JP2000051707A - 排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化装置 - Google Patents
排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化装置Info
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- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
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- Exhaust Gas After Treatment (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 自動車等の内燃機関からエンジン始動時に排
出される排気ガス中の炭化水素、一酸化炭素及び窒素酸
化物のうち、特に、ＨＣを効率良く浄化することができ
る排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化装置を提供。 【解決手段】 触媒成分担持層を有する一体構造型排気
カズ浄化用触媒であって、モノリス担体上に、ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材を含む第１層を設け、
該第１層の上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白
金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれ
た少なくとも一種を含む触媒成分層を設けて成り、該ゼ
オライトを主成分とする炭化水素吸着材層と該Ｐｄ，Ｐ
ｔ及びＲｈからなる群より選ばれた少なくとも１種を含
む触媒成分層の重量比が９：１から１：４である触媒成
分層を、ＧＳＡが１０cm2／cm3 〜３５cm2 ／cm3 のモ
ノリス担体に担持することを特徴とする。
出される排気ガス中の炭化水素、一酸化炭素及び窒素酸
化物のうち、特に、ＨＣを効率良く浄化することができ
る排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化装置を提供。 【解決手段】 触媒成分担持層を有する一体構造型排気
カズ浄化用触媒であって、モノリス担体上に、ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材を含む第１層を設け、
該第１層の上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白
金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれ
た少なくとも一種を含む触媒成分層を設けて成り、該ゼ
オライトを主成分とする炭化水素吸着材層と該Ｐｄ，Ｐ
ｔ及びＲｈからなる群より選ばれた少なくとも１種を含
む触媒成分層の重量比が９：１から１：４である触媒成
分層を、ＧＳＡが１０cm2／cm3 〜３５cm2 ／cm3 のモ
ノリス担体に担持することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、内燃機関のエン
ジン始動時の排気ガスを浄化する排気ガス浄化用触媒に
関する。本発明は又、自動車等の内燃機関からエンジン
始動直後の低温時に排出される排気ガス中の炭化水素
（以下、「ＨＣ」と称す）、一酸化炭素（以下、「Ｃ
Ｏ」と称す）及び窒素酸化物（以下、「ＮＯx 」と称
す）のうち、特に、ＨＣを効率良く浄化することができ
る排気ガス浄化用触媒及びこの触媒を含む排気ガス浄化
装置に関する。
ジン始動時の排気ガスを浄化する排気ガス浄化用触媒に
関する。本発明は又、自動車等の内燃機関からエンジン
始動直後の低温時に排出される排気ガス中の炭化水素
（以下、「ＨＣ」と称す）、一酸化炭素（以下、「Ｃ
Ｏ」と称す）及び窒素酸化物（以下、「ＮＯx 」と称
す）のうち、特に、ＨＣを効率良く浄化することができ
る排気ガス浄化用触媒及びこの触媒を含む排気ガス浄化
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、内燃機関のエンジン始動時の低温
域で大量に排出されるＨＣの浄化を目的に、ゼオライト
を用いたＨＣ吸着触媒が開発されている。該ＨＣ吸着触
媒は、三元触媒が活性化しないエンジン始動時の低温域
において、大量に排出されるＨＣを一時的に吸着、保持
し、次に排気ガス温度上昇により三元触媒が活性化した
時に、ＨＣを徐々に脱離し、しかも浄化するというもの
である。
域で大量に排出されるＨＣの浄化を目的に、ゼオライト
を用いたＨＣ吸着触媒が開発されている。該ＨＣ吸着触
媒は、三元触媒が活性化しないエンジン始動時の低温域
において、大量に排出されるＨＣを一時的に吸着、保持
し、次に排気ガス温度上昇により三元触媒が活性化した
時に、ＨＣを徐々に脱離し、しかも浄化するというもの
である。
【０００３】ところで、ゼオライトを用いたＨＣ吸着触
媒では、排ガス中のＨＣ種分布とゼオライトの有する細
孔径との間に相関があるため、最適な細孔径を持つゼオ
ライトを設定する必要がある。従来は、ＭＦＩ型（ＺＳ
Ｍ５）をメインに、他の細孔径を有するゼオライト（例
えばＵＳＹ等）をブレンドし、細孔分布を調整していた
が、耐久後にはゼオライト種によって細孔径の歪みや吸
着・脱離特性が異なるため、排ガスＨＣ種の吸着が不十
分であるという問題があった。
媒では、排ガス中のＨＣ種分布とゼオライトの有する細
孔径との間に相関があるため、最適な細孔径を持つゼオ
ライトを設定する必要がある。従来は、ＭＦＩ型（ＺＳ
Ｍ５）をメインに、他の細孔径を有するゼオライト（例
えばＵＳＹ等）をブレンドし、細孔分布を調整していた
が、耐久後にはゼオライト種によって細孔径の歪みや吸
着・脱離特性が異なるため、排ガスＨＣ種の吸着が不十
分であるという問題があった。
【０００４】一方、三元貴金属の触媒としては、従来は
Ｒｈ，Ｐｔ，Ｐｄ等の貴金属種を同一層に共存させた仕
様や、Ｒｈ層とＰｄ層を塗りわけた仕様等が提案されて
いた。例えば、特開平２−５６２４７に示される様にゼ
オライトを主成分とする第１層の上に、Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒ
ｈ等の貴金属を主成分とする第２層を設けた排気ガス浄
化用触媒が提案されている。
Ｒｈ，Ｐｔ，Ｐｄ等の貴金属種を同一層に共存させた仕
様や、Ｒｈ層とＰｄ層を塗りわけた仕様等が提案されて
いた。例えば、特開平２−５６２４７に示される様にゼ
オライトを主成分とする第１層の上に、Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒ
ｈ等の貴金属を主成分とする第２層を設けた排気ガス浄
化用触媒が提案されている。
【０００５】また、エンジン始動直後の低温時に排出さ
れる排気ガス中の炭化水素（「以下、コールドＨＣ」と
称す。）の低減を目的に、ＨＣを吸着材を用いて一時的
に貯蔵し、三元触媒が活性化した後脱離させ、三元触媒
で浄化する方法が検討されている。
れる排気ガス中の炭化水素（「以下、コールドＨＣ」と
称す。）の低減を目的に、ＨＣを吸着材を用いて一時的
に貯蔵し、三元触媒が活性化した後脱離させ、三元触媒
で浄化する方法が検討されている。
【０００６】かかるＨＣ吸着材を用いた発明としては、
例えば、特開平６−７４０１９号公報、特開平７−１４
４１１９号公報、特開平６−１４２４５７号公報、特開
平５−５９９４２号公報、特開平７−１０２９５７号公
報、等に開示されているものがある。
例えば、特開平６−７４０１９号公報、特開平７−１４
４１１９号公報、特開平６−１４２４５７号公報、特開
平５−５９９４２号公報、特開平７−１０２９５７号公
報、等に開示されているものがある。
【０００７】特開平６−７４０１９号公報は、排気流路
にバイパス流路を設け、エンジン始動直後のコールド時
に排出されるＨＣをバイパス流路に配置したＨＣ吸着材
に一旦吸着させ、その後流路を切り換え、下流の三元触
媒が活性化した後、排気ガスの一部をＨＣ吸着触媒に通
じ、脱離したＨＣを徐々に後段の三元触媒で浄化するシ
ステムを提案している。
にバイパス流路を設け、エンジン始動直後のコールド時
に排出されるＨＣをバイパス流路に配置したＨＣ吸着材
に一旦吸着させ、その後流路を切り換え、下流の三元触
媒が活性化した後、排気ガスの一部をＨＣ吸着触媒に通
じ、脱離したＨＣを徐々に後段の三元触媒で浄化するシ
ステムを提案している。
【０００８】また、特開平７−１４４１１９号公報は、
コールド時に前段の三元触媒に熱を奪わせ中段のＨＣ吸
着材の吸着効率を向上し、前段の三元触媒活性化後は、
タンデム配置した中段のＨＣ吸着材を介して後段の三元
触媒に反応熱を伝熱し易くし、後段の三元触媒での浄化
を促進するシステムを提案している。また、特開平６−
１４２４５７号公報は、低温域で吸着したＨＣが脱離す
る際に、脱離ＨＣを含む排気ガスを熱交換器で予熱し三
元触媒での浄化を促進するコールドＨＣ吸着除去システ
ムを提案している。
コールド時に前段の三元触媒に熱を奪わせ中段のＨＣ吸
着材の吸着効率を向上し、前段の三元触媒活性化後は、
タンデム配置した中段のＨＣ吸着材を介して後段の三元
触媒に反応熱を伝熱し易くし、後段の三元触媒での浄化
を促進するシステムを提案している。また、特開平６−
１４２４５７号公報は、低温域で吸着したＨＣが脱離す
る際に、脱離ＨＣを含む排気ガスを熱交換器で予熱し三
元触媒での浄化を促進するコールドＨＣ吸着除去システ
ムを提案している。
【０００９】一方、特開平５−５９９４２号公報は、触
媒配置とバルブによる排気ガスの流路を切り換えによっ
て、ＨＣ吸着材の昇温を緩慢にし、コールドＨＣの吸着
効率を向上するシステムを提案している。特開平７−１
０２９５７号公報は、後段の酸化・三元触媒の浄化性能
を向上するため、前段の三元触媒と中段のＨＣ吸着材の
間に空気を供給し、後段の酸化・三元触媒の活性化を促
進するシステムを提案している。
媒配置とバルブによる排気ガスの流路を切り換えによっ
て、ＨＣ吸着材の昇温を緩慢にし、コールドＨＣの吸着
効率を向上するシステムを提案している。特開平７−１
０２９５７号公報は、後段の酸化・三元触媒の浄化性能
を向上するため、前段の三元触媒と中段のＨＣ吸着材の
間に空気を供給し、後段の酸化・三元触媒の活性化を促
進するシステムを提案している。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】前記の如きゼオライト
層の上に三元層を設けた排気ガス浄化用触媒では、内燃
機関の始動直後の排気ガス低温域においてゼオライトに
吸着されたＨＣが、排気ガス温度の上昇に伴い脱離して
くる際、排気ガスがリッチになるため、理論空燃比域で
の浄化に有効な三元触媒が十分に働かず、ＨＣ，ＣＯ，
ＮＯｘのバランスのよい浄化ができなくなるという問題
がある。また、従来では、ゼオライト三元層のコート層
比率に関しては、特に提示していなかったが、ＨＣ吸着
触媒では、ゼオライトと三元層の構造が最適でないと、
ＨＣ吸着・脱離・浄化のサイクルが有効に行なわれない
という問題がある。
層の上に三元層を設けた排気ガス浄化用触媒では、内燃
機関の始動直後の排気ガス低温域においてゼオライトに
吸着されたＨＣが、排気ガス温度の上昇に伴い脱離して
くる際、排気ガスがリッチになるため、理論空燃比域で
の浄化に有効な三元触媒が十分に働かず、ＨＣ，ＣＯ，
ＮＯｘのバランスのよい浄化ができなくなるという問題
がある。また、従来では、ゼオライト三元層のコート層
比率に関しては、特に提示していなかったが、ＨＣ吸着
触媒では、ゼオライトと三元層の構造が最適でないと、
ＨＣ吸着・脱離・浄化のサイクルが有効に行なわれない
という問題がある。
【００１１】一方、〔従来の技術〕の項において述べた
前記公報中に記載されたＨＣ吸着材を用いたシステムで
は、ＨＣ吸着材の耐久性が不充分なため、耐久後にはＨ
Ｃ吸着効率が低下し、しかも、後段の三元触媒が活性化
する前にＨＣが脱離しエミッションを悪化させてしま
う。そこで、ＨＣ吸着材の吸着効率の向上や脱離遅延化
を図るため、高温ガスのバイパス法や三元触媒暖機のた
めの熱交換器が使用されているが、システム構成が煩雑
化し十分な効果が得られず、しかも、コストが著しく上
昇する。このため、耐久性と吸着効率の高いＨＣ吸着材
が望まれている。
前記公報中に記載されたＨＣ吸着材を用いたシステムで
は、ＨＣ吸着材の耐久性が不充分なため、耐久後にはＨ
Ｃ吸着効率が低下し、しかも、後段の三元触媒が活性化
する前にＨＣが脱離しエミッションを悪化させてしま
う。そこで、ＨＣ吸着材の吸着効率の向上や脱離遅延化
を図るため、高温ガスのバイパス法や三元触媒暖機のた
めの熱交換器が使用されているが、システム構成が煩雑
化し十分な効果が得られず、しかも、コストが著しく上
昇する。このため、耐久性と吸着効率の高いＨＣ吸着材
が望まれている。
【００１２】特に、ＨＣ吸着材から脱離するＨＣの浄化
を目的とした三元触媒は、初期から耐久後まで高い浄化
性能を維持するため貴金属を多量に使用したり、早期活
性化を図るため空気を導入している。このため、使用す
る貴金属量が少なくても高い性能が得られる触媒が望ま
れているが、貴金属量を低減した場合、耐久性が不十分
で、耐久後は低温域での触媒活性や浄化性能が悪化する
という問題点があった
を目的とした三元触媒は、初期から耐久後まで高い浄化
性能を維持するため貴金属を多量に使用したり、早期活
性化を図るため空気を導入している。このため、使用す
る貴金属量が少なくても高い性能が得られる触媒が望ま
れているが、貴金属量を低減した場合、耐久性が不十分
で、耐久後は低温域での触媒活性や浄化性能が悪化する
という問題点があった
【００１３】
【課題を解決するための手段】この発明は、このような
従来の排気ガス浄化用触媒に対して、触媒成分担持層を
有する一体構造型排気ガス浄化用触媒であって、モノリ
ス担体上に、ゼオライトを主成分とする炭化水素吸着材
を含む第１層を設け、該第１層の上に触媒成分としてパ
ラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）
からなる群より選ばれた少なくとも一種を含む触媒成分
層を設けて成り、該ゼオライトを主成分とする炭化水素
吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈからなる群より選ばれ
た少なくとも一種を含む触媒成分層の重量比が９：１か
ら１：４とすることを特徴とする排気ガス浄化用触媒と
することで、上記問題点を解決することを目的としてい
る。
従来の排気ガス浄化用触媒に対して、触媒成分担持層を
有する一体構造型排気ガス浄化用触媒であって、モノリ
ス担体上に、ゼオライトを主成分とする炭化水素吸着材
を含む第１層を設け、該第１層の上に触媒成分としてパ
ラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）
からなる群より選ばれた少なくとも一種を含む触媒成分
層を設けて成り、該ゼオライトを主成分とする炭化水素
吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈからなる群より選ばれ
た少なくとも一種を含む触媒成分層の重量比が９：１か
ら１：４とすることを特徴とする排気ガス浄化用触媒と
することで、上記問題点を解決することを目的としてい
る。
【００１４】すなわち、本発明にかかる排気ガス浄化用
触媒（以下、第一の発明という）は、この発明は、触媒
成分担持層を有する一体構造型排気ガス浄化用触媒であ
って、モノリス担体上に、ゼオライトを主成分とする炭
化水素吸着材を含む第１層を設け、該第１層の上に触媒
成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジ
ウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた少なくとも一種を
含む触媒成分層を設けて成り、該ゼオライトを主成分と
する炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈからなる
群より選ばれた少なくとも一種を含む触媒成分層の重量
比が９：１から１：４である触媒成分層を、ＧＳＡ（Ge
ometrical Surface Area：幾何学的表面積）が１０ｃｍ
2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 のモノリス担体に担持
することを特徴とする。
触媒（以下、第一の発明という）は、この発明は、触媒
成分担持層を有する一体構造型排気ガス浄化用触媒であ
って、モノリス担体上に、ゼオライトを主成分とする炭
化水素吸着材を含む第１層を設け、該第１層の上に触媒
成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジ
ウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた少なくとも一種を
含む触媒成分層を設けて成り、該ゼオライトを主成分と
する炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈからなる
群より選ばれた少なくとも一種を含む触媒成分層の重量
比が９：１から１：４である触媒成分層を、ＧＳＡ（Ge
ometrical Surface Area：幾何学的表面積）が１０ｃｍ
2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 のモノリス担体に担持
することを特徴とする。
【００１５】更に、第一発明の好適な実施態様は、排気
ガス浄化用触媒のＨＣ吸着・脱離能特性と脱離ＨＣの浄
化性能を有効に発現するため、モノリス担体上に、炭化
水素の吸着に有効なβーゼオライトを含む少なくとも１
種以上のゼオライトを主成分とする第１層を設け、該第
１層の上に触媒成分としてＰｄを含有するかもしくはＰ
ｄとＲｈを含有する第２層を設けるか、又は、該第２層
の上に触媒成分としてＲｈを含有する第３層を設けて成
り、該第１層と、該第２層及び第３層の三元触媒層（以
下、三元層とも言う）の総コート重量比率が５：１〜
１：２である触媒成分層を、ＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ
3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 のモノリス担体に担持し、更に
前記モノリス担体にアルカリ金属及びアルカリ土類金属
からなる群より選ばれた少なくとも一種を含有せしめた
ことを特徴とする。
ガス浄化用触媒のＨＣ吸着・脱離能特性と脱離ＨＣの浄
化性能を有効に発現するため、モノリス担体上に、炭化
水素の吸着に有効なβーゼオライトを含む少なくとも１
種以上のゼオライトを主成分とする第１層を設け、該第
１層の上に触媒成分としてＰｄを含有するかもしくはＰ
ｄとＲｈを含有する第２層を設けるか、又は、該第２層
の上に触媒成分としてＲｈを含有する第３層を設けて成
り、該第１層と、該第２層及び第３層の三元触媒層（以
下、三元層とも言う）の総コート重量比率が５：１〜
１：２である触媒成分層を、ＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ
3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 のモノリス担体に担持し、更に
前記モノリス担体にアルカリ金属及びアルカリ土類金属
からなる群より選ばれた少なくとも一種を含有せしめた
ことを特徴とする。
【００１６】更に、第一発明の好適な実施態様は、排気
ガス浄化用触媒のＨＣ吸着・脱離能特性を有効に発現す
るため、該第１層のゼオライト種がＳｉ／２Ａｌ比１０
〜５００のＨ型β−ゼオライトを主成分としたこと特徴
とする。
ガス浄化用触媒のＨＣ吸着・脱離能特性を有効に発現す
るため、該第１層のゼオライト種がＳｉ／２Ａｌ比１０
〜５００のＨ型β−ゼオライトを主成分としたこと特徴
とする。
【００１７】更に、第一発明の好適な実施態様は、排気
ガス浄化用触媒のＨＣ吸着能を、排ガス中ＨＣの多種分
子径に対して、幅広い吸着能を発現させるため、該第１
層の主成分であるＨ型β−ゼオライトと共に、更にＭＦ
Ｉ、Ｙ型、ＵＳＹ、モルデナイト、フェリエライト、Ａ
型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト、ＡｌＰＯ4 及びＳＡＰ
Ｏのうち少なくとも一種を用いることを特徴とする。
ガス浄化用触媒のＨＣ吸着能を、排ガス中ＨＣの多種分
子径に対して、幅広い吸着能を発現させるため、該第１
層の主成分であるＨ型β−ゼオライトと共に、更にＭＦ
Ｉ、Ｙ型、ＵＳＹ、モルデナイト、フェリエライト、Ａ
型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト、ＡｌＰＯ4 及びＳＡＰ
Ｏのうち少なくとも一種を用いることを特徴とする。
【００１８】更に、第一発明の好適な実施態様は、排気
ガス浄化用触媒のゼオライトの耐熱性及び構造安定性の
向上を図るために、更に、該第１層のゼオライトに、Ｐ
ｄ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ａｇ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，
Ｎｄ，Ｐ，Ｂ及びＺｒから選ばれた少なくとも一種が含
有されることを特徴とする。
ガス浄化用触媒のゼオライトの耐熱性及び構造安定性の
向上を図るために、更に、該第１層のゼオライトに、Ｐ
ｄ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ａｇ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，
Ｎｄ，Ｐ，Ｂ及びＺｒから選ばれた少なくとも一種が含
有されることを特徴とする。
【００１９】更に、第一発明の好適な実施態様は、排気
ガス浄化用触媒の三元層の耐被毒性を向上させるため
に、更に、第２及び第３層の少なくともいずれかに、更
にＰｔを共存させることを特徴とする。
ガス浄化用触媒の三元層の耐被毒性を向上させるため
に、更に、第２及び第３層の少なくともいずれかに、更
にＰｔを共存させることを特徴とする。
【００２０】更に、第一発明の好適な実施態様は、排気
ガス浄化用触媒のゼオライトを主成分とする吸着材層か
ら脱離するＨＣの浄化性能を向上するため、該１層のゼ
オライトを主成分とする炭化水素吸着材層に、ロジウム
と、セリウム、ネオジウム及びランタンからなる群より
選ばれた少なくとも一種を金属換算で１〜４０モル％含
むジルコニウム酸化物が含有されることを特徴とする。
ガス浄化用触媒のゼオライトを主成分とする吸着材層か
ら脱離するＨＣの浄化性能を向上するため、該１層のゼ
オライトを主成分とする炭化水素吸着材層に、ロジウム
と、セリウム、ネオジウム及びランタンからなる群より
選ばれた少なくとも一種を金属換算で１〜４０モル％含
むジルコニウム酸化物が含有されることを特徴とする。
【００２１】更に、第一発明の好適な実施態様は、排気
ガス浄化用触媒の低温活性及びストイキ雰囲気下におけ
る触媒活性や耐久性を向上させるために、該ゼオライト
を主成分とする炭化水素吸着材を含む第１層の上に設け
た、Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈからなる群より選ばれた少なく
とも一種を含む触媒成分層において、更に、セリウム、
ジルコニウム及びランタンからなる群より選ばれた少な
くとも一種を金属換算で１〜１０モル％含むアルミナ
と、ジルコニウム、ネオジウム及びランタンからなる群
より選ばれた一種を金属換算で１〜４０モル％含むセリ
ウム酸化物が含有されることを特徴とする。
ガス浄化用触媒の低温活性及びストイキ雰囲気下におけ
る触媒活性や耐久性を向上させるために、該ゼオライト
を主成分とする炭化水素吸着材を含む第１層の上に設け
た、Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈからなる群より選ばれた少なく
とも一種を含む触媒成分層において、更に、セリウム、
ジルコニウム及びランタンからなる群より選ばれた少な
くとも一種を金属換算で１〜１０モル％含むアルミナ
と、ジルコニウム、ネオジウム及びランタンからなる群
より選ばれた一種を金属換算で１〜４０モル％含むセリ
ウム酸化物が含有されることを特徴とする。
【００２２】更に、第一発明の好適な実施態様は、排気
ガス浄化用触媒のリッチ雰囲気下における触媒活性を更
に向上させるために、該ゼオライトを主成分とする炭化
水素吸着材を含む第１層の上に設けた、Ｐｄ、Ｐｔ及び
Ｒｈからなる群より選ばれた少なくとも一種を含む触媒
成分層において、更に、セリウム、ジルコニウム及びラ
ンタンからなる群より選ばれた少なくとも一種を金属換
算で１〜４０モル％含むジルコニウム酸化物が含有され
ることを特徴とする。
ガス浄化用触媒のリッチ雰囲気下における触媒活性を更
に向上させるために、該ゼオライトを主成分とする炭化
水素吸着材を含む第１層の上に設けた、Ｐｄ、Ｐｔ及び
Ｒｈからなる群より選ばれた少なくとも一種を含む触媒
成分層において、更に、セリウム、ジルコニウム及びラ
ンタンからなる群より選ばれた少なくとも一種を金属換
算で１〜４０モル％含むジルコニウム酸化物が含有され
ることを特徴とする。
【００２３】更に、第一発明の好適な実施態様は、排気
ガス浄化用触媒のゼオライトを主成分とする吸着材層か
らＨＣが脱離するのを遅延化するため、更に、ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材を含む第１層と、該第
１層の上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金
（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた
少なくとも一種を含む触媒成分層を設けて成り、該ゼオ
ライトを主成分とする炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ
及びＲｈからなる群より選ばれた少なくとも一種を含む
触媒成分層の重量比が９：１から１：４である触媒成分
層を、セル数が５０〜６００のモノリス担体に担持する
ことを特徴とする。
ガス浄化用触媒のゼオライトを主成分とする吸着材層か
らＨＣが脱離するのを遅延化するため、更に、ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材を含む第１層と、該第
１層の上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金
（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた
少なくとも一種を含む触媒成分層を設けて成り、該ゼオ
ライトを主成分とする炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ
及びＲｈからなる群より選ばれた少なくとも一種を含む
触媒成分層の重量比が９：１から１：４である触媒成分
層を、セル数が５０〜６００のモノリス担体に担持する
ことを特徴とする。
【００２４】更に、第一発明の好適な実施態様は、排気
ガス浄化用触媒のゼオライトを主成分とする吸着材層か
らＨＣが脱離するのを遅延化するため、更に、ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材を含む第１層と、該第
１層の上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金
（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた
少なくとも一種を含む触媒成分層を設けて成り、該ゼオ
ライトを主成分とする炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ
及びＲｈからなる群より選ばれた少なくとも一種を含む
触媒成分層の重量比が９：１から１：４である触媒成分
層を、水力直径が０．７５ｍｍ〜５ｍｍのモノリス担体
に担持することを特徴とする。
ガス浄化用触媒のゼオライトを主成分とする吸着材層か
らＨＣが脱離するのを遅延化するため、更に、ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材を含む第１層と、該第
１層の上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金
（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた
少なくとも一種を含む触媒成分層を設けて成り、該ゼオ
ライトを主成分とする炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ
及びＲｈからなる群より選ばれた少なくとも一種を含む
触媒成分層の重量比が９：１から１：４である触媒成分
層を、水力直径が０．７５ｍｍ〜５ｍｍのモノリス担体
に担持することを特徴とする。
【００２５】更に、第一発明の好適な実施態様は、排気
ガス浄化用触媒のゼオライトを主成分とする吸着材層か
らＨＣが脱離するのを遅延化するため、更に、ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材を含む第１層と、該第
１層の上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金
（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた
少なくとも一種を含む触媒成分層を設けて成り、該ゼオ
ライトを主成分とする炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ
及びＲｈからなる群より選ばれた少なくとも一種を含む
触媒成分層の重量比が９：１から１：４である触媒成分
層を、モノリス担体のセル内の平坦部のコート層厚みが
３０μｍ〜４００μｍになるように担持することを特徴
とする。
ガス浄化用触媒のゼオライトを主成分とする吸着材層か
らＨＣが脱離するのを遅延化するため、更に、ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材を含む第１層と、該第
１層の上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金
（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた
少なくとも一種を含む触媒成分層を設けて成り、該ゼオ
ライトを主成分とする炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ
及びＲｈからなる群より選ばれた少なくとも一種を含む
触媒成分層の重量比が９：１から１：４である触媒成分
層を、モノリス担体のセル内の平坦部のコート層厚みが
３０μｍ〜４００μｍになるように担持することを特徴
とする。
【００２６】更に、本発明者らは、上記課題を解決する
ために研究した結果、内燃機関から排出されるエンジン
始動直後の低温排気ガスの浄化において、炭化水素吸着
触媒が、β−ゼオライトを主成分とする炭化水素吸着材
層の上部に、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロ
ジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた少なくとも一種
を含む三元触媒成分層を配置した多層構造の一体型炭化
水素吸着触媒であって、β−ゼオライトを主成分とする
炭化水素吸着材層と該三元触媒層との重量比率が、９：
１から１：４とすることを特徴とする排気ガス浄化用触
媒を用いることによって、コールドＨＣの吸着効率と脱
離ＨＣの浄化性能が著しく向上・維持されることを見出
した。
ために研究した結果、内燃機関から排出されるエンジン
始動直後の低温排気ガスの浄化において、炭化水素吸着
触媒が、β−ゼオライトを主成分とする炭化水素吸着材
層の上部に、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロ
ジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた少なくとも一種
を含む三元触媒成分層を配置した多層構造の一体型炭化
水素吸着触媒であって、β−ゼオライトを主成分とする
炭化水素吸着材層と該三元触媒層との重量比率が、９：
１から１：４とすることを特徴とする排気ガス浄化用触
媒を用いることによって、コールドＨＣの吸着効率と脱
離ＨＣの浄化性能が著しく向上・維持されることを見出
した。
【００２７】すなわち、本発明の排気ガス浄化用触媒
は、内燃機関から排出されるエンジン始動直後の低温排
気ガスの浄化を特に意図したものであり、β−ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材層の上部に、パラジウ
ム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からな
る群より選ばれた少なくとも一種を含む三元触媒成分層
を配置した多層構造の一体型炭化水素吸着触媒であっ
て、β−ゼオライトを主成分とする炭化水素吸着材層と
該三元触媒層との重量比率が、９：１から１：４である
触媒成分層を、ＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ
2 ／ｃｍ3 のモノリス担体に担持することを特徴とす
る。
は、内燃機関から排出されるエンジン始動直後の低温排
気ガスの浄化を特に意図したものであり、β−ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材層の上部に、パラジウ
ム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からな
る群より選ばれた少なくとも一種を含む三元触媒成分層
を配置した多層構造の一体型炭化水素吸着触媒であっ
て、β−ゼオライトを主成分とする炭化水素吸着材層と
該三元触媒層との重量比率が、９：１から１：４である
触媒成分層を、ＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ
2 ／ｃｍ3 のモノリス担体に担持することを特徴とす
る。
【００２８】また、すなわち、本発明の排気ガス浄化用
触媒（以下、第二の発明という）は、β−ゼオライトを
主成分とする炭化水素吸着材層の上部に、パラジウム
（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる
群より選ばれた少なくとも一種を含む三元触媒成分層を
配置した多層構造の一体型炭化水素吸着触媒であって、
β−ゼオライトを主成分とする炭化水素吸着材層と該三
元触媒層との重量比率が、５：１〜１：２である触媒成
分層を、ＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ 2 ／ｃ
ｍ3 のモノリス担体に担持することを特徴とする。本発
明の排気ガス浄化装置は、第一発明の一体構造型排気ガ
ス浄化用触媒が吸着する炭化水素量を、該炭化水素吸着
触媒の炭化水素飽和吸着量の７０％以下に設定すること
を特徴とする。
触媒（以下、第二の発明という）は、β−ゼオライトを
主成分とする炭化水素吸着材層の上部に、パラジウム
（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる
群より選ばれた少なくとも一種を含む三元触媒成分層を
配置した多層構造の一体型炭化水素吸着触媒であって、
β−ゼオライトを主成分とする炭化水素吸着材層と該三
元触媒層との重量比率が、５：１〜１：２である触媒成
分層を、ＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ 2 ／ｃ
ｍ3 のモノリス担体に担持することを特徴とする。本発
明の排気ガス浄化装置は、第一発明の一体構造型排気ガ
ス浄化用触媒が吸着する炭化水素量を、該炭化水素吸着
触媒の炭化水素飽和吸着量の７０％以下に設定すること
を特徴とする。
【００２９】本発明の排気ガス浄化装置（以下、第三の
発明という）は、前記第一の発明の排気ガス浄化用触媒
の前段に、パラジウム、白金及びロジウムからなる群よ
り選ばれた少なくとも一種を含み、また、パラジウムの
担持濃度として、４重量％以上、２０重量％以下となる
ように担持した粉末を含有し、且つ、パラジウムの担持
量が１００ｇ／ｃｆ（３．５ｇ/Ｌ）以上、１０００ｇ
／ｃｆ（３５．４ｇ／Ｌ）以下であることを特徴とする
排気ガス浄化触媒を配置し、該炭化水素吸着触媒が吸着
する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽和
吸着量の７０％以下に設定することを特徴とする。
発明という）は、前記第一の発明の排気ガス浄化用触媒
の前段に、パラジウム、白金及びロジウムからなる群よ
り選ばれた少なくとも一種を含み、また、パラジウムの
担持濃度として、４重量％以上、２０重量％以下となる
ように担持した粉末を含有し、且つ、パラジウムの担持
量が１００ｇ／ｃｆ（３．５ｇ/Ｌ）以上、１０００ｇ
／ｃｆ（３５．４ｇ／Ｌ）以下であることを特徴とする
排気ガス浄化触媒を配置し、該炭化水素吸着触媒が吸着
する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽和
吸着量の７０％以下に設定することを特徴とする。
【００３０】また、本発明の排気ガス浄化装置（以下、
第四の発明という）は、前記第一の発明の排気ガス浄化
用触媒の前段に、パラジウム、白金及びロジウムからな
る群より選ばれた少なくとも一種を含み、パラジウムの
担持濃度として、４重量％以上、１５重量％以下となる
ように担持した粉末を含有し、且つ、パラジウムの担持
量が１００ｇ／ｃｆ（３．５ｇ/Ｌ）以上、５００ｇ／
ｃｆ（１７．７ｇ／Ｌ）以下であることを特徴とする排
気ガス浄化触媒を配置し、該パラジウムを含む排気ガス
浄化触媒で、該炭化水素吸着触媒が吸着する炭化水素量
を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽和吸着量の７０％
以下に設定することを特徴とする。
第四の発明という）は、前記第一の発明の排気ガス浄化
用触媒の前段に、パラジウム、白金及びロジウムからな
る群より選ばれた少なくとも一種を含み、パラジウムの
担持濃度として、４重量％以上、１５重量％以下となる
ように担持した粉末を含有し、且つ、パラジウムの担持
量が１００ｇ／ｃｆ（３．５ｇ/Ｌ）以上、５００ｇ／
ｃｆ（１７．７ｇ／Ｌ）以下であることを特徴とする排
気ガス浄化触媒を配置し、該パラジウムを含む排気ガス
浄化触媒で、該炭化水素吸着触媒が吸着する炭化水素量
を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽和吸着量の７０％
以下に設定することを特徴とする。
【００３１】更に、第四の発明の好ましい実施態様は、
第一の発明の排気ガス浄化用触媒の前段に、前記第三の
発明の排気ガス浄化用触媒を配置する浄化装置におい
て、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化効率
を向上させるために、エンジン始動時の点火時期を遅く
らせエンジン始動直後のコールド空燃比を希薄化するこ
とによって、前記第一の発明の排気ガス浄化用触媒の活
性化を速め、前記第一の発明の排気ガス浄化用触媒が吸
着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽
和吸着量の７０％以下に設定することを特徴とする。
第一の発明の排気ガス浄化用触媒の前段に、前記第三の
発明の排気ガス浄化用触媒を配置する浄化装置におい
て、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化効率
を向上させるために、エンジン始動時の点火時期を遅く
らせエンジン始動直後のコールド空燃比を希薄化するこ
とによって、前記第一の発明の排気ガス浄化用触媒の活
性化を速め、前記第一の発明の排気ガス浄化用触媒が吸
着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽
和吸着量の７０％以下に設定することを特徴とする。
【００３２】更に、第四の発明の好ましい実施態様は、
第一の発明の排気ガス浄化用触媒の前段に、前記第三の
発明の排気ガス浄化用触媒を配置する浄化装置におい
て、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化効率
を向上させるために、空気を供給しエンジン始動直後の
コールド空燃比を希薄化することによって、炭化水素吸
着触媒の前段に配置した該パラジウムを含む排気ガス浄
化触媒の活性化を速め、該炭化水素吸着触媒が吸着する
炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽和吸着
量の７０％以下に設定することを特徴とする。更に、第
三及び四の発明の好ましい実施態様は、エンジン始動時
（ファーストアイドル）の点火時期を、エンジン始動直
後から４０秒以下、点火時期（上死点から）を１°以
上、３０°以下遅角することにより、排気温度の上昇を
速め、炭化水素吸着触媒の前段に配置した該パラジウム
を含む排気ガス浄化触媒の活性化を速め、該炭化水素吸
着触媒が吸着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の
炭化水素飽和吸着量の７０％以下に設定することを特徴
とする。更に、第三及び四の発明の好ましい実施態様
は、エンジン始動直後から６０秒間、空気流量１０Ｌ／
分以上の空気を供給し、エンジン始動直後のコールド空
燃比を希薄化（Ａ／Ｆ＝１２〜１８）することによっ
て、炭化水素吸着触媒の前段に配置した該パラジウムを
含む排気ガス浄化触媒の活性化を速め、該炭化水素吸着
触媒が吸着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭
化水素飽和吸着量の７０％以下に設定することを特徴と
する。
第一の発明の排気ガス浄化用触媒の前段に、前記第三の
発明の排気ガス浄化用触媒を配置する浄化装置におい
て、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化効率
を向上させるために、空気を供給しエンジン始動直後の
コールド空燃比を希薄化することによって、炭化水素吸
着触媒の前段に配置した該パラジウムを含む排気ガス浄
化触媒の活性化を速め、該炭化水素吸着触媒が吸着する
炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽和吸着
量の７０％以下に設定することを特徴とする。更に、第
三及び四の発明の好ましい実施態様は、エンジン始動時
（ファーストアイドル）の点火時期を、エンジン始動直
後から４０秒以下、点火時期（上死点から）を１°以
上、３０°以下遅角することにより、排気温度の上昇を
速め、炭化水素吸着触媒の前段に配置した該パラジウム
を含む排気ガス浄化触媒の活性化を速め、該炭化水素吸
着触媒が吸着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の
炭化水素飽和吸着量の７０％以下に設定することを特徴
とする。更に、第三及び四の発明の好ましい実施態様
は、エンジン始動直後から６０秒間、空気流量１０Ｌ／
分以上の空気を供給し、エンジン始動直後のコールド空
燃比を希薄化（Ａ／Ｆ＝１２〜１８）することによっ
て、炭化水素吸着触媒の前段に配置した該パラジウムを
含む排気ガス浄化触媒の活性化を速め、該炭化水素吸着
触媒が吸着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭
化水素飽和吸着量の７０％以下に設定することを特徴と
する。
【００３３】更に、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、該炭化水素吸着触媒から炭化
水素の脱離が開始する直前に、該炭化水素吸着触媒の上
流、または、該炭化水素吸着触媒中に、酸素あるいは／
又は空気を添加することを特徴とする。
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、該炭化水素吸着触媒から炭化
水素の脱離が開始する直前に、該炭化水素吸着触媒の上
流、または、該炭化水素吸着触媒中に、酸素あるいは／
又は空気を添加することを特徴とする。
【００３４】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、炭化水素吸着触媒の前部に設
置された温度検出器の検出値が所定温度（例えば、１１
０度）以上になった時に、炭化水素吸着触媒の後部分に
設置したＡ／Ｆ検知器が１４．６以上になるように、該
炭化水素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触媒
中に、酸素あるいは／又は空気を添加することを特徴と
する。
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、炭化水素吸着触媒の前部に設
置された温度検出器の検出値が所定温度（例えば、１１
０度）以上になった時に、炭化水素吸着触媒の後部分に
設置したＡ／Ｆ検知器が１４．６以上になるように、該
炭化水素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触媒
中に、酸素あるいは／又は空気を添加することを特徴と
する。
【００３５】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、炭化水素吸着触媒の触媒層中
に挿入された温度検出器の検出値が所定温度（例えば、
６５度）以上になった時に、炭化水素吸着触媒の後部分
に設置したＡ／Ｆ検知器が１４．６以上になるように、
該炭化水素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触
媒中に、酸素あるいは／又は空気を添加することを特徴
とする。
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、炭化水素吸着触媒の触媒層中
に挿入された温度検出器の検出値が所定温度（例えば、
６５度）以上になった時に、炭化水素吸着触媒の後部分
に設置したＡ／Ｆ検知器が１４．６以上になるように、
該炭化水素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触
媒中に、酸素あるいは／又は空気を添加することを特徴
とする。
【００３６】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、炭化水素吸着触媒の前部分と
後部分に設置したＡ／Ｆ検知器の検出値から炭化水素の
脱離が検知された時に、炭化水素吸着触媒の後部分に配
置したＡ／Ｆ検知器がＡ／Ｆ＝１４．６以上になるよう
に、該炭化水素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸
着触媒中に、酸素あるいは／又は空気を添加することを
特徴とする。
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、炭化水素吸着触媒の前部分と
後部分に設置したＡ／Ｆ検知器の検出値から炭化水素の
脱離が検知された時に、炭化水素吸着触媒の後部分に配
置したＡ／Ｆ検知器がＡ／Ｆ＝１４．６以上になるよう
に、該炭化水素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸
着触媒中に、酸素あるいは／又は空気を添加することを
特徴とする。
【００３７】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、ホット域での未浄化成分（ＨＣ，ＣＯ，ＮＯx
）を効率良く浄化するため、排気ガス上流に配置した
パラジウム、白金及びロジウムからなる群より選ばれた
少なくとも一種を含む三元触媒に含まれるロジウム量
が、下流側に配置した炭化水素吸着触媒に含まれるロジ
ウム量より少ないことを特徴とする。
態様は、ホット域での未浄化成分（ＨＣ，ＣＯ，ＮＯx
）を効率良く浄化するため、排気ガス上流に配置した
パラジウム、白金及びロジウムからなる群より選ばれた
少なくとも一種を含む三元触媒に含まれるロジウム量
が、下流側に配置した炭化水素吸着触媒に含まれるロジ
ウム量より少ないことを特徴とする。
【００３８】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、ホット域での未浄化成分（ＨＣ，ＣＯ，ＮＯx
）を効率良く浄化するため、排気ガス上流に配置した
三元触媒に含まれるロジウム量と下流側に配置した炭化
水素吸着触媒に含まれるロジウム量の重量比が、等量
（１／１）以下であることを特徴とする。
態様は、ホット域での未浄化成分（ＨＣ，ＣＯ，ＮＯx
）を効率良く浄化するため、排気ガス上流に配置した
三元触媒に含まれるロジウム量と下流側に配置した炭化
水素吸着触媒に含まれるロジウム量の重量比が、等量
（１／１）以下であることを特徴とする。
【００３９】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、排気ガス上流にパラジウム、
白金及びロジウムからなる群より選ばれた少なくとも一
種を含む三元触媒を配置し、その下流に炭化水素吸着触
媒を二個以上配置することを特徴とする。
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、排気ガス上流にパラジウム、
白金及びロジウムからなる群より選ばれた少なくとも一
種を含む三元触媒を配置し、その下流に炭化水素吸着触
媒を二個以上配置することを特徴とする。
【００４０】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、排気ガス上流にパラジウム、
白金及びロジウムからなる群より選ばれた少なくとも一
種を含む三元触媒を配置し、その下流に炭化水素吸着触
媒を二個以上配置し、該複数個の炭化水素吸着触媒が、
エンジンからの距離が異なる位置に設けられ、各炭化水
素吸着触媒の昇温速度が異なることを特徴とする。
態様は、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化水素の浄化
効率を向上させるために、排気ガス上流にパラジウム、
白金及びロジウムからなる群より選ばれた少なくとも一
種を含む三元触媒を配置し、その下流に炭化水素吸着触
媒を二個以上配置し、該複数個の炭化水素吸着触媒が、
エンジンからの距離が異なる位置に設けられ、各炭化水
素吸着触媒の昇温速度が異なることを特徴とする。
【００４１】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、低温域で排出される種々の炭化水素の吸着能を
向上するため、βーゼオライトを主成分とした炭化水素
吸着材層中に、更に、モルデナイト、Ｙ、ＵＳＹ、ＺＳ
Ｍ５からなる群より選ばれた少なくとも１種を５重量％
から４５重量％含有することを特徴とする。
態様は、低温域で排出される種々の炭化水素の吸着能を
向上するため、βーゼオライトを主成分とした炭化水素
吸着材層中に、更に、モルデナイト、Ｙ、ＵＳＹ、ＺＳ
Ｍ５からなる群より選ばれた少なくとも１種を５重量％
から４５重量％含有することを特徴とする。
【００４２】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、炭化水素吸着材の構造安定性及び吸着能を向上
するため、白金、パラジウム、リン、ホウ素、マグネシ
ウム及びカルシウムからなる群より選ばれた少なくとも
一種を含有することを特徴とする。
態様は、炭化水素吸着材の構造安定性及び吸着能を向上
するため、白金、パラジウム、リン、ホウ素、マグネシ
ウム及びカルシウムからなる群より選ばれた少なくとも
一種を含有することを特徴とする。
【００４３】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、炭化水素吸着層で吸着した炭化水素が触媒層温
度の上昇に伴って脱離する際に浄化するため、上部に、
パラジウムとジルコニウム、ネオジウム及びランタンか
らなる群より選ばれた一種を金属換算で１〜４０モル
％、セリウムを６０〜９８モル％含むセリウム酸化物を
含有する触媒成分層を配置することを特徴とする。
態様は、炭化水素吸着層で吸着した炭化水素が触媒層温
度の上昇に伴って脱離する際に浄化するため、上部に、
パラジウムとジルコニウム、ネオジウム及びランタンか
らなる群より選ばれた一種を金属換算で１〜４０モル
％、セリウムを６０〜９８モル％含むセリウム酸化物を
含有する触媒成分層を配置することを特徴とする。
【００４４】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、脱離する炭化水素の浄化性能を向上するため、
上部に、更に、白金、ロジウム、セリウム、ネオジウム
及びランタンからなる群より選ばれた一種を金属換算で
１〜３０モル％、ジルコニウムを７０〜９８モル％含む
ジルコニウム酸化物、活性アルミナを含有する触媒成分
層を配置することを特徴とする。
態様は、脱離する炭化水素の浄化性能を向上するため、
上部に、更に、白金、ロジウム、セリウム、ネオジウム
及びランタンからなる群より選ばれた一種を金属換算で
１〜３０モル％、ジルコニウムを７０〜９８モル％含む
ジルコニウム酸化物、活性アルミナを含有する触媒成分
層を配置することを特徴とする。
【００４５】また、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様は、脱離する炭化水素の浄化性能を向上するため、
炭化水素吸着材層の上部に三元触媒成分層を配置した触
媒に、更に、アルカリ金属及びアルカリ土類金属からな
る群より選ばれた少なくとも一種が含有されることを特
徴とする。
態様は、脱離する炭化水素の浄化性能を向上するため、
炭化水素吸着材層の上部に三元触媒成分層を配置した触
媒に、更に、アルカリ金属及びアルカリ土類金属からな
る群より選ばれた少なくとも一種が含有されることを特
徴とする。
【００４６】
【００４７】まず、本発明の実施の態様について説明す
る。本発明の排気ガス浄化用触媒のコート層構造は、モ
ノリス担体上に炭化水素の吸着に有効なβーゼオライト
を含む少なくとも１種以上のゼオライト主成分とする第
１層を設け、更に該第１層の上に触媒成分としてパラジ
ウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）から
なる群より選ばれた少なくとも一種を含む触媒成分層を
設ける。モノリス担体上にＨＣ吸着材であるゼオライ
ト、その上に三元層を設けることで、ゼオライトから脱
離してくるＨＣの後処理の効率化が図れる。更に、該ゼ
オライトを主成分とする第１層と該Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈ
からなる群より選ばれた少なくとも一種を含む第２層の
重量比が９：１から１：４である。当該規定値より三元
層の割合が多くなると、下層に配置されたゼオライト層
へのガス拡散が悪くなり、十分な吸着性能が得られな
い。当該規定値より三元層の割合が少なくなると、脱離
してくるＨＣの酸化性能及び排気ガスの浄化性能が十分
に得られなくなる。更に、該第１層と該第２層を設ける
モノリス担体のＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ 3 〜３５ｃｍ
2 ／ｃｍ3 である。当該規定値よりＧＳＡが大きくなる
と、ゼオライト層のＨＣの脱離が速くなり、未浄化のま
ま排出される脱離ＨＣが増える。また、当該規定値より
小さいと、排気ガスと三元層との接触が悪くなり排気ガ
ス成分の浄化性能が十分に得られなくなる。
る。本発明の排気ガス浄化用触媒のコート層構造は、モ
ノリス担体上に炭化水素の吸着に有効なβーゼオライト
を含む少なくとも１種以上のゼオライト主成分とする第
１層を設け、更に該第１層の上に触媒成分としてパラジ
ウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）から
なる群より選ばれた少なくとも一種を含む触媒成分層を
設ける。モノリス担体上にＨＣ吸着材であるゼオライ
ト、その上に三元層を設けることで、ゼオライトから脱
離してくるＨＣの後処理の効率化が図れる。更に、該ゼ
オライトを主成分とする第１層と該Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈ
からなる群より選ばれた少なくとも一種を含む第２層の
重量比が９：１から１：４である。当該規定値より三元
層の割合が多くなると、下層に配置されたゼオライト層
へのガス拡散が悪くなり、十分な吸着性能が得られな
い。当該規定値より三元層の割合が少なくなると、脱離
してくるＨＣの酸化性能及び排気ガスの浄化性能が十分
に得られなくなる。更に、該第１層と該第２層を設ける
モノリス担体のＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ 3 〜３５ｃｍ
2 ／ｃｍ3 である。当該規定値よりＧＳＡが大きくなる
と、ゼオライト層のＨＣの脱離が速くなり、未浄化のま
ま排出される脱離ＨＣが増える。また、当該規定値より
小さいと、排気ガスと三元層との接触が悪くなり排気ガ
ス成分の浄化性能が十分に得られなくなる。
【００４８】次に第一の発明の実施の態様について説明
する。第一発明の好適な実施態様は、排気ガス浄化用触
媒のＨＣ吸着・脱離能特性と脱離ＨＣの浄化性能を有効
に発現するため、モノリス担体上に、炭化水素の吸着に
有効なβーゼオライトを含む少なくとも１種以上のゼオ
ライトを主成分とする第１層を設け、該第１層の上に触
媒成分としてＰｄを含有する第２層を設け、更に、該第
２層にＲｈを含有せしめるか、あるいは、該第２層の上
に触媒成分としてＲｈを含有する第３層を設ける。モノ
リス担体上にＨＣ吸着材であるゼオライト、その上に三
元層を設けることで、ゼオライトから脱離してくるＨＣ
の後処理の効率化が図れる。
する。第一発明の好適な実施態様は、排気ガス浄化用触
媒のＨＣ吸着・脱離能特性と脱離ＨＣの浄化性能を有効
に発現するため、モノリス担体上に、炭化水素の吸着に
有効なβーゼオライトを含む少なくとも１種以上のゼオ
ライトを主成分とする第１層を設け、該第１層の上に触
媒成分としてＰｄを含有する第２層を設け、更に、該第
２層にＲｈを含有せしめるか、あるいは、該第２層の上
に触媒成分としてＲｈを含有する第３層を設ける。モノ
リス担体上にＨＣ吸着材であるゼオライト、その上に三
元層を設けることで、ゼオライトから脱離してくるＨＣ
の後処理の効率化が図れる。
【００４９】更に、ゼオライト層の上に、触媒成分とし
てＨＣ酸化活性に優れたＰｄを配置し、同一層内にＲｈ
を共存、あるいは、その上にＲｈ層を設けることで、脱
離ＨＣにより三元触媒層内がリッチ雰囲気になっても、
ＨＣ、ＣＯ，ＮＯx の浄化をバランス良く行うことがで
きる。更に、ＰやＰｂ等による被毒の影響を受けやすい
ＰｄにＲｈを共存、あるいは、内側に配置することで、
被毒の影響を少なくできる。また、下層に配置されたゼ
オライト層は、上層の三元層に比べて暖気が遅いため、
少しでも長く吸着したＨＣを保持でき、逆に三元層は早
く暖気し活性化されるため、ＨＣの吸着・脱離・浄化の
バランスが良い。
てＨＣ酸化活性に優れたＰｄを配置し、同一層内にＲｈ
を共存、あるいは、その上にＲｈ層を設けることで、脱
離ＨＣにより三元触媒層内がリッチ雰囲気になっても、
ＨＣ、ＣＯ，ＮＯx の浄化をバランス良く行うことがで
きる。更に、ＰやＰｂ等による被毒の影響を受けやすい
ＰｄにＲｈを共存、あるいは、内側に配置することで、
被毒の影響を少なくできる。また、下層に配置されたゼ
オライト層は、上層の三元層に比べて暖気が遅いため、
少しでも長く吸着したＨＣを保持でき、逆に三元層は早
く暖気し活性化されるため、ＨＣの吸着・脱離・浄化の
バランスが良い。
【００５０】更に前記第一の発明の排気ガス浄化用触媒
は、該第１層のゼオライト層と、該第２層及び第３層の
三元層の総コート重量比率（第３層が存在しない場合、
第１層のゼオライト層と第２層の三元層の総コート重量
比率）が５：１〜１：２である。当該規定値より三元層
の割合が多くなると、下層に配置されたゼオライト層へ
のガス拡散が悪くなり、十分な吸着性能が得られない。
当該規定値より三元層の割合が少なくなると、脱離して
くるＨＣの酸化性能及び排気ガスの浄化性能が十分に得
られなくなる。
は、該第１層のゼオライト層と、該第２層及び第３層の
三元層の総コート重量比率（第３層が存在しない場合、
第１層のゼオライト層と第２層の三元層の総コート重量
比率）が５：１〜１：２である。当該規定値より三元層
の割合が多くなると、下層に配置されたゼオライト層へ
のガス拡散が悪くなり、十分な吸着性能が得られない。
当該規定値より三元層の割合が少なくなると、脱離して
くるＨＣの酸化性能及び排気ガスの浄化性能が十分に得
られなくなる。
【００５１】更に前記第一の発明の排気ガス浄化用触媒
は、該第１層のゼオライト層と、該第２層及び第３層の
三元層をＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃ
ｍ3のモノリス担体の上に設ける。当該規定値よりＧＳ
Ａが大きくなると、ゼオライト層のＨＣの脱離が速くな
り、未浄化のまま排出される脱離ＨＣが増える。また、
当該規定値より小さいと、排気ガスと三元層との接触が
悪くなり排気ガス成分の浄化性能が十分に得られなくな
る。
は、該第１層のゼオライト層と、該第２層及び第３層の
三元層をＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃ
ｍ3のモノリス担体の上に設ける。当該規定値よりＧＳ
Ａが大きくなると、ゼオライト層のＨＣの脱離が速くな
り、未浄化のまま排出される脱離ＨＣが増える。また、
当該規定値より小さいと、排気ガスと三元層との接触が
悪くなり排気ガス成分の浄化性能が十分に得られなくな
る。
【００５２】第一の発明の排気ガス浄化用触媒は、アル
カリ金属及びアルカリ土類金属からなる群より選ばれた
少なくとも一種を含浸担持する。使用できるアルカリ金
属及びアルカリ土類金属としては、リチウム、ナトリウ
ム、カリウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、バリウムからなる群より選ばれた少な
くとも一種の元素である。
カリ金属及びアルカリ土類金属からなる群より選ばれた
少なくとも一種を含浸担持する。使用できるアルカリ金
属及びアルカリ土類金属としては、リチウム、ナトリウ
ム、カリウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、バリウムからなる群より選ばれた少な
くとも一種の元素である。
【００５３】使用できるアルカリ金属及びアルカリ土類
金属の化合物は、酸化物、酢酸塩及び水酸化物等の水溶
性のものである。これにより、貴金属の近傍に塩基性元
素であるアルカリ金属及び／またはアルカリ土類金属を
分散性良く担持することが可能となる。
金属の化合物は、酸化物、酢酸塩及び水酸化物等の水溶
性のものである。これにより、貴金属の近傍に塩基性元
素であるアルカリ金属及び／またはアルカリ土類金属を
分散性良く担持することが可能となる。
【００５４】即ち、アルカリ金属及び／またはアルカリ
土類金属化合物からなる粉末の水溶液を、ウォッシュコ
ート成分を担持した上記担体に含浸し、乾燥し、次いで
空気中及び／または空気流通下で２００〜６００℃の比
較的低温で焼成するものである。かかる焼成温度が２０
０℃未満だとアルカリ金属及びアルカリ土類金属化合物
が酸化物形態になることが十分にできず、逆に６００℃
を越えても焼成温度の効果は飽和し、顕著な差異は得ら
れない。
土類金属化合物からなる粉末の水溶液を、ウォッシュコ
ート成分を担持した上記担体に含浸し、乾燥し、次いで
空気中及び／または空気流通下で２００〜６００℃の比
較的低温で焼成するものである。かかる焼成温度が２０
０℃未満だとアルカリ金属及びアルカリ土類金属化合物
が酸化物形態になることが十分にできず、逆に６００℃
を越えても焼成温度の効果は飽和し、顕著な差異は得ら
れない。
【００５５】また、第一の発明の排気ガス浄化用触媒に
おいて該第１層のゼオライト成分としては、エンジン始
動時に大量に排出されるＨＣを有効に吸着するために、
大小２種の細孔径を有すＳｉ／２Ａｌ比が１０〜５００
のＨ型βゼオライトを主成分とすることが望ましい。該
βゼオライトは、他のゼオライトに比べて耐熱性が高
く、構造安定性に優れる。また、他のゼオライトが吸着
に有効なＨＣ分子径範囲が狭いのに対し、βゼオライト
は大小２種の細孔径を有するため、細孔が入り組み細孔
構造を複雑にし、多種のＨＣを有効に吸着できる。
おいて該第１層のゼオライト成分としては、エンジン始
動時に大量に排出されるＨＣを有効に吸着するために、
大小２種の細孔径を有すＳｉ／２Ａｌ比が１０〜５００
のＨ型βゼオライトを主成分とすることが望ましい。該
βゼオライトは、他のゼオライトに比べて耐熱性が高
く、構造安定性に優れる。また、他のゼオライトが吸着
に有効なＨＣ分子径範囲が狭いのに対し、βゼオライト
は大小２種の細孔径を有するため、細孔が入り組み細孔
構造を複雑にし、多種のＨＣを有効に吸着できる。
【００５６】また、該βゼオライトのＳｉ／２Ａｌ比は
１０〜５００の範囲であることが望ましい。Ｓｉ／２Ａ
ｌ比が１０未満になると、排ガス中に共存する水分子の
吸着阻害が大きく、有効にＨＣを吸着することができな
い。逆にＳｉ／２Ａｌ比が５００を超えると、ＨＣの吸
着量が減少する。
１０〜５００の範囲であることが望ましい。Ｓｉ／２Ａ
ｌ比が１０未満になると、排ガス中に共存する水分子の
吸着阻害が大きく、有効にＨＣを吸着することができな
い。逆にＳｉ／２Ａｌ比が５００を超えると、ＨＣの吸
着量が減少する。
【００５７】更に、第一の発明の排気ガス浄化用触媒に
おいて、該第１層のゼオライト種は主成分であるＨ型β
ゼオライトと共に、更にＭＦＩ型，Ｙ，ＵＳＹ，モルデ
ナイト，フェリエライト，Ａ型ゼオライト，Ｘ型ゼオラ
イト，ＡｌＰＯ4 ，ＳＡＰＯのうち少なくとも１種を用
いる。これらゼオライトは、排気ガス中のＨＣ種の組成
比に応じて、ゼオライト種の細孔分布を変化させ、吸着
能を向上させる。βゼオライトと共にこれらゼオライト
種を混合させることにより、吸着可能なＨＣ種の範囲が
更に広くなる。逆に言えば、吸着したいＨＣ種に対し
て、その吸着に可能な種々のゼオライト種を適宜組み合
わせることができる。
おいて、該第１層のゼオライト種は主成分であるＨ型β
ゼオライトと共に、更にＭＦＩ型，Ｙ，ＵＳＹ，モルデ
ナイト，フェリエライト，Ａ型ゼオライト，Ｘ型ゼオラ
イト，ＡｌＰＯ4 ，ＳＡＰＯのうち少なくとも１種を用
いる。これらゼオライトは、排気ガス中のＨＣ種の組成
比に応じて、ゼオライト種の細孔分布を変化させ、吸着
能を向上させる。βゼオライトと共にこれらゼオライト
種を混合させることにより、吸着可能なＨＣ種の範囲が
更に広くなる。逆に言えば、吸着したいＨＣ種に対し
て、その吸着に可能な種々のゼオライト種を適宜組み合
わせることができる。
【００５８】また、第一の排気ガス浄化用触媒におい
て、該第１層のゼオライトに、Ｐｄ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓ
ｒ，Ｂａ，Ａｇ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｐ，Ｂ，Ｚｒ
から選ばれた少なくとも１種を含有せしめることが好ま
しい。ゼオライトは、Ｈ型でも十分な吸着能力を有する
が、Ｐｄ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ａｇ，Ｙ，Ｌａ，
Ｃｅ，Ｎｄ，Ｐ，Ｂ，Ｚｒ等をイオン交換法、含浸法、
浸漬法等の通常の方法を用いて担持することにより、吸
着特性、脱離抑制能やゼオライトの耐久性をさらに向上
させることができる。
て、該第１層のゼオライトに、Ｐｄ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓ
ｒ，Ｂａ，Ａｇ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｐ，Ｂ，Ｚｒ
から選ばれた少なくとも１種を含有せしめることが好ま
しい。ゼオライトは、Ｈ型でも十分な吸着能力を有する
が、Ｐｄ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ａｇ，Ｙ，Ｌａ，
Ｃｅ，Ｎｄ，Ｐ，Ｂ，Ｚｒ等をイオン交換法、含浸法、
浸漬法等の通常の方法を用いて担持することにより、吸
着特性、脱離抑制能やゼオライトの耐久性をさらに向上
させることができる。
【００５９】また、第一の発明の排気ガス浄化用触媒の
第２，第３の貴金属層の少なくともいずれかに、更にＰ
ｔを共存させることも好ましい。何故なら、ＰｔがＰｄ
或いはＲｈと共存することにより、更に耐被毒性を向上
することができるからである。
第２，第３の貴金属層の少なくともいずれかに、更にＰ
ｔを共存させることも好ましい。何故なら、ＰｔがＰｄ
或いはＲｈと共存することにより、更に耐被毒性を向上
することができるからである。
【００６０】更に、第一発明の排気ガス浄化用触媒にお
いて、該第１層のゼオライトを主成分とする吸着材層
に、ロジウムと、セリウム、ネオジウム及びランタンか
らなる群より選ばれた少なくとも一種を金属換算で１〜
４０モル％含むジルコニウム酸化物が含有せしめること
が好ましい。該第２層及び第３層でも、十分な脱離ＨＣ
の浄化性能を有すが、該第１層のゼオライトを主成分と
する炭化水素吸着材層に、ロジウムと、セリウム、ネオ
ジウム及びランタンからなる群より選ばれた少なくとも
一種を金属換算で１〜４０モル％含むジルコニウム酸化
物が含有することによって、脱離ＨＣの浄化性能を更に
向上させることができる。
いて、該第１層のゼオライトを主成分とする吸着材層
に、ロジウムと、セリウム、ネオジウム及びランタンか
らなる群より選ばれた少なくとも一種を金属換算で１〜
４０モル％含むジルコニウム酸化物が含有せしめること
が好ましい。該第２層及び第３層でも、十分な脱離ＨＣ
の浄化性能を有すが、該第１層のゼオライトを主成分と
する炭化水素吸着材層に、ロジウムと、セリウム、ネオ
ジウム及びランタンからなる群より選ばれた少なくとも
一種を金属換算で１〜４０モル％含むジルコニウム酸化
物が含有することによって、脱離ＨＣの浄化性能を更に
向上させることができる。
【００６１】また、第一の発明の排気ガス浄化用触媒の
第２の貴金属層において、更にアルミナを含有すること
が好ましい。特に、高温耐久後のアルミナの構造安定性
を高め、α−アルミナへの相転移やＢＥＴ比表面積の低
下を抑制するために、上記アルミナにはセリウム、ジル
コニウム及びランタンからなる群より選ばれた少なくと
も一種が金属換算で１〜１０モル％含有される。１モル
％未満では十分な添加効果が得られず、１０モル％を超
えると添加効果は飽和してしまう。かかるアルミナの使
用量は、触媒１Ｌあたり１０〜２００ｇである。１０ｇ
未満だと充分な貴金属の分散性が得られず、２００ｇよ
り多く使用しても触媒性能は飽和し、顕著な改良効果は
得られない。
第２の貴金属層において、更にアルミナを含有すること
が好ましい。特に、高温耐久後のアルミナの構造安定性
を高め、α−アルミナへの相転移やＢＥＴ比表面積の低
下を抑制するために、上記アルミナにはセリウム、ジル
コニウム及びランタンからなる群より選ばれた少なくと
も一種が金属換算で１〜１０モル％含有される。１モル
％未満では十分な添加効果が得られず、１０モル％を超
えると添加効果は飽和してしまう。かかるアルミナの使
用量は、触媒１Ｌあたり１０〜２００ｇである。１０ｇ
未満だと充分な貴金属の分散性が得られず、２００ｇよ
り多く使用しても触媒性能は飽和し、顕著な改良効果は
得られない。
【００６２】更に、第一の発明の排気ガス浄化用触媒の
第２層において、上記触媒成分に加え、更にセリウム酸
化物を含有することもできる。当該セリウム酸化物は、
ジルコニウム、ネオジウム及びランタンからなる群より
選ばれた一種を金属換算で１〜４０モル％、その残部と
してセリウムを金属換算で６０〜９９モル％含むセリウ
ム酸化物が含有するものである。セリウム酸化物を含有
させることにより、酸素吸蔵能の高いセリウム酸化物が
リッチ雰囲気及びストイキ近傍で格子酸素や吸着酸素を
放出し、貴金属の酸化状態を排気ガスの浄化に適したも
のとし、触媒性能の低下を抑制できる。１〜４０モル％
としたのは、セリウム酸化物（ＣｅＯ2 ）にジルコニウ
ム、ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれた少
なくとも一種の元素を添加して、ＣｅＯ2 の酸素放出能
やＢＥＴ比表面積、熱安定性を顕著に改良するためであ
る。１モル％未満ではＣｅＯ2 のみの場合と変わらず、
上記した元素の添加効果が現れず、４０モル％を越える
とこの効果が飽和もしくは逆に低下する。
第２層において、上記触媒成分に加え、更にセリウム酸
化物を含有することもできる。当該セリウム酸化物は、
ジルコニウム、ネオジウム及びランタンからなる群より
選ばれた一種を金属換算で１〜４０モル％、その残部と
してセリウムを金属換算で６０〜９９モル％含むセリウ
ム酸化物が含有するものである。セリウム酸化物を含有
させることにより、酸素吸蔵能の高いセリウム酸化物が
リッチ雰囲気及びストイキ近傍で格子酸素や吸着酸素を
放出し、貴金属の酸化状態を排気ガスの浄化に適したも
のとし、触媒性能の低下を抑制できる。１〜４０モル％
としたのは、セリウム酸化物（ＣｅＯ2 ）にジルコニウ
ム、ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれた少
なくとも一種の元素を添加して、ＣｅＯ2 の酸素放出能
やＢＥＴ比表面積、熱安定性を顕著に改良するためであ
る。１モル％未満ではＣｅＯ2 のみの場合と変わらず、
上記した元素の添加効果が現れず、４０モル％を越える
とこの効果が飽和もしくは逆に低下する。
【００６３】更に、第一の発明の排気ガス浄化用触媒の
第３の層において、更にセリウム、ネオジウム及びラン
タンからなる群より選ばれた一種を含むジルコニウム酸
化物を含有することもできる。当該ジルコニウム酸化物
は、セリウム、ネオジウム及びランタンからなる群より
選ばれた一種の元素を金属換算で１〜４０モル％、その
残部としてジルコニウムを金属換算で６０〜９９モル％
含むジルコニウム酸化物を含有するものである。１〜４
０モル％としたのは、ジルコニウム酸化物（ＺｒＯ2 ）
にセリウム、ネオジウム及びランタンからなる群より選
ばれた少なくとも一種の元素を添加して、ＺｒＯ2 の酸
素放出能やＢＥＴ比表面積、更には熱安定性を顕著に改
良するためである。１モル％未満ではＺｒＯ2 のみの場
合と変わらず、上記した元素の添加効果が現れず、４０
モル％を越えるとこの効果が飽和もしくは低下する。
第３の層において、更にセリウム、ネオジウム及びラン
タンからなる群より選ばれた一種を含むジルコニウム酸
化物を含有することもできる。当該ジルコニウム酸化物
は、セリウム、ネオジウム及びランタンからなる群より
選ばれた一種の元素を金属換算で１〜４０モル％、その
残部としてジルコニウムを金属換算で６０〜９９モル％
含むジルコニウム酸化物を含有するものである。１〜４
０モル％としたのは、ジルコニウム酸化物（ＺｒＯ2 ）
にセリウム、ネオジウム及びランタンからなる群より選
ばれた少なくとも一種の元素を添加して、ＺｒＯ2 の酸
素放出能やＢＥＴ比表面積、更には熱安定性を顕著に改
良するためである。１モル％未満ではＺｒＯ2 のみの場
合と変わらず、上記した元素の添加効果が現れず、４０
モル％を越えるとこの効果が飽和もしくは低下する。
【００６４】該第３の貴金属層に、セリウム、ネオジウ
ム及びランタンからなる群より選ばれた少なくとも一種
を含有するジルコニウム酸化物を粉末を含有させること
により、ジルコニウム酸化物がリッチ雰囲気及びストイ
キ近傍で格子酸素や吸着酸素を放出し、貴金属の酸化状
態を排気ガスの浄化に適したものとするため、貴金属の
触媒性能の低下を抑制できる。
ム及びランタンからなる群より選ばれた少なくとも一種
を含有するジルコニウム酸化物を粉末を含有させること
により、ジルコニウム酸化物がリッチ雰囲気及びストイ
キ近傍で格子酸素や吸着酸素を放出し、貴金属の酸化状
態を排気ガスの浄化に適したものとするため、貴金属の
触媒性能の低下を抑制できる。
【００６５】また、第一の発明の排気ガス浄化用触媒に
おいて、使用されるアルカリ金属及び／又はアルカリ土
類金属には、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウ
ム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム及びバ
リウムが含まれる。これらを触媒成分担持層に含有させ
ると、リッチ雰囲気下でのＨＣ吸着被毒作用を緩和し、
また貴金属のシンタリングを抑制するため、低温活性や
還元雰囲気での活性を更に向上させることができる。そ
の含有量は触媒１Ｌ中１〜４０ｇ未満では、炭化水素類
の吸着被毒や貴金属のシンタリングを抑制できず、４０
ｇを越えても有為な増量効果が得られず逆に性能を低下
させる。
おいて、使用されるアルカリ金属及び／又はアルカリ土
類金属には、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウ
ム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム及びバ
リウムが含まれる。これらを触媒成分担持層に含有させ
ると、リッチ雰囲気下でのＨＣ吸着被毒作用を緩和し、
また貴金属のシンタリングを抑制するため、低温活性や
還元雰囲気での活性を更に向上させることができる。そ
の含有量は触媒１Ｌ中１〜４０ｇ未満では、炭化水素類
の吸着被毒や貴金属のシンタリングを抑制できず、４０
ｇを越えても有為な増量効果が得られず逆に性能を低下
させる。
【００６６】第一の発明の排気ガス浄化用触媒を製造す
るにあたり、ＨＣ吸着層及び三元触媒層の性能を有効に
発現させるために、ゼオライト層を第１層（内層側）に
配置し、パラジウム層をその上の第２層（中層側）と
し、更にその上の第３層（表層側）へロジウム層を配置
する。
るにあたり、ＨＣ吸着層及び三元触媒層の性能を有効に
発現させるために、ゼオライト層を第１層（内層側）に
配置し、パラジウム層をその上の第２層（中層側）と
し、更にその上の第３層（表層側）へロジウム層を配置
する。
【００６７】該第２層、第３層の貴金属の原料化合物と
しては、ジニトロジアンミン酸塩、塩化物、硝酸塩等の
水溶性のものであれば任意のものが使用できる。水の除
去は、例えば濾過法や蒸発乾固法等の公知の方法の中か
ら適宜選択して行うことができる。本発明に用いる貴金
属担持粉末を得るための最初の熱処理は、特に制限され
ないが、添加した貴金属を分散性良く担持するため、例
えば４００℃〜８００℃の比較的低温で空気中及び／ま
たは空気流通下で焼成を行うことが好ましい。
しては、ジニトロジアンミン酸塩、塩化物、硝酸塩等の
水溶性のものであれば任意のものが使用できる。水の除
去は、例えば濾過法や蒸発乾固法等の公知の方法の中か
ら適宜選択して行うことができる。本発明に用いる貴金
属担持粉末を得るための最初の熱処理は、特に制限され
ないが、添加した貴金属を分散性良く担持するため、例
えば４００℃〜８００℃の比較的低温で空気中及び／ま
たは空気流通下で焼成を行うことが好ましい。
【００６８】更に、該第１層のゼオライトに、Ｐｄ，Ｍ
ｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ａｇ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，
Ｐ，Ｂ，Ｚｒから選ばれた少なくとも１種以上を含浸担
持させることもできる。これら金属化合物は、酸化物、
酢酸塩、硝酸塩及び水酸化物等の水溶性のものを、イオ
ン交換法、含浸法、浸漬法等の通常の方法を用いて担持
することにより、ゼオライト上に分散性を良くして担持
することが可能となる。担持後の水分除去法としては、
乾燥し、次いで空気中及び／または空気流通下で２００
〜６００℃の比較的低温で焼成するものである。かかる
焼成温度が２００℃未満だと金属化合物が酸化物形態に
なることが充分にできず、逆に６００℃を越えても焼成
温度の効果は飽和し、顕著な差異は得られない。
ｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ａｇ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，
Ｐ，Ｂ，Ｚｒから選ばれた少なくとも１種以上を含浸担
持させることもできる。これら金属化合物は、酸化物、
酢酸塩、硝酸塩及び水酸化物等の水溶性のものを、イオ
ン交換法、含浸法、浸漬法等の通常の方法を用いて担持
することにより、ゼオライト上に分散性を良くして担持
することが可能となる。担持後の水分除去法としては、
乾燥し、次いで空気中及び／または空気流通下で２００
〜６００℃の比較的低温で焼成するものである。かかる
焼成温度が２００℃未満だと金属化合物が酸化物形態に
なることが充分にできず、逆に６００℃を越えても焼成
温度の効果は飽和し、顕著な差異は得られない。
【００６９】更には、第２層、第３層の貴金属層には、
Ｐｔを含有させることもできる。原料化合物としては、
ジニトロジアンミン酸塩、塩化物、硝酸塩等の水溶性の
ものであれば任意のものが使用できる。
Ｐｔを含有させることもできる。原料化合物としては、
ジニトロジアンミン酸塩、塩化物、硝酸塩等の水溶性の
ものであれば任意のものが使用できる。
【００７０】更に、好ましくは、該第２層の貴金属層
に、アルミナ粉末やジルコニウム酸化物粉末に、ジルコ
ニウム、ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれ
る少なくとも一種を含有するセリウム酸化物を添加する
ことにより、還元雰囲気下において、貴金属の酸化状態
を、排気ガス浄化に適した状態に、より有効に維持する
ことができる。
に、アルミナ粉末やジルコニウム酸化物粉末に、ジルコ
ニウム、ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれ
る少なくとも一種を含有するセリウム酸化物を添加する
ことにより、還元雰囲気下において、貴金属の酸化状態
を、排気ガス浄化に適した状態に、より有効に維持する
ことができる。
【００７１】また、好ましくは、該第３層の貴金属層
に、セリウム、ネオジウム及びランタンからなる群より
選ばれる少なくとも一種を含むジルコニウム酸化物粉末
を加えることもできる。当該セリウム、ネオジウム及び
ランタンからなる群より選ばれる少なくとも一種を含む
ジルコニウム酸化物粉末を添加することにより、還元雰
囲気下において、貴金属の酸化状態を、排気ガス浄化に
適した状態に、より有効に維持することができる。この
ようにして得られる第一の発明にかかる排気ガス浄化用
触媒は、無担体でも有効に使用することができるが、粉
砕してスラリーとし、触媒担体にコートして、４００〜
９００℃で焼成して用いることが好ましい。
に、セリウム、ネオジウム及びランタンからなる群より
選ばれる少なくとも一種を含むジルコニウム酸化物粉末
を加えることもできる。当該セリウム、ネオジウム及び
ランタンからなる群より選ばれる少なくとも一種を含む
ジルコニウム酸化物粉末を添加することにより、還元雰
囲気下において、貴金属の酸化状態を、排気ガス浄化に
適した状態に、より有効に維持することができる。この
ようにして得られる第一の発明にかかる排気ガス浄化用
触媒は、無担体でも有効に使用することができるが、粉
砕してスラリーとし、触媒担体にコートして、４００〜
９００℃で焼成して用いることが好ましい。
【００７２】具体的には第１層として、βゼオライトを
主成分としたゼオライト粉末にシリカゾルを加えて湿式
にて粉砕してスラリーとし、触媒担体に付着させ、４０
０〜６５０℃の範囲の温度で空気中及び／または空気流
通下で焼成を行う。次に第２層として、Ｐｄ担持粉末
と、アルミナ粉末と、上記セリウム酸化物粉末に、アル
ミナゾルを加えて湿式にて粉砕してスラリーとし、触媒
担体に付着させ、４００〜６５０℃の範囲の温度で空気
中及び／または空気流通下で焼成を行う。
主成分としたゼオライト粉末にシリカゾルを加えて湿式
にて粉砕してスラリーとし、触媒担体に付着させ、４０
０〜６５０℃の範囲の温度で空気中及び／または空気流
通下で焼成を行う。次に第２層として、Ｐｄ担持粉末
と、アルミナ粉末と、上記セリウム酸化物粉末に、アル
ミナゾルを加えて湿式にて粉砕してスラリーとし、触媒
担体に付着させ、４００〜６５０℃の範囲の温度で空気
中及び／または空気流通下で焼成を行う。
【００７３】次に第３層として、Ｒｈ担持粉末と、アル
ミナ粉末と、上記ジルコニウム酸化物粉末に、アルミナ
ゾルを加えて湿式にて粉砕してスラリーとし、触媒担体
に付着させ、４００〜６５０℃の範囲の温度で空気中及
び／または空気流通下で焼成を行う。前記第２層および
第３層には、更にＰｔを加えてもよい。
ミナ粉末と、上記ジルコニウム酸化物粉末に、アルミナ
ゾルを加えて湿式にて粉砕してスラリーとし、触媒担体
に付着させ、４００〜６５０℃の範囲の温度で空気中及
び／または空気流通下で焼成を行う。前記第２層および
第３層には、更にＰｔを加えてもよい。
【００７４】触媒担体としては、公知の触媒担体の中か
ら適宜選択して使用することができ、例えば耐火性材料
からなるモノリス担体やメタル担体等が挙げられる。
ら適宜選択して使用することができ、例えば耐火性材料
からなるモノリス担体やメタル担体等が挙げられる。
【００７５】このハニカム材料としては、一般にセラミ
ックなどのコージェライト質のものが多く用いられる
が、フェライト系ステンレス等の金属材料からなるハニ
カム材料を用いることも可能であり、更には触媒成分粉
末そのものをハニカム形状に成形しても良い。触媒の形
状をハニカム状とし、更に該ハニカム状担体のＧＳＡを
１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 とすることに
より、ゼオライト層と排気ガスとの接触を制限し、吸着
ＨＣのゼオライト層からの脱離を遅延化するのに極めて
有効である。
ックなどのコージェライト質のものが多く用いられる
が、フェライト系ステンレス等の金属材料からなるハニ
カム材料を用いることも可能であり、更には触媒成分粉
末そのものをハニカム形状に成形しても良い。触媒の形
状をハニカム状とし、更に該ハニカム状担体のＧＳＡを
１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 とすることに
より、ゼオライト層と排気ガスとの接触を制限し、吸着
ＨＣのゼオライト層からの脱離を遅延化するのに極めて
有効である。
【００７６】更に、ハニカム状担体のセル数を、５０〜
６００セルとすることによって、ゼオライト層と排気ガ
スとの接触を制限し、吸着ＨＣのゼオライト層からの脱
離を遅延化するのに極めて有効である。
６００セルとすることによって、ゼオライト層と排気ガ
スとの接触を制限し、吸着ＨＣのゼオライト層からの脱
離を遅延化するのに極めて有効である。
【００７７】更に、ハニカム状担体の水力直径が、０．
７５ｍｍ〜５ｍｍの担体とすることによって、ゼオライ
ト層内への排気ガス拡散速度を低下し、吸着ＨＣのゼオ
ライト層からの脱離を遅延化するのに極めて有効であ
る。
７５ｍｍ〜５ｍｍの担体とすることによって、ゼオライ
ト層内への排気ガス拡散速度を低下し、吸着ＨＣのゼオ
ライト層からの脱離を遅延化するのに極めて有効であ
る。
【００７８】ハニカム材料に付着させる触媒成分コート
層の量は、触媒成分全体のトータルで、触媒１Ｌあた
り、５０ｇから６００ｇが好ましい。三元触媒成分担持
層が多い程、触媒活性や触媒寿命の面から好ましいが、
該三元触媒層のコート層が厚くなりすぎると、触媒成分
担持層内部のゼオライト層への排気ガスの拡散が不良と
なり、逆に、ＨＣの吸着性能が低下する。また、ゼオラ
イト成分担持層が多い程、ＨＣの脱離遅延化の面から好
ましいが、該ゼオライト層のコート層が厚くなりすぎる
と、脱離ＨＣと三元層との接触が不良となり、逆に、脱
離ＨＣの浄化活性が低下する。このため、ゼオライト層
と三元層のコート重量比率を５：１〜１：２に設定する
ことが好ましい。更に、セル内の平坦部のコート層厚み
は、３０μｍ〜４００μｍが好ましい。触媒成分層を担
持するハニカム担体のＧＳＡ、セル数、水力直径を当該
規定値内とすることにより、ＨＣの脱離を遅延化するの
に十分なゼオライト層厚みを確保でき、脱離ＨＣの浄化
性能が向上する。
層の量は、触媒成分全体のトータルで、触媒１Ｌあた
り、５０ｇから６００ｇが好ましい。三元触媒成分担持
層が多い程、触媒活性や触媒寿命の面から好ましいが、
該三元触媒層のコート層が厚くなりすぎると、触媒成分
担持層内部のゼオライト層への排気ガスの拡散が不良と
なり、逆に、ＨＣの吸着性能が低下する。また、ゼオラ
イト成分担持層が多い程、ＨＣの脱離遅延化の面から好
ましいが、該ゼオライト層のコート層が厚くなりすぎる
と、脱離ＨＣと三元層との接触が不良となり、逆に、脱
離ＨＣの浄化活性が低下する。このため、ゼオライト層
と三元層のコート重量比率を５：１〜１：２に設定する
ことが好ましい。更に、セル内の平坦部のコート層厚み
は、３０μｍ〜４００μｍが好ましい。触媒成分層を担
持するハニカム担体のＧＳＡ、セル数、水力直径を当該
規定値内とすることにより、ＨＣの脱離を遅延化するの
に十分なゼオライト層厚みを確保でき、脱離ＨＣの浄化
性能が向上する。
【００７９】次に第二の発明の実施態様について説明す
る。第二の発明の排気ガス浄化用触媒は、特に内燃機関
から排出されるエンジン始動直後の低温排気ガスの浄化
を目的としており、炭化水素吸着触媒が、β−ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材層の上部に、パラジウ
ム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からな
る群より選ばれた少なくとも一種を含む三元触媒成分層
を配置した多層構造の一体型炭化水素吸着触媒である。
この第二の発明の排気ガス浄化用触媒において、該炭化
水素吸着材層の排気ガス中の炭化水素の吸着効率と、該
三元層が該吸着材から脱離する炭化水素の浄化効率を向
上させるため、β−ゼオライトを主成分とする炭化水素
吸着材層とその上部に配置される三元触媒層との重量比
率が、５：１〜１：２の範囲に設定される。また、該炭
化水素吸着材層が吸着した炭化水素の脱離の遅延化を図
るため、β−ゼオライトを主成分とする炭化水素吸着材
層とその上部に配置される三元触媒層を、ＧＳＡが１０
ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 のモノリス担体に
担持する。
る。第二の発明の排気ガス浄化用触媒は、特に内燃機関
から排出されるエンジン始動直後の低温排気ガスの浄化
を目的としており、炭化水素吸着触媒が、β−ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材層の上部に、パラジウ
ム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からな
る群より選ばれた少なくとも一種を含む三元触媒成分層
を配置した多層構造の一体型炭化水素吸着触媒である。
この第二の発明の排気ガス浄化用触媒において、該炭化
水素吸着材層の排気ガス中の炭化水素の吸着効率と、該
三元層が該吸着材から脱離する炭化水素の浄化効率を向
上させるため、β−ゼオライトを主成分とする炭化水素
吸着材層とその上部に配置される三元触媒層との重量比
率が、５：１〜１：２の範囲に設定される。また、該炭
化水素吸着材層が吸着した炭化水素の脱離の遅延化を図
るため、β−ゼオライトを主成分とする炭化水素吸着材
層とその上部に配置される三元触媒層を、ＧＳＡが１０
ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 のモノリス担体に
担持する。
【００８０】ＨＣ吸着材として、耐熱性に優れるβ−ゼ
オライトを用いることによって、初期から耐久後までＨ
Ｃ吸着効率が向上し、更に、ＨＣ脱離の遅延化が図れ
る。また、ＨＣ吸着材の上部に三元触媒層を配置した多
層構造の一体型触媒として構成しているため、２ブリッ
ク型に比べ熱損失が少なく、三元触媒層の活性化が早
く、しかも、吸着材から脱離したＨＣが三元触媒層と十
分に接触できるため、脱離ＨＣを効率良く浄化できる。
オライトを用いることによって、初期から耐久後までＨ
Ｃ吸着効率が向上し、更に、ＨＣ脱離の遅延化が図れ
る。また、ＨＣ吸着材の上部に三元触媒層を配置した多
層構造の一体型触媒として構成しているため、２ブリッ
ク型に比べ熱損失が少なく、三元触媒層の活性化が早
く、しかも、吸着材から脱離したＨＣが三元触媒層と十
分に接触できるため、脱離ＨＣを効率良く浄化できる。
【００８１】また、β−ゼオライトを主成分とする炭化
水素吸着材層とその上部に配置される三元触媒層との重
量比率は、前述のように、５：１〜１：２が好ましい。
炭化水素吸着材層に対する三元層の比率が、５：１未満
では三元触媒層の脱離炭化水素に対する浄化性能が低下
し、逆に、１：２を越えると炭化水素吸着材の吸着性能
が十分に発現しない。βーゼオライトの使用量は、触媒
１Ｌあたり、１０ｇから４００ｇが好ましい。βーゼオ
ライトの使用量が１０ｇ未満では吸着性能が十分に発現
せず、逆に４００ｇを越えても吸着性能及び脱離遅延化
効果は飽和し、経済的にも有効でない。更に、β−ゼオ
ライトを主成分とする炭化水素吸着材層とその上部に配
置される三元触媒層を担持するモノリス担体のＧＳＡ
は、１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 が好まし
い。ＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 未満では炭化水素のゼ
オライト層内への拡散が遅く吸着性能が十分に発現せ
ず、逆に３５ｃｍ2 ／ｃｍ3を越えると吸着ＨＣの脱離
が速まり、未浄化のまま排出される脱離ＨＣが増える。
水素吸着材層とその上部に配置される三元触媒層との重
量比率は、前述のように、５：１〜１：２が好ましい。
炭化水素吸着材層に対する三元層の比率が、５：１未満
では三元触媒層の脱離炭化水素に対する浄化性能が低下
し、逆に、１：２を越えると炭化水素吸着材の吸着性能
が十分に発現しない。βーゼオライトの使用量は、触媒
１Ｌあたり、１０ｇから４００ｇが好ましい。βーゼオ
ライトの使用量が１０ｇ未満では吸着性能が十分に発現
せず、逆に４００ｇを越えても吸着性能及び脱離遅延化
効果は飽和し、経済的にも有効でない。更に、β−ゼオ
ライトを主成分とする炭化水素吸着材層とその上部に配
置される三元触媒層を担持するモノリス担体のＧＳＡ
は、１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 が好まし
い。ＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 未満では炭化水素のゼ
オライト層内への拡散が遅く吸着性能が十分に発現せ
ず、逆に３５ｃｍ2 ／ｃｍ3を越えると吸着ＨＣの脱離
が速まり、未浄化のまま排出される脱離ＨＣが増える。
【００８２】次に第三の発明の実施の態様について説明
する。この発明においては、第一の発明の当該炭化水素
吸着触媒の前段に、パラジウム、白金及びロジウムから
なる群より選ばれた少なくとも一種を含み、また、パラ
ジウムの担持濃度として、４重量％以上、２０重量％以
下となるように担持した粉末を含有し、且つ、パラジウ
ムの担持量が１００ｇ／ｃｆ（３．５ｇ/Ｌ）以上、１
０００ｇ／ｃｆ（３５．４ｇ／Ｌ）以下であることを特
徴とする排気ガス浄化触媒を配置し、該炭化水素吸着触
媒が吸着する炭化水素量を、エンジン始動直後の低温域
に排出される炭化水素量の１０％から７０％に設定され
る。
する。この発明においては、第一の発明の当該炭化水素
吸着触媒の前段に、パラジウム、白金及びロジウムから
なる群より選ばれた少なくとも一種を含み、また、パラ
ジウムの担持濃度として、４重量％以上、２０重量％以
下となるように担持した粉末を含有し、且つ、パラジウ
ムの担持量が１００ｇ／ｃｆ（３．５ｇ/Ｌ）以上、１
０００ｇ／ｃｆ（３５．４ｇ／Ｌ）以下であることを特
徴とする排気ガス浄化触媒を配置し、該炭化水素吸着触
媒が吸着する炭化水素量を、エンジン始動直後の低温域
に排出される炭化水素量の１０％から７０％に設定され
る。
【００８３】炭化水素吸着触媒がエンジン始動直後の低
温時における排気ガス中の炭化水素の全量を吸着した場
合、触媒素の温度上昇に伴って脱離が開始すると、炭化
水素吸着材の上部に配置した三元触媒層が酸素不足状態
に長時間曝されるため、脱離炭化水素に対する浄化性能
が著しく低下する。そこで、炭化水素吸着触媒の前段
に、低温域での炭化水素浄化性能に優れる、パラジウム
を含有した排気ガス浄化触媒を配置し、炭化水素吸着触
媒が吸着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化
水素飽和吸着量の７０％以下に設定することが、炭化水
素吸着材の上部に配置した三元触媒層の脱離炭化水素に
対する浄化性能を維持、向上するために好ましい。
温時における排気ガス中の炭化水素の全量を吸着した場
合、触媒素の温度上昇に伴って脱離が開始すると、炭化
水素吸着材の上部に配置した三元触媒層が酸素不足状態
に長時間曝されるため、脱離炭化水素に対する浄化性能
が著しく低下する。そこで、炭化水素吸着触媒の前段
に、低温域での炭化水素浄化性能に優れる、パラジウム
を含有した排気ガス浄化触媒を配置し、炭化水素吸着触
媒が吸着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化
水素飽和吸着量の７０％以下に設定することが、炭化水
素吸着材の上部に配置した三元触媒層の脱離炭化水素に
対する浄化性能を維持、向上するために好ましい。
【００８４】しかし、炭化水素吸着触媒が吸着する炭化
水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽和吸着量の
７０％超になった場合、炭化水素吸着材コールドＨＣ吸
着効率が低下し、また、脱離も速くなるため、脱離ＨＣ
の浄化性能が著しく低下する。
水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽和吸着量の
７０％超になった場合、炭化水素吸着材コールドＨＣ吸
着効率が低下し、また、脱離も速くなるため、脱離ＨＣ
の浄化性能が著しく低下する。
【００８５】次に、第四の発明の実施の態様について説
明する。この発明は、第一の発明の当該炭化水素吸着触
媒の前段に、パラジウム、白金及びロジウムからなる群
より選ばれた少なくとも一種を含み、パラジウムの担持
濃度として、４重量％以上、１５重量％以下となるよう
に担持した粉末を含有し、且つ、パラジウムの担持量が
１００ｇ／ｃｆ（３．５ｇ/Ｌ）以上、５００ｇ／ｃｆ
（１７．７ｇ／Ｌ）以下であることを特徴とする排気ガ
ス浄化触媒を配置した排気ガス浄化装置であって、更
に、エンジン始動時（ファーストアイドル）の点火時期
を、エンジン始動直後から４０秒以下、点火時期（上死
点から）を１°以上、３０°以下遅角することにより、
排気温度の上昇を速め、炭化水素吸着触媒の前段に配置
した該パラジウムを含む排気ガス浄化触媒の活性化を速
め、該炭化水素吸着触媒が吸着する炭化水素量を、該炭
化水素吸着触媒の炭化水素飽和吸着量の７０％以下に設
定する。
明する。この発明は、第一の発明の当該炭化水素吸着触
媒の前段に、パラジウム、白金及びロジウムからなる群
より選ばれた少なくとも一種を含み、パラジウムの担持
濃度として、４重量％以上、１５重量％以下となるよう
に担持した粉末を含有し、且つ、パラジウムの担持量が
１００ｇ／ｃｆ（３．５ｇ/Ｌ）以上、５００ｇ／ｃｆ
（１７．７ｇ／Ｌ）以下であることを特徴とする排気ガ
ス浄化触媒を配置した排気ガス浄化装置であって、更
に、エンジン始動時（ファーストアイドル）の点火時期
を、エンジン始動直後から４０秒以下、点火時期（上死
点から）を１°以上、３０°以下遅角することにより、
排気温度の上昇を速め、炭化水素吸着触媒の前段に配置
した該パラジウムを含む排気ガス浄化触媒の活性化を速
め、該炭化水素吸着触媒が吸着する炭化水素量を、該炭
化水素吸着触媒の炭化水素飽和吸着量の７０％以下に設
定する。
【００８６】また、第四の発明の実施の態様について説
明する。この発明は、第一の発明の当該炭化水素吸着触
媒の前段に、パラジウム、白金及びロジウムからなる群
より選ばれた少なくとも一種を含み、パラジウムの担持
濃度として、４重量％以上、１５重量％以下となるよう
に担持した粉末を含有し、且つ、パラジウムの担持量が
１００ｇ／ｃｆ（３．５ｇ/Ｌ）以上、５００ｇ／ｃｆ
（１７．７ｇ／Ｌ）以下であることを特徴とする排気ガ
ス浄化触媒を配置した排気ガス浄化装置であって、更
に、エンジン始動直後から６０秒間、空気流量１０Ｌ／
分以上の空気を供給し、エンジン始動直後のコールド空
燃比を希薄化（Ａ／Ｆ＝１２〜１８）することによっ
て、炭化水素吸着触媒の前段に配置した該パラジウムを
含む排気ガス浄化触媒の活性化を速め、該炭化水素吸着
触媒が吸着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭
化水素飽和吸着量の７０％以下に設定する
明する。この発明は、第一の発明の当該炭化水素吸着触
媒の前段に、パラジウム、白金及びロジウムからなる群
より選ばれた少なくとも一種を含み、パラジウムの担持
濃度として、４重量％以上、１５重量％以下となるよう
に担持した粉末を含有し、且つ、パラジウムの担持量が
１００ｇ／ｃｆ（３．５ｇ/Ｌ）以上、５００ｇ／ｃｆ
（１７．７ｇ／Ｌ）以下であることを特徴とする排気ガ
ス浄化触媒を配置した排気ガス浄化装置であって、更
に、エンジン始動直後から６０秒間、空気流量１０Ｌ／
分以上の空気を供給し、エンジン始動直後のコールド空
燃比を希薄化（Ａ／Ｆ＝１２〜１８）することによっ
て、炭化水素吸着触媒の前段に配置した該パラジウムを
含む排気ガス浄化触媒の活性化を速め、該炭化水素吸着
触媒が吸着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭
化水素飽和吸着量の７０％以下に設定する
【００８７】更に、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様について説明する。この発明は、当該炭化水素吸着
触媒の前段に、該パラジウムを含む排気ガス浄化触媒を
配置する排気ガス浄化装置であって、該炭化水素吸着触
媒から炭化水素の脱離が開始する直前に、空燃比を１
４．６以上、又は、空気ポンプ等の手段を用い該炭化水
素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触媒中に、
酸素あるいは／又は空気が添加される。炭化水素吸着材
から吸着した炭化水素が脱離を開始する前、あるいは、
脱離開始と同時に、炭化水素吸着触媒の上流、または、
該炭化水素吸着触媒中に、酸素あるいは／又は空気を添
加し、上部の三元触媒層に酸素を供給することによっ
て、脱離炭化水素の浄化性能が向上する。
態様について説明する。この発明は、当該炭化水素吸着
触媒の前段に、該パラジウムを含む排気ガス浄化触媒を
配置する排気ガス浄化装置であって、該炭化水素吸着触
媒から炭化水素の脱離が開始する直前に、空燃比を１
４．６以上、又は、空気ポンプ等の手段を用い該炭化水
素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触媒中に、
酸素あるいは／又は空気が添加される。炭化水素吸着材
から吸着した炭化水素が脱離を開始する前、あるいは、
脱離開始と同時に、炭化水素吸着触媒の上流、または、
該炭化水素吸着触媒中に、酸素あるいは／又は空気を添
加し、上部の三元触媒層に酸素を供給することによっ
て、脱離炭化水素の浄化性能が向上する。
【００８８】更に、第三及び第四の発明の好ましい実施
態様について説明する。炭化水素吸着触媒から脱離する
炭化水素の浄化効率を向上させるために、炭化水素吸着
触媒の前部に設置された温度検出器の検出値が所定温度
以上になった時に、炭化水素吸着触媒の後部分に設置し
たＡ／Ｆ検知器が１４．６以上になるように、該炭化水
素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触媒中に、
酸素あるいは／又は空気を添加する。
態様について説明する。炭化水素吸着触媒から脱離する
炭化水素の浄化効率を向上させるために、炭化水素吸着
触媒の前部に設置された温度検出器の検出値が所定温度
以上になった時に、炭化水素吸着触媒の後部分に設置し
たＡ／Ｆ検知器が１４．６以上になるように、該炭化水
素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触媒中に、
酸素あるいは／又は空気を添加する。
【００８９】炭化水素吸着触媒の前部に設置された温度
検出器の検出値が所定温度例えば１１０度未満では、炭
化水素吸着触媒の三元触媒層の活性化が不十分であるた
め、酸素あるいは／又は空気を添加によって、逆に、脱
離炭化水素の浄化性能が低下する。更に、炭化水素吸着
触媒の上流に添加する酸素あるいは／又は空気は、炭化
水素吸着触媒の後部分に設置したＡ／Ｆ検知器が１４．
６以上になるように添加することが好ましい。Ａ／Ｆが
１４．６未満では、炭化水素吸着触媒の三元触媒層の浄
化性能の改良効果が十分でない。
検出器の検出値が所定温度例えば１１０度未満では、炭
化水素吸着触媒の三元触媒層の活性化が不十分であるた
め、酸素あるいは／又は空気を添加によって、逆に、脱
離炭化水素の浄化性能が低下する。更に、炭化水素吸着
触媒の上流に添加する酸素あるいは／又は空気は、炭化
水素吸着触媒の後部分に設置したＡ／Ｆ検知器が１４．
６以上になるように添加することが好ましい。Ａ／Ｆが
１４．６未満では、炭化水素吸着触媒の三元触媒層の浄
化性能の改良効果が十分でない。
【００９０】更に、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化
水素の浄化効率を向上させるために、炭化水素吸着触媒
の触媒層中に挿入された温度検出器の検出値が所定温度
以上になった時に、炭化水素吸着触媒の後部分に設置し
たＡ／Ｆ検知器が１４．６以上になるように、該炭化水
素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触媒中に、
酸素あるいは／又は空気を添加する。炭化水素吸着触媒
の触媒層中に挿入された温度検出器の検出値が所定温度
未満では、炭化水素吸着触媒の三元触媒層の活性化が不
十分であるため、酸素あるいは／又は空気を添加によっ
て、逆に、脱離炭化水素の浄化性能が低下する。更に、
炭化水素吸着触媒の上流に添加する酸素あるいは／又は
空気は、炭化水素吸着触媒の後部分に設置したＡ／Ｆ検
知器が１４．６以上になるように添加することが好まし
い。Ａ／Ｆが１４．６未満では、炭化水素吸着触媒の三
元触媒層の浄化性能の改良効果が十分でない。
水素の浄化効率を向上させるために、炭化水素吸着触媒
の触媒層中に挿入された温度検出器の検出値が所定温度
以上になった時に、炭化水素吸着触媒の後部分に設置し
たＡ／Ｆ検知器が１４．６以上になるように、該炭化水
素吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触媒中に、
酸素あるいは／又は空気を添加する。炭化水素吸着触媒
の触媒層中に挿入された温度検出器の検出値が所定温度
未満では、炭化水素吸着触媒の三元触媒層の活性化が不
十分であるため、酸素あるいは／又は空気を添加によっ
て、逆に、脱離炭化水素の浄化性能が低下する。更に、
炭化水素吸着触媒の上流に添加する酸素あるいは／又は
空気は、炭化水素吸着触媒の後部分に設置したＡ／Ｆ検
知器が１４．６以上になるように添加することが好まし
い。Ａ／Ｆが１４．６未満では、炭化水素吸着触媒の三
元触媒層の浄化性能の改良効果が十分でない。
【００９１】更に、炭化水素吸着触媒から脱離する炭化
水素の浄化効率を向上させるために、前部分と後部分に
設置したＡ／Ｆ検知器の検出値から炭化水素の脱離が検
知された時に、炭化水素吸着触媒の後部分に配置したＡ
／Ｆ検知器Ａ／Ｆ＝14.6以上になるように、該炭化水素
吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触媒中に、酸
素あるいは／又は空気を添加する。
水素の浄化効率を向上させるために、前部分と後部分に
設置したＡ／Ｆ検知器の検出値から炭化水素の脱離が検
知された時に、炭化水素吸着触媒の後部分に配置したＡ
／Ｆ検知器Ａ／Ｆ＝14.6以上になるように、該炭化水素
吸着触媒の上流、または、該炭化水素吸着触媒中に、酸
素あるいは／又は空気を添加する。
【００９２】炭化水素吸着触媒の上流に添加される酸素
あるいは／又は空気量を最小限にし、炭化水素吸着触媒
の三元触媒層の活性化を著しく促進するには、炭化水素
吸着触媒の前部分と後部分に設置したＡ／Ｆ検知器の検
出値の差から炭化水素の脱離が検知された時に、炭化水
素吸着触媒の後部分に設置したＡ／Ｆ検知器が14.6以上
になるように添加することが好ましい。Ａ／Ｆが14.6未
満では、炭化水素吸着触媒の三元触媒層の浄化性能が改
良効果が十分でない。
あるいは／又は空気量を最小限にし、炭化水素吸着触媒
の三元触媒層の活性化を著しく促進するには、炭化水素
吸着触媒の前部分と後部分に設置したＡ／Ｆ検知器の検
出値の差から炭化水素の脱離が検知された時に、炭化水
素吸着触媒の後部分に設置したＡ／Ｆ検知器が14.6以上
になるように添加することが好ましい。Ａ／Ｆが14.6未
満では、炭化水素吸着触媒の三元触媒層の浄化性能が改
良効果が十分でない。
【００９３】また、第三及び第四の発明の好適な実施態
様について説明する。この発明は、当該炭化水素吸着触
媒の前段に、該パラジウムを含む排気ガス浄化触媒を配
置する排気ガス浄化装置において、該パラジウムを含む
排気ガス浄化触媒での未浄化成分（ＨＣ，ＣＯ，ＮＯx
）を効率良く浄化するため、該パラジウムを含む排気
ガス浄化触媒に含まれるロジウム量が、下流側に配置し
た炭化水素吸着触媒に含まれるロジウム量より少なくす
ることが好ましい。該パラジウムを含む排気ガス浄化触
媒に含まれるロジウム量を下流側に配置した炭化水素吸
着触媒に含まれるロジウム量より少なくすることによっ
て、該パラジウムを含む排気ガス浄化触媒で浄化できな
かった低濃度の排気ガス成分の浄化性能が向上する。
様について説明する。この発明は、当該炭化水素吸着触
媒の前段に、該パラジウムを含む排気ガス浄化触媒を配
置する排気ガス浄化装置において、該パラジウムを含む
排気ガス浄化触媒での未浄化成分（ＨＣ，ＣＯ，ＮＯx
）を効率良く浄化するため、該パラジウムを含む排気
ガス浄化触媒に含まれるロジウム量が、下流側に配置し
た炭化水素吸着触媒に含まれるロジウム量より少なくす
ることが好ましい。該パラジウムを含む排気ガス浄化触
媒に含まれるロジウム量を下流側に配置した炭化水素吸
着触媒に含まれるロジウム量より少なくすることによっ
て、該パラジウムを含む排気ガス浄化触媒で浄化できな
かった低濃度の排気ガス成分の浄化性能が向上する。
【００９４】また、該パラジウムを含む排気ガス浄化触
媒に含まれるロジウム量と下流側に配置した炭化水素吸
着触媒に含まれるロジウム量の重量比は、等量（１／
１）以下とすることが好ましい。該ロジウムの重量比が
等量以上では低濃度排気ガス成分の浄化性能が十分に発
現しない。
媒に含まれるロジウム量と下流側に配置した炭化水素吸
着触媒に含まれるロジウム量の重量比は、等量（１／
１）以下とすることが好ましい。該ロジウムの重量比が
等量以上では低濃度排気ガス成分の浄化性能が十分に発
現しない。
【００９５】また、第三及び第四の発明の好適な実施態
様について説明する。この発明は、炭化水素吸着触媒か
ら脱離する炭化水素の浄化効率を向上させるために、排
気ガス上流にパラジウム、白金及びロジウムからなる群
より選ばれた少なくとも一種を含む三元触媒を配置し、
その下流に炭化水素吸着触媒を二個以上配置する排気ガ
ス浄化装置である。炭化水素吸着触媒を二個以上配置す
ることによって、エンジン始動直後に排出される低温域
の炭化水素を分散吸着させ、炭化水素吸着材の上部に配
置した三元触媒層が酸素不足状態に曝される時間を短縮
し、脱離炭化水素に対する浄化性能を著しく向上する。
様について説明する。この発明は、炭化水素吸着触媒か
ら脱離する炭化水素の浄化効率を向上させるために、排
気ガス上流にパラジウム、白金及びロジウムからなる群
より選ばれた少なくとも一種を含む三元触媒を配置し、
その下流に炭化水素吸着触媒を二個以上配置する排気ガ
ス浄化装置である。炭化水素吸着触媒を二個以上配置す
ることによって、エンジン始動直後に排出される低温域
の炭化水素を分散吸着させ、炭化水素吸着材の上部に配
置した三元触媒層が酸素不足状態に曝される時間を短縮
し、脱離炭化水素に対する浄化性能を著しく向上する。
【００９６】また、第三及び第四の発明の好適な実施態
様について説明する。この発明は、炭化水素吸着触媒か
ら脱離する炭化水素の浄化効率を向上させるために、排
気ガス上流にパラジウム、白金及びロジウムからなる群
より選ばれた少なくとも一種を含む三元触媒を配置し、
その下流に炭化水素吸着触媒を二個以上配置し、該複数
個の炭化水素吸着触媒が、エンジンからの距離が異なる
位置に設けられ、各炭化水素吸着触媒の昇温速度が異な
る排気ガス浄化装置である。複数個配置した炭化水素吸
着触媒の昇温速度が異なることによって、前段の炭化水
素吸着触媒の未浄化脱離ＨＣを後段の炭化水素吸着触媒
で再吸着させ、脱離炭化水素に対する浄化性能を著しく
向上する。
様について説明する。この発明は、炭化水素吸着触媒か
ら脱離する炭化水素の浄化効率を向上させるために、排
気ガス上流にパラジウム、白金及びロジウムからなる群
より選ばれた少なくとも一種を含む三元触媒を配置し、
その下流に炭化水素吸着触媒を二個以上配置し、該複数
個の炭化水素吸着触媒が、エンジンからの距離が異なる
位置に設けられ、各炭化水素吸着触媒の昇温速度が異な
る排気ガス浄化装置である。複数個配置した炭化水素吸
着触媒の昇温速度が異なることによって、前段の炭化水
素吸着触媒の未浄化脱離ＨＣを後段の炭化水素吸着触媒
で再吸着させ、脱離炭化水素に対する浄化性能を著しく
向上する。
【００９７】尚、第一の発明の排気ガス用触媒におい
て、低温域で排出される種々の炭化水素に対する吸着能
を向上するため、β−ゼオライトを主成分とした炭化水
素吸着材層中に、更に、モルデナイト、Ｙ、ＵＳＹ、Ｍ
ＦＩ型からなる群より選ばれた少なくとも一種を５重量
％から４５重量％含有することができる。かかるモルデ
ナイト、Ｙ、ＵＳＹ、ＭＦＩ型からなる群より選ばれた
少なくとも一種からなるＨＣ吸着材の含有量は、全ＨＣ
吸着材量の５重量％から４５重量％である。５重量％未
満だと十分な細孔径分布効果が得られず、逆に、４５重
量％より多く使用すると、この効果が飽和もしくはβ−
ゼオライトの性能改良効果を低下させる。
て、低温域で排出される種々の炭化水素に対する吸着能
を向上するため、β−ゼオライトを主成分とした炭化水
素吸着材層中に、更に、モルデナイト、Ｙ、ＵＳＹ、Ｍ
ＦＩ型からなる群より選ばれた少なくとも一種を５重量
％から４５重量％含有することができる。かかるモルデ
ナイト、Ｙ、ＵＳＹ、ＭＦＩ型からなる群より選ばれた
少なくとも一種からなるＨＣ吸着材の含有量は、全ＨＣ
吸着材量の５重量％から４５重量％である。５重量％未
満だと十分な細孔径分布効果が得られず、逆に、４５重
量％より多く使用すると、この効果が飽和もしくはβ−
ゼオライトの性能改良効果を低下させる。
【００９８】更に、β−ゼオライトを主成分としたＨＣ
吸着材の高温下における構造安定性（耐熱性）、コール
ドＨＣの吸着能や温度上昇時のＨＣ脱離抑制能を向上す
るため、白金、パラジウム、リン、ホウ素、マグネシウ
ム及びカルシウムからなる群より選ばれた一種を含有す
ることができる。かかる元素の含有量は、ＨＣ吸着材に
対して、0.1 重量％から１０重量％である。0.1 重量％
未満だと十分な改良効果が得られず、逆に、１０重量％
より多く使用すると、ゼオライトの細孔が閉塞しＨＣ吸
着能が低下する。
吸着材の高温下における構造安定性（耐熱性）、コール
ドＨＣの吸着能や温度上昇時のＨＣ脱離抑制能を向上す
るため、白金、パラジウム、リン、ホウ素、マグネシウ
ム及びカルシウムからなる群より選ばれた一種を含有す
ることができる。かかる元素の含有量は、ＨＣ吸着材に
対して、0.1 重量％から１０重量％である。0.1 重量％
未満だと十分な改良効果が得られず、逆に、１０重量％
より多く使用すると、ゼオライトの細孔が閉塞しＨＣ吸
着能が低下する。
【００９９】更に、ＨＣ吸着材で吸着したＨＣが脱離す
る際の浄化効率を向上するため、ＨＣ吸着材層の上部
に、パラジウムとジルコニウム、ネオジウム及びランタ
ンからなる群より選ばれた一種を金属換算で１〜４０モ
ル％、セリウムを６０〜９８モル％含むセリウム酸化物
を含有する触媒成分層を配置することができる。
る際の浄化効率を向上するため、ＨＣ吸着材層の上部
に、パラジウムとジルコニウム、ネオジウム及びランタ
ンからなる群より選ばれた一種を金属換算で１〜４０モ
ル％、セリウムを６０〜９８モル％含むセリウム酸化物
を含有する触媒成分層を配置することができる。
【０１００】特に、パラジウムの浄化性能と耐久性を向
上させるため、パラジウム含有触媒成分層中に、ジルコ
ニウム、ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれ
た一種を金属換算で１〜４０モル％、セリウムを６０〜
９８モル％含むセリウム酸化物を含有させることによっ
て、酸素吸蔵能の高いセリウム酸化物が、リッチ雰囲気
及びストイキ近傍で格子酸素や吸着酸素を放出し易くな
るため、パラジウムの酸化状態を排気ガスの浄化に適し
たものとし、パラジウムの触媒能の低下を抑制できる。
かかるセリウム酸化物の使用量は、触媒１Ｌあたり５〜
１００ｇである。５ｇ未満だと十分な貴金属の分散性が
得られず、１００ｇより多く使用しても改良効果は飽和
し有効でない。
上させるため、パラジウム含有触媒成分層中に、ジルコ
ニウム、ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれ
た一種を金属換算で１〜４０モル％、セリウムを６０〜
９８モル％含むセリウム酸化物を含有させることによっ
て、酸素吸蔵能の高いセリウム酸化物が、リッチ雰囲気
及びストイキ近傍で格子酸素や吸着酸素を放出し易くな
るため、パラジウムの酸化状態を排気ガスの浄化に適し
たものとし、パラジウムの触媒能の低下を抑制できる。
かかるセリウム酸化物の使用量は、触媒１Ｌあたり５〜
１００ｇである。５ｇ未満だと十分な貴金属の分散性が
得られず、１００ｇより多く使用しても改良効果は飽和
し有効でない。
【０１０１】更に、パラジウムの耐被毒性や浄化性能を
向上するため、パラジウムを含有する触媒成分層の上部
に、白金、ロジウム、セリウム、ネオジウム及びランタ
ンからなる群より選ばれた一種を金属換算で１〜３０モ
ル％、ジルコニウムを７０〜９８モル％含むジルコニウ
ム酸化物、活性アルミナを含有する触媒成分層を配置す
ることができる。前記白金やロジウムが担持される基材
としては、白金やロジウムの耐久性を向上させるため、
ジルコニウム酸化物が適切である。特に、酸素吸蔵能の
高いセリウム含有ジルコニウム酸化物が、リッチ雰囲気
及びストイキ近傍で格子酸素や吸着酸素を放出し易くな
るため、白金やロジウムの酸化状態を排気ガスの浄化に
適したものとし、白金やロジウムの触媒能の低下を抑制
できる。
向上するため、パラジウムを含有する触媒成分層の上部
に、白金、ロジウム、セリウム、ネオジウム及びランタ
ンからなる群より選ばれた一種を金属換算で１〜３０モ
ル％、ジルコニウムを７０〜９８モル％含むジルコニウ
ム酸化物、活性アルミナを含有する触媒成分層を配置す
ることができる。前記白金やロジウムが担持される基材
としては、白金やロジウムの耐久性を向上させるため、
ジルコニウム酸化物が適切である。特に、酸素吸蔵能の
高いセリウム含有ジルコニウム酸化物が、リッチ雰囲気
及びストイキ近傍で格子酸素や吸着酸素を放出し易くな
るため、白金やロジウムの酸化状態を排気ガスの浄化に
適したものとし、白金やロジウムの触媒能の低下を抑制
できる。
【０１０２】かかるジルコニウム酸化物のセリウム含有
量は0.01モル％から３０モル％である。セリウム含有量
が0.01モル％未満ではＺｒＯ2 のみの場合と変わらず、
上記した元素のＺｒＯ2 のセリウムの酸素吸蔵能による
改良効果が現れない。また、セリウム含有量が３０モル
％を越えるとこの効果が飽和もしくは逆にＢＥＴ比表面
積や熱安定性が低下する。ジルコニウム酸化物の使用量
は、触媒１Ｌあたり５〜１００ｇである。５ｇ未満だと
十分な貴金属の分散性が得られず、１００ｇより多く使
用しても改良効果は飽和し有効でない。
量は0.01モル％から３０モル％である。セリウム含有量
が0.01モル％未満ではＺｒＯ2 のみの場合と変わらず、
上記した元素のＺｒＯ2 のセリウムの酸素吸蔵能による
改良効果が現れない。また、セリウム含有量が３０モル
％を越えるとこの効果が飽和もしくは逆にＢＥＴ比表面
積や熱安定性が低下する。ジルコニウム酸化物の使用量
は、触媒１Ｌあたり５〜１００ｇである。５ｇ未満だと
十分な貴金属の分散性が得られず、１００ｇより多く使
用しても改良効果は飽和し有効でない。
【０１０３】また、パラジウムの低温活性を向上するた
め、カリウムやバリウムを含有することができる。かか
る元素の含有量は触媒１Ｌ中１〜４０ｇである。１ｇ未
満では、ＨＣ類の貴金属に対する吸着被毒の緩和やパラ
ジウムのシンタリングを抑制できず、逆に、４０ｇを越
えても有為な増量効果が得られず、逆に性能を低下させ
る。
め、カリウムやバリウムを含有することができる。かか
る元素の含有量は触媒１Ｌ中１〜４０ｇである。１ｇ未
満では、ＨＣ類の貴金属に対する吸着被毒の緩和やパラ
ジウムのシンタリングを抑制できず、逆に、４０ｇを越
えても有為な増量効果が得られず、逆に性能を低下させ
る。
【０１０４】図に、本発明の排気ガス浄化装置の実施に
当たりリーン化時間を設定するための手順を示すフロー
シートを示す。リーン化時間は、このフローに従って定
められた。シート中、Ｓ１〜Ｓ１８は以下の意味を有す
る。
当たりリーン化時間を設定するための手順を示すフロー
シートを示す。リーン化時間は、このフローに従って定
められた。シート中、Ｓ１〜Ｓ１８は以下の意味を有す
る。
【０１０５】尚、このフローは、所定時間毎に実行され
る。 Ｓ１ エンジン始動時かどうか判定する。 例えば、前回このフローを実行したときのスターターＳＷがＯＮであり 、今回ＯＦＦのとき始動時と判断し、Ｓ２〜Ｓ５の初期設定を行う。 Ｓ２ ＨＣ吸着触媒の温度（入口温度あるいは触媒層温度）を検出する。 簡単には、エンジン冷却水温度で代用しても良い。 Ｓ３ Ｓ２で求めた触媒温度に基づいてＨＣ吸着触媒の吸着容量を推定する。 Ｓ４ Ｓ２で求めた吸着容量に基づいてＨＣ吸着触媒からＨＣの脱離が開始さ れる時期（始動からの経過時間）を推定する。 Ｓ５ Ｓ２で求めた吸着容量に基づいてＨＣの脱離が始まってから完了するま で要する時間を推定する。 Ｓ６ エンジン始動時からの経過時間を計測する。 Ｓ７ ＨＣ吸着触媒からＨＣが脱離する時期になったかどうか判定する。 ここでは、Ｓ４で推定したＨＣ脱離開始と始動からの経過時間を比較す ることで判定しているが、他の方法としては、エンジン始動後も触媒温度 の検出あるいは推定を継続して行い、この触媒温度と脱離温度とを比較す ることで判定を行っても良い。 Ｓ８ 始動後の経過時間が所定時間（例えば６０秒）未満かどうかを判定する 。 Ｓ９ Ｓ８の判定がＹＥＳの場合、空燃比をリーンに設定する。 空燃比を理論空燃比より１０％程度リーンにすると、触媒の活性開始温 度が低下し、触媒の早期活性を図ることができる。 Ｓ１０ Ｓ８の判定がＮＯの場合、空燃比をストイキに設定する。 （リーン空燃比による運転は、ＮＯx の発生量を増加させるデメリッ トもあるので、必要最小限とする。） Ｓ１１ 始動後の経過時間が所定時間（例えば４０秒）未満かどうかを判定す る。 Ｓ１２ Ｓ１１の判定がＹＥＳの場合、点火時期を通常時の点火時期よりも遅 角側の時期に設定する。 点火時期を遅角させことにより、排気ガス温度を上昇させ、かつ、未 燃のＨＣを触媒に供給することで触媒の早期活性を図ることができる。 Ｓ１３ Ｓ１１の判定がＮＯの場合、点火時期を通常の点火時期に設定する。 （点火時期の遅角は、発生トルクを低下させる（＝燃費が悪化する） デメリットもあるので、必要最小限とする。） Ｓ１４ ＨＣの脱離が開始されてからの経過時間を計測する。 Ｓ１５ ＨＣ脱離中であるかどうかを判定する。 Ｓ１６ 触媒下流に配設した空燃比センサの出力が、所定値未満かどうか、す なわち、所定のリーン空燃比を越えていないかどうか判定する。 Ｓ１５でＨＣ脱離中と判断された場合は、基本的には次のＳ１７でリ ーン空燃比制御を実行するが、触媒下流空燃比センサが所定のリーン空 燃比以上を示したら通常制御を行う。 Ｓ１７ Ｓ１５でＹＥＳの場合、空燃比をリーンに設定する。 ＨＣ脱離中は、触媒がリッチ雰囲気となってＨＣの酸化処理効率が低 下するので、空燃比をリーンとして効率の低下を防止する。 ＨＣの脱離特性に合わせて、脱離するＨＣ量に見合う酸素を供給する 程度にリーン空燃比を設定すると良い。 Ｓ１８ Ｓ１５でＮＯの場合（＝ＨＣの脱離が完了した後）は、通常制御を行 う。
る。 Ｓ１ エンジン始動時かどうか判定する。 例えば、前回このフローを実行したときのスターターＳＷがＯＮであり 、今回ＯＦＦのとき始動時と判断し、Ｓ２〜Ｓ５の初期設定を行う。 Ｓ２ ＨＣ吸着触媒の温度（入口温度あるいは触媒層温度）を検出する。 簡単には、エンジン冷却水温度で代用しても良い。 Ｓ３ Ｓ２で求めた触媒温度に基づいてＨＣ吸着触媒の吸着容量を推定する。 Ｓ４ Ｓ２で求めた吸着容量に基づいてＨＣ吸着触媒からＨＣの脱離が開始さ れる時期（始動からの経過時間）を推定する。 Ｓ５ Ｓ２で求めた吸着容量に基づいてＨＣの脱離が始まってから完了するま で要する時間を推定する。 Ｓ６ エンジン始動時からの経過時間を計測する。 Ｓ７ ＨＣ吸着触媒からＨＣが脱離する時期になったかどうか判定する。 ここでは、Ｓ４で推定したＨＣ脱離開始と始動からの経過時間を比較す ることで判定しているが、他の方法としては、エンジン始動後も触媒温度 の検出あるいは推定を継続して行い、この触媒温度と脱離温度とを比較す ることで判定を行っても良い。 Ｓ８ 始動後の経過時間が所定時間（例えば６０秒）未満かどうかを判定する 。 Ｓ９ Ｓ８の判定がＹＥＳの場合、空燃比をリーンに設定する。 空燃比を理論空燃比より１０％程度リーンにすると、触媒の活性開始温 度が低下し、触媒の早期活性を図ることができる。 Ｓ１０ Ｓ８の判定がＮＯの場合、空燃比をストイキに設定する。 （リーン空燃比による運転は、ＮＯx の発生量を増加させるデメリッ トもあるので、必要最小限とする。） Ｓ１１ 始動後の経過時間が所定時間（例えば４０秒）未満かどうかを判定す る。 Ｓ１２ Ｓ１１の判定がＹＥＳの場合、点火時期を通常時の点火時期よりも遅 角側の時期に設定する。 点火時期を遅角させことにより、排気ガス温度を上昇させ、かつ、未 燃のＨＣを触媒に供給することで触媒の早期活性を図ることができる。 Ｓ１３ Ｓ１１の判定がＮＯの場合、点火時期を通常の点火時期に設定する。 （点火時期の遅角は、発生トルクを低下させる（＝燃費が悪化する） デメリットもあるので、必要最小限とする。） Ｓ１４ ＨＣの脱離が開始されてからの経過時間を計測する。 Ｓ１５ ＨＣ脱離中であるかどうかを判定する。 Ｓ１６ 触媒下流に配設した空燃比センサの出力が、所定値未満かどうか、す なわち、所定のリーン空燃比を越えていないかどうか判定する。 Ｓ１５でＨＣ脱離中と判断された場合は、基本的には次のＳ１７でリ ーン空燃比制御を実行するが、触媒下流空燃比センサが所定のリーン空 燃比以上を示したら通常制御を行う。 Ｓ１７ Ｓ１５でＹＥＳの場合、空燃比をリーンに設定する。 ＨＣ脱離中は、触媒がリッチ雰囲気となってＨＣの酸化処理効率が低 下するので、空燃比をリーンとして効率の低下を防止する。 ＨＣの脱離特性に合わせて、脱離するＨＣ量に見合う酸素を供給する 程度にリーン空燃比を設定すると良い。 Ｓ１８ Ｓ１５でＮＯの場合（＝ＨＣの脱離が完了した後）は、通常制御を行 う。
【０１０６】
【実施例】本発明を次の実施例及び比較例により説明す
る。 実施例１ βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝７５）５１
１ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７ｇ、、シリカゾル
（固形分２０％）１２１５ｇ、純水１８００ｇを磁性ボ
ールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。こ
のスラリー液をコージェライト質モノリス担体（３００
セル／６ミル、ＧＳＡ２４．１ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力直
径１．３ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰の
スラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。この時の塗布量として、焼成後に１００ｇ／Ｌにな
るまでコーティング作業を繰り返し、触媒-ａを得た。
る。 実施例１ βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝７５）５１
１ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７ｇ、、シリカゾル
（固形分２０％）１２１５ｇ、純水１８００ｇを磁性ボ
ールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。こ
のスラリー液をコージェライト質モノリス担体（３００
セル／６ミル、ＧＳＡ２４．１ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力直
径１．３ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰の
スラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。この時の塗布量として、焼成後に１００ｇ／Ｌにな
るまでコーティング作業を繰り返し、触媒-ａを得た。
【０１０７】Ｃｅ３ｍｏｌ％（ＣｅＯ2 に換算して９．
５重量％）を含むアルミナ粉末に、ジニトロジアミンパ
ラジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５
０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次い
で、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持アルミナ粉末
（粉末ａ）を得た。この粉末ａのＰｄ濃度は６．２３重
量％であった。粉末ａには、ランタン、ジルコニウム、
ネオジウム等が含まれてもよい。
５重量％）を含むアルミナ粉末に、ジニトロジアミンパ
ラジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５
０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次い
で、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持アルミナ粉末
（粉末ａ）を得た。この粉末ａのＰｄ濃度は６．２３重
量％であった。粉末ａには、ランタン、ジルコニウム、
ネオジウム等が含まれてもよい。
【０１０８】Ｌａ１モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算して１重
量％）とＺｒ３２モル％（ＺｒＯ2に換算して２５重量
％）含有セリウム酸化物粉末に、ジニトロジアミンパラ
ジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５０
℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、
６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末
（粉末ｂ）を得た。この粉末ａのＰｄ濃度は２．０重量
％であった。
量％）とＺｒ３２モル％（ＺｒＯ2に換算して２５重量
％）含有セリウム酸化物粉末に、ジニトロジアミンパラ
ジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５０
℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、
６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末
（粉末ｂ）を得た。この粉末ａのＰｄ濃度は２．０重量
％であった。
【０１０９】上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）５６
２ｇ、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）２８８
ｇ、硝酸酸性アルミナゾル９５０ｇ（ベーマイトアルミ
ナ１０重量％に１０重量％の硝酸を添加することによっ
て得られたゾル）及び純水１０００ｇを磁性ボールミル
に投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリ
ー液を上記コート触媒−ａに付着させ、空気流にてセル
内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１
時間焼成し、コート層重量６０ｇ／Ｌを塗布し、触媒−
ｂを得た。
２ｇ、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）２８８
ｇ、硝酸酸性アルミナゾル９５０ｇ（ベーマイトアルミ
ナ１０重量％に１０重量％の硝酸を添加することによっ
て得られたゾル）及び純水１０００ｇを磁性ボールミル
に投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリ
ー液を上記コート触媒−ａに付着させ、空気流にてセル
内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１
時間焼成し、コート層重量６０ｇ／Ｌを塗布し、触媒−
ｂを得た。
【０１１０】Ｚｒ３重量％を含むアルミナ粉末に、硝酸
ロジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５
０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次い
で、６００℃で１時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉末
（粉末ｃ）を得た。この粉末ｃのＲｈ濃度は１．２５重
量％であった。
ロジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５
０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次い
で、６００℃で１時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉末
（粉末ｃ）を得た。この粉末ｃのＲｈ濃度は１．２５重
量％であった。
【０１１１】上記Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末ｃ）３６
６ｇ、Ｌａ１モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算して１．２重量
％）とＣｅ２０モル％（ＣｅＯ2 に換算して２５．８重
量％）のジルコニウム酸化物粉末３００ｇ、硝酸酸性ア
ルミナゾル１１３５ｇを磁性ボールミルに投入し、混合
粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コー
ト触媒−ｂに付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラ
リーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コ
ート層重量４０ｇ／Ｌを塗布し、触媒を得た。上記セリ
ウム酸化物粉末、アルミナ粉末にはランタン、ネオジウ
ム等が含まれてもよい。次いで、上記触媒成分担持コー
ジェライト質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着さ
せた後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ
／Ｌを含有させた。
６ｇ、Ｌａ１モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算して１．２重量
％）とＣｅ２０モル％（ＣｅＯ2 に換算して２５．８重
量％）のジルコニウム酸化物粉末３００ｇ、硝酸酸性ア
ルミナゾル１１３５ｇを磁性ボールミルに投入し、混合
粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記コー
ト触媒−ｂに付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラ
リーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成し、コ
ート層重量４０ｇ／Ｌを塗布し、触媒を得た。上記セリ
ウム酸化物粉末、アルミナ粉末にはランタン、ネオジウ
ム等が含まれてもよい。次いで、上記触媒成分担持コー
ジェライト質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着さ
せた後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ
／Ｌを含有させた。
【０１１２】実施例２ ゼオライトとして、βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／
２Ａｌ＝７５）３１３ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末２５
５ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１２１５ｇを用いた
以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得
た。
２Ａｌ＝７５）３１３ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末２５
５ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１２１５ｇを用いた
以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得
た。
【０１１３】実施例３ ゼオライトとして、βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／
２Ａｌ＝７５）４５４ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７
ｇ、ＵＳＹ粉末５７ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１
２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして排気ガ
ス浄化用触媒を得た。
２Ａｌ＝７５）４５４ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７
ｇ、ＵＳＹ粉末５７ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１
２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして排気ガ
ス浄化用触媒を得た。
【０１１４】実施例４ ゼオライトとして、βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／
２Ａｌ＝７５）４５４ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７
ｇ、ＡｌＰＯ4 粉末５７ｇ、シリカゾル（固形分２０
％）１２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして
排気ガス浄化用触媒を得た。
２Ａｌ＝７５）４５４ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７
ｇ、ＡｌＰＯ4 粉末５７ｇ、シリカゾル（固形分２０
％）１２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして
排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１１５】実施例５ ゼオライトとして、βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／
２Ａｌ＝７５）４５４ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７
ｇ、ＳＡＰＯ4 粉末５７ｇ、シリカゾル（固形分２０
％）１２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして
排気ガス浄化用触媒を得た。
２Ａｌ＝７５）４５４ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７
ｇ、ＳＡＰＯ4 粉末５７ｇ、シリカゾル（固形分２０
％）１２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして
排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１１６】実施例６ ゼオライトとして、βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／
２Ａｌ＝７５）４５４ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７
ｇ、モルデナイト粉末５７ｇ、シリカゾル（固形分２０
％）１２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして
排気ガス浄化用触媒を得た。
２Ａｌ＝７５）４５４ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７
ｇ、モルデナイト粉末５７ｇ、シリカゾル（固形分２０
％）１２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして
排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１１７】実施例７ ゼオライトとして、βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／
２Ａｌ＝７５）４５４ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７
ｇ、フェリエライト粉末２３．５ｇ、Ａ型ゼオライト粉
末２３．５ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１２１５ｇ
を用いた以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用
触媒を得た。
２Ａｌ＝７５）４５４ｇ、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末５７
ｇ、フェリエライト粉末２３．５ｇ、Ａ型ゼオライト粉
末２３．５ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１２１５ｇ
を用いた以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用
触媒を得た。
【０１１８】実施例８ ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末に、Ｐｄを含浸担持し、１５０
℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ｐ
ｄ担持ＭＦＩ粉末（Ｐｄ濃度２．０重量％）を得た。Ｍ
ＦＩ粉末の代わりに、Ｐｄ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ｐ
ｄ担持ＭＦＩ粉末（Ｐｄ濃度２．０重量％）を得た。Ｍ
ＦＩ粉末の代わりに、Ｐｄ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１１９】実施例９ ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末に、Ｐを含浸担持し、１５０℃
で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ｐ担
持ＭＦＩ粉末（Ｐｄ濃度０．４重量％）を得た。ＭＦＩ
粉末の代わりに、Ｐ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外は、実
施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ｐ担
持ＭＦＩ粉末（Ｐｄ濃度０．４重量％）を得た。ＭＦＩ
粉末の代わりに、Ｐ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外は、実
施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１２０】実施例１０ ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末に、Ｃａを含浸担持し、１５０
℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ｃ
ａ担持ＭＦＩ粉末（Ｃａ濃度０．２重量％）を得た。Ｍ
ＦＩ粉末の代わりに、Ｃａ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ｃ
ａ担持ＭＦＩ粉末（Ｃａ濃度０．２重量％）を得た。Ｍ
ＦＩ粉末の代わりに、Ｃａ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１２１】実施例１１ ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末に、Ｍｇを含浸担持し、１５０
℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ｍ
ｇ担持ＭＦＩ粉末（Ｍｇ濃度０．４重量％）を得た。Ｍ
ＦＩ粉末の代わりに、Ｍｇ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ｍ
ｇ担持ＭＦＩ粉末（Ｍｇ濃度０．４重量％）を得た。Ｍ
ＦＩ粉末の代わりに、Ｍｇ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１２２】実施例１２ ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末に、Ｌａを含浸担持し、１５０
℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ｌ
ａ担持ＭＦＩ粉末（Ｌａ濃度０．４重量％）を得た。Ｍ
ＦＩ粉末の代わりに、Ｌａ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ｌ
ａ担持ＭＦＩ粉末（Ｌａ濃度０．４重量％）を得た。Ｍ
ＦＩ粉末の代わりに、Ｌａ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１２３】実施例１３ ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末に、Ｂ（ホウ素）を含浸担持
し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間
焼成し、Ｂ担持ＭＦＩ粉末（Ｂ濃度０．４重量％）を得
た。ＭＦＩ粉末の代わりに、Ｂ担持ＭＦＩ粉末を用いた
以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得
た。
し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間
焼成し、Ｂ担持ＭＦＩ粉末（Ｂ濃度０．４重量％）を得
た。ＭＦＩ粉末の代わりに、Ｂ担持ＭＦＩ粉末を用いた
以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得
た。
【０１２４】実施例１４ ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末に、Ｐ，Ｃａ，Ｚｒ，Ｌａを逐
次含浸、乾燥、焼成により担持したＰ−Ｃａ−Ｚｒ−Ｌ
ａ担持ＭＦＩ粉末（各金属濃度０．１重量％、総金属濃
度０．４重量％）を得た。ＭＦＩ粉末の代わりに、Ｐ−
Ｃａ−Ｚｒ−Ｌａ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外は、実施
例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
次含浸、乾燥、焼成により担持したＰ−Ｃａ−Ｚｒ−Ｌ
ａ担持ＭＦＩ粉末（各金属濃度０．１重量％、総金属濃
度０．４重量％）を得た。ＭＦＩ粉末の代わりに、Ｐ−
Ｃａ−Ｚｒ−Ｌａ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外は、実施
例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１２５】実施例１５ ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末に、Ｐ，Ｍｇ，Ｚｒ，Ｃｅを逐
次含浸、乾燥、焼成により担持したＰ−Ｍｇ−Ｚｒ−Ｃ
ｅ担持ＭＦＩ粉末（各金属濃度０．１重量％、総金属濃
度０．４重量％）を得た。ＭＦＩ粉末の代わりに、Ｐ−
Ｍｇ−Ｚｒ−Ｃｅ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外は、実施
例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
次含浸、乾燥、焼成により担持したＰ−Ｍｇ−Ｚｒ−Ｃ
ｅ担持ＭＦＩ粉末（各金属濃度０．１重量％、総金属濃
度０．４重量％）を得た。ＭＦＩ粉末の代わりに、Ｐ−
Ｍｇ−Ｚｒ−Ｃｅ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外は、実施
例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１２６】実施例１６ ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末に、Ｂ，Ｃａ，Ｌａ，Ｎｄを逐
次含浸、乾燥、焼成により担持したＢ−Ｃａ−Ｌａ−Ｎ
ｄ担持ＭＦＩ粉末（各金属濃度０．１重量％、総金属濃
度０．４重量％）を得た。ＭＦＩ粉末の代わりに、Ｂ−
Ｃａ−Ｌａ−Ｎｄ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外は、実施
例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
次含浸、乾燥、焼成により担持したＢ−Ｃａ−Ｌａ−Ｎ
ｄ担持ＭＦＩ粉末（各金属濃度０．１重量％、総金属濃
度０．４重量％）を得た。ＭＦＩ粉末の代わりに、Ｂ−
Ｃａ−Ｌａ−Ｎｄ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外は、実施
例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１２７】実施例１７ Ｚｒ３重量％を含むアルミナ粉末に、硝酸ロジウム水溶
液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時
間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で
１時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末ｃ）を得
た。この粉末ｃのＲｈ濃度は１．２５重量％であった。
Ｌａ１モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算して１．２重量％）と
Ｃｅ２０モル％（ＣｅＯ2 に換算して２５．８重量％）
のジルコニウム酸化物粉末に、ジニトロジアミン白金水
溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４
時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃
で１時間焼成し、Ｐｔ担持ジルコニウム酸化物粉末（粉
末ｄ）を得た。この粉末ｄのＰｔ濃度は１．５３重量％
であった。上記Ｒｈ担持アルミナ粉末ｃ３６６ｇ、Ｐｔ
担持ジルコニウム酸化物粉末（粉末ｄ）３００ｇ、硝酸
酸性アルミナゾル１１３５ｇを磁性ボールミルに投入
し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を
上記コート触媒−ｂに塗布する以外は、実施例１と同様
にして排気ガス浄化用触媒を得た。
液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時
間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で
１時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末ｃ）を得
た。この粉末ｃのＲｈ濃度は１．２５重量％であった。
Ｌａ１モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算して１．２重量％）と
Ｃｅ２０モル％（ＣｅＯ2 に換算して２５．８重量％）
のジルコニウム酸化物粉末に、ジニトロジアミン白金水
溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４
時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃
で１時間焼成し、Ｐｔ担持ジルコニウム酸化物粉末（粉
末ｄ）を得た。この粉末ｄのＰｔ濃度は１．５３重量％
であった。上記Ｒｈ担持アルミナ粉末ｃ３６６ｇ、Ｐｔ
担持ジルコニウム酸化物粉末（粉末ｄ）３００ｇ、硝酸
酸性アルミナゾル１１３５ｇを磁性ボールミルに投入
し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を
上記コート触媒−ｂに塗布する以外は、実施例１と同様
にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１２８】実施例１８ Ｌａ１モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算して１重量％）とＺｒ
３２モル％（ＺｒＯ2に換算して２５重量％）含有セリ
ウム酸化物粉末に、ジニトロジアミン白金水溶液を含浸
或いは高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥し
た後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼
成し、Ｐｔ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｅ）を得た。
この粉末ｅのＰｔ濃度は２．０重量％であった。上記Ｐ
ｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）５６２ｇ、Ｐｄ担持セリ
ウム酸化物粉末（粉末ｂ）１４４ｇ、Ｐｔ担持セリウム
酸化物粉末（粉末ｅ）１４４ｇ、硝酸酸性アルミナゾル
９５０ｇ（ベーマイトアルミナ１０重量％に１０重量％
の硝酸を添加することによって得られたゾル）及び純水
１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してス
ラリー液を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ａ
に塗布する以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化
用触媒を得た。
３２モル％（ＺｒＯ2に換算して２５重量％）含有セリ
ウム酸化物粉末に、ジニトロジアミン白金水溶液を含浸
或いは高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥し
た後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間焼
成し、Ｐｔ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｅ）を得た。
この粉末ｅのＰｔ濃度は２．０重量％であった。上記Ｐ
ｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）５６２ｇ、Ｐｄ担持セリ
ウム酸化物粉末（粉末ｂ）１４４ｇ、Ｐｔ担持セリウム
酸化物粉末（粉末ｅ）１４４ｇ、硝酸酸性アルミナゾル
９５０ｇ（ベーマイトアルミナ１０重量％に１０重量％
の硝酸を添加することによって得られたゾル）及び純水
１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してス
ラリー液を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ａ
に塗布する以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化
用触媒を得た。
【０１２９】実施例１９ 上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）５６２ｇ、Ｐｄ担
持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）１４４ｇ、Ｐｔ担持セ
リウム酸化物粉末（粉末ｅ）１４４ｇ、硝酸酸性アルミ
ナゾル９５０ｇ（ベーマイトアルミナ１０重量％に１０
重量％の硝酸を添加することによって得られたゾル）及
び純水１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕
してスラリー液を得た。このスラリー液をコージェライ
ト質モノリス担体に塗布する以外は、実施例１と同様に
して触媒ーｃを得た。上記Ｒｈ担持アルミナ粉末ｃ３６
６ｇ、Ｌａ１モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算して２重量％）
とＣｅ２０モル％（ＣｅＯ2 に換算して 重量％）の
ジルコニウム酸化物粉末３００ｇ、硝酸酸性アルミナゾ
ル１１３５ｇ及び純水１０００ｇを磁性ボールミルに投
入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液
を上記コート触媒−ｃに塗布する以外は、実施例１と同
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）１４４ｇ、Ｐｔ担持セ
リウム酸化物粉末（粉末ｅ）１４４ｇ、硝酸酸性アルミ
ナゾル９５０ｇ（ベーマイトアルミナ１０重量％に１０
重量％の硝酸を添加することによって得られたゾル）及
び純水１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕
してスラリー液を得た。このスラリー液をコージェライ
ト質モノリス担体に塗布する以外は、実施例１と同様に
して触媒ーｃを得た。上記Ｒｈ担持アルミナ粉末ｃ３６
６ｇ、Ｌａ１モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算して２重量％）
とＣｅ２０モル％（ＣｅＯ2 に換算して 重量％）の
ジルコニウム酸化物粉末３００ｇ、硝酸酸性アルミナゾ
ル１１３５ｇ及び純水１０００ｇを磁性ボールミルに投
入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液
を上記コート触媒−ｃに塗布する以外は、実施例１と同
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１３０】実施例２０ 酢酸バリウム溶液に代わりに酢酸カリウム溶液を用い、
同様の手順でＫ2 Ｏとして１ｇ／Ｌを含有させる以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
同様の手順でＫ2 Ｏとして１ｇ／Ｌを含有させる以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１３１】実施例２１ ＭＦＩ（ＺＳＭ５）粉末に、Ａｇを含浸担持し、１５０
℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ａ
ｇ担持ＭＦＩ粉末（Ａｇ濃度０．４重量％）を得た。Ｍ
ＦＩ粉末の代わりに、Ａｇ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
℃で２４時間乾燥した後、４５０℃で１時間焼成し、Ａ
ｇ担持ＭＦＩ粉末（Ａｇ濃度０．４重量％）を得た。Ｍ
ＦＩ粉末の代わりに、Ａｇ担持ＭＦＩ粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１３２】実施例２２ ゼオライトとして、βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／
２Ａｌ＝７５）５６８ｇ、シリカゾル（固形分２０％）
１２１５ｇを用い、ゼオライト層コート触媒−ｄを得
た。上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）３５７ｇ、Ｐ
ｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）１８３ｇ、Ｒｈ担
持アルミナ粉末（粉末ｃ）１８８ｇ、Ｌａ１モル％（Ｌ
ａ2 Ｏ3 に換算して１．２重量％）とＣｅ２０モル％
（ＣｅＯ2 に換算して２５．８重量％）のジルコニウム
酸化物粉末１５４ｇ、硝酸酸性アルミナゾル１１８５ｇ
及び純水１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉
砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記ゼオラ
イト層コート触媒−ｄに塗布する以外は、実施例１と同
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
２Ａｌ＝７５）５６８ｇ、シリカゾル（固形分２０％）
１２１５ｇを用い、ゼオライト層コート触媒−ｄを得
た。上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）３５７ｇ、Ｐ
ｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）１８３ｇ、Ｒｈ担
持アルミナ粉末（粉末ｃ）１８８ｇ、Ｌａ１モル％（Ｌ
ａ2 Ｏ3 に換算して１．２重量％）とＣｅ２０モル％
（ＣｅＯ2 に換算して２５．８重量％）のジルコニウム
酸化物粉末１５４ｇ、硝酸酸性アルミナゾル１１８５ｇ
及び純水１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉
砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記ゼオラ
イト層コート触媒−ｄに塗布する以外は、実施例１と同
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１３３】実施例２３ 上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）３５７ｇ、Ｐｄ担
持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）１８３ｇ、Ｒｈ担持ア
ルミナ粉末（粉末ｃ）１８８ｇ、Ｐｔ担持ジルコニウム
酸化物粉末（粉末ｄ）１５４ｇ、硝酸酸性アルミナゾル
１１８５ｇ及び純水を磁性ボールミルに投入し、混合粉
砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記ゼオラ
イト層コート触媒−ｄに塗布する以外は、実施例１と同
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）１８３ｇ、Ｒｈ担持ア
ルミナ粉末（粉末ｃ）１８８ｇ、Ｐｔ担持ジルコニウム
酸化物粉末（粉末ｄ）１５４ｇ、硝酸酸性アルミナゾル
１１８５ｇ及び純水を磁性ボールミルに投入し、混合粉
砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記ゼオラ
イト層コート触媒−ｄに塗布する以外は、実施例１と同
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１３４】実施例２４ Ｌａ１モル％（Ｌａ２Ｏ３に換算して１．２重量％）と
Ｃｅ２０モル％（ＣｅＯ２に換算して２５．８重量％）
のジルコニウム酸化物粉末に、硝酸ロジウム水溶液を含
浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥
した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間
焼成し、Ｒｈ担持ジルコニウム酸化物粉末（粉末ｆ）を
得た。この粉末ｆのＲｈ濃度は４．０重量％であった。
βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝７５）５６
８ｇ、Ｒｈ担持ジルコニウム酸化物粉末（粉末ｆ）３５
３ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１２１５ｇ、純水１
８００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラ
リー液を得た。このスラリー液をコージェライト質モノ
リス担体（３００セル／６ミル、ＧＳＡ２４．１ｃｍ2
／ｃｍ3 、水力直径１．１ｍｍ）に付着させ、空気流に
てセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００
℃で１時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に
１４３．５ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返
し、触媒−ｅを得た。
Ｃｅ２０モル％（ＣｅＯ２に換算して２５．８重量％）
のジルコニウム酸化物粉末に、硝酸ロジウム水溶液を含
浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥
した後、４００℃で１時間、次いで、６００℃で１時間
焼成し、Ｒｈ担持ジルコニウム酸化物粉末（粉末ｆ）を
得た。この粉末ｆのＲｈ濃度は４．０重量％であった。
βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝７５）５６
８ｇ、Ｒｈ担持ジルコニウム酸化物粉末（粉末ｆ）３５
３ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１２１５ｇ、純水１
８００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラ
リー液を得た。このスラリー液をコージェライト質モノ
リス担体（３００セル／６ミル、ＧＳＡ２４．１ｃｍ2
／ｃｍ3 、水力直径１．１ｍｍ）に付着させ、空気流に
てセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００
℃で１時間焼成した。この時の塗布量として、焼成後に
１４３．５ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返
し、触媒−ｅを得た。
【０１３５】比較例１ コージェライト質モノリス担体（９００セル／４ミル、
ＧＳＡ４１．１ｃｍ2／ｃｍ3 、水力直径０．７４ｍ
ｍ）を用いた以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄
化用触媒を得た。
ＧＳＡ４１．１ｃｍ2／ｃｍ3 、水力直径０．７４ｍ
ｍ）を用いた以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄
化用触媒を得た。
【０１３６】比較例２ 第２層をＲｈ層、第３層をＰｄ層とした以外は、実施例
１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１３７】比較例３ 第１層（ゼオライト層）と、第２及び第３三元層の総コ
ート層重量比率が、１０：１とした以外は、実施例１と
同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
ート層重量比率が、１０：１とした以外は、実施例１と
同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１３８】比較例４ 第１層（ゼオライト層）と、第２及び第３三元層の総コ
ート層重量比率が、１：５とした以外は、実施例１と同
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
ート層重量比率が、１：５とした以外は、実施例１と同
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１３９】比較例５ 第１層のゼオライト種として、Ａ型ゼオライトのみを用
いた以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒
を得た。
いた以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒
を得た。
【０１４０】比較例６ 第１層のゼオライト種として、ＵＳＹのみを用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１４１】比較例７ 第１層のゼオライト種として、ＭＦＩのみを用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。
【０１４２】比較例８ 最後にＢａを含浸担持しないこと以外は、実施例１と同
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。 以上各実施例及び参考例で得られた排気ガス浄化用触媒
の仕様を表１及び表２に示す。
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。 以上各実施例及び参考例で得られた排気ガス浄化用触媒
の仕様を表１及び表２に示す。
【０１４３】
【表１】
【０１４４】
【表２】
【０１４５】図１は、コート層構造の概略図である。
【０１４６】各実施例、および比較例について、下記評
価条件でＨＣ浄化特性評価（ＥＣモード、ＬＡ−４のＡ
−ｂａｇ）を、図２の評価システムを用いて行った。そ
の結果を表３及び表４に示す。
価条件でＨＣ浄化特性評価（ＥＣモード、ＬＡ−４のＡ
−ｂａｇ）を、図２の評価システムを用いて行った。そ
の結果を表３及び表４に示す。
【０１４７】 耐久条件 エンジン排気量 ３０００ｃｃ 燃料 ガソリン（Ｐｂ＝１２ｍｇ／ｕｓｇ，Ｓ＝３００ｐ ｐｍ） 触媒入口ガス温度 ６５０℃ 耐久時間 １００時間 性能評価条件 触媒容量（片バンク） 三元触媒１．３Ｌ＋ＨＣ吸着触媒２．６Ｌ 評価車両 日産自動車株式会社製 Ｖ型６気筒 ３．３Ｌエン ジン エンジン始動時に排出される（触媒入口のガス中の）炭化水素 炭素数 Ｃ２〜Ｃ3 ２１．０％ Ｃ４〜Ｃ6 ３３．０％ Ｃ７〜Ｃ9 ４０．０％
【０１４８】
【表３】
【０１４９】
【表４】
【０１５０】比較例に比べ実施例は、触媒活性が高く、
後述する本発明の効果を確認することができた。次に、
第二〜四の発明を以下の実施例及び比較例により説明す
る。
後述する本発明の効果を確認することができた。次に、
第二〜四の発明を以下の実施例及び比較例により説明す
る。
【０１５１】実施例２５ セリウム３モル％（ＣｅＯ2 に換算して８．７重量
％）、ジルコニウム３モル％（ＺｒＯ2 に換算して６．
３重量％）とランタン２モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算して
５．５重量％）を含有するアルミナ粉末（粉末Ａ）に硝
酸パラジウム水溶液を含浸し、１５０℃で１２時間乾燥
した後、４００℃で１時間焼成して、Ｐｄ担持アルミナ
粉末（粉末Ｂ）を得た。この粉末ＢのＰｄ濃度は１６重
量％であった。ランタン１モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算し
て２重量％）とジルコニウム３２モル％（ＺｒＯ2に換
算して２５重量％）を含むセリウム酸化物粉末（粉末
Ｃ）に硝酸パラジウム水溶液を含浸し、１５０℃で１２
時間乾燥した後、４００℃で１時間焼成して、Ｐｄ担持
セリウム酸化物（Ｌａ0.01Ｚｒ0.32Ｃｅ00.67 x ）粉末
（粉末Ｄ）を得た。この粉末ＤのＰｄ濃度は６．０重量
％であった。
％）、ジルコニウム３モル％（ＺｒＯ2 に換算して６．
３重量％）とランタン２モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算して
５．５重量％）を含有するアルミナ粉末（粉末Ａ）に硝
酸パラジウム水溶液を含浸し、１５０℃で１２時間乾燥
した後、４００℃で１時間焼成して、Ｐｄ担持アルミナ
粉末（粉末Ｂ）を得た。この粉末ＢのＰｄ濃度は１６重
量％であった。ランタン１モル％（Ｌａ2 Ｏ3 に換算し
て２重量％）とジルコニウム３２モル％（ＺｒＯ2に換
算して２５重量％）を含むセリウム酸化物粉末（粉末
Ｃ）に硝酸パラジウム水溶液を含浸し、１５０℃で１２
時間乾燥した後、４００℃で１時間焼成して、Ｐｄ担持
セリウム酸化物（Ｌａ0.01Ｚｒ0.32Ｃｅ00.67 x ）粉末
（粉末Ｄ）を得た。この粉末ＤのＰｄ濃度は６．０重量
％であった。
【０１５２】上記粉末Ｂ５６５ｇ、粉末Ｄ３７７ｇと活
性アルミナ５８．５ｇ、硝酸水溶液２０００ｇを磁性ボ
ールミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。こ
のスラリー液をコージェライト質モノリス担体（１．０
Ｌ、６００セル／４ミル、ＧＳＡ３４．５ｃｍ2 ／ｃｍ
3 、水力直径０．９３ｍｍ）に付着させ、空気流にてセ
ル内の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時
間焼成した。この作業を２度行い、コート量重量１００
ｇ／Ｌー担体の触媒を得た。パラジウム担持量は３２
０．０ｇ／ｃｆ（１１．３ｇ／Ｌ）であった（触媒
Ａ）。
性アルミナ５８．５ｇ、硝酸水溶液２０００ｇを磁性ボ
ールミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。こ
のスラリー液をコージェライト質モノリス担体（１．０
Ｌ、６００セル／４ミル、ＧＳＡ３４．５ｃｍ2 ／ｃｍ
3 、水力直径０．９３ｍｍ）に付着させ、空気流にてセ
ル内の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時
間焼成した。この作業を２度行い、コート量重量１００
ｇ／Ｌー担体の触媒を得た。パラジウム担持量は３２
０．０ｇ／ｃｆ（１１．３ｇ／Ｌ）であった（触媒
Ａ）。
【０１５３】次いで、上記触媒成分担持コージェライト
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させた後、４
００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌを含有
させた（触媒Ｂ）。
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させた後、４
００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌを含有
させた（触媒Ｂ）。
【０１５４】実施例２６ 上記粉末Ｂ５６５ｇ、粉末Ｄ３７７ｇと活性アルミナ５
８．５ｇ、硝酸水溶液２０００ｇを磁性ボールミルに投
入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー液
をコージェライト質モノリス担体に付着させ、空気流に
てセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で
１時間焼成した。この作業を２度行い、コート量重量９
１．７ｇ／Ｌー担体の触媒を得た。パラジウム担持量は
２９３．３ｇ／ｃｆ（１０．３６ｇ／Ｌ）であった（触
媒Ｃ）。
８．５ｇ、硝酸水溶液２０００ｇを磁性ボールミルに投
入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー液
をコージェライト質モノリス担体に付着させ、空気流に
てセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で
１時間焼成した。この作業を２度行い、コート量重量９
１．７ｇ／Ｌー担体の触媒を得た。パラジウム担持量は
２９３．３ｇ／ｃｆ（１０．３６ｇ／Ｌ）であった（触
媒Ｃ）。
【０１５５】Ｚｒ３重量％を含むアルミナ粉末（粉末
Ｅ）に硝酸ロジウム水溶液を含浸し、１５０℃で１２時
間乾燥した後、４００℃で１時間焼成して、Ｒｈ担持ア
ルミナ粉末（粉末Ｆ）を得た。この粉末ＦのＲｈ濃度は
４．０重量％であった。Ｌａ１モル％Ｃｅ２０モル％Ｚ
ｒ７９モル％のジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｇ）にジ
ニトロジアンミン酸白金水溶液を含浸し、１５０℃で１
２時間乾燥した後、４００℃で１時間焼成して、Ｐｔ担
持ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｈ）を得た。この粉末
ＨのＰｔ濃度は４．０重量％であった。
Ｅ）に硝酸ロジウム水溶液を含浸し、１５０℃で１２時
間乾燥した後、４００℃で１時間焼成して、Ｒｈ担持ア
ルミナ粉末（粉末Ｆ）を得た。この粉末ＦのＲｈ濃度は
４．０重量％であった。Ｌａ１モル％Ｃｅ２０モル％Ｚ
ｒ７９モル％のジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｇ）にジ
ニトロジアンミン酸白金水溶液を含浸し、１５０℃で１
２時間乾燥した後、４００℃で１時間焼成して、Ｐｔ担
持ジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｈ）を得た。この粉末
ＨのＰｔ濃度は４．０重量％であった。
【０１５６】上記粉末Ｆ１１７．５ｇ、粉末Ｈ１１７．
５ｇと、活性アルミナ１５ｇ、硝酸水溶液１０００ｇを
磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得
た。このスラリー液を前記Ｐｄ含有触媒成分層を担持し
たコージェライト質モノリス担体（触媒Ｃ）に付着さ
せ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥
し、４００℃で１時間焼成した。コート量２５ｇ／Ｌ
（コート量総重量１１６．７ｇ／Ｌ）−担体の触媒を得
た。Ｒｈの担持量は１３．３ｇ／ｃｆ（０．４８ｇ／
Ｌ）、Ｐｔの担持量は１３．３ｇ／ｃｆ（０．４８ｇ／
Ｌ）であった（触媒Ｄ）。次いで、上記触媒成分担持コ
ージェライト質モノリス担体（触媒Ｄ）に酢酸バリウム
溶液を付着させた後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯ
として１０ｇ／Ｌを含有させた（触媒Ｅ）。
５ｇと、活性アルミナ１５ｇ、硝酸水溶液１０００ｇを
磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得
た。このスラリー液を前記Ｐｄ含有触媒成分層を担持し
たコージェライト質モノリス担体（触媒Ｃ）に付着さ
せ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥
し、４００℃で１時間焼成した。コート量２５ｇ／Ｌ
（コート量総重量１１６．７ｇ／Ｌ）−担体の触媒を得
た。Ｒｈの担持量は１３．３ｇ／ｃｆ（０．４８ｇ／
Ｌ）、Ｐｔの担持量は１３．３ｇ／ｃｆ（０．４８ｇ／
Ｌ）であった（触媒Ｄ）。次いで、上記触媒成分担持コ
ージェライト質モノリス担体（触媒Ｄ）に酢酸バリウム
溶液を付着させた後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯ
として１０ｇ／Ｌを含有させた（触媒Ｅ）。
【０１５７】実施例２７ Ｈ型βーゼオライト８００ｇ、シリカゾル１０００ｇ
（固形分２０％）と純水１０００ｇを磁性ボールミルに
投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー
液をコージェライト質モノリス担体（１．３Ｌ、２００
セル／１０ミル、ＧＳＡ１９．０ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力
直径１．５３ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余
剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。コート量重量２００ｇ／Ｌ−担体の触媒を得た（触
媒Ｆ）。
（固形分２０％）と純水１０００ｇを磁性ボールミルに
投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー
液をコージェライト質モノリス担体（１．３Ｌ、２００
セル／１０ミル、ＧＳＡ１９．０ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力
直径１．５３ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余
剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。コート量重量２００ｇ／Ｌ−担体の触媒を得た（触
媒Ｆ）。
【０１５８】Ｌａ１モル％Ｃｅ２０モル％Ｚｒ７９モル
％のジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｇ）に硝酸ロジウム
水溶液を含浸し、１５０℃で１２時間乾燥した後、４０
０℃で１時間焼成して、Ｒｈ担持シルコニウム酸化物粉
末（粉末Ｉ）を得た。この粉末ＩのＲｈ濃度は８．０重
量％であった。上記粉末Ｂ５００ｇ、粉末Ｄ８０ｇ、粉
末Ｉ３５３ｇ、粉末Ａ４７ｇと活性アルミナ２０ｇ、硝
酸水溶液１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合・
粉砕してスラリーを得た。このスラリー液を上記触媒Ｆ
に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを除去
・乾燥し、４００℃で１時間焼成した。この作業を２度
行い、コート量重量１００ｇ／Ｌ（総重量３００ｇ／Ｌ
ー担体）の触媒Ｇを得た。触媒Ｇのパラジウム担持量は
２４０．０ｇ／ｃｆ（８．４８ｇ／Ｌ）、ロジウム担持
量は８０．０ｇ／ｃｆ（２．８３ｇ／Ｌ）であった。
次いで、上記触媒Ｇに酢酸バリウム溶液を付着させた
後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌ
を含有させた（触媒Ｈ）。
％のジルコニウム酸化物粉末（粉末Ｇ）に硝酸ロジウム
水溶液を含浸し、１５０℃で１２時間乾燥した後、４０
０℃で１時間焼成して、Ｒｈ担持シルコニウム酸化物粉
末（粉末Ｉ）を得た。この粉末ＩのＲｈ濃度は８．０重
量％であった。上記粉末Ｂ５００ｇ、粉末Ｄ８０ｇ、粉
末Ｉ３５３ｇ、粉末Ａ４７ｇと活性アルミナ２０ｇ、硝
酸水溶液１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合・
粉砕してスラリーを得た。このスラリー液を上記触媒Ｆ
に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを除去
・乾燥し、４００℃で１時間焼成した。この作業を２度
行い、コート量重量１００ｇ／Ｌ（総重量３００ｇ／Ｌ
ー担体）の触媒Ｇを得た。触媒Ｇのパラジウム担持量は
２４０．０ｇ／ｃｆ（８．４８ｇ／Ｌ）、ロジウム担持
量は８０．０ｇ／ｃｆ（２．８３ｇ／Ｌ）であった。
次いで、上記触媒Ｇに酢酸バリウム溶液を付着させた
後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌ
を含有させた（触媒Ｈ）。
【０１５９】実施例２８ Ｈ型βーゼオライト８００ｇに代わり、Ｈ型βーゼオラ
イト５００ｇ、ＺＳＭ５を１００ｇ、ＵＳＹ１００ｇ、
Ｙ型５０ｇ、モルデナイト５０ｇを用いた以外は、実施
例２７と同様にして触媒Ｉを得た。
イト５００ｇ、ＺＳＭ５を１００ｇ、ＵＳＹ１００ｇ、
Ｙ型５０ｇ、モルデナイト５０ｇを用いた以外は、実施
例２７と同様にして触媒Ｉを得た。
【０１６０】実施例２９ Ｈ型βーゼオライト８００ｇに代わり、ホウ素０．５重
量％、カルシウム０．１重量％を含むＨ型βーゼオライ
ト８００ｇを用いた以外は、実施例２７と同様にして触
媒Ｊを得た。
量％、カルシウム０．１重量％を含むＨ型βーゼオライ
ト８００ｇを用いた以外は、実施例２７と同様にして触
媒Ｊを得た。
【０１６１】実施例３０ Ｈ型βーゼオライト８００ｇに代わり、リン０．５重量
％、マグネシウム０．１重量％を含むＨ型βーゼオライ
ト６００ｇと、ホウ素０．５重量％、カルシウム０．１
重量％を含むＺＳＭ５を１００ｇと、リン０．５重量
％、カルシウム０．１重量％を含むＵＳＹ１００ｇを用
いた以外は、実施例２７と同様にして触媒Ｋを得た。
％、マグネシウム０．１重量％を含むＨ型βーゼオライ
ト６００ｇと、ホウ素０．５重量％、カルシウム０．１
重量％を含むＺＳＭ５を１００ｇと、リン０．５重量
％、カルシウム０．１重量％を含むＵＳＹ１００ｇを用
いた以外は、実施例２７と同様にして触媒Ｋを得た。
【０１６２】実施例３１ リン酸２水素アンモニウム２０ｇを純水１５００ｇに溶
解した溶液に、Ｈ型βーゼオライト１０００ｇを加え、
更に、２５％アンモニア水を滴下しｐＨを９．０に調整
した後、２４時間攪拌・混合した。この混合溶液からβ
ーゼオライトを濾取し、１２０℃で２４時間乾燥後、空
気中、６５０℃で２時間焼成し粉末Ｊを得た。更に、こ
の粉末Ｊに硝酸パラジウム溶液を含浸し、Ｐｄ１重量
％、Ｐ０．５重量％を含む粉末Ｋを得た。この粉末Ｋ８
００ｇ、シリカゾル１０００ｇ（固形分２０％）と硝酸
水溶液１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合・粉
砕してスラリーを得た。このスラリー液をコージェライ
ト質モノリス担体（１．３Ｌ、２００セル／１０ミル、
ＧＳＡ１９．０ｃｍ２／ｃｍ３、水力直径１．５３ｍ
ｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを
除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成した。コート量重
量２００ｇ／Ｌ−担体の触媒を得た（触媒Ｌ）。Ｐｄの
担持量は４５．３ｇ／ｃｆ（１．６ｇ／Ｌ）。上記粉末
Ｂ５００ｇ、粉末Ｄ８０ｇ、粉末Ａ３０ｇと活性アルミ
ナ１５ｇ、硝酸水溶液１０００ｇを磁性ボールミルに投
入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー液
を上記触媒Ｌに付着させ、空気流にてセル内の余剰のス
ラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成した。こ
の作業を２度行い、触媒Ｍを得た。更に、上記粉末Ｉ３
５３ｇ、粉末Ａ１７ｇと活性アルミナ５ｇ、硝酸水溶液
１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕して
スラリーを得た。このスラリー液を上記触媒Ｍに付着さ
せ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥
し、４００℃で１時間焼成した。この作業を２度行い、
コート量重量１００ｇ／Ｌ（総重量３００ｇ／Ｌー担
体）の触媒Ｎを得た。触媒Ｍのパラジウム担持量は２８
５．４ｇ／ｃｆ（１０．０８ｇ／Ｌ）、ロジウム担持量
は８０ｇ／ｃｆ（２．８３ｇ／Ｌ）であった。次いで、
上記触媒成分担持コージェライト質モノリス担体（触媒
Ｎ）に酢酸バリウム溶液を付着させた後、４００℃で１
時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌを含有させた（触
媒Ｏ）。
解した溶液に、Ｈ型βーゼオライト１０００ｇを加え、
更に、２５％アンモニア水を滴下しｐＨを９．０に調整
した後、２４時間攪拌・混合した。この混合溶液からβ
ーゼオライトを濾取し、１２０℃で２４時間乾燥後、空
気中、６５０℃で２時間焼成し粉末Ｊを得た。更に、こ
の粉末Ｊに硝酸パラジウム溶液を含浸し、Ｐｄ１重量
％、Ｐ０．５重量％を含む粉末Ｋを得た。この粉末Ｋ８
００ｇ、シリカゾル１０００ｇ（固形分２０％）と硝酸
水溶液１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合・粉
砕してスラリーを得た。このスラリー液をコージェライ
ト質モノリス担体（１．３Ｌ、２００セル／１０ミル、
ＧＳＡ１９．０ｃｍ２／ｃｍ３、水力直径１．５３ｍ
ｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを
除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成した。コート量重
量２００ｇ／Ｌ−担体の触媒を得た（触媒Ｌ）。Ｐｄの
担持量は４５．３ｇ／ｃｆ（１．６ｇ／Ｌ）。上記粉末
Ｂ５００ｇ、粉末Ｄ８０ｇ、粉末Ａ３０ｇと活性アルミ
ナ１５ｇ、硝酸水溶液１０００ｇを磁性ボールミルに投
入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー液
を上記触媒Ｌに付着させ、空気流にてセル内の余剰のス
ラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成した。こ
の作業を２度行い、触媒Ｍを得た。更に、上記粉末Ｉ３
５３ｇ、粉末Ａ１７ｇと活性アルミナ５ｇ、硝酸水溶液
１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕して
スラリーを得た。このスラリー液を上記触媒Ｍに付着さ
せ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥
し、４００℃で１時間焼成した。この作業を２度行い、
コート量重量１００ｇ／Ｌ（総重量３００ｇ／Ｌー担
体）の触媒Ｎを得た。触媒Ｍのパラジウム担持量は２８
５．４ｇ／ｃｆ（１０．０８ｇ／Ｌ）、ロジウム担持量
は８０ｇ／ｃｆ（２．８３ｇ／Ｌ）であった。次いで、
上記触媒成分担持コージェライト質モノリス担体（触媒
Ｎ）に酢酸バリウム溶液を付着させた後、４００℃で１
時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌを含有させた（触
媒Ｏ）。
【０１６３】実施例３２ Ｈ型βーゼオライト８００ｇに代わり、パラジウム０．
２８重量％、リン０．２重量％、ホウ素０．３重量％、
マグネシウム０．１重量％、カルシウム０．１重量％を
含むＨ型βーゼオライト５００ｇと、Ｐｔ０．３３重量
％、カルシウム０．１重量％を含むＺＳＭ５を１００ｇ
と、パラジウム０．２８重量％、リン０．２重量％を含
むＵＳＹ２００ｇ、Ｐｔ０．３３重量％、ホウ素０．１
重量％、マグネシウム０．１重量％を含むモルデナイト
１００ｇを用いた以外は、実施例３と同様にして触媒Ｐ
を得た。コート量２００ｇ／Ｌ、Ｐｄの担持量は１１．
１ｇ／ｃｆ（０．３９ｇ／Ｌ）、Ｐｔの担持量は３．７
ｇ／ｃｆ（０．１３ｇ／Ｌ）であった。
２８重量％、リン０．２重量％、ホウ素０．３重量％、
マグネシウム０．１重量％、カルシウム０．１重量％を
含むＨ型βーゼオライト５００ｇと、Ｐｔ０．３３重量
％、カルシウム０．１重量％を含むＺＳＭ５を１００ｇ
と、パラジウム０．２８重量％、リン０．２重量％を含
むＵＳＹ２００ｇ、Ｐｔ０．３３重量％、ホウ素０．１
重量％、マグネシウム０．１重量％を含むモルデナイト
１００ｇを用いた以外は、実施例３と同様にして触媒Ｐ
を得た。コート量２００ｇ／Ｌ、Ｐｄの担持量は１１．
１ｇ／ｃｆ（０．３９ｇ／Ｌ）、Ｐｔの担持量は３．７
ｇ／ｃｆ（０．１３ｇ／Ｌ）であった。
【０１６４】上記粉末Ａ３０ｇ、粉末Ｂ５００ｇ、粉末
Ｄ８０ｇと活性アルミナ２０ｇ、硝酸水溶液１０００ｇ
を磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを
得た。このスラリー液を前記触媒Ｐに付着させ、空気流
にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃
で１時間焼成し、触媒Ｑを得た。上記粉末Ｆ１７６ｇ、
粉末Ｈ１１７ｇ、粉末Ｉ１７７ｇと活性アルミナ３０
ｇ、硝酸水溶液１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、
混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー液を前記
触媒Ｑに付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリー
を除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成した。次いで、
上記触媒成分担持コージェライト質モノリス担体に酢酸
バリウム溶液を付着させた後、４００℃で１時間焼成
し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌを含有させた（触媒Ｒ）。
コート量５０ｇ／Ｌ（総重量２５０ｇ／Ｌ−担体）、Ｐ
ｄの担持量は２５１．２ｇ／ｃｆ（８．８７ｇ／Ｌ）、
Ｐｔ担持量１６．９ｇ／ｃｆ（０．６０ｇ／Ｌ）、Ｒｈ
担持量４０．０ｇ／ｃｆ（１．４２ｇ／Ｌ）であった
（触媒Ｒ）。
Ｄ８０ｇと活性アルミナ２０ｇ、硝酸水溶液１０００ｇ
を磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを
得た。このスラリー液を前記触媒Ｐに付着させ、空気流
にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃
で１時間焼成し、触媒Ｑを得た。上記粉末Ｆ１７６ｇ、
粉末Ｈ１１７ｇ、粉末Ｉ１７７ｇと活性アルミナ３０
ｇ、硝酸水溶液１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、
混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー液を前記
触媒Ｑに付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリー
を除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成した。次いで、
上記触媒成分担持コージェライト質モノリス担体に酢酸
バリウム溶液を付着させた後、４００℃で１時間焼成
し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌを含有させた（触媒Ｒ）。
コート量５０ｇ／Ｌ（総重量２５０ｇ／Ｌ−担体）、Ｐ
ｄの担持量は２５１．２ｇ／ｃｆ（８．８７ｇ／Ｌ）、
Ｐｔ担持量１６．９ｇ／ｃｆ（０．６０ｇ／Ｌ）、Ｒｈ
担持量４０．０ｇ／ｃｆ（１．４２ｇ／Ｌ）であった
（触媒Ｒ）。
【０１６５】実施例３３ 粉末Ｂ１３２４ｇ、粉末Ｆ１０６ｇ、粉末Ｈ２７ｇと活
性アルミナ４３ｇ、硝酸水溶液２０００ｇを磁性ボール
ミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このス
ラリー液をコージェライト質モノリス担体（１．０Ｌ、
９００セル／２ミル、ＧＳＡ４３．６ｃｍ2 ／ｃｍ3 、
水力直径０．７８ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内
の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼
成した。この作業を２度行い、コート量重量１５０ｇ／
Ｌー担体の触媒を得た。次いで、上記触媒に酢酸バリウ
ム溶液を付着させた後、４００℃で１時間焼成し、Ｂａ
Ｏとして１０ｇ／Ｌを含有させたパラジウム担持量は６
００．０ｇ／ｃｆ（２１．２ｇ／Ｌ）、白金担持量は
３．０ｇ／ｃｆ（０．１１ｇ／Ｌ）、ロジウム担持量は
１２．０ｇ／ｃｆ（０．４２ｇ／Ｌ）であった（触媒
Ｓ）。
性アルミナ４３ｇ、硝酸水溶液２０００ｇを磁性ボール
ミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このス
ラリー液をコージェライト質モノリス担体（１．０Ｌ、
９００セル／２ミル、ＧＳＡ４３．６ｃｍ2 ／ｃｍ3 、
水力直径０．７８ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内
の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼
成した。この作業を２度行い、コート量重量１５０ｇ／
Ｌー担体の触媒を得た。次いで、上記触媒に酢酸バリウ
ム溶液を付着させた後、４００℃で１時間焼成し、Ｂａ
Ｏとして１０ｇ／Ｌを含有させたパラジウム担持量は６
００．０ｇ／ｃｆ（２１．２ｇ／Ｌ）、白金担持量は
３．０ｇ／ｃｆ（０．１１ｇ／Ｌ）、ロジウム担持量は
１２．０ｇ／ｃｆ（０．４２ｇ／Ｌ）であった（触媒
Ｓ）。
【０１６６】実施例３４ Ｈ型βーゼオライト８００ｇ、粉末Ｉ８８．３ｇ、粉末
Ｅ１６１．５ｇ、シリカゾル１０００ｇ（固形分２０
％）と純水１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合
・粉砕してスラリーを得た。このスラリー液をコージェ
ライト質モノリス担体（１．３Ｌ、２００セル／１０ミ
ル、ＧＳＡ１９．０ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力直径１．５３
ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリー
を除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成した。コート量
重量２５０ｇ／Ｌ−担体の触媒を得た（触媒Ｔ）。
Ｅ１６１．５ｇ、シリカゾル１０００ｇ（固形分２０
％）と純水１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合
・粉砕してスラリーを得た。このスラリー液をコージェ
ライト質モノリス担体（１．３Ｌ、２００セル／１０ミ
ル、ＧＳＡ１９．０ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力直径１．５３
ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余剰のスラリー
を除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成した。コート量
重量２５０ｇ／Ｌ−担体の触媒を得た（触媒Ｔ）。
【０１６７】上記粉末Ｂ５００ｇ、粉末Ｄ８０ｇ、粉末
Ｉ１７６．５ｇ、粉末Ｅ２０３ｇ、粉末Ａ４０ｇと活性
アルミナ２０ｇ、硝酸水溶液１０００ｇを磁性ボールミ
ルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラ
リー液を上記触媒Ｔに付着させ、空気流にてセル内の余
剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。この作業を２度行い、コート量重量１００ｇ／Ｌ
（総重量３００ｇ／Ｌー担体）、パラジウム担持量は２
４０．０ｇ／ｃｆ（８．４８ｇ／Ｌ）、ロジウム担持量
は８０．０ｇ／ｃｆ（２．８３ｇ／Ｌ）の触媒Ｕを得
た。次いで、上記触媒Ｕに酢酸バリウム溶液を付着させ
た後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／
Ｌを含有させた（触媒Ｖ）。
Ｉ１７６．５ｇ、粉末Ｅ２０３ｇ、粉末Ａ４０ｇと活性
アルミナ２０ｇ、硝酸水溶液１０００ｇを磁性ボールミ
ルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラ
リー液を上記触媒Ｔに付着させ、空気流にてセル内の余
剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。この作業を２度行い、コート量重量１００ｇ／Ｌ
（総重量３００ｇ／Ｌー担体）、パラジウム担持量は２
４０．０ｇ／ｃｆ（８．４８ｇ／Ｌ）、ロジウム担持量
は８０．０ｇ／ｃｆ（２．８３ｇ／Ｌ）の触媒Ｕを得
た。次いで、上記触媒Ｕに酢酸バリウム溶液を付着させ
た後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／
Ｌを含有させた（触媒Ｖ）。
【０１６８】比較例９ コージェライト質モノリス担体（１．３Ｌ、６００セル
／２ミル、ＧＳＡ３６．２ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力直径
０．９７ｍｍ）を用いた以外、実施例２７と同様に触媒
Ｗを得た。
／２ミル、ＧＳＡ３６．２ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力直径
０．９７ｍｍ）を用いた以外、実施例２７と同様に触媒
Ｗを得た。
【０１６９】比較例１０ コージェライト質モノリス担体（１．３Ｌ、９００セル
／４ミル、ＧＳＡ４１．１ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力直径
０．７４ｍｍ）を用いた以外、実施例２７と同様に触媒
Ｘを得た。
／４ミル、ＧＳＡ４１．１ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力直径
０．７４ｍｍ）を用いた以外、実施例２７と同様に触媒
Ｘを得た。
【０１７０】比較例１１ Ｈ型βーゼオライト８００ｇ、シリカゾル１０００ｇ
（固形分２０％）と純水１０００ｇを磁性ボールミルに
投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー
液をコージェライト質モノリス担体（１．３Ｌ、２００
セル／１０ミル、ＧＳＡ１９．０ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力
直径１．５３ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余
剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。コート量重量２０ｇ／Ｌ−担体の触媒Ｙを得た。触
媒Ｆの代わりに、触媒Ｘを用いた以外、実施例２７と同
様にして触媒Ｚを得た。
（固形分２０％）と純水１０００ｇを磁性ボールミルに
投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー
液をコージェライト質モノリス担体（１．３Ｌ、２００
セル／１０ミル、ＧＳＡ１９．０ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力
直径１．５３ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余
剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。コート量重量２０ｇ／Ｌ−担体の触媒Ｙを得た。触
媒Ｆの代わりに、触媒Ｘを用いた以外、実施例２７と同
様にして触媒Ｚを得た。
【０１７１】比較例１２ Ｈ型βーゼオライト８００ｇ、シリカゾル１０００ｇ
（固形分２０％）と純水１０００ｇを磁性ボールミルに
投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー
液をコージェライト質モノリス担体（１．３Ｌ、２００
セル／１０ミル、ＧＳＡ１９．０ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力
直径１．５３ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余
剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。コート量重量３００ｇ／Ｌ−担体の触媒ＡＡを得
た。粉末Ｊ（粉末ＡにＰｄを担持したアルミナ粉末、Ｐ
ｄ濃度５０重量％）１６０．０ｇ、粉末Ｋ（粉末ＣにＰ
ｄを担持したセリウム酸化物粉末、Ｐｄ濃度２８重量
％）１７ｇ、粉末Ａｇ、粉末Ｌ（粉末ＧにＲｈを担持し
たジルコニウム酸化物粉末、Ｒｈ濃度２５重量％）１１
３．０ｇ、活性アルミナ１０ｇ、硝酸水溶液５００ｇを
磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得
た。このスラリー液を上記触媒ＡＡに付着させ、空気流
にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃
で１時間焼成した。この作業を２度行い、コート量重量
３０ｇ／Ｌ（総重量３３０ｇ／Ｌー担体）、パラジウム
担持量は２４０．０ｇ／ｃｆ（８．４８ｇ／Ｌ）、ロジ
ウム担持量は８０．０ｇ／ｃｆ（２．８３ｇ／Ｌ）の触
媒ＢＢを得た。次いで、上記触媒Ｕに酢酸バリウム溶液
を付着させた後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとし
て１０ｇ／Ｌを含有させた触媒ＣＣを得た。
（固形分２０％）と純水１０００ｇを磁性ボールミルに
投入し、混合・粉砕してスラリーを得た。このスラリー
液をコージェライト質モノリス担体（１．３Ｌ、２００
セル／１０ミル、ＧＳＡ１９．０ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力
直径１．５３ｍｍ）に付着させ、空気流にてセル内の余
剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃で１時間焼成し
た。コート量重量３００ｇ／Ｌ−担体の触媒ＡＡを得
た。粉末Ｊ（粉末ＡにＰｄを担持したアルミナ粉末、Ｐ
ｄ濃度５０重量％）１６０．０ｇ、粉末Ｋ（粉末ＣにＰ
ｄを担持したセリウム酸化物粉末、Ｐｄ濃度２８重量
％）１７ｇ、粉末Ａｇ、粉末Ｌ（粉末ＧにＲｈを担持し
たジルコニウム酸化物粉末、Ｒｈ濃度２５重量％）１１
３．０ｇ、活性アルミナ１０ｇ、硝酸水溶液５００ｇを
磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕してスラリーを得
た。このスラリー液を上記触媒ＡＡに付着させ、空気流
にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４００℃
で１時間焼成した。この作業を２度行い、コート量重量
３０ｇ／Ｌ（総重量３３０ｇ／Ｌー担体）、パラジウム
担持量は２４０．０ｇ／ｃｆ（８．４８ｇ／Ｌ）、ロジ
ウム担持量は８０．０ｇ／ｃｆ（２．８３ｇ／Ｌ）の触
媒ＢＢを得た。次いで、上記触媒Ｕに酢酸バリウム溶液
を付着させた後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとし
て１０ｇ／Ｌを含有させた触媒ＣＣを得た。
【０１７２】比較例１３ 上記粉末Ｂ６５９ｇ、粉末Ｄ８０ｇ、粉末Ｉ３５．３
ｇ、粉末Ａ２０６ｇと活性アルミナ２０ｇ、硝酸水溶液
１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕して
スラリーを得た。このスラリー液を上記触媒Ｆに付着さ
せ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥
し、４００℃で１時間焼成した。この作業を２度行い、
コート量重量１００ｇ／Ｌ（総重量３００ｇ／Ｌー担
体）の触媒ＤＤを得た。触媒ＤＤのパラジウム担持量は
３１２．０ｇ／ｃｆ（１１．０２ｇ／Ｌ）、ロジウム担
持量は８．０ｇ／ｃｆ（０．２８ｇ／Ｌ）であった。次
いで、上記触媒ＤＤに酢酸バリウム溶液を付着させた
後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌ
を含有させた触媒ＥＥを得た。
ｇ、粉末Ａ２０６ｇと活性アルミナ２０ｇ、硝酸水溶液
１０００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕して
スラリーを得た。このスラリー液を上記触媒Ｆに付着さ
せ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥
し、４００℃で１時間焼成した。この作業を２度行い、
コート量重量１００ｇ／Ｌ（総重量３００ｇ／Ｌー担
体）の触媒ＤＤを得た。触媒ＤＤのパラジウム担持量は
３１２．０ｇ／ｃｆ（１１．０２ｇ／Ｌ）、ロジウム担
持量は８．０ｇ／ｃｆ（０．２８ｇ／Ｌ）であった。次
いで、上記触媒ＤＤに酢酸バリウム溶液を付着させた
後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌ
を含有させた触媒ＥＥを得た。
【０１７３】比較例１４ 上記粉末Ｂ１６２ｇ、粉末Ｄ８０ｇ、粉末Ｉ１５ｇ、粉
末Ａ７２３ｇと活性アルミナ２０ｇ、硝酸水溶液１００
０ｇを磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕してスラリ
ーを得た。このスラリー液をコージェライト質モノリス
担体（１．０Ｌ、９００セル／２ミル、ＧＳＡ４３．６
ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力直径０．７８ｍｍ）に付着させ、
空気流にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４
００℃で１時間焼成した。この作業を２度行い、コート
量重量１００ｇ／Ｌの触媒を得た。触媒ＤＤのパラジウ
ム担持量は７３．３ｇ／ｃｆ（２．５９ｇ／Ｌ）、ロジ
ウム担持量は６．７ｇ／ｃｆ（０．２４ｇ／Ｌ）であっ
た。次いで、上記触媒に酢酸バリウム溶液を付着させた
後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌ
を含有させた触媒ＦＦを得た。
末Ａ７２３ｇと活性アルミナ２０ｇ、硝酸水溶液１００
０ｇを磁性ボールミルに投入し、混合・粉砕してスラリ
ーを得た。このスラリー液をコージェライト質モノリス
担体（１．０Ｌ、９００セル／２ミル、ＧＳＡ４３．６
ｃｍ2 ／ｃｍ3 、水力直径０．７８ｍｍ）に付着させ、
空気流にてセル内の余剰のスラリーを除去・乾燥し、４
００℃で１時間焼成した。この作業を２度行い、コート
量重量１００ｇ／Ｌの触媒を得た。触媒ＤＤのパラジウ
ム担持量は７３．３ｇ／ｃｆ（２．５９ｇ／Ｌ）、ロジ
ウム担持量は６．７ｇ／ｃｆ（０．２４ｇ／Ｌ）であっ
た。次いで、上記触媒に酢酸バリウム溶液を付着させた
後、４００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌ
を含有させた触媒ＦＦを得た。
【０１７４】上記実施例２５〜３４及び比較例９〜１４
で得られた排気ガス浄化用触媒の仕様を表５及び６に示
す。
で得られた排気ガス浄化用触媒の仕様を表５及び６に示
す。
【０１７５】
【表５】
【０１７６】
【表６】
【０１７７】試験例 前記実施例２５〜３４及び比較例９〜１４で得られた排
気ガス浄化用触媒を、以下の耐久条件により耐久を行っ
た。 耐久条件 エンジン排気量 ３０００ｃｃ 燃料 無鉛ガソリン 触媒入口ガス温度 ７００℃ 耐久時間 １００時間 入口ガス組成 ＣＯ ０．５±０．１％ Ｏ２ ０．５±０．１％ ＨＣ 約１１００ｐｐｍ ＮＯ １３００ｐｐｍ ＣＯ２ １５％ Ａ／Ｆ変動 ５５００回（周期６５秒／回） 周期：Ａ／Ｆ＝１４．６ ５５秒 燃料カット ５秒 リッチ スパイク ５秒（ＣＯ＝２％）
気ガス浄化用触媒を、以下の耐久条件により耐久を行っ
た。 耐久条件 エンジン排気量 ３０００ｃｃ 燃料 無鉛ガソリン 触媒入口ガス温度 ７００℃ 耐久時間 １００時間 入口ガス組成 ＣＯ ０．５±０．１％ Ｏ２ ０．５±０．１％ ＨＣ 約１１００ｐｐｍ ＮＯ １３００ｐｐｍ ＣＯ２ １５％ Ａ／Ｆ変動 ５５００回（周期６５秒／回） 周期：Ａ／Ｆ＝１４．６ ５５秒 燃料カット ５秒 リッチ スパイク ５秒（ＣＯ＝２％）
【０１７８】上記条件で耐久した実施例２５〜３４及び
比較例９〜１４の触媒を用い、実施例３５〜５４、比較
例１５〜２６について、下記評価条件でＨＣ浄化特性評
価（ＥＣモード、ＬＡ−４のＡ−ｂａｇ）を、図３〜８
のシステムを用いて行った。その結果を表７〜表１０に
示す。
比較例９〜１４の触媒を用い、実施例３５〜５４、比較
例１５〜２６について、下記評価条件でＨＣ浄化特性評
価（ＥＣモード、ＬＡ−４のＡ−ｂａｇ）を、図３〜８
のシステムを用いて行った。その結果を表７〜表１０に
示す。
【０１７９】性能評価条件触媒容量（片バンク） 三元
触媒２．０Ｌ（１．０Ｌ＋１．０Ｌ）＋ＨＣ吸着触媒
１．３Ｌ〜２．６Ｌ 評価車両 日産自動車株式会社製 Ｖ型６
気筒 ３．３Ｌエンジン エンジン始動時に排出される（触媒入口のガス中の）炭化水素 炭素数 Ｃ２〜Ｃ３ ２１．０％ Ｃ４〜Ｃ６ ３３．０％ Ｃ７〜Ｃ９ ４０．０％
触媒２．０Ｌ（１．０Ｌ＋１．０Ｌ）＋ＨＣ吸着触媒
１．３Ｌ〜２．６Ｌ 評価車両 日産自動車株式会社製 Ｖ型６
気筒 ３．３Ｌエンジン エンジン始動時に排出される（触媒入口のガス中の）炭化水素 炭素数 Ｃ２〜Ｃ３ ２１．０％ Ｃ４〜Ｃ６ ３３．０％ Ｃ７〜Ｃ９ ４０．０％
【０１８０】
【表７】
【０１８１】
【表８】
【０１８２】
【表９】
【０１８３】
【表１０】
【０１８４】実施例５５ βーゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝２５）７０
０ｇ、出光製ＺＳＭ５（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝３０）粉
末２００ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１００ｇ、純
粋１５００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕して
スラリー液を得た。このスラリー液をコージェライト質
モノリス担体（３００セル／６ミル、ＧＳＡ２４．１ｃ
ｍ2 ／ｃｍ3 、水力直径１．３ｍｍ）に付着させ、空気
流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４
００℃で１時間焼成した。この時の塗布量として、焼成
後に１５０ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返
し、触媒−ａを得た。
０ｇ、出光製ＺＳＭ５（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝３０）粉
末２００ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１００ｇ、純
粋１５００ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕して
スラリー液を得た。このスラリー液をコージェライト質
モノリス担体（３００セル／６ミル、ＧＳＡ２４．１ｃ
ｍ2 ／ｃｍ3 、水力直径１．３ｍｍ）に付着させ、空気
流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４
００℃で１時間焼成した。この時の塗布量として、焼成
後に１５０ｇ／Ｌになるまでコーティング作業を繰り返
し、触媒−ａを得た。
【０１８５】Ｃｅ３ mol％を含むアルミナ粉末に、ジニ
トロジアミンパラジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌中
で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で
１時間焼成し、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ
担持アルミナ粉末（粉末ａ）を得た。この粉末ａのＰｄ
濃度は６．２３重量％であった。粉末ａには、ランタ
ン、ジルコニウム、ネオジウム等が含まれてもよい。
トロジアミンパラジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌中
で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で
１時間焼成し、次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ
担持アルミナ粉末（粉末ａ）を得た。この粉末ａのＰｄ
濃度は６．２３重量％であった。粉末ａには、ランタ
ン、ジルコニウム、ネオジウム等が含まれてもよい。
【０１８６】Ｌａ１モル％とＺｒ３２モル％含有セリウ
ム酸化物粉末に、ジニトロジアミンパラジウム水溶液を
含浸あるいは高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間
乾燥した後、４００℃で１時間焼成し、次いで、６００
℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末
ｂ）を得た。この粉末ａのＰｄ濃度は、２．０重量％で
あった。
ム酸化物粉末に、ジニトロジアミンパラジウム水溶液を
含浸あるいは高速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間
乾燥した後、４００℃で１時間焼成し、次いで、６００
℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末
ｂ）を得た。この粉末ａのＰｄ濃度は、２．０重量％で
あった。
【０１８７】上記Ｐｄ担持アルミナ粉末（粉末ａ）５６
２ｇ、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）２８８
ｇ、硝酸酸性アルミナゾル９５０ｇ（ベーマイトアルミ
ナ１０重量％に１０重量％の硝酸を添加することによっ
て得られたゾル）及び純水１０００ｇを磁性ボールミル
に投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリ
ー液を上記コート触媒−ａに付着させ、空気流にてセル
内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１
時間焼成し、コート層重量６０ｇ／Ｌを塗布し、触媒−
ｂを得た。
２ｇ、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末（粉末ｂ）２８８
ｇ、硝酸酸性アルミナゾル９５０ｇ（ベーマイトアルミ
ナ１０重量％に１０重量％の硝酸を添加することによっ
て得られたゾル）及び純水１０００ｇを磁性ボールミル
に投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリ
ー液を上記コート触媒−ａに付着させ、空気流にてセル
内の余剰のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１
時間焼成し、コート層重量６０ｇ／Ｌを塗布し、触媒−
ｂを得た。
【０１８８】Ｚｒ３重量％を含むアルミナ粉末に、硝酸
ロジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５
０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間焼成し、
次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉
末（粉末ｃ）を得た。この粉末ｃのＲｈ濃度は１．２５
重量％であった。
ロジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５
０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間焼成し、
次いで、６００℃で１時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉
末（粉末ｃ）を得た。この粉末ｃのＲｈ濃度は１．２５
重量％であった。
【０１８９】上記Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末ｃ）３６
６ｇ、Ｌａ１モル％とＣｅ２０モル％を含むジルコニウ
ム酸化物粉末３００ｇ、硝酸酸性アルミナゾル１１３５
ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液
を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ｂに付着さ
せ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾
燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量４０ｇ／
Ｌを塗布し、触媒を得た。上記セリウム酸化物粉末、ア
ルミナ粉末にはランタン、ネオジウム等が含まれてもよ
い。次いで、上記触媒成分担持コージェライト質モノリ
ス担体に酢酸バリウム溶液を付着させた後、４００℃で
１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌを含有させた。
６ｇ、Ｌａ１モル％とＣｅ２０モル％を含むジルコニウ
ム酸化物粉末３００ｇ、硝酸酸性アルミナゾル１１３５
ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー液
を得た。このスラリー液を上記コート触媒−ｂに付着さ
せ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて乾
燥し、４００℃で１時間焼成し、コート層重量４０ｇ／
Ｌを塗布し、触媒を得た。上記セリウム酸化物粉末、ア
ルミナ粉末にはランタン、ネオジウム等が含まれてもよ
い。次いで、上記触媒成分担持コージェライト質モノリ
ス担体に酢酸バリウム溶液を付着させた後、４００℃で
１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌを含有させた。
【０１９０】実施例５６ β−ゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝２５）５０
０ｇ、出光製ＺＳＭ５（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝３０）粉
末４００ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして排気
ガス浄化用触媒を得た。
０ｇ、出光製ＺＳＭ５（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝３０）粉
末４００ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして排気
ガス浄化用触媒を得た。
【０１９１】実施例５７ 出光製ＺＳＭ５（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝３０）粉末に、
Ａｇ，Ｐを逐次含浸、乾燥、焼成により担持したＡｇ−
Ｐ担持ＺＳＭ５粉末（各金属濃度０．２重量％、総金属
濃度０．４重量％）と、β−ゼオライト（Ｈ型、Ｓｉ／
２Ａｌ＝２５）にＡｇ，Ｐを逐次含浸、乾燥、焼成によ
り担持したＡｇ−Ｐ担持β−ゼオライト粉末（各金属濃
度０．２重量％、総金属濃度０．４重量％）を用いた以
外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得
た。
Ａｇ，Ｐを逐次含浸、乾燥、焼成により担持したＡｇ−
Ｐ担持ＺＳＭ５粉末（各金属濃度０．２重量％、総金属
濃度０．４重量％）と、β−ゼオライト（Ｈ型、Ｓｉ／
２Ａｌ＝２５）にＡｇ，Ｐを逐次含浸、乾燥、焼成によ
り担持したＡｇ−Ｐ担持β−ゼオライト粉末（各金属濃
度０．２重量％、総金属濃度０．４重量％）を用いた以
外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得
た。
【０１９２】実施例５８ 出光製ＺＳＭ５（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝３０）粉末に、
Ｐｄ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｙ，Ｌａ，Ｎｄ，Ｂ，Ｚｒを逐次含
浸、乾燥、焼成により担持したＰｄ−Ｍｇ−Ｃａ−−Ｌ
ａ−Ｎｄ−Ｂ−Ｚｒ担持ＺＳＭ５粉末（各金属濃度０．
０５重量％、総金属濃度０．４重量％）と、β−ゼオラ
イト（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝２５）にＳｒ，Ｂａ，Ａ
ｇ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｐを逐次含浸、乾燥、焼成により担持
したＭｇ，Ｙ，Ｎｄ、Ｚｒ担持β−ゼオライト粉末（各
金属濃度０．０５重量％、総金属濃度０．３重量％）を
用いた以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触
媒を得た。
Ｐｄ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｙ，Ｌａ，Ｎｄ，Ｂ，Ｚｒを逐次含
浸、乾燥、焼成により担持したＰｄ−Ｍｇ−Ｃａ−−Ｌ
ａ−Ｎｄ−Ｂ−Ｚｒ担持ＺＳＭ５粉末（各金属濃度０．
０５重量％、総金属濃度０．４重量％）と、β−ゼオラ
イト（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝２５）にＳｒ，Ｂａ，Ａ
ｇ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｐを逐次含浸、乾燥、焼成により担持
したＭｇ，Ｙ，Ｎｄ、Ｚｒ担持β−ゼオライト粉末（各
金属濃度０．０５重量％、総金属濃度０．３重量％）を
用いた以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触
媒を得た。
【０１９３】比較例２７ 出光製ＺＳＭ５（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝３０）粉末９０
０ｇとした以外は、実施例５５と同様にして排気ガス浄
化用触媒を得た。
０ｇとした以外は、実施例５５と同様にして排気ガス浄
化用触媒を得た。
【０１９４】比較例２８ β−ゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝２５）粉末
９００ｇとした以外は、実施例５９と同様にして排気ガ
ス浄化用触媒を得た。
９００ｇとした以外は、実施例５９と同様にして排気ガ
ス浄化用触媒を得た。
【０１９５】
【発明の効果】以下、まず第一の発明の効果について総
括的に説明する。 （１）ゼオライト種の最適化 ゼオライトを用いたＨＣ吸着触媒では、排気ガス中のＨ
Ｃ種分布とゼオライトの有する細孔径との間に相関があ
るため、最適な細孔径を持つゼオライトを選定する必要
がある。 従来は、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）をメインに、他
の細孔径を有すゼオライト（例えば、ＵＳＹ等）をブレ
ンドし細孔分布を調整していたが、耐久後にはゼオライ
ト種によって細孔径の歪みや吸着・脱離特性が異なるた
め、排気ガスＨＣ種の吸着が不十分であるという問題点
があった。本発明では、２種類の細孔径を持った、耐久
性に優れたβ−ゼオライトを主成分として採用すること
で、耐久による歪みも少なく、初期から耐久後まで細孔
分布が広く保持できるため、従来に比べて吸着・脱離特
性が向上する。更に２種以上のゼオライト種を組み合わ
せることにより、ゼオライト細孔径の分布を更に広げる
効果が得られる。すなわち、本発明においてはＺＳＭ５
の種結晶としてモルデナイトを用いるため、通常のＺＳ
Ｍ５に比べ、細孔内部の奥行きが広い。このＺＳＭ５を
ＨＣ吸着素材として用いた場合、細孔内部へのＨＣ拡散
速度が遅い（細孔の入口に分子径の大きいＨＣが来ると
他のＨＣの拡散が阻害され、短時間で効率良くコールド
ＨＣを吸着することはできない）ため吸着性能は劣る。
しかし一旦、細孔内部へ拡散して入ったＨＣは外部へ抜
け難くなる（脱離が遅い）。本発明では、このＺＳＭ５
とβーゼオライトを組合せることによって、吸着−脱離
特性に優れる自動車用のＨＣ吸着材を開発した。
括的に説明する。 （１）ゼオライト種の最適化 ゼオライトを用いたＨＣ吸着触媒では、排気ガス中のＨ
Ｃ種分布とゼオライトの有する細孔径との間に相関があ
るため、最適な細孔径を持つゼオライトを選定する必要
がある。 従来は、ＭＦＩ（ＺＳＭ５）をメインに、他
の細孔径を有すゼオライト（例えば、ＵＳＹ等）をブレ
ンドし細孔分布を調整していたが、耐久後にはゼオライ
ト種によって細孔径の歪みや吸着・脱離特性が異なるた
め、排気ガスＨＣ種の吸着が不十分であるという問題点
があった。本発明では、２種類の細孔径を持った、耐久
性に優れたβ−ゼオライトを主成分として採用すること
で、耐久による歪みも少なく、初期から耐久後まで細孔
分布が広く保持できるため、従来に比べて吸着・脱離特
性が向上する。更に２種以上のゼオライト種を組み合わ
せることにより、ゼオライト細孔径の分布を更に広げる
効果が得られる。すなわち、本発明においてはＺＳＭ５
の種結晶としてモルデナイトを用いるため、通常のＺＳ
Ｍ５に比べ、細孔内部の奥行きが広い。このＺＳＭ５を
ＨＣ吸着素材として用いた場合、細孔内部へのＨＣ拡散
速度が遅い（細孔の入口に分子径の大きいＨＣが来ると
他のＨＣの拡散が阻害され、短時間で効率良くコールド
ＨＣを吸着することはできない）ため吸着性能は劣る。
しかし一旦、細孔内部へ拡散して入ったＨＣは外部へ抜
け難くなる（脱離が遅い）。本発明では、このＺＳＭ５
とβーゼオライトを組合せることによって、吸着−脱離
特性に優れる自動車用のＨＣ吸着材を開発した。
【０１９６】（２）三元貴金属種の最適化 従来では、Ｒｈ、Ｐｔ、Ｐｄ等の貴金属種を同一層に共
存させた仕様や、Ｒｈ層とＰｄ層を塗り分けた仕様等が
提案されていた。本発明では、ゼオライト層の上にＰｄ
及びＲｈの共存層か、または、ゼオライト層の上にＰｄ
層、その上にＲｈ層を設け、どちらか一方或いは両層に
Ｐｔを添加できる仕様とした。ゼオライトの上にＨＣ低
温活性に優れるＰｄ層を設けることで、ゼオライトから
脱離してくるＨＣを優先的に浄化でき、Ｐｄ層にＲｈを
共存、または、その上にＲｈ層を設けることにより、理
論空燃比より僅かにリッチ雰囲気にシフトしたガスが流
れても、ＨＣ、ＣＯ、ＮＯx がバランス良く浄化でき
る。更に、Ｐｔを添加することで、耐被毒性の向上が得
られる。
存させた仕様や、Ｒｈ層とＰｄ層を塗り分けた仕様等が
提案されていた。本発明では、ゼオライト層の上にＰｄ
及びＲｈの共存層か、または、ゼオライト層の上にＰｄ
層、その上にＲｈ層を設け、どちらか一方或いは両層に
Ｐｔを添加できる仕様とした。ゼオライトの上にＨＣ低
温活性に優れるＰｄ層を設けることで、ゼオライトから
脱離してくるＨＣを優先的に浄化でき、Ｐｄ層にＲｈを
共存、または、その上にＲｈ層を設けることにより、理
論空燃比より僅かにリッチ雰囲気にシフトしたガスが流
れても、ＨＣ、ＣＯ、ＮＯx がバランス良く浄化でき
る。更に、Ｐｔを添加することで、耐被毒性の向上が得
られる。
【０１９７】（３）ゼオライト層＋三元貴金属層のコー
ト層構造の最適化 従来では、ゼオライト層と三元層のコート層比率やコー
ト層を担持するモノリス担体のＧＳＡに関しては特に提
示してなかったが、ＨＣ吸着触媒では、ゼオライトと三
元層の構造が最適でないと、ＨＣ吸着・脱離・浄化のサ
イクルが有効に行われないという問題点があった。本発
明では、ゼオライトと三元層のコート層比率を、重量比
で９：１〜１：４の割合とし、更に、コート層を設ける
モノリス担体のＧＳＡを１０ｃｍ2 ／ｃｍ 3 〜３５ｃｍ
2 ／ｃｍ3 の範囲に規定することによって、前記ＨＣ吸
着・脱離・浄化のバランスが良い仕様にしている。すな
わち、ゼオライト層に対して三元層の割合が多く成り過
ぎると、下層に配置されたゼオライト層へのガス拡散が
悪くなり、ゼオライト量に見合った十分な吸着性能が得
られない。一方、三元層の割合が少ないと、脱離してく
るＨＣの酸化性能及び排気ガスの浄化性能が十分に得ら
れなくなる。また、ＧＳＡが大きく成り過ぎると、ゼオ
ライト層のＨＣ保持力が小さくなり、上部に配置された
三元層で十分な浄化性能が得られない。また、ＧＳＡが
小さいと、排気ガスの浄化性能が十分に得られなくな
る。
ト層構造の最適化 従来では、ゼオライト層と三元層のコート層比率やコー
ト層を担持するモノリス担体のＧＳＡに関しては特に提
示してなかったが、ＨＣ吸着触媒では、ゼオライトと三
元層の構造が最適でないと、ＨＣ吸着・脱離・浄化のサ
イクルが有効に行われないという問題点があった。本発
明では、ゼオライトと三元層のコート層比率を、重量比
で９：１〜１：４の割合とし、更に、コート層を設ける
モノリス担体のＧＳＡを１０ｃｍ2 ／ｃｍ 3 〜３５ｃｍ
2 ／ｃｍ3 の範囲に規定することによって、前記ＨＣ吸
着・脱離・浄化のバランスが良い仕様にしている。すな
わち、ゼオライト層に対して三元層の割合が多く成り過
ぎると、下層に配置されたゼオライト層へのガス拡散が
悪くなり、ゼオライト量に見合った十分な吸着性能が得
られない。一方、三元層の割合が少ないと、脱離してく
るＨＣの酸化性能及び排気ガスの浄化性能が十分に得ら
れなくなる。また、ＧＳＡが大きく成り過ぎると、ゼオ
ライト層のＨＣ保持力が小さくなり、上部に配置された
三元層で十分な浄化性能が得られない。また、ＧＳＡが
小さいと、排気ガスの浄化性能が十分に得られなくな
る。
【０１９８】請求項１記載の排気ガス浄化用触媒は、Ｈ
ＣのＨＣ、ＣＯ、ＮＯx の浄化性能をバランス良く行う
ことができる。更に、上記効果に加えて、モノリス担体
セル内を通過及びコート層内に拡散する排気ガスの拡散
性（速度）を制御し、炭化水素の浄化性能を向上でき
る。
ＣのＨＣ、ＣＯ、ＮＯx の浄化性能をバランス良く行う
ことができる。更に、上記効果に加えて、モノリス担体
セル内を通過及びコート層内に拡散する排気ガスの拡散
性（速度）を制御し、炭化水素の浄化性能を向上でき
る。
【０１９９】請求項２記載の排気ガス浄化用触媒は、上
記効果に加えて、更に、炭化水素の浄化性能を向上でき
る。更に、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を含有
せしめているので、貴金属のシンタリングを抑制するた
め、低温活性や浄化性能を更に向上させる効果を奏す
る。
記効果に加えて、更に、炭化水素の浄化性能を向上でき
る。更に、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を含有
せしめているので、貴金属のシンタリングを抑制するた
め、低温活性や浄化性能を更に向上させる効果を奏す
る。
【０２００】請求項３記載の排気ガス浄化用触媒は、上
記効果に加えて、多種のＨＣを有効に吸着できる。
記効果に加えて、多種のＨＣを有効に吸着できる。
【０２０１】請求項４記載の排気ガス浄化用触媒は、上
記効果に加えて、吸着可能なＨＣ種の範囲が広くなり、
より多種のＨＣを有効に吸着できる。
記効果に加えて、吸着可能なＨＣ種の範囲が広くなり、
より多種のＨＣを有効に吸着できる。
【０２０２】請求項５記載の排気ガス浄化用触媒は、上
記効果に加えて、吸着特性や脱離抑制能を更に向上する
ことができる。
記効果に加えて、吸着特性や脱離抑制能を更に向上する
ことができる。
【０２０３】請求項６記載の排気ガス浄化用触媒は、上
記効果に加えて、更に耐被毒性を向上することができ
る。
記効果に加えて、更に耐被毒性を向上することができ
る。
【０２０４】請求項７記載の排気ガス浄化用触媒は、上
記効果に加えて、更に、炭化水素の浄化性能を向上でき
る。
記効果に加えて、更に、炭化水素の浄化性能を向上でき
る。
【０２０５】請求項８記載の排気ガス浄化用触媒は、上
記効果に加えて、耐久後の構造安定性、及びパラジウム
の化学状態変化による触媒性能の低下を抑制できる。
記効果に加えて、耐久後の構造安定性、及びパラジウム
の化学状態変化による触媒性能の低下を抑制できる。
【０２０６】請求項９記載の排気ガス浄化用触媒は、上
記効果に加えて、耐久後のロジウム化学状態変化による
触媒性能の低下を抑制できる。
記効果に加えて、耐久後のロジウム化学状態変化による
触媒性能の低下を抑制できる。
【０２０７】請求項１０記載の排気ガス浄化用触媒は、
上記効果に加えて、更に、ＨＣの脱離を遅延化し炭化水
素の浄化性能を向上できる。
上記効果に加えて、更に、ＨＣの脱離を遅延化し炭化水
素の浄化性能を向上できる。
【０２０８】請求項１１記載の排気ガス浄化用触媒は、
上記効果に加えて、更に、ＨＣの脱離を遅延化し炭化水
素の浄化性能を向上できる。
上記効果に加えて、更に、ＨＣの脱離を遅延化し炭化水
素の浄化性能を向上できる。
【０２０９】請求項１２記載の排気ガス浄化用触媒は、
上記効果に加えて、更に、ＨＣの脱離を遅延化し炭化水
素の浄化性能を向上できる。
上記効果に加えて、更に、ＨＣの脱離を遅延化し炭化水
素の浄化性能を向上できる。
【０２１０】請求項１３記載の排気ガス浄化用触媒は、
ＨＣのＨＣ、ＣＯ，ＮＯx の浄化性能をバランス良く行
うことができる。更に、上記効果に加えて、モノリス担
体セル内を通過及びコート層内に拡散する排気ガスの拡
散性（速度）を制御し、炭化水素の浄化性能を向上でき
る。
ＨＣのＨＣ、ＣＯ，ＮＯx の浄化性能をバランス良く行
うことができる。更に、上記効果に加えて、モノリス担
体セル内を通過及びコート層内に拡散する排気ガスの拡
散性（速度）を制御し、炭化水素の浄化性能を向上でき
る。
【０２１１】請求項１４記載の排気ガス浄化用触媒は、
上記効果に加えて、更に、炭化水素の浄化性能を向上で
きる。
上記効果に加えて、更に、炭化水素の浄化性能を向上で
きる。
【０２１２】請求項１５および１６記載の排気ガス浄化
装置は、低温活性に優れる排気ガス浄化用触媒と炭化水
素吸着触媒を組合せ、炭化水素吸着触媒が吸着する炭化
水素量を、エンジン始動直後の低温時に排出される炭化
水素量の１０％〜７０％に設定することによって、脱離
炭化水素の浄化性能を向上できる。
装置は、低温活性に優れる排気ガス浄化用触媒と炭化水
素吸着触媒を組合せ、炭化水素吸着触媒が吸着する炭化
水素量を、エンジン始動直後の低温時に排出される炭化
水素量の１０％〜７０％に設定することによって、脱離
炭化水素の浄化性能を向上できる。
【０２１３】請求項１７記載の排気ガス浄化装置は、低
温活性に優れる排気ガス浄化用触媒と炭化水素吸着触媒
を組合せ、炭化水素吸着触媒が吸着する炭化水素量を、
エンジン始動直後の低温時に排出される炭化水素量の３
０％〜７０％に設定し、更に、下記排気ガス浄化触媒の
早期活性化を促進する手段を組合せることによって、炭
化水素吸着触媒が吸着する炭化水素量を更に低減し、脱
離炭化水素の浄化性能を向上できる。
温活性に優れる排気ガス浄化用触媒と炭化水素吸着触媒
を組合せ、炭化水素吸着触媒が吸着する炭化水素量を、
エンジン始動直後の低温時に排出される炭化水素量の３
０％〜７０％に設定し、更に、下記排気ガス浄化触媒の
早期活性化を促進する手段を組合せることによって、炭
化水素吸着触媒が吸着する炭化水素量を更に低減し、脱
離炭化水素の浄化性能を向上できる。
【０２１４】請求項１８記載の排気ガス浄化装置は、請
求項１７記載の排気ガス浄化装置において、炭化水素吸
着触媒の前段に配置した三元触媒の早期活性化を図るこ
とができ、炭化水素吸着触媒が脱離する炭化水素の浄化
性能を向上できる。
求項１７記載の排気ガス浄化装置において、炭化水素吸
着触媒の前段に配置した三元触媒の早期活性化を図るこ
とができ、炭化水素吸着触媒が脱離する炭化水素の浄化
性能を向上できる。
【０２１５】請求項１９記載の排気ガス浄化装置は、請
求項１７記載の排気ガス浄化装置において、炭化水素吸
着触媒の前段に配置した三元触媒の早期活性化を図るこ
とができ、炭化水素吸着触媒が脱離する炭化水素の浄化
性能を向上できる。
求項１７記載の排気ガス浄化装置において、炭化水素吸
着触媒の前段に配置した三元触媒の早期活性化を図るこ
とができ、炭化水素吸着触媒が脱離する炭化水素の浄化
性能を向上できる。
【０２１６】請求項２０記載の排気ガス浄化装置は、炭
化水素吸着触媒の上部に配置した三元触媒の早期活性化
と、上記浄化性能の向上を図ることができ、脱離炭化水
素の浄化性能を向上できる。
化水素吸着触媒の上部に配置した三元触媒の早期活性化
と、上記浄化性能の向上を図ることができ、脱離炭化水
素の浄化性能を向上できる。
【０２１７】請求項２１記載の排気ガス浄化装置は、上
記効果に加えて、触媒層の温度低下を抑制でき、脱離炭
化水素を効率よく浄化することができる。
記効果に加えて、触媒層の温度低下を抑制でき、脱離炭
化水素を効率よく浄化することができる。
【０２１８】請求項２２記載の排気ガス浄化装置は、上
記効果に加えて、触媒層の温度低下を抑制でき、脱離炭
化水素を効率よく浄化することができる。
記効果に加えて、触媒層の温度低下を抑制でき、脱離炭
化水素を効率よく浄化することができる。
【０２１９】請求項２３記載の排気ガス浄化装置は、上
記効果に加えて、更に触媒層の温度低下を抑制や浄化性
能を向上でき、脱離炭化水素を効率よく浄化することが
できる。
記効果に加えて、更に触媒層の温度低下を抑制や浄化性
能を向上でき、脱離炭化水素を効率よく浄化することが
できる。
【０２２０】請求項２４記載の排気ガス浄化装置は、上
記効果に加えて、前段の排気ガス浄化触媒で未浄化の低
濃度排気ガス成分（ＨＣ、ＣＯ、ＮＯx ）を効率よく浄
化することができる。
記効果に加えて、前段の排気ガス浄化触媒で未浄化の低
濃度排気ガス成分（ＨＣ、ＣＯ、ＮＯx ）を効率よく浄
化することができる。
【０２２１】請求項２５記載の排気ガス浄化装置は、上
記効果に加えて、更に低濃度排気ガス成分（ＨＣ、Ｃ
Ｏ、ＮＯx ）を効率よく浄化することができる。
記効果に加えて、更に低濃度排気ガス成分（ＨＣ、Ｃ
Ｏ、ＮＯx ）を効率よく浄化することができる。
【０２２２】請求項２６記載の排気ガス浄化装置は、上
記効果に加えて、更に、ＨＣの吸着・脱離・浄化性能を
向上でき、脱離炭化水素を効率よく浄化することができ
る。
記効果に加えて、更に、ＨＣの吸着・脱離・浄化性能を
向上でき、脱離炭化水素を効率よく浄化することができ
る。
【０２２３】請求項２７記載の排気ガス浄化装置は、上
記効果に加えて、更に、脱離炭化水素を効率よく浄化す
ることができる。
記効果に加えて、更に、脱離炭化水素を効率よく浄化す
ることができる。
【０２２４】請求項２８記載の排気ガス浄化装置は、上
記効果に加えて、細孔径の異なる種々のＨＣ吸着材を組
み合わせることにより、エンジン始動直後の低温時に排
出されるＨＣ種を高い効率で吸着し、ＨＣ吸着能を向上
できる。
記効果に加えて、細孔径の異なる種々のＨＣ吸着材を組
み合わせることにより、エンジン始動直後の低温時に排
出されるＨＣ種を高い効率で吸着し、ＨＣ吸着能を向上
できる。
【０２２５】請求項２９記載の排気ガス浄化用触媒は、
エンジン始動直後の低温時に排出されるＨＣ種を高い効
率で吸着し、しかも、耐久後の構造変化や性能劣化が小
さいため、脱離速度の遅延化を図ることができる。
エンジン始動直後の低温時に排出されるＨＣ種を高い効
率で吸着し、しかも、耐久後の構造変化や性能劣化が小
さいため、脱離速度の遅延化を図ることができる。
【０２２６】請求項３０記載の排気ガス浄化用触媒は、
上記効果に加えて、触媒成分の還元に起因する触媒性能
の低下を抑制できる。
上記効果に加えて、触媒成分の還元に起因する触媒性能
の低下を抑制できる。
【０２２７】請求項３１記載の排気ガス浄化用触媒は、
上記効果に加えて、更に浄化性能を向上し、触媒成分の
被毒に起因する触媒性能の低下を抑制できる。
上記効果に加えて、更に浄化性能を向上し、触媒成分の
被毒に起因する触媒性能の低下を抑制できる。
【０２２８】請求項３２記載の排気ガス浄化用触媒は、
更に低温活性を向上することができる。
更に低温活性を向上することができる。
【図１】（ａ）は本発明の触媒のウオッシュコート層構
造を示す斜視図である。（ｂ）は（ａ）の部分拡大部で
ある。
造を示す斜視図である。（ｂ）は（ａ）の部分拡大部で
ある。
【図２】本発明の触媒を評価するために用いたエンジン
の排気系を示すシステム（評価システム１）図である。
の排気系を示すシステム（評価システム１）図である。
【図３】本発明の触媒を評価するために用いたエンジン
の排気系を示すシステム（評価システム２）図である。
の排気系を示すシステム（評価システム２）図である。
【図４】本発明の触媒を評価するために用いたエンジン
の排気系を示すシステム（評価システム３）図である。
の排気系を示すシステム（評価システム３）図である。
【図５】本発明の触媒を評価するために用いたエンジン
の排気系を示すシステム（評価システム４）図である。
の排気系を示すシステム（評価システム４）図である。
【図６】本発明の触媒を評価するために用いたエンジン
の排気系を示すシステム（評価システム５）図である。
の排気系を示すシステム（評価システム５）図である。
【図７】本発明の触媒を評価するために用いたエンジン
の排気系を示すシステム（評価システム６）図である。
の排気系を示すシステム（評価システム６）図である。
【図８】本発明の触媒を評価するために用いたエンジン
の排気系を示すシステム（評価システム７）図である。
の排気系を示すシステム（評価システム７）図である。
【図９】エンジン種類毎の貴金属（ＰＭ）量とエンジン
アウトミッション残存率の関係を示すグラフ（マップ）
である。
アウトミッション残存率の関係を示すグラフ（マップ）
である。
【図１０】三元触媒の貴金属選択マップ作成のためのフ
ローシートである。
ローシートである。
【図１１】エンジンアウトエミッション残存率と時間の
関係を示すグラフである。
関係を示すグラフである。
【図１２】リーン化時間演算フローシートである。
１ 炭化水素吸着層 ２ 三元触媒層 ３ ガス通過部 ４ 三元触媒 ５ ＨＣ吸着触媒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｆ０１Ｎ 3/24 ＺＡＢ Ｆ０１Ｎ 3/28 ３０１Ｊ 3/28 ３０１ Ｂ０１Ｄ 53/36 １０４Ａ (72)発明者 高谷 真弘 神奈川県横浜市神奈川区宝町２番地 日産 自動車株式会社内 Ｆターム(参考） 3G091 AA02 AA12 AB03 AB10 AB11 BA01 BA03 BA11 BA14 BA15 BA19 BA39 CA22 CB02 CB05 DB10 DB13 EA17 EA18 EA30 EA34 FA02 FA04 FB02 FB06 FB07 FB11 FB12 FC07 GA06 GA18 GB01Y GB02W GB02Y GB03W GB03Y GB05W GB06W GB07W GB09Y GB10W GB17X HA03 HA08 HA12 HA18 HA19 HA36 HA37 HA39 HA42 HA47 HB02 HB07 4D048 AA06 AA13 AA18 AB01 AB02 AB03 BA01X BA02X BA03X BA04X BA06X BA08X BA11X BA19X BA30X BA31X BA44X BB20 CA01 4G069 AA03 BC03B BC03C BC09A BC09B BC09C BC10A BC10B BC10C BC12A BC13A BC13B BC13C BC16B BC16C BC32A BC40A BC42A BC42B BC42C BC43A BC43B BC43C BC44A BC44B BC44C BC51A BC51B BC51C BC71A BC71B BC71C BC72A BC72B BC72C BC75A BD03A BD03B BD03C BD05B BD05C BD07A BD07B BD07C CA03 CA09 CA13 CA14 CA15 DA06 EE06 ZA02A ZA02B ZA03A ZA04A ZA05A ZA05B ZA13A ZA13B ZA19A ZA19B ZA39A ZA39B ZA43A ZA43B
Claims (38)
- 【請求項１】 触媒成分担持層を有する一体構造型排気
ガス浄化用触媒であって、モノリス担体上に、ゼオライ
トを主成分とする炭化水素吸着材を含む第１層を設け、
該第１層の上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白
金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれ
た少なくとも一種を含む触媒成分層を設けて成り、該ゼ
オライトを主成分とする炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐ
ｔ及びＲｈからなる群より選ばれた少なくとも一種を含
む触媒成分層の重量比が９：１から１：４である触媒成
分層を、ＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃ
ｍ3 のモノリス担体に担持することを特徴とする排気ガ
ス浄化用触媒。 - 【請求項２】 請求項１記載の排気ガス浄化用触媒にお
いて、モノリス担体上に、炭化水素の吸着に有効なβー
ゼオライトを含む少なくとも１種以上のゼオライトを主
成分とする第１層を設け、該第１層の上に触媒成分とし
てＰｄを含有するかもしくはＰｄとＲｈを含有する第２
層を設けるか、又は該第２層の上に触媒成分としてＲｈ
を含有する第３層を設けて成り、該第１層と、該第２層
及び第３層の三元触媒の総コート重量比率が５：１〜
１：２である触媒成分層を、ＧＳＡが１０ｃｍ2 ／ｃｍ
3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 のモノリス担体に担持し、更に
前記モノリス担体にアルカリ金属及びアルカリ土類金属
からなる群より選ばれた少なくとも一種を含有せしめた
ことを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項３】 請求項１又は２項記載の排気ガス浄化用
触媒において、該第１層のゼオライト種は、少なくとも
Ｓｉ／２Ａｌ比が１０〜５００のＨ型β−ゼオライトを
含むことを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項４】 請求項１〜３いずれかの項記載の排気ガ
ス浄化用触媒において、該第１層のゼオライト種はＨ型
β−ゼオライトと共に、更にＭＦＩ、Ｙ型、ＵＳＹ、モ
ルデナイト、フェリエライト、Ａ型ゼオライト、Ｘ型ゼ
オライト、ＡｌＰＯ4 及びＳＡＰＯのうち少なくとも一
種を用いることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項５】 請求項１〜４いずれかの項記載の排気ガ
ス浄化用触媒において、該第１層のゼオライトに、Ｐ
ｄ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ａｇ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，
Ｎｄ，Ｐ，Ｂ及びＺｒから選ばれた少なくとも一種が含
有されることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項６】 請求項２記載記載の排気ガス浄化用触媒
において、第２及び第３層の少なくともいずれかに、更
にＰｔを共存させることを特徴とする排気ガス浄化用触
媒。 - 【請求項７】 請求項１〜６いずれかの項記載の排気ガ
ス浄化用触媒において、ゼオライトを主成分とする炭化
水素吸着材層に、ロジウムと、セリウム、ネオジウム及
びランタンからなる群より選ばれた少なくとも一種を金
属換算で１〜４０モル％含むジルコニウム酸化物が含有
されることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項８】 請求項１〜７いずれかの項記載の排気ガ
ス浄化用触媒において、ゼオライトを主成分とする炭化
水素吸着材を含む第１層の上に設けた、Ｐｄ、Ｐｔ及び
Ｒｈからなる群より選ばれた少なくとも一種を含む触媒
成分層に、更に、セリウム、ジルコニウム及びランタン
からなる群より選ばれた少なくとも一種を金属換算で１
〜１０モル％含むアルミナと、ジルコニウム、ネオジウ
ム及びランタンからなる群より選ばれた一種を金属換算
で１〜４０モル％含むセリウム酸化物が含有されること
を特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項９】 請求項１〜８いずれかの項記載の排気ガ
ス浄化用触媒において、ゼオライトを主成分とする炭化
水素吸着材を含む第１層の上に設けた、Ｐｄ、Ｐｔ及び
Ｒｈからなる群より選ばれた少なくとも一種を含む触媒
成分層に、更に、セリウム、ジルコニウム及びランタン
からなる群より選ばれた少なくとも一種を金属換算で１
〜４０モル％含むジルコニウム酸化物が含有されること
を特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項１０】 触媒成分担持層を有する一体構造型排
気ガス浄化用触媒であって、ゼオライトを主成分とする
炭化水素吸着材を含む第１層と、該第１層の上に触媒成
分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウ
ム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた少なくとも一種を含
む触媒成分層を設けて成り、該ゼオライトを主成分とす
る炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈからなる群
より選ばれた少なくとも一種を含む触媒成分層の重量比
が９：１から１：４である触媒成分層を、セル数が５０
〜６００のモノリス担体に担持することを特徴とする排
気ガス浄化用触媒。 - 【請求項１１】 触媒成分担持層を有する一体構造型排
気ガス浄化用触媒であって、ゼオライトを主成分とする
炭化水素吸着材を含む第１層と、該第１層の上に触媒成
分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウ
ム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた少なくとも一種を含
む触媒成分層を設けて成り、該ゼオライトを主成分とす
る炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈからなる群
より選ばれた少なくとも一種を含む触媒成分層の重量比
が９：１から１：４である触媒成分層を、水力直径が
０．７５ｍｍ〜５ｍｍのモノリス担体に担持することを
特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項１２】 触媒成分担持層を有する一体構造型排
気ガス浄化用触媒であって、ゼオライトを主成分とする
炭化水素吸着材を含む第１層と、該第１層の上に触媒成
分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウ
ム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた少なくとも一種を含
む触媒成分層を設けて成り、該ゼオライトを主成分とす
る炭化水素吸着材層と該Ｐｄ、Ｐｔ及びＲｈからなる群
より選ばれた少なくとも一種を含む触媒成分層の重量比
が９：１から１：４である触媒成分層を、モノリス担体
のセル内の平坦部のコート層厚みが３０μｍ〜４００μ
ｍになるように担持することを特徴とする排気ガス浄化
用触媒。 - 【請求項１３】 β−ゼオライトを主成分とする炭化水
素吸着材層の上部に、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐ
ｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた少な
くとも一種を含む三元触媒成分層を配置した多層構造の
一体型炭化水素吸着触媒であって、β−ゼオライトを主
成分とする炭化水素吸着材層と該三元触媒層との重量比
率が、９：１から１：４である触媒成分層を、ＧＳＡが
１０ｃｍ 2 ／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 モノリス担体
に担持することを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項１４】 β−ゼオライトを主成分とする炭化水
素吸着材層の上部に、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐ
ｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた少な
くとも一種を含む三元触媒成分層を配置した多層構造の
一体型炭化水素吸着触媒であって、β−ゼオライトを主
成分とする炭化水素吸着材層と該三元触媒層との重量比
率が、５：１〜１：２である触媒成分層を、ＧＳＡが１
０ｃｍ2／ｃｍ3 〜３５ｃｍ2 ／ｃｍ3 のモノリス担体
に担持することを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項１５】 請求項１〜１４のいずれか１項に記載
の一体型炭化水素吸着触媒が吸着する炭化水素量を、該
炭化水素吸着触媒の炭化水素飽和吸着量の７０％以下に
設定することを特徴とする排気ガス浄化装置。 - 【請求項１６】 請求項１〜１４のいずれか１項に記載
の一体型排気ガス浄化触媒の前段に、パラジウム、白金
及びロジウムからなる群より選ばれた少なくとも一種を
含み、また、パラジウムの担持濃度として、４重量％以
上、２０重量％以下となるように担持した粉末を含有
し、且つ、パラジウムの担持量が１００ｇ／ｃｆ（３．
５ｇ/ Ｌ）以上、１０００ｇ／ｃｆ（３５．４ｇ／Ｌ）
以下であることを特徴とする排気ガス浄化触媒を配置
し、該炭化水素吸着触媒が吸着する炭化水素量を、該炭
化水素吸着触媒の炭化水素飽和吸着量の７０％以下に設
定することを特徴とする排気ガス浄化装置。 - 【請求項１７】 請求項１〜１４のいずれか１項に記載
の一体型排気ガス浄化触媒の前段に、パラジウム、白金
及びロジウムからなる群より選ばれた少なくとも一種を
含み、パラジウムの担持濃度として、４重量％以上、１
５重量％以下となるように担持した粉末を含有し、且
つ、パラジウムの担持量が１００ｇ／ｃｆ（３．５ｇ/
Ｌ）以上、５００ｇ／ｃｆ（１７．７ｇ／Ｌ）以下であ
ることを特徴とする排気ガス浄化触媒を配置し、該パラ
ジウムを含む排気ガス浄化触媒で、該炭化水素吸着触媒
が吸着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化水
素飽和吸着量の７０％以下に設定することを特徴とする
排気ガス浄化装置。 - 【請求項１８】 請求項１５から１７いずれかの項記載
の排気ガス浄化装置において、エンジン始動時（ファー
ストアイドル）の点火時期を、エンジン始動直後から４
０秒以下、点火時期（上死点から）を１°以上、３０°
以下遅角することにより、排気温度の上昇を速め、炭化
水素吸着触媒の前段に配置した該パラジウムを含む排気
ガス浄化触媒の活性化を速め、該炭化水素吸着触媒が吸
着する炭化水素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽
和吸着量の７０％以下に設定することを特徴とする排気
ガス浄化装置。 - 【請求項１９】 請求項１５から１７いずれかの項及び
１６記載の排気ガス浄化装置において、エンジン始動直
後から６０秒間、空気流量１０Ｌ／分以上の空気を供給
し、エンジン始動直後のコールド空燃比を希薄化（Ａ／
Ｆ＝１２〜１８）することによって、炭化水素吸着触媒
の前段に配置した該パラジウムを含む排気ガス浄化触媒
の活性化を速め、該炭化水素吸着触媒が吸着する炭化水
素量を、該炭化水素吸着触媒の炭化水素飽和吸着量の７
０％以下に設定することを特徴とする排気ガス浄化装
置。 - 【請求項２０】 請求項１５から１９いずれかの項記載
の排気ガス浄化装置において、該炭化水素吸着触媒から
炭化水素の脱離が開始する直前に、該炭化水素吸着触媒
の上流、または、該炭化水素吸着触媒中に、酸素あるい
は／又は空気を添加することを特徴とする排気ガス浄化
装置。 - 【請求項２１】 請求項１５から１９いずれかの項記載
の排気ガス浄化装置において、炭化水素吸着触媒の前部
に設置された温度検出器の検出値が所定温度以上になっ
た時に、炭化水素吸着触媒の後部分に設置したＡ／Ｆ検
知器が１４．６以上になるように、該炭化水素吸着触媒
の上流、または、該炭化水素吸着触媒中に、酸素あるい
は／又は空気を添加することを特徴とする排気ガス浄化
装置。 - 【請求項２２】 請求項１５から１９いずれかの項記載
の排気ガス浄化装置において、炭化水素吸着触媒の触媒
層中に挿入された温度検出器の検出値が所定温度以上に
なった時に、炭化水素吸着触媒の後部分に設置したＡ／
Ｆ検知器が１４．６以上になるように、該炭化水素吸着
触媒の上流、または、該炭化水素吸着触媒中に、酸素あ
るいは／又は空気を添加することを特徴とする排気ガス
浄化装置。 - 【請求項２３】 請求項１５から１９いずれかの項記載
の排気ガス浄化装置において、炭化水素吸着触媒の前部
分と後部分に設置したＡ／Ｆ検知器の検出値から炭化水
素の脱離が検知された時に、炭化水素吸着触媒の後部分
に配置したＡ／Ｆ検知器がＡ／Ｆ＝１４．６以上になる
ように、該炭化水素吸着触媒の上流、または、該炭化水
素吸着触媒中に、酸素あるいは／又は空気を添加するこ
とを特徴とする排気ガス浄化装置。 - 【請求項２４】 請求項１５から１７いずれかの項記載
の排気ガス浄化装置において、排気ガス上流に配置した
パラジウム、白金及びロジウムからなる群より選ばれた
少なくとも一種を含む三元触媒に含まれるロジウム量
が、下流側に配置した炭化水素吸着触媒に含まれるロジ
ウム量より少ないことを特徴とする排気ガス浄化装置。 - 【請求項２５】 請求項２４記載の排気ガス浄化装置に
おいて、排気ガス上流に配置した三元触媒に含まれるロ
ジウム量と下流側に配置した炭化水素吸着触媒に含まれ
るロジウム量の重量比が、等量（１／１）以下であるこ
とを特徴とする排気ガス浄化装置。 - 【請求項２６】 請求項１５から１７いずれかの項記載
の排気ガス浄化装置において、排気ガス上流にパラジウ
ム、白金及びロジウムからなる群より選ばれた少なくと
も一種を含む三元触媒を配置し、その下流に炭化水素吸
着触媒を二個以上配置することを特徴とする排気ガス浄
化装置。 - 【請求項２７】 請求項１５から１７いずれかの項記載
の排気ガス浄化用触媒において、排気ガス上流にパラジ
ウム、白金及びロジウムからなる群より選ばれた少なく
とも一種を含む三元触媒を配置し、その下流に炭化水素
吸着触媒を二個以上配置し、該複数個の炭化水素吸着触
媒が、エンジンからの距離が異なる位置に設けられるこ
とを特徴とする排気ガス浄化装置。 - 【請求項２８】 請求項１５から１７いずれかの項記載
のβーゼオライトを主成分とした炭化水素吸着材層中
に、更に、モルデナイト、Ｙ、ＵＳＹ、ＺＳＭ５からな
る群より選ばれた少なくとも１種を５重量％から４５重
量％含有することを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項２９】 請求項１５から１７いずれかの項記載
の炭化水素吸着材が、白金、パラジウム、リン、ホウ
素、マグネシウム及びカルシウムからなる群より選ばれ
た少なくとも一種を含有することを特徴とする排気ガス
用触媒。 - 【請求項３０】 請求項２８又は２９記載の炭化水素吸
着材層の上部に、パラジウムとジルコニウム、ネオジウ
ム及びランタンからなる群より選ばれた一種を金属換算
で１〜４０モル％、セリウムを６０〜９８モル％含むセ
リウム酸化物を含有する触媒成分層を配置することを特
徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項３１】 請求項１５から１７いずれかの項又は
請求項２８〜３０いずれか項記載の炭化水素吸着材層の
上部に配置したパラジウムを含有する触媒成分層の上部
に、更に、白金、ロジウム、セリウム、ネオジウム及び
ランタンからなる群より選ばれた一種を金属換算で１〜
３０モル％、ジルコニウムを７０〜９８モル％含むジル
コニウム酸化物、活性アルミナを含有する触媒成分層を
配置することを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項３２】 請求項１５又は１６又は請求項２８〜
３１いずれか項記載の炭化水素吸着材層の上部に三元触
媒成分層を配置した触媒に、更に、アルカリ金属及びア
ルカリ土類金属からなる群より選ばれた少なくとも一種
が含有されることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項３３】 自動車用排気ガス浄化触媒であって、
ペンタシル型とベータ型の結晶性アルミノケイ酸塩を触
媒成分として含有する請求項１記載の排気ガス浄化用触
媒。 - 【請求項３４】 請求項１記載の排気ガス浄化用触媒に
おいて、該触媒成分層に含有される、ペンタシル型の結
晶性アルミノケイ酸塩がモルデナイトを種結晶として合
成されたＭＦＩ構造を有し、Ｓｉ／２Ａｌ比が１０以上
（以下、ＺＳＭ５と称す）であることを特徴とし、ま
た、ＢＥＡ型の結晶性アルミノケイ酸塩がβ型構造を有
し、Ｓｉ／２Ａｌ比が１０以上（以下、ＺＳＭ５と称
す）であることを特徴とし、また、ＢＥＡ型の結晶性ア
ルミノケイ酸塩がβ型構造を有し、、Ｓｉ／２Ａｌ比が
１０以上（以下、βーゼオライトと称す）であることを
特徴とし、さらに、該βーゼオライトとＺＳＭ５の重量
比が、１／１から２０／１であることを特徴とする排気
ガス浄化用触媒。 - 【請求項３５】 請求項１又は２項記載の排気ガス浄化
用触媒において、該結晶性アルミノケイ酸塩に、Ｐｄ，
Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ａｇ、Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎ
ｄ，Ｐ，Ｂ及びＺｒから選ばれた少なくとも一種が含有
されることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項３６】 請求項１〜３いずれか１項記載の排気
ガス浄化用触媒において、触媒成分としてパラジウム
（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる
群より選ばれた少なくとも一種を含むことを特徴とする
排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項３７】 請求項１〜４いずれか１項記載の排気
ガス浄化用触媒において、該触媒成分層に、さらに、ア
ルミニウム酸化物、セリウム酸化物、ジルコニウム酸化
物が含有されることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項３８】 請求項１〜５いずれか１項記載の触媒
成分層に、更に、アルカリ金属及びアルカリ土類金属か
らなる群より選ばれた少なくとも一種が含有されること
を特徴とする排気ガス浄化用触媒。
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|---|---|---|---|
| JP23468098A JP3506316B2 (ja) | 1997-08-20 | 1998-08-20 | 排気ガス浄化用触媒及び排気ガス浄化装置 |
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| JP9-223919 | 1998-06-01 | ||
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