EA021647B1 - Подложка органического светоизлучающего устройства, а также органическое светоизлучающее устройство, содержащее ее - Google Patents

Подложка органического светоизлучающего устройства, а также органическое светоизлучающее устройство, содержащее ее Download PDF

Info

Publication number
EA021647B1
EA021647B1 EA201070799A EA201070799A EA021647B1 EA 021647 B1 EA021647 B1 EA 021647B1 EA 201070799 A EA201070799 A EA 201070799A EA 201070799 A EA201070799 A EA 201070799A EA 021647 B1 EA021647 B1 EA 021647B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
layer
oxide
equal
less
thickness
Prior art date
Application number
EA201070799A
Other languages
English (en)
Other versions
EA201070799A1 (ru
Inventor
Гийом Лекан
Франсуа-Жюльен Вермерш
Светослав Тшакаров
Адья Жерардэн
Алессандро Джасси
Original Assignee
Сэн-Гобэн Гласс Франс
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Сэн-Гобэн Гласс Франс filed Critical Сэн-Гобэн Гласс Франс
Publication of EA201070799A1 publication Critical patent/EA201070799A1/ru
Publication of EA021647B1 publication Critical patent/EA021647B1/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/875Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K59/876Arrangements for extracting light from the devices comprising a resonant cavity structure, e.g. Bragg reflector pair
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/85Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/852Arrangements for extracting light from the devices comprising a resonant cavity structure, e.g. Bragg reflector pair
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/805Electrodes
    • H10K50/81Anodes
    • H10K50/816Multilayers, e.g. transparent multilayers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/805Electrodes
    • H10K59/8051Anodes
    • H10K59/80517Multilayers, e.g. transparent multilayers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • H10K50/125OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers specially adapted for multicolour light emission, e.g. for emitting white light
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/86Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/8791Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

Изобретение относится к подложке для органического светоиспускающего устройства (10), содержащего прозрачную подложку (1), имеющую оптический индекс n0, несущую на первой главной поверхности (11) первое прозрачное или полупрозрачное покрытие электрода (3), известного как нижний электрод, с сопротивлением листа менее или равным 6, содержащего следующий пакет слоев: антиотражательный подслой (2), имеющий заданную оптическую толщину L1 и имеющий оптический индекс n1, так что отношение n1:n0 более или равно 6:5; первый металлический слой, имеющий определенную толщину e1; первый разделительный слой, имеющий определенную оптическую толщину L2; второй металлический слой, имеющий собственную удельную электропроводность и имеющий определенную толщину е2; и верхний слой для согласования рабочей функции, причем L1 составляет 20-120 нм, L2 составляет 75-200 нм, и сумма толщин (e1+e2) первого и второго металлических слоев менее или равна 40 нм.

Description

(57) Изобретение относится к подложке для органического светоиспускающего устройства (10), содержащего прозрачную подложку (1), имеющую оптический индекс и0, несущую на первой главной поверхности (11) первое прозрачное или полупрозрачное покрытие электрода (3), известного как нижний электрод, с сопротивлением листа менее или равным 6 Ом/П. содержащего следующий пакет слоев: антиотражательный подслой (2), имеющий заданную оптическую толщину Ь1 и имеющий оптический индекс ηί, так что отношение и1:и0 более или равно 6:5; первый металлический слой, имеющий определенную толщину е1; первый разделительный слой, имеющий определенную оптическую толщину Ь2; второй металлический слой, имеющий собственную удельную электропроводность и имеющий определенную толщину е2; и верхний слой для согласования рабочей функции, причем Ь1 составляет 20-120 нм, Ь2 составляет 75-200 нм, и сумма толщин (е1+е2) первого и второго металлических слоев менее или равна 40 нм.

Claims (20)

1. Проводящая подложка органического светоизлучающего устройства, состоящая из прозрачной подложки (1), имеющей показатель преломления п0, несущей на первой главной поверхности (11) первое прозрачное или полупрозрачное покрытие электрода (3), известное как нижний электрод, причем проводящая подложка содержит следующий пакет слоев:
антиотражательный подслой, имеющий заданную оптическую толщину Ь1 и показатель преломления п1, такие что отношение п1:п0 больше или равно 6:5; антиотражательный подслой содержит слой, известный как первый контактный слой (32), расположенный ниже первого металлического слоя, основанный на легированном или нелегированном оксиде цинка;
первый металлический слой (30), имеющий заданную толщину е1, расположенный на антиотражательном подслое;
верхний слой, выбранный из слоя, основанного на оксиде индий-олово, или слоя, основанного на оксиде индий-цинк, или слоя, основанного на оксиде цинка и олова (8ΝχΖΝγΟζ), имеющий заданную толщину е3, расположенный на первом металлическом слое, причем нижний электрод (3) также содержит первый разделительный слой, являющийся диэлектрическим, имеющий заданную оптическую толщину Ь2, расположенный на первом металлическом слое и под верхним слоем; первый разделительный слой содержит слой, известный как второй контактный слой (32'), расположенный ниже второго металлического слоя на основе легированного или нелегированного оксида цинка;
второй металлический слой (30'), имеющий собственную удельную электропроводность и заданную толщину е2, причем указанный второй слой расположен между первым разделительным слоем и верхним слоем;
отличающаяся тем, что Ь1 составляет 20-120 нм, Ь2 составляет 75-200 нм и сумма толщин е1+е2 первого и второго металлических слоев меньше или равна 40 нм, и тем, что нижний электрод имеет сопротивление листа меньшее или равное 6 Ом/п.
2. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что Ь1 меньше или равна 100 нм, предпочтительно меньше или равна 80 нм и/или Ь2 меньше или равна 160 нм, предпочтительно 130 нм.
3. Подложка по любому из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что Ь1 меньше Ь2.
4. Подложка по любому из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что первый и второй металлические слои (30, 30') основаны на серебре, толщина е1 первого металлического слоя меньше или равна 15 нм и/или толщина е2 второго металлического слоя меньше или равна 15 нм, предпочтительно толщина е1 больше толщины е2.
5. Подложка по любому из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что нижний электрод имеет сопротивление листа меньшее или равное 3 Ом/п.
6. Подложка по любому из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что антиотражательный подслой содержит базовый слой (2), имеющий толщину более или равную 3 нм, который образует барьер для щелочных металлов, и/или останавливающий вытравливание слой, причем базовый слой предпочтительно, по существу, покрывает указанную главную поверхность (11) подложки и выполнен из опционально легированного материала на основе нитрида кремния, оксикарбида кремния, оксинитрида кремния или оксикарбонитрида кремния.
7. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что антиотражательный подслой содержит первый некристаллический выравнивающий слой (31), выполненный из одиночного или смешанного оксида, причем указанный выравнивающий слой (31) расположен непосредственно под указанным первым контактным слоем (32) и выполнен из материала, иного, чем материал первого контактного слоя, и предпочтительно расположен непосредственно на подложке.
8. Подложка по любому из пп.1, 7, отличающаяся тем, что первый разделительный слой содержит второй некристаллический выравнивающий слой (31'), выполненный из одиночного или смешанного оксида, причем указанный второй выравнивающий слой (31') расположен непосредственно под указанным вторым контактным слоем (32') и выполнен из материала, иного, чем материал второго контактного слоя.
9. Подложка по любому из пп.7, 8, отличающаяся тем, что первый и/или второй выравнивающий слой (31, 31') представляет собой слой на основе одиночного или смешанного оксида на основе одного или более из следующих металлов: 8п, 8ί, Τι, Ζγ, НТ, Ζπ. Оа, 1п, в частности представляет собой слой смешанного оксида на основе цинка и олова 8п^пуОи или слой смешанного оксида индий-олова, или слой смешанного оксида индий-цинка.
10. Подложка по любому из пп.7-9, отличающаяся тем, что по меньшей мере 60% геометрической толщины подслоя составляет первый выравнивающий слой и/или по меньшей мере 60% геометрической толщины первого разделительного слоя составляет второй выравнивающий слой.
11. Подложка по любому из пп.7-10, отличающаяся тем, что первый выравнивающий слой (31) представляет собой слой на основе оксида, который является нестехиометрическим по кислороду и основан на цинке и олове 8ΐ'ΐ,.Ζι·ιγΟζ и опционально легирован предпочтительно непосредственно на под- 16 021647 ложке, и первый контактный слой (32) представляет собой слой на основе легированного или нелегированного оксида, который является нестехиометрическим по кислороду и основан на цинке ΖηΟ, и/или второй выравнивающий слой (31') представляет собой слой на основе оксида, который является нестехиометрическим по кислороду и основан на цинке и олове δηχΖηγΟζ и опционально легированным, и второй контактный слой (32') представляет собой слой на основе легированного или нелегированного оксида, который является нестехиометрическим по кислороду и основан на цинке ΖηΟ.
12. Подложка по любому из пп.8-11, отличающаяся тем, что первый разделительный слой содержит под вторым контактным слоем и под опциональным вторым выравнивающим слоем дополнительный слой оксида металла, такого как оксид цинка, оксид олова, и/или дополнительный слой на основе нитрида кремния.
13. Подложка по любому из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что первый разделительный слой состоит из слоя или слоев, имеющих электрическое удельное сопротивление менее 107 Ом-см, предпочтительно менее или равное 106 Ом-см, и/или антиотражательный слой состоит из слоя или слоев, имеющих электрическое удельное сопротивление менее 107 Ом-см, предпочтительно менее или равное 106 Ом-см.
14. Подложка по любому из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что верхний слой (35) дополнительно выбран из слоя на основе по меньшей мере одного из следующих оксидов металла, опционально легированных: оксида хрома, оксида индия, оксида цинка опционально субстехиометрического, оксида алюминия, оксида титана, оксида молибдена, оксида циркония, оксида сурьмы, оксида олова, оксида тантала или оксида кремния, и тем, что верхний слой предпочтительно имеет толщину е3 менее или равную 40 нм, и/или тем, что верхний слой (35) основан на тонком металлическом слое, в частности на основе никеля, платины или палладия, и связан с расположенным ниже промежуточным слоем, выполненным из одиночного или смешанного оксида металла.
15. Подложка по любому из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что первый металлический слой (30) расположен непосредственно по меньшей мере на одном первом расположенном ниже блокирующем снизу покрытии и/или непосредственно по меньшей мере под одним первым расположенным выше блокирующим сверху покрытием (33) и/или второй металлический слой (32) расположен непосредственно по меньшей мере на одном втором расположенном ниже блокирующем снизу покрытии и/или непосредственно по меньшей мере под одним вторым расположенным выше блокирующим сверху покрытием (33'), и тем, что по меньшей мере одно первое или второе блокирующее сверху (33, 33') или блокирующее снизу покрытие содержит слой металла, нитрида и/или оксида металла на основе по меньшей мере одного из следующих металлов: Τι, V, Μη, Ре, Со, Си, Ζη, Ζγ, Ηί, А1, N6. Νί, Сг, Μο, Та, или на основе сплава по меньшей мере одного из указанных материалов, предпочтительно на основе Νί или Τι, на основе сплава Νί или на основе сплава №Сг.
16. Подложка по любому из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что общая толщина индийсодержащего материала в нижнем электроде меньше или равна 60 нм, предпочтительно 50 нм.
17. Органическое светоизлучающее устройство (10), включающее в себя подложку (1) по любому из пп.1-16 и ОСИД-систему (4) сверху нижнего электрода, которая излучает полихроматическое излучение, определяемое при 0° координатами (х1, у1) в С1Е ΧΥΖ 1931 диаграмме хроматичности.
18. Органическое светоизлучающее устройство (10) по п.17, отличающееся тем, что оно излучает как выходной спектр, определяемый при 0° колориметрическими координатами (х2, у2) в С1Е ΧΥΖ 1931 диаграмме хроматичности, так что ^((х1-х2)2+(у1-у2)2) меньше 0,1.
19. Органическое светоизлучающее устройство (10) по любому из пп.17, 18, отличающееся тем, что оно испускает выходной спектр, определяемый при 0° колориметрическими координатами (х2, у2) в С1Е ΧΥΖ 1931 диаграмме хроматичности, и тем, что длина пути в С1Е ΧΥΖ 1931 диаграмме хроматичности между спектром, испускаемым при 0°, и спектром, испускаемым при 60°, меньше или равна 0,1.
20. Органическое светоизлучающее устройство (10) по любому из пп.17-19, отличающееся тем, что оно предназначено для применения в строительстве, в частности наружное светящееся остекление, внутренняя светящаяся перегородка или светящаяся остекленная дверь (или часть двери), особенно скользящая дверь;
для применения в транспортном средстве, в частности светящаяся крыша, светящееся боковое окно (или часть окна), внутренняя светящаяся перегородка наземного, водного или воздушного транспортного средства;
для применения в городском или профессиональном оборудовании, таком как панель навеса автобуса, стенка счетчика дисплея или витрина магазина, стенка теплицы или светящаяся черепица;
для внутреннего оборудования, такого как элемент полки или кабинета, фасад кабинета, светящийся изразец, потолок, светящаяся полка холодильника, стенка аквариума;
для фоновой подсветки электронного оборудования, в частности экрана дисплея, опционально двойного экрана, такого как телевизионный или компьютерный экран, сенсорный экран; а также является осветительным зеркалом, в частности для освещения стенки ванной комнаты или рабочей поверхности кухни или для потолка.
EA201070799A 2007-12-27 2008-12-23 Подложка органического светоизлучающего устройства, а также органическое светоизлучающее устройство, содержащее ее EA021647B1 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR0709146A FR2925981B1 (fr) 2007-12-27 2007-12-27 Substrat porteur d'une electrode, dispositif electroluminescent organique l'incorporant.
PCT/FR2008/052412 WO2009083693A2 (fr) 2007-12-27 2008-12-23 Substrat pour dispositif electroluminescent organique, ainsi que dispositif electroluminescent organique l'incorporant

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EA201070799A1 EA201070799A1 (ru) 2011-02-28
EA021647B1 true EA021647B1 (ru) 2015-08-31

Family

ID=39592088

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EA201070799A EA021647B1 (ru) 2007-12-27 2008-12-23 Подложка органического светоизлучающего устройства, а также органическое светоизлучающее устройство, содержащее ее

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8786176B2 (ru)
EP (1) EP2232610B1 (ru)
JP (1) JP5744523B2 (ru)
KR (1) KR101633131B1 (ru)
CN (1) CN101960638A (ru)
EA (1) EA021647B1 (ru)
FR (1) FR2925981B1 (ru)
TW (1) TW200952548A (ru)
WO (1) WO2009083693A2 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9855726B2 (en) 2012-12-17 2018-01-02 Saint-Gobain Glass France Transparent pane with electrically conductive coating
RU2671236C1 (ru) * 2017-12-27 2018-10-30 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) Прозрачный проводящий оксид
RU2701468C1 (ru) * 2018-12-25 2019-09-26 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) Прозрачный проводящий оксид с наночастицами золота

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008054435A1 (de) * 2008-12-09 2010-06-10 Universität Zu Köln Organische Leuchtdiode mit optischem Resonator nebst Herstellungsverfahren
DE102009034822A1 (de) 2009-07-27 2011-02-03 Osram Opto Semiconductors Gmbh Elektronisches Bauelement sowie elektischer Kontakt
KR101122856B1 (ko) * 2010-04-28 2012-06-12 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널 및 그 제조방법
FR2964254B1 (fr) * 2010-08-30 2013-06-14 Saint Gobain Support de dispositif a diode electroluminescente organique, un tel dispositif a diode electroluminescente organique et son procede de fabrication
FR2965407A1 (fr) 2010-09-27 2012-03-30 Saint Gobain Procédé de connexion(s) électrique(s) d'un dispositif a diode électroluminescente organique encapsule et un tel dispositif oled
KR101231597B1 (ko) * 2010-11-15 2013-02-08 주식회사 고영테크놀러지 검사방법
FR2973946B1 (fr) * 2011-04-08 2013-03-22 Saint Gobain Dispositif électronique a couches
FR2976729B1 (fr) 2011-06-16 2013-06-07 Saint Gobain Substrat a electrode pour dispositif oled et un tel dispositif oled
KR101837625B1 (ko) * 2011-11-10 2018-03-13 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
FR2985091B1 (fr) 2011-12-27 2014-01-10 Saint Gobain Anode transparente pour oled
FR2985378B1 (fr) 2011-12-30 2014-01-24 Saint Gobain Dispositif oled a emission par l'arriere, et procede d'homogeneisation de la luminance d'un dispositif oled a emission par l'arriere
FR2985379B1 (fr) 2011-12-30 2014-01-24 Saint Gobain Dispositif oled a emission par l'arriere
FR2985380B1 (fr) 2011-12-30 2014-07-11 Saint Gobain Dispositif oled a emission par l'arriere
DE102012206967A1 (de) 2012-04-26 2013-10-31 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements
BE1020676A3 (fr) * 2012-05-08 2014-03-04 Agc Glass Europe Dispositif photonique organique.
US9459160B2 (en) 2012-06-13 2016-10-04 Microsoft Technology Licensing, Llc Input device sensor configuration
US9684382B2 (en) 2012-06-13 2017-06-20 Microsoft Technology Licensing, Llc Input device configuration having capacitive and pressure sensors
DE102012210494B4 (de) * 2012-06-21 2023-12-28 Pictiva Displays International Limited Organische Leuchtdiode
KR101293647B1 (ko) * 2012-07-27 2013-08-13 삼성코닝정밀소재 주식회사 투명 전도성 산화물 박막 기판, 그 제조방법, 이를 포함하는 유기전계발광소자 및 광전지
FR2997770B1 (fr) 2012-11-07 2015-11-20 Saint Gobain Support electroconducteur pour vitrage a diffusion variable par cristaux liquides, et un tel vitrage
FR2999807B1 (fr) 2012-12-13 2015-01-02 Saint Gobain Support conducteur pour dispositif oled, ainsi que dispositif oled l'incorporant
FR2999808B1 (fr) 2012-12-13 2015-01-02 Saint Gobain Support conducteur pour dispositif oled, ainsi que dispositif oled l'incorporant
US10578499B2 (en) 2013-02-17 2020-03-03 Microsoft Technology Licensing, Llc Piezo-actuated virtual buttons for touch surfaces
US20140273525A1 (en) * 2013-03-13 2014-09-18 Intermolecular, Inc. Atomic Layer Deposition of Reduced-Leakage Post-Transition Metal Oxide Films
US9411436B2 (en) * 2013-09-20 2016-08-09 Microsoft Technology Licensing, Llc Input device backlighting
FR3015116B1 (fr) 2013-12-17 2016-01-01 Saint Gobain Support extracteur de lumiere et dispositif oled l'incorporant.
US9448631B2 (en) 2013-12-31 2016-09-20 Microsoft Technology Licensing, Llc Input device haptics and pressure sensing
TWI540568B (zh) * 2014-04-09 2016-07-01 晨星半導體股份有限公司 應用於顯示裝置之校正方法、校正裝置以及建立色彩表現資料庫的方法
FR3019941A1 (fr) 2014-04-09 2015-10-16 Saint Gobain Support extracteur de lumiere et dispositif oled l'incorporant
FR3025943A1 (fr) * 2014-09-11 2016-03-18 Saint Gobain Performance Plast Support electroconducteur pour oled, oled l'incorporant et sa fabrication.
US10680123B2 (en) 2015-03-12 2020-06-09 Vitro Flat Glass Llc Article with transparent conductive oxide coating
WO2016144869A1 (en) * 2015-03-12 2016-09-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Optoelectronic device and method of making the same
WO2017121067A1 (en) * 2016-01-12 2017-07-20 Tsinghua University Semiconductor structure and method for forming the same
FR3051804B1 (fr) * 2016-05-24 2018-06-29 Saint-Gobain Glass France Procede de depot de couches minces
CN208173629U (zh) * 2017-08-16 2018-11-30 昆山国显光电有限公司 电极及有机电致发光装置
JP6962376B2 (ja) 2017-08-29 2021-11-05 Tdk株式会社 透明導電体及び有機デバイス
CN111758067B (zh) * 2018-02-23 2023-04-21 Tdk株式会社 透明导电体、调光体及电子器件
CN110767660B (zh) * 2018-07-24 2022-09-16 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制备方法、显示面板
CN111026289B (zh) * 2019-11-29 2023-07-14 北京空间技术研制试验中心 用于载人航天器的人机交互终端
IT202100020357A1 (it) * 2021-07-29 2023-01-29 Emanuele Grosso Apparato auto-riscaldante per il condizionamento termico, igrostatico e luminoso di un ambiente circoscritto.

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19733053A1 (de) * 1997-07-31 1999-02-04 Leybold Ag Transparentes Substrat
JP2001243840A (ja) * 2000-02-29 2001-09-07 Mitsui Chemicals Inc 透明電極
US20030049464A1 (en) * 2001-09-04 2003-03-13 Afg Industries, Inc. Double silver low-emissivity and solar control coatings
EP1329307A1 (en) * 2000-09-29 2003-07-23 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Transparent laminate having low emissivity
FR2844136A1 (fr) * 2002-09-03 2004-03-05 Corning Inc Materiau utilisable dans la fabrication de dispositifs d'affichage lumineux en particulier de diodes electroluminescentes organiques
EP1403939A1 (en) * 2002-09-30 2004-03-31 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Light-emitting device, display and lighting unit
US20050073228A1 (en) * 2003-10-07 2005-04-07 Eastman Kodak Company White-emitting microcavity OLED device
US20050264185A1 (en) * 2004-05-25 2005-12-01 Applied Films Gmbh & Co. Kg Method of producing organic light-emitting surface elements and an organic light-emitting surface element
WO2006013373A2 (en) * 2004-08-04 2006-02-09 Cambridge Display Technology Limited Organic electroluminescent device

Family Cites Families (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60158780A (ja) * 1984-01-27 1985-08-20 Sony Corp 表示装置
DE69230189T2 (de) * 1991-02-14 2000-02-10 Asahi Glass Co. Ltd., Tokio/Tokyo Laminierte Glaskonstruktion
US5280373A (en) * 1991-07-24 1994-01-18 Mitsubishi Kasei Corporation Light modulating device including a liquid crystal, a polymer and dichroic dyes having maximum absorption in the different wavelength regions
DE69629613T2 (de) * 1995-03-22 2004-06-17 Toppan Printing Co. Ltd. Mehrschichtiger, elektrisch leitender Film, transparentes Elektrodensubstrat und Flüssigkristallanzeige die diesen benutzen
DE19520843A1 (de) 1995-06-08 1996-12-12 Leybold Ag Scheibe aus durchscheinendem Werkstoff sowie Verfahren zu ihrer Herstellung
JPH09283866A (ja) * 1996-04-10 1997-10-31 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透明導電膜付き基板
JPH10100303A (ja) * 1996-06-07 1998-04-21 Nippon Sheet Glass Co Ltd 透明導電膜付き基板およびそれを用いた表示素子
JPH1170610A (ja) * 1996-07-26 1999-03-16 Asahi Glass Co Ltd 透明導電膜、および透明電極の形成方法
FR2757151B1 (fr) * 1996-12-12 1999-01-08 Saint Gobain Vitrage Vitrage comprenant un substrat muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique
EP0924966A1 (en) * 1997-06-30 1999-06-23 Aventis Research & Technologies GmbH & Co. KG Thin film electrode for planar organic light-emitting devices and method for its production
JP2001035660A (ja) * 1999-07-16 2001-02-09 Fuji Photo Film Co Ltd 有機電界発光素子
JP4287559B2 (ja) * 1999-11-16 2009-07-01 日本発條株式会社 電子部品用ソケット
JP2002015623A (ja) 2000-04-27 2002-01-18 Mitsui Chemicals Inc 透明電極
TWI263336B (en) * 2000-06-12 2006-10-01 Semiconductor Energy Lab Thin film transistors and semiconductor device
JP2002313139A (ja) 2001-04-12 2002-10-25 Mitsui Chemicals Inc 透明導電性薄膜積層体
JP2002313572A (ja) 2001-04-13 2002-10-25 Toyota Motor Corp 有機el表示装置
JP2003123987A (ja) * 2001-10-11 2003-04-25 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 光共振器
EP1443527A4 (en) * 2001-10-19 2007-09-12 Asahi Glass Co Ltd SUBSTRATE WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE FILM AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF AND PHOTOELECTRIC IMPLEMENTATION ELEMENT
JP3962572B2 (ja) * 2001-10-30 2007-08-22 出光興産株式会社 有機エレクトロルミネッセンス発光装置
CN1620841A (zh) * 2001-12-24 2005-05-25 法国圣戈班玻璃厂 具有透明表面电极与电致发光元件的多层元件的生产方法
US6780693B2 (en) * 2001-12-29 2004-08-24 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method of fabricating polysilicon thin film transistor
US6811815B2 (en) * 2002-06-14 2004-11-02 Avery Dennison Corporation Method for roll-to-roll deposition of optically transparent and high conductivity metallic thin films
KR101002537B1 (ko) 2002-08-02 2010-12-17 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 스퍼터링 타겟, 소결체, 이들을 사용하여 제조한 도전막,유기 el 소자, 및 이것에 사용하는 기판
US7049757B2 (en) * 2002-08-05 2006-05-23 General Electric Company Series connected OLED structure and fabrication method
US7034470B2 (en) * 2002-08-07 2006-04-25 Eastman Kodak Company Serially connecting OLED devices for area illumination
US6693296B1 (en) * 2002-08-07 2004-02-17 Eastman Kodak Company OLED apparatus including a series of OLED devices
FR2844364B1 (fr) 2002-09-11 2004-12-17 Saint Gobain Substrat diffusant
JP2004127588A (ja) * 2002-09-30 2004-04-22 Toyota Industries Corp 発光装置、表示装置及び照明装置
KR100662297B1 (ko) * 2002-10-18 2007-01-02 엘지전자 주식회사 유기 el 소자
GB0229653D0 (en) * 2002-12-20 2003-01-22 Cambridge Display Tech Ltd Electrical connection of optoelectronic devices
US20040149984A1 (en) * 2003-01-31 2004-08-05 Eastman Kodak Company Color OLED display with improved emission
KR100527191B1 (ko) * 2003-06-03 2005-11-08 삼성에스디아이 주식회사 저저항 캐소드를 사용하는 유기 전계 발광 소자
JP2005116193A (ja) * 2003-10-02 2005-04-28 Toyota Industries Corp 有機電界発光素子及び当該素子を備えた有機電界発光デバイス
KR20050039014A (ko) 2003-10-23 2005-04-29 주식회사 엘지화학 유기 발광 소자용 전극 및 이를 포함하는 유기 발광 소자
WO2005053053A1 (en) 2003-11-26 2005-06-09 Koninklijke Philips Electronics N.V. Light-emitting device comprising an etch-protective layer
JP2005259820A (ja) * 2004-03-09 2005-09-22 Sharp Corp Iii−v族化合物半導体発光素子とその製造方法
TWI237525B (en) * 2004-08-30 2005-08-01 Au Optronics Corp Electro-luminescence display device and method for forming the same
KR100673744B1 (ko) * 2004-10-28 2007-01-24 삼성에스디아이 주식회사 다층 구조 애노드
KR100700642B1 (ko) * 2004-12-13 2007-03-27 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광표시소자 및 그 제조방법
DE202005000979U1 (de) 2005-01-20 2006-06-01 Schott Ag Elektro-optisches Element mit gesteuerter, insbesondere uniformer Funktionalitätsverteilung
JP4826939B2 (ja) * 2005-01-21 2011-11-30 富士電機株式会社 色変換フィルタおよびそれを用いた色変換発光デバイス
US20060209551A1 (en) * 2005-03-18 2006-09-21 Robert Schwenke Light emissive plastic glazing
EP1717876A1 (en) 2005-04-27 2006-11-02 C.S.E.M. Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique Sa Interconnect in polymer light-emitting or light-detecting devices or solar cells
KR101152127B1 (ko) * 2005-05-27 2012-06-15 삼성전자주식회사 표시 장치용 배선, 이를 포함하는 박막 트랜지스터 표시판및 그 제조 방법
EP1887968A4 (en) * 2005-06-08 2013-01-23 Bard Inc C R TRANSPLANTS AND STENTS WITH INORGANIC BIOKOMPATIBLE CALCIUM SALT
KR101140241B1 (ko) * 2005-06-27 2012-04-26 엘지디스플레이 주식회사 얼라인 마크를 포함한 액정표시소자
JP2009531811A (ja) * 2006-02-22 2009-09-03 サン−ゴバン グラス フランス 有機発光素子及び有機発光素子中の透明な導電層の使用
EP2426552A1 (en) * 2006-03-03 2012-03-07 Gentex Corporation Electro-optic elements incorporating improved thin-film coatings
US8339031B2 (en) * 2006-09-07 2012-12-25 Saint-Gobain Glass France Substrate for an organic light-emitting device, use and process for manufacturing this substrate, and organic light-emitting device
US20080100202A1 (en) * 2006-11-01 2008-05-01 Cok Ronald S Process for forming oled conductive protective layer
JP5261397B2 (ja) * 2006-11-17 2013-08-14 サン−ゴバン グラス フランス 有機発光素子用の電極、その酸エッチング、及び、それを組み込んだ有機発光素子
FR2913146B1 (fr) * 2007-02-23 2009-05-01 Saint Gobain Electrode discontinue, dispositif electroluminescent organique l'incorporant, et leurs fabrications

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19733053A1 (de) * 1997-07-31 1999-02-04 Leybold Ag Transparentes Substrat
JP2001243840A (ja) * 2000-02-29 2001-09-07 Mitsui Chemicals Inc 透明電極
EP1329307A1 (en) * 2000-09-29 2003-07-23 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Transparent laminate having low emissivity
US20030049464A1 (en) * 2001-09-04 2003-03-13 Afg Industries, Inc. Double silver low-emissivity and solar control coatings
FR2844136A1 (fr) * 2002-09-03 2004-03-05 Corning Inc Materiau utilisable dans la fabrication de dispositifs d'affichage lumineux en particulier de diodes electroluminescentes organiques
EP1403939A1 (en) * 2002-09-30 2004-03-31 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Light-emitting device, display and lighting unit
US20050073228A1 (en) * 2003-10-07 2005-04-07 Eastman Kodak Company White-emitting microcavity OLED device
US20050264185A1 (en) * 2004-05-25 2005-12-01 Applied Films Gmbh & Co. Kg Method of producing organic light-emitting surface elements and an organic light-emitting surface element
WO2006013373A2 (en) * 2004-08-04 2006-02-09 Cambridge Display Technology Limited Organic electroluminescent device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9855726B2 (en) 2012-12-17 2018-01-02 Saint-Gobain Glass France Transparent pane with electrically conductive coating
RU2671236C1 (ru) * 2017-12-27 2018-10-30 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) Прозрачный проводящий оксид
RU2701468C1 (ru) * 2018-12-25 2019-09-26 федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) Прозрачный проводящий оксид с наночастицами золота

Also Published As

Publication number Publication date
WO2009083693A3 (fr) 2009-12-10
JP5744523B2 (ja) 2015-07-08
EA201070799A1 (ru) 2011-02-28
EP2232610B1 (fr) 2017-05-24
WO2009083693A2 (fr) 2009-07-09
US20110037379A1 (en) 2011-02-17
JP2011508400A (ja) 2011-03-10
FR2925981A1 (fr) 2009-07-03
KR101633131B1 (ko) 2016-06-23
EP2232610A2 (fr) 2010-09-29
US8786176B2 (en) 2014-07-22
FR2925981B1 (fr) 2010-02-19
CN101960638A (zh) 2011-01-26
TW200952548A (en) 2009-12-16
KR20100113093A (ko) 2010-10-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA021647B1 (ru) Подложка органического светоизлучающего устройства, а также органическое светоизлучающее устройство, содержащее ее
JP4961786B2 (ja) 透明導電膜、およびこれを用いた透明導電性フィルム
US9099673B2 (en) Electrode for an organic light-emitting device, acid etching thereof and also organic light-emitting device incorporating it
US8339031B2 (en) Substrate for an organic light-emitting device, use and process for manufacturing this substrate, and organic light-emitting device
KR102012059B1 (ko) 4개의 기능성 금속 필름을 포함하는 열적 성질을 갖는 스택을 갖춘 기판
US20100117523A1 (en) Substrate bearing a discontinuous electrode, organic electroluminescent device including same and manufacture thereof
JP4802568B2 (ja) 反射防止積層体、光学機能性フィルタ、光学表示装置および光学物品
JP2018507441A (ja) 強化された太陽光制御性能を備えた太陽光制御コーティング
US20110297988A1 (en) Transparent substrate for photonic devices
US20150083468A1 (en) Textured glass substrate having enhanced optical properties for an optoelectronic device
US9397304B2 (en) Organic photonic device
CN106536848B (zh) 低辐射涂层及包括低辐射涂层的窗户用功能性建筑材料
US20160224151A1 (en) Electrode to be used in input device and method for producing same
JP2008226581A (ja) 透明導電膜、およびこれを用いた透明導電性基板、透明導電性フィルム、並びに近赤外線遮断フィルター
CN102950841B (zh) 一种高透光率的单银低辐射玻璃
JP2004217432A (ja) 積層体および構造体
KR20160053436A (ko) 유기 전자소자 및 유기 전자소자의 제조방법
JP2021079695A (ja) 積層構造体
CN115243885A (zh) 拱肩板
JP2018126961A (ja) 積層膜付き透明基板およびガラス積層体
TWM416204U (en) Green thin film solar cell structure

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): AM AZ BY KZ KG MD TJ TM

MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): RU