JP2000047381A - ソルダ―マスクを形成するための1パ―ト型光画像形成性組成物 - Google Patents

ソルダ―マスクを形成するための1パ―ト型光画像形成性組成物

Info

Publication number
JP2000047381A
JP2000047381A JP11153464A JP15346499A JP2000047381A JP 2000047381 A JP2000047381 A JP 2000047381A JP 11153464 A JP11153464 A JP 11153464A JP 15346499 A JP15346499 A JP 15346499A JP 2000047381 A JP2000047381 A JP 2000047381A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
composition
molecular weight
acrylate
average molecular
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11153464A
Other languages
English (en)
Inventor
Wanda Darlene Brewster
ダーレン ブルースター ワンダ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Morton International LLC
Original Assignee
Morton International LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Morton International LLC filed Critical Morton International LLC
Publication of JP2000047381A publication Critical patent/JP2000047381A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プリント回路上のソルダーマスク形成に有用
な光画像形成性組成物。 【解決手段】 A)スチレンおよび無水マレイン酸から形
成された主鎖を含み、1種の有機アルコールまたは有機
アルコールの混合物により、無水マレイン酸により提供
される酸無水物官能基が少なくとも半エステル化されて
おり、酸価が約110 〜約270 であり、重量平均分子量が
約10,000〜約150,000 であるバインダーポリマーを約20
〜約50重量%、B)B1) 特定のアクリレート官能性ウレタ
ンオリゴマー、B2) 特定のエポキシアクリレートオリゴ
マーまたはB1)とB2)との混合物を約20〜約60重量%お
よびB3) アクリレート官能性モノマーを0〜約15重量%
含む光画像形成性化合物を約20〜約75重量%、C)アミノ
プラストを約1〜約5重量%並びにD)光開始剤薬品系を
約1〜約15重量%含み、前記重量%は成分A)、B)および
C)の合計重量を基準としたものである、アルカリ水性現
像可能な光画像形成性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明はプリント回路上にソルダーマスク
を形成するのに有用な光画像形成性組成物に関する。こ
の光画像形成性組成物は1パート型組成物として安定で
あり、それ故、安定な1パート型組成物が合理的な貯蔵
寿命のために要求される乾燥フィルムを形成するために
有用である。この組成物は不粘着性であり、そして接触
画像形成に適する。この組成物はプリント回路トレース
の良好な封入性を提供する。この組成物は耐熱性であ
り、そして高温における繰り返しのソルダリングにわた
って熱安定性を有する。
【0002】例えば、プリント回路板の形成のためのフ
ォトレジストとして有用である光画像形成性組成物はGi
lanoらの米国特許第3,953,309号明細書に教示
されており、その教示を参照により本明細書中に取り入
れる。この組成物の主たる成分は光重合性材料、例え
ば、α,β−エチレン系不飽和モノマーもしくは短鎖オ
リゴマー、光開始剤薬品系および、スチレンとマレイン
酸モノブチルとのコポリマーのような酸官能バインダー
である。米国特許第3,953,309号明細書に教示
されている光画像形成性組成物はラジカル抑制剤をも有
し、それにより、早期熱開始重合を防止している。
【0003】米国特許第3,953,309号明細書に
教示されている光画像形成性組成物は、バインダーポリ
マーの有意なカルボン酸官能価のために、希炭酸ナトリ
ウム溶液のようなアルカリ水性溶液中において現像可能
である。例えば、スチレン/マレイン酸モノブチルポリ
マー中において、各マレイン酸モノブチル残基は1個の
エステル化していないカルボン酸部分を提供する。光画
像形成性組成物の層は、化学線にパターン露光しそして
アルカリ水性溶液中において現像して、層の未露光部分
を除去した後に、塩化第二鉄のような酸エッチ剤溶液に
暴露されて、回路板ブランクから下塗の銅がエッチング
される。
【0004】スチレンおよび無水マレイン酸のモノエス
テルからなるポリマーをバインダーとして使用する光画
像形成性組成物は、米国特許第4,273,857号お
よび同第4,293,635号明細書にも教示されてお
り、それらの各々の教示を参照により本明細書中に取り
入れる。スチレンおよび無水マレイン酸モノエステルの
コポリマーであるバインダーは市販されており、例え
ば、Monsanto ChemicalCo. により販売されているScrip
set(商標)樹脂である。
【0005】米国特許第3,953,309号明細書中
の現像後処理は酸性溶液中におけるものであるが、他の
現像後処理はアンモニア性エッチング剤または金属メッ
キ溶液のような高いアルカリ性の溶液中において行われ
る。上記の特許明細書中のポリマーの酸官能性はアルカ
リ水性溶液中において現像可能にするが、レジスト層の
露光された、光重合した部分でさえ、高いアルカリ性の
水性溶液中において分解を受けやすくするものでもあ
る。高いアルカリ性の環境下において、このようなレジ
ストはデラミネーションおよびストリッピングを受ける
であろう。
【0006】米国特許第4,987,054号明細書
は、露光および現像の後に熱硬化することができる、ア
ミンにより変性したメチルメタクリレート/スチレン/
無水マレイン酸の「コポリマー」の使用を記載してい
る。この熱硬化により、アルカリ処理環境に対する優れ
た耐性を有する膜が形成される。しかしながら、多量(h
igh volume) のプリント回路板の製造においては、現像
後の熱硬化の追加工程は実用的でないことがある。
【0007】米国特許第4,008,087号明細書
は、フェネタノールによりエステル化したスチレン/無
水マレイン酸コポリマーを記載している。このポリマー
はハロゲン化銀フォトエマルジョン中において用いられ
ている。
【0008】米国特許第4,722,947号明細書
は、ヒドロキシアルキルアクリリル化合物によりエステ
ル化されており、そして必要に応じて、アリールアルキ
ル一価アルコールのような別のアルコールによりエステ
ル化されているスチレン/無水マレイン酸コポリマーで
ある、放射線硬化性ポリマーを記載している。エステル
化されたポリマーを含む組成物は、コーティング、接着
剤およびフィルムのような放射線硬化される組成物にお
いて有用である。
【0009】米国特許第4,273,857号明細書
は、メタノールおよびイソプロパノールにより部分的に
エステル化されたスチレン/無水マレイン酸コポリマー
を含む光画像形成性組成物を記載している。
【0010】化学線露光および現像に次いで、後硬化可
能であり、それ故、ソルダーマスク等の形成における使
用に適する光画像形成性組成物も知られている。米国特
許第5,364,736号明細書は、後硬化の硬度を付
与するためにエポキシ樹脂を用いた、このような組成物
を記載している。アルカリ水性現像が可能であるように
酸官能性のバインダーポリマーを有する、米国特許第
5,364,736号明細書に開示されているようなエ
ポキシ含有フォトレジストは、一般に、プリント回路板
に液体の光画像形成性組成物として適用する直前に混合
される2液型(2パート型)として提供されねばならな
い。このタイプの1パート型組成物は、時間の経過とと
もにエポキシ官能基がバインダーポリマーのカルボン酸
官能基と反応するので不安定であろう。
【0011】米国特許第5,609,991号明細書
は、ソルダーマスクの形成に適する光画像形成性組成物
を含む、光画像形成性組成物を記載しており、その教示
を参照により本明細書中に取り入れる。比較的に高い分
子量であり、そして比較的に高いエステル化度であるス
チレン/無水マレイン酸ポリマーをバインダーポリマー
として用いる。この特許の組成物はスチレン/無水マレ
イン酸コポリマーに帰因する良好な耐熱性を有する。し
かしながら、スチレン/無水マレイン酸コポリマーは脆
いポリマーであり、そしてこの特許の明細書に記載され
たソルダーマスク形成性組成物は所望の程度に回路トレ
ースを封入しないことが判った。
【0012】本発明によると、ソルダーマスクの形成に
適する、1パート型のアルカリ水性現像可能な光画像形
成性組成物が提供される。明細書中において、光画像形
成性組成物を記載する全ての重量百分率はバインダーポ
リマーA)、光重合性化合物B)およびアミノプラスト
樹脂C)に対して計算される。この光画像形成性組成物
は、A)約20〜約50重量%のバインダーポリマーを
含み、このバインダーポリマーA)は約45〜約75モ
ル%のスチレンおよび約25〜約55モル%の無水マレ
イン酸から形成された主鎖を含み、このバインダーポリ
マーは、各々の分子量が32〜約200である、1種の
有機アルコールまたは有機アルコールの混合物によりエ
ステル化されており、それにより、無水マレイン酸によ
り提供される酸無水物官能基を少なくとも半エステル化
している。このポリマーは酸価が約110〜約270で
あり、そして重量平均分子量が約10,000〜約15
0,000であり、好ましくは少なくとも約20,00
0であり、そして好ましくは約60,000以下であ
る。この光画像形成性組成物の約20〜約75重量%は
光重合性化合物であり、この光重合性化合物はB1 )重
量平均分子量が約400〜約3000であるアクリレー
ト官能性ウレタンオリゴマーおよび/またはB 2 )重量
平均分子量が約400〜約3000であるエポキシアク
リレートオリゴマーから選ばれたアクリレート官能性オ
リゴマーを約20〜約60重量%含み、オリゴマー
1 )および/またはB2 )は好ましくは重量平均分子
量が約2000以下であり、そして必要に応じて、アク
リレート官能性モノマーを0〜約15重量%含む。最終
の硬化を行うために、組成物は、さらにC)約1〜約5
重量%のアミノプラストを含み、それは、昇温下におい
て、バインダーポリマーA)中の酸官能基および存在す
るヒドロキシル官能基と反応する。組成物は、D)約1
〜約15重量%の光開始剤薬品系をさらに含み、それに
より、化学線に露光されたときに光重合性化合物B)の
重合が促進される。
【0013】本発明は特に二次画像(secondary imagin
g)、特にソルダーマスクの形成のための光画像形成性組
成物に関する。ソルダーマスクとは、本明細書中におい
て、IPC−SM−840B、表12、資格/適合性の
ための基準の要約(Summaryof Criteria for qualifica
tion / Conformance) (Institute for Interconnecting
and Packaging Electronic Circuits)に規定された耐
摩耗性試験の最低基準を少なくとも満たす、硬い永久の
層を意味する。
【0014】スチレンはバインダーポリマーの主鎖の約
45〜約75モル%を占め、そして無水マレイン酸は残
りの25〜55モル%を占める。スチレンと無水マレイ
ン酸との相対量は、一般に、バインダーポリマーA)の
酸価を決めるであろう。というのは、有機アルコールに
より完全に半エステル化されたときに、各酸無水物部分
は1個のカルボン酸官能価を提供するであろうからであ
る。しかしながら、酸無水物のエステル化により生じる
カルボン酸官能基と有機アルコールとの反応により、バ
インダーポリマーをさらにエステル化することが可能で
ある。
【0015】しかしながら、バインダーポリマーは完全
に半エステル化されている、即ち、実質的に全ての酸無
水物基がアルコールと反応していることが必要である。
酸無水物基はアミノプラスト樹脂と非常に反応性であ
り、そして、もし、エステル化の後に有意な量の酸無水
物部分がバインダーポリマー中に残存しているならば、
早期架橋が起こるであろう。
【0016】有機アルコールの選択は特に重要であると
は考えない。Mw32であるメタノールはエステル化の
ためのアルコールであってよく、また、より高い分子量
のアルコール、即ち、Mwが約200までのアルコー
ル、好ましくはMwが約130以下のアルコールもエス
テル化のためのアルコールであってよい。上記に引用し
た米国特許第5,609,991号明細書は、3−シク
ロヘキシル−1−プロパノール、シクロヘキシルメタノ
ール、フェニルエチルアルコール、メチルシクロヘキサ
ノールおよび2−エチル−1−ヘキサノールのような1
00を越えるMwの比較的に大きな(bulky)アルコール
によるエステル化を教示している。しかしながら、これ
らのアルコールの嵩(bulk)のために、半エステル化は完
了しない傾向があり、その為、1〜3個の炭素数のアル
コール、特にメタノールにより、完全な半エステル化を
行う必要があることを教示している。このような混合ア
ルコールによりエステル化されたスチレン/無水マレイ
ン酸ポリマーは本発明において有用であるが、必要条件
ではない。もし、ポリオールにより提供される追加的な
ヒドロキシル基のような追加的な化学官能基は、もし、
このような官能基がエステル化の間にSMAポリマーを
架橋するかまたはアミノプラストと早期反応するなら
ば、望ましくない。もし、より高い架橋密度が望まれる
ならば、アルコールはアクリレート官能基を有してよ
く、例えば、ヒドロキシエチルアクリレートまたはヒド
ロキシエチルメタクリレートであってよく、それによ
り、バインダーポリマーのアクリレート官能基は光重合
反応に参加する。しかしながら、バインダーポリマーが
アクリレート官能基を有しなくても、十分な架橋密度が
一般に達成できる。
【0017】上記に引用した米国特許第5,609,9
91号明細書は分子量(重量平均)が約80,000〜
200,000であるエステル化されたスチレン/無水
マレイン酸ポリマーを教示している。本発明では、より
低い分子量(重量平均)範囲、即ち、約10,000〜
約150,000が用いられる。重量平均分子量は少な
くとも約20,000であることが好ましい。光画像形
成性組成物が従来から処理されている温度、即ち、約7
0℃以下の温度での処理では、エステル化されたスチレ
ン/無水マレイン酸の重量平均分子量は、回路トレース
の十分な封入を行うために約60,000以下であるこ
とが一般に要求される。これを越えると、例えば、約1
50,000まででは、光画像形成性組成物は、回路ト
レースの十分な封入を行うために、従来の処理温度より
も高い温度で処理されねばならない。
【0018】この一般的なタイプの殆どの光画像形成性
組成物において、光画像形成性化合物は主にモノ−およ
びポリアクリレート官能性を有するモノマーである。し
かしながら、このようなモノマーはアクリレート官能性
オリゴマーと組み合わせて用いられている。例えば、上
記に引用した米国特許第5,609,991号明細書で
は、5〜10重量%のエポキシアクリレートオリゴマー
が用いられている。本発明では、実質的にもっと多量の
オリゴマー、即ち、エポキシアクリレートおよび/また
はアクリレート官能性ウレタンオリゴマーは用いられ、
即ち、少なくとも約20重量%から約65重量%以下の
量で用いられることがわかる。
【0019】本発明において特に有用なエポキシアクリ
レートオリゴマーは1〜5個のビスフェノールA基を有
するビスフェノールAアクリレートである。このような
オリゴマーは市販されており、例えば、Ebycryl (商
標)樹脂である。
【0020】アクリレート官能性ウレタンは、ポリオー
ルを過剰量のポリイソシアネートと反応させてNCOを
末端とする中間体ポリマーを形成させ、その後、この中
間体ポリマーをOH−官能性アクリレート、例えば、ヒ
ドロキシエチルアクリレートまたはヒドロキシエチルメ
タクリレートと反応させてアクリレート官能性を提供す
ることにより形成できる。このような樹脂は市販されて
おり、例えば、Lundycryl (商標)樹脂として販売され
ている。
【0021】本発明において有用な別のタイプのアクリ
レート官能性ウレタンは下記一般式を有する。
【0022】
【化1】
【0023】(式中、Rは−(CH2 p −NH−CO
O−(CHY−CHY−O)m −CO−CX=CH2
あり、XはHまたはCH3 であり、YはH、CH3 また
はC25 であり、pは1〜36の整数であり、そして
mは1〜14の整数である)。このようなトリマーは欧
州特許出願EP 0 738 927 A2に記載され
ている。
【0024】本発明の組成物中に混入される高含有量の
アクリレート官能性オリゴマーは、バインダーポリマー
のSMA主鎖の高い結晶化度を破壊し、それにより、回
路トレースのより良好な封入を達成するように作用する
ものと信じられる。光画像形成性組成物は、約15重量
%以下の従来のモノ−およびポリ官能価のアクリレート
モノマーB3 )、例えば、テトラエチレングリコールジ
アクリレート(TEGDA)、トリメチロールプロパン
トリアクリレート(TMPTA)、ブタンジオールジメ
タクリレート(BDDMA)およびペンタエリトリトー
ルトリアクリレート(PETA)をも含んでよい。さら
なる多官能性モノマーは1,5−ペンタンジオールジア
クリレート、エチレングリコールジアクリレート、1,
3−プロパンジオールジアクリレート、デカメチレング
リコールジアクリレート、デカメチレングリコールジメ
タクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、2,2−ジメチロールプロパンジアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリ
コールジアクリレート、グリセロールトリアクリレー
ト、2,2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)−プロパン
ジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、ポリオキシエチル−2−2−ジ(p−ヒドロキシ
フェニル)−プロパンジメタクリレート、トリエチレン
グリコールジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリ
メチロールプロパントリアクリレート、エチレングリコ
ールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリ
レート、1,3−プロパンジオールジメタクリレート、
ブチレングリコールジメタクリレート、1,3−プロパ
ンジオールジメタクリレート、1,2,4−ブタントリ
オールトリメタクリレート、2,2,4−トリメチル−
1,3−ペンタンジオールジメタクリレート、ペンタエ
リトリトールトリメタクリレート、1−フェニルエチレ
ン−1,2−ジメタクリレート、ペンタエリトリトール
テトラメタクリレート、トリメチロールプロパントリメ
タクリレート、1,5−ペンタンジオールジメタクリレ
ートおよび1,4−ベンゼンジオールジメタクリレート
を含む。
【0025】化学線への露光時にモノマーおよび/また
はオリゴマーの重合を開始するために、光画像形成性組
成物はC)適切な光開始剤または光開始剤薬品系を含
む。適切な光開始剤はベンゾインエーテル、ベンジルケ
タール、アセトフェノン、ベンゾフェノンおよびアミン
関連化合物を含む。光開始剤薬品系は好ましくは、A)
+B)+C)の合計に対して約0.01〜約2重量%の
量で9−フェニルアクリジンを含む。
【0026】組成物は、一般に、当業界において知られ
ているような追加の少量の成分を含む。例えば、組成物
は、一般に、アクリレート官能性オリゴマーおよびモノ
マーの早期熱重合を防止するためにラジカル抑制剤を含
む。他の従来の添加剤は、染料、流れ調整剤、消泡剤、
顔料、酸化防止剤等を含む。
【0027】組成物の成分は、アセトンまたはメチルエ
チルケトン(MEK)のような適切な溶剤中に溶解され
る。通常、組成物の固形分含有率は約20〜約60%で
あるが、これは用途によって変化しうる。
【0028】熱硬化により現像後の硬化を行うために、
組成物は、さらに、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂ま
たはユリア−ホルムアルデヒド樹脂のようなアミノプラ
ストを約1〜約5重量%含む。アミノプラスト樹脂は、
組成物中に存在するOH基と架橋し、そして昇温、即
ち、約135℃を越える温度で、バインダーポリマーの
カルボン酸官能基と架橋するであろう。好ましいメラミ
ン−ホルムアルデヒド樹脂はメチル化メラミン部分を有
する。
【0029】組成物は、プリント回路板に対して液体組
成物として塗布されうるが、好ましくは乾燥フィルム層
として適用されて、回路を封入する。もし、液体として
塗布されるならば、組成物はさらなる処理の前に溶剤を
除去するために乾燥されねばならない。直接的に適用さ
れまたは乾燥フィルムから転写された組成物は従来の様
式で処理される。組成物はアートワークを通してパター
ン化された化学線に露光され、そしてその後、1%炭酸
ナトリウム溶液のようなアルカリ水性溶液中において現
像される。組成物は、その後、バインダーポリマーのカ
ルボン酸官能基とアミノプラストとの反応による熱硬化
を行うために十分な時間、例えば、約135℃を越える
温度に加熱される。
【0030】本発明の組成物は不粘着性であり、このこ
とはアートワークと光画像形成性組成物との間に「トッ
プコート」またはポリマー層を用いることなく、アート
ワークを光画像形成性組成物に直接接触させてよいこと
を意味する。この不粘着性は露光前のベークサイクルを
行わなくても得られるものである。この不粘着性は向上
した解像度を提供する。
【0031】組成物は改良されたフィルム可撓性を提供
し、このことはプリント回路板におけるスルーホールを
覆うのに(tenting) 特に重要である。このことは特に驚
くべきことである。というのは、多量の含有量の、即
ち、30%を越える量のスチレンを含むポリマーは通
常、非常に脆く、そして損傷しやすいフィルムを形成さ
せるからである。
【0032】本発明の組成物の非常に重要な利点は高い
耐熱性であり、即ち、マルチプルソルダリング操作の間
に、例えば約5回までソルダーマスクが繰り返してさら
されることがある305℃の熱応力に耐えることができ
る能力があることである。現在、このような耐熱性はエ
ポキシベースの液体系においてのみ見られるものであ
る。
【0033】本発明の組成物は1パート型の系であり、
そして、液体として塗布しなければならない2液型(2
パート型)エポキシ系とは対照的に、乾燥フィルム層と
して提供されることができるので、組成物はそのままの
乾燥フィルム層として、処理の間にスルーホールを覆
い、そして保護することができる。乾燥フィルムの他の
利点はさらなる処理の前に組成物の乾燥または平衡が要
求されず、その為、このような工程による時間遅れを回
避することができることである。
【0034】次に、特定の実施例によって、本発明をよ
り詳細に説明する。 例 本発明による光画像形成性組成物を以下の通りに配合す
る。成分 重量% エステル化されたスチレン/無水マレイン酸* 65.96 Ebycryl (商標)3500 (エポキシアクリレート) 23.74 Lundycryl (商標)( ウレタンアクリレート) 2.65 RO-501 (75% ウレタンアクリレート/ 25% 3モルエトキシル化 トリメチロールプロパントリアクリレート) 5.27 Resimine 735 (メチル化メラミン樹脂) 2.38 100.00 9-フェニルアクリジン (光開始剤) 0.17 Irgacure(商標)907 (2-メチル-(4-( メチルチオ)フェニル) -2-(4-モルホリニル)-1-プロパノール)(光開始剤) 8.18 イソプロピルチオキサントン(2および4異性体の混合物) (光開始剤) 2.24 Spectracure (商標)G646507(フタロシングリーン顔料) 1.18 Modaflow(商標)(アクリル流れ調整剤) 0.39 ベンザトリアゾール 0.04 Syloid(商標)7000( ヒュームドシリカにより処理されたもの) (充填剤) 5.93 メチルエチルケトン (溶剤) 21.11 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(溶剤) 0.66 *2:1のモル比のS:MA、半エステル化、 3:1のモル比のフェノキシエタノール:メタノール、Mw=40,000
【0035】光画像形成性組成物を55%固形分として
メチルエチルケトン中に溶解させた。この組成物をポリ
エステル支持シート上に塗布し、そして乾燥させた。そ
の後、ポリエチレン保護シートを適用した。2.0ミル
の厚さのフィルムを得た。ポリエチレンシートを取り除
き、支持シートを有した乾燥フィルムを真空ラミネータ
を用いてプリント回路板に積層した。ポリエステル支持
シートを取り除き、そしてアートワークを光画像形成性
組成物の層の上に直接的に横たえ、そしてアートワーク
を通して光画像形成性組成物を165mJ/cm2 の化
学線に露光した。アートワークを取り除いた後に、光画
像形成性組成物を1%炭酸ナトリウム一水和物中で2
9.4℃で45秒間現像した。その後、残った光画像形
成性組成物を150℃で60分間ベーキングすることに
より硬化させた。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 A)約45〜約75モル%のスチレンお
    よび約25〜約55モル%の無水マレイン酸から形成さ
    れた主鎖を含み、各々の分子量が32〜約200であ
    る、1種の有機アルコールまたは有機アルコールの混合
    物によりエステル化されており、それにより、無水マレ
    イン酸により提供される酸無水物官能基が少なくとも半
    エステル化されており、酸価が約110〜約270であ
    り、そして、重量平均分子量が約10,000〜約15
    0,000である、バインダーポリマーを約20〜約5
    0重量%、 B)B1 )重量平均分子量が約400〜約3000であ
    るアクリレート官能性ウレタンオリゴマー、 B2 )重量平均分子量が約400〜約3000であるエ
    ポキシアクリレートオリゴマー、および、 B1 )およびB2 )の混合物から選ばれたアクリレート
    官能性オリゴマーを約20〜約60重量%、および、 B3 )アクリレート官能性モノマーを0〜約15重量
    %、含む光画像形成性化合物を約20〜約75重量%、 C)アミノプラストを約1〜約5重量%、並びに、 D)光開始剤薬品系を約1〜約15重量%、含み、 前記重量%は前記成分A)、B)およびC)の合計重量
    を基準としたものである、アルカリ水性現像可能な光画
    像形成性組成物。
  2. 【請求項2】 前記バインダーポリマーの重量平均分子
    量は約60,000以下である、請求項1記載の組成
    物。
  3. 【請求項3】 前記バインダーポリマーの重量平均分子
    量は約20,000以上である、請求項1記載の組成
    物。
  4. 【請求項4】 前記バインダーポリマーの重量平均分子
    量は約20,000〜約60,000である、請求項1
    記載の組成物。
  5. 【請求項5】 前記エステル化のためのアルコールの分
    子量は約130未満である、請求項1記載の組成物。
  6. 【請求項6】 前記オリゴマーB1 )および/またはB
    2 )の重量平均分子量は約2000以下である、請求項
    1記載の組成物。
  7. 【請求項7】 前記光開始剤薬品系D)は成分A)およ
    びB)の合計重量を基準として約0.01〜約2重量%
    の9−フェニルアクリジンを含む、請求項1記載の組成
    物。
JP11153464A 1998-07-02 1999-06-01 ソルダ―マスクを形成するための1パ―ト型光画像形成性組成物 Pending JP2000047381A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10980798A 1998-07-02 1998-07-02
US09/109807 1998-07-02

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000047381A true JP2000047381A (ja) 2000-02-18

Family

ID=22329671

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11153464A Pending JP2000047381A (ja) 1998-07-02 1999-06-01 ソルダ―マスクを形成するための1パ―ト型光画像形成性組成物

Country Status (2)

Country Link
EP (1) EP0969324A1 (ja)
JP (1) JP2000047381A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001194778A (ja) * 1999-11-03 2001-07-19 Shipley Co Llc 改良されたドライフィルムフォトレジスト
WO2006068048A1 (ja) * 2004-12-24 2006-06-29 Fujifilm Corporation パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
JP2007033685A (ja) * 2005-07-25 2007-02-08 Fujifilm Corp パターン形成材料、並びにパターン形成装置及び永久パターン形成方法
WO2011037182A1 (ja) * 2009-09-25 2011-03-31 旭化成イーマテリアルズ株式会社 レジスト材料用感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体
JP2013539072A (ja) * 2010-09-16 2013-10-17 エルジー・ケム・リミテッド 感光性樹脂組成物、ドライフィルムソルダーレジスト及び回路基板

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD250593A1 (de) * 1984-04-03 1987-10-14 Wolfen Filmfab Veb Fotopolymerisierbares material
GB2273366B (en) * 1992-11-18 1996-03-27 Du Pont Forming images on radiation-sensitive plates
US5609991A (en) * 1995-02-10 1997-03-11 Morton International, Inc. Photoimageable composition having improved alkaline process resistance and tack-free surface for contact imaging

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001194778A (ja) * 1999-11-03 2001-07-19 Shipley Co Llc 改良されたドライフィルムフォトレジスト
WO2006068048A1 (ja) * 2004-12-24 2006-06-29 Fujifilm Corporation パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
JP2006184326A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd パターン形成材料、並びにパターン形成装置及び永久パターン形成方法
JP4583916B2 (ja) * 2004-12-24 2010-11-17 富士フイルム株式会社 パターン形成材料、並びにパターン形成装置及び永久パターン形成方法
JP2007033685A (ja) * 2005-07-25 2007-02-08 Fujifilm Corp パターン形成材料、並びにパターン形成装置及び永久パターン形成方法
WO2011037182A1 (ja) * 2009-09-25 2011-03-31 旭化成イーマテリアルズ株式会社 レジスト材料用感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体
JPWO2011037182A1 (ja) * 2009-09-25 2013-02-21 旭化成イーマテリアルズ株式会社 レジスト材料用感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体
JP5215473B2 (ja) * 2009-09-25 2013-06-19 旭化成イーマテリアルズ株式会社 レジスト材料用感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体
KR101548791B1 (ko) * 2009-09-25 2015-08-31 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 레지스트 재료용 감광성 수지 조성물 및 감광성 수지 적층체
JP2013539072A (ja) * 2010-09-16 2013-10-17 エルジー・ケム・リミテッド 感光性樹脂組成物、ドライフィルムソルダーレジスト及び回路基板

Also Published As

Publication number Publication date
EP0969324A1 (en) 2000-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1568723B1 (en) Photo- and thermo-setting resin composition and printed wiring boards made by using the same
EP1887425A1 (en) Photocuring/thermosetting resin composition, curing/setting product thereof and printed wiring board obtained using the same
JP4223622B2 (ja) ネガ型光画像形成性組成物
US5229252A (en) Photoimageable compositions
US5773518A (en) Esterified styrene/maleic anhydride polymer
JP2950770B2 (ja) 新規ポリマーおよびそれを含む光画像形成性組成物
EP0403170B1 (en) Photoimageable compositions
JP2010077283A (ja) 多分岐ポリエステル(メタ)アクリレート化合物
JP2002014466A (ja) 感光性樹脂組成物
JP4933093B2 (ja) アルカリ現像可能な硬化性組成物及びその硬化物
JP2000047381A (ja) ソルダ―マスクを形成するための1パ―ト型光画像形成性組成物
JP2802801B2 (ja) 感光性熱硬化性樹脂組成物及びソルダーレジストパターン形成方法
JP2966350B2 (ja) 水性光像形成組成物
JP2001163949A (ja) 光重合可能なバインダーオリゴマーを有するフォトイメージャブル組成物
JP4418608B2 (ja) 樹脂組成物
JPWO2003059975A1 (ja) 感光性樹脂組成物およびプリント配線板
JP2001163948A (ja) 柔軟なオリゴマーを含むフォトイメージャブル組成物
JPH0720631A (ja) 感光性・熱硬化性樹脂組成物及びソルダーマスク形成方法
JP2002234932A (ja) アルカリ水溶液可溶性エポキシカルボキシレート化合物及びそれを用いた感光性樹脂組成物並びにその硬化物
JP4387807B2 (ja) アルカリ現像型ソルダーレジスト組成物及びそれを用いたプリント配線板
JPH06192387A (ja) 活性エネルギー線硬化性樹脂
JP2000292923A (ja) 感光性樹脂組成物
JP4708702B2 (ja) 感光性樹脂組成物およびプリント配線板
JP4814135B2 (ja) 硬化性組成物及びその硬化物
JP2007256742A (ja) アルカリ現像可能な硬化性組成物及びその硬化物