DE69600644T2 - Polymere und ihre Verwendung in fotoempfindlichen Zusammensetzungen - Google Patents
Polymere und ihre Verwendung in fotoempfindlichen ZusammensetzungenInfo
- Publication number
- DE69600644T2 DE69600644T2 DE69600644T DE69600644T DE69600644T2 DE 69600644 T2 DE69600644 T2 DE 69600644T2 DE 69600644 T DE69600644 T DE 69600644T DE 69600644 T DE69600644 T DE 69600644T DE 69600644 T2 DE69600644 T2 DE 69600644T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- polymer
- alcohol
- maleic anhydride
- weight
- mole percent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 103
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 66
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical group O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 21
- -1 arylalkyl alcohol Chemical compound 0.000 claims abstract description 19
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 229940067107 phenylethyl alcohol Drugs 0.000 claims description 7
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 6
- VSSAZBXXNIABDN-UHFFFAOYSA-N cyclohexylmethanol Chemical compound OCC1CCCCC1 VSSAZBXXNIABDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 claims description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 5
- CLYAQFSQLQTVNO-UHFFFAOYSA-N 3-cyclohexylpropan-1-ol Chemical compound OCCCC1CCCCC1 CLYAQFSQLQTVNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 claims description 4
- NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N (3S)-octan-3-ol Natural products CCCCCC(O)CC NMRPBPVERJPACX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1-hexanol Natural products CCCCC(O)CCC WOFPPJOZXUTRAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MQWCXKGKQLNYQG-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-ol Chemical compound CC1CCC(O)CC1 MQWCXKGKQLNYQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical group 0.000 claims 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 2
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 claims 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 claims 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 abstract description 17
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 11
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 6
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 abstract description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000010408 film Substances 0.000 description 16
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 14
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 8
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 7
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 5
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 5
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 4
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 3
- UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N butyl maleate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 3
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N aldehydo-D-glucose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C=O GZCGUPFRVQAUEE-SLPGGIOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- MQRJBSHKWOFOGF-UHFFFAOYSA-L disodium;carbonate;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O MQRJBSHKWOFOGF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- WOLATMHLPFJRGC-UHFFFAOYSA-N furan-2,5-dione;styrene Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1.C=CC1=CC=CC=C1 WOLATMHLPFJRGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 150000007974 melamines Chemical class 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 2
- 229940001593 sodium carbonate Drugs 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940076133 sodium carbonate monohydrate Drugs 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 2
- MXFQRSUWYYSPOC-UHFFFAOYSA-N (2,2-dimethyl-3-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C=C MXFQRSUWYYSPOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC(OC(=O)C=C)CC1 OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSOOIVBINKDISP-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(CCC)OC(=O)C(C)=C HSOOIVBINKDISP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 1-amino-3-(4-methoxyphenoxy)propan-2-ol Chemical compound COC1=CC=C(OCC(O)CN)C=C1 KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRZPQLZONWIQOJ-UHFFFAOYSA-N 10-(2-methylprop-2-enoyloxy)decyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C LRZPQLZONWIQOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHNJVKIVSXGYBD-UHFFFAOYSA-N 10-prop-2-enoyloxydecyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCCCCCOC(=O)C=C RHNJVKIVSXGYBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIGVPIXONIAZHK-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(C)(C)CO MIGVPIXONIAZHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFGALGYVFGDXIX-UHFFFAOYSA-N 2,3-Dimethylmaleic anhydride Chemical compound CC1=C(C)C(=O)OC1=O MFGALGYVFGDXIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSYVFGQQLJNJJG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-aminophenyl)sulfanylethylsulfanyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1SCCSC1=CC=CC=C1N BSYVFGQQLJNJJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylacrylic acid Chemical compound CCC(=C)C(O)=O WROUWQQRXUBECT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 3,4-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C(C)=C HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXGOOCLYBPQWNG-UHFFFAOYSA-N 3-ethylfuran-2,5-dione Chemical compound CCC1=CC(=O)OC1=O AXGOOCLYBPQWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 3-phenylfuran-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUTBKTUHIQFLPI-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QUTBKTUHIQFLPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJMYQRVWBCSLEU-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylidenebutanoic acid Chemical compound OCCC(=C)C(O)=O NJMYQRVWBCSLEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAMCLRBWHRRBCN-UHFFFAOYSA-N 5-prop-2-enoyloxypentyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCOC(=O)C=C XAMCLRBWHRRBCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical class COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N Padimate O Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 WYWZRNAHINYAEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVGGFVNRRGKACD-UHFFFAOYSA-N [2,2,4-trimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)pentyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C(C)C)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C TVGGFVNRRGKACD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKZIUSOJQLYFSE-UHFFFAOYSA-N difluoroboron Chemical compound F[B]F OKZIUSOJQLYFSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical group NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIYCHXAGWOYNNA-UHFFFAOYSA-N vinyl sulfide Chemical group C=CSC=C UIYCHXAGWOYNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/14—Esterification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2810/00—Chemical modification of a polymer
- C08F2810/20—Chemical modification of a polymer leading to a crosslinking, either explicitly or inherently
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2810/00—Chemical modification of a polymer
- C08F2810/30—Chemical modification of a polymer leading to the formation or introduction of aliphatic or alicyclic unsaturated groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft Lichtabbildungszusammensetzungen, wie Photoresiste, die bei der Herstellung gedruckter Schaltungsplatinen brauchbar sind, und speziell solche Zusammensetzungen, die nach dem Belichten mit aktinischer Strahlung und Entwicklung in alkalischer wäßriger Lösung mit stark alkalischen wäßrigen Lösungen weiter verarbeitet werden. Die Erfindung ist auch auf Lichtabbildungszusammensetzungen für sekundäre bilderzeugende Anwendungen, wie zur Erzeugung von Lötmasken, gerichtet. Die Erfindung betrifft auch klebfreie Lichtabbildungszusammensetzungen sowohl für primäre als auch für sekundäre Abbildung, die klebfrei sind und die daher zur Kontaktbilderzeugung verwendet werden können.
- Lichtabbildungszusammensetzungen, die beispielsweise als Photoresiste zur Herstellung von gedruckten Schaltungsplatinen brauchbar sind, werden in der US-Patentschrift 3,953,309 von Gilano et al. beschrieben. Die Hauptkomponenten der Zusammensetzung sind ein photopolymerisierbares Material, z. B. ein α,β-ethylenisch ungesättigtes Monomer oder kurzkettiges Oligomer, ein Photoinitiatorchemikaliensystem und ein säurefunktionelles Bindemittel, wie ein Copolymer von Styrol und Monobutylmaleat. Die in der US-Patentschrift 3,953,309 beschriebene Lichtabbildungszusammensetzung hat auch einen Inhibitor für freie Radikale, um eine vorzeitige durch Wärme ausgelöste Polymerisation zu verhindern.
- Die in der US-Patentschrift 3,953,309 beschriebenen Lichtabbildungszusammensetzungen sind in alkalischer wäßriger Lösung entwickelbar, wie in verdünnter Natriumkarbonatlösung, als ein Ergebnis signifikanter Carbonsäurefunktionalität des Bindemittelpolymers. Beispielsweise in einem Styrol/Monobutylmaleatpolymer liefert jede enthaltene Monobutylmaleateinheit einen nichtveresterten Carboxylrest. Eine Schicht von Lichtabbildungszusammensetzung wird nach dem bildweisen Belichten mit aktinischer Strahlung und Entwicklung in alkalischer wäßriger Lösung zur Entfernung nicht belichteter Bereiche der Schicht einer Säureätzlösung, wie Eisen-III-chlorid, ausgesetzt, um darunterliegendes Kupfer von einem Schaltungsplatinenrohling zu ätzen.
- Lichtabbildungszusammensetzungen unter Verwendung von Styrol und Monoestern von Maleinsäureanhydrid als Bindemittelpolymere werden auch in den US-Patentschriften 4,273,857 und 4,293,635 beschrieben. Bindemittel, die Copolymere von Styrol und Monoestern von Maleinsäureanhydrid sind, sind im Handel erhältlich, z. B. Scripset®-Harze, die von der Monsanto Chemical Co. vertrieben werden.
- Obwohl die Bearbeitung nach der Entwicklung in der US-Patentschrift 3,953,309 mit einer sauren Lösung erfolgt, werden andere nach der Entwicklung durchgeführte Verarbeitungen in stark alkalischen Lösungen durchgeführt, wie in ammoniakalischen Ätzmitteln oder Metallplattierlösungen. Die Säurefunktionalität der Polymere in den obengenannten Patenten macht sie zwar in alkalischen wäßrigen Lösungen entwickelbar, doch unterliegen auch photopolymerisierbare Bereiche der Resistschicht einem Abbau in stark alkalischen wäßrigen Lösungen. In stark alkalischen Umgebungen würden solche Resiste delaminiert und abgestreift.
- Die US-Patentschrift 4,987,054 beschreibt die Verwendung eines aminmodifizierten Methylmethacrylat/Styrol/Maleinsäureanhydrid-"Copolymers", das nach dem Belichten und Entwickeln thermisch gehärtet werden kann. Diese thermische Härtung erzeugt einen Film, der ausgezeichnete Beständigkeit gegen alkalische Verarbeitungsmedien hat. Die zusätzliche thermische Härtungsstufe nach der Entwicklung kann jedoch bei der Produktion gedruckter Schaltungsplatinen mit großen Volumen unpraktisch sein.
- Die US-Patentschrift 4,008,087 beschreibt mit Phenethanol veresterte Styrol/Maleinsäureanhydridcopolymere. Die Polymere werden in Silberhalogenid-Photoemulsionen verwendet.
- Die US-Patentschrift 4,722,947 beschreibt strahlungshärtbare Polymere, die Styrol/Maleinsäureanhydridcopolymere sind, die mit einer Hydroxyalkylacrylylverbindung und gegebenenfalls mit einem anderen Alkohol, wie einem einwertigen Arylalkylalkohol, verestert sind. Die Zusammensetzungen, die die veresterten Polymere enthalten, sind brauchbar in strahlungsgehärteten Zusammensetzungen, wie Überzügen, Klebstoffen und Folien.
- Die US-Patentschrift 4,273,857 beschreibt Lichtabbildungszusammensetzungen, die Styrol/- Maleinsäureanhydridcopolymere enthalten, welche teilweise mit Methanol und Isopropanol verestert sind.
- Gemäß der Erfindung bekommt man ein neues Polymer, welches ein Styrol/Maleinsäureanhydridcopolymer ist, in welchem die eingearbeiteten Maleinsäureanhydrideinheiten zu etwa 50 - etwa 65 Mol-% mit einem Alkyl-, Aryl-, Cycloalkyl-, Alkylaryl- oder Arylalkylalkohol mit einem Molekulargewicht größer als 100, zu etwa 15 bis etwa 50 Mol-% mit einem C&sub1;-C&sub3;-Alkylalkohol und zu wenigstens etwa 80 Mol-% insgesamt monoverestert sind. Das Polymere hat etwa 45 bis etwa 65 Mol-% enthaltene Styroleinheiten und etwa 35 bis etwa 55 Mol-% enthaltene Maleinsäureanhydrideinheiten, ein Molekulargewicht (Gewichtsmittel) zwischen etwa 80.000 und etwa 200.000 und eine Säurezahl zwischen etwa 170 und etwa 220.
- Die Erfindung ist auch auf eine Lichtabbildungszusammensetzung gerichtet, die sowohl mit alkalisch wäßriger Lösung entwickelbar ist, aber auch anschließend an das Belichten und Entwickeln in stark alkalischen Medien, wie zusätzlichen Metallplattierbädern und ammonialkalischen Ätzmitteln, verarbeitbar ist. Die Lichtabbildungszusammensetzung umfaßt A) zwischen etwa 25 und etwa 75 Gew.-% eines Bindemittelpolymers, B) zwischen etwa 20 und etwa 60 Gew.-% eines photopolymerisierbaren Materials, welches ein mehrfunktionelles photopolymerisierbares Monomer oder kurzkettiges Oligomer ist, und C) zwischen etwa 2 und etwa 20 Gew.-% eines chemischen Photoinitiatorsystems, wobei die Gewichtsprozente auf dem Gesamtgewicht der Komponenten A) - C) beruhen. Die Verbesserung ist die Verwendung eines Bindemittelpolymers A) in der Lichtabbildungszusammensetzung, welches ein Styrol/- Maleinsäureanhydridcopolymer ist, in dem die enthaltenen Maleinsäureanhydrideinheiten zu etwa 50 bis etwa 65 Mol-% mit einem Alkyl-, Aryl-, Cycloalkyl-, Alkaryl- oder Arylalkylalkohol mit einem Molekulargewicht größer als 100, zu etwa 15 bis etwa 50 Mol-% mit einem C&sub1;-C&sub3;- Alkylalkohol und zu wenigstens etwa 80 Mol-% insgesamt monoverestert sind. Das Polymer hat etwa 45 bis etwa 65 Mol-%, vorzugsweise etwa 50 bis etwa 55 Mol-% eingearbeitete Styroleinheiten und etwa 35 bis etwa 55 Mol-%, vorzugsweise etwa 45 bis etwa 50 Mol-% eingearbeitete Maleinsäureanhydrideinheiten, ein Molekulargewicht (Gewichtsmittel) zwischen etwa 80.000 und etwa 200.000 und eine Säurezahl zwischen etwa 170 und etwa 220.
- Die Erfindung ist auch auf eine Lichtabbildungszusammensetzung für sekundäre Abbildung, wie zur Herstellung einer Lötmaske, gerichtet. Unter einer Lötmaske versteht man hier eine harte dauerhafte Schicht, die wenigstens den Minimalanforderungen des Abriebbeständigkeitstests nach IPC-SM-840B, Tabelle 12, Summary of Criteria for Qualification/Conformance (Institute for Interconnecting and Packaging Electronic Circuits) genügt. Eine Lötmaskenzusammensetzung nach der Erfindung umfaßt A) etwa 20 bis etwa 70 Gew.-% eines Bindemittelpolymers, welches das oben beschriebene neue Polymer ist, B) etwa 20 bis etwa 55 Gew.-% eines Lichtabbildungsmaterials, welches ein mehrfunktionelles photopolymerisierbares Monomer oder kurzkettiges Oligomer ist, C) etwa 2 bis 15 Gew.-% eines chemischen Photoinitiatorsystems, D) etwa 5 bis etwa 10 Gew.-% eines Epoxy-Acrylatoligomers zusätzlich zu und ausgenommen von B) und E) etwa 1 bis etwa 5 Gew.-% eines Aminoplasten mit reaktiven Hydroxylgruppen. Die Gewichtsprozentsätze beruhen auf der Gesamtheit der Bestandteile A) bis E).
- Die Erfindung bezieht sich auch auf eine sekundär abbildende Lichtabbildungszusammensetzung mit A) etwa 20 bis etwa 50 Gew.-% eines Bindemittelpolymers, welches das oben beschriebene neue Polymer ist, B) etwa 20 bis etwa 40 Gew.-% eines Lichtabbildungsmaterials, welches ein mehrfunktionelles photopolymerisierbares Monomer oder kurzkettiges Oligomer ist, C) etwa 2 bis etwa 15 Gew.-% eines chemischen Photoinitiatorsystems, D) etwa 15 bis etwa 35 Gew.-% eines Epoxyharzes und E) etwa 0,01 bis etwa 5 Gew.-% Härter und/oder Härtungskatalysator für das Epoxyharz. Die Gewichtsprozentsätze beruhen auf der Gesamtheit der Bestandteile A) bis E).
- Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Belichtung entweder einer primär abbildenden oder einer sekundär abbildenden Lichtabbildungszusammensetzung, die das neue Bindemittelpolymer, wie oben angegeben, enthält, indem man die im wesentlichen klebfreie Oberfläche der Lichtabbildungszusammensetzung direkt mit einer Druckvorlage in Berührung bringt, die Lichtabbildungszusammensetzung mit aktinischer Strahlung belichtet und anschließend die Druckvorlage entfernt, um die Lichtabbildungszusammensetzung weiter bearbeiten zu können.
- Das derzeit bevorzugte Verfahren zur Bildung des Polymers der vorliegenden Erfindung besteht darin, anfangs Styrol und Maleinsäureanhydrid durch ein Polymerisationsverfahren mit freien Radikalen zu copolymerisieren. Styrol und Maleinsäureanhydrid polymerisieren bekanntermaßen in einem regelmäßigen abwechselnden Muster, welches ein Polymer mit geordnetem Grundgerüst liefert. Demnach ist das Molverhältnis von Styrol und Maleinsäureanhydrid etwa 1 : 1, d. h. zwischen etwa 45 und etwa 65 Mol-% Styrol und zwischen etwa 35 und etwa 55 Mol-% Maleinsäureanhydrid. In das Polymer eingearbeitet werden Styroleinheiten -CH(Phenyl)- CH&sub2;. Eingearbeitet in das Polymer werden Maleinsäureanhydrideinheiten
- Obwohl Styrol das bevorzugte Comonomer ist, das zur Bildung des Bindemittelpolymers verwendet wird, kann auch mit C&sub1;-C&sub6;-Alkyl substituiertes Styrol, entweder α-substituiert, wie α-Methylstyrol, oder an einem aromatischen Ring substituiert, wie Vinyltoluol, verwendet werden, wie auch Gemische aus solchem Styrol und/oder substituiertem Styrol benutzt werden können.
- Obwohl Maleinsäureanhydrid das bevorzugte Copolymer ist, können auch C&sub1;-C&sub3;-mono- oder -di-alkylsubstituierte und arylsubstituierte Maleinsäureanhydride benutzt werden, wie 2- Methylmaleinsäureanhydrid, 2-Ethylmaleinsäureanhydrid, 2-Phenylmaleinsäureanhydrid und 2,3-Dimethylmaleinsäureanhydrid.
- Anschließend wird das Styrol/Maleinsäureanhydrid-Grundgerüstpolymer mit dem verestert, was hier als "ein erster Alkohol" oder ein "Hauptalkohol" bezeichnet wird, der ein Alkyl-, Aryl-, Cycloalkyl-, Arylalkyl- oder Alkylarylmonoalkohol mit einem Molekulargewicht größer als 100 ist. Auch ein Gemisch solcher Alkohole ist geeignet. Vorzugsweise hat der verwendete Hauptalkohol einen aromatischen Rest oder einen cycloaliphatischen Rest. Einige Beispiele geeigneter Hauptalkohole sind 3-Cyclohexyl-1-propanol, Cyclohexylmethanol, Phenylethylalkohol, Methylcyclohexanol und 2-Ethyl-1-hexanol. Vom Standpunkt der Leistung sind derzeit 3- Cyclohexyl-1-propanol und Cyclohexylmethanol bevorzugt. Phenylethylalkohol ergibt aber auch ausgezeichnete Leistung und ist vom Kostenstandpunkt derzeit bevorzugt. Der Hauptalkohol wird so vorgesehen, daß er etwa 50 bis etwa 65 Mol-% der enthaltenen Maleinsäureanhydrideinheiten des Polymers verestert. Typischerweise verläuft die Veresterungsreaktion nicht vollständig. Somit wird ein leichter Überschuß des Hauptalkohols verwendet, d. h. zwischen etwa 1 und etwa 5 Mol-% im Überschuß gegenüber dem gewünschten Veresterungsgrad. Die relativ großen hydrophoben Gruppen des Hauptalkohols dürften primär verantwortlich sein, um der das Polymer enthaltenden Lichtabbildungszusammensetzung ihre Beständigkeit gegenüber stark alkalischen Lösungen zu verleihen. Das Molekulargewicht des Hauptalkohols liegt typischerweise nicht oberhalb etwa 250 und gewöhnlich nicht oberhalb etwa 200.
- Es erwies sich als notwendig, daß das Bindemittelpolymer in einem möglichst hohen Maß verestert wird, d. h. vorzugsweise bis zu wenigstens etwa 80 Mol-% der enthaltenen Maleinsäureanhydrideinheiten. Ein solch hoher Veresterungsgrad kann gewöhnlich nicht leicht unter Verwendung des Hauptalkohols alleine erreicht werden. Demnach wird das teilveresterte Polymer weiter mit dem C&sub1;-C&sub3;-Alkylalkohol verestert, welcher hier als ein "zweiter Alkohol" oder "Minderalkohol" bezeichnet wird. Somit sind geeignete Minderalkohole Methanol, Ethanol und n-Propanol. Isopropanol erwies sich als nicht besonders gut arbeitend. Methanol ist der bevorzugte Minderalkohol. Der Minderalkohol erreicht wahrscheinlich wegen der kleinen Molekülgröße den Gesamtveresterungsgrad, der unter Verwendung des Hauptalkohols alleine nicht erreichbar ist. Die zusätzliche Veresterung, die man durch den Minderalkohol bekommt, verstärkt die Säurezahl durch Erzeugung des nichtveresterten Carboxylrestes der eingearbeiteten Maleinsäureanhydridhalbestereinheiten. Wiederum wird ein leichter Überschuß des Minderalkohols, z. B. zwischen etwa 1 und etwa 5 Mol-% Überschuß, verwendet.
- In beiden Veresterungsverfahren wird ein Halbester eines jeden Maleinsäureanhydridrestes erzielt, wobei die zweite funktionelle Carbonsäuregruppe schwieriger zu verestern ist. So erzeugt die Veresterungsreaktion auch die Säurefunktionalität, die das Polymer in alkalischer wäßriger Lösung entwickelbar macht. Obwohl 100% der Maleinsäureanhydridreste annehmbar verestert werden können, bleibt typischerweise ein kleiner Prozentsatz, z. B. 20 oder weniger Mol-%, der Maleinsäureanhydridreste unverestert.
- Um das Bild zu erzeugen, enthält die negativ wirkende Lichtabbildungszusammensetzung B) photopolymerisierbare mehrfunktionelle Monomere oder Oligomere mit niedrigem Molekulargewicht, besonders α,β-ethylenisch ungesättigte Monomere oder Oligomere. Einige besonders geeignete mehrfunktionelle Acrylmonomere sind Tetraethylenglycoldiacrylat (TEGDA), Trimethylolpropantriacrylat (TMPTA), Butandioldimethacrylat (BDDMA) und Pentaerythrittriacrylat (PETA). Weitere mehrfunktionelle Monomere sind beispielsweise 1,5-Pentandioldiacrylat, Ethylenglycoldiacrylat, 1,3-Propandioldiacrylat, Decamethylenglycoldiacrylat, Decamethylenglycoldimethacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, 2,2-Dimethylolpropandiacrylat, Glycerindiacrylat, Tripropylenglacoldiacrylat, Glycerintriacrylat, 2,2-Di-(p-hydroxyphenyl)- propandimethacrylat, Triethylenglycoldiacrylat, Polyoxyethyl-2,2-di-(p-hydroxyphenyl)-propandimethacrylat, Triethylenglycoldimethacrylat, Polyoxypropyltrimethylolpropantriacrylat, Ethylenglycoldimethacrylat, Butylenglycoldimethacrylat, 1,3-Propandioldimethacrylat, 1,2,4- Butantrioltrimethacrylat, 2,2,4-Trimethyl-1,3-pentandioldimethacrylat, Pentaerythrittrimethacrylat, 1-Phenylethylen-1,2-dimethacrylat, Pentaerythrittetramethacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, 1,5-Pentandioldimethacrylat und 1,4-Benzoldioldimethacrylat. Acrylat-mehrfunktionelle Oligomere, Polyester-, Urethan-, Epoxy- und Acryloligomere, die mit Acrylat- oder Methacrylatresten funktionalisiert sind, sind bei dieser Erfindung auch brauchbar. Solche Oligomeren sollten Molekulargewichte unter etwa 3.000, vorzugsweise unter etwa 2.000 haben.
- Die Polymerisation der Monomeren und/oder Oligomeren nach Belichten mit aktinischer Strahlung einzuleiten, enthält die Lichtabbildungszusammensetzung C) einen oder mehrere geeignete Photoinitiatoren oder chemische Photoinitiatorsysteme. Geeignete Photoinitiatoren sind beispielsweise Benzoinether, Benzilketale, Acetophenone, Benzophenone und verwandte Verbindungen mit Aminen.
- Die Zusammensetzung enthält allgemein zusätzliche geringere Bestandteile, wie im Stand der Technik bekannt. Beispielsweise enthält die Zusammensetzung allgemein einen Inhibitor für freie Radikale, um eine vorzeitige thermische Polymerisation des Monomers oder Oligomers B) zu verhindern. Andere herkömmliche Zusatzstoffe enthalten Farbstoffe, Flußsteuerungsmodifiziermittel, Antischäumungsmittel, Pigmente, Antioxidationsmittel usw.
- Die Bestandteile der Zusammensetzung werden in einem geeigneten Lösungsmittel, wie Aceton oder Methylethylketon (MEK) aufgelöst. Typischerweise liegt der Feststoffgehalt der Zusammensetzung zwischen etwa 20 und etwa 60%, doch kann dies je nach der Anwendung variieren.
- Es liegt weiterhin innerhalb des Gedankens der vorliegenden Erfindung, ein Chemikaliensystem, das nach der Entwicklung härtbar ist, einzuschließen, welches die Lichtabbildungszusammensetzung hart und dauerhaft macht. Solche härtenden Systeme steigern die Vernetzungsdichte und machen dabei die Zusammensetzung geeignet als eine Maske, wie eine Lötmaske. Das System kann beispielsweise durch Hitze, Ultraviolettstrahlung (UV) oder Elektronenstrahlbestrahlung (EB) gehärtet werden. Typischerweise ist das thermisch härtende Chemikaliensystem ein Epoxyharz plus ein Härtungsmittel und/oder Härtungskatalysator für das Epoxyharz. Beispiele von Lichtabbildungszusammensetzungen, die chemische Systeme zur Härtung nach der Entwicklung enthalten, finden sich in den US-Patentschriften 5,229,252 und 5,364,736.
- Ein Typ von sekundärer Abbildungszusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung enthält ein Epoxyacrylatoligomer und ein Aminoplastharz mit reaktiven Hydroxylgruppen, wie ein Melamin-Formaldehydharz oder ein Harnstoff-Formaldehydharz. Unter Epoxyacrylatoligomer versteht man hier ein aus einem Epoxygrundgerüst gebildetes Oligomer, das mit Acrylsäuren so umgesetzt ist, daß wenigstens etwa 90% der Epoxygruppen mit den Acrylsäuren verestert sind. Unter Acrylsäuren versteht man Acrylsäure und substituierte Acrylsäuren, wie Methacrylsäure, Ethacrylsäure und Hydroxyethylacrylsäure. Bei der Umsetzung der Carboxylgruppe mit den Epoxygruppen des Epoxyoligomers bildet der Carbonsäurerest eine Esterbindung mit dem Epoxyoligomergrundgerüst, und eine Hydroxylgruppe wird an dem vizinalen Kohlenstoffatom gebildet. Da im wesentlichen alle Epoxygruppen mit Acrylsäureresten umgesetzt werden, fungiert das Epoxyacrylatoligomer primär als ein Acrylat, wobei die Acrylatreste des Oligomers zusammen mit den Acrylmonomeren und/oder anderen Acryloligomeren während der photoinitiierten Reaktion polymerisieren, was belichtete Bereiche der Lichtabbildungszusammensetzungsschicht in wäßrig alkalischer Lösung unlöslich macht. Die wesentliche Hydroxylfunktionalität liefert die Basis für die Vernetzung mit dem Aminoplastharz mit Hydroxylgruppenreaktivität nach der Entwicklung.
- Das Aminoplastharz für Vernetzung des Epoxyacrylatoligomers ist ein Harnstoff-Formaldehydharz oder Melamin-Formaldehydharz, wobei letzteres bevorzugt ist. Bevorzugte Melamin- Formaldehydharze haben methylierte Melaminreste.
- Ein anderer Typ von sekundärer Abbildungszusammensetzung gemäß der vorliegenden Erfindung benutzt ein Epoxyharz und ein Epoxyhärtungsmittel und/oder einen Epoxyhärtungskatalysator. Eine große Vielzahl von Epoxyharzen ist für die Verwendung gemäß der vorliegenden Erfindung geeignet. Typischerweise werden Epoxyverbindungen vom Bisphenol A- Typ und Novalac-Typ verwendet. Andere geeignete Epoxyharze sind beispielsweise in der US- Patentschrift 4,092,443 beschrieben. Cycloaliphatische Epoxyde, wie jene, die unter der Handelsbezeichnung Cynacure®-UVR-6100 und UVR-6110 von der Union Carbide, Danbury Conn. betrieben werden, sind auch brauchbar. Gemäß der Erfindung brauchbare Epoxyharze haben vorzugsweise Epoxyäquivalentgewichte zwischen etwa 200 und etwa 700.
- Epoxyhärtungsmittel können unter jenen ausgewählt werden, die in der Technik bekannt sind, wie unter Carbonsäureanhydriden. Bevorzugte Epoxyhärtungsmittel sind blockiertes Isocyanat, wie -Caprolactam-blockiertes Isophoron, welches bei einer Schwellenhärtungstemperatur entblockiert wird.
- Beispiele von Epoxyhärtungskatalysatoren schließen Dicyandiamid, Komplexe von Aminen, wie allein tertiären Aminen, mit Bortrifluorid oder Bortrichlorid, latente Bordifluoridchelate, aromatische Polyamine und Imidazole, wie 2-Ethyl-4-methylimidazol, ein.
- Die Zusammensetzung kann direkt auf einem Rohling, z. B. einer verkupferten Epoxidplatine, die zur Bildung einer gedruckten Schaltungsplatine verwendet wird, oder im Falle einer lötmaskenbildenden Zusammensetzung auf einer gedruckten Schaltungsplatine aufgebracht und dann getrocknet werden, um Lösungsmittelzusammensetzung zu entfernen. Alternativ kann die Zusammensetzung zur Bildung eines Trockenfilmes verwendet werden, indem die Zusammensetzung auf einem Trägerbogen, wie einem Polyesterbogen aufgebracht, die Zusammensetzung getrocknet und danach ein Schutzbogen, wie Polyethylen, aufgebracht wird. Die Zusammensetzung, ob direkt aufgebracht oder von einem Trockenfilm überführt, wird in einer herkömmlichen Weise verarbeitet. Die Zusammensetzung wird durch eine Druckvorlage mit bildweiser aktinischer Strahlung belichtet und dann in einer alkalischen wäßrigen Lösung, wie einer 1%igen Natriumcarbonatlösung entwickelt. Nach dem Entwickeln können die verbleibenden photopolymerisierbaren Bereiche weiter bearbeitet werden, wie in einer stark alkalischen wäßrigen Lösung.
- Obwohl ein Hauptvorteil von Lichtabbildungszusammensetzungen unter Verwendung des Polymers der vorliegenden Erfindung die Widerstandsfähigkeit gegen stark alkalische Lösungen ist, werden auch noch andere überraschende Vorteile erreicht. Die Zusammensetzungen zeigen verbesserte Beständigkeit gegen "Kaltfluß" und "Kantenverschmelzung" selbst mit sehr hohen Gehalten, d. h. mehr als 2%, an Restlösungsmittel in dem getrockneten Film. Dies ist überraschend, da herkömmliche Styrol/Maleatpolymere, wie Scripset®-Harze, oder Acrylatesterpolymere Kantenverschmelzung bei diesem Restlösungsmittelgehalt in einer relativ kurzen Zeitdauer zeigen.
- Die Widerstandsfähigkeit der belichteten und entwickelten Zusammensetzung gegen alkalische Medien schließt lokalisierte alkalische Umgebung ein, wie sie bei Goldplattierverfahren entwickelt wird. Beispielsweise gleicht die US-Patentschrift 4,987,054 ein alkalisches Ätzverfahren an ein Goldelektroplattierverfahren an. Der Säuregehalt (pH) der Goldplattierlösung kann sauer oder neutral sein. Da jedoch das Gold auf einer Kupferfläche galvanisch abgeschieden wird, sammeln sich elektrisch abgeschiedene Nebenprodukte, wie Hydroxid- und Cyanidionen, nahe der Kupfer-Resistgrenzfläche an, was zu einer lokalisierten alkalischen Konzentration führt, die temporär entwickelt wird. Diese lokalisierte alkalische Konzentration kann den Photoresist angreifen und kann eine Delaminierung des Photoresists verursachen.
- Die Zusammensetzungen ergeben verbesserte Filmflexibilität, die von besonderer Wichtigkeit beim Innenplattieren von Durchgangslöchern gedruckter Schaltungsplatinen ist. Dies ist besonders überraschend, da hohe Gehalte an Styrol, d. h. mehr als 30%, enthaltende Polymere gewöhnlich Filme bilden, die extrem spröde sind und leicht zerstört werden.
- Es gibt zwei sehr überraschende Vorteile des Bindemittelpolymers der vorliegenden Erfindung. Lichtabbildungszusammensetzungen unter Verwendung des neuen Polymers der vorliegenden Erfindung sind sehr klebfrei, in der Tat ausreichend, so daß eine Druckvorlage direkt auf eine getrocknete Lichtabbildungszusammensetzung der vorliegenden Erfindung aufgelegt werden kann, die Lichtabbildungszusammensetzung durch die Druckvorlage hindurch belichtet werden kann und die Druckvorlage ohne Mitnahme der Lichtabbildungszusammensetzung entfernt werden kann. Dies gilt sowohl für primär als auch für sekundär abbildende Lichtabbildungszusammensetzungen gemäß der vorliegenden Erfindung. Weiterhin zeigen Lichtabbildungszusammensetzungen, sowohl primär abbildende als auch sekundär abbildende, unter Verwendung des neuen Polymers der vorliegenden Erfindung fast vollständige Ausschaltung einer Polymerisationshemmung durch Sauerstoff.
- Die Vorteile einer Klebfreiheit und einer sehr niedrigen Sauerstoff-Polymerisationshemmung sind beide wichtig, um Lichtabbildungszusammensetzungen der vorliegenden Erfindung in die Lage zu versetzen, mit einer Druckvorlage in direktem Kontakt mit einer getrockneten Lichtabbildungszusammensetzungsschicht abzubilden. Fast alle heutigen Zusammensetzungen müssen durch irgendeine Art von Schutzbogen oder Schutzpolyesterschicht hindurch belichtet werden, da sonst die Druckvorlage an der weichen, klebrigen trockenen Filmzusammensetzung anhaften würde. Beispielsweise haben Trockenfilme einer Lichtabbildungszusammensetzung eine Trägerschicht, die auf dem Film belassen wird, wenn die Druckvorlage darübergelegt wird. Erst nachdem die Lichtabbildungszusammensetzung belichtet ist und nachdem die Druckvorlage anschließend entfernt ist, wird die Schutzschicht entfernt. Ein anderer Weg war der, eine oder mehrere Schutzschichten oder "Deckschichten" vorzusehen, wie in den US- Patentschriften 4,318,957 und 5,270,146 gelehrt wird. Ob nun die Lichtabbildungszusammensetzungsschicht durch eine Schutzschicht, wie einen Polyesterbogen oder durch eine "Deckbeschichtung" belichtet wird, geht durch den zusätzlichen Abstand, durch den das Licht zu der darunterliegenden Lichtabbildungszusammensetzung gehen muß, Auflösung verloren. Der Industrietrend ist der, sich zu kleineren Linien- und Raumerfordernissen zu bewegen, was höhere Auflösung erfordert.
- Das gleiche gilt für sekundäre Abbildungsanwendungen. Die US-Patentschriften 5,164,284, 4,992,354 und 4,889,790 beschreiben Methoden zur Aufbringung sekundär abbildender (lötmaskenbildender) Lichtabbildungszusammensetzungen auf gedruckten Schaltungsplatinen, so daß die Lichtabbildungszusammensetzungen mit den Umrissen der gedruckten Schaltungsplatinen übereinstimmen. Die in diesen Patenten als brauchbar für die Praxis dieser Verfahren beschriebenen Trockenfilme haben eine Zwischenschicht oder eine Deckbeschichtung, die über der Lichtabbildungszusammensetzung liegt und verhindert, daß die Lichtabbildungszusammensetzung an der Druckvorlage anhaftet, und die Lichtabbildungszusammensetzung gegen Sauerstoff schützt. Lichtabbildungszusammensetzungen der vorliegenden Erfindung, die klebfrei sind und die keiner wesentlichen Polymerisationshemmung durch Sauerstoff unterliegen, benötigen nicht eine solche Zwischenschicht oder zusätzliche Bearbeitung, wie Hitzehärtung. Daher kann nicht nur bessere Auflösung erreicht werden, sondern auch bessere Übereinstimmung, um Oberflächenmerkmale einzukapseln.
- Ein anderer sehr wichtiger Vorteil, der mit der Möglichkeit verbunden ist, eine Deckbeschichtung wegzulassen, ist die Kosteneinsparung. Das Material, welches die Deckbeschichtung bildet, ist nicht nur teuer, sondern es ist auch eine zusätzliche Beschichtungsstufe bei der Ausbildung des Trockenfilmes erforderlich. So bietet die Erfindung sehr wesentliche Kosteneinsparungen.
- Die Erfindung wird nun in weiteren Einzelheiten anhand der speziellen Beispiele beschrieben.
- Ein Monomerengemisch wurde durch Vereinigung von 178,3 g Maleinsäureanhydrid, 215,6 g Styrol, 117,5 g Methylethylketon (MEK) und 3,3 g Benzoylperoxid hergestellt. 470 g MEK wurden in einem Kolben, der mit einem mechanischen Rührer und einem Kondensator ausgestattet war, auf 75-80ºC erhitzt. Das Monomerengemisch wurde zu dem heißen MEK während einer Zeitdauer von 6 Stunden zugesetzt, während der Kolbeninhalt auf 75-80ºC gehalten wurde. Das Reaktionsgemisch wurde weitere 12 Stunden auf 75-80ºC erhitzt, wobei während der ersten 8 Stunden 0,66 g Benzoylperoxid alle 2 Stunden zugegeben wurden.
- 148,1 g Phenylethylalkohol plus 11,1 g 4-(N,N-Dimethylamino)-pyridin wurden zu der Styrol/- Maleinsäureanhydridcopolymerlösung zugegeben, und das vereinigte Gemisch wurde 14 Stunden auf 75-80ºC gehalten. Am Ende jener Zeit wurden 265 g MEK und 22,5 g Methanol zugesetzt. Das Gemisch wurde dann 6 Stunden auf 75-80ºC gehalten. Die Lösung von verestertem Polymer wurde dann gekühlt und auf Flaschen abgefüllt.
- Es wurde bestimmt, daß das Polymer ein Molekulargewicht (Gewichtsmittel) von 167.000 und eine Säurezahl von 185 besaß. 52 Mol-% des Polymergrundgerüstes waren eingearbeitete Styroleinheiten, 48 Mol-% eingearbeitete Maleinsäureanhydrideinheiten. 56 Mol-% der enthaltenen Maleinsäureanhydrideinheiten waren mit Phenylethylalkohol halb verestert, 36 Mol-% waren mit Methanol halb verestert, und 8 Mol-% waren unverestert.
- Ein Polymer wurde wie in Beispiel 1 hergestellt, jedoch mit der Ausnahme, daß 138,4 g Cyclohexylmethanol anstelle des Phenylethylalkohols benutzt wurden.
- Es wurde bestimmt, daß das Polymer ein Molekulargewicht (Gewichtsmittel) von 124.000 und eine Säurezahl von 193 besaß. 51 Mol-% des Polymergrundgerüstes waren enthaltene Styroleinheiten, 49 Mol-% Maleinsäureanhydrideinheiten. 53 Mol-% der enthaltenen Maleinhsäureanhydrideinheiten waren mit Cyclohexylmethanol halbverestert, 33 Mol-% waren mit Methanol halbverestert, und 14 Mol-% waren unverestert.
- Zusammensetzungen wurden folgendermaßen bereitet:
- Bestandteile Gew.-%
- Polymer (Beispiel 1) 64,4
- Trimethylolpropantriacrylat 20,6
- Tetraethylenglycoldiacrylat 10,3
- Benzophenon 3,62
- Michler's Keton 0,50
- Haftungsförderer 0,17
- Farbstoffmaterialien 0,134
- Antioxidanzien 0,11
- Flußförderer 0,17
- Polymer (Beispiel 1) 60,8
- Trimethylolpropantriacrylat 19,8
- Polyethylenglycoldiacrylat 10,7
- Ethyl-Michler's Keton 0,3
- 2-Ethylhexyl-p-(N,N-dimethylamino)-Benzoat 3,0
- Benzophenon 4,6
- Thiodiethylen-bis-(3,5-ditertiärbutyl-4- hydroxyhydrocinnamat) (Antioxidationsmittel) 0,4
- Haftungsförderer 0,15
- Farbstoffmaterialien 0,05
- Flußförderer 0,20
- Polymer (Beispiel 2) 52,9
- säurefunktionelles Oligomer (MG, 2000, Säurezahl 174)* 8,33
- Ethoxyliertes Neopentylglycoldiacrylat 10,6
- Ethoxyliertes Trimethylolpropantriacrylat 15,9
- Isopropylthioxanthon 1,7
- 2-Methyl-1-[4-(methylthio)-phenyl]-2-morpholinopropan-1-on 6,0
- 1-Hydroxycyclohexylphenylketon 2,0
- Thiodiethylen-bis-3,5-ditertiärbutyl-4-hydroxyhydrocinnamat 0,33
- Haftungsförderer 0,43
- Farbstoffmaterial 1,32
- Antioxidationsmittel 0,70
- Flußförderer 0,26
- *RSX-89395 erhältlich bei UCB-Radcure
- Jede der Lichtabbildungszusammensetzungen der Beispiele 3-5 wurde auf einem Polyesterträgerbogen aufgebracht und getrocknet. Dann wurde ein Polyethylenschutzbogen aufgebracht. Ein dünner Film von 1,4 mil (3,556 · 10&supmin;² mm) Dicke wurde erhalten. Der Polyethylenbogen wurde entfernt, und der getrocknete Film mit dem Trägerbogen wurde auf eine verkupferte Platine unter Verwendung einer Heißwalzenlaminiereinrichtung auflaminiert. Die Walzentemperatur war 122ºC. Die Walzengeschwindigkeit war 1 m je Minute, und der Walzendruck war 2,8 bar (2,8 · 10&sup5; Pa). Der Polyesterträgerbogen wurde entfernt, und eine Druckvorlage wurde direkt auf die Lichtabbildungszusammensetzungsschicht gelegt. Die Lichtabbildungszusammensetzung wurde mit 81 mJ/cm² aktinischer Strahlung durch die Druckvorlage belichtet. Nach Entfernung der Druckvorlage wurde die Lichtabbildungszusammensetzung in 1%iger Natriumcarbonatmonohydratlösung 35 Sekunden bei 29,4ºC entwickelt, und die Platine wurde in AC-CU-Guard (Olin-Hunt), ammoniakalischem Ätzmittel, bei pH größer als 9 während 2 Minuten bei 49ºC geätzt.
- Eine lötmaskenbildende Lichtabbildungszusammensetzung wird folgendermaßen zusammengestellt:
- Bestandteile Gew.-%
- Polymer (Beispiel 1) 60,0
- Novacure® 3701 (Diacrylatester eines Bisphenol- A-Epoxiharzes) 10,2
- Trimethylolpropantriacrylat 8,2
- Tetraethylenglycoldiacrylat 6,0
- methyliertes Melamin (Vernetzer) 9,2
- Benzophenon 4,6
- Michler's Keton 0,5
- Haftungsförderer 0,2
- Pigment 1,0
- Antioxidationsmittel 0,1
- Flußförderer 0,2
- Die Lichtabbildungszusammensetzung wird in Aceton mit 55% Feststoffen gelöst. Die Zusammensetzung wurde auf einen Polyesterträgerbogen aufgebracht und getrocknet. Sodann wurde ein Polyethylenschutzbogen aufgebracht. Ein Film von 2,0 mil (5,08 · 10&supmin;² mm) Dicke wurde erhalten. Der Polyethylenbogen wurde entfernt, und der Trockenfilm mit dem Trägerbogen wurde auf eine Platine für gedruckte Schaltung unter Verwendung einer Vakuumlaminiervorrichtung auflaminiert. Der Polyesterträgerbogen wurde entfernt, und die Druckvorlage wurde direkt auf die Lichtabbildungszusammensetzungsschicht aufgelegt und die Lichtabbildungszusammensetzung wurde durch eine Druckvorlage mit 165 mJ/cm² aktinischer Strahlung belichtet. Nach Entfernung der Druckvorlage wurde die Lichtabbildungszusammensetzung in 1%iger Natriumcarbonatmonohydratlösung während 45 Sekunden bei 29,4ºC entwickelt. Die restliche Lichtabbildungszusammensetzung wurde dann durch Einbrennen bei 150ºC während 60 Minuten gehärtet.
- Eine lötmaskenbildende Lichtabbildungszusammensetzung wird folgendermaßen zusammengestellt:
- Bestandteile Gew.-%
- Polymer (Beispiel 2) 46,0
- flüssiges cycloaliphatisches Monoepoxyharz, Epoxyäquivalentgewicht 120-130 31,0
- Trimethylolpropantriacrylat 8,2
- Tetraethylenglycoldiacrylat 6,0
- methyliertes Melamin 3,2
- Benzophenon 3,6
- Michler's Keton 0,5
- Haftungsförderer 0,2
- Pigment 1,0
- Antioxidationsmittel 0,1
- Flußförderer 0,2
- Füllstoff (Kieselsäure) 5,0
- Diese Lichtabbildungszusammensetzung wurde verwendet, um einen Trockenfilm und anschließend eine Lötmaske wie im Beispiel 7 zu bilden.
Claims (12)
1. Polymer mit einem von Monomeren gebildeten Grundgerüst, wobei zwischen 45 und
65 mol% dieser Monomere unter Styrol, C&sub1;-C&sub6;-substituiertem Styrol und Gemischen
hiervon ausgewählt sind und zwischen 35 und 55 mol% dieser Monomere unter
Maleinsäureanhydrid, alkylsubstituiertem Maleinsäureanhydrid, aromatisch
substituiertem Maleinsäureanhydrid und Gemischen hiervon ausgewählt sind, die dem
Grundgerüst des Polymers Anhydridgruppen verleihen, wobei von diesen Anhydridgruppen
zwischen 50 und 65 mol% mit einem ersten Alkyl-, Aryl-, Cycloalkyl-, Alkylaryl- oder
Arylalkylalkohol a) mit einem Molekulargewicht von wenigstens 100 oder einem
Gemisch dieser ersten Alkohole a) monoverestert sind und zwischen 15 und 50 mol%
dieser Anhydridgruppen mit einem zweiten C&sub1;-C&sub3;-Alkylalkohol b) oder einem Gemisch
dieser zweiten Alkohole b) monoverestert sind und wobei wenigstens 80 mol% der
Gesamtheit der Anhydridgruppen dieses Polymers A) monoverestert sind und dieses
Polymer ein Molekulargewicht (Gewichtsmittel) zwischen 80 000 und 20 0000 und
eine Säurezahl zwischen 170 und 220 hat.
2. Polymer nach Anspruch 1, bei dem das Polymergrundgerüst von Monomeren gebildet
wird, die unsubstituiertes Styrol und unsubstituiertes Maleinsäureanhydrid umfassen.
3. Polymer nach Anspruch 1 oder 2, bei dem der erste Alkohol a) ein Alkohol mit einem
aromatischen Rest und/oder einem cycloaliphatischen Rest oder ein Gemisch von
Alkoholen mit einem aromatischen Rest und/oder einem cycloaliphatischen Rest ist.
4. Polymer nach einem der vorausgehenden Ansprüche, bei dem der erste Alkohol a)
unter Cyclohexylmethanol, Methylcyclohexanol, Phenylethylalkohol, 2-Ethyl-1-hexanol,
3-Cyclohexyl-1-propanol und Gemischen hiervon ausgewählt ist.
5. Polymer nach Anspruch 4, bei dem der erste Alkohol a) Cyclohexylmethanol ist.
6. Polymer nach Anspruch 4, bei dem der erste Alkohol a) Phenylethylalkohol ist.
7. Polymer nach Anspruch 4, bei dem der erste Alkohol a) 3-Cyclohexyl-1-propanol ist.
8. Polymer nach einem der vorausgehenden Ansprüche, bei dem der zweite Alkohol
Methanol ist.
9. Lichtabbildungszusammensetzung mit
A. zwischen 20 und 75 Gew.-% eines Polymerbindemittels nach einem der
vorausgehenden Ansprüche,
B. zwischen 20 und 60 Gew.-% eines photopolymerisierbaren Materials, welches
ein mehrfunktionelles photopolymerisierbares Monomer oder kurzkettiges
Oligomer ist, und
C. zwischen 2 und 20 Gew.-% eines chemischen Photoinitiatorsystems,
wobei die Gewichtsprozentsätze auf dem Gesamtgewicht der Komponenten A bis C
beruhen.
10. Lichtabbildungszusammensetzung mit
A. zwischen 20 und 70 Gew.-% eines Bindemittelpolymers nach einem der
Ansprüche 1 bis 8,
B. zwischen 20 und 55 Gew.-% eines Lichtabbildungsmaterials, welches ein
mehrfunktionelles photopolymerisierbares Monomer oder kurzkettiges Oligomer
ist,
C. zwischen 2 und 15 Gew.-% eines chemischen Photoinitiatorsystems,
D. zwischen 5 und 10 Gew.-% eines Epoxyacrylatoligomers zusätzlich zu B und
dieses ausgenommen, und
E. zwischen 1 und 5 Gew.-% eines hydroxylgruppenreaktiven Aminoplasten,
wobei die Gewichtsprozentsätze auf der Gesamtheit der Komponenten A bis E
beruhen.
11. Lichtabbildungszusammensetzung mit
A. zwischen 20 und 55 Gew.-% eines Bindemittelpolymers nach einem der
Ansprüche 1 bis 8,
B. zwischen 20 und 40 Gew.-% eines Lichtabbildungsmaterials, welches ein
mehrfunktionelles photopolymerisierbares Monomer oder kurzkettiges Oligomer
ist,
C. zwischen 2 und 15 Gew.-% eines chemischen Photoinitiatorsystems,
D. zwischen 15 und 35 Gew.-% eines Epoxyharzes und
E. zwischen 0,01 und 5 Gew.-% von härtendem Mittel und/oder
Härtungskatalysator für das Epoxyharz,
wobei die Gewichtsprozentsätze auf der Gesamtheit der Komponenten A bis E
beruhen.
12. Verfahren zur Erzeugung eines Resistbildes auf einer Substratoberfläche, bei der man
auf diese Substratoberfläche eine Schicht einer Lichtabbildungszusammensetzung
nach einem der Ansprüche 9 bis 11 aufbringt,
diese Schicht direkt mit einer bildweisen Druckvorlage in Berührung bringt,
die Schicht durch diese Druckvorlage belichtet und sie in alkalischer wäßriger Lösung
entwickelt, um nichtbelichtete Bereiche desselben zu entfernen.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/386,974 US5576145A (en) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | Esterified styrene/maleic anhydride polymer and polymer-containing photoimageable composition having improved alkaline process resistance |
| US08/510,836 US5609991A (en) | 1995-02-10 | 1995-08-03 | Photoimageable composition having improved alkaline process resistance and tack-free surface for contact imaging |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE69600644D1 DE69600644D1 (de) | 1998-10-22 |
| DE69600644T2 true DE69600644T2 (de) | 1999-02-11 |
Family
ID=27011686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE69600644T Expired - Fee Related DE69600644T2 (de) | 1995-02-10 | 1996-02-08 | Polymere und ihre Verwendung in fotoempfindlichen Zusammensetzungen |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5609991A (de) |
| EP (1) | EP0726499B1 (de) |
| JP (1) | JP2950770B2 (de) |
| KR (1) | KR0169207B1 (de) |
| CN (1) | CN1087080C (de) |
| AT (1) | ATE171284T1 (de) |
| AU (1) | AU677537B2 (de) |
| BR (1) | BR9600360A (de) |
| CA (1) | CA2166177C (de) |
| DE (1) | DE69600644T2 (de) |
| ES (1) | ES2123320T3 (de) |
| IL (1) | IL116414A (de) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW353158B (en) * | 1994-03-09 | 1999-02-21 | Nat Starch Chem Invest | Aqueous photoresist composition, method for preparing the same and circuit board comprising thereof |
| US5609991A (en) * | 1995-02-10 | 1997-03-11 | Morton International, Inc. | Photoimageable composition having improved alkaline process resistance and tack-free surface for contact imaging |
| US5576145A (en) * | 1995-02-10 | 1996-11-19 | Morton International, Inc. | Esterified styrene/maleic anhydride polymer and polymer-containing photoimageable composition having improved alkaline process resistance |
| US6066435A (en) * | 1997-06-02 | 2000-05-23 | Ciba Specialty Chemicals Corp. | Liquid photosensitive composition |
| US5922522A (en) * | 1998-04-29 | 1999-07-13 | Morton International, Inc. | Aqueous developing solutions for reduced developer residue |
| US6063550A (en) * | 1998-04-29 | 2000-05-16 | Morton International, Inc. | Aqueous developing solutions for reduced developer residue |
| JP2000047381A (ja) * | 1998-07-02 | 2000-02-18 | Morton Internatl Inc | ソルダ―マスクを形成するための1パ―ト型光画像形成性組成物 |
| US6248506B1 (en) | 1998-12-04 | 2001-06-19 | Nichigo-Morton | Aqueous developing solutions for reduced developer residue |
| EP1008912A1 (de) * | 1998-12-11 | 2000-06-14 | Shipley Company LLC | Lichtempfindliche Bildaufzeichnungszusammensetzungen mit verbesserten Entschichtungseigenschaften und chemischer Beständigkeit |
| US6045973A (en) * | 1998-12-11 | 2000-04-04 | Morton International, Inc. | Photoimageable compositions having improved chemical resistance and stripping ability |
| TW200304449A (en) * | 2002-02-15 | 2003-10-01 | Shipley Co Llc | Functionalized polymer, method of preparing the same, and photoimageable composition |
| MY160392A (en) | 2009-05-07 | 2017-03-15 | Univ Minnesota | Triptolide prodrugs |
| US9150600B2 (en) | 2009-05-07 | 2015-10-06 | Regents Of The University Of Minnesota | Triptolide prodrugs |
| JP5215473B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2013-06-19 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | レジスト材料用感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体 |
Family Cites Families (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3779794A (en) * | 1970-03-05 | 1973-12-18 | Essex Chemical Corp | Polyurethane sealant-primer system |
| US3707521A (en) * | 1970-03-05 | 1972-12-26 | Essex Chemical Corp | Polyurethane sealant-primer system isocyanate-reactive surface primer composition for polyurethane sealants |
| US3953309A (en) * | 1972-12-14 | 1976-04-27 | Dynachem Corporation | Polymerization compositions and processes having polymeric binding agents |
| JPS5753587B2 (de) * | 1974-08-05 | 1982-11-13 | ||
| US4273857A (en) * | 1976-01-30 | 1981-06-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions |
| US4092443A (en) * | 1976-02-19 | 1978-05-30 | Ciba-Geigy Corporation | Method for making reinforced composites |
| NL7800122A (nl) * | 1978-01-05 | 1979-07-09 | Philips Nv | Magnetische registratieband en drager voor een magnetische registratieband. |
| US4176212A (en) * | 1978-01-25 | 1979-11-27 | Design Cote Corporation | Radiation and moisture curable compositions and method of use |
| US4359549A (en) * | 1980-04-14 | 1982-11-16 | Basf Wyandotte Corporation | Polyurethane sealant compositions |
| US4293635A (en) * | 1980-05-27 | 1981-10-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable composition with polymeric binder |
| US4444976A (en) * | 1982-12-20 | 1984-04-24 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Sag resistant two component adhesive and sealant |
| DE3420425A1 (de) * | 1984-06-01 | 1985-12-05 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares gemisch, das als photoinitiator ein 1,3,10-triazaanthracen-4-on- enthaelt |
| US4722947A (en) * | 1985-08-05 | 1988-02-02 | Pony Industries, Inc. | Production of radiation curable partial esters of anhydride-containing copolymers |
| JPS62158710A (ja) * | 1986-01-08 | 1987-07-14 | Ube Ind Ltd | 光硬化性組成物 |
| JPS63123038A (ja) * | 1986-11-12 | 1988-05-26 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 画像形成材料 |
| US5364736A (en) * | 1987-12-07 | 1994-11-15 | Morton International, Inc. | Photoimageable compositions |
| US4889790A (en) * | 1988-02-26 | 1989-12-26 | Morton Thiokol, Inc. | Method of forming a conformable mask on a printed circuit board |
| US5164284A (en) * | 1988-02-26 | 1992-11-17 | Morton International, Inc. | Method of application of a conforming mask to a printed circuit board |
| US4992354A (en) * | 1988-02-26 | 1991-02-12 | Morton International, Inc. | Dry film photoresist for forming a conformable mask and method of application to a printed circuit board or the like |
| DE3814567A1 (de) * | 1988-04-29 | 1989-11-09 | Du Pont Deutschland | Photopolymerisierbare zusammensetzungen mit carboxylgruppen enthaltenden bindemitteln |
| JPH0247661A (ja) * | 1988-08-09 | 1990-02-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電子写真感光体 |
| JPH0247658A (ja) * | 1988-08-10 | 1990-02-16 | Mitsubishi Kasei Corp | 光重合性組成物 |
| JPH0299956A (ja) * | 1988-10-06 | 1990-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パターン形成用コントラストエンハンスト材料 |
| JPH02103049A (ja) * | 1988-10-12 | 1990-04-16 | Tosoh Corp | フォトレジスト組成物 |
| US5229252A (en) * | 1989-06-09 | 1993-07-20 | Morton International, Inc. | Photoimageable compositions |
| JPH04136857A (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-11 | Hitachi Ltd | 光硬化性レジスト組成物およびこれを用いたプリント回路板の製造方法およびプリント回路板 |
| JPH04153657A (ja) * | 1990-10-18 | 1992-05-27 | Nippon Kayaku Co Ltd | カラーフィルター形成用の光重合性組成物 |
| DE4133086A1 (de) * | 1991-09-30 | 1993-05-13 | Inst Technologie Der Polymere | Fotopolymerisierbares material |
| US5270146A (en) * | 1992-04-07 | 1993-12-14 | Morton International, Inc. | Photosensitive laminate having dual intermediate layers |
| CA2090099C (en) * | 1992-05-15 | 1997-01-14 | James Rath | Method of forming a multilayer printed circuit board and product thereof |
| US5296334A (en) * | 1992-08-28 | 1994-03-22 | Macdermid, Incorporated | Radiation-curable composition useful for preparation of solder masks |
| GB2273366B (en) * | 1992-11-18 | 1996-03-27 | Du Pont | Forming images on radiation-sensitive plates |
| JP2877659B2 (ja) * | 1993-05-10 | 1999-03-31 | 日本化薬株式会社 | レジストインキ組成物及びその硬化物 |
| JPH075302A (ja) * | 1993-06-15 | 1995-01-10 | Tosoh Corp | マイクロ集光レンズ形成用感光性組成物 |
| US5576145A (en) * | 1995-02-10 | 1996-11-19 | Morton International, Inc. | Esterified styrene/maleic anhydride polymer and polymer-containing photoimageable composition having improved alkaline process resistance |
| US5609991A (en) * | 1995-02-10 | 1997-03-11 | Morton International, Inc. | Photoimageable composition having improved alkaline process resistance and tack-free surface for contact imaging |
-
1995
- 1995-08-03 US US08/510,836 patent/US5609991A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-15 IL IL11641495A patent/IL116414A/xx not_active IP Right Cessation
- 1995-12-27 CA CA002166177A patent/CA2166177C/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-02-02 AU AU42294/96A patent/AU677537B2/en not_active Ceased
- 1996-02-06 KR KR1019960002797A patent/KR0169207B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-07 JP JP8021025A patent/JP2950770B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-08 DE DE69600644T patent/DE69600644T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-08 EP EP96300861A patent/EP0726499B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-08 AT AT96300861T patent/ATE171284T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-02-08 ES ES96300861T patent/ES2123320T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-08 BR BR9600360A patent/BR9600360A/pt not_active Application Discontinuation
- 1996-02-09 CN CN96103593A patent/CN1087080C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-20 US US08/618,873 patent/US5698376A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR0169207B1 (ko) | 1999-03-20 |
| BR9600360A (pt) | 1998-01-27 |
| IL116414A (en) | 2000-09-28 |
| US5609991A (en) | 1997-03-11 |
| IL116414A0 (en) | 1996-03-31 |
| MX9600240A (es) | 1998-06-28 |
| JPH08248634A (ja) | 1996-09-27 |
| ATE171284T1 (de) | 1998-10-15 |
| HK1005153A1 (en) | 1998-12-24 |
| EP0726499A1 (de) | 1996-08-14 |
| ES2123320T3 (es) | 1999-01-01 |
| CN1087080C (zh) | 2002-07-03 |
| CA2166177C (en) | 1998-12-08 |
| DE69600644D1 (de) | 1998-10-22 |
| CA2166177A1 (en) | 1996-08-11 |
| AU677537B2 (en) | 1997-04-24 |
| KR960031490A (ko) | 1996-09-17 |
| EP0726499B1 (de) | 1998-09-16 |
| CN1135611A (zh) | 1996-11-13 |
| US5698376A (en) | 1997-12-16 |
| JP2950770B2 (ja) | 1999-09-20 |
| AU4229496A (en) | 1996-08-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69702767T2 (de) | Photopolymerisierbare, wärmehärtbare harzzusammensetzung | |
| DE69413116T2 (de) | Resiststintenzusammensetzung und daraus hergestelter gehärteter Gegenstand | |
| DE3613107C2 (de) | ||
| DE69600644T2 (de) | Polymere und ihre Verwendung in fotoempfindlichen Zusammensetzungen | |
| DE60017470T2 (de) | Phot0- oder wärmehärtende zusammensetzungen zur herstellung matter filme | |
| DE3885260T2 (de) | Lichtempfindliche wärmehärtbare Harzzusammensetzung und Methode zur Herstellung von Lötstoppmasken damit. | |
| DE69408970T2 (de) | Wässrige Emulsionsphotoresiste mit assoziativen Verdickungsmitteln | |
| US5753722A (en) | Photocurable and thermosetting matte liquid resist composition | |
| DE2520775C3 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch | |
| DE69120809T2 (de) | Positiv-resists und deren nützlichkeit in trockenresists | |
| EP0063304B1 (de) | Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial | |
| DE19622464A1 (de) | Licht- und wärmehärtbare Zusammensetzung, die mit einer wässerigen Alkalilösung entwickelbar ist | |
| EP0633503B1 (de) | Photopolymerisierbare Zusammensetzungen | |
| US5922509A (en) | Photoimageable compositions having improved stripping properties in aqueous alkaline solutions | |
| US5576145A (en) | Esterified styrene/maleic anhydride polymer and polymer-containing photoimageable composition having improved alkaline process resistance | |
| DE2714218B2 (de) | Lichthärtbare Masse | |
| DE3447355A1 (de) | Vernetzbares harz, lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial auf basis dieses vernetzbaren harzes sowie verfahren zur herstellung einer flachdruckplatte mittels dieses lichtempfindlichen aufzeichnungsmaterials | |
| EP0141921B1 (de) | Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Kopiermaterial | |
| DE69019067T2 (de) | Lichtempfindliche Bildaufzeichnungszusammensetzungen. | |
| EP1213327A1 (de) | Photoempfindliche harzzusammensetzung eines wässrigen emulsionstyps | |
| DE69534788T2 (de) | Verfahren zur herstellung von photoempfindlichem harz und flüssige photoempfindliche harzzusammensetzung | |
| DE69829157T2 (de) | Urethanoligomere enthaltende lichtempfindliche Zusammensetzungen | |
| DE3722749C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte | |
| DE60017524T2 (de) | Ein flexibles Oligomer enthaltende, lichtempfindliche Zusammensetzung | |
| DE69408969T2 (de) | Wässrige Emulsionsphotoresiste mit durch Aminoacrylate neutralisiertem Bindemittel |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |