JP2001163949A - 光重合可能なバインダーオリゴマーを有するフォトイメージャブル組成物 - Google Patents
光重合可能なバインダーオリゴマーを有するフォトイメージャブル組成物Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 光重合可能なバインダーオリゴマーを有する
フォトイメージャブル組成物の提供。 【解決手段】 式: (CH2=C(H又はCH3)−CO−X−R−CH
(OZ)−CH2−O−φ−)2−C(CH3)2 〔式中、RはC1〜40のアルキレン基;Xは存在しな
いか、又は分子量50〜2000のアルキレンジオー
ル、ポリエステルジオール及びポリエーテルジオールか
らなる群から選択されるジオール;Zは式:−CO−N
H−Y−NH−CO−O(−VW1−5−O−CO−N
H−Y−NH−CO−O)n−Q−O−CO−C(H又
はCH3)=CH2;を有し〔式中、Yはアルキレン又
は芳香族炭化水素基であり;Vは2価の有機基、WはC
OOH、SO2H及びPO4からなる群から選択される
酸基;n=1−4であり;さらにQはC2〜6のアルキ
レン基〕〕を有するオリゴマー。
フォトイメージャブル組成物の提供。 【解決手段】 式: (CH2=C(H又はCH3)−CO−X−R−CH
(OZ)−CH2−O−φ−)2−C(CH3)2 〔式中、RはC1〜40のアルキレン基;Xは存在しな
いか、又は分子量50〜2000のアルキレンジオー
ル、ポリエステルジオール及びポリエーテルジオールか
らなる群から選択されるジオール;Zは式:−CO−N
H−Y−NH−CO−O(−VW1−5−O−CO−N
H−Y−NH−CO−O)n−Q−O−CO−C(H又
はCH3)=CH2;を有し〔式中、Yはアルキレン又
は芳香族炭化水素基であり;Vは2価の有機基、WはC
OOH、SO2H及びPO4からなる群から選択される
酸基;n=1−4であり;さらにQはC2〜6のアルキ
レン基〕〕を有するオリゴマー。
Description
【0001】本発明は、電子回路の形成におけるフォト
レジストとして有用なフォトイメージャブル(phot
oimageable)組成物に関する。特に本発明の
有利な態様はソルダマスク、特に、ニッケル/金無電解
めっきにおいて遭遇するような過酷な加工条件にかけら
れるソルダマスクとして使用されるフォトレジストに関
する。
レジストとして有用なフォトイメージャブル(phot
oimageable)組成物に関する。特に本発明の
有利な態様はソルダマスク、特に、ニッケル/金無電解
めっきにおいて遭遇するような過酷な加工条件にかけら
れるソルダマスクとして使用されるフォトレジストに関
する。
【0002】本発明にかかる新規のバインダーオリゴマ
ーは光画像形成される(photo−imaged)フ
ォトレジストに柔軟性を提供し、ニッケル/金めっきの
条件に曝される場合に、ソルダマスク形成性フォトレジ
ストの性能を実質的に改良する。バインダーオリゴマー
の最も重要な利点はソルダマスク形成性(solder
mask−forming)フォトレジストにおいて
認められるが、1次イメージング(primary i
maging)フォトレジストを含む、全てのフォトレ
ジスト組成物において柔軟性は望まれる。ソルダマスク
形成性フォトレジストは硬質で、永久的な層をプリント
回路ボード上に形成する。ソルダマスクは硬質で、耐久
性があり、有機溶媒並びに強酸および強塩基のような化
学薬品に耐性がなければならない。この点については、
ソルダマスクは、サマリー オブ クライテリア フォ
ー クオリフィケーション/コンホーマンス(インステ
ィチュート フォー インターコネクティング サーキ
ット)(Summary of Criteria f
or Qualification/Conforma
nce(Institute for Interco
nnecting Circuits))のIPC/A
NSI SM−840B表12の試験の基準に適合すべ
きである。本明細書では、ソルダマスクはこれらの試験
に適合する層として定義される。アルカリ水性溶液中で
現像可能なソルダマスク形成性組成物の例としては、米
国特許第5229252号および第5364736号が
挙げられ、これらのそれぞれによる教示は本明細書の一
部として参照される。
ーは光画像形成される(photo−imaged)フ
ォトレジストに柔軟性を提供し、ニッケル/金めっきの
条件に曝される場合に、ソルダマスク形成性フォトレジ
ストの性能を実質的に改良する。バインダーオリゴマー
の最も重要な利点はソルダマスク形成性(solder
mask−forming)フォトレジストにおいて
認められるが、1次イメージング(primary i
maging)フォトレジストを含む、全てのフォトレ
ジスト組成物において柔軟性は望まれる。ソルダマスク
形成性フォトレジストは硬質で、永久的な層をプリント
回路ボード上に形成する。ソルダマスクは硬質で、耐久
性があり、有機溶媒並びに強酸および強塩基のような化
学薬品に耐性がなければならない。この点については、
ソルダマスクは、サマリー オブ クライテリア フォ
ー クオリフィケーション/コンホーマンス(インステ
ィチュート フォー インターコネクティング サーキ
ット)(Summary of Criteria f
or Qualification/Conforma
nce(Institute for Interco
nnecting Circuits))のIPC/A
NSI SM−840B表12の試験の基準に適合すべ
きである。本明細書では、ソルダマスクはこれらの試験
に適合する層として定義される。アルカリ水性溶液中で
現像可能なソルダマスク形成性組成物の例としては、米
国特許第5229252号および第5364736号が
挙げられ、これらのそれぞれによる教示は本明細書の一
部として参照される。
【0003】従前は、はんだは、表面のマウント等への
電気的結合のために、銅電気回路トレースの露出したパ
ッドに直接にアプライされた。回路トレースに直接には
んだ付けすることの問題点としては、はんだの消費、は
んだの毒性、はんだ中への銅のマイグレーション(mi
gration)、およびはんだの変色(tarnis
hing)が挙げられる。改良されたプロセスは、電気
的結合の製造におけるパッドのニッケル/金めっきを含
む。まず、露出されたパッドは無電解法によって、約1
00〜約300マイクロインチの厚さにニッケルでめっ
きされる。次いで、金の薄層、例えば、6マイクロイン
チの金の薄層が、無電解法によってニッケル上にめっき
される。ニッケル/金めっきは、層がより平坦であり、
ニッケル金は銅をマイグレーションから保護する点で有
利である。また、金は変色しない。
電気的結合のために、銅電気回路トレースの露出したパ
ッドに直接にアプライされた。回路トレースに直接には
んだ付けすることの問題点としては、はんだの消費、は
んだの毒性、はんだ中への銅のマイグレーション(mi
gration)、およびはんだの変色(tarnis
hing)が挙げられる。改良されたプロセスは、電気
的結合の製造におけるパッドのニッケル/金めっきを含
む。まず、露出されたパッドは無電解法によって、約1
00〜約300マイクロインチの厚さにニッケルでめっ
きされる。次いで、金の薄層、例えば、6マイクロイン
チの金の薄層が、無電解法によってニッケル上にめっき
される。ニッケル/金めっきは、層がより平坦であり、
ニッケル金は銅をマイグレーションから保護する点で有
利である。また、金は変色しない。
【0004】しかし、無電解めっき法は苛酷であり、め
っき条件に耐えるソルダマスクを必要とする。特に、ニ
ッケル無電解めっきは、典型的には約90℃で15分間
行われる。しばしば、パッドの周りの領域においてソル
ダマスクのリフティング(lifting)が観察され
る。ソルダマスク形成性フォトイメージャブル組成物の
低分子量のバインダーポリマーは、加工の間での縮みを
より小さくするのに役立ち、結果としてソルダマスクの
リフティングがより小さくなる。しかし、低分子量のバ
インダーポリマーは粘着性である傾向があり、最大の解
像度のためにはコンタクトイメージング、すなわちアー
トワークとフォトイメージャブル組成物の間の直接の接
触が必要とされるので、これは望ましくない特性であ
る。
っき条件に耐えるソルダマスクを必要とする。特に、ニ
ッケル無電解めっきは、典型的には約90℃で15分間
行われる。しばしば、パッドの周りの領域においてソル
ダマスクのリフティング(lifting)が観察され
る。ソルダマスク形成性フォトイメージャブル組成物の
低分子量のバインダーポリマーは、加工の間での縮みを
より小さくするのに役立ち、結果としてソルダマスクの
リフティングがより小さくなる。しかし、低分子量のバ
インダーポリマーは粘着性である傾向があり、最大の解
像度のためにはコンタクトイメージング、すなわちアー
トワークとフォトイメージャブル組成物の間の直接の接
触が必要とされるので、これは望ましくない特性であ
る。
【0005】高分子量のバインダーポリマーは粘着性を
低減させるが、より縮むこととなり、結果として、ニッ
ケル/金めっきの間でのソルダマスクのリフティングが
より大きくなる。現在の多くのソルダマスク形成性フォ
トレジストはスチレン−マレイン酸無水物バインダーポ
リマーベースである。スチレン/マレイン酸無水物ポリ
マーの剛直性のために、そのようなポリマーベースのソ
ルダマスク形成性フォトレジストはニッケル/金めっき
の条件下での耐性に乏しくなりがちである。本発明は、
ニッケル/金めっきに曝露されるソルダマスク組成物に
おける粘着性対リフティングのような特性の交換の影響
を低減させる様な、柔軟な光重合可能なバインダーオリ
ゴマーに関する。
低減させるが、より縮むこととなり、結果として、ニッ
ケル/金めっきの間でのソルダマスクのリフティングが
より大きくなる。現在の多くのソルダマスク形成性フォ
トレジストはスチレン−マレイン酸無水物バインダーポ
リマーベースである。スチレン/マレイン酸無水物ポリ
マーの剛直性のために、そのようなポリマーベースのソ
ルダマスク形成性フォトレジストはニッケル/金めっき
の条件下での耐性に乏しくなりがちである。本発明は、
ニッケル/金めっきに曝露されるソルダマスク組成物に
おける粘着性対リフティングのような特性の交換の影響
を低減させる様な、柔軟な光重合可能なバインダーオリ
ゴマーに関する。
【0006】本発明は効果的な光重合および柔軟性のた
めの4つのアクリレート官能基を有するオリゴマーを提
供する。バインダーオリゴマーは、該オリゴマーが混合
されるフォトイメージャブル組成物がアルカリ水性溶液
中で現像可能であるのに充分な酸官能基も有する。アク
リレート−および酸−官能基を有する(acid−fu
nctional)バインダーオリゴマーは1次イメー
ジングレジストにおいて有利に使用されることができ
る。しかし、本発明のバインダーオリゴマーの最も顕著
な利点は、ソルダマスク形成性フォトイメージャブル組
成物、特に、後にニッケル/金めっきまたは同様の苛酷
な加工条件に曝されるようなソルダマスクを形成する組
成物における使用において認められる。
めの4つのアクリレート官能基を有するオリゴマーを提
供する。バインダーオリゴマーは、該オリゴマーが混合
されるフォトイメージャブル組成物がアルカリ水性溶液
中で現像可能であるのに充分な酸官能基も有する。アク
リレート−および酸−官能基を有する(acid−fu
nctional)バインダーオリゴマーは1次イメー
ジングレジストにおいて有利に使用されることができ
る。しかし、本発明のバインダーオリゴマーの最も顕著
な利点は、ソルダマスク形成性フォトイメージャブル組
成物、特に、後にニッケル/金めっきまたは同様の苛酷
な加工条件に曝されるようなソルダマスクを形成する組
成物における使用において認められる。
【0007】本発明のバインダーオリゴマーは一般式: (CH2=C(HまたはCH3)−CO−X−R−CH(OZ)−CH2−O− φ−)2−C(CH3)2 (I) 式中、Rは炭素数1〜40のアルキレン基であり;〔X
は存在しないか、または分子量50〜2000のアルキ
レンジオール、ポリエステルジオールおよびポリエーテ
ルジオールからなる群から選択されるジオールであり;
Zは式:−CO−NH−Y−NH−CO−O(−VW
1−5−O−CO−NH−Y−NH−CO−O)n−Q
−O−CO−C(HまたはCH3)=CH2;を有し
〔式中、Yはアルキレンまたは芳香族炭化水素基であ
り;Vはアルキレン、芳香族、アルキルアリールまたは
アリールアルキル炭化水素基であり、さらに、Wは同じ
かまたは異なっており、それぞれCOOH、SO2Hお
よびPO4H(HまたはC1−18アルキル)からなる
群から選択される酸基であり;n=1−4であり、好ま
しくは1であり;さらにQは炭素原子2〜6のアルキレ
ン基である〕〕を有する。
は存在しないか、または分子量50〜2000のアルキ
レンジオール、ポリエステルジオールおよびポリエーテ
ルジオールからなる群から選択されるジオールであり;
Zは式:−CO−NH−Y−NH−CO−O(−VW
1−5−O−CO−NH−Y−NH−CO−O)n−Q
−O−CO−C(HまたはCH3)=CH2;を有し
〔式中、Yはアルキレンまたは芳香族炭化水素基であ
り;Vはアルキレン、芳香族、アルキルアリールまたは
アリールアルキル炭化水素基であり、さらに、Wは同じ
かまたは異なっており、それぞれCOOH、SO2Hお
よびPO4H(HまたはC1−18アルキル)からなる
群から選択される酸基であり;n=1−4であり、好ま
しくは1であり;さらにQは炭素原子2〜6のアルキレ
ン基である〕〕を有する。
【0008】本発明にかかる1次イメージングフォトレ
ジストは、(A)と(B)を合わせた重量に基づいて; (A)アルカリ水性溶液中でフォトレジストが現像可能
であるのに充分なカルボン酸官能基を有するバインダー
分子であって、((A)と(B)の総重量に基づいて)
組成物の約5〜100重量%が(A1)式(I)のオリ
ゴマーであり、さらに組成物の0〜約50重量%が(A
2)追加の酸官能基を有するバインダーポリマーであ
り、好ましくは、前記追加の酸官能基を有するバインダ
ーポリマー(A2)を少なくとも約10重量%含む、バ
インダー分子約50〜100重量%; (B)α,β−エチレン性不飽和モノマーおよび/また
は式(I)のオリゴマーを除くα,β−エチレン性不飽
和オリゴマーを含む、光重合可能な非酸(non−ac
id)官能基を有する成分0〜50重量%、好ましくは
少なくとも2重量%;および (C)光開始剤化学系(photoinitiator
chemicalsystem)約0.1〜約10重
量% を含む。
ジストは、(A)と(B)を合わせた重量に基づいて; (A)アルカリ水性溶液中でフォトレジストが現像可能
であるのに充分なカルボン酸官能基を有するバインダー
分子であって、((A)と(B)の総重量に基づいて)
組成物の約5〜100重量%が(A1)式(I)のオリ
ゴマーであり、さらに組成物の0〜約50重量%が(A
2)追加の酸官能基を有するバインダーポリマーであ
り、好ましくは、前記追加の酸官能基を有するバインダ
ーポリマー(A2)を少なくとも約10重量%含む、バ
インダー分子約50〜100重量%; (B)α,β−エチレン性不飽和モノマーおよび/また
は式(I)のオリゴマーを除くα,β−エチレン性不飽
和オリゴマーを含む、光重合可能な非酸(non−ac
id)官能基を有する成分0〜50重量%、好ましくは
少なくとも2重量%;および (C)光開始剤化学系(photoinitiator
chemicalsystem)約0.1〜約10重
量% を含む。
【0009】ソルダマスクのような、永久的な層を提供
することが企図されるフォトイメージャブル組成物は、
さらに、(A)とは別の成分として、(A)と(B)の
総重量に基づいて約5〜約40重量%の(D)エポキシ
樹脂を含む。(D)を含む組成物は好ましくは、(A)
と(B)の総重量に基づいて約1〜約10重量%の
(E)エポキシ架橋剤および/またはエポキシ硬化触媒
(epoxy curecatalyst)も含む。
することが企図されるフォトイメージャブル組成物は、
さらに、(A)とは別の成分として、(A)と(B)の
総重量に基づいて約5〜約40重量%の(D)エポキシ
樹脂を含む。(D)を含む組成物は好ましくは、(A)
と(B)の総重量に基づいて約1〜約10重量%の
(E)エポキシ架橋剤および/またはエポキシ硬化触媒
(epoxy curecatalyst)も含む。
【0010】本明細書においては、特に示されない限り
は、パーセントは重量パーセントである。分子量は重量
平均分子量である。本明細書において使用される用語
「オリゴマー」とは、500〜5000の重量平均分子
量を有する重合された分子をいう。本明細書において使
用される用語「ポリマー」とは、5000より大きい重
量平均分子量を有する重合された分子をいう。本発明の
新規なバインダーオリゴマー(A1)は、商業的に入手
可能な、一般式: (CH2=C(HまたはCH3)−CO−X−R−CH(OH)−CH2−O− φ−)2−C(CH3)2 (II) 〔式中、XおよびRは上述の通りである〕を有するビス
フェノールAエポキシアクリレートから容易に調製され
る。そのようなビスフェノールAエポキシアクリレート
は約500〜約1500の範囲の分子量を有する。その
ような化合物の市販の例としては、Novacure
(登録商標)3701、Ebecryl(登録商標)6
00およびECN(登録商標)117が挙げられる。こ
れらの市販の化合物は2つのアクリレート官能基を有し
ているが、主として、それらはアクリレート官能基あた
りの分子量が比較的大きく、フォトイメージャブル組成
物において使用される場合に不十分なフォトスピード
(photospeed)を提供するので、それらは今
日のフォトイメージャブル組成物においてよく使われて
はいない。本発明のこれらビスフェノールAエポキシア
クリレートは、適切なフォトスピードを提供するため
に、アクリレート官能基が立体的な障害なしに光重合反
応に関与することができるように、オリゴマー分子中に
追加のアクリレート官能基を提供するように改質され
る。同時に、本発明のオリゴマーは柔軟であり、光画像
形成された組成物に柔軟性を提供する。この柔軟性は、
特に、ニッケル/金めっきにおけるような、苛酷な加工
条件下でのソルダマスクリフティングを低減させるのを
助ける。本発明のソルダマスク組成物は、コンタクトイ
メージ形成され(contact−imaged)るこ
とができるのに充分非粘着性であり、適切なフォトスピ
ードを有し、さらにニッケル/金めっき条件に耐える。
は、パーセントは重量パーセントである。分子量は重量
平均分子量である。本明細書において使用される用語
「オリゴマー」とは、500〜5000の重量平均分子
量を有する重合された分子をいう。本明細書において使
用される用語「ポリマー」とは、5000より大きい重
量平均分子量を有する重合された分子をいう。本発明の
新規なバインダーオリゴマー(A1)は、商業的に入手
可能な、一般式: (CH2=C(HまたはCH3)−CO−X−R−CH(OH)−CH2−O− φ−)2−C(CH3)2 (II) 〔式中、XおよびRは上述の通りである〕を有するビス
フェノールAエポキシアクリレートから容易に調製され
る。そのようなビスフェノールAエポキシアクリレート
は約500〜約1500の範囲の分子量を有する。その
ような化合物の市販の例としては、Novacure
(登録商標)3701、Ebecryl(登録商標)6
00およびECN(登録商標)117が挙げられる。こ
れらの市販の化合物は2つのアクリレート官能基を有し
ているが、主として、それらはアクリレート官能基あた
りの分子量が比較的大きく、フォトイメージャブル組成
物において使用される場合に不十分なフォトスピード
(photospeed)を提供するので、それらは今
日のフォトイメージャブル組成物においてよく使われて
はいない。本発明のこれらビスフェノールAエポキシア
クリレートは、適切なフォトスピードを提供するため
に、アクリレート官能基が立体的な障害なしに光重合反
応に関与することができるように、オリゴマー分子中に
追加のアクリレート官能基を提供するように改質され
る。同時に、本発明のオリゴマーは柔軟であり、光画像
形成された組成物に柔軟性を提供する。この柔軟性は、
特に、ニッケル/金めっきにおけるような、苛酷な加工
条件下でのソルダマスクリフティングを低減させるのを
助ける。本発明のソルダマスク組成物は、コンタクトイ
メージ形成され(contact−imaged)るこ
とができるのに充分非粘着性であり、適切なフォトスピ
ードを有し、さらにニッケル/金めっき条件に耐える。
【0011】バインダーオリゴマー(A1)は、アルカ
リ水性溶液中でフォトイメージャブル組成物を現像可能
にするのに充分な酸官能基も有している。本発明のバイ
ンダーオリゴマーの酸価は約50〜約200の範囲で変
化する。ビスフェノールAエポキシアクリレートの2つ
のアクリレート官能基に加え、化合物は2つのヒドロキ
シ官能基を有し、該ヒドロキシ官能基を介して式(I)
の基Zが結合されており、2つの追加のアクリレート官
能基を加えていることが式(II)において示される。
本発明の好ましい合成経路においては、ビスフェノール
Aエポキシアクリレートはジイソシアネートと反応され
る。該ジイソシアネートは各ヒドロキシ官能基に一方の
端で結合して、さらなる反応が可能な2つのイソシアネ
ート部分を提供するために、2モルのジイソシアネート
が反応される。ジイソシアネートは、ヘキサメチレンジ
イソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネー
ト(IPDI)、メチレンジイソシアネート(MD
I)、メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、ト
リメチルヘキサメチルジイソシアネート、ヘキサンジイ
ソシアネート、ヘキサメチルアミンジイソシアネート、
メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、トルエン
ジイソシアネート、1,2−ジフェニルエタンジイソシ
アネート、1,3−ジフェニルプロパンジイソシアネー
ト、ジフェニルメタンジイソシアネート、ジシクロヘキ
シルメチルジイソシアネート等のような、任意の一般的
に入手可能なジイソシアネートであることができる。好
ましくは、オリゴマーの最大の柔軟性のために、ジイソ
シアネートは、例えば、HDIのような脂肪族ジイソシ
アネートである。この時点では、分子は2つのイソシア
ネート官能基を有している。
リ水性溶液中でフォトイメージャブル組成物を現像可能
にするのに充分な酸官能基も有している。本発明のバイ
ンダーオリゴマーの酸価は約50〜約200の範囲で変
化する。ビスフェノールAエポキシアクリレートの2つ
のアクリレート官能基に加え、化合物は2つのヒドロキ
シ官能基を有し、該ヒドロキシ官能基を介して式(I)
の基Zが結合されており、2つの追加のアクリレート官
能基を加えていることが式(II)において示される。
本発明の好ましい合成経路においては、ビスフェノール
Aエポキシアクリレートはジイソシアネートと反応され
る。該ジイソシアネートは各ヒドロキシ官能基に一方の
端で結合して、さらなる反応が可能な2つのイソシアネ
ート部分を提供するために、2モルのジイソシアネート
が反応される。ジイソシアネートは、ヘキサメチレンジ
イソシアネート(HDI)、イソホロンジイソシアネー
ト(IPDI)、メチレンジイソシアネート(MD
I)、メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、ト
リメチルヘキサメチルジイソシアネート、ヘキサンジイ
ソシアネート、ヘキサメチルアミンジイソシアネート、
メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート、トルエン
ジイソシアネート、1,2−ジフェニルエタンジイソシ
アネート、1,3−ジフェニルプロパンジイソシアネー
ト、ジフェニルメタンジイソシアネート、ジシクロヘキ
シルメチルジイソシアネート等のような、任意の一般的
に入手可能なジイソシアネートであることができる。好
ましくは、オリゴマーの最大の柔軟性のために、ジイソ
シアネートは、例えば、HDIのような脂肪族ジイソシ
アネートである。この時点では、分子は2つのイソシア
ネート官能基を有している。
【0012】次いで、前記分子鎖は分子を、2つのヒド
ロキシ官能基および1以上の酸基を有する分子2モルと
反応することによって鎖伸長される。そのような分子の
例としては、ジメタノールプロピオン酸(DMPA)が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。この
合成ステージでは、分子は再度2つのヒドロキシ官能基
を有することとなる。次いで、分子鎖は再び2モルのジ
イソシアネートと反応することによりさらに鎖伸長さ
れ、再び2つのイソシアネート官能基を有する分子を生
じさせる。このステージにおいては、交互に酸官能基を
有するジオールとジイソシアネートを反応することによ
って分子はさらに鎖伸長されることができる。しかし、
分子量をさらに増加することは対応するオリゴマーの柔
軟性の向上をもたらすことなくフォトスピードを低減さ
せることとなるので、概して望ましくない。
ロキシ官能基および1以上の酸基を有する分子2モルと
反応することによって鎖伸長される。そのような分子の
例としては、ジメタノールプロピオン酸(DMPA)が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。この
合成ステージでは、分子は再度2つのヒドロキシ官能基
を有することとなる。次いで、分子鎖は再び2モルのジ
イソシアネートと反応することによりさらに鎖伸長さ
れ、再び2つのイソシアネート官能基を有する分子を生
じさせる。このステージにおいては、交互に酸官能基を
有するジオールとジイソシアネートを反応することによ
って分子はさらに鎖伸長されることができる。しかし、
分子量をさらに増加することは対応するオリゴマーの柔
軟性の向上をもたらすことなくフォトスピードを低減さ
せることとなるので、概して望ましくない。
【0013】むしろ、このステージでは、2モルのヒド
ロキシ官能基を有する(メタ)アクリレート、例えば、
ヒドロキシエチルメタアクリレートまたは4−ヒドロキ
シブチルアクリレート(4HBA)との反応によって、
2つのイソシアネート官能基を有するオリゴマーはアク
リレートキャップ(acrylate−capped)
される。このように合成されたオリゴマーは、光重合反
応において自由に反応できるように、互いに充分に離れ
た4つのアクリレート官能基を有する。バインダーオリ
ゴマーは、約50〜約200の酸価を提供するような2
以上の酸基を有する。完成されたオリゴマーの分子量は
約2000〜約100000である。
ロキシ官能基を有する(メタ)アクリレート、例えば、
ヒドロキシエチルメタアクリレートまたは4−ヒドロキ
シブチルアクリレート(4HBA)との反応によって、
2つのイソシアネート官能基を有するオリゴマーはアク
リレートキャップ(acrylate−capped)
される。このように合成されたオリゴマーは、光重合反
応において自由に反応できるように、互いに充分に離れ
た4つのアクリレート官能基を有する。バインダーオリ
ゴマーは、約50〜約200の酸価を提供するような2
以上の酸基を有する。完成されたオリゴマーの分子量は
約2000〜約100000である。
【0014】追加の酸官能基を有するバインダーポリマ
ー(A2)が式(I)のバインダーオリゴマーと共に使
用される場合には、該ポリマー(A2)は、α,β−エ
チレン性不飽和モノマーから公知の方法で形成される。
好適な酸官能基を有するモノマーの具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、シトラコン酸、2−ヒドロキシエチルアクリロイル
フォスフェート、2−ヒドロキシプロピルアクリロイル
フォスフェート、2−ヒドロキシ−アルファ−アクリロ
イルフォスフェート等が挙げられる。そのような酸官能
基を有するモノマーの1以上がバインダーポリマーを形
成するために使用されることができる。酸官能基を有す
るモノマーは非酸(non−acid)官能基を有する
モノマー、例えば、メチルアクリレート、メチルメタア
クリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ブチルメ
タアクリレート、オクチルアクリレート、2−エトキシ
エチルメタアクリレート、t−ブチルアクリレート、
1,5−ペンタンジオールジアクリレート、N,N−ジ
エチルアミノエチルアクリレート、エチレングリコール
ジアクリレート、1,3−プロパンジオールジアクリレ
ート、デカメチレングリコールジアクリレート、デカメ
チレングリコールジメタアクリレート、1,4−シクロ
ヘキサンジオールジアクリレート、2,2−ジメチロー
ルプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレー
ト、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセ
ロールトリアクリレート、2,2−ジ(p−ヒドロキシ
フェニル)−プロパンジメタアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、ポリオキシエチル−2−
2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)−プロパンジメタア
クリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレー
ト、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリア
クリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、
ブチレングリコールジメタアクリレート、1,3−プロ
パンジオールジメタアクリレート、ブチレングリコール
ジメタアクリレート、1,3−プロパンジオールジメタ
アクリレート、1,2,4−ブタンチオールトリメタア
クリレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタ
ンジオールジメタアクリレート、ペンタエリスリトール
トリメタアクリレート、1−フェニルエチレン−1,2
−ジメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメ
タアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアク
リレート、1,5−ペンタンジオールジメタアクリレー
トおよび1,4−ベンゼンジオールジメタアクリレート
のようなアクリル酸のエステル;スチレン並びに、例え
ば、2−メチルスチレンおよびビニルトルエンのような
置換スチレン;例えば、ビニルアクリレートおよびビニ
ルメタアクリレートのようなビニルエステルと共重合さ
れ、所望の酸価を提供することができる。
ー(A2)が式(I)のバインダーオリゴマーと共に使
用される場合には、該ポリマー(A2)は、α,β−エ
チレン性不飽和モノマーから公知の方法で形成される。
好適な酸官能基を有するモノマーの具体的な例として
は、アクリル酸、メタアクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、シトラコン酸、2−ヒドロキシエチルアクリロイル
フォスフェート、2−ヒドロキシプロピルアクリロイル
フォスフェート、2−ヒドロキシ−アルファ−アクリロ
イルフォスフェート等が挙げられる。そのような酸官能
基を有するモノマーの1以上がバインダーポリマーを形
成するために使用されることができる。酸官能基を有す
るモノマーは非酸(non−acid)官能基を有する
モノマー、例えば、メチルアクリレート、メチルメタア
クリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ブチルメ
タアクリレート、オクチルアクリレート、2−エトキシ
エチルメタアクリレート、t−ブチルアクリレート、
1,5−ペンタンジオールジアクリレート、N,N−ジ
エチルアミノエチルアクリレート、エチレングリコール
ジアクリレート、1,3−プロパンジオールジアクリレ
ート、デカメチレングリコールジアクリレート、デカメ
チレングリコールジメタアクリレート、1,4−シクロ
ヘキサンジオールジアクリレート、2,2−ジメチロー
ルプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレー
ト、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセ
ロールトリアクリレート、2,2−ジ(p−ヒドロキシ
フェニル)−プロパンジメタアクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、ポリオキシエチル−2−
2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)−プロパンジメタア
クリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレー
ト、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリア
クリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、
ブチレングリコールジメタアクリレート、1,3−プロ
パンジオールジメタアクリレート、ブチレングリコール
ジメタアクリレート、1,3−プロパンジオールジメタ
アクリレート、1,2,4−ブタンチオールトリメタア
クリレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタ
ンジオールジメタアクリレート、ペンタエリスリトール
トリメタアクリレート、1−フェニルエチレン−1,2
−ジメタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメ
タアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアク
リレート、1,5−ペンタンジオールジメタアクリレー
トおよび1,4−ベンゼンジオールジメタアクリレート
のようなアクリル酸のエステル;スチレン並びに、例え
ば、2−メチルスチレンおよびビニルトルエンのような
置換スチレン;例えば、ビニルアクリレートおよびビニ
ルメタアクリレートのようなビニルエステルと共重合さ
れ、所望の酸価を提供することができる。
【0015】より高い架橋密度の光画像形成された組成
物が望まれる場合には、アクリレート官能基を有する追
加のバインダーポリマー(A2)が提供されることがで
き、そのようなものは米国特許第5698370号に開
示されている。この特許においては、ポリマーのバック
ボーン中のマレイン酸無水物部分が、例えば、ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレートまたは4−ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリレートのようなヒドロキシ官能基を
有するアクリレートで半エステル化されている。追加の
バインダーポリマー(A2)の(重量平均)分子量は約
20000〜約200000の範囲で変化することがで
きる。1次イメージングレジストのためには、重量平均
分子量は、好ましくは、約80000〜約150000
である。ソルダマスク形成性組成物のためには、好まし
い重量平均分子量は約2000〜約100000であ
る。組成物がアルカリ水性溶液中で現像可能であるため
には、酸価が約120〜約300であるべきであり、好
ましくは約150〜約250である。
物が望まれる場合には、アクリレート官能基を有する追
加のバインダーポリマー(A2)が提供されることがで
き、そのようなものは米国特許第5698370号に開
示されている。この特許においては、ポリマーのバック
ボーン中のマレイン酸無水物部分が、例えば、ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレートまたは4−ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリレートのようなヒドロキシ官能基を
有するアクリレートで半エステル化されている。追加の
バインダーポリマー(A2)の(重量平均)分子量は約
20000〜約200000の範囲で変化することがで
きる。1次イメージングレジストのためには、重量平均
分子量は、好ましくは、約80000〜約150000
である。ソルダマスク形成性組成物のためには、好まし
い重量平均分子量は約2000〜約100000であ
る。組成物がアルカリ水性溶液中で現像可能であるため
には、酸価が約120〜約300であるべきであり、好
ましくは約150〜約250である。
【0016】式(I)のバインダーオリゴマー(A1)
は4つのアクリレート官能基を有するので、それは光重
合反応において、容易に架橋ネットワークを形成する。
よって、バインダーは、ある配合においては、追加の光
重合可能なモノマーまたはオリゴマー(B)の非存在下
で、光重合反応を完全に行うことができる。低分子量の
光重合可能なモノマーはフォトイメージャブル組成物に
粘着性を加える傾向があるので、低分子量の光重合可能
なモノマー(B)を最小化するかまたは除去することが
有利である。しかし、本発明にかかる配合においては、
充分な架橋密度を得るために、光重合可能なモノマーま
たはオリゴマーが使用される。式(I)のバインダーオ
リゴマー(A1)と共に使用されることができる有用な
光重合可能なモノマー(B)は、露光されたフォトレジ
ストの架橋密度を大きくするためにバインダーポリマー
を形成するのに使用される上述のような、非酸、複数の
官能基を有するモノマーを含む。特に好適な複数の官能
基を有するアクリルモノマーとしては、テトラエチレン
グリコールジアクリレート(TEGDA)、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート(TMPTA)、ブタン
ジオールジメタアクリレート(BDDMA)およびペン
タエリスリトールトリアクリレート(PETA)が挙げ
られる。
は4つのアクリレート官能基を有するので、それは光重
合反応において、容易に架橋ネットワークを形成する。
よって、バインダーは、ある配合においては、追加の光
重合可能なモノマーまたはオリゴマー(B)の非存在下
で、光重合反応を完全に行うことができる。低分子量の
光重合可能なモノマーはフォトイメージャブル組成物に
粘着性を加える傾向があるので、低分子量の光重合可能
なモノマー(B)を最小化するかまたは除去することが
有利である。しかし、本発明にかかる配合においては、
充分な架橋密度を得るために、光重合可能なモノマーま
たはオリゴマーが使用される。式(I)のバインダーオ
リゴマー(A1)と共に使用されることができる有用な
光重合可能なモノマー(B)は、露光されたフォトレジ
ストの架橋密度を大きくするためにバインダーポリマー
を形成するのに使用される上述のような、非酸、複数の
官能基を有するモノマーを含む。特に好適な複数の官能
基を有するアクリルモノマーとしては、テトラエチレン
グリコールジアクリレート(TEGDA)、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート(TMPTA)、ブタン
ジオールジメタアクリレート(BDDMA)およびペン
タエリスリトールトリアクリレート(PETA)が挙げ
られる。
【0017】また、光重合可能な成分(B)は、上述の
エポキシ−アクリレートオリゴマーをはじめとする追加
の複数の官能基を有するオリゴマーを含むことができ
る。これらは、例えば、米国特許第5229252号に
開示されており、その記載は本明細書の一部として参照
される。化学線で露光して、モノマーおよび/またはオ
リゴマーの重合を開始するために、フォトイメージャブ
ル組成物は(C)好適な光開始剤または光開始剤化学系
を含む。好適な光開始剤としては、ベンゾインエーテ
ル、ベンジルケタール、アセトフェノン、ベンゾフェノ
ンおよびアミンと一緒になった関連化合物が挙げられ
る。好ましい開始剤は、2−イソプロピルチオキサント
ンをはじめとするチオキサントン類であり、特にアミン
と一緒になったものである。
エポキシ−アクリレートオリゴマーをはじめとする追加
の複数の官能基を有するオリゴマーを含むことができ
る。これらは、例えば、米国特許第5229252号に
開示されており、その記載は本明細書の一部として参照
される。化学線で露光して、モノマーおよび/またはオ
リゴマーの重合を開始するために、フォトイメージャブ
ル組成物は(C)好適な光開始剤または光開始剤化学系
を含む。好適な光開始剤としては、ベンゾインエーテ
ル、ベンジルケタール、アセトフェノン、ベンゾフェノ
ンおよびアミンと一緒になった関連化合物が挙げられ
る。好ましい開始剤は、2−イソプロピルチオキサント
ンをはじめとするチオキサントン類であり、特にアミン
と一緒になったものである。
【0018】本発明にかかる1次イメージングフォトレ
ジストの成分は典型的には、メチルエチルケトンのよう
な好適な溶媒で希釈される。同様に、ソルダマスク組成
物においては、典型的には2成分システムとして提供さ
れ、バインダー(A)、光重合可能な成分(B)および
光開始剤化学系(C)を含む部分は有機溶媒に溶解され
る。ソルダマスク形成性組成物のためには、エポキシ樹
脂が概して利用でき、該エポキシ樹脂は液体であり、有
機溶媒で希釈することなく使用されることができるよう
な充分な低粘度を有しているが、当然ながら、エポキシ
樹脂と共に溶媒が使用され、粘度を調節することができ
る。ソルダマスク形成性組成物としては、組成物はさら
に(D)1以上のエポキシ樹脂を含む。エポキシ樹脂
は、現像、およびエポキシ樹脂またはエポキシ樹脂の混
合物の最終的な硬化の後に、優れた硬さおよび耐久性を
被覆に与える。
ジストの成分は典型的には、メチルエチルケトンのよう
な好適な溶媒で希釈される。同様に、ソルダマスク組成
物においては、典型的には2成分システムとして提供さ
れ、バインダー(A)、光重合可能な成分(B)および
光開始剤化学系(C)を含む部分は有機溶媒に溶解され
る。ソルダマスク形成性組成物のためには、エポキシ樹
脂が概して利用でき、該エポキシ樹脂は液体であり、有
機溶媒で希釈することなく使用されることができるよう
な充分な低粘度を有しているが、当然ながら、エポキシ
樹脂と共に溶媒が使用され、粘度を調節することができ
る。ソルダマスク形成性組成物としては、組成物はさら
に(D)1以上のエポキシ樹脂を含む。エポキシ樹脂
は、現像、およびエポキシ樹脂またはエポキシ樹脂の混
合物の最終的な硬化の後に、優れた硬さおよび耐久性を
被覆に与える。
【0019】広範囲のエポキシ樹脂が本発明における使
用に適している。典型的には、ビスフェノールA、ノボ
ラック、およびフェノールクレゾールタイプのエポキシ
が使用される。他の好適なエポキシ樹脂としては、例え
ば、米国特許第4092443号に開示されており、こ
の記載は本明細書の一部として参照される。Union
Carbide、Danbury、Conn.によ
る、商品名Cyanacure(登録商標)UVR−6
100およびUVR−6110として販売されているよ
うな環式脂肪族エポキシドも有用である。本発明におい
て使用されるエポキシ樹脂は、好ましくは、100〜約
700のエポキシド当量重量を有している。本発明のフ
ォトイメージャブル組成物が化学線で露光され、例え
ば、1%炭酸ナトリウムのようなアルカリ水性溶液中で
現像された後、エポキシは硬化され、フォトイメージャ
ブル層を硬質で永久的にする。エポキシ樹脂は自己架橋
性(self−cross−linking)である
が、実用上充分速い熱硬化を得るためには、概して、
(E)エポキシ硬化剤、すなわち架橋反応に関与する化
合物および/またはエポキシ硬化触媒を含む必要があ
る。
用に適している。典型的には、ビスフェノールA、ノボ
ラック、およびフェノールクレゾールタイプのエポキシ
が使用される。他の好適なエポキシ樹脂としては、例え
ば、米国特許第4092443号に開示されており、こ
の記載は本明細書の一部として参照される。Union
Carbide、Danbury、Conn.によ
る、商品名Cyanacure(登録商標)UVR−6
100およびUVR−6110として販売されているよ
うな環式脂肪族エポキシドも有用である。本発明におい
て使用されるエポキシ樹脂は、好ましくは、100〜約
700のエポキシド当量重量を有している。本発明のフ
ォトイメージャブル組成物が化学線で露光され、例え
ば、1%炭酸ナトリウムのようなアルカリ水性溶液中で
現像された後、エポキシは硬化され、フォトイメージャ
ブル層を硬質で永久的にする。エポキシ樹脂は自己架橋
性(self−cross−linking)である
が、実用上充分速い熱硬化を得るためには、概して、
(E)エポキシ硬化剤、すなわち架橋反応に関与する化
合物および/またはエポキシ硬化触媒を含む必要があ
る。
【0020】エポキシ硬化剤の例としては、複数の官能
基を有するカルボン酸の無水物、および、例えば、ε−
カプロラクタム−ブロック イソホロンのようなブロッ
クされたイソシアネート類が挙げられる。エポキシ硬化
触媒の例としては、例えば、トリエチレンアミンおよび
ジシアノジアミドのようなアミンが挙げられる。エポキ
シ樹脂が時期尚早に(pre−maturely)硬化
しないように、概して、本発明の組成物は2成分組成物
として提供される。酸官能基を有するバインダーポリマ
ーおよびエポキシ硬化剤および/または硬化触媒は、使
用直前までエポキシから隔離された成分として提供され
る。本発明のプラクティスでは、エポキシ樹脂を除く全
ての成分が第1の成分にあり、エポキシ樹脂は第2の成
分して提供される。
基を有するカルボン酸の無水物、および、例えば、ε−
カプロラクタム−ブロック イソホロンのようなブロッ
クされたイソシアネート類が挙げられる。エポキシ硬化
触媒の例としては、例えば、トリエチレンアミンおよび
ジシアノジアミドのようなアミンが挙げられる。エポキ
シ樹脂が時期尚早に(pre−maturely)硬化
しないように、概して、本発明の組成物は2成分組成物
として提供される。酸官能基を有するバインダーポリマ
ーおよびエポキシ硬化剤および/または硬化触媒は、使
用直前までエポキシから隔離された成分として提供され
る。本発明のプラクティスでは、エポキシ樹脂を除く全
ての成分が第1の成分にあり、エポキシ樹脂は第2の成
分して提供される。
【0021】組成物は、当業者に公知な様に、顔料およ
び補助溶剤のような追加の材料を含むことができる。こ
のタイプの組成物の多くは着色されており、典型的に
は、(A)と(B)の総重量に対して約3.0重量%の
量まで、分散された顔料を含む。本発明の組成物は、公
知の方法で液体組成物として直接プリント回路ボードに
アプライされる。被覆後、組成物は乾燥されて、水を除
去し、融合助剤として使用される補助溶剤のような揮発
性物質を除去する。フォトイメージャブル組成物が乾燥
するときに、システムは連続的な膜となる。乾燥は好ま
しくは幾分高温で行われ、水および他の揮発性物質の除
去を促進する。好ましくは、乾燥は約65〜約80℃の
温度で行われる。
び補助溶剤のような追加の材料を含むことができる。こ
のタイプの組成物の多くは着色されており、典型的に
は、(A)と(B)の総重量に対して約3.0重量%の
量まで、分散された顔料を含む。本発明の組成物は、公
知の方法で液体組成物として直接プリント回路ボードに
アプライされる。被覆後、組成物は乾燥されて、水を除
去し、融合助剤として使用される補助溶剤のような揮発
性物質を除去する。フォトイメージャブル組成物が乾燥
するときに、システムは連続的な膜となる。乾燥は好ま
しくは幾分高温で行われ、水および他の揮発性物質の除
去を促進する。好ましくは、乾燥は約65〜約80℃の
温度で行われる。
【0022】加工は公知の方法で行われる。典型的な方
法においては、液体組成物から形成されたフォトイメー
ジャブル組成物層はプリント回路ボードにアプライされ
る。フォトイメージャブル組成物層は適当なアートワー
クを通過した化学線で露光される。化学線での露光は、
光に曝露された領域内のモノマーまたはオリゴマーを重
合させ、結果として現像液に耐性のある架橋構造を生じ
させる。次いで、組成物は、例えば、1%炭酸ナトリウ
ム溶液のような希釈アルカリ水性溶液中で現像される。
アルカリ溶液はバインダーポリマーの酸基と塩を形成
し、それらを可溶性で除去可能にする。組成物がソルダ
マスク形成性組成物の場合には、現像後、プリント回路
ボードは、エポキシ樹脂の硬化をもたらすのに充分な時
間加熱され、典型的には、約140〜約160℃の温度
に加熱され、それにより層は硬質で永久的となる。
法においては、液体組成物から形成されたフォトイメー
ジャブル組成物層はプリント回路ボードにアプライされ
る。フォトイメージャブル組成物層は適当なアートワー
クを通過した化学線で露光される。化学線での露光は、
光に曝露された領域内のモノマーまたはオリゴマーを重
合させ、結果として現像液に耐性のある架橋構造を生じ
させる。次いで、組成物は、例えば、1%炭酸ナトリウ
ム溶液のような希釈アルカリ水性溶液中で現像される。
アルカリ溶液はバインダーポリマーの酸基と塩を形成
し、それらを可溶性で除去可能にする。組成物がソルダ
マスク形成性組成物の場合には、現像後、プリント回路
ボードは、エポキシ樹脂の硬化をもたらすのに充分な時
間加熱され、典型的には、約140〜約160℃の温度
に加熱され、それにより層は硬質で永久的となる。
【0023】本発明の配合物は典型的には、スプレー塗
布に適合している。カーテンコーティングのような他の
手段の適用はより高い粘性を必要とする場合がある。そ
のような目的のためには、例えば、米国特許第5364
737号に開示されるようなポリウレタン増粘剤のよう
な増粘剤が添加されることができ、この記載は本明細書
の一部として参照される。本発明は具体的な実施例によ
ってより詳細に記載される。
布に適合している。カーテンコーティングのような他の
手段の適用はより高い粘性を必要とする場合がある。そ
のような目的のためには、例えば、米国特許第5364
737号に開示されるようなポリウレタン増粘剤のよう
な増粘剤が添加されることができ、この記載は本明細書
の一部として参照される。本発明は具体的な実施例によ
ってより詳細に記載される。
【0024】実施例1(オリゴマーの形成) 市販のエポキシアクリレートNovacure(登録商
標)−3701(R−M929で示されるオリゴマーを
製造するために使用)を用い、分子は連続的に2モルの
HDI;2モルのジメタノールプロピオン酸;2モルの
HDI;および2モルのHEMAと反応され、2つのカ
ルボン酸官能基および4つのアクリレート官能基を有す
るオリゴマーを製造した。
標)−3701(R−M929で示されるオリゴマーを
製造するために使用)を用い、分子は連続的に2モルの
HDI;2モルのジメタノールプロピオン酸;2モルの
HDI;および2モルのHEMAと反応され、2つのカ
ルボン酸官能基および4つのアクリレート官能基を有す
るオリゴマーを製造した。
【0025】実施例2 2415−23および2415−8bで示される2つの
ソルダマスク配合物が以下の表に示されるように配合さ
れた。ソルダマスク配合物は液体であり、カーテンコー
ティングによってアプライされることができた。
ソルダマスク配合物が以下の表に示されるように配合さ
れた。ソルダマスク配合物は液体であり、カーテンコー
ティングによってアプライされることができた。
【0026】
【表1】
【0027】R−M945:メチルメタアクリレート5
0モル%、メタアクリル酸50モル%、メタアクリル酸
の25%はヒドロキシエチルメタアクリレート(HEM
A)でエステル化されている。酸価125−150。 SR−454:メタアクリル化トリメチロールプロパン
トリアクリレート。 BB−3056:消泡剤 Modaflow:フローコントロール剤 Irgacure−907:光開始剤 ITX:光開始剤 Sun Green:顔料 Huber90C:フィラー MY24:硬化剤 CG1400:ジシアノジアミド、硬化剤 HP−270:ヒュームドシリカ、フィラー 3−MB:3−メトキシブタノール、溶媒 DER331:ビスフェノールAエポキシ(液体) ECN−1299:ノボラックエポキシ DBE:
0モル%、メタアクリル酸50モル%、メタアクリル酸
の25%はヒドロキシエチルメタアクリレート(HEM
A)でエステル化されている。酸価125−150。 SR−454:メタアクリル化トリメチロールプロパン
トリアクリレート。 BB−3056:消泡剤 Modaflow:フローコントロール剤 Irgacure−907:光開始剤 ITX:光開始剤 Sun Green:顔料 Huber90C:フィラー MY24:硬化剤 CG1400:ジシアノジアミド、硬化剤 HP−270:ヒュームドシリカ、フィラー 3−MB:3−メトキシブタノール、溶媒 DER331:ビスフェノールAエポキシ(液体) ECN−1299:ノボラックエポキシ DBE:
【0028】
【表2】
【0029】R−O915:モートンインターナショナ
ル有機合成部門によって製造されたバインダーであっ
て、酸およびアクリレート官能基を有する。R−095
は4−ヒドロキシブチルアクリレートとスチレン−マレ
イン酸無水物(SMA−1000)のモル比1.05:
1.00(4−HBAは5%過剰)でのエステル化反応
生成物である。バインダーはEEP溶媒中の約55%固
形分であり、平均Mw15000である。 PMA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート(溶媒)
ル有機合成部門によって製造されたバインダーであっ
て、酸およびアクリレート官能基を有する。R−095
は4−ヒドロキシブチルアクリレートとスチレン−マレ
イン酸無水物(SMA−1000)のモル比1.05:
1.00(4−HBAは5%過剰)でのエステル化反応
生成物である。バインダーはEEP溶媒中の約55%固
形分であり、平均Mw15000である。 PMA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート(溶媒)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/027 502 G03F 7/027 502 513 513 7/028 7/028 7/033 7/033 (72)発明者 ミッチェル・ジー・マレ アメリカ合衆国カリフォルニア州92069, サン・マルコス,グランド・アベニュー・ 3609 (72)発明者 ロバート・ケー・バール アメリカ合衆国カリフォルニア州92677, ラグーナ・ニグエル,ヘンリー・ドライ ブ・13 (72)発明者 ダニエル・エル・ランディ アメリカ合衆国カリフォルニア州91766, ポモナ,タウン・アンド・カントリー・ロ ード・82
Claims (7)
- 【請求項1】 式: (CH2=C(HまたはCH3)−CO−X−R−CH(OZ)−CH2−O− φ−)2−C(CH3)2 (I) 〔式中、Rは炭素数1〜40のアルキレン基であり;X
は存在しないか、または分子量50〜2000のアルキ
レンジオール、ポリエステルジオールおよびポリエーテ
ルジオールからなる群から選択されるジオールであり;
Zは式:−CO−NH−Y−NH−CO−O(−VW
1−5−O−CO−NH−Y−NH−CO−O)n−Q
−O−CO−C(HまたはCH3)=CH2;を有し
〔式中、Yはアルキレンまたは芳香族炭化水素基であ
り;Vはアルキレン、芳香族、アルキルアリールまたは
アリールアルキル炭化水素基であり、さらに、Wは同じ
かまたは異なっており、それぞれCOOH、SO2Hお
よびPO4(HまたはC1−18アルキル)からなる群
から選択される酸基であり;n=1−4であり;さらに
Qは炭素原子2〜6のアルキレン基である〕〕を有する
オリゴマー。 - 【請求項2】 n=1である請求項1記載のオリゴマ
ー。 - 【請求項3】 (A)アルカリ水性溶液中でフォトレジ
ストが現像可能であるのに充分なカルボン酸官能基を有
するバインダー分子であって、(A)と(B)の総重量
に基づいて、組成物の約5〜100重量%が(A1)請
求項1記載のオリゴマーであり、さらに組成物の0〜約
50重量%が(A2)追加の酸官能基を有するバインダ
ーポリマーであるバインダー分子約50〜100重量
%; (B)α,β−エチレン性不飽和モノマーおよび/また
は式(I)のオリゴマーを除くα,β−エチレン性不飽
和オリゴマーを含む、光重合可能な非酸官能基を有する
成分0〜50重量%;および (C)光開始剤化学系約0.1〜約10重量% を含むフォトイメージャブル組成物。 - 【請求項4】 追加の酸官能基を有するバインダーポリ
マー(A2)を、(A)と(B)の総重量に基づいて少
なくとも10重量%含む、請求項3記載の組成物。 - 【請求項5】 (A)と(B)の総重量に基づいて少な
くとも約2重量%の(B)を含む、請求項3記載の組成
物。 - 【請求項6】 (A)と(B)の総重量に基づいて約5
〜約40重量%の(D)エポキシ樹脂をさらに含む請求
項5記載の組成物。 - 【請求項7】 (A)と(B)の総重量に基づいて約1
〜約10重量%の(E)エポキシ架橋剤および/または
エポキシ硬化触媒をさらに含む、請求項6記載の組成
物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/421811 | 1999-10-20 | ||
US09/421,811 US6268111B1 (en) | 1999-10-20 | 1999-10-20 | Photoimageable composition having photopolymerizeable binder oligomer |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001163949A true JP2001163949A (ja) | 2001-06-19 |
Family
ID=23672138
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2000320664A Withdrawn JP2001163949A (ja) | 1999-10-20 | 2000-10-20 | 光重合可能なバインダーオリゴマーを有するフォトイメージャブル組成物 |
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EP (1) | EP1094364A1 (ja) |
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JP2004151691A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-05-27 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 改良フォトレジスト |
JP2004163904A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-06-10 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 改善された光開始剤 |
JP4875834B2 (ja) * | 2003-12-24 | 2012-02-15 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. | マスク |
JP4587865B2 (ja) * | 2004-04-22 | 2010-11-24 | 昭和電工株式会社 | 感光性樹脂組成物及びその硬化物並びにそれらを使用するプリント配線基板の製造方法 |
TW200613903A (en) * | 2004-05-26 | 2006-05-01 | Showa Denko Kk | Photosensitive resin composition, and cured product and use thereof |
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US4092443A (en) | 1976-02-19 | 1978-05-30 | Ciba-Geigy Corporation | Method for making reinforced composites |
US4153778A (en) | 1978-03-30 | 1979-05-08 | Union Carbide Corporation | Acrylyl capped urethane oligomers |
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US4762902A (en) | 1985-12-16 | 1988-08-09 | The B. F. Goodrich Company | Electron curable polyurethanes |
US5364736A (en) | 1987-12-07 | 1994-11-15 | Morton International, Inc. | Photoimageable compositions |
US5229252A (en) | 1989-06-09 | 1993-07-20 | Morton International, Inc. | Photoimageable compositions |
US5290663A (en) | 1991-03-01 | 1994-03-01 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Photocurable polyurethane-acrylate ionomer compositions for aqueous developable printing plates |
JPH06136085A (ja) | 1992-10-21 | 1994-05-17 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 内部架橋型水性ウレタン樹脂の製造方法 |
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WO1996034316A1 (en) * | 1995-04-27 | 1996-10-31 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Negative-acting no-process printing plates |
US6207346B1 (en) * | 1997-04-09 | 2001-03-27 | Advanced Coatings International | Waterborne photoresists made from urethane acrylates |
AT404733B (de) * | 1997-04-09 | 1999-02-25 | Vianova Kunstharz Ag | Verfahren zur herstellung von strahlungshärtbaren wasserverdünnbaren urethanharzen und deren verwendung |
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- 1999-10-20 US US09/421,811 patent/US6268111B1/en not_active Expired - Fee Related
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2000
- 2000-10-16 TW TW089121558A patent/TWI249078B/zh not_active IP Right Cessation
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- 2000-10-17 EP EP00309151A patent/EP1094364A1/en not_active Withdrawn
- 2000-10-18 KR KR1020000061217A patent/KR20010051093A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-10-20 JP JP2000320664A patent/JP2001163949A/ja not_active Withdrawn
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