ES2332303T3 - Aparato fotovoltaico con particulas semiconductoras esfericas. - Google Patents
Aparato fotovoltaico con particulas semiconductoras esfericas. Download PDFInfo
- Publication number
- ES2332303T3 ES2332303T3 ES01204475T ES01204475T ES2332303T3 ES 2332303 T3 ES2332303 T3 ES 2332303T3 ES 01204475 T ES01204475 T ES 01204475T ES 01204475 T ES01204475 T ES 01204475T ES 2332303 T3 ES2332303 T3 ES 2332303T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- photoelectric conversion
- conductor
- semiconductor layer
- semiconductor
- photovoltaic device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 164
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 84
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 51
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 51
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 51
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 154
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 32
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GKXJWSZPLIKUPS-IUNAMMOKSA-N N-[(2Z,6Z)-2,6-bis(hydroxyimino)cyclohexylidene]hydroxylamine Chemical compound O\N=C1\CCC\C(=N\O)C1=NO GKXJWSZPLIKUPS-IUNAMMOKSA-N 0.000 claims 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 108
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 5
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 CuInSe_ {2} Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- XYWMWLADMNOAAA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;buta-1,3-diene Chemical compound CC(O)=O.C=CC=C XYWMWLADMNOAAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 210000000695 crystalline len Anatomy 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000010922 glass waste Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910021424 microcrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000045947 parasite Species 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N silicon Chemical compound [Si].[Si] SBEQWOXEGHQIMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
- C30B11/003—Heating or cooling of the melt or the crystallised material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
- C30B11/006—Controlling or regulating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/06—Silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/60—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape characterised by shape
- C30B29/66—Crystals of complex geometrical shape, e.g. tubes, cylinders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B30/00—Production of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the action of electric or magnetic fields, wave energy or other specific physical conditions
- C30B30/06—Production of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the action of electric or magnetic fields, wave energy or other specific physical conditions using mechanical vibrations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/02002—Arrangements for conducting electric current to or from the device in operations
- H01L31/02005—Arrangements for conducting electric current to or from the device in operations for device characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02008—Arrangements for conducting electric current to or from the device in operations for device characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells or solar cell modules
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/0352—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions
- H01L31/035272—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/035281—Shape of the body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/042—PV modules or arrays of single PV cells
- H01L31/05—Electrical interconnection means between PV cells inside the PV module, e.g. series connection of PV cells
- H01L31/0504—Electrical interconnection means between PV cells inside the PV module, e.g. series connection of PV cells specially adapted for series or parallel connection of solar cells in a module
- H01L31/0512—Electrical interconnection means between PV cells inside the PV module, e.g. series connection of PV cells specially adapted for series or parallel connection of solar cells in a module made of a particular material or composition of materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/054—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means
- H01L31/0547—Optical elements directly associated or integrated with the PV cell, e.g. light-reflecting means or light-concentrating means comprising light concentrating means of the reflecting type, e.g. parabolic mirrors, concentrators using total internal reflection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/06—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
- H01L31/072—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type
- H01L31/0745—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type comprising a AIVBIV heterojunction, e.g. Si/Ge, SiGe/Si or Si/SiC solar cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
- H01L31/1804—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic Table
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02S—GENERATION OF ELECTRIC POWER BY CONVERSION OF INFRARED RADIATION, VISIBLE LIGHT OR ULTRAVIOLET LIGHT, e.g. USING PHOTOVOLTAIC [PV] MODULES
- H02S40/00—Components or accessories in combination with PV modules, not provided for in groups H02S10/00 - H02S30/00
- H02S40/30—Electrical components
- H02S40/36—Electrical components characterised by special electrical interconnection means between two or more PV modules, e.g. electrical module-to-module connection
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/52—PV systems with concentrators
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/547—Monocrystalline silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Geometry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
Un aparato fotovoltaico (1) que comprende: (a) una pluralidad de elementos de conversión fotoeléctrica (2), cada uno de los cuales es de una forma aproximadamente esférica e incluye una primera capa semiconductora (7) y una segunda capa semiconductora (8), que está situada por fuera de la primera capa semiconductora (7), a fin de generar una fuerza electromotriz entre las primera y segunda capas semiconductoras (7, 8), de tal modo que la segunda capa semiconductora (8) tiene una abertura (9) a través de la cual queda expuesta o al descubierto una porción (10) de la primera capa semiconductora (7); y (b) un soporte (3), que incluye un primer conductor (13), un segundo conductor (14) y un aislante (15), dispuesto entre el primer y el segundo conductores (13, 14), a fin de aislar eléctricamente los primer y segundo conductores (13, 14) uno de otro, de tal manera que el primer conductor (13) está conectado eléctricamente a las segundas capas semiconductoras (8) de los elementos de conversión fotoeléctrica (2), y el segundo conductor (14) está conectado eléctricamente a las porciones expuestas de las primeras capas semiconductoras (7), caracterizado por que el soporte (3) tiene una pluralidad de rebajes (17) que están dispuestos adyacentes unos a otros y cuyas superficies internas están constituidas por el primer conductor (13) o un revestimiento formado sobre él, estando dispuestos los elementos de conversión fotoeléctrica (2) en los respectivos rebajes (17), de tal modo que los elementos de conversión fotoeléctrica (2) son iluminados con luz reflejada por parte del primer conductor (13) o por el revestimiento formado sobre él, que constituye el rebaje (17).
Description
Aparato fotovoltaico con partículas
semiconductoras esféricas.
La presente invención se refiere a un aparato
fotovoltaico y a un aparato de producción a gran escala para la
producción a gran escala de partículas semiconductoras esféricas,
adecuadas para la fabricación de aparatos fotovoltaicos y
similares.
En la divulgación que aquí se describe, el
término "unión pin" debe ser interpretada de manera que incluye
una estructura tal, que se forman capas semiconductoras de tipo n,
I [intrínseco] y p en un elemento de conversión fotoeléctrica
aproximadamente esférico, de tal modo que se disponen en este orden,
en sentido hacia fuera desde el interior del elemento de conversión
fotoeléctrica aproximadamente esférico, o hacia dentro desde el
exterior.
\vskip1.000000\baselineskip
Una práctica típica de la técnica relacionada
proporciona un aparato fotovoltaico que comprende un elemento de
conversión fotoeléctrica, compuesto de una oblea semiconductora de
silicio cristalino. El aparato fotovoltaico de la técnica
relacionada es de un coste oneroso debido a que la etapa de producir
un cristal es compleja. Además, la etapa de fabricar una oblea
semiconductora no sólo es compleja como consecuencia de que incluye
el corte de un único cristal de una pieza, su troceado o rebanado y
su pulido, sino que también la etapa es desperdiciadora debido a
que los residuos de cristal producidos por el corte, el rebanado, el
pulido, etc. ascienden a aproximadamente el 50% en volumen, o más,
del cristal individual inicial de una pieza.
Otra práctica de la técnica relacionada
proporciona un aparato fotovoltaico que comprende un elemento de
conversión fotoeléctrica compuesto de una delgada película de
silicio amorfo (abreviadamente, "a-Si"), que
resuelve los problemas anteriormente mencionados. Puesto que se
forma una capa de conversión fotoeléctrica de película delgada
mediante el método CVD (deposición química de vapor -"chemical
vapor deposition") de plasma, este aparato fotovoltaico de la
técnica relacionada presenta ventajas por cuanto que las etapas que
se requieren de manera convencional, tales como el corte de un
cristal individual de una pieza, su rebanado y su pulido, no son
necesarias y es posible utilizar una película depositada, en su
totalidad, como capas activas del dispositivo. El aparato
fotovoltaico de silicio amorfo, sin embargo, presenta una desventaja
por cuanto que el semiconductor tiene un cierto número de defectos
cristalinos (esto es, estados de separación o salto) en el seno del
semiconductor, debido a la estructura amorfa, y la batería solar de
silicio amorfo tiene el problema de que la eficiencia de la
conversión fotoeléctrica se reduce como consecuencia de un fenómeno
de deterioro inducido fotónicamente. Con el fin de resolver este
problema, se ha desarrollado, convencionalmente, una técnica de
desactivación de los defectos cristalinos por medio de la
aplicación de un tratamiento de hidrogenación, mediante la cual se
ha llevado a cabo la fabricación de dispositivos electrónicos tales
como baterías solares de silicio amorfo.
Sin embargo, ni siquiera dicho tratamiento es
capaz de eliminar completamente los efectos adversos de los
defectos cristalinos, y, por ejemplo, la batería solar de silicio
amorfo sigue teniendo un punto débil por cuanto que la eficiencia de
la conversión fotoeléctrica se reduce entre el 15% y el 25%.
Una técnica recientemente desarrollada para
suprimir el deterioro inducido fotónicamente ha producido una
batería solar del tipo de apilamiento o pila en la que una capa de
tipo i [semiconductor intrínseco] fotoeléctricamente activa se ha
hecho extremadamente delgada y se emplean células solares de 2
uniones o de 3 uniones, y ha tenido éxito por lo que respecta a la
supresión del deterioro inducido fotónicamente hasta aproximadamente
el 10%. Se ha puesto de manifiesto que el grado de deterioro
inducido fotónicamente se reduce cuando la temperatura de
funcionamiento de las células solares es alta. Si bien se está
desarrollando en este momento una técnica modular en la que las
células solares se hacen funcionar en tal estado, ésta no satisface
todos los requisitos y se requieren mejoras
adicionales.
adicionales.
Aún otra práctica de la técnica relacionada en
la que se elimina el problema anterior, se divulga la Publicación
de Patente Japonesa Examinada Nº JP-B2
7-54855 (1995). De acuerdo con esta práctica de la
técnica relacionada, se forma una matriz solar de la siguiente
manera. Se incluyen o embuten partículas esféricas, cada una de las
cuales tiene una esfera de silicio de tipo p y una cubierta o
cáscara de silicio de tipo n, en el seno de una lámina plana de
hoja de aluminio, provista de orificios. Las esferas internas de
silicio de tipo p se dejan expuestas o al descubierto mediante
eliminación por ataque químico superficial de las cáscaras de
silicio de tipo n de la cara o lado trasero de la hoja de aluminio.
Las esferas de silicio de tipo expuesto se unen a otra lámina de
hoja de aluminio.
En esta práctica de la técnica relacionada, con
el fin de reducir los costes disminuyendo la cantidad de silicio de
alta pureza utilizado, es necesario reducir el espesor medio del
dispositivo en su conjunto mediante la reducción del diámetro
exterior de las partículas. Para aumentar la eficiencia de la
conversión, es necesario agrandar la superficie de recepción de
luz, y, con este fin, se requiere disponer las partículas unas más
cerca de las otras. En suma, se necesita disponer densamente un
cierto número de partículas que tienen un diámetro exterior
pequeño, y unirlas a las láminas de hoja de aluminio. Esto hace
compleja la etapa de unir las partículas a las láminas de hoja de
aluminio, con el resultado de que no se consigue una reducción
suficiente del coste.
\global\parskip0.900000\baselineskip
Tales partículas semiconductoras esféricas son
necesarias para fabricar una matriz o conjunto ordenado solar tal
como el que se describe en el documento JP-B2
7-54855. En dicho conjunto ordenado solar, puede
obtenerse fuerza foto-electromotriz generada por la
aplicación de luz a partículas semiconductoras esféricas de silicio,
conectando eléctricamente las partículas semiconductoras esféricas
de silicio al conjunto ordenado de hoja metálica.
Según se describe, por ejemplo, en la Patente
norteamericana Nº 5.012.619, dichas partículas esféricas se
fabrican de una manera tal, que un material de estado sólido se
tritura hasta obtener partículas que tienen formas externas
irregulares, y las partículas resultantes se colocan en un cilindro
que está provisto de un revestimiento interior para el amolado, de
manera que se establece un flujo espurio o parásito de gas dentro
del cilindro, a fin de hacer chocar con ello las partículas con el
revestimiento interior o unas con otras.
Esta práctica de la técnica relacionada requiere
mucho tiempo y trabajo para fabricar partículas semiconductoras
esféricas y, en consecuencia, es inferior en el aspecto de reducción
de costes.
Aún otra práctica de la técnica relacionada se
divulga en la Publicación de Patente Japonesa No Examinada Nº
JP-A 8-239298 (1996). En esta
práctica de la técnica relacionada, se fabrica una delgada barra de
silicio de la siguiente manera. Una porción de punta de una barra
de silicio, perteneciente a una barra de silicio que se sujeta
verticalmente, se funde por calentamiento a alta frecuencia. Una vez
que un cristal de silicio nuclear o de semilla se une por fusión a
la barra de silicio fundida, el cristal de silicio de semilla y la
barra de silicio son desplazados en alejamiento uno de otro en
dirección vertical, con lo que se obtiene una delgada barra de
silicio que tiene menos de 1 mm de espesor. Con arreglo a esta
práctica de la técnica anterior, se fabrica una delgada barra de
silicio a una velocidad de, por ejemplo, entre 5 mm/minuto y 10
mm/minuto. Es deseable que se fabrique un gran número de partículas
semiconductoras esféricas a una velocidad mucho mayor.
Se aprecia que las publicaciones de Patentes
norteamericanas Nos. US 4.521.640 y US 5.466.301 describen un
aparato fotovoltaico que comprende una pluralidad de esferas
semiconductoras dispuestas en un soporte que tiene una capa
semiconductora generalmente plana, que está conectada eléctricamente
a la capa exterior de las esferas semiconductoras.
Es un propósito de la presente invención
proporcionar un aparato fotovoltaico altamente fiable y altamente
eficiente que pueda ser producido a gran escala con facilidad, al
tiempo que la cantidad de material semiconductor que se utiliza,
tal como silicio de alta pureza, se reduce; esto es, un material
fotovoltaico altamente fiable y altamente eficiente que pueda ser
fabricado a bajo coste, con menores magnitudes de consumo de
recursos y energía.
Otro propósito de la invención es proporcionar
un aparato capaz de fabricar a gran escala partículas
semiconductoras esféricas con facilidad, mediante manipulaciones
sencillas.
Un primer aspecto de la invención proporciona un
aparato fotovoltaico de acuerdo con la reivindicación 1.
De acuerdo con la invención, los elementos de
conversión fotoeléctrica aproximadamente esféricos se disponen en
los rebajes respectivos del soporte, y las superficies internas de
los respectivos rebajes están constituidas por el primer conductor
del revestimiento formado sobre el primer conductor. Por lo tanto,
la luz externa tal como la luz del sol, se hace incidir
directamente en cada uno de los elementos de conversión
fotoeléctrica, así como tras haber sido reflejada por la parte del
primer conductor o revestimiento formado sobre el primer conductor,
que es la superficie interna del rebaje.
Puesto que los elementos de conversión
fotoeléctrica están dispuestos en los rebajes respectivos, se forman
unos intervalos o intersticios entre medias, es decir, su
disposición no es densa. Sin embargo, el número de elementos de
conversión fotoeléctrica que se utilizan se ha reducido, con el
resultado de que la cantidad empleada de material de alta pureza
(por ejemplo, silicio) de los elementos de conversión fotoeléctrica
puede ser reducida, y la etapa de unir los elementos de conversión
fotoeléctrica a los conductores del soporte puede llevarse a cabo
con mayor facilidad.
Por otra parte, los rebajes están dispuestos
adyacentes unos a otros, por lo que la luz externa es reflejada por
las superficies internas de los rebajes y aplicada, a continuación,
a los elementos de conversión fotoeléctrica. En consecuencia, la
luz externa puede utilizarse de manera eficiente para la generación
de fuerza foto-electromotriz por parte de los
elementos de conversión fotoeléctrica. De acuerdo con ello, se
consigue maximizar la cantidad de potencia eléctrica generada por
unidad de área opuesta a una fuente de luz de los elementos de
conversión fotoeléctrica.
Los elementos de conversión fotoeléctrica pueden
estar hechos de un único cristal, ser policristalinos o de un
material amorfo, y pueden estar hechos de un material de silicio, un
material semiconductor compuesto o materiales similares. Los
elementos de conversión fotoeléctrica pueden tener una estructura
pn, una estructura pin, una estructura de barrera Schottky, una
estructura de MIS
(metal-aislante-semiconductor
-"metal-insulator-semiconductor"),
una estruc-
tura de unión homogénea u homo-unión, una estructura de unión heterogénea o hetero-unión, o una estructura similar.
tura de unión homogénea u homo-unión, una estructura de unión heterogénea o hetero-unión, o una estructura similar.
\global\parskip1.000000\baselineskip
La primera capa semiconductora interior está
parcialmente expuesta o al descubierto a través de la abertura de
la segunda capa semiconductora exterior, lo que hace posible extraer
la fuerza foto-electromotriz que se genera entre
las primera y segunda capas semiconductoras durante la aplicación de
la luz. Las segundas capas semiconductoras de los respectivos
elementos de conversión fotoeléctrica dispuestos en los respectivos
rebajes del soporte, están conectadas eléctricamente al primer
conductor del soporte. Las porciones expuestas de las primeras
capas semiconductoras interiores de los respectivos elementos de
conversión fotoeléctrica están conectadas eléctricamente al segundo
conductor, el cual está formado sobre el primer conductor, con el
aislante interpuesto entre medias. En una estructura en la que el
primer conductor y el segundo conductor se extienden formando un
plano, los elementos de conversión fotoeléctrica están conectados
entre sí en paralelo con los primer y segundo conductores, y pueden
producir una gran corriente.
El elemento de conversión fotoeléctrica puede,
bien consistir en una esfera completa o bien tener una superficie
externa que es aproximadamente una superficie esférica completa. La
primera capa semiconductora puede ser maciza y tener una forma
aproximadamente esférica. Alternativamente, la primera capa
semiconductora puede estar hecha sobre la superficie externa de un
núcleo que se ha preparado con antelación. Como alternativa
adicional, la primera capa semiconductora aproximadamente esférica
puede tener una parte central hueca.
En la invención, es preferible que los elementos
de conversión fotoeléctrica tengan un diámetro exterior de entre 0,5
mm y 2,0 mm.
De acuerdo con la invención, los elementos de
conversión fotoeléctrica pueden tener un diámetro exterior de entre
0,5 mm y 2,0 mm, preferiblemente de entre 0,8 mm y 1,2 m, y, más
preferiblemente, de aproximadamente 1,0 mm. Esto hace posible
reducir suficientemente la cantidad de material utilizada, tal como
silicio de alta pureza, así como maximizar la cantidad de potencia
eléctrica generada. Por otra parte, los elementos de conversión
fotoeléctrica esféricos pueden ser manejados con facilidad durante
la fabricación, y es posible aumentar la productividad.
En la invención, es preferible que la abertura
de la segunda capa semiconductora tenga un ángulo central \theta1
de entre 45º y 90º.
Ajustando el ángulo central \theta1 en entre
45º y 90º, preferiblemente en entre 60º y 90º, pueden reducirse las
cantidades de las partes de las primera y segunda capas
semiconductoras que se desechan para formar la abertura, es decir,
es posible reducir la pérdida de material. Por otra parte, si se
establece el ángulo central \theta1 dentro de tal intervalo, ello
permite que la abertura tenga un área suficiente para la conexión
eléctrica entre la primera capa semiconductora y el segundo
conductor del soporte.
En la invención, es preferible que los rebajes
del soporte tengan respectivas aberturas de un polígono (por
ejemplo, un polígono en panal de abeja), de las cuales las que son
adyacentes entre sí son continuas, de tal modo que cada uno de los
rebajes se estrecha en dirección al fondo del mismo, y la primera
capa semiconductora y la segunda capa semiconductora de cada uno de
los elementos de conversión fotoeléctrica están conectadas
eléctricamente al primer conductor y al segundo conductor,
respectivamente, en el fondo del rebaje o en las proximidades del
mismo.
En la invención, es preferible que el primer
conductor esté dotado de un primer orificio de conexión, circular,
formado en el fondo del rebaje o en las proximidades del mismo, y el
aislante esté provisto de un segundo orificio de conexión,
circular, que tiene una línea axial común con el primer orificio de
conexión, de tal manera que una porción del elemento de conversión
fotoeléctrica situada en las proximidades de la abertura de la
segunda capa semiconductora, se ajusta en el primer orificio de
conexión y una porción de superficie externa situada por encima de
la abertura de la segunda capa semiconductora, se conecta
eléctricamente a una capa de extremo del primer orificio de
conexión del primer conductor o a una porción del mismo en las
inmediaciones de la cara de extremo, y de tal modo que la porción
expuesta de la primera capa semiconductora del elemento de
conversión fotoeléctrica, se conecta eléctricamente al segundo
conductor a través del segundo orificio de conexión.
En la invención, es preferible que un diámetro
exterior D1 de los elementos de conversión fotoeléctrica, un
diámetro interior D2 de las aberturas de las segundas capas
semiconductoras, y un diámetro interior D3 de los primeros
orificios de conexión, así como un diámetro interior D4 de los
segundos orificios de conexión, satisfagan la relación
D1 > D3 > D2 > D4.
D1 > D3 > D2 > D4.
De acuerdo con la invención, una porción del
elemento de conversión fotoeléctrica situada en las proximidades de
la abertura, se ajusta en el primer orificio de conexión del primer
conductor, y la porción expuesta de la primera capa semiconductora
del elemento de conversión fotoeléctrica se conecta eléctricamente
al segundo conductor a través del segundo orificio de conexión del
aislante del soporte, de tal modo que el primer conductor y el
segundo conductor del soporte pueden ser fácilmente conectados
eléctricamente a la segunda capa semiconductora y a la primera capa
conductora, respectivamente, del elemento de conversión
fotoeléctrica.
Por lo que respecta a la conexión eléctrica
entre la segunda capa semiconductora y el primer conductor, una
porción, por encima de la abertura, de la superficie externa de la
segunda capa semiconductora está conectada eléctricamente a la cara
de extremo del primer orificio de conexión y/o a una porción del
primer conductor situada en las proximidades de la cara de extremo,
esto es, la cara circunferencial interna del primer orificio de
conexión y/o una porción del primer conductor situada en las
proximidades del primer orificio de conexión y rodeándolo (véase la
Figura 1).
Por ejemplo, cada saliente del segundo
conductor, formado por deformación elástica, puede ser insertado a
través del segundo orificio de conexión y conectado eléctricamente a
la porción de la primera capa semiconductora que queda expuesta o
al descubierto a través de la abertura. Alternativamente, la porción
de la primera capa semiconductora que queda expuesta a través de la
abertura puede ser conectada al segundo conductor con una pasta
conductora proporcionada dentro del segundo orificio de conexión, o
bien a través de un tope conductor tal como un tope de metal.
El ajuste del diámetro exterior D1 y de los
diámetros interiores D2-D4 de tal modo que
satisfagan la desigualdad anterior, permite una conexión eléctrica
fiable sin causar cortocircuitos indeseados.
En la invención, es preferible que se seleccione
una relación x de captación de luz que es igual a S1/S2, de manera
que se encuentre entre un intervalo entre 2 y 8, donde S1 es un área
de abertura de cada uno de los rebajes del soporte y S2 es un área
de una sección transversal de los elementos de conversión
fotoeléctrica, que incluye un centro de los mismos.
Un segundo aspecto de la invención proporciona
un aparato fotovoltaico de acuerdo con la reivindicación 8.
Un tercer aspecto de la invención proporciona un
aparato fotovoltaico de acuerdo con la reivindicación 9.
Por ejemplo, las aberturas de los respectivos
rebajes del soporte adopta la forma de polígonos en panal de abeja,
tal como el hexágono. Cada rebaje se estrecha en dirección a su
fondo, y existe un elemento de conversión fotoeléctrica dispuesto
en el fondo de cada rebaje. Cada elemento de conversión
fotoeléctrica está conectado eléctricamente a los conductores del
soporte situados en el fondo o a sus inmediaciones del rebaje.
Puesto que las aberturas de los rebajes respectivos adoptan la
forma de polígonos y son continuas unas con otras, puede aplicarse
a los elementos de conversión fotoeléctrica toda la luz recibida por
la totalidad de la superficie del soporte opuesto a la fuente de
luz (por ejemplo, la luz del sol), excluidas las áreas de los
elementos de conversión fotoeléctrica. Puede realizarse, por tanto,
lo que se denomina un elemento de conversión fotoeléctrica del tipo
de captación de luz, en el que la relación de captación de luz x =
S1/S2 se establece, por ejemplo, en entre 2 y 8 (preferiblemente,
entre 4 y 6). Esto hace posible aumentar los intervalos o
intersticios entre los elementos de conversión fotoeléctrica,
reducir el número de elementos de conversión fotoeléctrica y
simplificar la etapa de conectar eléctricamente los elementos de
conversión fotoeléctrica al soporte. En consecuencia, la cantidad
de semiconductor de alta pureza que se utiliza como material de los
elementos de conversión fotoeléctrica, puede reducirse y la
invención puede ponerse en práctica de manera poco costosa. Al tener
una estructura relativamente simple, el soporte es superior en
productividad y puede fabricarse fácilmente.
Un experimento llevado a cabo por la presente
invención muestra que, cuando un aparato fotovoltaico de acuerdo
con la invención, en el que los elementos de conversión
fotoeléctrica de silicio aproximadamente esféricos tienen un
diámetro exterior de entre 800 \mum y 1.000 \mum, y la relación
x de captación de luz se ha ajustado en entre 4 y 6, se convierte
en una placa plana imaginaria que utiliza el mismo peso de silicio
que el del silicio que constituye la totalidad de los elementos de
conversión fotoeléctrica del aparato fotovoltaico, y que tiene la
misma área que el área de una proyección del aparato fotovoltaico
sobre un plano perpendicular a la luz que llega desde una fuente de
luz, la placa plana imaginaria tiene un espesor de entre
aproximadamente 90 \mum y 120 \mum. Esto significa que la
cantidad de silicio que se emplea para generar una potencia
eléctrica de 1 W es tan pequeña como 2 g, lo que es una conclusión
que marca un antes y un después. En la primera práctica de la
técnica anterior previamente descrita, que utiliza elementos de
conversión fotoeléctrica formados en una única oblea semiconductora
de silicio de un solo cristal, el cristal único de silicio es tan
grueso como entre 350 \mum y 500 \mum, y el espesor asciende
hasta aproximadamente 1 mm cuando se incluye la pérdida por
rebanado. En consecuencia, en la primera práctica de la técnica
anterior, la cantidad de silicio que se utiliza para generar una
potencia eléctrica de 1 W es entre aproximadamente 15 g y 20 g. Se
comprende que la invención puede hacer que la cantidad de silicio
utilizada sea mucho más pequeña que en la primera práctica de la
técnica anterior.
Cuando la relación x de captación de luz se
ajusta de manera que sea mayor que 8, el número de elementos de
conversión fotoeléctrica necesarios puede ser reducido y la cantidad
de silicio utilizada para generar una potencia eléctrica de 1 W
puede reducirse adicionalmente. Sin embargo, en la práctica, a
medida que se incrementa la relación x de captación de luz, la
eficiencia de la captación de luz, que es la relación entre la
energía óptica absorbida por los elementos de conversión
fotoeléctrica y la que incide en los rebajes, se hace más pequeña y
el rendimiento del aparato fotovoltaico se reduce en
correspondencia.
Al ajustar, según se ha descrito anteriormente,
el diámetro exterior de cada elemento de conversión fotoeléctrica
en entre 0,5 mm y 2,0 mm (preferiblemente, entre 0,8 mm y 1,2 mm), y
al ajustar la relación x de captación de luz en entre 2 y 8
(preferiblemente, entre 4 y 6), el número de elementos de conversión
fotoeléctrica puede ser reducido, la cantidad de silicio utilizada
para generar una potencia eléctrica de 1 W puede ser reducida, y la
etapa de conectar eléctricamente los elementos de conexión
fotoeléctrica al soporte puede ser simplificada adicionalmente.
Así, pues, la combinación de los valores del diámetro exterior de
cada elemento de conversión fotoeléctrica y la relación x de
captación de luz, es importante a la hora de reducir el número de
elementos de conversión fotoeléctrica y de reducir la cantidad de
silicio que se utiliza para generar una potencia eléctrica de 1
W.
Cuando el diámetro exterior de cada elemento de
conversión fotoeléctrica es menor que 0,5 mm, el número de
elementos de conversión fotoeléctrica que se necesitan se hace
demasiado grande, aunque la cantidad de silicio utilizada
disminuye. Cuando el diámetro exterior de cada elemento de
conversión fotoeléctrica es mayor que 2 mm, la cantidad de silicio
utilizada se hace excesivamente grande, aunque el número de
elementos de conversión fotoeléctrica que se necesitan
disminuye.
Cuando la relación de captación de luz es menos
que 2, la cantidad de silicio utilizada no puede ser suficientemente
reducida. Cuando la relación de captación de luz es mayor que 8, la
eficiencia en la captación de luz se hace más pequeña que, por
ejemplo, el 80%, y el comportamiento disminuye en correspondencia.
Si se ajusta la relación x de captación de luz en el intervalo
adecuado, la invención permite la posibilidad de hacer que la
eficiencia de la captación de luz sea mayor que el 80%, e incluso
que el 90%.
De acuerdo con la invención, al ajustar los
valores del diámetro exterior de cada elemento de conversión
fotoeléctrica y de la relación x de captación de luz en los
intervalos anteriormente mencionados, se consigue una ventaja
considerable por cuanto que tanto el número de elementos de
conversión fotoeléctrica necesarios como la cantidad de silicio que
se ha de emplear para generar una potencia eléctrica de 1 W, puede
reducirse en gran medida, hasta entre 1/5 y 1/10 de los de la
tercera práctica de la técnica anterior.
En un aparato fotovoltaico en el que se utilizan
elementos de conversión fotoeléctrica de silicio amorfo y la luz de
capta con una relación de captación de luz dentro del intervalo
anteriormente mencionado, la temperatura de los elementos de
conversión fotoeléctrica puede aumentarse hasta entre 40ºC y 80ºC,
que es más alta que en el caso de utilizar un elemento de
conversión fotoeléctrica de placa delgada de silicio amorfo. Esto
hace posible suprimir el deterioro del elemento de conversión
fotoeléctrica de silicio amorfo y prologar, con ello, la vida útil
del aparato fotovoltaico.
En la invención, es preferible que los elementos
de conversión fotoeléctrica tengan una unión pn de una manera tal,
que la segunda capa semiconductora, de uno de los tipos de
conductividad, que tiene un salto entre bandas óptico más ancho que
el que presenta la primera capa semiconductora, que tiene el otro
tipo de conductividad, se forme fuera de la primera capa
semiconductora {véase la Figura 14}.
En la invención, es preferible que los elementos
de conversión fotoeléctrica tengan una unión pin de una manera tal,
que la primera capa semiconductora, que tiene uno de los tipos de
conductividad, una capa semiconductora intrínseca amorfa, y una
segunda capa semiconductora amorfa que tiene el otro tipo de
conductividad, que presenta un salto entre bandas óptico más ancho
que el que tiene la primera capa semiconductora, no están dispuestas
fuera de este orden (véanse las Figuras 15 y 16).
En la invención, es preferible que la primera
capa semiconductora y la segunda capa semiconductora estén hechas,
respectivamente, de silicio de tipo n y de SiC [carburo de silicio]
amorfo de tipo p.
En la invención, se prefiere que el silicio de
tipo n del que está hecha la primera capa semiconductora sea silicio
de tipo n de un único cristal o mono-cristalino, o
silicio de tipo n micro-cristalino (\muc).
En la invención, es preferible que la primera
capa semiconductora sea una capa semiconductora de salto
directo.
En la invención, se prefiere que la capa
semiconductora de salto directo esté hecha de un semiconductor
seleccionado de entre el grupo consistente en InAs, GaSb,
CuInSe_{2}, Cu(InGa)Se_{2}, CuInS, GaAs, InGaP y
CdTe.
De acuerdo con la invención, emplear como
primera capa semiconductora interior un semiconductor de salto
directo que absorbe fácilmente la luz, permite la posibilidad de
obtener probabilidades de transición de electrones y huecos
suficientemente elevadas, lo que también contribuye al incremento de
la eficiencia de la conversión fotoeléctrica.
En la invención, se prefiere que una pluralidad
de los soportes, cada uno de los cuales tiene porciones periféricas
que se extienden hacia fuera, estén dispuestos adyacentes unos con
otros, y que parte del primer conductor situada en la porción
periférica de uno de los soportes de cada par de soportes adyacentes
entre sí, y parte del segundo conductor situada en la porción
periférica del otro, se dispongan extendiéndose una sobre otra y
conectadas eléctricamente entre sí.
En la invención, es preferible que la porción
periférica tenga salientes hacia arriba o salientes hacia abajo, y
que el saliente hacia arriba o el saliente hacia abajo de uno de los
soportes de cada par de soportes adyacentes entre sí, y el saliente
hacia arriba o el saliente hacia abajo del otro se pongan en
contacto uno con otro y se conecten eléctricamente entre sí.
De acuerdo con la invención, en el caso de que
parte del primer conductor situada en una porción periférica de uno
de los soportes de cada par de soportes adyacentes entre sí, de
entre una pluralidad de soportes montados con elementos de
conversión fotoeléctrica, y parte del segundo conductor situada en
una porción periférica del otro, se dispongan extendiéndose una
sobre otra y conectadas eléctricamente entre sí, de tal modo que
las fuerzas electromotrices generadas por los elementos de
conversión fotoeléctrica de los respectivos soportes están
conectadas entre sí en serie. Esto hace posible suministrar como
salida una tensión alta conforme a lo deseado.
De acuerdo con la invención, en el caso de que
una saliente hacia arriba y un saliente hacia abajo, salientes
hacia arriba o salientes hacia abajo de las porciones periféricas de
cada par de soportes adyacentes entre sí, estén conectados
eléctricamente unos con otros (véanse las Figuras 12 y 13), los
rebajes de cada soporte pueden hacerse más cercanos entre sí y es
posible disponer tantos rebajes y elementos de conversión
fotoeléctrica como sea posible en un área limitada.
La invención hace posible reducir en gran medida
la cantidad utilizada de material de elemento de conversión
fotoeléctrica (en particular, el costoso silicio) y simplificar la
etapa de conexión de los elementos de conexión fotoeléctrica al
soporte, al reducir el número de elementos de conversión
fotoeléctrica, a fin de aumentar con ello la productividad y
reducir el coste. En particular, el uso de los elementos de
conversión fotoeléctrica de acuerdo con la invención permite la
posibilidad de poner en práctica un método de fabricación capaz de
ahorrar recursos y energía. La luz solar o luz similar es reflejada
por la superficie del primer conductor o por un revestimiento
formado sobre ésta, que constituye la superficie interna de cada
rebaje del soporte, y la luz de reflexión resultante brilla sobre
el elemento de conversión fotoeléctrica. De esta manera, la luz
incidente puede ser utilizada de manera eficaz. El primer conductor
o un revestimiento formado sobre él, sirve no sólo para reflejar la
luz incidente, sino también para guiar corrientes (el primer
conductor está conectado a las segundas capas semiconductoras de
los respectivos elementos de conversión fotoeléctrica). A la vez
que tiene una estructura más simple, el soporte es superior en
productividad.
En particular, al ajustar el diámetro exterior
de cada elemento de conversión fotoeléctrica en entre 0,5 mm y 2,0
mm (preferiblemente, entre 0,8 mm y 1,2 mm), y la relación x de
captación de luz en entre 2 y 8 (preferiblemente, entre 4 y 6), la
invención proporciona la considerable ventaja de que tanto la
cantidad de silicio que se ha de emplear para generar una potencia
eléctrica de 1 W, como el número de elementos de conversión
fotoeléctrica necesarios, puede reducirse en gran medida, hasta
entre 1/5 y 1/10 de los de la tercera práctica de la técnica
anterior. El hecho de reducir la cantidad de silicio utilizada hace
posible realizar un aparato fotovoltaico con un coste bajo. La
reducción del número de elementos de conversión fotoeléctrica y la
simplificación, con ello, de la etapa de conectar eléctricamente
los elementos de conversión fotoeléctrica al soporte, aumentan la
productividad, lo que también contribuye a la realización de un
aparato fotovoltaico de bajo coste.
En consecuencia, la invención hace posible
proporcionar un aparato fotovoltaico altamente fiable y altamente
eficiente.
Una unión pn o pin se forma ajustando el salto
entre bandas óptico de la segunda capa semiconductora externa,
amorfa, de manera que sea más ancho que el de la primera capa
semiconductora del lado central. Con esta disposición, la luz no es
absorbida en gran cantidad por la segunda capa semiconductora por el
lado de incidencia de la luz, hecha de un material de ventana, por
lo que la velocidad de recombinación de la capa superficial se ve
reducida y se alcanza una acción de ventana de salto amplio. La
eficiencia de la conversión energética puede ser aumentada como
resultado de estos efectos.
La inserción de una capa semiconductora
micro-cristalina (\muc) que tiene una elevada
conductividad, entre la primera capa semiconductora del lado central
y la capa de unión pin externa, hace posible aumentar la eficiencia
de la conversión energética.
La invención hace también posible aumentar la
eficiencia de la conversión energética mediante el uso de una
primera capa semiconductora de salto directo.
Por otra parte, la invención facilita la
fabricación de elementos de conversión fotoeléctrica.
La invención permite la posibilidad de producir
a gran escala partículas semiconductoras esféricas que tienen
diámetros de partícula uniformes, mediante la sencilla operación de
dejar caer desde la boquilla un semiconductor que ha sido fundido
en el crisol y hacer vibrar el semiconductor fundido. Las partículas
así producidas pueden ser convertidas fácilmente en partículas de
un único cristal o policristalinas, en una fase de vapor. Y cada
partícula semiconductora cristalina puede conformarse fácilmente con
una capa superficial mediante la adulteración o dopaje con
impurezas.
Otros objetos, características y ventajas
adicionales de la invención se pondrán de manifiesto de forma más
explícita por la siguiente descripción detallada, tomada con
referencia a los dibujos, en los cuales:
la Figura 1 es una vista en corte y aumentada de
parte de un aparato fotovoltaico 1 de acuerdo con una realización de
la presente invención;
la Figura 2 es una vista en corte que muestra la
estructura del aparato fotovoltaico 1;
la Figura 3 es una vista en perspectiva y en
despiece del aparato fotovoltaico 1 de la Figura 2;
la Figura 4 es una vista en planta de parte de
un soporte 3;
la Figura 5 es una vista en corte de un elemento
de conversión fotoeléctrica 31 que es una versión de cada elemento
de conversión fotoeléctrica 2, antes de ser montado en el soporte
3;
la Figura 6 es una vista en corte que muestra un
método para producir un conjunto 4 de los elementos de conversión
fotoeléctrica 2 y el soporte 3;
la Figura 7 es una vista en corte que muestra un
procedimiento para formar una abertura 32 mediante el corte de cada
elemento de conversión fotoeléctrica esférico 31;
la Figura 8 es una vista en perspectiva y
simplificada que muestra un procedimiento para colocar los elementos
de conversión fotoeléctrica 2 dentro de respectivos rebajes 17 del
soporte 3;
la Figura 9 es una vista en perspectiva que
muestra el modo como los conjuntos 4 y 4b de los elementos de
conversión fotoeléctrica 2 y el soporte 3 están unidos entre sí;
la Figura 10 es una vista en corte y en despiece
de unas porciones periféricas 61 y 61b y de sus inmediaciones,
pertenecientes a los conjuntos 4 y 4b que se muestran en la Figura
9;
la Figura 11 es una vista lateral simplificada
que muestra el modo como los conjuntos 4, 4b y 4c están conectados
eléctricamente entre sí;
la Figura 12 es una vista en corte que muestra
una estructura de conexión eléctrica de los conjuntos 4 y 4b que son
adyacentes entre sí, de acuerdo con otra realización de la
invención;
la Figura 13 es una vista en corte que muestra
una estructura de conexión eléctrica de los conjuntos 4 y 4b que son
adyacentes entre sí, de acuerdo con aún otra realización de la
invención;
la Figura 14 es una vista en corte de parte de
un elemento de conexión fotoeléctrica 2 de acuerdo con otra
realización de la invención;
la Figura 15 es una vista en corte de parte de
un elemento de conversión fotoeléctrica 2 de acuerdo con aún otra
realización de la invención; y
la Figura 16 es una vista en corte de parte de
un elemento de conversión fotoeléctrica 2 de acuerdo con aún otra
realización de la invención.
Haciendo referencia, a continuación, a los
dibujos, se describen en lo que sigue realizaciones preferidas de la
invención.
La Figura 1 es una vista en corte y ampliada de
parte de un aparato fotovoltaico 1 de acuerdo con una realización
de la presente invención. La Figura 2 es una vista en corte que
muestra la estructura del aparato fotovoltaico 1, y la Figura 3 es
una vista en perspectiva y en despiece del aparato fotovoltaico 1 de
la Figura 2. El aparato fotovoltaico 1 tiene la siguiente
estructura básica. Un conjunto 4 de una pluralidad de elementos de
conversión fotoeléctrica generalmente esféricos 2 y un soporte 3
que está montado con los elementos de conversión fotoeléctrica,
está incluido o embutido dentro de una capa de relleno 5 hecha de un
material de resina sintética transparente, tal como PVB
(poli(vinil butiral)) o EVA (acetato de vinil etileno). Una
lámina protectora transparente 6, hecha de policarbonato o de un
material similar, se ha proporcionado sobre el lado de la fuente de
luz (por ejemplo, la luz del sol) de la capa de relleno 5, y se ha
fijado a ésta. Una lámina trasera 12 estanca al agua se ha fijado a
la superficie de la capa de relleno 5, sobre el lado o cara opuesta
a la de la capa protectora 6 (cara inferior o de fondo en la Figura
2). Así, pues, el aparato fotovoltaico 1 adopta, en su conjunto, una
forma de placa plana.
Cada elemento de conversión fotoeléctrica 2
tiene una primera capa semiconductora 7 y una segunda capa
semiconductora 8, situada por el exterior de la primera capa
semiconductora 7. Existe una abertura 9 formada en la segunda capa
semiconductora 8. Una porción 10 (una porción de fondo en la Figura
1) de la primera capa semiconductora 7 queda expuesta o al
descubierto a través de la abertura 9. Cuando se aplica luz 11 desde
arriba en la Figura 1, se genera una fuerza
foto-electromotriz entre la primera capa
semiconductora 7 y la segunda capa semiconductora 8 del elemento de
conversión fotoeléctrica 2.
El soporte 3 está configurado de tal manera que
un aislante 15 queda intercalado o emparedado entre un primer
conductor 13 y un segundo conductor 14. Es decir, el primer
conductor 13 y el segundo conductor 14 se encuentran aislados
eléctricamente uno de otro por el aislante 15. Cada uno del primer
conductor 13 y el segundo conductor 14 puede consistir en una
lámina de hoja de aluminio o en una lámina de otro metal. El
aislante 15 puede estar hecho de un material de resina sintética
tal como la poliimida o algún otro material aislante. Se ha
dispuesto una pluralidad de rebajes 17 adyacentes entre sí. Las
superficies internas de los rebajes 17 constituyen la superficie
del primer conductor 13. Los elementos de conversión fotoeléctrica 2
se han proporcionado en los fondos de los respectivos rebajes
17.
La Figura 4 es una vista en planta de parte del
soporte 3. En la invención, las aberturas 18 de los rebajes 17
adoptan formas de polígono. En esta realización, adoptan una forma
de panal de abejas, es decir, hexágonos regulares. De acuerdo con
otra realización de la invención, la abertura 18 de ada rebaje 17
adopta la forma de otro tipo de polígono que tiene tres o más
vértices. La longitud W1 (véase la Figura 4) de cada abertura 18
es, por ejemplo, 2 mm. Las aberturas 18 que son adyacentes entre sí
son continuas; es decir, los rebajes 17 están unidos unos con otros
por unas porciones dobladas 19 con forma de U invertida (véase la
Figura 1). Esta estructura hace posible dar cabida a tantos rebajes
17 como sea posible en el área que es opuesta a la luz 11, asó como
causar que las superficies internas de los rebajes 17 (es decir, la
superficie del primer conductor 13) reflejen la luz incidente y
guíen la luz de reflexión resultante hacia los respectivos elementos
de conversión fotoeléctrica 2. En consecuencia, esta estructura
proporciona una gran relación de captación de luz.
Cada rebaje 17 se estrecha hacia el fondo y
adopta, por ejemplo, una sección transversal parabólica. En el
fondo de cada rebaje 17, la primera capa semiconductora 7 del
elemento de conversión fotoeléctrica 2 está conectada
eléctricamente al segundo conductor 14 del soporte 3 a través de una
porción de conexión 21. En el fondo o en las inmediaciones de éste
de cada rebaje 17, la segunda capa semiconductora 8 del elemento de
conversión fotoeléctrica 2 está conectada eléctricamente al primer
conductor 13 del soporte 3.
La Figura 5 es una vista en corte de un elemento
de conversión fotoeléctrica 31 que es una versión de cada elemento
de conversión fotoeléctrica 2, antes de ser montado en el soporte 3.
La estructura en corte del elemento de conversión fotoeléctrica 31
de la Figura 5 es similar a la de cada elemento de conversión
fotoeléctrica 2 mostrado en la Figura 1. Una primera capa
semiconductora 7 está hecha de silicio de tipo n, que puede ser
silicio amorfo, de un único cristal o policristalino. Una segunda
capa semiconductora 8, situada por el exterior de la primera capa
semiconductora 7, está hecha de silicio de tipo p, que puede ser
también silicio amorfo, de un único cristal o policristalino.
Cuando el salto entre bandas óptico de la segunda capa
semiconductora 8 se ajusta de modo que es más ancho que el de la
primera capa semiconductora 7 (por ejemplo, la segunda capa
semiconductora 8 está hecha de a-SiC de tipo p),
puede conseguirse una acción de ventana de salto ancho.
De acuerdo con otra realización de la invención,
la primera capa semiconductora 7 mostrada en la Figura 5, está
hecha de un semiconductor de salto directo que es un semiconductor
seleccionado de entre el grupo consistente en InAs, CuInSe_{2},
Cu(InGa)Se_{2}, CuInS, GaAs, InGaP y CdTe, que
exhibe conductividad de tipo n. La segunda capa semiconductora 8
está formada sobre la primera capa semiconductora 7, hecha de dicho
semiconductor de salto directo. La segunda capa semiconductora 8
está hecha de un semiconductor seleccionado de entre el grupo
consistente en AlGaAs, CuInSe_{2}, Cu(InGa)Se_{2},
GaAs, AlGaP y CdTe, que exhibe una conductividad de tipo p, y de
compuestos semiconductores similares a éstos. Se forma de esta
manera una estructura de unión pn.
Cuando se utilizan semiconductores amorfos como
primera capa semiconductora 7 y segunda capa semiconductora 8,
puede formarse una estructura de unión pin formando una capa
semiconductora de tipo i 69 entre una primera capa semiconductora
68 y la segunda capa semiconductora 70 (que se describe más
adelante; véase la Figura 15).
A continuación, se describirá un método para
producir el conjunto 4 de los elementos de conversión fotoeléctrica
31 (véase la Figura 5) y el soporte 3 (véase la Figura 1).
La Figura 6 es una vista en corte que muestra un
método para producir el conjunto 4 de los elementos de conversión
fotoeléctrica 2 y el soporte 3. Después de producir los elementos de
conversión fotoeléctrica esféricos 31 que se muestran en la Figura
5, los elementos de conversión fotoeléctricos 2 se cortan según se
muestra en la Figura 6. En cada uno de los elementos de conversión
fotoeléctrica 2 resultantes, tal como se muestra en la Figura 6,
una porción 10 de la primera capa semiconductora 7 queda expuesta o
al descubierto a través de una abertura 9 de la segunda capa
semiconductora 8. La abertura 9 tiene una forma conforme a la que se
obtendría cortando los elementos de conversión fotoeléctrica 31 por
un plano, y tiene un ángulo central \theta1 que es menor que
180º. El ángulo central \theta1 puede estar comprendido, por
ejemplo, en el intervalo entre 45º y 90º. Es preferible que el
ángulo central \theta1 se encuentre en un intervalo de 60º a 90º.
El diámetro exterior D1 de cada elemento de conversión
fotoeléctrica 31 puede estar dentro de un intervalo entre 0,5 mm y
2,0 mm, por ejemplo. Es preferible que el diámetro exterior D1 se
encuentre en un intervalo entre 0,8 mm y 1,2 mm. En la Figura 6, el
símbolo D2 representa el diámetro interior de la abertura 9. La
relación de captación de luz x = S1/S2 se encuentra dentro de un
intervalo entre 2 y 8, donde S1 es el área de abertura de cada
rebaje 17 del soporte 3, y S2 es el área de una sección transversal,
que incluye su centro, de cada elemento de conversión fotoeléctrica
2. Es preferible que la relación x de captación de luz se encuentre
en el intervalo entre 4 y 6.
La Figura 7 es una vista en corte que muestra un
procedimiento para formar la abertura 9 cortando cada elemento de
conversión fotoeléctrica esférico 31. Aunque la porción superior de
cada uno de los elementos de conversión fotoeléctrica esféricos 31
es atraída por vacío por una cubeta o ventosa de atracción 34, los
elementos de conversión fotoeléctrica esféricos 31 son amolados por
un elemento abrasivo 35 en forma de cinta sin fin. El elemento
abrasivo 35 está enrollado en unos rodillos 36 y 37 y es accionado
por ellos a rotación.
Volviendo a la Figura 6, el soporte 3 se produce
de la siguiente manera. Se prepara un primer conductor 13, hecho de
hoja de aluminio, y se forman en él unos orificios de conexión 39.
El diámetro interior D3 de cada orificio de conexión 39 se
establece de manera que sea más pequeño que el diámetro exterior D1
de cada elemento de conversión fotoeléctrica 2 y mayor que el
diámetro interior D2 de la abertura 9 de la segunda capa
semiconductora 8
(D1 > D3 > D2). Se prepara un aislante 15 con forma de placa delgada, y se forman en él unos orificios de conexión 40. El diámetro interior D4 de cada orificio de conexión 40 se establece de manera que sea más pequeño que el diámetro interior D2 de la abertura 9 de cada elemento de conversión fotoeléctrica 2 (D2 > D4). El primer conductor 13 que tiene los orificios de conexión 39 se dispone extendiéndose sobre el aislante 15 que tiene los orificios de conexión 40, y se une a él, por lo que el primer conductor 13 y el aislante 15 quedan integrados uno con otro. Cada par de orificios de conexión 39 y 40 comparte una línea axial común. La estructura resultante se dispone extendiéndose sobre un segundo semiconductor 14 y se une a él, por lo que quedan integrados entre sí para producir un soporte plano 3a. De acuerdo con otra realización de la invención, el primer conductor 13 que tiene los orificios de conexión 39, el aislante 15 que tiene los orificios de conexión 40, y el segundo conductor 14 se disponen extendiéndose unos sobre otros y se unen entre sí de una vez, por lo que quedan integrados unos con otros. Cada uno del primer conductor 13, el segundo conductor 14 y el aislante 15 pueden tener un espesor de, por ejemplo, 60 \mum. La porción en torno a la abertura 9 de cada elemento de conversión fotoeléctrica 2 se ajusta dentro del orificio de conexión 39 y es opuesta al orificio de conexión 40 del aislante 15. Alternativamente, la porción en torno a la abertura 9 puede ser colocada sobre el primer conductor 13 de tal manera que quede opuesta al orificio de conexión 39.
(D1 > D3 > D2). Se prepara un aislante 15 con forma de placa delgada, y se forman en él unos orificios de conexión 40. El diámetro interior D4 de cada orificio de conexión 40 se establece de manera que sea más pequeño que el diámetro interior D2 de la abertura 9 de cada elemento de conversión fotoeléctrica 2 (D2 > D4). El primer conductor 13 que tiene los orificios de conexión 39 se dispone extendiéndose sobre el aislante 15 que tiene los orificios de conexión 40, y se une a él, por lo que el primer conductor 13 y el aislante 15 quedan integrados uno con otro. Cada par de orificios de conexión 39 y 40 comparte una línea axial común. La estructura resultante se dispone extendiéndose sobre un segundo semiconductor 14 y se une a él, por lo que quedan integrados entre sí para producir un soporte plano 3a. De acuerdo con otra realización de la invención, el primer conductor 13 que tiene los orificios de conexión 39, el aislante 15 que tiene los orificios de conexión 40, y el segundo conductor 14 se disponen extendiéndose unos sobre otros y se unen entre sí de una vez, por lo que quedan integrados unos con otros. Cada uno del primer conductor 13, el segundo conductor 14 y el aislante 15 pueden tener un espesor de, por ejemplo, 60 \mum. La porción en torno a la abertura 9 de cada elemento de conversión fotoeléctrica 2 se ajusta dentro del orificio de conexión 39 y es opuesta al orificio de conexión 40 del aislante 15. Alternativamente, la porción en torno a la abertura 9 puede ser colocada sobre el primer conductor 13 de tal manera que quede opuesta al orificio de conexión 39.
Se hace también referencia a la Figura 1. La
porción de la superficie externa de la segunda capa semiconductora
8 de cada elemento de conversión fotoeléctrica 2 que está situada
por encima de la abertura 9 en la Figura 1 y rodea la abertura 9,
está conectada eléctricamente a la porción del primer conductor 13
del soporte 3a (ó 3) que se encuentra en las proximidades del
orificio de conexión 39, es decir, la cara circunferencial interna
del orificio de conexión 39 ó la porción del primer conductor 13 que
se encuentra en las proximidades del orificio de conexión 39 y lo
rodea. Una porción de conexión 44 (véase la Figura 1), en la que la
superficie externa de la segunda capa semiconductora 8 se conecta o
une al primer conductor 13, está situada en el lado opuesto (por
encima en la Figura 1), con respecto al segundo conductor 14, de una
periferia 45 de la superficie de fondo del elemento de conversión
fotoeléctrica 2 que contiene la abertura 9, por lo que se impide
forma fiable que el primer conductor 13 se conecte eléctricamente a
la primera capa semiconductora 7. La porción de conexión 44 es
paralela a la superficie de fondo del elemento de conversión
fotoeléctrica 2 que contiene la abertura 9 y está más cerca de la
abertura 9 (esto es, más abajo en la Figura 1) que un plano
imaginario 47 que pasa por el centro 46 del elemento de conversión
fotoeléctrica 2.
A continuación, el soporte plano 3a se somete a
una deformación plástica, por lo que una pluralidad de rebajes 17
quedan dispuestos adyacentes entre sí. El segundo conductor 14 se
deforma de tal manera que sobresale hacia arriba (en la Figura 6) a
través del orificio de conexión 40 del aislante 15, es decir,
penetra a través del orificio de conexión 40 y sobresale de éste,
para convertirse en las porciones de conexión 21. Un soporte
resultante 3 puede tener una altura H1 de aproximadamente 1 mm, por
ejemplo.
La etapa de conectar eléctricamente las primeras
capas semiconductoras 7 al segundo conductor 14 y la etapa de
conectar eléctricamente las segundas capas semiconductoras 8 al
primer conductor 13 pueden llevarse a cabo, bien secuencialmente
(cualquiera de las dos etapas puede llevarse a cabo primero) o
simultáneamente.
Los elementos de conversión fotoeléctrica 2,
cada uno de los cuales tiene la abertura 9, se acomodan en los
respectivos rebajes 17 así formados.
De acuerdo con otra realización de la invención,
el soporte 3 se produce de la siguiente manera. Después de haber
deformado plásticamente la estructura de 3 capas del primer
conductor 13, el aislante 15 y el segundo conductor con el fin de
formar los rebajes 17, se forman los orificios de conexión 39 y 40,
respectivamente, en el primer conductor 13 y en el aislante 15, con
el uso de dos tipos de luz de láser.
La Figura 8 es una vista en perspectiva y
simplificada que muestra un procedimiento para colocar los elementos
de conversión fotoeléctrica 2 en los respectivos rebajes 17 del
soporte 3. Un juego de elementos de conversión fotoeléctrica 2
producidos por el corte de los elementos de conversión fotoeléctrica
31 en un estado en que son atraídos por vacío por las cubetas o
ventosas de atracción 34, es transportado manteniendo las aberturas
9 bocabajo y colocado en los respectivos rebajes 17 del soporte 3.
Por ejemplo, se disponen en línea 100 cubetas de atracción 34. Una
vez que el juego de elementos de conversión fotoeléctrica 2 se ha
colocado en los respectivos rebajes 17 por medio de las cubetas de
atracción 34, el soporte 3 es desplazado en una dirección 42 una
distancia que es igual a un paso de los rebajes 17, y se coloca en
nuevos rebajes 17 otro juego de elementos de conversión
fotoeléctrica 2 mediante el uso de las cubetas de atracción 34, de
la misma manera que se ha descrito en lo anterior. Se colocan
elementos de conversión fotoeléctrica 2 en todos los rebajes 17
repitiendo la operación anterior. A continuación, la operación de
conectar eléctricamente cada elemento de conversión fotoeléctrica 2
al soporte 3 se lleva a cabo en el fondo de cada rebaje 17.
La primera capa semiconductora 7 de cada
elemento de conversión fotoeléctrica 2 queda expuesta a través de
la abertura 9 y se conecta eléctricamente a la porción de conexión
21 a través del orificio de conexión 40 del segundo conductor 14.
La porción, situada por encima de la abertura 9, de la superficie
externa de la segunda capa semiconductora 8 de cada elemento de
conversión fotoeléctrica 2, se conecta eléctricamente a la porción
del primer conductor 13 que se encuentra en las proximidades del
orificio de conexión 39. La primera capa semiconductora 7 y la
segunda capa semiconductora 8 de cada elemento de conversión
fotoeléctrica 2 pueden ser conectadas eléctricamente al segundo
conductor 14 y al primer conductor 13, respectivamente, mediante el
uso de luz de láser (formación de un eutéctico), pasta conductora,
un tope ornamental. De esta manera, la conexión eléctrica se
realiza sin utilizar un material de soldadura intermedio con
contenido de plomo, lo que es preferible en términos de la
protección del medioambiente.
La Figura 9 es una vista en perspectiva que
muestra el modo como los conjuntos 4 y 4b de los elementos de
conversión fotoeléctrica 2 y el soporte 3 se conectan entre sí. Los
conjuntos 4 y 4b se conectan eléctricamente uno con otro por sus
porciones periféricas planas 61 y 61b, que se extienden hacia
fuera.
La Figura 10 es una vista en corte y en despiece
de las porciones periféricas 61 y 61b y sus inmediaciones, de los
conjuntos 4 y 4b que se muestran en la Figura 9. El segundo
conductor 14 del soporte 3b del conjunto 4b se dispone
extendiéndose sobre, eléctricamente conectado a, y fijado a, el
primer conductor 13 del soporte 3 del otro conjunto 4. De esta
manera, las fuerzas foto-electromotrices generadas
por los elementos de conversión fotoeléctrica 2 de los conjuntos 4,
4b,... se conectan entre sí en serie, por lo que puede obtenerse
como salida un potencial elevado según se desee.
La Figura 11 es una vista lateral simplificada
que muestra el modo como los conjuntos 4, 4b y 4c se conectan
eléctricamente entre sí. La porción periférica 61b del conjunto 4b
se dispone extendiéndose sobre la porción periférica 61 del
conjunto 4 y eléctricamente conectada a ella, de la manera
anteriormente descrita. Por otra parte, la porción periférica 61c
del conjunto 4c se dispone extendiéndose sobre la porción periférica
61b1 (situada en el lado opuesto a la porción periférica 61b) del
conjunto 4b, y conectada eléctricamente a ella. En la estructura de
la Figura 11, una de las porciones periféricas, la 61b, del conjunto
4b está situada por encima de la porción periférica 61 del conjunto
4, y la otra porción periférica 61b1 del conjunto 4b se encuentra
situada por debajo de la porción periférica 61c del conjunto 4c. De
esta manera, los conjuntos se conectan o unen entre sí de un modo
tal, que las dos porciones periféricas de cada conjunto están
situadas por encima y por debajo, respectivamente, de los dos
conjuntos adyacentes, a fin de formar, con ello, una estructuras en
dos escalones. La longitud L61 de solapamiento, en el sentido de
derecha a izquierda en la Figura 11, entre las porciones periféricas
61 y 61b y entre las porciones periféricas 61b1 y 61c, puede
ajustarse, por ejemplo, en 1 mm.
La Figura 12 es una vista en corte que muestra
una estructura de conexión eléctrica de los conjuntos 4 y 4b que
son adyacentes entre sí, de acuerdo con otra realización de la
invención. La porción periférica 61 de uno de los conjuntos, el 4,
sobresale hacia arriba, y la porción periférica 61b del otro
conjunto, el 4b, sobresale hacia abajo. El segundo conductor 14 de
la porción periférica 61 está conectado eléctricamente al primer
conductor 13 de la porción periférica 61b.
La Figura 13 es una vista en corte que muestra
una estructura de conexión eléctrica de los conjuntos 4 y 4b que
son adyacentes entre sí, de acuerdo con aún otra realización de la
invención. Esta realización es similar a la realización de la
Figura 12 y se diferencia de ésta última en que el primer conductor
13 de la porción periférica 61 (que sobresale hacia arriba) del
conjunto 4, está conectada eléctricamente al segundo conductor 14
de la porción periférica 61b (que sobresale hacia abajo) del
conjunto 4b. Las estructuras de conexión de las Figuras 12 y 13
hacen posible realizar los rebajes 17 de los soportes 3 y 3b más
cerca uno de otro y disponer, con ello, tantos rebajes 17 y
elementos de conversión fotoeléctrica 2 como sea posible en un área
limitada.
La Figura 14 es una vista en corte de parte de
un elemento de conversión fotoeléctrica 2 de acuerdo con otra
realización de la invención. Si bien en las Figuras
14-16, cada capa semiconductora se ha dibujado de
tal modo que tiene una forma plana (desarrollada en la dirección
circunferencial), en realidad, las capas semiconductoras se han
dispuesto extendiéndose unas sobre otras hacia fuera (hacia arriba
en las Figuras 14-16) según la dirección radial, de
tal modo que presentan superficies esféricas.
En el elemento de conversión fotoeléctrica 2 de
la Figura 14, se han dispuesto, extendiéndose unas sobre otras
hacia fuera según la dirección radial, una capa de silicio
micro-cristalino (\muc) de tipo n 63, una capa de
poli-silicio de tipo n 64, una capa de
a-SiC de tipo p 65, y una capa de SiC
micro-cristalino de tipo p 66 (las capas
64-66 forman una capa de
hetero-unión doble). Las estructuras de los
elementos de conversión fotoeléctrica 2 de las Figuras
14-16, cada una de las cuales tiene una unión pn, se
sumarían en la Tabla 1.
La Figura 15 es una vista en corte del elemento
de conversión fotoeléctrica 2 de acuerdo con aún otra realización
de la invención. Los detalles de las capas semiconductoras
68-70 son como se ha mostrado en la Tabla 1.
Alternativamente, en el elemento de conversión fotoeléctrica 2 de
la Figura 15, la capa semiconductora 68 puede estar hecha de un
cristal único de tipo n de silicio policristalino.
La Figura 16 es una vista en corte del elemento
de conversión fotoeléctrica 2 de acuerdo con aún otra realización
de la invención. Los detalles de las capas semiconductoras
73-77 son como se muestra en la Tabla 1.
Alternativamente, las capas semiconductoras 73 y 74 de la Figura 16
están hechas de silicio de un único cristal de tipo n. La capa
semiconductora 74 puede estar hecha de silicio
micro-cristalino de tipo i.
En la invención, el elemento de conversión
fotoeléctrica 2 puede tener estructuras diferentes de las
anteriormente descritas.
De acuerdo con otra realización de la invención,
el soporte 3 puede ser reemplazado por otro tipo de soporte que se
ha fabricado formando una estructura que tiene rebajes por medio del
moldeo (por ejemplo, moldeo por inyección) de, por ejemplo, un
material de resina sintética aislante (por ejemplo, policarbonato),
y el revestimiento electroquímico con un material conductor, tal
como el Ni, sobre sus superficies, a fin de formar los primer y
segundo conductores. Los primer y segundo conductores pueden estar
hechos, por ejemplo, de hoja de aluminio. Alternativamente, pueden
haberse formado por recubrimiento electroquímico con Cr o por
recubrimiento electrolítico con Ag. Como alternativa adicional,
pueden haberse formado mediante la evaporación o pulverización
catódica de un metal de Ni, Cr, Al, Ag o similar. Puede haberse
formado un revestimiento sobre el primer conductor, y el
revestimiento puede estar hecho de un metal (formado por
recubrimiento electrolítico o similar) o una resina sintética.
En esta memoria, la expresión "unión pin"
incluye una estructura en la que se han formado capas
semiconductoras de los tipos n, i y p en un elemento de conversión
fotoeléctrica aproximadamente esférico 2, de tal modo que están
dispuestas en este orden, hacia dentro o hacia fuera.
Las partículas semiconductoras esféricas
fabricadas de acuerdo con la invención constituyen elementos de
conversión fotoeléctrica.
El aparato fotovoltaico 1 anteriormente descrito
puede haberse construido con el uso de elementos de conversión
fotoeléctrica 2 así fabricados.
La invención puede ser materializada o realizada
en otras formas específicas sin apartarse de las características
esenciales de la misma. Las presentes realizaciones se han de
considerar, por lo tanto, a todos los respectos, como ilustrativas,
y no limitativas, del ámbito de la invención, que se indica por las
reivindicaciones que se acompañan, en lugar de por la anterior
descripción, y es la intención, por lo tanto, que todos los cambios
que entran dentro del significado y del alcance de equivalencia de
las reivindicaciones estén abarcados por él.
Claims (17)
1. Un aparato fotovoltaico (1) que
comprende:
(a) una pluralidad de elementos de conversión
fotoeléctrica (2), cada uno de los cuales es de una forma
aproximadamente esférica e incluye una primera capa semiconductora
(7) y una segunda capa semiconductora (8), que está situada por
fuera de la primera capa semiconductora (7), a fin de generar una
fuerza electromotriz entre las primera y segunda capas
semiconductoras (7, 8), de tal modo que la segunda capa
semiconductora (8) tiene una abertura (9) a través de la cual queda
expuesta o al descubierto una porción (10) de la primera capa
semiconductora (7); y
(b) un soporte (3), que incluye un primer
conductor (13), un segundo conductor (14) y un aislante (15),
dispuesto entre el primer y el segundo conductores (13, 14), a fin
de aislar eléctricamente los primer y segundo conductores (13, 14)
uno de otro, de tal manera que el primer conductor (13) está
conectado eléctricamente a las segundas capas semiconductoras (8) de
los elementos de conversión fotoeléctrica (2), y el segundo
conductor (14) está conectado eléctricamente a las porciones
expuestas de las primeras capas semiconductoras (7),
caracterizado por que el soporte (3) tiene una pluralidad de
rebajes (17) que están dispuestos adyacentes unos a otros y cuyas
superficies internas están constituidas por el primer conductor (13)
o un revestimiento formado sobre él, estando dispuestos los
elementos de conversión fotoeléctrica (2) en los respectivos rebajes
(17), de tal modo que los elementos de conversión fotoeléctrica (2)
son iluminados con luz reflejada por parte del primer conductor (13)
o por el revestimiento formado sobre él, que constituye el rebaje
(17).
\vskip1.000000\baselineskip
2. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con la
reivindicación 1, en el cual los elementos de conversión
fotoeléctrica (31) tienen un diámetro exterior de entre 0,5 mm y 2,0
mm.
3. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con la
reivindicación 1, en el cual la abertura (9) de la segunda capa
semiconductora (8) tiene un ángulo central \theta1 de entre 45º y
90º.
4. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con la
reivindicación 1, en el cual los rebajes (17) del soporte (3) tienen
respectivas aberturas (18) de un polígono, del cual las que son
adyacentes entre sí son continuas, de tal manera que cada uno de los
rebajes (17) se estrecha hacia un fondo del mismo, y la primera capa
semiconductora (7) y la segunda capa semiconductora (8) de cada uno
de los elementos de conversión fotoeléctrica (2) están conectadas
eléctricamente al segundo conductor (14) y al primer conductor (13),
respectivamente, en el fondo del rebaje (17) o en las proximidades
del mismo.
5. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con
la reivindicación 4, en el cual el primer conductor (13) está dotado
de un primer orificio de conexión circular (39) formado en el fondo
del rebaje (17) o en las proximidades del mismo, y el aislante (15)
está provisto de un segundo orificio de conexión circular (40) que
tiene una línea axial común con el primer orificio de conexión (39),
una porción del elemento de conversión fotoeléctrica (2), situada en
las proximidades de la abertura (9) de la segunda capa
semiconductora (8), se ajusta en el primer orificio de conexión
(39), y una porción de superficie exterior, situada por encima de la
abertura (9) de la segunda capa semiconductora (8), está conectada
eléctricamente a una cara de extremo del primer orificio de conexión
(39) del primer conductor (13) o a una porción del mismo situada en
las proximidades de la cara de extremo, y la porción expuesta o al
descubierto de la primera capa semiconductora (7) del elemento de
conversión fotoeléctrica (2) está conectada eléctricamente al
segundo conductor (14) a través del segundo orificio de conexión
(40).
6. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con la
reivindicación 5, en el cual
un diámetro exterior D1 de los elementos de
conversión fotoeléctrica (2),
un diámetro interior D2 de las aberturas (9) de
las segundas capas semiconductoras (8), y
un diámetro interior D3 de los primeros
orificios de conexión (39), y
un diámetro interior D4 de los segundos
orificios de conexión (40) satisfacen la relación D1 > D3 > D2
> D4.
\vskip1.000000\baselineskip
7. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con la
reivindicación 1, en el cual una relación x de captación de luz, que
es igual a S1/S2, se seleccionada de modo que está comprendida en el
intervalo entre 2 y 8,
donde S1 es un área de abertura (18) de cada uno
de los rebajes (17) del soporte (3) y S2 es un área de una sección
transversal de los elementos de conversión fotoeléctrica (2) que
incluye un centro de los mismos.
\vskip1.000000\baselineskip
8. Un aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con la
reivindicación 1, en el cual cada uno de los elementos de conversión
fotoeléctrica (31) tiene un diámetro exterior de entre 0,5 mm y 2
mm, y una relación x de captación de luz, que es igual a S1/S2, se
selecciona de manera que se encuentra dentro de un intervalo entre 2
y 8, donde S1 es un área de abertura (18) de cada uno de los rebajes
(17) del soporte (3) y S2 es un área de una sección transversal de
los elementos de conversión fotoeléctrica (2) que incluye un centro
de los mismos.
9. Un aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con la
reivindicación 1, en el cual cada uno de los elementos de conversión
fotovoltaica (31) tiene un diámetro exterior de entre 0,8 mm y 1,2
mm, y una relación x de captación de luz, que es igual a S1/S2, se
selecciona de manera que se encuentra en el intervalo entre 4 y 6,
donde S1 es un área de abertura (18) de cada uno de los rebajes (17)
del soporte (3) y S2 es un área de una sección transversal de los
elementos de conversión fotoeléctrica (2) que incluye un centro de
los mismos.
10. Un aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con
la reivindicación 1, en el cual los elementos de conversión
fotovoltaica (2) tienen una unión pn de tal manera que la segunda
capa semiconductora (65) de uno de los tipos de conductividad, que
tiene un salto entre bandas óptico más ancho que el de la primera
capa semiconductora (64), que tiene el otro tipo de conductividad,
está formada por fuera de la primera capa semiconductora (64).
11. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con
la reivindicación 1, en el cual los elementos de conversión
fotovoltaica (2) tienen un unión pin de tal manera que la primera
capa semiconductora (68, 73), que tiene uno de los tipos de
conductividad, una capa semiconductora intrínseca amorfa (69, 74), y
una segunda capa semiconductora amorfa (70, 76) del otro tipo de
conductividad, que tiene un salto entre bandas óptico más ancho que
el de la primera capa semiconductora (68, 73), están dispuestas
hacia fuera en este orden.
12. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con
la reivindicación 10, en el cual la primera capa semiconductora (68,
73) y la segunda capa semiconductora (70, 76) están hechas,
respectivamente, de silicio de tipo n y de silicio amorfo de tipo
p.
13. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con
la reivindicación 12, en el cual el silicio de tipo n del que está
hecha la primera capa semiconductora (68, 73), es silicio de un
único cristal o mono-cristal de tipo n o silicio
microcristalino (\muc) de tipo n.
14. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con
la reivindicación 1, en el cual la primera capa semiconductora (7)
es una capa semiconductora de salto directo.
15. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con
la reivindicación 14, en el cual la capa semiconductora de salto
directo está hecha de un semiconductor seleccionado de entre el
grupo consistente en InAs, GaSb, CuInSe_{2},
Cu(InGa)Se_{2}, CuInS, GaAs, InGaP y CdTe.
16. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con
la reivindicación 1, en el cual se disponen adyacentes entre sí una
pluralidad de los soportes (3, 3b), cada uno de los cuales tiene
porciones periféricas que se extienden hacia fuera, y se disponen
extendiéndose una sobre otra, y eléctricamente conectadas entre sí,
una parte del primer conductor (13) situada en la porción periférica
de uno de los soportes (3) de cada par de soportes (3, 3b)
adyacentes entre sí, y una parte del segundo conductor (14) situada
en la porción periférica del otro (3b).
17. El aparato fotovoltaico (1) de acuerdo con
la reivindicación 16, en el cual la porción periférica tiene
salientes hacia arriba o salientes hacia abajo, y el saliente hacia
arriba o el saliente hacia abajo de uno de los soportes de cada par
de soportes adyacentes entre sí, y el saliente hacia arriba o el
saliente hacia abajo del otro están puestos en contacto uno con otro
y conectados eléctricamente entre sí.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000-358229 | 2000-11-24 | ||
JP2000358229A JP3490969B2 (ja) | 2000-11-24 | 2000-11-24 | 光発電装置 |
JP2001-101743 | 2001-03-30 | ||
JP2001101743A JP3636993B2 (ja) | 2001-03-30 | 2001-03-30 | 球状半導体粒子の大量生産装置、光電変換素子、球状半導体粒子の大量生産方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2332303T3 true ES2332303T3 (es) | 2010-02-02 |
Family
ID=26604558
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES01204475T Expired - Lifetime ES2332303T3 (es) | 2000-11-24 | 2001-11-22 | Aparato fotovoltaico con particulas semiconductoras esfericas. |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6706959B2 (es) |
EP (1) | EP1213772B1 (es) |
CN (1) | CN1210815C (es) |
AT (1) | ATE441212T1 (es) |
DE (1) | DE60139669D1 (es) |
ES (1) | ES2332303T3 (es) |
TW (1) | TW520572B (es) |
Families Citing this family (72)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6706959B2 (en) * | 2000-11-24 | 2004-03-16 | Clean Venture 21 Corporation | Photovoltaic apparatus and mass-producing apparatus for mass-producing spherical semiconductor particles |
US6563041B2 (en) * | 2000-11-29 | 2003-05-13 | Kyocera Corporation | Photoelectric conversion device |
WO2003010143A1 (en) * | 2001-07-26 | 2003-02-06 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Dialkylhydroxybenzoic acid derivatives containing metal chelating groups and their therapeutic uses |
US7189278B2 (en) | 2002-04-18 | 2007-03-13 | Clean Venture 21 Corporation | Method and apparatus for producing semiconductor or metal particles |
CA2483363C (en) * | 2002-05-02 | 2009-07-07 | Josuke Nakata | Light-receiving or light-emitting panel, and manufacturing method thereof |
US20050151131A1 (en) * | 2002-06-11 | 2005-07-14 | Wager John F.Iii | Polycrystalline thin-film solar cells |
US20040016456A1 (en) * | 2002-07-25 | 2004-01-29 | Clean Venture 21 Corporation | Photovoltaic device and method for producing the same |
US6897085B2 (en) | 2003-01-21 | 2005-05-24 | Spheral Solar Power, Inc. | Method of fabricating an optical concentrator for a photovoltaic solar cell |
US7535019B1 (en) | 2003-02-18 | 2009-05-19 | Nanosolar, Inc. | Optoelectronic fiber |
JPWO2004109890A1 (ja) * | 2003-06-09 | 2006-07-20 | 京セミ株式会社 | 発電システム |
US20060185715A1 (en) * | 2003-07-25 | 2006-08-24 | Hammerbacher Milfred D | Photovoltaic apparatus including spherical semiconducting particles |
US8426720B2 (en) * | 2004-01-09 | 2013-04-23 | Industrial Technology Research Institute | Micro thermoelectric device and manufacturing method thereof |
JP4180636B2 (ja) * | 2004-03-12 | 2008-11-12 | 京セミ株式会社 | 積層型太陽電池 |
BRPI0519478A2 (pt) | 2004-12-27 | 2009-02-03 | Quantum Paper Inc | display emissivo endereÇÁvel e imprimÍvel |
EP1693903B1 (en) * | 2005-02-18 | 2011-05-18 | Clean Venture 21 Corporation | Array of spherical solar cells and its method of fabrication |
US7196262B2 (en) * | 2005-06-20 | 2007-03-27 | Solyndra, Inc. | Bifacial elongated solar cell devices |
US7394016B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-07-01 | Solyndra, Inc. | Bifacial elongated solar cell devices with internal reflectors |
US8344238B2 (en) * | 2005-07-19 | 2013-01-01 | Solyndra Llc | Self-cleaning protective coatings for use with photovoltaic cells |
US7259322B2 (en) * | 2006-01-09 | 2007-08-21 | Solyndra, Inc. | Interconnects for solar cell devices |
JP4861343B2 (ja) * | 2006-02-06 | 2012-01-25 | 京セミ株式会社 | 受光又は発光用半導体モジュール |
US20070215197A1 (en) * | 2006-03-18 | 2007-09-20 | Benyamin Buller | Elongated photovoltaic cells in casings |
US8183458B2 (en) | 2007-03-13 | 2012-05-22 | Solyndra Llc | Photovoltaic apparatus having a filler layer and method for making the same |
US20070215195A1 (en) * | 2006-03-18 | 2007-09-20 | Benyamin Buller | Elongated photovoltaic cells in tubular casings |
US20090014055A1 (en) * | 2006-03-18 | 2009-01-15 | Solyndra, Inc. | Photovoltaic Modules Having a Filling Material |
US20080302418A1 (en) * | 2006-03-18 | 2008-12-11 | Benyamin Buller | Elongated Photovoltaic Devices in Casings |
AU2006345821B2 (en) * | 2006-07-04 | 2010-09-16 | Sphelar Power Corporation | Panel-shaped semiconductor module |
KR101045753B1 (ko) * | 2006-07-07 | 2011-06-30 | 에너지 릴레이티드 디바이시스, 인코오포레이티드 | 패널형 반도체모듈 |
TWI466304B (zh) * | 2006-07-07 | 2014-12-21 | Energy Related Devices Inc | 與球形光伏特電池彈性耦合的微型集中器 |
US7879685B2 (en) * | 2006-08-04 | 2011-02-01 | Solyndra, Inc. | System and method for creating electric isolation between layers comprising solar cells |
US20080029152A1 (en) * | 2006-08-04 | 2008-02-07 | Erel Milshtein | Laser scribing apparatus, systems, and methods |
US20080178927A1 (en) * | 2007-01-30 | 2008-07-31 | Thomas Brezoczky | Photovoltaic apparatus having an elongated photovoltaic device using an involute-based concentrator |
US20080196759A1 (en) * | 2007-02-16 | 2008-08-21 | Thomas Brezoczky | Photovoltaic assembly with elongated photovoltaic devices and integrated involute-based reflectors |
FI20070264A (fi) * | 2007-04-04 | 2008-10-05 | Suinno Oy | Aktiivinen aurinkokenno ja valmistusmenetelmä |
US8133768B2 (en) * | 2007-05-31 | 2012-03-13 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Method of manufacturing a light emitting, photovoltaic or other electronic apparatus and system |
US8877101B2 (en) | 2007-05-31 | 2014-11-04 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Method of manufacturing a light emitting, power generating or other electronic apparatus |
US9343593B2 (en) | 2007-05-31 | 2016-05-17 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Printable composition of a liquid or gel suspension of diodes |
US9534772B2 (en) | 2007-05-31 | 2017-01-03 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Apparatus with light emitting diodes |
US8674593B2 (en) | 2007-05-31 | 2014-03-18 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Diode for a printable composition |
US9419179B2 (en) | 2007-05-31 | 2016-08-16 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Diode for a printable composition |
US8852467B2 (en) | 2007-05-31 | 2014-10-07 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Method of manufacturing a printable composition of a liquid or gel suspension of diodes |
US9425357B2 (en) | 2007-05-31 | 2016-08-23 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc. | Diode for a printable composition |
US8889216B2 (en) | 2007-05-31 | 2014-11-18 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Method of manufacturing addressable and static electronic displays |
US8809126B2 (en) | 2007-05-31 | 2014-08-19 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Printable composition of a liquid or gel suspension of diodes |
US9018833B2 (en) | 2007-05-31 | 2015-04-28 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Apparatus with light emitting or absorbing diodes |
US8415879B2 (en) | 2007-05-31 | 2013-04-09 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Diode for a printable composition |
US8395568B2 (en) | 2007-05-31 | 2013-03-12 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Light emitting, photovoltaic or other electronic apparatus and system |
US8846457B2 (en) | 2007-05-31 | 2014-09-30 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Printable composition of a liquid or gel suspension of diodes |
US8013238B2 (en) * | 2007-07-09 | 2011-09-06 | Energy Related Devices, Inc. | Micro concentrators elastically coupled with spherical photovoltaic cells |
US20090078303A1 (en) * | 2007-09-24 | 2009-03-26 | Solyndra, Inc. | Encapsulated Photovoltaic Device Used With A Reflector And A Method of Use for the Same |
US20090211627A1 (en) * | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Suniva, Inc. | Solar cell having crystalline silicon p-n homojunction and amorphous silicon heterojunctions for surface passivation |
US8076175B2 (en) | 2008-02-25 | 2011-12-13 | Suniva, Inc. | Method for making solar cell having crystalline silicon P-N homojunction and amorphous silicon heterojunctions for surface passivation |
US20090211623A1 (en) * | 2008-02-25 | 2009-08-27 | Suniva, Inc. | Solar module with solar cell having crystalline silicon p-n homojunction and amorphous silicon heterojunctions for surface passivation |
US8127477B2 (en) | 2008-05-13 | 2012-03-06 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc | Illuminating display systems |
US7992332B2 (en) | 2008-05-13 | 2011-08-09 | Nthdegree Technologies Worldwide Inc. | Apparatuses for providing power for illumination of a display object |
US20120305076A1 (en) * | 2008-05-19 | 2012-12-06 | Tyler Sims | Lens systems for solar energy solutions |
US20120325199A1 (en) * | 2008-05-19 | 2012-12-27 | Tyler Sims | Lens systems for solar energy solutions |
TW201014937A (en) | 2008-10-06 | 2010-04-16 | Clean Venture 21 Corp | Method for producing semiconductor particles |
US8537554B1 (en) * | 2009-05-15 | 2013-09-17 | Energy Related Devices, Inc. | Structured relief dielectric heat sink for planar photovoltaic cells and semiconductor devices |
US20110146788A1 (en) * | 2009-12-23 | 2011-06-23 | General Electric Company | Photovoltaic cell |
US20110146744A1 (en) * | 2009-12-23 | 2011-06-23 | General Electric Company | Photovoltaic cell |
CN102569453A (zh) * | 2010-12-10 | 2012-07-11 | 榕增光电科技有限公司 | 太阳能模组结构及其制法 |
US8685781B2 (en) * | 2011-07-20 | 2014-04-01 | Alliance For Sustainable Energy, Llc | Secondary treatment of films of colloidal quantum dots for optoelectronics and devices produced thereby |
US10872988B1 (en) | 2013-02-03 | 2020-12-22 | Mark R. Schroeder | Photovoltaic device |
US11538949B2 (en) * | 2013-02-03 | 2022-12-27 | Mark R. Schroeder | Sensor comprising a photovoltaic device |
US9957037B2 (en) | 2013-07-10 | 2018-05-01 | X Development Llc | High altitude aircraft with integrated solar cells, and associated systems and methods |
US9666733B2 (en) * | 2013-09-04 | 2017-05-30 | Hyeon Woo AHN | Solar cell using printed circuit board |
CN104425639B (zh) * | 2013-09-11 | 2017-04-12 | 安玹佑 | 使用印刷电路板的太阳能电池 |
DE102013223883A1 (de) * | 2013-11-22 | 2015-05-28 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von polykristallinem Silicium |
US10312731B2 (en) | 2014-04-24 | 2019-06-04 | Westrock Shared Services, Llc | Powered shelf system for inductively powering electrical components of consumer product packages |
JP6356476B2 (ja) * | 2014-04-28 | 2018-07-11 | 新光電気工業株式会社 | 太陽電池搭載用基板及び太陽電池モジュール |
KR101919482B1 (ko) * | 2018-06-05 | 2018-11-19 | (주)소프트피브이 | 태양 전지 및 태양 전지의 제조 방법 |
EP3633431A1 (en) * | 2018-10-05 | 2020-04-08 | Indigo Diabetes N.V. | Weld protection for hermetic wafer-level sealing |
Family Cites Families (53)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3998659A (en) * | 1974-01-28 | 1976-12-21 | Texas Instruments Incorporated | Solar cell with semiconductor particles and method of fabrication |
US4188177A (en) | 1977-02-07 | 1980-02-12 | Texas Instruments Incorporated | System for fabrication of semiconductor bodies |
US4322379A (en) | 1977-02-07 | 1982-03-30 | Texas Instruments Incorporated | Fabrication process for semiconductor bodies |
USRE31473E (en) | 1977-02-07 | 1983-12-27 | Texas Instruments Incorporated | System for fabrication of semiconductor bodies |
US4430150A (en) | 1981-08-07 | 1984-02-07 | Texas Instruments Incorporated | Production of single crystal semiconductors |
US4425408A (en) | 1981-08-07 | 1984-01-10 | Texas Instruments Incorporated | Production of single crystal semiconductors |
US4451968A (en) | 1981-09-08 | 1984-06-05 | Texas Instruments Incorporated | Method and device for providing an ohmic contact of high resistance on a semiconductor at low temperatures |
US4407320A (en) | 1981-09-08 | 1983-10-04 | Texas Instruments Incorporated | Large area, fault tolerant solar energy converter |
US4521640A (en) | 1981-09-08 | 1985-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Large area, low temperature process, fault tolerant solar energy converter |
JPS5854684A (ja) | 1981-09-08 | 1983-03-31 | テキサス・インスツルメンツ・インコ−ポレイテツド | 太陽エネルギ−変換装置 |
US4806495A (en) | 1984-09-04 | 1989-02-21 | Texas Instruments Incorporated | Method of making solar array with aluminum foil matrix |
US4691076A (en) | 1984-09-04 | 1987-09-01 | Texas Instruments Incorporated | Solar array with aluminum foil matrix |
JPH0754855B2 (ja) | 1984-09-04 | 1995-06-07 | テキサス インスツルメンツ インコーポレイテッド | ソーラー・アレーの製造方法 |
US4582588A (en) | 1984-09-04 | 1986-04-15 | Texas Instruments Incorporated | Method of anodizing and sealing aluminum |
JPS62126331A (ja) | 1985-11-27 | 1987-06-08 | Kawasaki Steel Corp | 物体表面の光沢度判定装置 |
GB2171492B (en) | 1985-02-22 | 1989-08-31 | Gkn Automotive Components Inc | Universal joint |
JPS6476909A (en) | 1987-09-18 | 1989-03-23 | Mitsubishi Metal Corp | High-purity spherical particle of si-b alloy and production thereof |
US5012619A (en) | 1989-12-21 | 1991-05-07 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for forming spheres |
DE4022648C2 (de) | 1990-07-17 | 1994-01-27 | Nukem Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von kugelförmigen Teilchen aus flüssiger Phase |
DE4242645C2 (de) * | 1992-12-17 | 1997-12-18 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Verfahren und Einrichtung zur Herstellung von Metallkügelchen annähernd gleichen Durchmessers |
JP2577173B2 (ja) | 1993-01-18 | 1997-01-29 | 株式会社テクノアイ | 金属微粉末の製造方法及び装置 |
US5419782A (en) * | 1993-05-11 | 1995-05-30 | Texas Instruments Incorporated | Array of solar cells having an optically self-aligning, output-increasing, ambient-protecting coating |
JPH07202244A (ja) | 1994-01-07 | 1995-08-04 | Honda Motor Co Ltd | 太陽電池 |
US5468304A (en) * | 1994-03-14 | 1995-11-21 | Texas Instruments Incorporated | Output-increasing, protective cover for a solar cell |
JPH07297438A (ja) | 1994-04-27 | 1995-11-10 | Tonen Corp | 太陽電池モジュール |
US5466301A (en) * | 1994-06-29 | 1995-11-14 | Texas Instruments Incorporated | Solar cell having an output-increasing, protective cover |
JPH08239298A (ja) | 1994-12-27 | 1996-09-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 細線状シリコンの製造方法および細線状シリコン |
JP3231244B2 (ja) | 1996-07-22 | 2001-11-19 | 仗祐 中田 | 無機材料製の球状体の製造方法及びその製造装置 |
EP0866506B1 (en) * | 1996-10-09 | 2008-12-03 | Josuke Nakata | Semiconductor device |
DE69637769D1 (de) | 1996-10-09 | 2009-01-15 | Josuke Nakata | Halbleitervorrichtung |
JPH1112091A (ja) | 1997-06-20 | 1999-01-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 球状単結晶シリコンの製造方法 |
JPH1131837A (ja) | 1997-07-14 | 1999-02-02 | Hitachi Ltd | 集光型太陽光発電装置及びこれを用いたモジュール |
JP3287579B2 (ja) * | 1997-10-23 | 2002-06-04 | 仗祐 中田 | 単結晶体の製造方法及び単結晶体製造装置 |
JP4214585B2 (ja) * | 1998-04-24 | 2009-01-28 | 富士ゼロックス株式会社 | 半導体デバイス、半導体デバイスの製造方法及び製造装置 |
JP2000022184A (ja) | 1998-07-03 | 2000-01-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 球状または棒状結晶太陽電池およびその製造方法 |
US6074476A (en) | 1998-07-10 | 2000-06-13 | Ball Semiconductor, Inc. | Non-contact processing of crystal materials |
US6221165B1 (en) | 1998-07-10 | 2001-04-24 | Ball Semiconductor, Inc. | High temperature plasma-assisted diffusion |
JP2000169279A (ja) | 1998-12-10 | 2000-06-20 | Komatsu Electronic Metals Co Ltd | 球状半導体結晶製造方法及び製造装置 |
JP2000192112A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-11 | Nippon Steel Corp | 微小金属球の製造方法及び装置 |
JP2000328111A (ja) | 1999-05-14 | 2000-11-28 | Nippon Steel Corp | 微小金属球の製造方法および装置 |
JP2001102618A (ja) | 1999-09-30 | 2001-04-13 | Sony Corp | 受光装置 |
JP2001210843A (ja) * | 1999-11-17 | 2001-08-03 | Fuji Mach Mfg Co Ltd | 光発電パネルおよびその製造方法 |
JP3992126B2 (ja) * | 1999-12-16 | 2007-10-17 | 株式会社三井ハイテック | 太陽電池の製造方法 |
JP3995132B2 (ja) | 2000-05-29 | 2007-10-24 | 株式会社三井ハイテック | 太陽電池、半導体装置、太陽電池の製造方法および半導体装置の製造方法 |
US6355873B1 (en) * | 2000-06-21 | 2002-03-12 | Ball Semiconductor, Inc. | Spherical shaped solar cell fabrication and panel assembly |
US6437234B1 (en) * | 2000-07-27 | 2002-08-20 | Kyocera Corporation | Photoelectric conversion device and manufacturing method thereof |
JP3939082B2 (ja) | 2000-08-03 | 2007-06-27 | 株式会社三井ハイテック | 太陽電池の製造方法 |
JP3964123B2 (ja) | 2000-10-24 | 2007-08-22 | 株式会社三井ハイテック | 太陽電池の製造方法 |
US6706959B2 (en) * | 2000-11-24 | 2004-03-16 | Clean Venture 21 Corporation | Photovoltaic apparatus and mass-producing apparatus for mass-producing spherical semiconductor particles |
US6563041B2 (en) * | 2000-11-29 | 2003-05-13 | Kyocera Corporation | Photoelectric conversion device |
US6653552B2 (en) * | 2001-02-28 | 2003-11-25 | Kyocera Corporation | Photoelectric conversion device and method of manufacturing the same |
US20060183625A1 (en) * | 2002-07-09 | 2006-08-17 | Kenichiro Miyahara | Substrate for forming thin film, thin film substrate, optical wave guide, luminescent element and substrate for carrying luminescent element |
US7196262B2 (en) * | 2005-06-20 | 2007-03-27 | Solyndra, Inc. | Bifacial elongated solar cell devices |
-
2001
- 2001-11-21 US US09/988,998 patent/US6706959B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-11-22 EP EP01204475A patent/EP1213772B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-11-22 DE DE60139669T patent/DE60139669D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-11-22 AT AT01204475T patent/ATE441212T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-11-22 ES ES01204475T patent/ES2332303T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-11-23 TW TW090129096A patent/TW520572B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-11-26 CN CNB011401303A patent/CN1210815C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-06-27 US US10/606,900 patent/US20060162763A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW520572B (en) | 2003-02-11 |
CN1210815C (zh) | 2005-07-13 |
US6706959B2 (en) | 2004-03-16 |
ATE441212T1 (de) | 2009-09-15 |
EP1213772A3 (en) | 2007-05-09 |
EP1213772A2 (en) | 2002-06-12 |
US20020096206A1 (en) | 2002-07-25 |
US20060162763A1 (en) | 2006-07-27 |
CN1357927A (zh) | 2002-07-10 |
EP1213772B1 (en) | 2009-08-26 |
DE60139669D1 (de) | 2009-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ES2332303T3 (es) | Aparato fotovoltaico con particulas semiconductoras esfericas. | |
ES2216041T3 (es) | Estructura y procedimiento de fabricacion de celula solar con contactos traseros autoalineados de aleacion de aluminio. | |
JP3490969B2 (ja) | 光発電装置 | |
US20080289688A1 (en) | Photovoltaic Apparatus Including Spherical Semiconducting Particles | |
KR100880946B1 (ko) | 태양전지 및 그 제조방법 | |
US8035028B2 (en) | Pyramidal three-dimensional thin-film solar cells | |
TW550830B (en) | Panel for receiving or emitting light and its manufacturing method | |
CA2269632A1 (en) | Spherical semiconductor device and method of manufacturing same | |
ES2936389T3 (es) | Célula solar | |
US20090025789A1 (en) | Alignment of optical element and solar cell | |
ES1076518U (es) | Módulo de células solares para su uso en un sistema solar o fotovoltaico. | |
JPH10510097A (ja) | バイパス・ダイオードで保護された多層太陽電池 | |
TWI398007B (zh) | Lighting type solar module | |
JPH08125210A (ja) | 受光素子及び受光素子アレイ並びにそれらを用いた電解装置 | |
TW200905897A (en) | Solar battery cell | |
JP2008153429A (ja) | 太陽電池およびその製造方法 | |
KR101181547B1 (ko) | 광 집속형 태양전지 모듈 및 그의 어셈블리 방법 | |
KR20080021652A (ko) | 복수의 광발전 영역을 사용하는 통합된 솔라 셀 시스템 및방법 | |
WO2013002093A1 (ja) | 太陽光発電装置 | |
US20070204900A1 (en) | Package structure for a solar chip | |
JP2001102618A (ja) | 受光装置 | |
KR20190020510A (ko) | 태양 전지 패널 | |
KR101890288B1 (ko) | 태양 전지 및 이를 포함하는 태양 전지 패널 | |
TWI467785B (zh) | 太陽能電池基座 | |
KR101643871B1 (ko) | 태양전지 및 그 제조방법 |