FI91145B - Finformat kiselsyrasol och förfarande för framställning av detta - Google Patents
Finformat kiselsyrasol och förfarande för framställning av detta Download PDFInfo
- Publication number
- FI91145B FI91145B FI891243A FI891243A FI91145B FI 91145 B FI91145 B FI 91145B FI 891243 A FI891243 A FI 891243A FI 891243 A FI891243 A FI 891243A FI 91145 B FI91145 B FI 91145B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- water
- sio
- silica
- sol
- hydroxide
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/146—After-treatment of sols
- C01B33/148—Concentration; Drying; Dehydration; Stabilisation; Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/145—Preparation of hydroorganosols, organosols or dispersions in an organic medium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Claims (37)
1. Stabil amorfisk kiselsyrasol, vars Si02-konsentration är 0,5 - 30 vikt-%, kännetecknad av, att solens kolloidiska partiklars genomsnittliga partikelstorlek är 40 - 500 ιημ mätt 5 med ett dynamiskt ljusspridningsförfarande och de har en longitudinal form vars enhetliga tjocklek är 5 - 40 ιημ och elongation 5-30 ginger tjockleken endast i ett plan.
2. Stabil sol enligt patentkrav 1, k&nneteoknad av, att 10 solen är en alkalisk vattensol vars pH-värde är 8,5 - 11.
3. Stabil sol enligt patentkrav 1, kännetecknad av, att solen är en sur vattensol vars pH-värde är 2 - 4. is
4. Stabil sol enligt patentkrav 1, kännetecknad av, att solen är en organisk sol där det vätskeformiga med ie t är en organisk solvens.
5. Förfarande för att tillverka en stabil alkalisk vattenhal-20 tig kiselsyrasol, vars Si02-konsentration är 1 - 6 vikt-%,, känneteeknat av, att solens kolloidiska partiklars genomsnittliga partikelstorlek är 40 - 300 ηιμ mätt med ett dynamiskt ljusspridningsförfarande och de har en longitudinal form vars enhetliga tjocklek är 5 - 20 ιημ och elongation 5-30 ginger 25 tjockleken endast i ett pian, och att det omfattar följande skeden (a), (b) och (c): (a) man blandar i 2 - 50°C temperatur en vattenlösning som innehiller itminstone en förening som bestir av vattenlösligt kalciumsalt eller magnesiumsalt ihop med en vattenhaltig kol-30 loidisk vätska av aktiv kiselsyra, som bestir av 1 - 6 vikt-% av Si02 men som inte innehiller kolloidiska kiselsyrapartik-lar vars dimension är större än 3 ιημ och vars pH-värd är 2-4 varvid CaO:s eller MgO:s eller deras blandnings vikt-förhillande med aktiv kiselsyra Si02 är 1500 - 8500 ppm, 35 (b) man blandar i 2 - 50°C temperatur en vattenlösning som innehiller itminstone en förening som bestir av alkalimetall-hydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en alkalimetallhy-droxids vattenlösliga silikat eller ett vattenlösligt silikat av en vattenlöslig organisk aikai, med vattenlösningen som 66 erhällits i skede (a) och där molförhällandet Si02/M20 är 20 - 200, där Si02 avser hela kiselsyrahalten som härletts frin aktiv kiselsyra och vattenlösllgt slikats kiselsyrahalt och M betyder en metallatom av aikaiimetällhydroxlden eller en 5 organisk alkalimolekyl av den vattenlösliga organiska alkalin, och (c) man upphettar blandningen som erhälles i skede (b) i 60 -150 °C under 0,5 - 40 timmars tid. io
6. Förfarande enligt patentkrav 5, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, känneteoknat av, att den i skede (a) använda vattenhaltiga kolloidiska vätskan som innehäller aktiv kiselsyra erhälles genom att behandla vattenlösningen i natriumvattenglas, vars molförhällande is Si02/Na20 är 1 - 4,5 och Si02 konsentrationen 1-6 vikt-%, med kationbytesharts av vätetyp.
7. Förfarande enligt patentkrav 5, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, känneteoknat av, 20 att den vattenhaltiga lösningen omfattar ätminstone en fören-ing som är kalciumklorid, magnesiumklorid, kalciumnitrat, magnesiumnitrat, magnesiumsulfat, kalciumsulfamat, magnesium-sulfamat, kalciumformat, magnesiumformat, kalciumacetat eller magnesiumacetat 2-20 vikt-%. 25
8. Förfarande enligt patentkrav 5, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, känneteoknat av, att ätminstone en av föreningarna som används i skede (b) alkalimetallhydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en 30 alkalimetallhydroxids vattenlösliga silikat eller ett vatten-lösligt silikat av en vattenlöslig organisk aikai är natrium-hydroxid, kaliumhydroxid, litiumhydroxid, tetraetanolammo-niumhydroxid, monometyltrietanolammoniumhydroxid, tetrametyl-ammoniumhydroxid, monoetanolamin, dietanolamin, trietanol- 35 amin, Ν,Ν-dimetyletanolamin, N-(B-aminometyl)etanolaunin, N-metyletanolamin, propanolamin, morfolin, ett slikat av en organisk alkali, natriumsilikat eller kaliumsilikat. Il 91145 67
9. Förfarande för att tillverka en stabil aikalisk vattenhal-tig kiselsyrasol, vars Si02-konsentration är 1 - 6 vikt-%,, kännetecknat av, att solens kolloidiska partiklars genomsnit-tliga partikelstorlek är 40 - 300 ιημ mätt med ett dynamiskt 5 ljusspridningsförfarande och de har en longitudinal form vars enhetliga tjocklek är 5 - 20 ιημ och elongation 5-30 gänger tjockleken endast i ett pian, och att det omfattar följande skeden (a), (b) och (c): (a) man blandar i 2 - 50°C temperatur en vattenlösning som 10 innehäller ätminstone en förening som bestär av vattenlösligt kalciumsalt eller magnesiumsalt ihop med en vattenhaltig kol-loidisk vätska av aktiv kiselsyra, som bestär av 1 - 6 vikt-% av Si02 men som inte innehäller kolloidiska kiselsyrapartik-lar vars dimension är större än 3 ιημ och vars pH-värd är is över 4 men högst 5 varvid CaO:s eller MgO:s eller deras blan-dnings viktförhällande med aktiv kiselsyra Si02 är 1500 -8500 ppm, (b) man blandar i 2 - 50°C temperatur en vattenlösning som innehäller ätminstone en förening som bestär av alkalimetall- 20 hydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en alkalimetallhy-droxids vattenlösliga silikat eller ett vattenlösligt silikat av en vattenlöslig organisk aikai, med vattenlösningen som erhällits i skede (a) och där molförhällandet Si02/M20 är 20 - 200, där Si02 avser hela kiselsyrahalten som härletts frän 25 aktiv kiselsyra och vattenlösligt slikats kiselsyrahalt och M betyder en metallatom av alkalimetallhydroxiden eller en organisk alkalimolekyl av den vattenlösliga organiska alkalin, och (c) man upphettar blandningen som erhälles i skede (b) i 60 - 30 250 °C under 0,5 - 40 timmars tid.
10. Förfarande enligt patentkrav 9, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, k&nnetecknat av, att den i skede (a) använda vattenhaltiga kolloidiska vätskan 35 som innehäller aktiv kiselsyra erhälles genom att behandla vattenlösningen i natr iumvattenglas, vars molförhällande Si02/Na20 är 1 - 4,5 och Si02 konsentrationen 1-6 vikt-%, med kationbytesharts av vätetyp, varvid den vattenhaltiga kolloidiska vätskans, som innehäller aktiv kiselsyra, Si02- 68 konsentration är 1 - 6 vikt-% och pH-värdet är over 4 och högst 5, och son inte innehiller kolloidiska kiselsyrapartik-lar vars partikelstorlek är over 3 ημ. 5
11. Förfarande enligt patentkrav 9, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetecknat av, att den vattenhaltiga lösningen omfattar ätminstone en fören-ing som är kalciunklorid, magnesiumklorid, kalciumnitrat, magnesiunnitrat, magnesiumsulfat, kalciumsulfamat, magnesium-jo sulfamat, kalciumformat, magnesiunformat, kalciumacetat eller magnesiunacetat 2-20 vikt-%.
12. Förfarande enligt patentkrav 9, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetecknat av, is att ätminstone en av föreningarna son används i skede (b) dvs. alkalinetallhydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en alkalinetallhydroxids vattenlösliga silikat eller ett vatten-lösligt silikat av en vattenlöslig organisk aikai är natrium-hydroxid, kaliumhydroxid, litiunhydroxid, tetraetanolammo-20 niumhydroxid, nononetyltrietanolannoniunhydroxid, tetranetyl- annoniunhydroxid, nonoetanolanin, dietanolanin, trietanol-anin, Ν,Ν-dinetyletanolanin, N-(β-aninonetyl)etanoianin, K-netyletanolanin,propanolanin, norfolin, ett slikat av en organisk alkali, natriunsilikat eller kaliumsilikat. 25
13. Förfarande för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, vars Si02-konsentration är 1 - 30 vikt-%,, kännetecknat av, att solens kolloidiska partiklars genon-snittliga partikelstorlek är 40 - 300 ημ nätt ned ett dyna- 30 miskt ljusspridningsförfarande och de har en longitudinal form vars enhetliga tjocklek är 5 - 20 ταμ och elongation 5 -30 ginger tjockleken endast i ett pian, och att det omfattar följande skeden (a), (b), (c) och (d): (a) man blandar i 2 - 50°C temperatur en vattenlösning som 35 innehiller itminstone en förening som bestir av vattenlösligt kalciumsalt eller magnesiumsalt ihop med en vattenhaltig kol-loidisk vätska av aktiv kiselsyra, som bestir av 1 - 6 vikt-% av Si02 men som inte innehiller kolloidiska kiselsyrapartik-lar vars dimension är större än 3 ιημ och vars pH-värd är II 91145 69 2-4, varvid CaO:s eller MgO:s eller deras blandnings vikt-förhällande med aktlv kiselsyra Si02 är 1500 - 8500 ppm, (b) man blandar i 2 - 50°C temperatur en vattenlösning son innehäller Ätminstone en förening som bestär av alkalimetall-5 hydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en aikaiimetällhy-droxids vattenlösliga silikat eller ett vattenlösligt silikat av en vattenlöslig organisk aikai, med vattenlösningen som erhällits i skede (a) och där molförhällandet Si02/M20 är 20 - 200, där Si02 avser hela kiselsyrahälten som härletts frän io aktiv kiselsyra och vattenlösligt slikats kiselsyrahalt och H betyder en metallatom av alkalimetallhydroxiden eller en organisk alkalimolekyl av den vattenlösliga organiska alkalin, (c) man upphettar blandningen som erhälles i skede (b) i 60 -150 eC under 0,5 - 40 timmars tid, och 15 (d) man avlägsnar anionerna och vattnet frän den i skedet (c) tillverkade kiselsyrasolen, varvid anionkonsentrationen blir högst 0,1 vikt-% och Si02 konsentrationen blir 1 - 30 vikt-%.
14. FÖrfarande enligt patentkrav 13, för att tillverka en 20 stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetecknat av, att anionerna och vattnet avlägsnas genom ultrafiltrering.
15. FÖrfarande enligt patentkrav 14, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetseknat av, 25 att ätminstone en förening, som är alkalimetallhydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en aikaiimetällhydroxids vattenlösliga silikat eller ett vattenlösligt silikat av en organisk aikai tillförs tili kiselsyrasolen för att hälla solens Si02/M20 molförhällande inom omrädet 20 - 300. 30
16. FÖrfarande enligt patentkrav 15, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetseknat av, att ätminstone en av föreningarna alkalimetallhydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en aikaiimetällhydroxids vat- 35 tenlösliga silikat eller ett vattenlösligt silikat av en organisk aikai är natriumhydroxid, kaliumhydroxid, litium-hydroxid, tetraetanolammoniumhydroxid, monometyltrietanol-ammoniumhydroxid, tetrametylammoniumhydroxid, monoetanolamin, dietanolamin, trietanolamin, Ν,Ν-dimetyletanolamin, Ν-(β- 70 aminomety1)etanolamin, N-metyletanolamin, monopropanolamin, morfolin, ett slikat av en organisk alkali, natriumsilikat eller ka1iumsi1ikat. 5
17. Förfarande enligt patentkrav 13, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, känneteoknat av, att anionerna och vattnet avlägsnas genom att behandla kisel-syrasolen med ett anionbytesharte av hydroxtyp för att avläg-sna anionerna frän det och sedan genom att avdunsta den kvar-10 varande solen för avlägsning av vatten frän den.
18. Förfarande för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, vars Si02-konsentration är 0,5 - 25 vikt-%, känneteoknat av, att solens kolloidiska partiklars 15 genomsnittliga partikelstorlek är 40 - 500 ιαμ mätt med ett dynamiskt ljusspridningsförfarande och de har en enhetlig längd 5 - 40 πιμ och elongation 5 - 30 gänger tjockleken endast i ett pian, och att det omfattar följande skeden (a'), (b') och (c'): 20 (a') man blandar i 2 - 50°C temperatur en vattenlösning som innehäller ätminstone en förening som bestär av vattenlösligt kalciumsalt eller magnesiumsalt ihop med en vattenhaltig syrlig kiselsyrasol, som innehäller kolloidiska kiselsyrapar-tiklar vars genomsnittliga part ike Id i ameter är 3 - 30 ημ, och 25 vars syrliga kiselsyrasols Si02-halt är 0,5 - 25 vikt-% och vars pH-värde är 1 - 5, varvid CaO:s eller MgO:s eller deras blandnings viktförhällande med syrlig kiselsyrasol Si02 är 0,15 - 1,00 %, (b') man blandar i 2 - 50°C temperatur en vattenlösning som 30 innehäller ätminstone en förening som bestär av alkalimetall-hydroxid eller en vattenlöslig organisk aikai, en alkali-metallhydroxids vattenlösliga silikat eller ett vattenlösligt silikat av en organisk aikai med vätskan som erhällits i skede (a') och där molförhällandet Si02/M20 är 20 - 300, där 35 Si02 avser hela kiselsyrahalten som härletts frän syrlig kiselsyrasol och silikat och N betyder en alkalimetallatom av alkalimetallhydroxiden eller en organisk alkalimolekyl av den organiska alkalin, och 71 91145 (c') man upphettar blandningen som erhilles i skede (b') i 60 - 300 eC under 0,5 - 40 timmars tid för att forma kolloidiska kiselsyrapartiklar i den upphettade blandningen, som har en longitudinal form och vars tjocklek är större än de 5 kolloidiska kiselsyrapartiklarnas partikelstorlek i skedet (a').
19. Förfarande enligt patentkrav 18, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetecknat av, ίο att den vattenhaltiga lösningen omfattar ätminstone en fören-ing som är kalciumklorid, magnesiumklorid, kalciumnitrat, magnesiumnitrat, magnesiumsulfat, kalciumsulfamat, magnesium-sulfamat, kalciumformat, magnesiumformat, kalciumacetat eller magnesiumacetat 2-20 vikt-% i relation till den vattenhal-15 tiga lösningen.
20. Förfarande enligt patentkrav 18, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetecknat av, att ätminstone en av föreningarna som används i skede (b') 20 dvs. aikai imetä llhydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en alkalimetallhydroxids vattenlösliga silikat eller ett vatten-lösligt silikat av en vattenlöslig organisk aikai är natrium-hydroxid, kaliumhydroxid, litiumhydroxid, tetraetanolammo-niumhydroxid, monometyltrietanolammoniumhydroxid, tetrametyl-25 ammoniumhydroxid, monoetanolamin, dietanolamin, trietanol- amin, Ν,Ν-dimetyletanolamin, N-(β-aminometyl) etanolamin, N-metyletanolamin,propanolamin, morfolin, ett slikat av en organisk alkali, natriumsilikat eller kaliumsilikat. 30
21. Förfarande för att tillverka en stabil alkalisk vatten haltig kiselsyrasol, vars Si02-konsentration är 1 - 40 vikt-%, kännetecknat av, att solens kolloidiska partiklars partikelstorlek är 40 - 500 ημ mätt med ett dynamiskt ljuss-pridningsförfarande och de har en enhetlig längd pä 5 - 40 ημ 35 och en elongation som är 5 - 30 gänger tjockleken endast i ett pian, och att det omfattar följande skeden (a'), (b'), (c') och (d')i 72 (a') man blandar i 2 - 50ec temperatur en vattenlösning som innehäller ätminstone en förening som bestär av vattenlösligt kalciumsalt eller magnesiumsalt ihop med en vattenhaltig syrlig kiselsyrasol, som innehäller kolloidisk kiselsyrapar-5 tiklar vars genomsnittliga part ike Id i ameter är 3 - 30 ιημ och där den syrliga kiselsyrasolens Si02 -hait är 0,5 - 25 vikt-% Qch vars pH-värd är 1 - 5, varvid CaO:s eller MgO:s eller deras blandnings viktförhällande med syrlig kiselsyrasol Si02 är 0,15 - 1,00 %, 10 (b') man blandar i 2 - 50°C temperatur en vattenlösning som innehäller ätminstone en förening som bestär av alkalimetall-hydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en aikaiimetallhy-droxids vattenlösliga silikat eller ett vattenlösligt silikat av en organisk aikai, med vätskan som erhällits i skede (a') 15 och där molförhällandet Si02/M20 är 20 - 300, där Si02 avser hela kiselsyrahalten som härletts frän syrlig kiselsyrasol och slikat och M betyder en alkalimetallatom av alkalimetall-hydroxiden eller en organisk alkalimolekyl av den organiska alkalin, och 20 (c') man upphettar blandningen som erhälles i skede (b') i 60 - 300 eC under 0,5 - 40 timmars tid för att forma kolloidiska kiselsyrapartiklar i den upphettade blandningen, som har en longitudinal form och vars tjocklek är större än de kolloidiska kiselsyrapartiklarnas partikelstorlek i skedet (a'), 25 och därefter (d') avlägsnar man anionerna och vattnet frän den i skedet (c') tillverkade kiselsyrasolen, varvid anion-konsentrationen blir högst 0,1 vikt-% och kiselsyrasolens Si02-konsentration blir 1-40 vikt-%. 30
22. Förfarande enligt patentkrav 21, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, känneteeknat av, att anionerna och vattnet avlägsnas genom ultrafiltrering.
23. Förfarande enligt patentkrav 22, för att tillverka en 35 stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, känneteoknat av, att ätminstone en förening, som är alkalimetallhydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en aikaiimetällhydroxids vattenlösliga silikat eller ett vattenlösligt silikat av en II 91145 73 organisk aikai tillförs till kiselsyrasolen för att hilla solens Si02/M20 molförhillande inom omrädet 20 - 300.
24. Förfarande enligt patentkrav 21, för att tillverka en 5 stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetecknat av, att itminstone en av föreningarna alkalimetallhydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en alkalimetallhydroxids vat-tenlösliga silikat eller ett vattenlösligt silikat av en organisk aikai är natriumhydroxid, kaliumhydroxid, litium-10 hydroxid, tetraetanolammoniumhydroxid, monometyltrietanol- ammoniumhydroxid, tetrametylammoniumhydroxid, monoetanolamin, dietanolamin, trietanolamin, N,N-dimetyIetanolamin, N-(B-aminometyl)etanolamin, N-metyIetanolamin, monopropanolamin, morfolin, ett slikat av en organisk alkali, natriumsilikat 15 eller kaliumsilikat.
25. Förfarande enligt patentkrav 21, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetecknat av, att anionerna och vattnet avlägsnas genom att behandla kisel- 20 syrasolen med ett anionbytesharts av hydroxtyp för att avläg-sna anionerna fr in det och sedan genom att avdunsta den kvar-varande solen för avlägsning av vatten frin den.
26. Förfarande enligt patentkrav 21, för att tillverka en 25 stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, k&nnetecknat av, att den vattenhaltiga lösningen omfattar itminstone en fören-ing som är kalciumklorid, magnesiumklorid, kalciumnitrat, magnesiumnitrat, magnesiumsulfat, kalciumsulfamat, magnesium-sulfamat, kalciumformat, magnesium format, kalciumacetat eller 30 macfnes iumacetat.
27. Förfarande för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, vars Si02-konsentration är 1 - 30 vikt-%,, kännetecknat av, att solens kolloidiska partiklars ge- 35 nomsnittliga partikelstorlek är 40 - 300 ιημ mätt med ett dynamiskt ljusspridningsförfarande och de har en longitudinal form vars enhetliga tjocklek är 5 - 20 ιημ och elongation 5 -30 ginger tjockleken endast i ett pian, och att det omfattar följande skeden (a), (b), (c) och (d): 74 (a) man blandar i 2 - 50°C temperatur en vattenlösning som innehäller ätminstone en förening som bestär av vattenlösligt kalciumsalt eller magnesiumsalt ihop med en vattenhaltig koi-loidisk vätska av aktiv kiselsyra, som bestär av 1 - 6 vikt-% 5 av Si02, men som inte innehäller kolloldlska kiselsyrapartik-lar vars dimension är större än 3 ιημ och vars pH-värd är större än 4 men högst 5, varvid CaO:s eller MgO:s eller deras blandnings vlktförhällande med aktiv kiselsyra Si02 är 1500 -8500 ppm, ίο (b) man blandar i 2 - 50°C temperatur en vattenlösning som innehäller ätminstone en förening som bestär av alkalimetall-hydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en aikaiimetällhy-droxids vattenlösliga silikat eller ett vattenlösligt silikat av en vattenlöslig organisk aikai, med vattenlösningen som 15 erhällits i skede (a) och där molförhällandet Si02/M20 är 20 - 200, där Si02 avser hela kiselsyrahalten som härletts frän aktiv kiselsyra och vattenlösligt slikats kiselsyrahalt och M betyder en metallatom av aikaiimetällhydroxiden eller en organisk alkalimolekyl av den vattenlösliga organiska 20 alkalin, (c) man upphettar blandningen som erhälles i skede (b) i 60 -250 °C under 0,5 - 40 timmars tid, varvid en stabil soi av kolloidisk kiselsyra, och (d) man avlägsnar anionerna och vattnet frän den i skedet (c) tillverkade kiselsyrasolen, varvid anionkonsentrationen blir 25 högst 0,1 vikt-% och Si02 konsentrationen blir 1-30 vikt-%.
28. Förfarande enligt patentkrav 27, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kftnneteoknat av, att den i skede (a) använda vattenhaltiga kolloidiska vätskan 30 som innehäller aktiv kiselsyra erhälles genom att behandla vattenlösningen i natriumvattenglas, vars molförhällande Si02/Na20 är 1 - 4,5 och Si02 konsentrationen 1-6 vikt-%, med kationbytesharts av vätetyp. 35
29. Förfarande enligt patentkrav 27, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännotaeknat av, att det i skede (a) använda vattenlösliga kalcium- eller magnesiumsaltet är ätminstone ett sait som är kalciumklorid, magnesiumklorid, kalciumnitrat, magnesiumnitrat, magnesium- 91145 75 sulfat, kalciumsulfamat, magnesiumsulfamat, kalciumformat, magnesiumformat, kalciumacetat eller magnesiumacetat.
30. Förfarande enligt patentkrav 27, för att tillverka en 5 stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, k&nnetecknat av, att ätminstone en av i skedet (b) använda föreningarna alkalimetallhydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en alkalimetallhydroxids vattenlösliga sllikat eller en vattenlöslig blandning av en vattenlöslig organisk aikai är nat-io riumhydroxid, kaliumhydroxid, litiumhydroxid, tetraetanol-ammoniumhydroxid, monometyltrietanolammoniumhydroxid, tetra-metylammoniumhydroxid, monoetanolamin, dietanolamin, trieta-nolamin, Ν,Ν-dimetyletanolamin, N-(fi-aminometyl)etanolamin, N-metyletanolamin, monopropanolamin, norfolin, ett slikat av 15 en organisk alkali, natriumsilikät eller kaliumsilikat.
31. Förfarande enligt patentkrav 27, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, k&nneteeknat av, att alkalimetallhydroxid, en vattenlöslig organisk aikai, en 20 alkalimetallhydroxids vattenlösliga silikat eller ett vat-tenlösligt silikat av en organisk aikai tillförs tili kisel-syrasolen för att hälla solens Si02/M20 molförhällande inom omrädet 20 - 300. 25
32. Förfarande enligt patentkrav 31, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, k&nnetecknat av, att ätminstone en av i skedet (b) tillförda föreningarna är natriumhydroxid, kaliumhydroxid, litiumhydroxid, tetraetanol-ammoniumhydroxid, monometyltrietanolammoniumhydroxid, tetra-30 metylammoniumhydroxid, monoetanolamin, dietanolamin, trieta-nolamin, Ν,Ν-dimetyletanolamin, N-(B-aminometyl)etanolamin, N-metyletanolamin, monopropanolamin, morfolin, ett slikat av en organisk alkali, natriumsilikat eller kaliumsilikat. 35
33. Förfarande enligt patentkrav 13, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, k&nnetecknat av, att den i skede (a) använda vattenhaltiga kolloidiska vätskan som inneh&ller aktiv kiselsyra erhälles genom att behandla 76 vattenlösningen i natriumvattenglas, vars molförhällande Si02/Na20 är 1 - 4,5 och Si02 konsentrationen 1-6 vikt-%, med kationbytesharts av vätetyp. 5
34. Förfarande enligt patentkrav 13, för att tiliverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetecknat av, att det i skede (a) använda vattenlösliga kalcium- eller magnesiumsaltet är ätminstone ett sait som är kalcivunklorid, magnesivunklorid, ka le ituuni tr at, magnes ituuni tr at, magnesium-10 sulfat, kalciumsulfamat, magnesitunsulfamat, kalciumformat, magnesiumformat, kalcitunacetat eller magnesiumacetat.
35. Förfarande enligt patentkrav 13, för att tillverka en stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetecknat av, 15 att föreningen som används i skedet (b) är ätminstone en av följande föreningar, natriumhydroxid, kaliumhydroxid, litium-hydroxid, tetraetanolammoniumhydroxid, monometyltrietanol-ammoniumhydroxid, tetrametylammoniumhydroxid, monoetanolamin, dietanolamin, trietanolamin, Ν,Ν-dimetyletanolamin, N-(B-20 aminometyl)etanolamin, N-metyletanolamin, monopropanolamin, morfolin, ett slikat av en organisk alkali, natriumsilikat eller kaliumsilikat.
36. Förfarande enligt patentkrav 15, för att tillverka en 25 stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetecknat av, att föreningen är Ätminstone en av följande föreningar, natriumhydroxid, kaliumhydroxid, litiumhydroxid, tetraetanolammoniumhydroxid, monometyltrietanolammoniumhydroxid, tetrametylammoniumhydroxid, monoetanolamin, dietanolamin, trieta-30 nolamin, Ν,Ν-dimetyletanolamin, N-(B-aminometyl)etanolamin, N-metyletanolamin, monopropanolamin, morfolin, ett slikat av en organisk alkali, natrituusilikat eller kaliumsilikat.
37. Förfarande enligt patentkrav 23, för att tillverka en 35 stabil alkalisk vattenhaltig kiselsyrasol, kännetecknat av, att föreningen är ätminstone en av följande föreningar, natriumhydroxid, kaliumhydroxid, litiumhydroxid, tetraetanolammoniumhydroxid, monometyltrietanolammoniumhydroxid, tetrametylammoniumhydroxid, monoetanolamin, dietanolamin, trieta- II 77 91145 nolamin, Ν,Ν-dimetyletanolamin, N-(B-aminometyl)etanolamin, N-metyletanolamin, monopropanolamin, morfolin, ett slikat av en organisk alkali, natriumsilikat eller kaliumsilikat.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6284988 | 1988-03-16 | ||
| JP6284988 | 1988-03-16 |
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI891243A0 FI891243A0 (sv) | 1989-03-16 |
| FI891243A FI891243A (sv) | 1989-09-17 |
| FI91145B true FI91145B (sv) | 1994-02-15 |
| FI91145C FI91145C (sv) | 1994-05-25 |
Family
ID=13212169
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI891243A FI91145C (sv) | 1988-03-16 | 1989-03-16 | Finformat kiselsyrasol och förfarande för framställning av detta |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0335195B1 (sv) |
| KR (1) | KR960014908B1 (sv) |
| CN (1) | CN1022099C (sv) |
| CA (1) | CA1314457C (sv) |
| DE (1) | DE68911346T2 (sv) |
| DK (1) | DK175640B1 (sv) |
| ES (1) | ES2047051T3 (sv) |
| FI (1) | FI91145C (sv) |
| NO (1) | NO300125B1 (sv) |
Families Citing this family (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100218698B1 (ko) * | 1990-09-21 | 1999-09-01 | 히라이 가쯔히꼬 | 열가소성폴리에스테르조성물 및 그것으로 구성하는 필름 |
| KR100571624B1 (ko) * | 1998-09-10 | 2006-04-17 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 염주상(念珠狀)의 실리카 졸, 그 제조법 및 잉크제트기록매체 |
| CN1912242B (zh) * | 1999-05-04 | 2011-01-12 | 阿克佐诺贝尔公司 | 生产纸的方法 |
| JP4132432B2 (ja) * | 1999-07-02 | 2008-08-13 | 日産化学工業株式会社 | 研磨用組成物 |
| AU2001266332A1 (en) * | 2000-06-26 | 2002-01-08 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Porous, fine inorganic particles |
| JP4198009B2 (ja) * | 2003-08-07 | 2008-12-17 | ジャパンゴアテックス株式会社 | 固体高分子電解質膜及び燃料電池 |
| US20050234136A1 (en) | 2004-04-19 | 2005-10-20 | Holland Brian T | Colloidal compositions and methods of preparing same |
| JP2007063117A (ja) * | 2005-08-02 | 2007-03-15 | Nissan Chem Ind Ltd | 有機溶媒分散シリカゾル及びその製造方法 |
| US20080108497A1 (en) * | 2006-11-08 | 2008-05-08 | Holland Brian T | Metal-rich siliceous compositions and methods of producing same |
| KR20100014355A (ko) * | 2007-02-01 | 2010-02-10 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 가늘고 긴 형상을 갖는 실리카 졸의 제조 방법 |
| KR101429318B1 (ko) * | 2007-02-02 | 2014-08-11 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 반응성 모노머 분산 실리카 졸, 이의 제조방법, 경화용 조성물 및 이의 경화체 |
| JP5525258B2 (ja) * | 2007-05-18 | 2014-06-18 | 日立金属株式会社 | セラミックハニカム構造体の製造方法及びセラミックハニカム構造体 |
| AR066831A1 (es) | 2007-06-07 | 2009-09-16 | Akzo Nobel Nv | Soles a base de silice |
| AU2011203171B2 (en) * | 2007-06-07 | 2012-01-12 | Akzo Nobel Chemicals International B.V. | Silica-based sols |
| US8845991B2 (en) * | 2010-04-08 | 2014-09-30 | Ecolab Usa Inc. | Silica particle manufacturing process |
| TWI427034B (zh) | 2010-12-22 | 2014-02-21 | Ind Tech Res Inst | 無機奈米片材之有機分散液及其製造方法 |
| KR101967697B1 (ko) * | 2011-09-05 | 2019-04-11 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 정제된 규산알칼리 수용액 및 실리카졸의 제조방법 |
| KR102052226B1 (ko) * | 2012-02-29 | 2019-12-04 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 유기 용매 분산 실리카 졸 및 유기 용매 분산 실리카 졸의 제조 방법 |
| CN102838124A (zh) * | 2012-09-21 | 2012-12-26 | 安徽工业大学 | 一种不含金属离子的高纯硅溶胶的制备方法 |
| BR112015011215B1 (pt) | 2012-11-26 | 2018-11-21 | Braskem S.A. | Catalisador metaloceno suportado em suporte híbrido, processo de obtenção do mesmo, processo de polimerização para obtenção de um homopolímero ou copolímero de etileno com distribuição de massa molar ampla ou bimodal, uso do catalisador de metalocenosuportado e polímero de etileno com distribuição de massa molar ampla ou bimodal |
| ES2700776T3 (es) | 2013-08-23 | 2019-02-19 | Akzo Nobel Chemicals Int Bv | Sol de sílice |
| JP6406524B2 (ja) * | 2014-02-06 | 2018-10-17 | 日産化学株式会社 | シリカ系微粒子ゾル及びその製造方法 |
| CN104745146A (zh) * | 2015-03-23 | 2015-07-01 | 江苏天恒纳米科技股份有限公司 | 含铈掺杂二氧化硅纳米复合磨粒溶胶、抛光液及其制备方法 |
| CN104877401A (zh) * | 2015-05-25 | 2015-09-02 | 天津市职业大学 | 一种玻璃镀膜液的制备方法及应用 |
| JP6894759B2 (ja) * | 2017-05-17 | 2021-06-30 | 株式会社松風 | 歯科用りん酸塩系埋没材 |
| RS65075B1 (sr) * | 2017-09-07 | 2024-02-29 | Nissan Chemical Corp | Izolaciona kompozicija koja sadrži silicijum dioksid |
| CN107777692B (zh) * | 2017-09-29 | 2020-02-18 | 中海油天津化工研究设计院有限公司 | 一种脱硝催化剂用高纯硅溶胶的制备方法 |
| CN107959064A (zh) * | 2017-11-27 | 2018-04-24 | 大同新成新材料股份有限公司 | 一种触变性胶体电解质及其制备方法和胶体蓄电池 |
| CN110194458B (zh) * | 2018-02-24 | 2021-03-23 | 航天特种材料及工艺技术研究所 | 一种硅溶胶及制备方法 |
| CN111788154B (zh) * | 2018-02-26 | 2024-03-29 | 日产化学株式会社 | 具有细长的粒子形状的硅溶胶的制造方法 |
| CN110217799B (zh) * | 2018-03-02 | 2020-12-18 | 中国石油化工股份有限公司 | 硅溶胶及其制备方法 |
| CN111847462B (zh) * | 2020-08-03 | 2021-03-19 | 马惠琪 | 稳定获取指定粒度高纯硅溶胶的方法 |
| CN115477529A (zh) * | 2022-07-26 | 2022-12-16 | 保利长大工程有限公司 | 一种基于花岗岩石粉的混凝土及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2680721A (en) * | 1952-03-20 | 1954-06-08 | Du Pont | Process of increasing the size of unaggregated silica particles in an aqueous silicasuspension |
| US2900348A (en) * | 1954-02-02 | 1959-08-18 | Grace W R & Co | Preparation of silica sols |
-
1989
- 1989-03-15 NO NO891124A patent/NO300125B1/no not_active IP Right Cessation
- 1989-03-15 CN CN89101368A patent/CN1022099C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-16 CA CA000593983A patent/CA1314457C/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-16 DK DK198901283A patent/DK175640B1/da not_active IP Right Cessation
- 1989-03-16 KR KR1019890003263A patent/KR960014908B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-03-16 EP EP89104743A patent/EP0335195B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-16 FI FI891243A patent/FI91145C/sv active IP Right Grant
- 1989-03-16 ES ES89104743T patent/ES2047051T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-16 DE DE89104743T patent/DE68911346T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0335195A2 (en) | 1989-10-04 |
| EP0335195A3 (en) | 1991-11-06 |
| KR960014908B1 (ko) | 1996-10-21 |
| DE68911346T2 (de) | 1994-05-11 |
| DK175640B1 (da) | 2005-01-03 |
| NO300125B1 (no) | 1997-04-14 |
| NO891124L (no) | 1989-09-18 |
| KR890014384A (ko) | 1989-10-23 |
| CN1022099C (zh) | 1993-09-15 |
| CA1314457C (en) | 1993-03-16 |
| CN1036547A (zh) | 1989-10-25 |
| NO891124D0 (no) | 1989-03-15 |
| FI891243A (sv) | 1989-09-17 |
| DE68911346D1 (de) | 1994-01-27 |
| DK128389A (da) | 1989-09-17 |
| ES2047051T3 (es) | 1994-02-16 |
| EP0335195B1 (en) | 1993-12-15 |
| FI891243A0 (sv) | 1989-03-16 |
| DK128389D0 (da) | 1989-03-16 |
| FI91145C (sv) | 1994-05-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI91145B (sv) | Finformat kiselsyrasol och förfarande för framställning av detta | |
| JP2803134B2 (ja) | 細長い形状のシリカゾル及びその製造法 | |
| US5221497A (en) | Elongated-shaped silica sol and method for preparing the same | |
| CA2343260C (en) | Moniliform silica sol, method for producing it and ink jet recording medium | |
| JP4300028B2 (ja) | 有機ドメイン／無機ドメイン複合材料及びその用途 | |
| KR101790553B1 (ko) | 중공실리카 입자의 제조방법, 중공실리카 입자 및 그를 포함하는 조성물 및 단열 시트 | |
| JP4245637B2 (ja) | 有機無機複合塗膜、その製造方法及び水性塗料組成物 | |
| TWI321581B (en) | Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom | |
| JP2009018960A (ja) | ポリシリケート粒子状材料の製造および使用 | |
| KR20100098426A (ko) | 내부식성 물질 | |
| AU656598B2 (en) | Stable mixtures of colloidal silica and a film-forming polymer | |
| JP2676784B2 (ja) | 結合剤 | |
| KR20100014355A (ko) | 가늘고 긴 형상을 갖는 실리카 졸의 제조 방법 | |
| US5879437A (en) | Composition for surface treatment | |
| US3893864A (en) | Quick-curing water resistant silica-alkali metal coatings and processes therefor | |
| JP7252941B2 (ja) | 炭化ケイ素焼結体用分散体、これを用いた炭化ケイ素焼結体用グリーンシートおよび炭化ケイ素焼結体用プリプレグ材、ならびにその製造方法 | |
| WO2003055800A1 (fr) | Oxyde inorganique | |
| JPH0465314A (ja) | 細長い形状のシリカゾル及びその製法 | |
| US3988282A (en) | Quick-curing water resistant silica-alkali metal coatings and processes therefor | |
| JPH10310406A (ja) | 有機化合物修飾無機化合物ゾル | |
| JP5120530B2 (ja) | 塩基性硝酸アルミニウム水溶液及びその製造方法 | |
| JP2003160326A (ja) | シリカゲル | |
| CA2206513C (en) | Composition for surface treatment | |
| CN109721382A (zh) | 一种陶瓷颗粒悬浮浆料及其制备方法和应用 | |
| MXPA97004197A (en) | Composition for surface treatment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BB | Publication of examined application | ||
| FG | Patent granted |
Owner name: NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. |