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HINTERGRUND DER ERFINDUNG
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Bereich der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein photoempfindliches Harzmaterial,
das für
einen Lötabdecklack
zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte, einen elektrolosen
Plattierungsabdecklack und eine durch ein Aufbauverfahren auf einer
gedruckten Leiterplatte gebildeten isolierenden Schicht geeignet
ist. Ferner bezieht sich die vorliegende Erfindung auf eine schwarze
Matrix und einem Farbfilter zur Herstellung einer Flüssigkristallanzeige,
spezieller auf ein Verfahren zur Herstellung eines photoempfindlichen
Harzes, das dazu fähig
ist, eine Überzugsschicht
zu bilden, welche eine hohe Empfindlichkeit gegenüber der
Belichtung mit UV-Strahlen und eine gute Entwicklungsfähigkeit
in einer alkalischen wässrigen
Lösung
aufweist, und welche eine kleine Veränderung mit der Zeit in der
Entwicklungsfähigkeit
zeigt. Des weiteren bezieht sich die vorliegende Erfindung auf eine
gehärtete Überzugsschicht,
welche exzellente elektrische Eigenschaften, mechanische Eigenschaften,
Wärmebeständigkeit
und chemische Beständigkeit
aufweist, sowie auf eine flüssige
photoempfindliche Harzzusammensetzung.
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Beschreibung des Standes
der Technik
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In
den zurückliegenden
Jahren wurde eine Verlagerung von IC und VLSI zu höheren Dichten
durch eine ansteigende Verlagerung einer gedruckten Leiterplatte
zu einer höheren
Dichte und feineren Mustern begleitet. Dies hat eine Abnahme der
Leiterbreite und des Kreislaufplatzes notwendig gemacht. Demzufolge
wurden stärker
als früher
auch eine ausgezeichnete Genauigkeit der Dimensionen und Auflösung für einen
Lötabdecklack
und einen elektrolosen Plattierungsabdecklack gefordert.
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Um
einen Lötabdecklack
auf einer gedruckten Leiterplatte zu bilden, wurde im Allgemeinen
ein Verfahren angewendet, in welchem eine wärmehärtbare oder photohärtbare Abdecklackfarbe
verwendet wurde, um Muster durch Siebdruck zu erzeugen. Ein übertragener
Anteil wird wärmegehärtet oder
photogehärtet.
Da jedoch der Siebdruck bei der Erzeugung feiner Muster Grenzen
aufweist, wurde ein Fortschritt einer gedruckten Leiterplatte zu
höheren
Dichten und kleineren Dimensionen durch Verlagern eines entwicklungsfähigen Photolacks
begleitet, auf welchen ein Prinzip der Photobildgebung angewendet
wird. Ein trockener Film wurde am Anfang für das Erzeugungsverfahren mit
einem entwicklungsfähigen
Photolack angewendet. Weil aber ein Problem auftrat, das wahrscheinlich
beim Verdichten zu einem Substrat Blasen gebildet wurden, wird zur
Zeit ein flüssiger
entwicklungsfähigen
Photolack bevorzugt, bei welchem das Beschichtungsverfahren nicht
begrenzt ist. Insbesondere ein alkalischer Entwicklungstyp, welcher
dazu fähig
ist, in einer verdünnten,
schwach alkalischen, wässrigen
Lösung
entwickelt zu werden, wurde angesichts einer umweltschützenden
Maßnahme hauptsächlich verwendet.
Ein Carbonylgruppen enthaltendes Epoxy(meth)acrylat, welches durch
Reagieren eines Säureanhydrids
mit Epoxy(meth)acrylat, das durch Reagieren eines Epoxyharzes mit
(Meth)acrylsäure zum
Einführen
der Carbonylgruppe hergestellt wurde, erhältlich ist, wird als photoempfindliches
Harz für
einen alkalischen entwicklungsfähigen
Photolack verwendet (zum Beispiel Japanisches offengelegtes Patent
Nr. 61-243869 (USP 5,009,982) und Japanisches offengelegtes Patent
Nr. 63-258975).
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In
einem Verfahren zur Erzeugung von Mustern mit einem flüssigen entwicklungsfähigen Photolack, welcher
eine photoempfindliche Harzzusammensetzung umfasst, die für einen
Lötabdecklack
zum Herstellen einer gedruckten Leiterplatte, eines elektrolosen
Plattierungsabdecklacks, einer durch ein Aufbauverfahren auf einer
gedruckten Leiterplatte gebildeten isolierenden Schicht, und einer
schwarzen Matrix und eines Farbfilters zur Herstellung einer Flüssigkristallanzeige
geeignet ist, wird eine Reihe von Schritten angewendet, in welchen zu
aller erst ein Photolack auf eine gedruckte Leiterplatte aufgetragen
und durch Erhitzen getrocknet wird, um eine Überzugsschicht zu bilden. Dann
wird ein ein Muster erzeugender Film auf diese Überzugsschicht verdichtet,
gefolgt durch Belichten und Entwickeln. In dieses Verfahren ist
jedoch das Problem einbezogen, dass, wenn nach dem Trocknen durch
Erhitzen in dem zuvor beschriebenen Schritt eine Klebkraft auf der Überzugsschicht
verbleibt, ein Teil des Photolacks an dem ein Muster erzeugenden
Film nach dem Abziehen anhaften bleibt, was es unmöglich macht,
die Muster korrekt wiederzugeben oder den das Muster erzeugenden
Film abzuziehen. Demzufolge ist eine klebfreie Eigenschaft nach
dem Bilden einer beschichteten und getrockneten Schicht eine wichtige
und notwendige Eigenschaft für
den flüssigen
entwicklungsfähigen
Photolack.
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Ferner
ist eine alkalische Entwicklungsfähigkeit nach der Belichtung
ebenfalls eine wichtige Eigenschaft. Das heißt, um feine Muster mit einer
hohen Zuverlässigkeit
und guten Reproduzierbarkeit zu erzeugen, muss ein nicht belichteter
Anteil der Überzugsschicht beim
Entwickeln schnell entfernt werden. Die alkalische Entwicklungsfähigkeit
und die klebfreie Eigenschaft, die zuvor beschrieben wurden, sind
jedoch inkonsistente Eigenschaften. Bei dem Versuch, die Entwicklungsfähigkeit
zu verbessern, wird sich die klebfreie Eigenschaft verschlechtern,
so dass ein photoempfindliches Harz für einen alkalischen entwicklungsfähigen Photolack, welcher
beide wichtigen Eigenschaften erfüllt, gewünscht wurde. Ferner wurde in
jüngster
Zeit das Problem hervorgerufen, dass das Aussetzen gegenüber hohen
Temperaturen für
eine lange Zeit nach dem Erzeugen des Photolackmusters eine Schrumpfung
des Volumens hervorruft, welche dem Hitzeschock zuzuschreiben ist,
zu einem Fortschritt der Vernetzungsreaktion zur Erzeugung von Rissen
in der Überzugsschicht
führt,
oder ein Abschälen
des Photolackmusters vom Substrat hervorruft.
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Eine
schwarze Matrix und ein Farbfilter, welche für eine Flüssigkristallanzeige verwendet
werden, wurden bislang durch Auftragen einer photoempfindlichen
Acrylharz-Zusammensetzungslösung,
die schwarz, rot, grün
und blau gefärbt
war, auf ein Substrat durch Schleuderbeschichtung und Aufsetzen
einer ein Muster erzeugenden Glasplatte darauf, danach Härten der
notwendigen Teile durch Belichten mit aktiven Energiestrahlen und
Lösen der
nicht gehärteten
Teile mit einem Lösungsmittel,
um diese zu entfernen, gebildet. Ein Aufheizschritt bei hohen Temperaturen
von 200 °C
oder höher
ist jedoch in die Herstellungsschritte für eine Flüssigkristallanzeige einbezogen,
so dass ein Problem der Wärmebeständigkeit
in der schwarzen Matrix und dem Farbfilter auftrat, welche ein photoempfindliches
Acrylharz umfassen. Um die Qualität einer Flüssigkristallanzeige zu erhöhen, wird
eine hohe Zuverlässigkeit
ebenso für
die schwarze Matrix und den Farbfilter benötigt, wenn das Verlagern zu
feinen Mustern fortschreitet. Ein photoempfindliches Harz, welches
eine exzellente Genauigkeit der Dimensionen und Auflösung aufweist,
wird in dem Fall mit einem Lötabdecklackfeld
benötigt.
Da ferner ein mit einem organischen Lösungsmittel entwickelnder Typ
für das
photoempfindliche Acrylharz hauptsächlich angewendet wurde, wurde
eine Verlagerung zu einem alkalischen Entwicklungstyp, wie auch
in einem photoempfindlichen Harz für eine schwarze Matrix und
einen Farbfilter vom Standpunkt einer umweltschützenden Maßnahme notwendig.
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Das
US-Patent Nr. 4,714,751 offenbart oligomere Harze, welche durch
Polymerisation vernetzbar sind und bevorzugt mehr als zwei (Meth)acryloylgruppen
und freie Carbonylgruppen enthalten. Diese Harze werden durch ein
spezielles Verfahren hergestellt.
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Das
Dokument JP-A-1-188517 offenbart eine Zusammensetzung, welche durch
Reagieren einer Komponente (A), welche eine (Meth)acryloylgruppe
enthält
mit einer zweiten Verbindung (B), welche durch Bisphenol A beispielhaft
dargestellt wird, erhalten wird.
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ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
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Es
ist demzufolge ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren
zur Herstellung eines photoempfindlichen Harzes zur Verfügung zu
stellen, das dazu fähig
ist, eine Überzugsschicht
zu bilden, welche eine hohe Photoempfindlichkeit und eine ausgezeichnete
klebfreie Eigenschaft aufweist, und welche schnell und mit hoher
Genauigkeit in einer schwach alkalischen wässrigen Lösung entwickelt werden kann.
Es ist ebenso ein Ziel der vorliegenden Erfindung, eine gehärtete Überzugsschicht
zur Verfügung
zu stellen, welche eine exzellente Anhaftung auf einem Substrat,
chemische Beständigkeit
und Wärmebeständigkeit
aufweist.
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Es
ist ein anderes Ziel der vorliegenden Erfindung, eine photoempfindliche
flüssige
Harzzusammensetzung zur Verfügung
zu stellen, welche dazu fähig
ist, die vorangegangenen Probleme zu lösen, die in herkömmliche
flüssige
entwicklungsfähige
Photolacke für
einen Lötabdecklack
zur Herstellung einer gedruckten Leiterplatte, eines elektrolosen
Plattierungsabdecklacks und einer durch ein Aufbauverfahren auf
einer gedruckten Leiterplatte gebildeten isolierenden Schicht, und
einer schwarzen Matrix und einem Farbfilter zur Herstellung einer
Flüssigkristallanzeige
einbezogen waren.
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Die
vorliegende Erfindung stellt ein Herstellungsverfahren für ein photoempfindliches
Harz zur Verfügung,
welches Reagieren eines Harzes (A) mit zwei oder mehr (Meth)acryloylgruppen
und mindestens einer Carbonylgruppe in einem Molekül mit einem
difunktionalen Epoxyharz (B) mit 2 Epoxygruppen in einem Molekül umfasst,
wobei das Harz (A) durch Reagieren von (Meth)acrylsäure (I)
mit einem Epoxyharz vom Novolaktyp (C) mit drei oder mehr Epoxygruppen
in einem Molekül
und dann Reagieren des sich ergebenden Harzes mit einem polybasischen
Säureanhydrid
(II) erhalten wird. Gemäß der vorliegenden
Erfindung kann ein lineares hochmolekulargewichtiges photoempfindliches
Harz durch Ausdehnen des photohärtbaren
Harzes (A) mit dem difunktionalen Epoxyharz (B) hergestellt werden.
Gemäß des vorstehenden
Verfahrens kann ein photoempfindliches Harz mit noch ausgezeichneterer
alkalischer Entwicklungsfähigkeit
hergestellt werden.
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Das
difunktionale Epoxyharz (B) ist bevorzugt ein Epoxyharz vom Bisphenoltyp
oder ein Epoxyharz vom Diglycidylethertyp, welche durch Reagieren
von Epichlorhydrin mit zweiwertigen Alkoholen, welche Polyalkylenglycole
oder Addukte von Alkylenoxiden zu Bisphenolverbindungen sind, erhalten
werden.
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Das
Harz (A) ist ebenso bevorzugt ein Harz, welches durch Reagieren
von (Meth)acrylsäure
(I) und Alkylphenol (III), das durch die folgende Formel dargestellt
wird, mit einem Epoxyharz (C) mit drei oder mehr Epoxygruppen in
einem Molekül
und dann Reagieren des sich ergebenden Harzes mit einem polybasischen Säureanhydrid
(II) erhältlich
ist:
wobei
R
1 und R
2 gleich
oder verschieden sein können
und eine gesättigte
oder ungesättigte
Alkylgruppe mit fünf
bis 35 Kohlenstoffatomen darstellen.
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Ein
Epoxyharz vom Novolaktyp mit drei oder mehr Epoxygruppen in einem
Molekül
wird als Epoxyharz (C) verwendet.
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In
der vorliegenden Erfindung ist es empfehlenswert, das vorstehende
Harz (A) mit dem vorstehenden difunktionalen Epoxyharz (B) in einem
Verhältnis
von 0,1 bis 0,8 chemischen Äquivalenten
der Epoxygruppe in dem difunktionalen Epoxyharz zu 1,0 chemischen Äquivalenten
der Carbonylgruppe in dem Harz (A) zur Reaktion zu bringen.
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Die
flüssige
photoempfindliche Harzzusammensetzung, die dazu fähig ist,
das vorstehende zweite Ziel der vorliegenden Erfindung zu erreichen,
welche durch Anwenden der vorhergehenden Herstellungsverfahren der
vorliegenden Erfindung erhalten werden kann, umfasst das photoempfindliche
Harz, das durch Reagieren des Harzes (A) mit zwei oder mehr (Meth)acryloylgruppen
und mindestens einer Carbonylgruppe in einem Molekül mit dem
difunktionalen Epoxyharz (B) mit zwei Epoxygruppen in einem Molekül, einem
Photopolymerisations-Initiator und einem Verdünnungsmittel erhalten werden,
wobei das Harz (A) durch Reagieren von (Meth)acrylsäure (I)
mit einem Epoxyharz vom Novolaktyp (C) mit drei oder mehr Epoxygruppen
in einem Molekül
und dann Reagieren des sich ergebenden Harzes mit einem polybasischen
Säureanhydrid
(II) erhalten wird.
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Ferner
können
eine flüssige
photoempfindliche Harzzusammensetzung, welche ein photoempfindliches
Harz, polymere Feinteilchen (D) mit einer Glasübergangstemperatur von 20 °C oder niedriger,
ein Photopolymerisations-Initiator und ein Verdünnungsmittel umfasst, ebenso
das vorhergehende zweite Ziel der vorliegenden Erfindung erreichen.
In dem vorstehenden Fall kann das photoempfindliche Harz das Harz
(A) mit zwei oder mehr (Meth)acryloylgruppen und mindestens einer
Carbonylgruppe in einem Molekül
sein. Auf jeden Fall kann ein Harz verwendet werden, das durch Reagieren
des vorstehenden Harzes (A) mit dem difunktionalen Epoxyharz (B)
mit zwei Epoxygruppen in einem Molekül erhältlich ist.
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BEVORZUGTE
AUSFÜHRUNGSFORMEN
DER ERFINDUNG
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Intensive
Untersuchungen, welche durch die gegenwärtigen Erfinder durchgeführt wurden,
um die vorstehenden Ziele zu erreichen, führten zu dem Befund, dass ein
photoempfindliches Harz, das durch Reagieren eines Teils der Carbonylgruppen,
die in dem Harz (A) mit zwei oder mehr (Meth)acryloylgruppen und
mindestens einer Carbonylgruppe enthalten sind, mit dem difunktionalen
Epoxyharz (B) erhältlich
ist, um das vorstehende Harz (A) auf ein lineares hochmolekulargewichtiges
Harz auszudehnen, eine gute klebfreie Eigenschaft und alkalische
Entwicklungsfähigkeit
zur gleichen Zeit aufzeigen kann. Das heißt, das photoempfindliche Harz, das
durch dieses Verfahren der vorliegenden Erfindung erhalten wird,
zeigt eine gute alkalische Entwicklungsfähigkeit, während es eine ausgezeichnete
klebfreie Eigenschaft aufweist, da das Harz selbst ein hohes Molekulargewicht
hat. Die vorstehende Erfindung wird nachstehend im Detail beschrieben.
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In
dem Verfahren der vorliegenden Erfindung wird das Harz (A) mit zwei
oder mehr photopolymerisierbaren (Meth)acryloylgruppen und mindestens
einer Carbonylgruppe, welche für
das Aufzeigen einer alkalischen Entwicklungsfähigkeit notwendig ist, mit
dem difunktionalen Epoxyharz (B) zur Reaktion gebracht. Als Harz
(A) in der vorliegenden Erfindung wird ein photoempfindliches Harz
verwendet, das durch Verwenden des Epoxyharzes vom Novolaktyp (C)
mit drei oder mehr Epoxygruppen in einem Molekül als Ausgangsmaterial und
Reagieren desselben mit (Meth)acrylsäure (I), einem polybasischen
Säureanhydrid
(II) und optional, wenn notwendig, Alkylphenol (III) erhältlich ist.
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Das
Epoxyharz (C) welches ein Ausgangsmaterial für das Harz (A) ist, wird aus
Epoxyharzen vom Novolaktyp ausgewählt, da diese ausgezeichnete
elektrische Eigenschaften, Wärmebeständigkeit
und chemische Beständigkeit
zeigen.
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Die
Beispiele des Epoxyharzes vom Novolaktyp mit drei oder mehr Epoxygruppen
in einem Molekül schließen nicht
nur Epoxyharze vom Novolaktyp ein, die aus Harzen mit Novolak-Skeletten
hergeleitet wurden, welche durch Reagieren von Phenolverbindungen
wie Phenol und Cresol mit Aldehyden in der Anwesenheit eines Säurekatalysators
erhalten wurden, sondern auch Epoxyharze, die aus mehrwertigen Phenolverbindungen
hergeleitet wurden, die durch Reagieren von Phenolverbindungen mit Diolefinverbindungen
wie Divinylbenzen und Dicyclopentadien in der Anwesenheit eines
Säurekatalysators
erhalten wurden. Unter diesen werden Epoxyharze vom Phenol-Novolaktyp,
Epoxyharze vom bromierten Phenol-Novolaktyp, Epoxyharze vom Cresol-Novolaktyp und Epoxyharze
vom Bisphenol A Novolaktyp bevorzugt verwendet.
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Das
Harz (A) wird durch Reagieren von (Meth)acrylsäure (I) mit den Epoxygruppen
erhalten, die in dem Epoxyharz (C) enthalten sind, welches das vorstehend
beschriebene Ausgangsmaterial ist, um zwei oder mehr (Meth)acryloylgruppen
in das Harz einzuführen,
und dann Kombinieren eines polybasischen Säureanhydrids (II) durch Mono-Veresterung
mit Hydroxylgruppen, die durch eine Ringöffnung der Epoxygruppen gebildet
wurden, um Carbonylgruppen in das vorstehende Harz einzuführen.
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In
der Reaktion der (Meth)acrylsäure
(I) und des polybasischen Säureanhydrids
(II) mit dem Epoxyharz (C), welches das Ausgangsmaterial ist, unter
der Annahme einer Bildungsreaktion der Hydroxylgruppen (eine Ringöffnungsreaktion
der Epoxygruppen), wird ein Verfahren verwendet, in welchem das
Epoxyharz (C) zunächst
mit der (Meth)acrylsäure
(I) und dann mit dem polybasischen Säureanhydrid (II) zur Reaktion
gebracht wird.
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Bei
der Reaktion des Epoxyharzes (C) mit (Meth)acrylsäure (I)
werden bevorzugt 0,8 bis 1,1 chemische Äquivalente der (Meth)acrylsäure (I)
mit einem chemischen Äquivalent
der in dem Epoxyharz (C) enthaltenen Epoxygruppe zur Reaktion gebracht,
so dass die Carbonylgruppen der (Meth)acrylsäure (I) im Wesentlichen das
gleiche Äquivalent
enthalten. Diese Reaktion kann bei 80 bis 130 °C in der Anwesenheit oder Abwesenheit
eines später
beschriebenen Verdünnungsmittels
in Koexistenz eines Polymerisationsinhibitors wie Hydrochinon, Monomethyletherhydrochinon
und Sauerstoff und eines Reaktionskatalysators wie tertiären Aminen,
tertiären
Phosphinen, Lithiumchlorid, quaternären Ammoniumsalzen und quaternären Phosphoniumsalzen
ausgeführt
werden.
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Da
das Epoxyharz (C), welches das Ausgangsmaterial ist, ein Epoxyharz
mit drei oder mehr Epoxygruppen in einem Molekül ist, kann Alkylphenol (III),
welches durch die folgende Formel dargestellt wird, mit den in diesem
Epoxyharz enthaltenen Epoxygruppen zusammen mit (Meth)acrylsäure (II)
zur Reaktion gebracht werden:
wobei
R
1 und R
2 gleich
oder verschieden sein können
und eine gesättigte
oder ungesättigte
Alkylgruppe mit fünf
bis 25 Kohlenstoffatomen darstellen.
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Das
sich ergebende photoempfindliche Harz ist in seiner Flexibilität und der
chemischen Beständigkeit der Überzugsschicht,
welche nach dem Härten
erhalten wird, durch Einführen
des Alkylphenols (III), wie vorstehend beschrieben, in das Harz
(A) verbessert. Es wird angenommen, dass dieser Effekt durch das
Einführen
eines langkettigen Alkylgruppenanteils, der in dem Alkylphenol enthalten
ist, bereitgestellt wird.
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Wenn
das Alkylphenol (III) mit dem Epoxyharz (C), welches das Ausgangsmaterial
ist, zusammen mit der (Meth)acrylsäure (I) zur Reaktion gebracht
wird, wird die Summe von (I) und (III) bevorzugt auf 0,8 bis 1,1 chemische Äquivalente
pro einem chemischen Äquivalent
der in dem Epoxyharz (C) enthaltenen Epoxygruppen eingestellt, so
dass die Summe der Carbonylgruppen der (Meth)acrylsäure (I)
und der Hydroxylgruppen des Alkylphenols (III) das gleiche Äquivalent
annehmen. Ferner wird das Äquivalentverhältnis der
beiden auf (1:1) bis (99:1) bezüglich
(I):(III) eingestellt. Wenn das Äquivalentverhältnis der
beiden außerhalb
dieses Bereichs fällt,
steigt der Anteil des Alkylphenols (III) mehr als der Anteil der
(Meth)acrylsäure
(I), und die Menge der photopolymerisierbaren (Meth)acryloylgruppen,
die in dem Harz (A) enthalten sind, wird verringert. Das heißt, die
Menge der photopolymerisierbaren Doppelbindungen, die in dem abschließend sich
ergebenden photoempfindlichen Harz enthalten sind, wird verringert.
Demzufolge ist dies nicht bevorzugt.
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Die
Reaktion des Epoxyharzes (C) mit der (Meth)acryloylsäure (I)
führt zu
einer Ringöffnung
der Epoxygruppen, so dass Hydroxylgruppen gebildet und zwei oder
mehr (Meth)acryloylgruppen in das Epoxyharz (C) zur selben Zeit
eingeführt
werden. Die Reaktion von 0,1 bis 1,0 chemischen Äquivalenten des polybasischen
Säureanhydrids
(II) mit 1,0 chemischen Äquivalenten
der sich ergebenden Hydroxylgruppe, so dass mindestens eine Carbonylgruppe
durch eine Monoesterifizierung eingeführt wird, kann das Harz (A)
bereitstellen. Bei einem Anteil des polybasischen Säureanhydrids
(II) von weniger als 0,1 chemischen Äquivalenten verringert sich
die Menge der in das sich ergebende Harz (A) eingeführten Carbonylgruppen
und stellt keine alkalische Entwicklungsfähigkeit zur Verfügung.
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Die
Beispiele des polybasischen Säureanhydrids
(II) schließen
dibasische Säureanhydride
wie Phthalsäureanhydrid,
Succinsäureanhydrid,
Maleinsäureanhydrid,
Tetrahydrophthalsäureanhydrid,
Hexahydrophthalsäureanhydrid, Methyltetrahydrophthalsäureanhydrid,
3,6-Endomethylentetrahydrophthalsäureanhydrid, Methylendomethylentetrahydrophthalsäureanhydrid,
Tetrabromphthalsäureanhydrid
und Trimellitsäureanhydrid
und aliphatische oder aromatische tetrabasische Säuredianhydride
wie Biphenyltetracarbonylsäuredianhydrid,
Naphthalentetracarbonylsäuredianhydrid,
Diphenylethertetracarbonylsäuredianhydrid,
Butantetracarbonylsäuredianhydrid,
Cyclopentantetracarbonylsäuredianhydrid,
Pyromellitsäureanhydrid
und Benzophenontetracarbonylsäuredianhydrid
ein. Mindestens eines von diesen kann verwendet werden.
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Die
Mono-Veresterung des polybasischen Säureanhydrids (II) mit den Hydroxylgruppen,
wie vorstehend beschrieben, kann bei 50 bis 130 °C in der Anwesenheit eines Polymerisationsinhibitors
wie Hydrochinon, Monomethyletherhydrochinon und Sauerstoff in der
Abwesenheit eines Katalysators oder in Koexistenz eines Reaktionskatalysators
wie tertiären
Aminen, tertiären
Phosphinen, Lithiumchlorid, quaternären Ammoniumsalzen und quaternären Phosphoniumsalzen
ausgeführt
werden.
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Die
vorstehnend beschriebene Reaktion kann das Harz (A) mit zwei oder
mehr (Meth)acryloylgruppen und mindestens einer Carbonylgruppe zur
Verfügung
stellen. Dieses Harz (A) kann verwendet werden wie es ist als ein
photoempfindliches Harz. Um jedoch die Kompatibilität von klebfreier
Eigenschaft und der alkalischen Entwicklungsfähigkeit zu erreichen, was das
Ziel der vorliegenden Erfindung ist, ist das difunktionalen Epoxyharz
(B) ferner mit dem Harz (A), das vorstehend beschrieben wurde, zur
Reaktion zu bringen. Die Reaktion mit dem difunktionalen Epoxyharz
(B) kann ein photoempfindliches Harz zur Verfügung stellen, welches durch
Reagieren des Harzes (A) mit dem Epoxyharz (B) erhalten wurde, um
das Harz (A) zu einem linearen hochmolekulargewichtigem Harz auszudehnen.
Diese Struktur ist wichtig, um es möglich zu machen, die gute klebfreie
Eigenschaft und die alkalische Entwicklungsfähigkeit zur selben Zeit zu
zeigen.
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Das
in der vorliegenden Erfindung erhaltene photoempfindliche Harz ist
ein lineares Harz, in welchem die Harze (A) mit dem Harz (B) an
beiden Seiten davon kombiniert sind. Demzufolge weist das Harz ein
hohes Molekulargewicht auf, was zu einer ausgezeichneten klebfreien
Eigenschaft führt.
Es wird angenommen, dass die Anwesenheit der Hydroxylgruppen, die
in einem difunktionalen Epoxyharzanteil enthalten sind, aufgrund des
hohen Molekulargewichts keine Verringerung der Entwicklungsfähigkeit
bei der alkalischen Entwicklung hervorrufen. In diesem Fall kann
ein tri- oder höher-funktionales Epoxyharz
mit drei oder mehr Epoxygruppen in einem Molekül als Epoxyharz (B) nicht verwendet
werden. Da tri- oder höher-funktionale
Epoxyharze eine Gelierung hervorrufen, wenn das Molekulargewicht
ansteigt, und folglich den zuvor beschriebenen Effekt nicht hervorrufen,
sind diese für
die vorliegende Erfindung ungeeignet.
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Harze,
welche dazu geeignet sind, als die funktionelle Epoxyharze (B) verwendet
zu werden, sind bekannte Epoxyharze mit zwei Epoxygruppen in einem
Molekül
und schließen
difunktionale Epoxyharze ein, die ausgewählt wurden aus Epoxyharzen
vom Bisphenol B Typ, Epoxyharze vom Bisphenol A Typ, Epoxyharze vom
Tertrabrombisphenol A Typ, Epoxyharze vom Bisphenol S Typ und Epoxyharze
vom Bisphenol F Typ, und alizyklische Harze; Epoxyharze von Deglycidylethertyp;
Epoxyharze vom Diglycidylethertyp von mehrwertigen Alkoholen, insbesondere
Epoxyharze vom Deglycidylethertyp, welche durch Reagieren von Epichlorhydrin
mit Polyalkylenglycolen wie Polyethylenglycol, Polypropylenglycol
und Polytetramethylenglycol erhalten wurden, oder welche mit mehrwertigen
Alkoholen, die durch Zugabe von Alkylenoxiden zu Bisphenolverbindungen
erhalten wurden, welche Vorläuferverbindungen
der Epoxyharze vom zuvor beschriebenen Bisphenoltyp sind; und Epoxyharze
vom Diglycidylamintyp. Unter den vorstehenden Harzen sind die Epoxyharze
vom Bisphenoltyp und die Epoxyharze vom Diglycidylethertyp durch
Reagieren von Epichlorhydrin mit Polyalkylenglycolen oder mehrwertigen
Alkoholen erhältlich,
welche Addukte von Alkylenoxiden und Bisphenolverbindungen sind, und
können
insbesondere bevorzugt angesichts der Verbesserung sowohl des Leistungsverhaltens
der alkalischen Entwicklungsfähigkeit
als auch der klebfreien Eigenschaften verwendet werden.
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Das
Harz (A) wird bevorzugt mit dem difunktionalen Epoxyharz (B) zur
Reaktion gebracht, so dass die in dem Harz (B) enthaltenen Epoxygruppen
0,1 bis 0,8 chemischen Äquivalenten
pro 1,0 chemischen Äquivalenten
der in dem Harz (A) enthaltenen Carboylgruppen entsprechen. Wenn
die Epoxygruppe weniger als 0,1 chemische Äquivalente beträgt, wird
die Reaktion des Harzes (A) mit dem Harz (B) unzureichend fortgeführt und
das photoempfindliche Harz kann kein hohes Molekulargewicht aufweisen,
so dass die klebfreie Eigenschaft nicht erhalten wird. Wenn auf
der anderen Seite die Epoxygruppen, die 0,8 chemische Äquivalente übersteigen,
zur Reaktion gebracht werden, nimmt die absolute Menge der Carbonylgruppen,
die in dem photoempfindlichen Harz verbleiben, ab und die alkalische
Entwicklungsfähigkeit
wird unmöglich.
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Die
Reaktion der Beiden kann bei 80 bis 130 °C in Anwesenheit oder Abwesenheit
eines später
beschriebenen Verdünnungsmittels
in der Anwesenheit eines Polymerisationsinhibitors wie Hydrochinon,
Monomethyletherhydrochinon und Sauerstoff und in Koexistenz eines
Reaktionskatalysators wie tertiären
Aminen, tertiären
Phosphinen, Lithiumchlorid, quaternären Amoniumsalzen, und quaternären Phosphoniumsalzen ausgeführt werden.
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In
der vorliegenden Erfindung kann das polybasische Säureanhydrid
(II) ferner mit den Hydroxylgruppen zur Reaktion gebracht werden,
die in dem photoempfindlichen Harz enthalten sind, das nach der
Reaktion des Harzes (A) mit dem difunktionalen Epoxyharz (B) erhalten
wurde, das durch Ringöffnung
der Epoxygruppen des difunktionalen Epoxyharzes (B) gebildet wurden,
oder in dem difunktionalen Epoxyharz (B) enthalten sind. Da Carbolygruppen
ferner in das photoempfindliche Harz durch eine Mono-Veresterung
des polybasischen Säureanhydrids
(II) eingeführt
werden, steigt die Menge der Carbolygruppen in dem Harz, welche
den Effekt zum weiteren Verbessern der alkalischen Entwicklungsfähigkeit
zur Verfügung
stellen. Die verwendbaren polybasischen Säureanhydride (II) und die Reaktionsbedingungen
sind dieselben, wie diese, die in der Erklärung des Herstellungsverfahrens
für das
Harz (A) beschrieben wurden.
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Die
flüssige
photoempfindliche Harzzusammensetzung (Typ 1) der vorliegenden Erfindung
kann durch Zugeben eines Photopolymerisations-Initiators und eines
Verdünnungsmittels
zu dem photoempfindlichen Harz erhalten werden, das durch das Verfahren
der vorliegenden Erfindung erhältlich
ist, so weit es bis jetzt geklärt
wurde.
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Ferner
ist in der vorliegenden Erfindung eine flüssige photoempfindliche Harzzusammensetzung
(Typ 2) ebenso eingeschlossen, welche polymere Feinteilchen mit
einer Glasübergangstemperatur
von 20 °C
oder niedriger zusätzlich
zu dem photoempfindlichen Harz, dem Photopolymerisations-Initiator
und dem Verdünnungsmittel
enthalten. Im Besonderen stellt die photoempfindliche Harzzusammensetzung
dieses Typs 2 den ausgezeichneten Vorteil zur Verfügung, dass
es eine Schrumpfung des Volumens der Überzugsschicht sowie Risse
verhindert, selbst wenn die Überzugsschicht
nach dem Erzeugen der Muster hohen Temperaturen ausgesetzt ist.
Das vorstehend beschriebene Harz (A), das heißt, das Harz (A) mit zwei oder
mehr (Meth)acryloylgruppen und mindestens einer Carbonylgruppe in
einem Molekül,
kann wie es ist für
das photoempfindliche Harz verwendet werden, das in der Zusammensetzung
des Typs 2 Verwendung findet. Auf jeden Fall kann das photoempfindliche
Harz verwendet werden, das durch Reagieren des vorstehenden Harzes
(A) mit dem difunktionalen Epoxyharz (B) durch Anwenden des vorhergehenden
Herstellungsverfahrens der vorliegenden Erfindung erhalten wurde.
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Die
photoempfindliche Harzzusammensetzung des Typs 2 ist dadurch gekennzeichnet,
dass polymere Feinteilchen (D) in der Zusammensetzung dispergiert
sind. Selbst nach dem Erzeugen von Mustern in dem Schritt der Belichtung
mit Strahlen durch die Entwicklung, schreitet das Härten durch
Hitze in einer Musterschicht unter Aussetzung gegenüber hohen
Temperaturen fort. Die weichen polymeren Feinteilchen (D) mit einer
Glasübergangtemperatur
von 20 °C
oder niedriger, welche in der Musterschicht vorhanden sind, wirken wie
ein Polster, so dass die Erzeugung von Rissen und die Schrumpfung
des Volumens verlangsamt und die Anhaftung in der Musterschicht
am Verringern gehindert werden. In diesem Fall muss die Glasübergangstemperatur
eines Polymers, das die polymeren Feinteilchen (D) aufbaut, 20 °C oder niedriger
sein. Eine Glasübergangstemperatur,
die 20 °C übersteigt,
härtet
die polymeren Feinteilchen (D) selbst aus, so dass der Effekt des Verlangsamens
der Schrumpfung des Volumens und der Erzeugung von Rissen in der
Musterschicht nach der Photohärtung
nicht erhalten wird.
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Die „polymeren
Feinteilchen", die
in der vorliegenden Erfindung beschrieben werden, bedeuten feine Teilchen,
welche die Bedingung haben, dass ein Polymer in der flüssigen photoempfindlichen
Harzzusammensetzung in der Form von feinen Teilchen dispergiert
ist. Inseln in einer Struktur von See-Insel, welche durch Phasenseparation
in einem nicht kompatiblen System gebildet werden, und eine sogenannte
Mikrodomäne sind
auch in die „polymeren
Feinteilchen" der
vorliegenden Erfindung eingeschlossen.
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Die
Art des Polymers, das die polymeren Feinteilchen aufbaut, ist nicht
besonders begrenzt, so lang es die Bedingung der Glasübergangstemperatur,
die zuvor beschrieben wurde, erfüllt.
Die Beispiele des vorstehenden Polymers schließen natürlichen Kautschuk; synthetische
Kautschuke wie Butadienreihen-Kautschuke (Polybutadien, NBR und
SBR), Isoprenreihen-Kautschuke (IR und Butylkautschuk) und Chloroprenreihen-Kautschuke
und Vulkanisate davon; Polyorganosiloxane; und (Meht)acrylatreihen-Polymere
(einschließlich
von Copolymeren von (Meth)acrylat mit „anderen Monomeren", die später beschrieben
werden), wobei hauptsächlich
(Meht)acrylat erhalten wird; ein verestertes Produkt von (Meth)acrylsäure mit
linearen oder verzweigten aliphatischen oder alizyklischen Alkoholen
mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen ein.
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Ferner
können
Kautschuke verwendet werden, die mit Säuregruppen wie einer Carbonylgruppe
und Feinteilchen von Poly(meth)acrylatreihen, die durch Copolymerisation
von (Meth)acrylat mit bekannten ungesättigten Carbonylsäuren wie
(Meth)acrylsäure,
Crotonsäure,
Maleinsäure
und Fumarsäure
erhalten wurden, und Säuregruppen
enthaltende Monomere wie 2-Ethylsulfonsäure(meth)acrylat,
Styrensulfonsäure
und Vinylsulfonsäure
modifiziert wurden.
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Die
Beispiele der „anderen
Monomere" zum Aufbauen
der polymeren Feinteilchen der (Meth)acrylatreihen schließen zum
Beispiel Styrenreihen-Monomere wie Styren, Vinyltoluen und α-Methylstyren, (Meth)acrylamidreihen-Monomere wie (Meth)acrylamid,
N-Monoalkyl(meth)acrylamid und N,N-Dialkyl(meth)acrylamid, Hydroxylgruppen
enthaltende (Meth)acrylatreihen-Monomere wie Monoester von (Meth)acrylsäure mit
Polypropyleneglycol oder Polyethylenglycol, Vinylacetat und (Meth)acrylnitril
ein. Alle dieser Monomere werden durch Einstellen der Glasübergangstemperatur
eines Polymers auf 20 °C
oder weniger verwendet, welche die Feinteilchen aufbaut.
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Die
polymeren Feinteilchen (D) gemäß der vorliegenden
Erfindung weisen bevorzugt eine vernetzte Struktur auf. Die polymeren
Feinteilchen (D) haften wahrscheinlich aneinander und koagulieren
aufgrund der relativ niedrigen Glasübergangstemperatur. Aber die
Einführung
der vernetzten Struktur macht es leicht, diese zu handhaben und
ist überdies
wirkungsvoll zum Verbessern der Feuchtigkeitsbeständigkeit
und der chemischen Beständigkeit
der photogehärteten
Schicht. Ferner wird, in den polymeren Feinteilchen, in welche die vernetzte
Struktur nicht eingeführt
wurde, der Polstereffekt davon nach dem Photohärten in einigen Fällen beschädigt, wenn
sie durch ein Verdünnungsmittel
anschwellen, das in der flüssigen
photoempfindlichen Harzzusammensetzung enthalten ist. Die Einführung der
vernetzten Struktur kann dieses Anschwellen aber verhindern.
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In
dem Fall der polymeren Feinteilchen der (Meth)acrylatreihen, kann,
um die vernetzte Struktur einzuführen,
ein Verfahren angewendet werden, in welchem multifunktionelle Monomere
wie multifunktionelle (Meth)acrylate, welche ein verestertes Produkt
einer Polyhydroxyverbindung wie Glycol mit zwei oder mehr (Meth)acrylsäuren, Allyl(meth)acrylat,
Divinylbenzen und Diallylphthalate, copolymerisiert werden und Monomere
mit einer Reaktivität
gegenüber
Säuregruppen
wie Epoxygruppen enthaltende Monomere wie Glycidyl(meth)acrylat,
Aziridinylgruppen enthaltende Monomere wie (Meth)acrylylaziridin
und (Meth)acryloyloxyethylaziridin und Oxazolinylgruppen enthaltende
Monomere wie 1-Isopropenyl-2-oxazolin,
copolymerisiert wurden, um dadurch eine Vernetzungsreaktion mit
den in den polymeren Feinteilchen enthaltenden Säuregruppen hervorzurufen.
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Diese
Monomere zum Einführen
der vernetzten Struktur können
in einem Anteil von 10 Gew.-% oder weniger beruhend auf den gesamten
Monomerkomponenten für
die polymeren Feinteilchen copolymerisiert werden. Es ist eine wesentliche
Anforderung, dass die polymeren Feinteilchen gemäß der vorliegenden Erfindung
eine Glasübergangstemperatur
von 20 °C
oder weniger aufweisen. Die Feinteilchen mit zu kleiner Vernetzungsstruktur
weisen eine Glasübergangstemperatur
auf, die 20 °C übersteigt,
oder im Wesentlichen keine Glasübergangstemperatur
aufweist. Zusätzlich
werden die Effekte des Verhinderns von Rissen und der Schrumpfung
des Volumens nicht gezeigt. Demzufolge werden die vorstehend beschrieben
Feinteilchen nicht bevorzugt.
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Ein
Herstellungsverfahren für
die polymeren Feinteilchen ist nicht besonders begrenzt, und eine
Emulsionspolymerisation ist aufgrund der Leichtigkeit, ein feines
partikuläres
Polymer zu erhalten, angeraten. Die Emulsionspolymerisation ist
nicht speziell begrenzt und es können
alle von Chargen-Mischpolymerisation, Monomertropfverfahren, Voremulsionsverfahren
und Keimpolymerisation und eine mehrstufige (Kern-Schale) Polymerisation
angewendet werden. Wenn (Meth)acrylatreihenpolymere durch die Emulsionspolymerisation
hergestellt werden, können
bekannte Emulgatoren verwendet werden. Die Polymertypemulgatoren,
die in der japanischen offengelegten Patentanmeldenummer Nr. 5-25366
offenbart werden, können
ebenso verwendet werden. Diese Polymertypemulgatoren sind wasserlösliche oder
wasserdispergierbare, endständige
Alkylgruppen enthaltende Polymere mit einem Säurewert von 200 oder mehr,
welche ungesättigte
Carbonylsäuren wie
(Meth)acrylsäure,
Crotonsäure,
Maleinsäure
und Fumarsäure
polymerisieren, und Alkylmercaptan mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen
als Hauptkomponenten oder Salze davon können verwendet werden. Zusätzlich zu den
ungesättigten
Carbonylsäuren
und Alkylmercaptan können
(Meth)acrylatreihenmonomere, Styrenreihenmonomere und (Meth)acrylamidreihenmonomere
verwendet werden, welche als Beispiele von Monomeren angegeben wurden,
die dazu fähig
sind, zum Aufbauen der polymeren Feinteilchen verwendet zu werden.
Es ist angesichts der Fähigkeit
zur Emulgierung bevorzugt, die Menge des Alkylmercaptans zu kontrollieren,
so dass das Molekulargewicht auf 300 bis 7.000 eingestellt wird.
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Bei
der Verwendung dieser Emulgatoren, wenn Monomere, welche mit ungesättigten
Carbonylsäuren reaktiv
sind, die die Emulgatoren aufbauen, für einen Teil der die polymeren
Feinteilchen aufbauenden Monomere verwendet werden, können gegenteilige
Effekte (Verringerung der Feuchtigkeitsbeständigkeit und der chemischen
Beständigkeit
in einer Überzugsschicht),
die durch den Emulgator ausgeübt
werden, verhindert werden. Die Beispiele der vorstehenden Monomere
schließen
die vorangegangenen Monomere mit einer Reaktivität gegenüber Säuregruppen ein, das heißt, Epoxygruppen
enthaltende Monomere wie Glycidyl(meth)acrylat, Aziridinylgruppen enthaltende
Monomere wie (Meth)acryloylaziridin und (Meth)acryloyloxyethylaziridin
und Oxazolinylgruppen enthaltende Monomere wie 2-Isopropenyl-2-oxazolin.
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Die
polymeren Feinteilchen (D) weisen einen mittleren Teilchendurchmesser
auf, welcher bevorzugt auf 0,1 bis 100 μm eingestellt wird. Durchmesser
von kleiner als 0,1 μm
zeigen nicht den füllenden
Effekt, während
große
Durchmesser, die 100 μm übersteigen,
die Genauigkeit der Photolackmuster verringern. Folglich sind beide
Durchmesser nicht bevorzugt.
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Die
Menge der polymeren Feinteilchen (D), die in der flüssigen photoempfindlichen
Harzzusammensetzung enthalten sind, fällt bevorzugt in den Bereich
von 1 bis 50 Gew.-% pro 100 Gewichtsteile des photoempfindlichen
Harzes. Die Menge kleiner als 1 Gewichtsprozent stellt nicht den
Verhinderungseffekt der Rissbildung und der Schrumpfung des Volumens
zur Verfügung,
die in einem Aufheizverfahren nach dem Bilden einer Musterschicht
hervorgerufen werden. Auf der anderen Seite beeinträchtigt eine
Menge größer als
50 Gewichtsteile die Eigenschaften wie alkalische Entwicklungsfähigkeit,
Auflösung
und Wärmebeständigkeit
der Musterschicht, und folglich ist dies nicht bevorzugt.
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Ein
Verfahren zum Zugeben der polymeren Feinteilchen (D) zu der flüssigen photoempfindlichen
Harzzusammensetzung ist nicht besonders begrenzt. Empfohlen ist
ein Verfahren, im welchen das photoempfindliche Harz oder das Epoxyharz,
welches das Ausgangsmaterial dafür
ist, und ein später
beschriebenes Verdünnungsmittel
gemischt und eine Emulsion der polymeren Feinteilchen (D) direkt
dazugegeben werden, gefolgt von Entfernen von Wasser unter atmosphärischem
Druck oder verringertem Druck. Ein Verdünnungsmittel, welches dazu
fähig,
ist ein Azeotrop mit Wasser zu bilden, kann verwendet werden.
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Die
folgenden Photopolymerisations-Initiatoren und Verdünnungsmittel
können
für jede
der flüssigen photoempfindlichen
Harzzusammensetzung des Typs 1 unter Verwendung des photoempfindlichen
Harzes, das durch Reagieren des Harzes (A) mit dem difunktionalen
Epoxyharz (B) erhalten wurde, und der flüssigen photoempfindlichen Harzzusammensetzung
des Typs 2, welche die polymeren Feinteilchen mit einer Glasübergangstemperatur
von 20 °C
oder niedriger als auch das photoempfindliche Harz enthält, verwendet
werden.
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Bekannte
Verbindungen können
als Photopolymerisations-Initiator verwendet werden. Die Beispiele davon
schließen
Benzoin und Alkylether davon wie Benzoin, Benzoinmethylether und
Benzoinethylether; Acetophenone wie Acetophenon, 2,2-Dimethoxy-2-phenylacetophenon,
1,1-Dichloracetophenon und 4-(1-t-Butyldioxy-1-methylethyl)acetophenon;
Anthrachinone wie 2-Metyhlanthrachinon, 2-Amylanthrachinon, 2-t-Butylanthrachinon
und 1-Chloranthrachinon; Thioxanthone wie 2,4-Dimethylthioxanton,
2,4-Diisopropylthioxanthon, und 2-Chlorthioxanthon; Ketale wie Acetophenondimethylketal
und Benzyldimethylketal; Benzophenone wie Benzophenon, 2-(1-t-Butyldioxy-1-methylethyl)benzophenon
und 3,3',4,4'-Tetrakis(t-butyldioxycarbonyl)benzophenon;
2-Methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinpropan-1-on
und 2-Benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinphenyl)butanon-1;
Acylphosphinoxide und Xanthone ein.
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Diese
Photopolymerisations-Initiatoren werden einzeln oder als eine Mischung
von zwei oder mehreren Arten und bevorzugt in einer Menge von 0,5
bis 30 Gewichtsteile pro 100 Gewichtsteile des photoempfindlichen
Harzes verwendet. Wenn die Menge des Photopolymerisations-Initiators
kleiner als 0,5 Gewichtsteile ist, muss die Lichteinstrahlungszeit
erhöht werden
und die Photopolymerisation ist schwer zu starten, selbst bei der
Belichtung mit Strahlen, was dazu führt, dass eine geeignete Oberflächenhärte nicht
erreicht wird. Auf der anderen Seite stellt eine Menge des Photopolymerisations-Initiators,
die 30 Gewichtsteile übersteigt,
keinen Vorteil der Verwendung desselben in großen Mengen zur Verfügung.
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Lösungsmittel
oder Verdünnungsmittelmonomere,
die dazu fähig
sind, an der Photopolymerisationsreaktion teilzunehmen, können als
Verdünnungsmittel
einzeln oder als Mischung von zwei oder mehreren Arten verwendet
werden. Das Verdünnungsmittel
wird bevorzugt in einer Menge von 5 bis 500 Gewichtsteile pro 100
Gewichtsteile des photoempfindlichen Harzes zugemischt, so dass
die optimale Viskosität
für jedes
Auftragungsverfahren erhalten werden kann. Insbesondere wenn das
Verdünnungsmittelmonomer
als Verdünnungsmittel
einzeln oder in Mischung verwendet wird, werden die Verdünnungsmittelmonomere
bevorzugt in einer Menge von 5 bis 100 Gewichtsteilen pro 100 Gewichtsteile
des photoempfindlichen Harzes bezüglich der physikalischen Eigenschaften
vermischt.
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Die
Beispiele des Lösungsmittels
schließen
Kohlenwasserstoffe wie Toluen und Xylen; Cellosolve (Glycole) wie
Cellosolv und Butylcellosolv; Carbitole (Diglycole) wie Carbitol
und Butylcarbitol; Ester wie Cellosolvacetat und Carbitolacetat;
Ketone wie Methylisobutylketon und Methylethylketon; und Ether wie
Diethylenglycoldimethylether. Die Beispiele des Verdünnungsmittelmonomers
schließen
Diethylenglycloldi(meth)acrylat, Propylenglycoldi(meth)acrylat, β-Hydroxyethyl(meth)acrylat,
(2-Oxo-1,3-dioxolan-4-yl)-methyl(meth)acrylat,
Trimethylolpropantri(meth)acrylat, Trimethylolpropandi(meth)acrylat, Pentaerythritoltetra(meth)acrylat,
Dipentaerythritolhexa(meth)acrylat und Tris(hydroxyethyl)isocyanurattri(meth)acrylat
ein.
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Es
können
zu der flüssigen
photoempfindlichen Harzzusammensetzung (Typ 1 und Typ 2) gemäß der Notwendigkeit
Füller
wie Kalk, Ton und Bariumsulfat, Farbpigmente, Entschäumungsmittel,
Kopplungsmittel, Nivelliermittel, Epoxyharze wie Epoxyharze vom
Novolaktyp, Epoxyharze vom Bisphenol A Typ, Epoxyharze vom Bisphenol
F Typ, alizyklische Harze und Trigylcidylisocyanurat und epoxyhärtende Mittel
wie Dicyandiamid und Imidazolverbindungen zugegeben werden.
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Da
die flüssigen
photoempfindlichen Harzzusammensetzungen (Typ 1 und Typ 2) der vorliegenden
Erfindung, deren Teile, die nicht mit Licht bestrahlt wurden, in
einer alkalischen wässrigen
Lösung
gelöst
werden, kann eine alkalische Entwicklung ausgeführt werden. Alkali, welches
für die
Entwicklung verwendet werden kann, schließt zum Beispiel alkalische
Metallverbindungen wie Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Natriumhydroxid
und Kaliumhydroxid; Erdalkalimetall-Verbindungen wie Calciumhydroxid, Ammonium
und wasserlösliche
organische Amine wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin,
Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monopropylamin, Dimethylpropylamin,
Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Ethylendiamin, Diethylentriamin,
Dimethylaminoethylmethacrylat und Polyethylenimin ein. Diese können einzeln oder
in einer Mischung von zwei oder mehr Arten verwendet werden.
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BEISPIELE
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Die
vorliegende Erfindung soll nachstehend in weiterem Detail in Bezug
auf Beispiele erklärt
werden. Die folgenden Beispiele sollen jedoch die vorliegende Erfindung
nicht begrenzen und die Gegenstände,
die in einem Bereich modifiziert und ausgeführt werden, im welchen sie
nicht von den Gegenständen
abweichen, die zuvor beschrieben wurden oder später beschrieben werden sollen,
schließen
in ihrer Gesamtheit den technischen Bereich der vorliegenden Erfindung
ein. Teile und Prozentsätze
in den Beispielen sind Gewichtsteile und Gewichtsprozent (Gew.-%),
soweit nicht anders beschrieben.
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Synthesebeispiel 1
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337
Teile Ethylcarbitolacetat und 337 Teile Toluen wurden zu 1000 Teilen
eines Epoxyharzes vom Cresol-Novolaktyp
ESCN-195 XL (Epoxyäquivalent:
195, hergestellt von Sumitomo Chemical Ind. Co., Ltd.) und sie wurden
durch Erhitzen gelöst.
Dann wurden 369 Teile Acrylsäure,
4,1 Teile Triphenylphosphin und 1,1 Teile Methylhydrochinon zugegeben
und die Reaktion bei 110 °C
für 12
Stunden ausgeführt.
Das Reaktionsprodukt wurde auf 100 °C heruntergekühlt und
dann 467 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid,
115 Teile Ethylcarbitolacetat und 115 Teile Toluen zugegeben und
für 5 Stunde
zur Reaktion gebracht, wodurch eine Harzmischung (R-1) mit Ethylcarbitolacetat
und Toluen, die das Harz mit einem Säurewert von 97 in einem Anteil
von 97 % enthielt, erhalten wurde.
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Synthesebeispiel 2
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349
Teile Ethylcarbitolacetat und 349 Teile Toluen wurden zu 1000 Teilen
eines Epoxyharzes von Cresol-Novolaktyp
YDCN-703S (Epoxyäquivalent:
200, hergestellt von Toto Kasei Co., Ltd.) und durch Erhitzen gelöst. Dann
wurden 333 Teile Acrylsäure,
83 Teile p-Nonylphenol als Alkylphenol, 4,2 Teile Triethylammoniumbromid
und 1,2 Teile Methylhydrochinon hinzugegeben und die Reaktion bei 110 °C für 14 Stunden
ausgeführt.
Dieses Reaktionsprodukt wurde auf 100 °C abgekühlt und dann 456 Teile Tetrahydrophthylsäureanhydrid,
112 Teile Ethylcarbitolacetat und 112 Teile Toluen zugegeben und
für 4 Stunden
zur Reaktion gebracht, wodurch eine Harzmischung (R-2) mit Ethylcarbitolacetat
und Toluen, die das Harz mit einem Säurewert von 93 in einem Anteil
von 67 % enthielt, erhalten wurde.
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Synthesebeispiel 3
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2,1
Teile eines Epoxyharzes von Bisphenol A Typ Araldit GY-250 (Epoxyäquivalent:
185, hergestellt von Ciba Geigy Co., Ltd.) wurden zu 100 Teilen
der Harzmischung (R-1), die in Synthesebeispiel 1 erhalten wurde,
zugegeben und die Reaktion bei 110 °C für 4 Stunden ausgeführt, wodurch
eine Harzmischung (R-3) mit Ethylcarbitolacetat und Toluen, die
das Harz mit einem Säurewert
von 84 in einem Anteil von 64,5 % enthielten, erhalten wurde.
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Synthesebeispiel 4
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4,5
Teile eines Epoxyharzes von Bisphenol A Typ YD-014 (Epoxyäquivalent: 954, hergestellt
von Toto Kasei Co., Ltd.) wurden zu 100 Teilen der Harzmischung
(R-1), die in Synthesebeispiel 1 erhalten wurde, zugegeben und die
Reaktion bei 110 °C
für 5 Stunden
ausgeführt,
wodurch eine Harzmischung (R-4) mit Ethylcarbitolacetat und Toluen,
die das Harz in einem Säurewert
von 85 in einem Verhältnis
von 68,5 % enthielt, erhalten wurde.
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Synthesebeispiel 5
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10,2
Teile eines Epoxyharzes vom Bisphenol A Typ YD-017 (Epoxyäquivalent: 1820, hergestellt
von Toto Kasei Co., Ltd.) wurden zu 100 Teilen der Harzmischung
(R-1), die in Synthesebeispiel 1 erhalten wurde, zugegeben und die
Reaktion bei 110 °C
für 5 Stunden
ausgeführt,
wodurch eine Harzmischung (R-5) mit Ethylcarbitolacetat und Toluen,
die das Harz mit einem Säurewert
von 79 in einem Anteil von 70 % enthielt, erhalten wurde.
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Synthesebeispiel 6
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7,1
Teile eines Epoxyharzes vom Bisphenol F Typ YDF-8170 (Epoxyäquivalent: 162, hergestellt
von Toto Kasei Co., Ltd.) wurden zu 100 Teilen der Harzmischung
(R-2), die in Synthesebeispiel 2 erhalten wurde, zugegeben und die
Reaktion bei 110 °C
für 4,5
Stunden ausgeführt,
wodurch eine Harzmischung (R-6) mit Ethylcarbitolacetat und Toluen,
die das Harz mit einem Säurewert
von 82 in einem Anteil von 67,4 % enthielt, erhalten wurde.
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Synthesebeispiel 7
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9,8
Teile des Epoxyharzes vom Bisphenol A Typ YD-017 (Epoxyäquivalent:
1820, hergestellt von Toto Kasei Co., Ltd.) wurden zu 100 Teilen
der Harzmischung (R-2), die in Synthesebeispiel 2 erhalten wurde,
zugegeben und die Reaktion bei 110 °C für 6 Stunden ausgeführt, wodurch
die Harzmischung (R-7) mit Ethylcarbitolacetat und Toluen, die das
Harz mit einem Säurewert
von 78 in einem Anteil von 69,8 % enthielt, erhalten wurde.
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Synthesebeispiel 8
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3,3
Teile eines Epoxyharzes vom Glycoldiglycidylethertyp PG-207 (Epoxyäquivalent:
310, hergestellt von Toto Kasei Co., Ltd.) wurden zu 100 Teilen
der Harzmischung (R-2), die in Synthesebeispiel 2 erhalten wurde,
zugegeben und die Reaktion bei 110 °C für 5 Stunden ausgeführt, wodurch
eine Harzmischung (R-8) mit Ethylcarbitolacetat und Toluen, die
das Harz mit einem Säurewert
von 81 in einem Anteil von 68,1 % enthielt, erhalten wurde.
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Synthesebeispiel 9
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3,5
Teile Adekaharz EP-4000 (Epoxyäquivalent:
325, hergestellt von Asahi Denka Co., Ltd.) wurden zu 100 Teilen
der Harzmischung (R-2) zugegeben, die in Synthesebeispiel 2 erhalten
wurde und die Reaktion bei 110 °C
für 4,5
Stunden ausgeführt,
wodurch eine Harzmischung (R-9) mit Ethylcarbitolacetat und Toluen, die
das Harz mit einem Säurewert
von 79 in einem Anteil von 68,1 % enthielt, erhalten wurde.
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Beispiele 1 bis 7 und
Vergleichsbeispiele 1 bis 3
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Die
Harzmischungen (R-1) bis (R-9), welche in den Synthesebeispielen
1 bis 9 erhalten wurden, wurden mit den Mischungskomponenten geknetet,
die in Tabelle 1 gezeigt werden, um dadurch die photoempfindlichen
Harzzusammensetzungen zu erhalten. Die erhaltenen Ergebnisse durch
Auswerten der vorstehenden Harzzusammensetzung durch die folgenden
Verfahren werden in Tabelle 2 gezeigt.
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Auswertung der Entwicklungsfähigkeit
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Die
photoempfindliche Harzzusammensetzung wurde auf ein entfettetes
und gewaschenes Kupfer kaschiertes Laminat mit einer Dicke von 1,6
mm in einer Dicke von 20 bis 30 μm
aufgetragen und bei 80 °C
für eine
vorgeschriebene Zeit (30, 40, 50 und 60 Minuten) in einem Heizofen
mit Heißluftzirkulation
getrocknet, um dadurch eine Überzugsschicht
zu erhalten. Dann wurde die Entwicklung in einer 1 % wässrigen
Na2CO3 Lösung bei
30 °C für 80 Sekunden
unter einem Druck von 2,1 kg/cm2 ausgeführt und
dann das verbleibende Harz zur Auswertung visuell betrachtet.
- O:
- Gute Entwicklungsfähigkeit,
kein Photolack verbleibt auf der Kupferfläche.
- Δ:
- Eine etwas schlechtere
Entwicklungsfähigkeit,
wenig Photolack verbleibt auf der Kupferfläche.
- X:
- Schlechte Entwicklungsfähigkeit,
Photolack verbleibt bemerkenswert auf der Kupferfläche.
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Auswertung der klebfreien
Eigenschaft
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Die
photoempfindliche Harzzusammensetzung wurde auf ein entfettetes
und gewaschenes Kupfer kaschiertes Laminat mit einer Dicke von 1,6
mm in einer Dicke von 20 bis 30 μm
aufgetragen und bei 80 °C
für 30
Minuten in dem Heizofen mit Heißluftzirkulation
getrocknet, um dadurch eine Überzugsschicht
zu erhalten. Dann wurde ein Polyesterfilm über die Überzugsfläche gelegt und zwischen Siliconlagen
zwischengeschoben, gefolgt durch Verdichten bei 50 °C für 30 Minuten.
Diese Probe wurde auf eine Temperatur von 25 °C eingestellt und dann der Polyesterfilm
abgezogen, um die Situation des Abziehens beruhend auf den folgenden
Kriterien auszuwerten:
- O:
- Die Überzugsschicht
ist nicht klebrig.
- Δ:
- Die Überzugsschicht
ist leicht klebrig.
- X:
- Die Überzugsschicht
ist klebrig.
-
Auswertung der Haftung
-
Eine Überzugsschicht
wurde in der gleichen Art und Weise wie in der Auswertung der klebfreien
Eigenschaft gebildet und mit einer Belichtungsenergie von 500 mJ/cm2 mit Hilfe einer Extrahochdruck-Quecksilberlampe
von 1 kW bestrahlt. Dann wurden nach dem Erhitzen der Überzugsschicht
bei 150 °C
für 30
Minuten 100 schräge
Schnitte von 1 mm × 1
mm darauf gemäß eines
Prüfverfahrens
von JIS D-0202 eingeschnitten und die Bedingungen des Abschälens nach
Ausführung
einer Abschälprüfung mit
einem Klebeband zur Auswertung visuell betrachtet.
- O:
- Keine Änderung
bei 100/100.
- Δ:
- 80/100 bis 99/100.
- X:
- 0/100 bis 79/100.
-
Wärmebeständigkeit gegenüber Lot
-
Die Überzugsschicht
wurde nach der Belichtung in ein Lotbad von 260 °C für 20 Sekunden gemäß eines
Prüfverfahrens
von JIS D-0202 eingetaucht und die Bedingungen der Überzugsschicht
nach dem Eintauchen zur Auswertung betrachtet.
- O:
- Keine Veränderung
im äußeren Erscheinungsbild
der Überzugsschicht.
- X:
- Schwellen, Schmelzen
oder Entfernung im äußeren Erscheinungsbild
der Überzugschicht
beobachtet.
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Beständigkeit bei der elektrolosen
Goldplattierung
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Die Überzugsschicht
wurde nach der Belichtung bei einer Stromdichte von 1 A/dm2 für
15 Minuten in „Autoronecx
CI" (Goldplattierungslösung hergestellt
von Cel-Rex Corp., U.S.A) goldplattiert, um Gold in einer Dicke
von 2 μm
abzuscheiden. Dann wurde eine Abschälprüfung der Überzugschicht mit einem Klebeband ausgeführt. Das
Abschälen
wurde beruhend auf den folgenden Kriterien ausgewertet:
- O:
- Keine Veränderung
der Überzugsschicht.
- Δ:
- Leichtes Abschälen beobachtet.
- X:
- Abschälen in 20
% oder mehr der gesamten Überzugsschicht
beobachtet.
-
-
-
In
den Vergleichsbeispielen, welche die Harze (R-1) und (R-2) verwendeten,
die nicht zu hohem Molekulargewicht mit den difunktionalen Epoxyharzen
ausgedehnt wurden, war nicht nur die Entwicklungsfähigkeit
nach dem Erhitzen für
eine lange Zeit von 60 Minuten beeinträchtigt, sondern war auch die
klebfreie Eigenschaft viel schlechter. In Vergleichsbeispiel 2 jedoch,
welches Alkylphenol verwendete, war der Widerstand bei der Goldplattierung
und die Anhaftung verglichen mit der von Vergleichsbeispiel 1 gut.
Da das difunktionale Epoxyharz (GY-250), welches zur Reaktion mit
dem Harz in Beispiel 1 verwendet wurde, in Vergleichsbeispiel 3
nur geknetet wurde, waren die Entwicklungsfähigkeit und die klebfreie Eigenschaft
beeinträchtigt.
Die Anhaftung und der Widerstand bei der Goldplattierung waren ebenfalls
schlechter. In allen Beispielen 1 bis 7 wurden gute Entwicklungsfähigkeit
und klebfreie Eigenschaft gezeigt, und es ist offensichtlich, dass
beide Leistungsverhalten kompatibel sind.
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Vergleichssynthesebeispiel
10
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1000
Teile des Epoxyharzes vom Bisphenol A Typ GY-250 (Epoxyäquivalent: 185, hergestellt
von Ciba Geigy Co., Ltd.) wurden bei 110 °C erhitzt und dann 389 Teile
Acrylsäure,
7,0 Teile Triethylammoniumbromid und 1,4 Teile Methylhydrochinon
zugegeben, um die Reaktion für
10 Stunden auszuführen.
Dieses Reaktionsprodukt wurde auf 100 °C abgekühlt und dann 822 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid,
644 Teile Ethylcarbitolacetat und 544 Teile Toluen zugegeben und
für 6 Stunden
zur Reaktion gebracht, wodurch eine Harzmischung (A) erhalten wurde.
15,1 Teile des Epoxyharzes von Bisphenol A Typ GY-250, 3,7 Teile
Ethylcarbitolacetat und 3,7 Teile Toluen wurden zu 100 Teilen dieser
Harzmischung (A) zugegeben und dann bei 110 °C für 14 Stunden zur Reaktion gebracht,
wodurch eine Harzmischung (R-10) mit Ethylcarbitolacetat und Toluen,
die das Harz mit einem Säurewert
von 61 in einem Anteil von 67 % enthielt, erhalten wurde.
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Vergleichssynthesebeispiel
11
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17,2
Teile des Epoxyharzes von Bisphenol A Typ GY-250, 6,2 Teile Ethylcarbitolacetat und
6,2 Teile Toluen wurden zu 100 Teilen der Harzmischung (A), welche
in Vergleichssynthesebeispiel 10 erhalten wurde, zugegeben und dann
bei 110 °C
für 15
Stunden zur Reaktion gebracht. Dieses Reaktionsprodukt wurde auf 100 °C abgekühlt und
dann 7,4 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid,
2,0 Teile Ethylcarbitolacetat und 2,0 Teile Toluen zugegeben und
für 4 Stunden
zur Reaktion gebracht, wodurch eine Harzmischung (R-11) mit Ethylcarbitolacetat
und Toluen, die das Harz mit einem Säurewert von 83 in einem Anteil
von 65 % enthielt, erhalten wurde.
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Vergleichssynthesebeispiel
12
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61
Teile Butylcellosolvacetat wurden zu 100 Teilen Epoxyharz vom Bisphenol
S Typ EX-251 (Epoxyäquivalent:
198, hergestellt von Nagase Kasei Ind. Co., Ltd.) und dann durch
Erhitzen gelöst.
Dann wurden 36 Teile Acrylsäure,
0,4i Teile Triphenylphosphin und 0,11 Teile Methylhydrochinon zugegeben
und die Reaktion bei 110 °C
für 14
Stunden ausgeführt.
Dieses Reaktionsprodukt wurde auf 100 °C abgekühlt und dann 51 Teile Succinsäureanhydrid
und 23 Teile Butylcellosolvacetat zugegeben und für 8 Stunden
zur Reaktion gebracht. 40 Teile Epoxyharz vom Bisphenol S Typ EX-251
und 18 Teile Butylcellosolvacetat wurden zu dieser Harzmischung
zugegeben und dann bei 110 °C
für 14
Stunden zur Reaktion gebracht, wodurch eine Harzmischung (R-12)
mit Butylcellosolvacetat, die das Harz mit einem Säurewert
von 78 in einem Anteil von 69 % enthielt, erhalten wurde.
-
Vergleichssynthesebeispiel
13
-
100
Teile Epoxyharz vom Bisphenol A Typ GY-250 (Epoxyäquivalent:
185, hergestellt von Ciba Geigy Co., Ltd.) wurden bei 110 °C erhitzt
und dann 39 Teile Acrylsäure,
0,67 Teile Triethylammoniumbromid und 0,14 Teile Methylhydrochinon
zugegeben um die Reaktion für
10 Stunden auszuführen.
Dieses Reaktionsprodukt wurde auf 100 °C abgekühlt und dann 33 Teile Tetrahydrophthalsäure, 29
Teile Ethylcarbitolacetat und 29 Teile Toluen zugegeben und für 5 Stunden
zur Reaktion gebracht, wodurch eine Harzmischung (R-13) mit Ethylcarbitolacetat
und Toluen, die das Harz mit einem Säurewert von 72 in einem Anteil
von 75 % enthielten, erhalten wurde.
-
Vergleichssynthesebeispiel
14
-
59
Teile Butylcellosolvacetat wurden zu 100 Teilen des Epoxyharzes
vom Bisphenol S Typ EX-251 (Epoxyäquivalent: 198, hergestellt
von Nagase Kasei Ind. Co., Ltd.) zugegeben und durch Erhitzen gelöst. Dann
wurden 36 Teile Acrylsäure,
0,41 Teile Triphenylphosphin und 0,14 Teile Methylhydrochinon zugegeben und
die Reaktion bei 110 °C
für 14
Stunden ausgeführt.
Dieses Reaktionsprodukt wurde auf 100 °C abgekühlt und dann 28 Teile Succinsäureanhydrid
und 12 Teile Butylcellosolvacetat zugegeben, gefolgt von ihrem Reagieren
für 6 Stunden.
40 Teile des Epoxyharzes vom Bisphenol S Typ EX-251 und 18 Teile
Butylcellosolvacetat wurden zu dieser Harzmischung zugegeben und
bei 110 °C
für 14
Stunden zur Reaktion gebracht, wodurch eine Harzmischung (R-14)
mit Butylcellosolvacetat, die das Harz mit einem Säurewert
von 97 in einem Anteil von 70 enthielt, erhalten wurde.
-
Vergleichsbeispiele 8
bis 11 und
-
Bezugsvergleichsbeispiele
4 bis 6
-
Die
Harzmischungen (R-10) bis (R-14), welche in den Vergleichssynthesebeispielen
10 bis 14 erhalten wurden, wurden mit den Mischungskomponenten geknetet,
die in Tabelle 3 gezeigt werden, um die photoempfindliche farbige
Harzzusammensetzung für
einen Farbfilter zu erhalten. Diese farbige Harzzusammensetzung wurde
auf eine Glasplatte schleuderbeschichtet und dann bei 80 °C für 30 Minuten
getrocknet, um eine Überzugsschicht
mit einer Dicke von etwa 1 μm
zu bilden. Die erhaltenen Ergebnisse durch Auswerten der auf diese Weise
gebildeten Überzugsschicht
in Tabelle 3 gezeigt.
-
Trocknungseigenschaft
der Überzugsschicht
-
Ein
negativer Film wurde auf die Überzugsschicht
gepresst und eine Bedingung beim Abziehen beobachtet und ausgewertet
beruhend auf den folgenden Kriterien:
- O:
- Es wurde beim Abschälen kein
Geräusch
erzeugt und der negative Film kann sauber abgezogen werden.
- Δ:
- Beim Abziehen wird
ein Abziehgeräusch
erzeugt.
- X:
- Die Überzugssicht
haftet auf dem negativen Film an.
-
Belichtungsempfindlichkeit
-
Eine
21 stufige Stouffer-Schritttafel wurde fest auf die Überzugsschicht
kontaktiert und mit einer Strahlungsenergie von 500 mJ/cm2 mit Hilfe einer Extrahochdruck-Quecksilberlampe
von 1 Kw bestrahlt. Dann wurde die Entwicklung in einer 1 % wässrigen
Na2O3 Lösung für 30 Sekunden
und einem Druck von 2,1 kg/cm2 ausgeführt und
die Stufenanzahl der auf der Glasplatte verbleibenden Stufentafel
bestimmt.
-
Auflösung
-
Die Überzugsschicht
wurde mit einer Strahlungsenergie von 500 mJ/cm2 über eine
Maske mit Linien- und Zwischenraum-Muster von 10 μm mit Hilfe
einer Extrahochdruck-Quecksilberlampe von 1 kW bestrahlt und die
Entwicklung in der gleichen Art und Weise wie die beim Messen der
Strahlungsempfindlichkeit ausgeführt.
Die Auflösung
wurde beruhend auf den folgenden Kriterien ausgewertet:
- O:
- Keine Veränderung
der Muster.
- Δ:
- Ein Teil der Muster
ist gebrochen.
- X:
- So gut wie kein Muster
verbleibt.
-
Wärmebeständigkeit
-
Die Überzugsschicht
wurde in der gleichen Art und Weise wie bei der Messung der Strahlungsempfindlichkeit
bestrahlt. Dann wurde die belichtete Überzugsschicht auf 150 °C für 30 Minuten
erhitzt, um die Muster zu fixieren. Dann wurde der Film weiter bei
250 °C für 1 Stunde
erhitzt. Entfärbung
und Verblassen wurden ausgewertet.
- O:
- Keine Entfärbung und
Verblassen werden beobachtet.
- X:
- Entfärbung und
Verblassung werden beobachtet.
Tabelle
3 (Die in der Tabelle gezeigten Werte mit Ausnahme
der Belichtungsempfindlichkeit beruhen auf Gewichtsteilen.) - 1)
Photopolymerisations-Initiator hergestellt von Ciba Geigy Co., Ltd.)
- 2) Epoxyharz vom Phenol-Novolaktyp hergestellt von Ciba Geigy
Co., Ltd.)
- 3) Silankopplungsmittel hergestellt von Japan Unicar Co., Ltd.
-
Synthesebeispiel 15
-
Synthese von polymeren
Feinteilchen der (Meth)acrylatreihen [1)
-
Ein
Kolben, welcher mit einem Rührer,
einer Rückflussdestille,
einem Stickstoffeinführungsrohr,
einem Thermometer und einem Tropftrichter ausgerüstet war, wurde mit 180 Teilen
Isopropylalkohol beschickt und die Temperatur auf 81 °C angehoben,
während
Stickstoffgas eingeführt
wurde, um für
10 Minuten eine Rückflussdestillation
auszuführen.
Eine Mischung von 53,6 Teilen Acrylsäure, 16,5 Teilen Laurylmethyacrylat,
91 Teilen Blenmer PE-200 (Polyethylenglycolmonomethacrylat, hergestellt
von Nippon Oil & Fat
Co., Ltd.), 13,7 Teile n-Dodecylmercaptan und 0,4 Teile 2-2'-Azobisisobutylonitril wurden tropfenweise
diesen Kolben über
einen Zeitraum von 2 Stunden zugegeben. Nach dem Abschluss des Zutropfens
wurde die Polymerlösung
für 1 Stunde
unter weiterem Rückfluss
gealtert, um dadurch eine Lösung
eines polymeren Emulgators S-1 mit einem nicht flüchtigen
Gehalt von 49,1 % zu erhalten.
-
Als
nächstes
wurde ein anderer Kolben, welcher mit einem Rührer, einer Rückflussdestille,
einem Stickstoffeinführungsrohr,
einem Thermometer und einem Tropftrichter ausgerichtet war, mit
63 Teilen ionenausgetauschten Wassers beschickt und die Temperatur
auf 70 °C
angehoben, während
Stickstoffgas eingeführt
wurde. Dann wurden 85 Teile Ethylacrylat, 10 Teile Methylmethacrylat,
5 Teile Glycidylmethacrylat, 4,1 Teile der Lösung des polymeren Emulgators
S-1, 0,5 Teile 28 wässriger
Ammoniak und 36 Teile ionenausgetauschtes Wasser gemischt und gut
gerührt,
um eine vollständig
emulgierte Voremulsion zu erhalten, welche in den Tropftrichter
geladen wurde, mit welchem der vorstehend beschriebene Kolben ausgerüstet war.
-
Der
Koben wurde mit 8 Teilen einer 5 % wässrigen Lösung eines mit Ammonium neutralisierten
Salzes von 4,4'-Azobis(4-cyanopentanesäure) beschickt
und dann die vorstehend beschriebe Voremulsion aus dem Tropftrichter über einen
Zeitraum von 3,5 Stunden zugetropft. Die Temperatur wurde bei 70
bis 75 °C
während des
Zutropfens gehalten. Nach Abschluss des Zutropfens wurde die in
dem Tropftrichter verbliebende Voremulsion mit 10 Teilen ionenausgetauschtem
Wasser heruntergewaschen und die Waschlösung in den Kolben zugeführt. Das
Rühren
wurde für
weitere 2 Stunden fortgesetzt, um die Polymerisation abzuschließen, wodurch
eine Emulsion von polymeren Feinteilchen der (Meth)acrylatreihen
[1] mit einem nicht flüchtigen
Gehalt von 46,0 % erhalten wurde. Ein Teil der Emulsion wurde genommen,
um Wasser zu verdampfen und eine Glasübergangstemperatur des Polymers
wurde mit einem Differenzialrasterkalorimeter bestimmt und ein Wert
von –8 °C gefunden.
-
Herstellung
der Farbzusammensetzungen für
einen Lötabdecklack
-
80
Teile Ethylcarbitolacetat wurden zu 100 Teilen des Epoxyharzes vom
Cresol-Novolaktyp YDCN-703 (Epoxyäquivalent: 200, hergestellt
von Toto Kasei Co., Ltd.) zugegeben und dann durch Erhitzen bei
120 °C unter
Rühren
gelöst.
Nachdem die Lösung
auf 60 °C
abgekühlt
war, wurden 43,48 Teile der Emulsion der polymeren Feinteilchen
[1], wie vorstehend beschrieben, zugegeben und die Temperatur auf
130 °C unter
Rühren angehoben,
um das Wasser vollständig
zu entfernen. Dann wurden 36,9 Teile Acrylsäure, 0,14 Teile Chromchlorid
6 Hydrat und 0,11 Teile Hydrochinon zugegeben und bei 110 °C für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht. Der Säurewert
des Reaktionsprodukts war 3,0, und die Einführung von Acrylylgruppen wurde
bestätigt.
Als nächstes
wurden 45,6 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid, 29 Teile Ethylcarbitolacetat
und 0,14 Teile wasserfreies Lithiumchlorid zugegeben und bei 100 °C für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht, wodurch eine Mischungszusammensetzung (C-1)
mit Ethylcarbitolacetat, die das polymere Feinteilchen [1] und ein
photohärtbares
Harz mit einem Säurewert
von 90 in einem Anteil von 65 % enthielt, erhalten wurde.
-
Synthesebeispiel 16
-
80
Teile Ethylcarbitolacetat wurden zu 100 Teilen des gleichen Epoxyharzes
zugegeben, wie es in Synthesebeispiel 15 verwendet wurde, und diese
wurden durch Erhitzen bei 120 °C
unter Rühren
gelöst.
Dann wurden 36,9 Teile Acrylsäure,
0,14 Teile Chromchlorid 6 Hydrat und 0,11 Teile Methylhydrochinon
zugegeben und bei 110 °C
für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht. der Säurewert
des Reaktionsprodukts war 3,3, und die Einführung von Acrylylgruppen wurde
bestätigt.
Nachdem die Lösung
auf 60 °C
abgekühlt
wurde, wurden 43,48 Teile der Emulsion der polymeren Feinteilchen
[1], die in Beispiel 1 hergestellt wurden, zugegeben und die Temperatur
auf 115 °C
unter Rühren
angehoben, um das Wasser vollständig
zu entfernen. Als nächstes wurden
45,6 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid,
29 Teile Ethylcarbitolacetat und 0,14 Teile wasserfreies Lithiumchlorid
zugegeben und bei 100 °C
für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht, wodurch eine Mischungszusammensetzung (C-2)
mit Ethylcarbitolacetat, welche die polymeren Feinteilchen [1] und
ein photohärtbares
Harz mit einem Säurewert
von 90 in einem Anteil von 65 % enthielt, erhalten wurde.
-
Synthesebeispiel 17
-
80
Teile Ethylcarbitolacetat wurden zu 100 Teilen des gleichen Epoxyharzes
gegeben, wie es in Synthesebeispiel 15 verwendet wurde, und diese
wurden durch Erhitzen bei 120 °C
unter Rühren
gelöst.
Dann wurden 36,9 Teile Acrylsäure,
0,14 Teile Chromchlorid 6 Hydrate und 0,11 Teile Methylhydrochinon
zugegeben und bei 110 °C
für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht. Der Säurewert
des Reaktionsprodukt war 3,3, und die Einführung von Acrylygruppen wurde
bestätigt.
Als nächstes
wurden 45,6 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid, 29 Teile Ethylcarbitolacetat
und 0,14 Teile wasserfreies Lithiumchlorid zugegeben und bei 100 °C für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht. Nachdem die Lösung auf 60 °C abgekühlt war,
wurden 43,84 Teile der Emulsion des polymeren Feinteilchens [1],
wie es in Beispiel 1 hergestellt wurde, zugegeben und die Temperatur auf
115 °C unter
Rühren
angehoben, um das Wasser vollständig
zu entfernen, wodurch eine Mischungszusammensetzung (C-3) mit Ethylcarbitolacetat,
welches die polymeren Feinteilchen [1] und ein photohärtbares Harz
mit einem Säurewert
von 91 in einem Anteil von 65 % enthielt, erhalten wurde.
-
Synthesebeispiel 18
-
Synthese von polymeren
Feinteilchen der (Meth)acrylreihen [2]
-
Die
Emulsionspolymerisation wurde in der gleichen Art und Weise wie
in Synthesebeispiel 15 ausgeführt,
um eine Emulsion von polymeren (Meth)acrylatreihen Feinteilchen
[2], mit einem nicht flüchtigen
Gehalt von 46,5 % zu erhalten, mit der Ausnahme, dass in den Syntheseverfahren
der polymeren Feinteilchen in Beispiel 1 Hitenol NO8 (Ammoniumalkylphenylpolyethylenoxidsulfonat,
hergestellt von Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) für den polymeren
Emulgator S-1 substituiert wurde. Ein Teil der Emulsion wurde genommen,
um Wasser zu verdampfen. Die Glasübergangstemperatur des Polymers
wurde mit einem Differenzialrasterkalorimeter bestimmt und ein Wert
von –10 °C gefunden.
-
80
Teile Ethylcarbitolacetat wurden 100 Teilen des gleichen Epoxyharzes
zugegeben, das in Synthesebeispiel 15 verwendet wurde, und diese
wurden bei Erhitzen bei 120 °C
unter Rühren
gelöst.
Nachdem die Lösung
auf 60 °C
gekühlt
worden war, wurden 43,01 Teile der Emulsion der polymeren Feinteilchen
[2], die vorstehend beschrieben wurden, zugegeben und die Temperatur
auf 130 °C
unter Rühren
angehoben, um das Wasser vollständig
zu entfernen. Dann wurden 36,9 Teile Acrylsäure, 0,14 Teile Chromchlorid
6 Hydrat und 0,11 Teile Hydrochinon zugegeben und bei 110 °C für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht. Der Säurewert
des Reaktionsprodukts war 3,0, und die Einführung von Acrylylgruppen wurde
bestätigt.
Als nächstes
wurden 45,6 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid, 29 Teile Ethylcarbitolacetat
und 0,14 Teile wasserfreies Lithiumchlorid zugegeben und bei 100 °C für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht, wodurch ein Mischungszusammensetzung (C-4)
mit Ethylcarbitolacetat, welche die polymeren Feinteilchen [2] und
photohärtbares
Harz mit einem Säurewert
von 89 in einem Anteil von 65 % enthielt, erhalten wurde.
-
Vergleichssynthesebeispiel
19
-
80
Teile Ethylcarbitolacetat wurden zu 100 Teilen des Epoxyharzes vom
Bisphenol A Typ GY-250 (Epoxyäquivalent:
185, hergestellt von Ciba Geigy Co., Ltd.) zugegeben und die Temperatur
auf 60 °C
unter Rühren
angehoben, um eine homogene Lösung
herzustellen. 43,84 Teile der Emulsion der polymeren Feinteilchen [1],
welche in Synthesebeispiel 15 synthetisiert wurden, wurden zugegeben
und die Temperatur auf 130 °C
angehoben, um das Wasser vollständig
zu entfernen. Dann wurden 38,9 Teile Acrylsäure, 0,14 Teile Chromchlorid
6 Hydrat und 0,12 Teile Methylhydrochinon zugegeben und bei 110 °C für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht.
-
Dieses
Reaktionsprodukt wurde auf 100 °C
abgekühlt
und dann 82,2 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid und 0,14 Teile
wasserfreies Lithiumchlorid zugegeben, gefolgt von ihrem Reagieren
bei 100 °C
für 10 Stunden.
50 Teile des Epoxyharzes GY-250 wurden zugegeben und die Reaktion
bei 110 °C
für 5 Stunden
fortgesetzt. Ferner wurden 39,6 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid
und 98,1 Teile Ethylcarbitolacetat zugegeben und bei 100 °C für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht, wodurch eine Mischungszusammensetzung (C-5) mit
Ethylcarbitolacetat, welche die polymeren Feinteilchen [1] und ein
photohärtbares
Harz mit einem Säurewert
93 in einem Anteil von 65 % enthielt, erhalten wurde.
-
Synthesebeispiel 20 (Bezugsvergleichsbeispiel)
-
80
Teile Ethylcarbitolacetat wurden zu 100 Teilen des gleichen Epoxyharzes
(Epoxyharz vom Cresol-Novolaktyp YDCN-703), wie das in Synthesebeispiel
15 verwendete, zugegeben und durch Erhitzen bei 120 °C unter Rühren gelöst. Dann
wurden 36,9 Teile Acrylsäure,
0,14 Teile Chromchlorid 6 Hydrat und 0,11 Teile Methylhydrochinon
zugegeben und bei 110 °C
für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht. Es wurde bestätigt, dass der Säurewert
des Reaktionsprodukts 3,3 war. Als nächstes wurden 45,6 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid,
18,3 Teile Ethylcarbitolacetat und 0,14 Teile wasserfreies Lithiumchlorid
zugegeben und bei 100 °C
für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht, wodurch eine Mischungszusammensetzung (C-6)
mit Ethylcarbitolacetat, welche keine polymeren Feinteilchen aber
ein photohärtbares
Harz mit einem Säurewert
von 95 in einem Anteil von 65 % enthielt, erhalten wurde.
-
Synthesebeispiel 21 (Bezugsvergleichsbeispiel)
-
80
Teile Ethylcarbitolacetat wurden zu den 100 Teilen des gleichen
Epoxyharzes (Epoxyharz vom Bisphenol A Typ GY-250), wie das in Synthesebeispiel
19 verwendete, zugegebe, und die Temperatur auf 110 °C angehoben.
Dann wurden 38,9 Teile Acrylsäure,
0,14 Teile Chromchlorid 6 Hydrat und 0,12 Teile Methylhydrochinon
zugegeben und für
3 Stunden zur Reaktion gebracht. Dieses Reaktionsprodukt wurde auf
100 °C abgekühlt und
dann 82,2 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid und 0,14 Teile
wasserfreies Lithiumchlorid zugegeben und bei 100 °C für 10 Stunden
zur Reaktion gebracht. Als nächstes
wurden 50 Teile des Epoxyharzes GY-250 zugegeben und die Reaktion
bei 110 °C
für 5 Stunden
fortgesetzt. Ferner wurden 33,1 Teile Tetrahydrophthalsäureanhydrid
und 83,8 Teile Ethylcarbitolacetat zugegeben und bei 100 °C für 3 Stunden
zur Reaktion gebracht, wodurch eine Mischungszusammensetzung (C-7)
mit Ethylcarbitolacetat, welche keine polymeren Feinteilchen aber
ein photohärtbares
Harz mit einem Säurewert
von 92 in einem Anteil von 65 % enthielt, erhalten wurde.
-
Beispiele 12 bis 15, Vergleichsbeispiel
16 und
-
Bezugsvergleichsbeispiele
7 bis 9
-
Die
Mischungszusammensetzungen (C-1) bis (C-7), welche in den Synthesebeispielen
15 bis 18, den Vergleichsynthesebeispielen 19 und den Synthesebeispielen
20 und 21 (Bezugsvergleichsbeispiele) erhalten wurden, wurden mit
den in Tabelle 4 gezeigten Komponenten vermischt, um die Lötabdecklack-Farbzusammensetzungen
zu erhalten. Die Ergebnisse, die durch ihr Auswerten durch die folgenden
Verfahren erhalten wurden, werden in Tabelle 5 gezeigt.
-
Auswertung der Entwicklungsfähigkeit
-
Das
Verfahren ist das gleiche wie das in den Beispielen 1 bis 7 verwendete.
-
Auswertung der Alkalibeständigkeit
-
Eine Überzugsschicht
wurde in der gleichen Art und Weise wie die in der Auswertung der
Entwicklungsfähigkeit
gebildet und mit einer Strahlungsenergie von 500 mJ/cm2 mit
Hilfe einer Extrahochdruck-Quecksilberlampe von 1 kW bestrahlt,
gefolgt durch Erhitzen der Überzugsschicht
bei 150 °C
für 30
Minuten. Dann wurde die Überzugsschicht
in eine 10 % wässrige
Natriumhydroxidlösung
für 20
Minuten eingetaucht und die Bedingung der Überzugsschicht nach dem Eintauchen
visuell für
die Auswertung betrachtet.
- O:
- Keine Veränderung
im äußeren Erscheinungsbild
der Überzugsschicht.
- X:
- Die Überzugsschicht
war aufgeschwollen oder abgelöst.
-
Auswertung
der Anhaftung
-
Eine Überzugsschicht
wurde in der gleichen Art und Weise wie in der Auswertung der Entwicklungsfähigkeit
gebildet und mit einer Strahlungsenergie von 500 mJ/cm2 mit
Hilfe einer Extrahochdruck-Quecksilberlampe von 1 kW bestrahlt.
Dann wurden nach dem Erhitzen der Überzugsschicht bei 150 °C für 30 Minuten 100
schräge
Schnitte von 1 mm × 1
mm gemäß eines
Prüfverfahrens
aus JIS D-0202 eingeschnitten. Weiter wurde die Überzugsschicht bei 175 °C oder 200 ° C für 30 Minuten
erhitzt und dann die Ablösebedingung
nach der Ablöseprüfung mit
einem Klebeband zur Auswertung visuell betrachtet.
- O:
- Keine Veränderung
bei 100/100.
- Δ:
- 80/100 bis 99/100.
- X:
- 0/100 bis 79/100.
Tabelle
4 (Die in der Tabelle gezeigten Werte beruhen auf
Gewichtsteilen) - 1) Photopolymerisations-Initiator hergestellt
von Ciba Geigy Co., Ltd.
- 2) Epoxyharz vom Phenol-Novolaktyp hergestellt von Ciba Geigy
Co., Ltd.
- 3) Entschäumungsmittel
hergestellt von Kyoeisha Oil & Fat
10 Chemical Co., Ltd.
-
-
Es
ist offensichtlich, dass alle Überzugsschichten,
welche in den Beispielen der vorliegenden Erfindung hergestellt
wurden (Beispiele 12 bis 15), und die Farbzusammensetzungen für Lotabdecklacke
verwenden, welche mit den polymeren Feinteilchen vermischt sind,
eine ausgezeichnete Entwicklungsfähigkeit, Alkalibeständigkeit
nach dem Aufheizschritt und Anhaftung aufweisen. In den Vergleichsbeispielen
7 bis 9 jedoch, in welchen die polymeren Feinteilchen nicht zugemischt
wurden, kann ein deutlicher Unterschied bei der Anhaftung nach dem
Aufheizschritt von den Beispielen der vorliegenden Erfindung beobachtet
werden. Für
das Auftreten dieses Unterschiedes wird die Tatsache angenommen,
dass feine Risse und eine Schrumpfung des Volumens auf der Photolackschicht
in dem Aufheizschritt nach der Belichtung mit Strahlen hervorgerufen
werden, so dass die Anhaftung an dem Substrat verringert wird. Folglich
wurde bestätigt,
dass in Anwesenheit der polymeren Feinteilchen diese Unzulänglichkeiten
verhindert werden können.
-
Effekt der Erfindung
-
Gemäß des Herstellungsverfahrens
für das
photoempfindliche Harz der vorliegenden Erfindung kann das linear
ausgedehnte photoempfindliche Harz mit einer geeigneten Menge an
Carboxylgruppen erhalten werden. Folglich ist es möglich, die
Kompatibilität
der klebfreien Eigenschaft mit der alkalischen Entwicklungsfähigkeit
in der Überzugsschicht
vor der Photohärtung
zu erreichen, welche in herkömmlichen
photoempfindlichen Harzen unmöglich
war. Ferner weist die gehärtete Überzugsschicht
eine ausgezeichnete chemische Beständigkeit, Anhaftung und Wärmebeständigkeit
auf. Demzufolge war es möglich,
flüssige
photoempfindliche Harzzusammensetzungen zu Verfügung zu stellen, die als Lötabdecklack
und ein elektroloser Plattierungsabdecklack verwendet werden können, die
zur Herstellung von gedruckten Leiterplatten Anwendung finden oder für schwarze
Matrizen und Farbfilter zur Herstellung von Flüssigkristallanzeigen nützlich sind.
Insbesondere waren die flüssigen
photoempfindlichen Harzzusammensetzungen, in welchen die polymeren
Feinteilchen mit einer Glasübergangstemperatur
von 20 °C
oder niedriger dispergiert wurden, dazu fähig, Photolackschichten zu
bilden, welche ausgezeichnete Anhaftung auf einem Substrat ebenso
in einer Linie, in welche ein Aufheizschritt nach dem Erzeugen von
Mustern gesetzt wurden, zu zeigen.