲット組立体の両端部 ４ ターゲット組立体の平行部 ５ レーストラックの馬蹄形肉厚部又は平行肉厚部 ６ レーストラックの薄肉部 ７ 金属Ｉｎ（ろう）露出部 ８ 肉厚部と薄肉部間の傾斜面 ９ 平板状のターゲットをスパッタした場合のエロージ
ョンプロファイル １０ 本発明の台形の肉厚部をもつターゲットのプロフ
ァイル １１ 台形の肉厚部の頂面 １２ 傾斜面８の角度 Ａ 平板状のターゲットをスパッタした場合のエロージ
ョンプロファイルと台形の肉厚部をもつターゲットの傾
斜面との仮想交点
【手続補正書】
【提出日】平成１１年１２月２２日（１９９９．１２．
２２）
２２）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、 １ マグネトロンスパッタリング用酸化物焼結体ターゲ
ット組立体において、中央の非エロージョン部には酸化
物焼結体が存在せず、該中央の非エロージョン部のバッ
キングプレートの面は前記ターゲット材を構成する元
素、または前記ターゲット材を構成する元素を含むろう
材に覆われており、ターゲットの最もスパッタされやす
い部分の厚さが非エロージョン部に比べて肉厚であるレ
ーストラック形状となるように分割された酸化物焼結体
ターゲットの各部分が組み合わされており、さらに酸化
物焼結体ターゲット組立体は平面的にみて矩形の両端部
分と、その間に配置された一対又は複数対の平行部分か
らなり、これらの両端部分と平行部分との間に酸化物焼
結体が存在しない中央の非エロージョン部を備えている
ことを特徴とする酸化物焼結体スパッタリングターゲッ
ト組立体 ２ 矩形の両端部分はそれぞれ馬蹄形の肉厚部とその周
囲の薄肉部とを備え、平行部分に形成された肉厚部と薄
肉部は酸化物焼結体ターゲット組立時に、前記馬蹄形の
肉厚部と薄肉部の端部のそれぞれに整列してレーストラ
ック形状となることを特徴とする上記１に記載する酸化
物焼結体スパッタリングターゲット組立体 ３ 肉厚部の断面形状は略台形であり、その斜面の平均
斜度が５°以上９０°未満であることを特徴とする上記
１又は２に記載する酸化物焼結体スパッタリングターゲ
ット組立体 ４ 肉厚部と薄肉部との間又は肉厚部の周縁に、直斜
面、上弧面、下弧面若しくはこれらの組合せ又はこれら
と平面若しくは垂直面との組合せから選択した少なくと
も１種の連続又は不連続な斜面を備えていることを特徴
とする上記１〜３のそれぞれに記載する酸化物焼結体ス
パッタリングターゲット組立体 ５ 水平面、斜面、弧面、垂直面の各交点となる稜部分
又は角部が、Ｒ０．１ｍｍ以上で面取りされていること
を特徴とする上記４に記載する酸化物焼結体スパッタリ
ングターゲット組立体 ６ 平板状のターゲットをスパッタした場合のエロージ
ョンプロファイルと略台形の肉厚部をもつターゲットの
斜面との仮想交点と、該肉厚部の頂面からの距離が５ｍ
ｍ以下であることを特徴とする上記４又は５に記載する
酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体 ７ スパッタ表面の中心線平均表面粗さＲａが４μｍ以
下、ターゲットの相対密度が８０％以上であり、かつタ
ーゲットの密度分布が０．０４％以内であることを特徴
とする上記１〜６のそれぞれに記載する酸化物焼結体ス
パッタリングターゲット組立体 、を提供する。
ット組立体において、中央の非エロージョン部には酸化
物焼結体が存在せず、該中央の非エロージョン部のバッ
キングプレートの面は前記ターゲット材を構成する元
素、または前記ターゲット材を構成する元素を含むろう
材に覆われており、ターゲットの最もスパッタされやす
い部分の厚さが非エロージョン部に比べて肉厚であるレ
ーストラック形状となるように分割された酸化物焼結体
ターゲットの各部分が組み合わされており、さらに酸化
物焼結体ターゲット組立体は平面的にみて矩形の両端部
分と、その間に配置された一対又は複数対の平行部分か
らなり、これらの両端部分と平行部分との間に酸化物焼
結体が存在しない中央の非エロージョン部を備えている
ことを特徴とする酸化物焼結体スパッタリングターゲッ
ト組立体 ２ 矩形の両端部分はそれぞれ馬蹄形の肉厚部とその周
囲の薄肉部とを備え、平行部分に形成された肉厚部と薄
肉部は酸化物焼結体ターゲット組立時に、前記馬蹄形の
肉厚部と薄肉部の端部のそれぞれに整列してレーストラ
ック形状となることを特徴とする上記１に記載する酸化
物焼結体スパッタリングターゲット組立体 ３ 肉厚部の断面形状は略台形であり、その斜面の平均
斜度が５°以上９０°未満であることを特徴とする上記
１又は２に記載する酸化物焼結体スパッタリングターゲ
ット組立体 ４ 肉厚部と薄肉部との間又は肉厚部の周縁に、直斜
面、上弧面、下弧面若しくはこれらの組合せ又はこれら
と平面若しくは垂直面との組合せから選択した少なくと
も１種の連続又は不連続な斜面を備えていることを特徴
とする上記１〜３のそれぞれに記載する酸化物焼結体ス
パッタリングターゲット組立体 ５ 水平面、斜面、弧面、垂直面の各交点となる稜部分
又は角部が、Ｒ０．１ｍｍ以上で面取りされていること
を特徴とする上記４に記載する酸化物焼結体スパッタリ
ングターゲット組立体 ６ 平板状のターゲットをスパッタした場合のエロージ
ョンプロファイルと略台形の肉厚部をもつターゲットの
斜面との仮想交点と、該肉厚部の頂面からの距離が５ｍ
ｍ以下であることを特徴とする上記４又は５に記載する
酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体 ７ スパッタ表面の中心線平均表面粗さＲａが４μｍ以
下、ターゲットの相対密度が８０％以上であり、かつタ
ーゲットの密度分布が０．０４％以内であることを特徴
とする上記１〜６のそれぞれに記載する酸化物焼結体ス
パッタリングターゲット組立体 、を提供する。
Claims (8)
- 【請求項１】 マグネトロンスパッタリング用酸化物焼
結体ターゲット組立体において、中央の非エロージョン
部には酸化物焼結体が存在せず、該中央の非エロージョ
ン部のバッキングプレートの面は前記ターゲット材を構
成する元素、または前記ターゲット材を構成する元素を
含むろう材に覆われており、ターゲットの最もスパッタ
されやすい部分の厚さが非エロージョン部に比べて肉厚
であるレーストラック形状となるように分割された酸化
物焼結体ターゲットの各部分が組み合わされていること
を特徴とする酸化物焼結体スパッタリングターゲット組
立体。 - 【請求項２】 酸化物焼結体ターゲット組立体は平面的
にみて矩形の両端部分と、その間に配置された一対又は
複数対の平行部分からなり、これらの両端部分と平行部
分との間に酸化物焼結体が存在しない中央の非エロージ
ョン部を備えていることを特徴とする請求項１に記載す
る酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立体。 - 【請求項３】 矩形の両端部分はそれぞれ馬蹄形の肉厚
部とその周囲の薄肉部とを備え、平行部分に形成された
肉厚部と薄肉部は酸化物焼結体ターゲット組立時に、前
記馬蹄形の肉厚部と薄肉部の端部のそれぞれに整列して
レーストラック形状となることを特徴とする請求項２に
記載する酸化物焼結体スパッタリングターゲット組立
体。 - 【請求項４】 肉厚部の断面形状は略台形であり、その
斜面の平均斜度が５°以上９０°未満であることを特徴
とする請求項１〜３のそれぞれに記載する酸化物焼結体
スパッタリングターゲット組立体。 - 【請求項５】 肉厚部と薄肉部との間又は肉厚部の周縁
に、直斜面、上弧面、下弧面若しくはこれらの組合せ又
はこれらと平面若しくは垂直面との組合せから選択した
少なくとも１種の連続又は不連続な斜面を備えているこ
とを特徴とする請求項１〜４に記載する酸化物焼結体ス
パッタリングターゲット組立体。 - 【請求項６】 水平面、斜面、弧面、垂直面の各交点と
なる稜部分又は角部が、Ｒ０．１ｍｍ以上で面取りされ
ていることを特徴とする請求項５に記載する酸化物焼結
体スパッタリングターゲット組立体。 - 【請求項７】 平板状のターゲットをスパッタした場合
のエロージョンプロファイルと略台形の肉厚部をもつタ
ーゲットの斜面との仮想交点と、該肉厚部の頂面からの
距離が５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項５又は
６に記載する酸化物焼結体スパッタリングターゲット組
立体。 - 【請求項８】 スパッタ表面の中心線平均表面粗さＲａ
が４μｍ以下、ターゲットの相対密度が８０％以上であ
り、かつターゲットの密度分布が０．０４％以内である
ことを特徴とする請求項１〜７のそれぞれに記載する酸
化物焼結体スパッタリングターゲット組立体。
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