JP2001149787A - 排気ガス浄化用触媒及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エンジン始動直後の低温時に排出される排気
ガス中のＨＣ，ＣＯ及びＮＯｘのうち、特にＨＣを効率
よく浄化することができる排気ガス浄化用触媒を提供す
る。 【解決手段】 触媒成分担持層を有する一体構造型触媒
において、モノリス担体上にゼオライトを主成分とする
第１層を設け、該第１層の上に触媒成分としてパラジウ
ム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からな
る群より選ばれた少なくとも１種を含む触媒成分層を設
けて成り、該第１層及び／又は触媒成分層が超高疎水性
材料を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、内燃機関のエンジ
ン始動時の排気ガスを浄化する排気ガス浄化用触媒に関
し、特に、自動車等の内燃機関からエンジン始動直後の
低温時に排出される排気ガス中の炭化水素（以下、「Ｈ
Ｃ」と称す）、一酸化炭素（以下、「ＣＯ」と称す）及
び窒素酸化物（以下、「ＮＯｘ」と称す）のうち、特
に、ＨＣを効率良く浄化することができる排気ガス浄化
用触媒に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、内燃機関のエンジン始動時の低温
域で大量に排出されるＨＣの浄化を目的に、ゼオライト
を用いたＨＣ吸着触媒が開発されている。かかるＨＣ吸
着触媒は、三元触媒が活性化しないエンジン始動時の低
温域において大量に排出されるＨＣを一時的に吸着して
保持し、次に排気ガス温度が上昇することにより三元触
媒が活性化した時に、ＨＣを徐々に脱離して浄化するも
のである。

【０００３】このようなエンジン始動直後の低温時に排
出される排気ガス中のＨＣの低減を目的に、ＨＣを吸着
材を用いて一時的にＨＣを貯蔵し、三元触媒が活性化し
た後に脱離させ、三元触媒で浄化する方法が検討されて
いる。

【０００４】かかるＨＣ吸着材を用いた発明としては、
例えば、特開平２−５６２４７号公報、特開平６−７４
０１９号公報、特開平６−１４２４５７号公報等に開示
されているものがある。

【０００５】特開平２−５６２４７号公報は、ゼオライ
トを主成分とする第１層の上に、Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｈ等の
貴金属を主成分とする第２層を設けた排気ガス浄化用触
媒が提案されている。

【０００６】また、特開平６−７４０１９号公報は、排
気流路にバイパス流路を設け、エンジン始動直後のコー
ルド時に排出されるＨＣをバイパス流路に配置したＨＣ
吸着材に一旦吸着させ、その後流路を切り替え、下流の
三元触媒が活性化した後、排気ガスの一部をＨＣ吸着触
媒に通じ、脱離したＨＣを徐々に後段の三元触媒で浄化
するシステムを提案している。

【０００７】また、特開平６−１４２４５７号公報は、
低温域で吸着したＨＣが脱離する際に、脱離ＨＣを含む
排気ガスを熱交換器で予熱し、三元触媒での浄化を促進
するシステムを提案している０

【発明が解決しようとする課題】

【０００８】しかしながら、前記公報中に記載されたゼ
オライト層の上に三元層を設けた排気ガス浄化用触媒で
は、内燃機関の始動直後の排気ガス低温域においてゼオ
ライトに吸着されたＨＣが、排気ガス温度の上昇に伴い
脱離してくる際、上層の三元触媒の活性が不十分である
と、脱離ＨＣが未浄化のまま排出されるため、エミッシ
ョンの低減効果が十分に得られなくなるという問題があ
る。

【０００９】即ち、ゼオライトに吸着されたＨＣが排気
ガス温度の上昇に伴い脱離してくるタイミングと、その
脱離ＨＣを浄化するための三元触媒の活性化のタイミン
グとのマッチングが、十分図れている事が有効なエミッ
ション低減につながる。このため、前記公報中に記載さ
れたＨＣ吸着材を用いたシステムでは、ＨＣの脱離遅延
化や三元触媒の早期活性化を図るため、高温ガスのバイ
パス法や三元触媒暖気のための熱交換器が使用されてい
るが、システム構成が煩雑化し、しかも十分な効果が得
られず、コストが著しく向上する。従って、有効且つ安
価なＨＣ脱離域と三元活性化域とのマッチング技術が望
まれている。本発明の目的は、エンジン始動直後の低温
時に排出される排気ガス中のＨＣ，ＣＯ及びＮＯｘのう
ち、特にＨＣを効率良く浄化することができる排気ガス
浄化用触媒を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、触媒コート層
構成において、ゼオライト層及び／又は触媒成分層に超
高疎水性材料を含有させ、疎水性及び耐水熱性の向上を
図ることにより、ゼオライトから脱離してくるＨＣが遅
延化され、三元活性化域とのマッチングが向上し、大幅
な脱離ＨＣ浄化性能の向上効果が得られることを見出
し、本発明に到達した。

【００１１】本発明の排気ガス浄化用触媒は、触媒成分
担持層を有する一体構造型触媒において、モノリス担体
上にゼオライトを主成分とする第１層を設け、該第１層
の上に触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐ
ｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた少な
くとも１種を含む触媒成分層を設けて成り、該第１層及
び／又は触媒成分層が超高疎水性材料を含有することを
特徴とする。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の排気ガス浄化用触媒は、
触媒成分担持層を有する一体構造型触媒において、モノ
リス担体上に炭化水素の吸着に有効なゼオライトを主成
分とする第１層を設け、該第１層の上に触媒成分として
パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒ
ｈ）からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む触媒
成分層を設けて成り、該第１層及び／又は触媒成分層に
超高疎水性材料を含有する。

【００１３】モノリス担体上に炭化水素の吸着に有効な
ゼオライトを主成分とする層を、またその上に三元触媒
成分層を設けることで、下層に配置されたゼオライト層
は、上層の三元層に比べて暖気が遅いため、少しでも長
く吸着したＨＣを保持でき、逆に三元層は早く暖気し活
性化されるため、ＨＣの吸着・脱離・浄化のバランスが
良くなる。更に、該ゼオライト層及び触媒成分層のいづ
れか、或いは両者に超高疎水性材料を含有することで、
ＨＣの吸着効率を上げると共に、ＨＣの脱離遅延化が図
れる。これより、ＨＣ脱離域と三元活性化域のマッチン
グが向上し、ゼオライトから脱離してくるＨＣの後処理
の効率化が図れる。

【００１４】該超高疎水性材料としては、シリカ（Ｓｉ
Ｏ₂ ）、チタニア（ＴｉＯ₂ ）、マグネシア（Ｍｇ
Ｏ）、カルシア（ＣａＯ）、ジルコニア（ＺｒＯ₂ ）及
びこれらの任意の混合物を好適に挙げることができる。
これらを、該ゼオライト層及び触媒成分層に含有させる
ことで、良好な疎水性を発揮できる。

【００１５】上記シリカは、１ｎｍ以上４ｎｍ未満の領
域に細孔径分布のピークを有するもの（メソポーラスシ
リカ）が好適である。シリカ多孔体の細孔径分布が１ｎ
ｍ未満の平均細孔径では、ゼオライト細孔への排気ガス
成分の拡散が阻害されると共にシンタリングによる細孔
閉塞の影響が大きく、４ｎｍを超える平均細孔径では疎
水化の効果が不十分となる。

【００１６】ゼオライトを主成分とする第１層の上の触
媒成文担持層は、触媒成分としてＰｄを含有するかもし
くはＰｄとＲｈを含有する第２層と、該第２層の上に位
置する触媒成分としてＲｈを含有する第３層とから成
り、第１層と、第２層及び第３層の三元触媒の総コート
重量比率が９：１〜１：４であることが好ましい。

【００１７】触媒コート層構造としては、モノリス担体
上にＨＣ吸着材であるゼオライト、その上に三元層を設
けることで、ゼオライトから脱離してくるＨＣの後処理
の効率化が図れる。更に、ゼオライト層の上に、触媒成
分としてＨＣ酸化に優れたＰｄを配置し、同一層内にＲ
ｈを共存、あるいは、その上にＲｈ層を設けることで、
脱離ＨＣにより三元触媒層内がリッチ雰囲気になって
も、ＨＣ，ＣＯ，ＮＯｘの浄化をバランス良く行なうこ
とができる。

【００１８】更に、ＰやＰｂ等による被毒の影響を受け
やすいＰｄをＲｈと共存させるか、あるいはＰｄの外側
にＲｈ層を配置することで、被毒の影響を少なくでき
る。更に、該第１層と、該第２層及び第３層の三元触媒
の総コート重量比率が９：１〜１：４であることが好ま
しいのは、当該規定値より三元層の割合が多くなると、
下層に配置されたゼオライト層へのガス拡散が悪くな
り、十分な吸着性能が得られず、一方当該規定値より三
元層の割合が少なくなると、脱離してくるＨＣの酸化性
能及び排気ガスの浄化性能が十分に得られなくなる。

【００１９】好適には、第１層のゼオライト粉末及び／
又は触媒成分層の触媒成分担持粉末が、超高疎水性材料
で被覆されることで、良好な疎水性を発揮することがで
きる。

【００２０】また、第１層のゼオライト粉末及び／又は
該触媒成分層の触媒成分担持粉末１００重量部に対し
て、該超高疎水性材料が１重量部以上６０重量部未満で
含有されることが好ましい。１重量部未満では、疎水性
向上の効果が得られないことがあり、６０重量部を超え
ると、逆にゼオライトの吸着・脱離性能の悪化、及び触
媒成分の三元性能の悪化を招く恐れがある。

【００２１】更に好適には、総触媒成分担持粉末１００
重量部に対して、該超高疎水性材料を含有した触媒成分
担持粉末が、５重量部以上８０重量部未満であることが
好ましく、５重量部未満では、疎水性向上の効果が得ら
れないことがあり、８０重量部を超えると、逆に触媒成
分の三元性能の悪化を招く恐れがある。

【００２２】第１層のゼオライト種は、少なくともＳｉ
／２Ａｌ比が１０〜５００のＨ型βでオライトを含むこ
とが好ましい。該βゼオライトは、他のゼオライトに比
べて耐熱性が高く、構造安定性に優れる。また、他のゼ
オライトが吸着に有効なＨＣ分子径範囲が狭いのに対
し、βゼオライトは大小２種の細孔径を有するため、細
孔が入り組み細孔構造を複雑にし、多種のＨＣを有効に
吸着できる。また、該βゼオライトのＳｉ／２Ａｌ比は
１０〜５００の範囲であることが望ましく、Ｓｉ／２Ａ
ｌ比が１０未満になると、排ガス中に共存する水分子の
吸着阻害が大きく、有効にＨＣを吸着することができな
い。逆にＳｉ／２Ａｌ比が５００を超えると、ＨＣの吸
着量が減少する。

【００２３】該第１層のゼオライト種はＨ型βゼオライ
トと共に、更にＭＦｌ、Ｙ型、ＵＳＹ、モルテサイト、
フェリエライト、Ａ型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト、Ａ
ＩＰＯ₄ 及びＳＡＰＯから成る群より選ばれる少なくと
も１種を用いることが好ましい。これらゼオライトは、
排気ガス中のＨＣ種の組成比に応じて、ゼオライト種の
細孔分布を変化させ、吸着能を向上させる。βゼオライ
トと共にこれらゼオライト種を混合させることにより、
吸着可能なＨＣ種の範囲が更に広くなる。逆に言えば、
吸着したいＨＣ種に対して、その吸着に可能な種々のゼ
オライト種を適宜組み合わせることができる。

【００２４】更に、第１層のゼオライトに、Ｐｄ，Ｍ
ｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ａｇ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，
Ｐ，Ｂ及びＺｒから成る群より選ばれた少なくとも１種
が含有されることが好ましい。ゼオライトは、Ｈ型でも
十分な吸着能力を有するが、Ｐｄ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，
Ｂａ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｐ，Ｂ，Ｚｒ等をイオン
交換法、含浸法、浸漬法等の通常の方法を用いて担持す
ることにより、吸着特性、脱離抑制能やゼオライトの耐
久性をさらに向上させることができる。

【００２５】また、第２層及び／又は第３層に、更にＰ
ｔを共存させることが好ましい。ＰｔがＰｄ或いはＲｈ
と共存することにより、更に耐被毒性を向上することが
できる。

【００２６】ゼオライトを主成分とする第１層中に、更
に触媒成分担持粉末及び超高疎水性材料を含有した触媒
担持粉末のうち少なくとも１種を共存させることが好ま
しい。触媒成分をゼオライト近傍に配置することで、ゼ
オライトから脱離してくるＨＣの後処理効率を更に向上
させることができる。

【００２７】また、ゼオライトを主成分とする炭化水素
吸着材を含む第１層の上に設けた、Ｐｄ，Ｐｔ及びＲｈ
からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む触媒成分
層において、更にアルミナを含有するものである。

【００２８】特に、高温耐久後のアルミナの構造安定性
を高め、α−アルミナヘの相転移やＢＥＴ比表面積の低
下を抑制するために、上記アルミナにはセリウム、ジル
コニウム及びランタンからなる群より選ばれた少なくと
も一種が金属換算で１〜１０モル％含有されることが好
ましい。１モル％未満では十分な添加効果が得られず、
１０モル％を超えると添加効果は飽和してしまう。

【００２９】かかるアルミナの使用量は、触媒１Ｌあた
り１０〜２００ｇである。１０ｇ未満だと充分な貴金属
の分散性が得られず、２００ｇより多く使用しても触媒
性能は飽和し、顕著な改良効果は得られない。

【００３０】更に、好適には、ゼオライトを主成分とす
る炭化水素吸着材を含む第１層の上に設けた、Ｐｄ，Ｐ
ｔ及びＲｈからなる群より選ばれた少なくとも１種を含
む触媒成分層において、上記触媒成分に加え、更にセリ
ウム酸化物を含有する。当該セリウム酸化物は、ジルコ
ニウム、ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれ
た一種を金属換算で１〜４０モル％、その残部としてセ
リウムを金属換算で６０〜９９モル％含むセリウム酸化
物を含有する。セリウム酸化物を含有させることによ
り、酸素吸蔵能の高いセリウム酸化物がリッチ雰囲気及
びストイキ近傍で格子酸素や吸着酸素を放出し、貴金属
の酸化状態を排気ガスの浄化に適したものとし、触媒性
能の低下を抑制できる。１〜４０モル％としたのは、セ
リウム酸化物（ＣｅＯ₂ ）にジルコニウム、ネオジウム
及びランタンからなる群より選ばれた少なくとも一種の
元素を添加して、ＣｅＯ₂ の酸素放出能やＢＥＴ比表面
積、熱安定性を顕著に改良するためである。１モル％未
満ではＣｅＯ₂ のみの場合と変わらず、上記した元素の
添加効果が現れず、４０モル％を越えるとこの効果が飽
和もしくは逆に低下する。

【００３１】更に、好適には、ゼオライトを主成分とす
る炭化水素吸着材を含む第１層の上に設けた、Ｐｄ，Ｐ
ｔ及びＲｈからなる群より選ばれた少なくとも１種を含
む触媒成分層において、更にセリウム、ネオジウム及び
ランタンからなる群より選ばれた一種を含むジルコニウ
ム酸化物を含有する。当該ジルコニウム酸化物は、セリ
ウム、ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれた
一種の元素を金属換算で１〜４０モル％、その残部とし
てジルコニウムを金属換算で６０〜９９モル％含むジル
コニウム酸化物が含有されるものである。１〜４０モル
％としたのは、ジルコニウム酸化物（ＺｒＯ₂ ）にセリ
ウム、ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれた
少なくとも一種の元素を添加して、ＺｒＯ₂ の酸素放出
能やＢＥＴ比表面積、更には熱安定性を顕著に改良する
ためである。１モル％未満ではＺｒＯ₂ のみの場合と変
わらず、上記した元素の添加効果が現れず、４０モル％
を越えるとこの効果が飴和もしくは低下する。

【００３２】該触媒成分層に、セリウム、ネオジウム及
びランタンからなる群より選ばれた少なくとも一種を含
有するジルコニウム酸化物を粉末を含有させることによ
り、ジルコニウム酸化物がリッチ雰囲気及びストイキ近
傍で格子酸素や吸着酸素を放出し、貴金属の酸化状態を
排気ガスの浄化に適したものとするため、貴金属の触媒
性能の低下を抑制できる。

【００３３】また、更に、アルカリ金属及びアルカリ土
類金属からなる群より選ばれた少なくとも一種が含有さ
れることが好ましい。使用されるアルカリ金属及び／又
はアルカリ土類金属には、リチウム、ナトリウム、カリ
ウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロン
チウム及びバリウムが含まれる。これらを触媒成分担持
層に含有させると、リッチ雰囲気下でのＨＣ吸着被毒作
用を緩和し、また貴金属のシンタリングを抑制するた
め、低温活性や還元雰囲気での活性を更に向上させるこ
とができる。その含有量は触媒１Ｌ中１〜４０ｇであ
る。１ｇ未満では、炭化水素類の吸着被毒や貴金属のシ
ンタリングを抑制できず、４０ｇを越えても有為な増量
効果が得られず逆に性能を低下させる。

【００３４】本発明の排気ガス浄化用触媒を製造するに
あたり、ＨＣ吸着層及び三元触媒層の性能を有効に発現
させるために、ゼオライト層を第１層（内層側）に配置
し、触媒成分としてパラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）
及びロジウム（Ｒｈ）からなる群より選ばれた少なくと
も１種を含む触媒成分層をその上に配置する。

【００３５】該触媒成分層の貴金属の原料化合物として
は、ジニトロジアンミン酸塩、塩化物、硝酸塩等の水溶
性のものであれば任意のものが使用できる。

【００３６】水の除去は、例えば濾過法や蒸発乾固法等
の公知の方法の中から適宣選択して行うことができる。
本発明に用いる貴金属担持粉末を得るための最初の熱処
理は、特に制限されないが、添加した貴金属を分散性良
く担持するため、例えば４００℃〜８００℃の比較的低
温で空気中及び／または空気流通下で焼成を行うことが
好ましい。

【００３７】更に、該ゼオライト層及び触媒成分層のい
づれか、或いは両者に含有させる超高疎水性材料として
は、シリカ（ＳｉＯ₂ ）、チタニア（ＴｉＯ₂ ）、マゲ
ネシア（ＭｇＯ）、カルシア（ＣａＯ）又はシジルコニ
ア（ＺｒＯ₂ ）及びこれらの任意の混合物を挙げること
ができ、該ゼオライト層への含有方法としては、ゼオラ
イトヘの超高疎水性材料の付着が挙げられる。典型的に
は、ゼオライトの骨格を保持したまま行われ、この結
果、ゼオライトの特性を損なうことなく、優れた疎水性
及び耐水熱性が付与される。

【００３８】また、該触媒成分層への含有方法として
は、触媒活性成分（Ｒｈ，Ｐｔ，Ｐｄ）への超高疎水性
材料の付着、或いは超高疎水性材料への触媒活性成分
（Ｒｈ，Ｐｔ，Ｐｄ）の付着が挙げられる。また、超高
疎水性材料は、高温焼成されていることが好ましく、具
体的には６００〜１０００℃で焼成することが好まし
い。該ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＭｇＯ、ＣａＯ又はＺｒＯ
₂ などを高温焼成すると、表面のＯＨ基が除去された酸
化物が得られ、これらがゼオライトや触媒活性成分の粒
子を被覆すると考えられ、これらの疎水性及び耐水熱性
を有意に向上する。特に、ＳｉＯ₂ については、１ｎｍ
以上４ｎｍ未満の細孔を有するもの（メソポーラス）が
好適である。

【００３９】更に、第１層のゼオライトに、Ｐｄ，Ｍ
ｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｐ，
Ｂ，Ｚｒから選ばれた少なくとも１種以上を含浸担持さ
せることができる。これら金属化合物は、酸化物、酢酸
塩、硝酸塩及び水酸化物等の水溶性のものを、イオン交
換法、含浸法、浸漬法等の通常の方法を用いて担持する
ことにより、ゼオライト上に分散性良く担持することが
可能となる。担持後の水分除去法としては、乾燥し、次
いで空気中及び／または空気流通下で２００〜６００℃
の比較的低温で焼成するものである。かかる焼成温度が
２００℃未満だと金属化合物が酸化物形態になることが
十分にできず、逆に６００℃を越えても焼成温度の効果
は蝕和し、顕著な差異は得られない。

【００４０】更には、第２層及び第３層の少なくともい
づれかには、Ｐｔを含有させることができる。原料化合
物としては、ジニトロジアンミン酸塩、塩化物、硝酸塩
等の水溶性のものであれば任意のものが使用できる。

【００４１】更に、好ましくは、該触媒成分層に、アル
ミナ粉末やジルコニウム酸化物粉末に、ジルコニウム、
ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれる少なく
とも一種を含有するセリウム酸化物を添加することによ
り、還元雰囲気下において、貴金属の酸化状態を、排気
ガス浄化に適した状態に、より有効に維持することがで
きる。

【００４２】また、好ましくは、該触媒成分層に、セリ
ウム、ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれる
少なくとも一種を含むジルコニウム酸化物粉末を加える
こともできる。当該セリウム、ネオジウム及びランタン
からなる群より選ばれる少なくとも一種を含むジルコニ
ウム酸化物粉末を添加することにより、還元雰囲気下に
おいて、貴金属の酸化状態を、排気ガス浄化に適した状
態に、より有効に維持することができる。

【００４３】このようにして得られる本発明にかかる排
気ガス浄化用触媒は、無担体でも有効に使用することが
できるが、粉砕・スラリーとし、触媒担体にコートし
て、４００〜９００℃で焼成して用いることが好まし
い。

【００４４】具体的には第１層として、βゼオライトを
主成分としたゼオライト粉末にシリカルをを加えて湿式
にて粉砕してスラリーとし、触媒担体に付着させ、４０
０〜６５０℃の範囲の温度で空気中及び／または空気流
通下で焼成を行う。次に第２層として、Ｐｄ担持粉末
と、アルミナ粉末と、上記セリウム酸化物粉末に、アル
ミナゾルを加えて湿式にて粉砕してスラリーとし、触媒
担体に付着させ、４００〜６５０℃の範囲の温度で空気
中及び／または空気流通下で焼成を行う。

【００４５】次に第３層として、Ｒｈ担持粉末と、アル
ミナ粉末と、上記ジルコニウム酸化物粉末に、アルミナ
ゾルを加えて湿式にて粉砕してスラリーとし、触媒担体
に付着させ、４００〜６５０℃の範囲の温度で空気中及
び／または空気流通下で焼成を行う。該第２層、第３層
には、更にＰｔを加えてもよい。また、該ゼオライト粉
末及び触媒成分担持粉末の少なくともいづれか、或いは
両者には、超高疎水性材料を付着させるものとする。

【００４６】触媒担体としては、公知の触媒担体の中か
ら適量選択して使用することができ、例えば耐火性材料
からなるモノリス担体やメタル担体等が挙げられる。前
記触媒担体の形状は、特に制限されないが、通常はハニ
カム形状で使用することが好ましく、ハニカム状の各種
基材に触媒粉末を塗布して用いる。

【００４７】このハニカム材料としては、一般にセラミ
ツク等のコージェライト質のものが多く用いられるが、
フエライト系ステンレス等の金属材料からなるハニカム
材料を用いることも可能であり、更には触媒成分粉末そ
のものをハニカム状に成形しても良い。触媒の形状をハ
ニカム状とすることにょり、触媒と排気ガスとの接触面
積が大きくなり、圧力損失も抑制できるため自動車用排
気ガス浄化用触媒として用いる場合に極めて有効であ
る。

【００４８】ハニカム材料に付着させる触媒成分コート
層の量は、触媒成分全体のトータルで、触媒１Ｌあた
り、５０ｇ〜４００ｇが好ましい。触媒成分担持層が多
い程、触媒活性や触媒寿命の面からは好ましいが、コー
ト層が厚くなりすぎると、触媒成分担持層内部で反応ガ
スが拡散不良となり触媒と十分に接触できないため、活
性に対する増量効果が飽和し、更にはガスの通過抵抗も
大きくなってしまう。このため、コート層量は、上記触
媒１Ｌあたり５０ｇ〜４００ｇが好ましい。

【００４９】更に好ましくは、得られた排気ガス浄化用
触媒に、アルカリ金属及び／またはアルカリ土類金属を
含浸担持させることもできる。使用できるアルカリ金属
及びアルカリ土類金属としては、リチウム、ナトリウ
ム、カリウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、
ストロンチウム、バリウムからなる群より選ばれる少な
くとも一種の元素である。

【００５０】使用できるアルカリ金属及びアルカリ土類
金属の化合物は、酸化物、酢酸塩及び水酸化物等の水溶
性のものである。これにより、貴金属の近傍に塩基性元
素であるアルカリ金属及び／またはアルカリ土類金属を
分散性良く担持することが可能となる。

【００５１】即ち、アルカリ金属及び／またはアルカリ
土類金属化合物からなる粉末の水溶液を、ウォッシュコ
ート成分を担持した上記担体に含浸し、乾燥し、次いで
空気中及び／または空気流通下で２００〜６００℃の比
較的低温で焼成するものである。かかる焼成温度が２０
０℃未満だとアルカリ金属及びアルカリ土類金属化合物
が酸化物形態になることが十分にできず、逆に６００℃
を越えても焼成温度の効果は飽和し、顕著な差異は得ら
れない。

【００５２】

【実施例】本発明を、次の実施例及び比較例により説明
する。

【００５３】実施例１ βゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａｌ＝２５）３００
ｇと、超高疎水性材料としてのメソポーラスシリカ７５
ｇとを、蒸留水１０００ｃｃに混合・撹拝し、アンモニ
アを添加して液ｐＨ約７．８７にした。次いで、該液を
濾過することにより、固液分離し、得られたゼオライト
ケーキを８０℃で１２時間以上乾燥し、余分な水分を除
去した。この乾燥粉を大気雰囲気下、電気炉により６５
０℃で４時間焼成することにより、メソポーラスシリカ
担持βゼオライト粉末を得た。同様の方法でメソポーラ
スシリカ担持ＺＳＭ５ゼオライト粉末を得た。

【００５４】上記メソポーラスシリカ担持βゼオライト
粉末を２８４ｇ、メソポーラスシリカ担持ＺＳＭ５ゼオ
ライト粉末２８４ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１２
１５ｇ、水１８ｇを磁性ボールミルに投入し、混合粉砕
してスラリー液を得た。このスラリー液をコージェライ
ト質モノリス担体に付着させ、空気流にてセル内の余剰
のスラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成
した。この時の塗布量として、焼成後に約１００ｇ／Ｌ
になるまでコーティング作業を繰り返し、触媒−Ａを得
た。

【００５５】Ｃｅ３ｍｏｌ％を含むアルミナ粉末に、ジ
ニトロジアミンパラジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌
中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４０００
ｃで１時間、次いで６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持
アルミナ粉末（粉末Ａ）を得た。この粉末ＡのＰｄ濃度
は５．６２重量％であった。粉末Ａには、ランタン、ジ
ルコニウム、ネオジウム等が含まれてもよい。

【００５６】Ｚｒ３０重量％担持セリウム酸化物粉末
に、ジニトロジアミンパラジウム水溶液を含浸或いは高
速攪拌中で噴霧し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４
００℃で１時間、次いで６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ
担持セリウム酸化物粉末（粉末Ｂ）を得た。この粉末Ｂ
のＰｄ濃度は２．０重量％であった。

【００５７】上記Ｐｄ担持アルミナ粉末Ａ５６２ｇ、Ｐ
ｄ担持セリウム酸化物粉末Ｂ２８８ｇ、および硝酸酸性
アルミナゾル９５０ｇ（ベーマイトアルミナ１０重量％
に１０重量％の硝酸を添加することによって得られたゾ
ル）を磁性ボールミルに投入し、混合粉砕してスラリー
液を得た。このスラリー液を上記コート触媒−Ａに付着
させ、空気流にてセル内の余剰のスラリーを取り除いて
乾燥し、４０００ｃで１時間焼成し、コート層重量６０
ｇ／Ｌを塗布し、触媒Ｂを得た。

【００５８】Ｚｒ３重量％を含むアルミナ粉末に、硝酸
ロジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌で噴霧し、１５０
℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで６
０００℃で１時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末
Ｃ）を得た。この粉末ＣのＲｈ濃度は１．１重量％であ
った。上記Ｒｈ担持アルミナ粉末Ｃ３６６ｇ、Ｃｅ３０
重量％を含むジルコニウム酸化物粉末３００ｇ、硝酸酸
性アルミナゾル１１３５ｇを磁性ボールミルに投入し、
混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を上記
コート触媒−Ｂに付着させ、空気流にてセル内の余剰の
スラリーを取り除いて乾燥し、４００℃で１時間焼成
し、コート層重量４０ｇ／Ｌを塗布し、触媒を得た。上
記セリウム酸化物粉末、アルミナ粉末にはランタン、ネ
オジウム、等が含まれてもよい。

【００５９】次いで、上記触媒成分担持コージェライト
質モノリス担体に酢酸バリウム溶液を付着させた後、４
００℃で１時間焼成し、ＢａＯとして１０ｇ／Ｌを含有
させて、排気ガス浄化用触媒を得た。

【００６０】実施例２ ゼオライトとして、メソポーラスシリカ担持ゼオライト
粉末の代わりに、βゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２Ａ
ｌ＝２５）を用いて触媒−Ａを得た。次に触媒−Ｂを得
るにあたり、Ｐｄ担持アルミナ粉末の一部を、Ｐｄ担持
メソポーラスシリカ粉末とし、該Ｐｄ担持アルミナ粉末
が４４９．６ｇ、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ粉末が１
１２．４ｇとしたこと以外は、実施例１と同様にして排
気ガス浄化用触媒を得た。

【００６１】実施例３ 触媒−Ｂを得るにあたり、Ｐｄ担持アルミナ粉末の一部
を、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ粉末とし、Ｐｄ担持ア
ルミナ粉末が４４９．６ｇ、Ｐｄ担持メソポーラスシリ
カ粉末が１１２．４ｇとしたこと以外は、実施例１と同
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００６２】実施例４ 超高疎水性材料をＭｇＯとしたこと以外は、実施例１と
同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００６３】実施例５ 超高疎水性材料をＣａＯとしたこと以外は、実施例１と
同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００６４】実施例６ 超高疎水性材料をＺｒＯ₂ としたこと以外は、実施例１
と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００６５】実施例７ 超高疎水性材料をＴｉＯ₂ としたこと以外は、実施例１
と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００６６】実施例８ ゼオライトとして、βゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２
Ａｌ＝７５）１８９ｇ、ＺＳＭ５−ゼオライト粉末１８
９ｇ、ＵＳＹゼオライト粉末１８９ｇ、シリカゾル（固
形分２０％）１２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同
様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００６７】実施例９ ゼオライトとして、βゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２
Ａｌ＝７５）１８９ｇ、ＺＳＭ５−ゼオライト粉末１８
９ｇ、ＡｌＰＯ₄ 粉末１８９ｇ、シリカゾル（固形分２
０％）１２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同様にし
て排気ガス浄化用触媒を得た。

【００６８】実施例１０ ゼオライトとして、βゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２
Ａｌ＝７５）１８９ｇ、ＺＳＭ５−ゼオライト粉末１８
９ｇ、ＳＡＰＯ粉末１８９ｇ、シリカゾル（固形分２０
％）１２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同様にして
排気ガス浄化用触媒を得た。

【００６９】実施例１１ ゼオライトとして、βゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２
Ａｌ＝７５）１８９ｇ、ＺＳＭ５−ゼオライト粉末１８
９ｇ、モルデナイト粉末１８９ｇ、シリカゾル（固形分
２０％）１２１５ｇを用いた以外は、実施例１と同様に
して排気ガス浄化用触媒を得た。

【００７０】実施例１２ ゼオライトとして、βゼオライト粉末（Ｈ型、Ｓｉ／２
Ａｌ＝７５）１８９ｇ、ＺＳＭ５−ゼオライト粉末１８
９ｇ、フェリエライト粉末１００ｇ、Ａ型ゼオライト粉
末８９ｇ、シリカゾル（固形分２０％）１２１５ｇを用
いた以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒
を得た。

【００７１】実施例１３ βゼオライト粉末及びＺＳＭ５ゼオライト粉末に、Ｐｄ
を含浸担持し、１５００ｃで２４時間乾燥した後、４５
０℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持βゼオライト粉末（Ｐｄ
担持量２．０重量％）及びｐｄ担持ＺＳＭ５ゼオライト
粉末（Ｐｄ担持量２．０重量％）を得た。βゼオライト
及びＺＳＭ５ゼオライトとして、上記Ｐｄ担持粉末を用
いた以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒
を得た。

【００７２】実施例１４ βゼオライト粉末及びＺＳＭ５ゼオライト粉末に、Ｐを
含浸担持し、１５００ｃで２４時間乾燥した後、４５０
℃で１時間焼成し、Ｐ担持βゼオライト粉末（Ｐ担持量
０．４重量％）及びＰ担持ＺＳＭ５ゼオライト粉末（Ｐ
担持量０．４重量％）を得た。βゼオライト及びＺＳＭ
５ゼオライトとして、上記Ｐ担持粉末を用いた以外は、
実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００７３】実施例１５ βゼオライト粉末及びＺＳＭ５ゼオライト粉末に、Ｃａ
を含浸担持し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４５０
℃で１時間焼成し、Ｃａ担持βゼオライト粉末（Ｃａ担
持量０．２重量％）及びＣａ担持ＺＳＭ５ゼオライト粉
末（Ｃａ担持量０．２重量％）を得た。βゼオライト及
びＺＳＭ５ゼオライトとして、上記Ｃａ担持粉末を用い
た以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を
得た。

【００７４】実施例１６ βゼオライト粉末及びＺＳＭ５ゼオライト粉末に、Ｍｇ
を含浸担持し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４５０
℃で１時間焼成し、Ｍｇ担持βゼオライト粉末（Ｍｇ担
持量０．４重量％）及びＭｇ担持ＺＳＭ５ゼオライト粉
末（Ｍｇ担持量０．４重量％）を得た。βゼオライト及
びＺＳＭ５ゼオライトとして、上記Ｍｇ担持粉末を用い
た以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を
得た。

【００７５】実施例１７ βゼオライト粉末及びＺＳＭ５ゼオライト粉末に、Ｌａ
を含浸担持し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４５０
℃で１時間焼成し、Ｌａ担持βゼオライト粉末（Ｌａ担
持量０．４重量％）及びＬａ担持ＺＳＭ５ゼオライト粉
末（Ｌａ担持量０．４重量％）を得た。βゼオライト及
びＺＳＭ５ゼオライトとして、上記Ｌａ担持粉末を用い
た以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を
得た。

【００７６】実施例１８ βゼオライト粉末及びＺＳＭ５ゼオライト粉末に、Ｂを
含漫担持し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４５０℃
で１時間焼成し、Ｂ担持βゼオライト粉末（Ｂ担持量
０．４重量％）及びＢ担持ＺＳＭ５ゼオライト粉末（Ｂ
担持量０．４重量％）を得た。βゼオライト及びＺＳＭ
５ゼオライトとして、上記Ｂ担持粉末を用いた以外は、
実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００７７】実施例１９ βゼオライト粉末及びＺＳＭ５ゼオライト粉末に、Ｐ、
Ｃａ、Ｚｒ、Ｌａを逐次含浸、乾燥、焼成により担持
し、Ｐ、Ｃａ、Ｚｒ、Ｌａ担持βゼオライト粉末（金属
担持量各０．１重量％、総金属担持量０．４重量％）及
びＰ、Ｃａ、Ｚｒ、Ｌａ担持ＺＳＭ５ゼオライト粉末
（金属担持量各０．１重量％、総金属担持量０．４重量
％）を得た。βゼオライト及びＺＳＭ５ゼオライトとし
て、上記Ｐ、Ｃａ、Ｚｒ、Ｌａ担持粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００７８】実施例２０ βゼオライト粉末及びＺＳＭ５ゼオライト粉末に、Ｐ、
Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｅを逐次含浸、乾燥、焼成により担持
し、Ｐ、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｅ担持βゼオライト粉末（金属
担持量各０．１重量％、総金属担持量０．４重量％）及
びＰ、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｅ担持ＺＳＭ５ゼオライト粉末
（金属担持量各０．１重量％、総金属担持量０・４重量
％）を得た。βゼオライト及びＺＳＭ５ゼオライトとし
て、上記Ｐ、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｅ担持粉末を用いた以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００７９】実施例２１ βゼオライト粉末及びＺＳＭ５ゼオライト粉末に、Ｂ、
Ｃａ、Ｌａ、ｅｅ、Ｎｄを逐次含浸、乾燥、焼成により
担持し、Ｂ、Ｃａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ担持ゼオライト粉
末粉末（金属担持量各０．１重量％、総金属担持量０・
５重量％）及びＢ、Ｃａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ担持ＺＳＭ
５ゼオライト粉末（金属担持量各０．１重量％、総金属
担持量０．５重量％）を得た。βゼオライト及びＺＳＭ
５ゼオライトとして、上記Ｂ、Ｃａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｎｄ
担持粉末を用いた以外は、実施例１と同様にして排気ガ
ス浄化用触媒を得た。

【００８０】実施例２２ Ｚｒ３ｗｔ％を含むアルミナ粉末に、硝酸ロジウム水溶
液を含浸或いは高速撹絆中で噴霧し、１５０℃で２４時
間乾燥した後、４００℃で１時間、次いで６００℃で１
時間焼成し、Ｒｈ担持アルミナ粉末（粉末Ｅ）を得た。
この粉末ＥのＲｈ濃度は２．０重量％であった。Ｚｒ３
０重量％担持セリウム酸化物粉末に、ジニトロジアミン
白金水溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧し、１５０℃
で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、１時間焼成
し、Ｐｔ担持セリウム酸化物粉末（粉末Ｆ）を得た。こ
の粉末Ｆの托濃度は２．５重量％であった。上記Ｒｈ担
持アルミナ粉末Ｅ１６１ｇ、Ｐｔ担持セリウム酸化物粉
末Ｆ２０５ｇ、Ｃｅ３０重量％を含む酸化物粉末３００
ｇ、硝酸酸性アルミナゾル１１３５ｇを磁性ボールミル
に投入し、混合粉砕してスラリー液を得た。このスラリ
ー液を触媒Ｂに塗布する事以外は、実施例１と同様にし
て排気ガス浄化用触媒を得た。

【００８１】実施例２３ Ｚｒ３０重量％担持セリウム酸化物粉末に、ジニトロジ
アミンバラジウム水溶液を含浸或いは高速攪拌中で噴霧
し、１５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時
間、次いで６００℃で１時間焼成し、Ｐｄ担持セリウム
酸化物粉末（粉末Ｇ）を得た。この粉末ＧのＰｄ濃度は
１．５３重量％であった。上記Ｐｄ担持アルミナ粉末Ａ
５６２ｇ、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末Ｇ１３５ｇ、Ｐ
ｔ担持セリウム酸化物粉末Ｆ１５３ｇ、および硝酸酸性
アルミナゾル９５０ｇを磁性ボールミルに投入し、混合
粉砕してスラリー液を得た。このスラリー液を触媒−Ａ
に塗布する事以外は、実施例１と同様にして排気ガス浄
化用触媒を得た。

【００８２】実施例２４ Ｚｒ３０重量％担持セリウム酸化物粉末に、ジニトロジ
アミン白金水溶液を含浸或いは高速撹挿中で噴霧し、１
５０℃で２４時間乾燥した後、４００℃で１時間、１時
間焼成し、Ｐｔ担持セリウム酸化物粉末（粉末Ｈ）を得
た。この粉末ＨのＰｔ濃度は１．２５重量％であった。
Ｐｔ担持セリウム酸化物粉末Ｆの替わりにＰｔ担持セリ
ウム酸化物粉末Ｈを用い、第２層としてＰｄ担持アルミ
ナ粉末Ａ５６２ｇ、Ｐｄ担持セリウム酸化物粉末Ｇ１３
５ｇ、Ｐｔ担持セリウム酸化物粉末Ｈ１５３ｇ、および
硝酸酸性アルミナゾル９５０ｇを磁性ボールミルに投入
し、混合粉砕してスラリー液を得て、このスラリー液を
触媒−Ａに塗布する事、更に第３層としてＲｈ担持アル
ミナ粉末Ｅ１６１ｇ、Ｐｔ担持セリウム酸化物粉末Ｈ２
０５ｇ、Ｃｅ３０重量％を含む酸化物粉末３００ｇ、硝
酸酸性アルミナゾル１１３５ｇを磁性ボールミルに投入
し、混合粉砕してスラリー液を得て、このスラリー液を
触媒Ｂに塗布する事以外は、実施例１と同様にして俳気
ガス浄化用触媒を得た。

【００８３】実施例２５ 触媒Ｂを得る際に用いるＰｄ担持アルミナ粉末Ｂの一部
（２０ｗｔ％）を、触媒Ａを得る際に混入する事以外
は、実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００８４】実施例２６ 実施例３において触媒Ｂを得る際に用いるＰｄ担持メソ
ポーラスシリカ粉末を、触媒Ａを得る際に混入する事以
外は、実施例３と同様にして排気ガス浄化用触媒を得
た。

【００８５】実施例２７ 酢酸バリウム溶液の替わりに酢酸カリウム溶液を用い、
同様の手順でＫ２０として１ｇ／Ｌを含有させること以
外は実施例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００８６】比較例１ ゼオライトとしてβゼオライト粉末とＺＳＭ５ゼオライ
ト粉末を用いること以外は、実施例１と同様にして排気
ガス浄化用触媒を得た。

【００８７】比較例２ ゼオライトとして、ゼオライト粉末１００ｇとメソポー
ラスシリカ４００ｇとから調製した、メソポーラスシリ
カ担持ゼオライト粉末粉末及びメソポーラスシリカ担持
ＺＳＭ５ゼオライト粉末を用いること以外は、実施例１
と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００８８】比較例３ 触媒−Ｂを得るにあたり、Ｐｄ担持アルミナ粉末Ｂの一
部を、Ｐｄ担持メソポーラスシリカ粉末とし、上記Ｐｄ
担持アルミナ粉末Ｂ５３３・９ｇ、Ｐｄ担持メソポーラ
スシリカ粉末が２８．１ｇとしたこと以外は、実施例２
と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００８９】比較例４ 触媒Ａ及びＢを得るにあたり、Ｐｄ担持アルミナ粉末Ｂ
とＰｄ担持セリウム酸化物粉末ＣとＲｈ担持アルミナ粉
末Ｄのうち、各々８０％分を各貴金属担持メソポーラス
シリカ粉末としたこと以外は、実施例２と同様にして排
気ガス浄化用触媒を得た。

【００９０】比較例５ 第２層をＲｈ層、第３層をＰｄ層としたこと以外は実施
例１と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００９１】比較例６ 第１層（ゼオライト層）と、第２、第３三元層の総コー
ト層重量比率が、１：０．１としたこと以外は実施例１
と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００９２】比較例７ 第１層（ゼオライト層）と、第２、第３三元層の総コー
ト層重量比率が、１：５．０としたこと以外は実施例１
と同様にして排気ガス浄化用触媒を得た。

【００９３】上記実施例１〜２７及び比較例１〜７で得
られた排気ガス浄化用触媒の組成を次の表１に示す。

【００９４】

【表１】

【００９５】試験例 上記実施例１〜２７及び比較例１〜７で得られた排気ガ
ス浄化用触媒について、下記評価条件でＨＣ浄化特性評
価を日産自動車（株）製車両（排気量３．３Ｌ）を用い
て行なった。その結果を表２に示す。

【００９６】耐久条件 エンジン排気量 ３０００ｃｃ 燃料 ガソリン（Ｐｂ＝１２ｍｇ／ｕｓｇ、Ｓ＝
３００ｍｇ） 触媒入口ガス温度 ６５０℃ 耐久時間 １００時間

【００９７】性能評価条件 触媒容量１．３Ｌ 評価車両 日産自動車株式会社製Ｖ型６気筒３．３Ｌエ
ンジン エンジン始動時に排出される（触媒入口のガス中の）炭
化水素 炭素数 Ｃ２〜Ｃ３ ２１．０％（Ｃｌ成分除く） Ｃ４〜Ｃ６ ３３．０％ Ｃ７〜Ｃ９ ４０．０％

【００９８】

【表２】

【００９９】比較例に比べて実施例は、触媒活性が高
く、後述する本発明の効果を確認することができた。

【０１００】

【発明の効果】本発明の排気ガス浄化用触媒は、モノリ
ス担体上に炭化水素の吸着に有効なゼオライト、その上
に三元触媒成分層を設けることで、下層に配置されたゼ
オライト層は、上層の三元層に比べて暖気が遅いため、
少しでも長く吸着したＨＣを保持でき、逆に三元層は早
く暖気し活性化されるため、ＨＣの吸着・脱離・浄化の
バランスが良い。更に、該ゼオライト層及び触媒成分層
のいづれか、或いは両者に超高疎水性材料を含有するこ
とで、ＨＣの吸着効率を上げると共に、ＨＣの脱離遅延
化が図れる。これより、ＨＣ脱離域と三元活性化域のマ
ッチングが向上し、ゼオライトから脱離してくるＨＣの
後処理の効率化が図れる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 29/83 Ｂ０１Ｊ 29/83 Ａ 29/85 29/85 Ａ Ｆ０１Ｎ 3/08 Ｆ０１Ｎ 3/08 Ａ 3/10 3/10 Ａ 3/24 3/24 Ｅ 3/28 ３０１ 3/28 ３０１Ｃ ３０１Ｐ Ｆターム(参考） 3G091 AA02 AA17 AA28 AA29 AB03 AB10 BA03 BA11 BA14 BA15 BA19 BA39 CB02 FA02 FA04 FA12 FA13 FB02 FB11 FB12 FC07 GA06 GB01W GB01X GB01Y GB02W GB02Y GB03W GB03Y GB04W GB04Y GB05W GB06W GB07W GB07Y GB09X GB09Y GB10W GB10X GB16X HA18 4G066 AA16B AA22B AA23B AA28B AA61B AE04B BA07 BA24 CA51 DA02 FA37 4G069 AA03 BA01A BA02A BA02B BA04A BA05A BA05B BA06A BA06B BA07A BA07B BC09A BC09B BC10A BC10B BC12A BC13A BC13B BC32A BC40A BC42A BC42B BC43A BC43B BC44A BC44B BC51A BC71A BC71B BC72A BC72B BC75A BD03A BD03B BD07A BD07B CA03 CA09 CA15 DA06 EA18 ZA02A ZA02B ZA03A ZA04A ZA05A ZA05B ZA06A ZA06B ZA11A ZA11B ZA12A ZA13A ZA13B ZA19A ZA19B ZA20A ZA25A ZA26A ZA30A ZA31A ZA39A ZA39B ZA41A ZA41B

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 触媒成分担持層を有する一体構造型触媒
   において、モノリス担体上にゼオライトを主成分とする
   第１層を設け、該第１層の上に触媒成分としてパラジウ
   ム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）及びロジウム（Ｒｈ）からな
   る群より選ばれた少なくとも１種を含む触媒成分層を設
   けて成り、該第１層及び／又は触媒成分層が超高疎水性
   材料を含有することを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
2. 【請求項２】 請求項１記載の排気がス浄化用触媒にお
   いて、超高疎水性材料が、シリカ、チタニア、マグネシ
   ア、カルシア及びジルコニアから成る群より選ばれた少
   なくとも１種の酸化物であることを特徴とする排気ガス
   浄化用触媒。
3. 【請求項３】 請求項２記載の排気ガス浄化用触媒にお
   いて、上記シリカが１ｎｍ以上４ｎｍ未満の領域に細孔
   径分布のピークを有することを特徴とする排気ガス浄化
   用触媒。
4. 【請求項４】 請求項１〜３いずれかの項記載の排気ガ
   ス浄化用触媒において、触媒成分層は、Ｐｄを含有する
   かもしくはＰｄとＲｈを含有する第２層と、該第２層の
   上に位置する触媒成分としてＲｈを含有する第３層とか
   ら成り、第１層と、第２層及び第３層の三元触媒の総コ
   ート重量比率が９：１〜１：４であることを特徴とする
   排気ガス浄化用触媒。
5. 【請求項５】 請求項１〜４いずれかの項記載の排気ガ
   ス浄化用触媒において、第１層のゼオライト粉末及び／
   又は触媒成分層の触媒成分担持粉末が、超高疎水性材料
   で被覆されていることを特徴とする排気ガス浄化用触
   媒。
6. 【請求項６】 請求項１〜５いずれかの項記載の排気ガ
   ス浄化用触媒において、第１層のゼオライト粉末及び／
   又は触媒成分層の触媒成分担持粉末１００重量部に対し
   て、超高疎水性材料が１重量部以上６０重量部未満で含
   有されることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
7. 【請求項７】請求項６記載の排気ガス浄化用触媒におい
   て、総触媒成分担持粉末１００重量部に対して、超高疎
   水性材料を含有した触媒成分担持粉末が５重量部以上８
   ０重量部未満であることを特徴とする排気ガス浄化用触
   媒。
8. 【請求項８】請求項１〜７いずれかの項記載の排気ガス
   浄化用触媒において、ゼオライトは、少なくともＳｉ／
   ２Ａｌ比が１０〜５００のＨ型βセオライトを含むこと
   を特徴とする排気ガス浄化用触媒。
9. 【請求項９】 請求項８記載の排気ガス浄化用触媒にお
   いて、ゼオライト種がＨ型βゼオライトと、更にＭＦ
   ｌ、Ｙ型、ＵＳＹ、モルデナイト、フェリエライト、Ａ
   型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト、ＡｌＰＯ₄ 及びＳＡＰ
   Ｏから成る群より選ばれる少なくとも１種を用いること
   を特徴とする排気ガス浄化用触媒。
10. 【請求項１０】 請求項１〜９いずれかの項記載の排気
    ガス浄化用触媒において、第１層中に、更に、Ｐｄ，Ｍ
    ｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ａｇ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，
    Ｐ，Ｂ及びＺｒから成る群より選ばれた少なくとも１種
    が含有されることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
11. 【請求項１１】 請求項４〜１０いずれかの項記載の排
    気ガス浄化用触媒において、第２層及び／又は第３層
    に、更にＰｔが含有されることを特徴とする排気ガス浄
    化用触媒。
12. 【請求項１２】 請求項１〜１１いずれかの項記載の排
    気ガス浄化用触媒において、第１層中に、更に上記触媒
    成分担持粉末及び／又は超高疎水性材料を含有した触媒
    担持粉末が含有されることを特徴とする排気ガス浄化用
    触媒。
13. 【請求項１３】 請求項１〜１２いずれかの項記載の排
    気ガス浄化用触媒において、触媒成分層に、更に、セリ
    ウム、ジルコニウム及びランタンからなる群より選ばれ
    た少なくとも一種を金属換算で１〜１０モル％含むアル
    ミナと、ジルコニウム、ネオジウム及びランタンからな
    る群より選ばれた一種を金属換算で１〜４０モル％含む
    セリウム酸化物が含有されることを特徴とする排気ガス
    浄化用触媒。
14. 【請求項１４】 請求項１〜１３いずれかの項記載の排
    気ガス浄化用触媒において、触媒成分層に、更に、セリ
    ウム、ネオジウム及びランタンからなる群より選ばれた
    一種を金属換算で１〜４０モル％含むジルコニウム酸化
    物が含有されることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
15. 【請求項１５】 請求項１〜１４いずれかの項記載の排
    気ガス浄化用触媒に、更に、アルカリ金属及びアルカリ
    土類金属からなる群より選ばれた少なくとも一種が含有
    されることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。