JP5261397B2 - 有機発光素子用の電極、その酸エッチング、及び、それを組み込んだ有機発光素子 - Google Patents
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Description
−例えば、ITOから形成された密着層と、
−特に、少なくとも50nmの厚みを有する、銀若しくはアルミニウムを主成分とするか、又は、銀含有アルミニウムから形成された(半)反射金属層と、
−例えば、ITOから形成された仕事関数調整被覆層と
を含む背面又は底面電極と称されるものが設けられている。
−金属酸化物及び/又は金属窒化物タイプの誘電材料から形成された密着層と称される層と、
−固有の導電率特性を有する金属機能層と、
−金属機能層真上にあり、5nm以下、好ましくは0.5nmから2nmの厚みを有する金属層、及び/又は、半化学量論的金属酸化物、半化学量論的金属酸窒化物、又は、半化学量論的金属窒化物を主成分とする10nm以下、好ましくは0.5nmから2nmの厚みを有する層を含む薄いブロッキング層と、
−仕事関数調整層を形成する金属酸化物を主成分とする誘電材料から形成された被覆層を含むフィルムと
を備える基板である。
−例えば、機能層上にある酸化物層がスパッタリングによって蒸着される場合等、機能層上にある層が反応性(酸素、窒素等)プラズマを使用して蒸着される場合、
−機能層上にある層の成分が工業的製造中に変動(蒸着条件やターゲットの摩耗タイプの変動等)しやすい場合、特に化学量論的酸化物及び/又は窒化物タイプの層が変動し、したがって、機能層の品質及びこれにともなって電極の特性(表面抵抗、光透過率等)を変える場合、
−電極が蒸着後に熱処理される場合、
の構成の1つ以上において、特に純物である及び/又は薄層としての機能性金属の損傷を防止する保護層又はさらには「犠牲」層を形成している。
−一方に、上述したもののような非化学量論的金属酸化物、窒化物、又は、酸窒化物を主成分とする材料から形成された、上記機能層と直接接触する「界面」層と、
−他方に、上述したもののような金属材料から形成され且つ上記「界面」層と直接接触している少なくとも1つの層と、を含む。
−酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、及び、それらの混合物、特には一般に非化学量論的であって非晶相である混合酸化スズ亜鉛SnxZnyOz、又は、混合酸化インジウムスズ(ITO)若しくは混合酸化インジウム亜鉛(IZO)。
−シート抵抗が、6nm以上の厚みの機能層について10Ω/□以下、好ましくは10nm以上の厚みの機能層について5Ω/□以下であり、好ましくは70%以上、さらにより好ましくは、80%を超える光透過率TLと組み合わされ、これによって特に満足な透明電極としての使用をなす。
−シート抵抗が、50nm以上の厚みの機能層について1Ω/□以下、好ましくは0.6Ω/□以下であり、好ましくは70%以上、さらにより好ましくは、80%を超える光反射率RLと組み合わされ、これによって特に満足な反射電極としての使用をなす。
−シート抵抗が、20nm以上の厚みの機能層について3Ω/□以下、好ましくは1.8Ω/□以下であり、好ましくは0.1から0.7のTL/RL比と組み合わされ、これによって特に満足な半透明電極としての使用をなす。
−特にOLEDの耐用年数及び信頼性を大幅に低減するスパイク欠陥を回避するように、被覆層の表面が、3nm以下、好ましくは2nm以下、さらにより好ましくは、1.5nm以下のRMS粗さ(Rqとも称される)を有することができる。
−酸化シリコン又は酸炭化シリコンを主成分とし、この層が一般式SiOCを有する、又は、
−窒化シリコン、酸窒化シリコン、又は、酸炭窒化シリコンを主成分とし、この層が一般式SiNOC、特にSiN、さらに特にSi3N4を有する。
−電極におけるITO又はさらにはインジウムの総厚が、30nm以下であり、又は、さらには20nm未満であってもよい。
−(ベース層を有する)総厚が、30nmから250nmである。
−酸化亜鉛、混合酸化スズ亜鉛、混合酸化インジウムスズ、又は、混合酸化インジウム亜鉛(ZnOx、ZnOx、SnxZnyOz、ITO、又は、IZO)から選択される、ドープされた又は非ドープの金属酸化物から形成された密着層と、
−任意に、5nm以下の厚みを有する金属層、及び/又は、半化学量論的金属酸化物若しくは金属酸窒化物若しくは金属窒化物を主成分とする10nm以下の厚みを有する層を含む、機能層の直下の薄い下側ブロッキング層と、
−銀及び/又は金から選択される、70nm以下の厚みを有して固有の導電率特性を有するドープされた又は非ドープの金属機能層と、
−5nm以下の厚みを有する金属層、及び/又は、半化学量論的金属酸化物若しくは金属酸窒化物若しくは金属窒化物を主成分とする10nm以下の厚みを有する層を含む、機能層の直上の薄いブロッキング層と、
−任意に、酸化亜鉛、混合酸化スズ亜鉛、混合酸化インジウムスズ、又は、混合酸化インジウム亜鉛から選択される、ドープされた又は非ドープの金属酸化物障壁層と、
−酸化インジウム、酸化亜鉛、及び、酸化スズから選択される任意に混合導電性のある酸化物から形成された被覆層、及び/又は、酸化モリブデン、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化シリコン、若しくは、酸化銀、酸化金、酸化白金、若しくは、酸化パラジウムから選択される半化学量論的酸化物から形成された10nm以下の厚みを有する被覆層とを含み、
純硝酸HNO3若しくは塩酸HClが混合された硝酸、又は、純塩酸若しくは塩化第二鉄FeCl3(別名塩化鉄(III)として知られている)が混合された塩酸から選択される酸溶液を使用した1ステップでのエッチングが実施される、プロセスを提供する。
−容積に殆ど水を含まない、
−それを処理するために必ずしも高圧を必要としない。
−ドープされた酸化亜鉛、特にアルミニウムでドープされた酸化亜鉛ZnO:Al又はガリウムでドープされた酸化亜鉛ZnO:Ga、
−あるいは、ドープされた酸化インジウム、特にスズでドープされた酸化インジウム(ITO)又は亜鉛でドープされた酸化インジウム(IZO)。
−屋外照明グレージング、内部照明間仕切り、又は、照明グレージングドア(若しくはドアの一部)、特に引き戸等の建造物用を対象としてもよく、
−発光ルーフ、発光サイドウィンドウ(若しくはウィンドウの一部)、陸上、水上若しくは空中車両(自動車、トラック、電車、飛行機、ボート等)の内部発光間仕切り等の運搬車両用を対象としてもよく、
−バス待合所パネル、陳列カウンターの壁、宝石陳列台若しくは店舗窓、温室壁、又は、照明タイル等の都市若しくは専門的な備品用を対象としてもよく、
−棚若しくは飾り戸棚要素、飾り戸棚のファサード、照明タイル、天井、照明冷蔵庫棚、水槽壁等の屋内設備用を対象としてもよく、
−電子機器、特に、ディスプレイスクリーン、任意にテレビジョンスクリーン若しくはコンピュータスクリーン等の二重スクリーン、タッチセンサー式スクリーンのバックライティング用を対象としてもよい。
−50nmの厚みを有する、ポリ(スチレンスルホン酸塩)でドープされたポリ(2,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT:PSS)の層、
−50nmの厚みを有するフェニルポリ(p−フェニレンビニレン)Ph−PPVの層からなる。上面電極は、Caの層であってもよい。
−10nmから80nmの厚みを有する窒化シリコンから形成され且つ第1の主面11の略全てを被覆する、第1の主面11上に直接蒸着されてウェットエッチング停止層としても機能するベース層2と、
−多層コーティング(図2を参照)を含み、ベース層2上に直接蒸着されて透明であるように選択された、エッチングされた底面電極3と、
−構造体からなるSM−OLEDである有機発光システム4と、
−特に銀又はアルミニウムを主成分とする特に金属からなる、反射する上面電極5とを備え、
前記底面電極3の多層コーティングは、
−ドープされた若しくは非ドープのZnOx、SnxZnyOz、ITO、又は、IZOから選択される密着層31と、
−密着層31上に直接あり、銀、好ましくは純銀から形成された機能層32と、
−好ましくは中性プラズマを有する金属ターゲットによって得られた金属層、又は、Ti、Ni、Cr等の1つ以上の金属の窒化物及び/又は酸化物から形成され、好ましくは中性プラズマを有するセラミックターゲットによって得られた層である、機能層32真上にある薄いブロッキング層32’と、
・密着層と水及び/又は酸素障壁層とが同一の性質からなり、ZnOx、SnxZnyOz、ITO、若しくは、IZOから選択される保護層33、及び、
・好ましくは、ZnO:Alが5nmから20nmの厚みを有し、銀が5nmから15nmの厚みを有し、TiOx、Ti、若しくは、NiCrが0.5nmから2nmの厚みを有し、ZnO:Alが5nmから20nmの厚みを有し、及び、ITOが5nmから20nmの厚みを有する、多層コーティングZnO:Al/Ag/Ti、TiOx、又は、NiCr/ZnO:Al/ITOである仕事関数調整被覆層34
から形成されたフィルムとを含むタイプであり、
−前記有機発光システム4の構造体は、例えば
・α−NPD層、
・TCTA+Ir(ppy)3層、
・BPhen層、及び
・LiF層である。
−5Ω/□以下のシート抵抗。
−(構造化の前に全部の層上で測定された)70%以上の光透過率TLと、20%以下の光反射率RL。
−原子間力顕微鏡検査による1平方ミクロンの領域にわたる光干渉法による3nm以下のRMS粗さ(またはRq)。
・Si3N4を主成分とする層は、アルゴン/窒素雰囲気内で0.8Paの圧力でアルミニウムドープされたシリコンターゲットを使用した反応性スパッタリングによって蒸着される。
・銀を主成分とする層は、純粋なアルゴン雰囲気内で0.8Paの圧力で銀ターゲットを使用して蒸着される。
・Ti層は、純粋なアルゴン雰囲気内で0.8Paの圧力でチタンターゲットを使用して蒸着される。
・ZnOを主成分とする層は、0.3Paの圧力でアルゴン/酸素雰囲気内でアルミニウムドープされた亜鉛ターゲットを使用した反応性スパッタリングによって蒸着される。
・ITOを主成分とする層は、アルゴン/酸素雰囲気内でセラミックターゲットを使用して蒸着される。
−HCl(例えば、40%濃度)、
−又は、HCl(例えば、4%濃度)、
−又は、HCl(例えば、4%濃度)/HNO3(例えば、7%濃度)混合物、
−又は、HCl/FeCl3混合物、
−又は、10%から18%の濃度を有するHNO3。
既に述べたように、支持基板1の第2の面(有機発光システムから対向する面上)を機能的にすることは賢明であり得る。
−n1及び/又はn3は、2.00から2.30、特に2.15から2.25、好ましくは2.20に近い。
−n2及び/又はn4は、1.35から1.65である。
−e1は、5nmから50nm、特に10nmから30nm、又は、15nmから25nmである。
−e2は、5nmから50nm、特に35nm又は30nm以下、特に10nmから35nmである。
−e3は、40nmから180nm、好ましくは45nmから150nmである。
−e4は、45nmから110nm、好ましくは70nmから105nmである。
Claims (26)
- 第1の主面(11)上に底面電極と称される多層電極(3)を支持する有機発光素子(10、10’)用の基板(1)であって、電極が、連続的に、
金属酸化物及び/又は金属窒化物を主成分とする密着層(31)と称される層と、
固有の導電率特性及び3から20nmの厚みを有する、銀を主成分とする金属機能層(32)と、
薄いブロッキング層(32’)と、
仕事関数調整層を形成する金属酸化物を主成分とする誘電材料(34)から形成された被覆層を含むフィルム(33、34)とを備え、
薄いブロッキング層(32’)は、機能層(32)真上にあり、
薄いブロッキング層が、
Ti、V、Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Zr、Hf、Al、Nb、Ni、Cr、Mo、Ta、及び、Wからなるグループから選択された任意に部分的に酸化された少なくとも1つの金属を主成分とする、5nm以下の厚みを有する薄い金属ブロッキング層、及び
半化学量論的金属酸化物、半化学量論的金属酸窒化物、又は、半化学量論的金属窒化物を主成分とする10nm以下の厚みを有する層であって、前記金属がTi、V、Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Zr、Hf、Al、Nb、Ni、Cr、Mo、Ta、及び、Wのううちの少なくとも1つから選択された層の少なくとも一方を含むことを特徴とする、基板(1)。 - 薄いブロッキング層(32’)の前記金属が、ニオブ、タンタル、チタン、クロム、若しくは、ニッケルから選択され、又は、薄いブロッキング層(32’)が前記金属のうちの少なくとも2つから得られる合金の層であることを特徴とする、請求項1に記載の基板(1)。
- 被覆層(34)が、
任意に、Sbドープ酸化スズ又はAl、Gaでドープされた酸化亜鉛、任意に混合酸化物、特に、混合酸化インジウムスズ、混合酸化インジウム亜鉛、若しくは、混合亜鉛スズ等の酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズから選択される表面上の混合及び/又はドープされた及び/又は半化学量論的導電性酸化物、及び/又は、
酸化モリブデン、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化シリコン、酸化銀、酸化金、酸化白金、酸化パラジウムから選択される半化学量論的酸化物、任意に、好ましくは10nm以下の厚みを有するドープ又は混合された半化学量論的酸化物被覆層
の金属酸化物のうちの少なくとも1つを主成分としていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の基板(1)。 - フィルム(33、34)が、薄いブロッキング層(32’)と被覆層(34)との間に、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化シリコンの金属酸化物のうちの少なくとも1つを主成分とする水及び/又は酸素障壁層(33)を含み、この層が、任意に、Sbドープ酸化スズ、又は、Al若しくはGaでドープされた酸化亜鉛等のようにドープされており、及び/又は、任意に、混合酸化物、特に、混合酸化インジウムスズ、混合酸化インジウム亜鉛、若しくは、混合酸化亜鉛スズであることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の基板(1)。
- フィルム(33、34)が、20nm以上の厚みを有し、好ましくは金属酸化物を主成分としていることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 密着層(31)、及び、水及び/又は酸素障壁層(33)が、同一の性質からなり、特に任意にAlドープ酸化亜鉛を主成分としており、好ましくは被覆層(34)が混合酸化インジウムスズであることを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 電極(3)が、70%以上の光透過率TLと、6nm以上の厚みの機能層について10Ω/□以下、好ましくは10nm以上の厚みの機能層について5Ω/□以下のシート抵抗とを有し、又は、70%以上の光反射率RLを有し、又は、20nm以上の厚みの機能層について3Ω/□以下、好ましくは1.8Ω/□以下のシート抵抗を有し、好ましくは、0.1から0.7のTL/RL比と組み合わせられることを特徴とする、請求項1から6のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 銀を主成分とする機能層(32)が、Au、Pd、Al、Pt、Cu、Zn、Cd、In、Si、Zr、Mo、Ni、Cr、Mg、Mn、Co、又は、Snで合金化又はドープされていることを特徴とする、請求項1から7のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 銀を主成分とする機能層(32)の厚みが、5nmから15nmであることを特徴とする、請求項1から8のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 密着層(31)が、任意にF若しくはSbでドープされた酸化物スズ等のようにドープされた、酸化クロム、酸化インジウム、任意に半化学量論的な酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化モリブデン、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化タンタル、酸化シリコン、又は、ドープされた酸化亜鉛、任意に混合酸化物、特に、混合酸化インジウムスズ、混合酸化インジウム亜鉛、若しくは、混合酸化亜鉛スズの金属酸化物のうちの少なくとも1つを主成分としており、好ましくは、3nmから30nmの厚みを有することを特徴とする、請求項1から9のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 密着層(31)が、酸化亜鉛を主成分としており、インジウムを含まないことを特徴とする、請求項1から10のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 電極が、密着層及び金属機能層と直接的に接触し、且つ、10nm以下の厚みを有する半化学量論的な金属酸化物、窒化物、又は、酸窒化物を主成分とする下側層と称される薄いブロッキング層、及び/又は、5nm以下の厚みを有する金属層を含むことを特徴とする、請求項1から11のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 第1の主面(11)が、電極(3)の下方に、アルカリ金属に対する障壁を形成することが可能なベース層(2)を含み、ベース層(2)が、任意に、好ましくは10nmから150nmの厚みを有し、酸化シリコン若しくは酸炭化シリコンを主成分とする、又は、窒化シリコン、酸窒化シリコン、若しくは、酸炭窒化シリコンを主成分とする層から選択されるドープされた層であることを特徴とする、請求項1から12のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 第1の主面(11)が、ベース層と密着層との間に特に酸化スズを主成分とするウェットエッチング停止層を含み、又は、エッチング停止層(2)が、ベース層の一部である若しくはベース層を形成しており、好ましくは窒化シリコンを主成分としている、又は、スズを有する酸化シリコン若しくは酸炭化シリコンを主成分としていることを特徴とする、請求項13に記載の基板(1)。
- ベース層及び好ましくは任意のウェットエッチング停止層(2)が、選択された平坦なガラス基板の第1の主面の略全部を被覆しており、密着層(31)、薄い任意の下側ブロッキング層、機能層(32)、薄いブロッキング層(32’)、及び、フィルム(33)が、同一のエッチングパターンで且つ好ましくは単一のウェットエッチング作業でエッチングされていることを特徴とする、請求項13又は14に記載の基板(1)。
- 密着層、任意に薄い下側ブロッキング層、機能層、薄いブロッキング層、及び、任意に水及び/又は酸素障壁層からなる構造体が、任意のベース層及び/又はウェットエッチング停止層上に、1以上の整数であるn回配置されており、構造体が、密着層、機能層、薄いブロッキング層、任意に水及び/又は酸素障壁層を含む前記フィルム、及び、前記被覆層を含む連続物を載置していることを特徴とする、請求項1から15のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 被覆層(34)の境界が、Mo、Al、Crの金属、若しくは、MoCr等の合金のうちの1つの単層の形態で、又は、MoCr/Al/MoCr等の多層の形態で、好ましくは0.5μmから10μmの厚みを有する金属電流供給ストリップ(61、61’、62’)を載置していることを特徴とする、請求項1から16のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 基板が、平坦であり、ソーダ−石灰−シリコンガラス(1)、好ましくは透明又は特別に透明なガラスから形成されていることを特徴とする、請求項1から17のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 第2の主面(12)が、反射防止多層、曇り防止若しくは汚れ防止層、紫外線フィルタ、特に、酸化チタン層、蛍光体層、ミラー層、及び、光抽出散乱領域(73)から選択される機能性フィルムを含むことを特徴とする、請求項1から18のいずれか一項に記載の基板(1)。
- 好ましくは窒化シリコンを主成分とするエッチング停止層と、エッチング停止層上の底面電極と称される電極とを主面に含む基板(1)、特にガラス基板上の多層電極(3)の酸エッチングプロセスであって、前記電極が、
酸化亜鉛、混合酸化スズ亜鉛、混合酸化インジウムスズ、又は、混合酸化インジウム亜鉛から選択される、ドープされた又は非ドープの金属酸化物から形成された密着層と、
任意に、5nm以下の厚みを有する金属層、又は、半化学量論的金属酸化物若しくは金属酸窒化物若しくは金属窒化物を主成分とする10nm以下の厚みを有する層を含む、機能層の直下にある薄い下側ブロッキング層と、
銀を主成分とする3から20nmの厚みを有する固有の導電率特性を有する、ドープされた又は非ドープの金属機能層と、
Ti、V、Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Zr、Hf、Al、Nb、Ni、Cr、Mo、Ta、及び、Wからなるグループから選択された任意に部分的に酸化された少なくとも1つの金属を主成分とする、5nm以下の厚みを有する薄い金属ブロッキング層、及び、半化学量論的金属酸化物若しくは金属酸窒化物若しくは金属窒化物を主成分とする10nm以下の厚みを有する層であって、前記金属がTi、V、Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Zr、Hf、Al、Nb、Ni、Cr、Mo、Ta、及び、Wのううちの少なくとも1つから選択された層の少なくとも一方を含む、金属機能層真上にある薄いブロッキング層と、
任意に、酸化亜鉛、混合酸化スズ亜鉛、又は、混合酸化インジウム亜鉛から選択される、ドープされた又は非ドープの金属酸化物障壁層と、
酸化インジウム、酸化亜鉛、及び、酸化スズから選択される混合導電性酸化物から任意に形成された被覆層、及び/又は、酸化モリブデン、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化シリコン、若しくは、酸化銀、酸化金、酸化白金、若しくは、酸化パラジウムから選択される半化学量論的酸化物から形成された10nm以下の厚みを有する被覆層とを含み、
エッチングが、純硝酸HNO3若しくは塩酸HClが混合された硝酸、又は、純塩酸若しくは塩化第二鉄FeCl3が混合された塩酸から選択される酸溶液を使用した1ステップでの実施される、多層電極(3)の酸エッチングプロセス。 - エッチングが、好ましくは、Mo、Al、Crの金属、若しくは、MoCr等の合金のうちの1つを主成分とする単層の形態、又は、MoCr/Al/MoCr等の多層形態である少なくとも1つの金属電流供給ストリップの存在下で実施されることを特徴とする、請求項19に記載の多層電極(3)のエッチングプロセス。
- 請求項1から19のいずれか一項に記載の底面電極を有する少なくとも1つの基板、特にガラス基板を備える有機発光素子(10、10’)であって、底面電極といわゆる上面電極と称されるものとの間に配置された少なくとも1つの有機発光層を備える、有機発光素子(10、10’)。
- 素子が、単一グレージングユニット、二重グレージングユニット、又は、積層グレージングユニットであることを特徴とする、請求項22に記載の有機発光素子(10、10’)。
- それぞれが白色光を発光する、又は、一連の3つのシステムにより、赤色光、緑色光、及び、青色光を発光し、直列に接続されている、複数の隣接する有機発光システムを備えることを特徴とする、請求項22又は23に記載の有機発光素子(10、10’)。
- 1つ以上の反射及び/又は透明発光表面、特に、照明、装飾、若しくは、建築システム、又は、例えば、図面、ロゴ若しくは英数字表示タイプの表示ディスプレイパネルを形成し、システムが、均一光若しくは特にガラス基板内を案内された光を抽出することによって異なる照明領域を作り出すことを特徴とする、請求項22から24のいずれか一項に記載の有機発光素子(10、10’)。
- 屋外照明グレージング、内部照明間仕切り、又は、照明グレージングドア(若しくはドアの一部)、特に引き戸等の建造物用を対象としており、
発光ルーフ、発光サイドウィンドウ(若しくはウィンドウの一部)、陸上、水上若しくは空中車両の内部発光間仕切り等の運搬車両用を対象としており、
バス待合所パネル、陳列カウンターの壁、宝石陳列台若しくは店舗窓、温室壁、又は、照明タイル等の都市若しくは専門的な備品用を対象としており、
棚若しくは飾り戸棚要素、飾り戸棚のファサード、照明タイル、天井、照明冷蔵庫棚、水槽壁等の屋内設備用を対象としており、
電子機器、特に、ディスプレイスクリーン、任意にテレビジョンスクリーン若しくはコンピュータスクリーン等の二重スクリーン、タッチセンサー式スクリーンのバックライティング用を対象としており、
特に、浴室壁若しくは台所調理台、又は、天井を照明する照明ミラーであることを特徴とする、請求項22から25のいずれか一項に記載の有機発光素子(10、10’)。
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