CN104834420B - 一种电容触摸屏用导电玻璃及其制备工艺 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种电容触摸屏用导电玻璃及其制备工艺，所述导电玻璃包括玻璃基板，所述玻璃基板的上表面上沿其厚度方向依次层叠有第一油墨层、第一消影层、导电膜层，所述导电玻璃还包括设于所述玻璃基板下表面上的第二消影层，所述第一油墨层所用油墨为耐酸碱、耐高温、绝缘的油墨，所述导电膜层上还刻蚀有显示图像的导电线路。该导电玻璃在玻璃基板的两侧均镀覆消影层，使得触摸屏的视窗内可见光下导电层蚀刻阴影不可见，可见光透过率提高0.5%‑2%，而玻璃基板一侧面镀覆的不超过5微米的油墨层，使得最终的触摸屏在与显示器贴合时，其贴合率可达90%以上，同时，该制备工艺简单、易于实施。

Description

一种电容触摸屏用导电玻璃及其制备工艺

技术领域

本发明涉及导电玻璃技术领域，特别涉及一种电容触摸屏用导电玻璃及其制备工艺。

背景技术

目前，电容触摸屏广泛应用于各类需要人机交互终端的电子产品中，而导电玻璃是其主要器件，导电玻璃尤其是双面镀膜的导电玻璃在性能方面要求较为严格，比如均匀性、耐热性能、耐酸碱性能、耐高温高湿性能等，传统的导电玻璃主要采用“玻璃+玻璃”的工艺制程，即将第一片玻璃依次经过精雕、钢化、丝印、烘烤；第二片玻璃依次经过镀膜、丝印、烘烤、蚀刻，而后将两片玻璃进行贴合实现触摸屏的保护和触摸传感功能，工艺较复杂，且贴合工艺良率难控。而目前，采用的OGS镀膜工艺，只需一片玻璃即可完成触摸屏的保护和触感功能，其工艺一般采用一片玻璃依次经过精雕、钢化、镀膜、丝印、烘烤、蚀刻后制得，在此过程中，在制作电路时，由于加工工艺难度增加，在制作电路时常用酸刻蚀电路，在刻蚀过程中，容易刻蚀掉不应该刻蚀的部分，并且易存在电路蚀刻的蚀痕影迹，影响其电磁屏蔽、静电保护功能。

发明内容

本发明的一个目的是针对现有技术中存在的不足之处提供一种电容触摸屏用导电玻璃。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种电容触摸屏用导电玻璃，所述导电玻璃包括玻璃基板，所述玻璃基板的上表面上沿其厚度方向依次层叠有第一油墨层、第一消影层、导电膜层，所述导电玻璃还包括设于所述玻璃基板下表面上的第二消影层，所述第一油墨层所用油墨为耐酸碱、耐高温、绝缘的油墨，所述导电膜层上还刻蚀有显示图像的导电线路。

优选地，所述第一消影层包括依次层叠于所述第一油墨层上表面上的第一Nb₂O₅膜层、第一SiO₂膜层，所述第二消影层包括依次层叠于所述玻璃基板下表面上的第二Nb₂O₅膜层、第二SiO₂膜层。

进一步优选地，所述第一Nb₂O₅膜层、所述第一SiO₂膜层、所述第二Nb₂O₅膜层、所述第二SiO₂膜层及所述导电膜层中每个膜层的厚度均在45~55nm间。

优选地，所述第一油墨层的厚度不超过5μm。

优选地，所述导电膜层为ITO导电膜层。

本发明的另一个目的是提供一种用于制备上述电容触摸屏用导电玻璃的制备工艺，包括如下步骤：

1）玻璃基板的制作，将单片玻璃进行精雕、钢化处理，得到所需的玻璃基板；

2）丝印，在上述玻璃基板的上表面上丝印一层耐酸碱、耐高温、绝缘的油墨，固化后得所述第一油墨层；

3）在所述第一油墨层的上表面依次镀所述第一消影层、所述导电膜层，在所述玻璃基板的下表面上镀所述第二消影层；

4）在所述导电膜层上刻蚀导电线路，即得电容触摸屏用的导电玻璃。

优选地，所述步骤4）中采用黄光蚀刻工艺在所述导电膜层上蚀刻所需的导电线路。

优选地，所述步骤4）中的蚀刻处理方法如下：采用耐酸不耐碱的油墨在所述导电膜层的上表面上绘制出所需的导电线路图，而后将该玻璃基板依次经过酸洗、碱洗后即可完成对所述导电膜层的刻蚀处理。

优选地，步骤3）中的所述第一消影层、所述第二消影层、所述导电膜层均是采用磁控溅射镀膜成形的。

由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：本发明的电容触摸屏用导电玻璃，其采用了在玻璃基板的两侧均镀覆消影层，该消影层包括层叠设置的Nb₂O₅膜层、SiO₂膜层，使得视窗内可见光下导电层蚀刻阴影不可见，可见光透过率提高0.5%-2%，而玻璃基板一侧面镀覆的不超过5微米的油墨层，使得最终的触摸屏在与显示器贴合时，其贴合率可达90%以上，同时，该制备工艺简单、易于实施。

附图说明

附图1为本发明的所述电容触摸屏导电玻璃的结构示意图；

其中：1、玻璃基板；2、第一油墨层；3、第一Nb₂O₅膜层；4、第一SiO₂膜层；5、导电膜层；6、第二Nb₂O₅膜层；7、第二SiO₂膜层。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例来对本发明的技术方案作进一步的阐述。

参见图1所示，一种电容触摸屏用导电玻璃，该导电玻璃包括玻璃基板1，所述玻璃基板1的上表面沿其厚度方向依次层叠设有第一油墨层2、第一消影层、导电膜层5，该玻璃基板1的下表面上设有第二消影层。该第一油墨层2所用的油墨为耐酸碱、耐高温、绝缘的油墨，该导电膜层5上还刻蚀有显示图像的导电线路。这里的导电膜层5为ITO导电膜层5。

在本实施例中，该第一消影层包括依次层叠于第一油墨层2上表面上的第一Nb₂O₅膜层3、第一SiO₂膜层4，该第二消影层包括依次层叠于玻璃基板1下表面上的第二Nb₂O₅膜层6、第二SiO₂膜层7。且该第一油墨层2的厚度不超过5μm，第一Nb₂O₅膜层3、第一SiO₂膜层4、第二Nb₂O₅膜层6、第二SiO₂膜层7及ITO导电膜层5中每个膜层的厚度均在45~55nm间。从而使得最终制成的触摸屏超薄化。

该电容触摸屏用导电玻璃的制备工艺，包括如下步骤：

1）玻璃基板1的制作，将单片玻璃进行精雕、钢化处理，得到所需的玻璃基板1；

2）丝印，在上述玻璃基板1的上表面上丝印一层耐酸碱、耐高温、绝缘的油墨，烘烤固化后得第一油墨层2，该第一油墨层2的厚度不超过5μm；

3）采用磁控溅射工艺，在真空镀膜设备中，在该第一油墨层2的上表面上依次磁控溅镀第一Nb₂O₅膜层3、第一SiO₂膜层4，在玻璃基板1的下表面上依次磁控溅镀第二Nb₂O₅膜层6、第二SiO₂膜层7，而后进行烘烤至消影层中的各个膜层烘干，再在第一SiO₂膜层4的上表面上镀覆ITO导电膜层5；

4）在该ITO导电膜层5上刻蚀导电线路，即得电容触摸屏用的导电玻璃。

在这里，步骤3）中，可在同一真空镀膜设备中同时对第一油墨层2的上表面、玻璃基板1的下表面进行溅镀消影层，实现双面镀膜一次成形，减少了工艺步骤，同时减少了设备配置并节约了生产空间，同时有效地减少了镀膜耗材的使用量。

在这里，步骤4）中可以通过黄光蚀刻工艺在该ITO导电膜层5上蚀刻所需的导电线路。当然还可通过如下方法进行刻蚀出导电线路：采用耐酸不耐碱的油墨在该ITO导电膜层5的上表面绘制出所需的导电线路图，而后将该导电玻璃置于浓度为10%的盐酸溶液中进行酸洗，通过酸洗将该ITO导电膜层5上未被油墨覆盖的部分蚀刻掉；待蚀刻完毕后，再将该导电玻璃置于浓度为10%的氢氧化钠溶液中进行碱洗，通过碱洗将该耐酸不耐碱的油墨溶解，所得的导电玻璃即可用于制作电容触摸屏。

通过上述方法制得的导电玻璃，其透过率（550nm波长）为≥88.5%，其反射率明显降低，采用了该导电玻璃的电容触摸屏在超薄化的同时提高了消影效果。而采用先在玻璃基板表面丝印一层耐酸碱、耐高温、绝缘的油墨层而后再进行镀膜，使得最终制成的触摸屏在与显示器贴合时，其贴合率可达90%以上。

上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围，凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。

Claims (5)

1.一种电容触摸屏用导电玻璃，其特征在于：所述导电玻璃包括玻璃基板，所述玻璃基板的上表面上沿其厚度方向依次层叠有第一油墨层、第一消影层、导电膜层，所述导电玻璃还包括设于所述玻璃基板下表面上的第二消影层，所述第一油墨层所用油墨为耐酸碱、耐高温、绝缘的油墨，所述导电膜层上还刻蚀有显示图像的导电线路，所述第一消影层包括依次层叠于所述第一油墨层上表面上的第一Nb₂O₅膜层、第一SiO₂膜层，所述第二消影层包括依次层叠于所述玻璃基板下表面上的第二Nb₂O₅膜层、第二SiO₂膜层，所述第一Nb₂O₅膜层、所述第一SiO₂膜层、所述第二Nb₂O₅膜层、所述第二SiO₂膜层及所述导电膜层中每个膜层的厚度均在45～55nm间，所述第一油墨层的厚度不超过5μm。

2.根据权利要求1所述电容触摸屏用导电玻璃，其特征在于：所述导电膜层为ITO导电膜层。

3.一种用于制备权利要求1至2任一所述的电容触摸屏用导电玻璃的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：

1)玻璃基板的制作，将单片玻璃进行精雕、钢化处理，得到所需的玻璃基板；

2)丝印，在上述玻璃基板的上表面上丝印一层耐酸碱、耐高温、绝缘的油墨，固化后得所述第一油墨层；

3)在所述第一油墨层的上表面依次镀所述第一消影层、所述导电膜层，在所述玻璃基板的下表面上镀所述第二消影层；

4)在所述导电膜层上刻蚀导电线路，即得电容触摸屏用的导电玻璃；

所述步骤4)中的蚀刻处理方法如下：采用耐酸不耐碱的油墨在所述导电膜层的上表面上绘制出所需的导电线路图，而后将该玻璃基板依次经过酸洗、碱洗后即可完成对所述导电膜层的刻蚀处理。

4.根据权利要求3所述的电容触摸屏用导电玻璃的制备工艺，其特征在于，所述步骤4)中采用黄光蚀刻工艺在所述导电膜层上蚀刻所需的导电线路。

5.根据权利要求3所述的电容触摸屏用导电玻璃的制备工艺，其特征在于，步骤3)中的所述第一消影层、所述第二消影层、所述导电膜层均是采用磁控溅射镀膜成形的。