JP2002023365A - 感光性樹脂積層体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 微細な配線を有するプリント配線板製造にお
いて、めっき後の硬化レジスト剥離性が十分であり、解
像性が高い感光性樹脂積層体を提供する。 【解決手段】 支持体と、（ａ）アクリル酸由来の構造
単位とメタクリル酸由来の構造単位を同時に含むラジカ
ル重合体、（ｂ）重合性モノマー総量に対して、１個の
不飽和二重結合を有する重合性モノマーの占める比率が
２５〜５０重量％である重合性モノマー、および（ｃ）
イミダゾール２量体とｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノンを含む感光性樹脂組成物層からなる
感光性樹脂積層体を製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感光性樹脂積層体に
関する。さらに詳しくはプリント配線板の製造に適した
感光性樹脂積層体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、プリント配線板作製用のレジ
ストとして支持体と感光性樹脂層からなる、いわゆるド
ライフィルムレジスト（以下ＤＦＲと略記する）が用い
られている。このＤＦＲは、一般に支持体上に感光性樹
脂組成物を積層し、多くの場合、さらに該組成物上に保
護用のフィルムを積層することにより調製される。

【０００３】ＤＦＲを用いてプリント配線板を作製する
ためには、まず保護フィルムを剥離した後、銅張り積層
板等の永久回路作製用基板上に、ＤＦＲを積層する。次
に必要により支持体を剥離し、配線パターンマスクフィ
ルム等を通し露光を行う。露光後に支持体がある場合は
支持体を剥離し、現像液により未露光部分の感光性樹脂
層を溶解、もしくは分散除去し、基板上に硬化レジスト
画像を形成せしめる。

【０００４】現像後回路を形成させるプロセスとして
は、大きく二つの方法に分かれる。第一の方法は、硬化
レジストによって覆われていない銅面をエッチング除去
した後レジストをさらに除去するものであり、エッチン
グ法と呼ばれる。第二の方法は、同上の銅面に銅等のめ
っき処理を行った後、レジストの除去、さらに現れた銅
面をエッチングするものであり、めっき法と呼ばれる。

【０００５】上記二つの方法の中で、めっき法がエッチ
ング法より微細な配線が作製することに適しているため
近年多用され始めた。しかしながら、めっき法の場合、
回路をめっきした後に硬化レジストを剥離する段階で、
完全な剥離が達成できないことが多かった。硬化レジス
トは一般に剥離剤の作用で破砕された小片になり、基板
上から除去されるが、配線が微細になるにつれて、剥離
片の大きさが配線に比べて相対的に大きくなり剥離が困
難になってきた。さらに感光性樹脂層の解像性も従来の
ものでは満足できないことが多くなった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、めっき法に
よる微細な配線を有するプリント配線板製造において、
上記の従来技術の問題点を解決した、めっき後の硬化レ
ジスト剥離性が十分であり、解像性が高い感光性樹脂積
層体の提供を課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記の課題解決のため検
討した結果、ラジカル重合体に含まれるカルボン酸構造
がアクリル酸由来の構造単位とメタクリル酸由来の構造
単位を同時に含むラジカル重合体を用い、重合性モノマ
ーに不飽和二重結合を１つ有するものを多く含み、かつ
イミダゾール２量体を光開始剤とする感光性樹脂組成物
が十分な剥離性と解像度を与えることを発見し、本発明
に至った。

【０００８】すなわち、本発明は支持体と感光性樹脂層
からなり、該感光性樹脂層が、（ａ）カルボン酸を有す
るラジカル重合体３０〜７０重量％、（ｂ）少なくとも
１個の不飽和二重結合を有する重合性モノマー２０〜７
０重量％、および（ｃ）光開始剤０．１〜２０重量％を
含有する感光性樹脂積層体において、該感光性樹脂層の
成分（ａ）のラジカル重合体の酸当量が２００〜５０
０、重量平均分子量が５万〜４０万であって、ラジカル
重合体に含まれる単量体由来の構造単位が、アクリル酸
由来の構造単位とメタクリル酸由来の構造単位を同時に
含み、かつ両者の合計に対するアクリル酸由来の構造単
位の比率が１０〜７０重量％であり、そして成分（ｂ）
の重合性モノマー総量に対して、１個の不飽和二重結合
を有する重合性モノマーの占める比率が２５〜５０重量
％、２個以上の不飽和二重結合を有する重合性モノマー
が７５〜５０重量％であり、かつ、成分（ｃ）の光開始
剤としてイミダゾール２量体とｐ，ｐ’−ビス（ジエチ
ルアミノ）ベンゾフェノンを含有してなることを特徴と
する感光性樹脂積層体を提供するものである。

【０００９】本発明のラジカル重合体は、酸当量が２０
０〜５００である必要があり、好ましくは２００〜４０
０である。ここで酸当量とは、その中に１当量のカルボ
ン酸を有するポリマーの重量をいう。酸当量の測定は、
０．１Ｎ水酸化ナトリウムで電位差滴定法により行われ
る。酸当量が２００以下では、塗工溶媒またはモノマー
との相溶性が低下し、５００以上では剥離性の改善が得
られない。

【００１０】ラジカル重合体の重量平均分子量は、５万
〜４０万である必要があり、より好ましくは１０万〜４
０万である。分子量の測定はゲル パーミエーション
クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により標準ポリスチレン
の検量線を用いて行われる。４０万以上であると現像性
が低下し、５万以下では感光性樹脂積層体に用いた場合
に感光性樹脂層の厚みを均一に維持することが困難にな
る。

【００１１】ラジカル重合体は、単量体としてアクリル
酸とメタクリル酸を必ず含み、さらにアクリル酸とメタ
クリル酸の合計量に対するアクリル酸の比率が１０〜７
０重量％である必要がある。アクリル酸比率が１０重量
％未満であると、剥離片が大きくなり微細パターンの剥
離で完全な剥離がなされない。７０重量％を越えると、
現像液やめっき液に対する硬化レジストの耐薬品性が低
下する。

【００１２】上記二種の必須な単量体以外に、ラジカル
重合体の酸当量を２００〜５００に調整させるためにカ
ルボン酸を含まない下記の単量体から選ばれた１種また
はそれ以上の単量体が必要となる。これら非酸性単量体
は、感光性樹脂層の現像性、エッチング工程での耐性、
硬化膜の可とう性等の種々の特性を保持するように選ば
れる。

【００１３】例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メ
タ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、
（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エ
チルヘキシル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチ
ル等の（メタ）アクリル酸アルキル類、（メタ）アクリ
ル酸ベンジル、酢酸ビニル等のビニルアルコールのエス
テル類、スチレンまたは重合可能なスチレン誘導体およ
び（メタ）アクリロニトリル等がある。最も適している
のは、メタクリル酸メチルである。

【００１４】ラジカル重合体は、１種または２種以上の
混合も可能である。例えば、酸性単量体としてアクリル
酸のみを用いたラジカル重合体とメタクリル酸のみを用
いた別のラジカル重合体を混合することにより、結果的
に請求項を満たすラジカル重合体になった場合も所望の
特性が発現される。

【００１５】ラジカル重合体は、感光性樹脂組成物中の
総量として３０〜７０重量％の範囲であり、好ましくは
４０〜６０重量％である。３０重量％より少ないと、耐
コールドフロー性が低下する。７０重量％より多いと、
感光性樹脂層が脆くなる。

【００１６】ラジカル重合体は、単量体の混合物を、ア
セトン、メチルエチルケトン、イソプロパノール、エタ
ノール等の溶剤で希釈した溶液に、過酸化ベンゾイル、
アゾビスイソブチロニトリル等のラジカル重合開始剤を
適量添加し、加熱撹拌することにより合成することが好
ましい。混合物の一部を反応液に滴下しながら合成する
場合もある。また、反応終了後さらに溶剤を加えて、所
望の濃度に調製する場合もある。溶液重合以外にも、塊
状重合、懸濁重合および乳化重合でも合成可能である。

【００１７】重合性モノマーは、１分子中に１個以上の
不飽和二重結合を有する化合物であるが、総量に対して
不飽和二重結合を１個のみ有する重合性モノマーの占め
る比率が重要となる。比率が２５〜５０重量％でないと
所望の特性が得られない。２５重量％未満であると剥離
時間が著しく長くなり剥離が完全になされない。５０重
量％を越えると解像性が低下する。

【００１８】不飽和二重結合が１個のみの重合性モノマ
ーの例としては、下記式（１）に示した化合物が解像度
の点で最も好ましい。

【００１９】

【化４】 （式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は
炭素数１〜１５のアルキル基またはハロゲン基を表す。
Ａは下記式（２）および下記式（３）の共重合体単位を
表し、これらの繰り返し単位の合計が２〜１５である。
Ｂはフェニル基を表す。）

【００２０】

【化５】

【００２１】

【化６】

【００２２】上記式（１）で示される重合性モノマーの
Ａは、プロピレンオキシド繰り返し単位（式（２））お
よびエチレンオキシド繰り返し単位（式（３））の共重
合体であるが、両方の繰り返し単位の配列は、ランダム
でもブロックでも構わない。上記式（１）で示される重
合性モノマーは、アルキル置換、もしくは無置換のフェ
ノールに、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサ
イドを付加した変性モノオールと、アクリル酸またはメ
タクリル酸とのエステル化反応により得ることができ
る。

【００２３】不飽和二重結合が１個のみの重合性モノマ
ーとして、式（１）以外の重合性モノマーを使用するこ
とができる。例としては、２−ヒドロキシ−３−フェノ
キシプロピルアクリレート、フェノキシテトラエチレン
グリコールアクリレート、無水フタル酸と２−ヒドロキ
シプロピルアクリレートとの半エステル化物とプロピレ
ンオキシドとの反応物（日本触媒化学社製ＯＥ−Ａ２０
０）、４−ノルマルオクチルフェノキシペンタプロピレ
ングリコールアクリレート等が挙げられる。

【００２４】不飽和二重結合を２個以上有する重合性モ
ノマーの具体例としては、１，４−テトラメチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオ
ールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサン
ジオールジ（メタ）アクリレート、オクタプロピレング
リコールジ（メタ）アクリレート、２−ジ（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）プロパンジ（メタ）アクリレート、グリ
セロールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、

【００２５】ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ
（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸のエチレンオキ
サイド変性トリ（メタ）アクリレート、ジアリルフタレ
ートAポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ビス（ポリエチレングリコール（メタ）アクリレー
ト）ポリプロピレングリコールがある。また、ヘキサメ
チレンジイソシアナート、トリレンジイソシアナート等
が挙げられる。

【００２６】重合性モノマーは、感光性樹脂組成物中の
総量として２０〜７０重量％の範囲であり、好ましくは
４０〜６０重量％である。２０重量％より少ないと、感
度が下がる。７０重量％より多いと、コールドフロー性
が大きくなり保存時のＤＦＲ形態保持が困難になる。

【００２７】光開始剤としては、イミダゾール２量体と
ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが必
要である。イミダゾール２量体の２個のロフィン基を結
合する共有結合は１，１’−、１，２’−、１，４’
−、２，２’−、２，４’−または４，４’−位につい
ているが、１，２’−化合物が好ましい。また、フェニ
ル基が置換されていてもよく例えば２−（ｏ−クロロフ
ェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２
−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ビス−（ｍ−メト
キシフェニル）イミダゾリル二量体、２−（ｐ−メトキ
シフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体
等が用いられる。

【００２８】上記２種の光開始剤に加えて、別の光開始
剤を加えることができる。具体例としては、ベンジルジ
メチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ベンジル
ジプロピルケタール、ベンジルジフェニルケタール、ベ
ンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、
ベンゾインピロピルエーテル、ベンゾインフェニルエー
テル、ベンゾフェノン、９−フェニルアクリジン等のア
クリジン類、α、α−ジメトキシ−α−モルホリノ−メ
チルチオフェニルアセトフェノン、２，４，６−トリメ
チルベンゾイルホスフォンオキシド、フェニルグリシ
ン、さらに１−フェニル−１、２−プロパンジオン−２
−ｏ−ベンゾイルオキシム、２，３−ジオキソ−３−フ
ェニルプロピオン酸エチル−２−（Ｏ−ベンゾイルカル
ボニル）−オキシム等のオキシムエステル類がある。

【００２９】感光性樹脂の熱安定性、保存安定性を向上
させるために、感光性樹脂層にラジカル重合禁止剤を含
有させることは好ましいことである。例えば、ｐ−メト
キシフェノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフ
チルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、塩化第一
銅、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、
２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−
ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メ
チル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）等がある。

【００３０】本発明の感光性樹脂層には染料、顔料等の
着色物質を含有してもよい。例えばフクシン、フタロシ
アニングリーン、オーラミン塩基、カルコキシドグリー
ンＳ、パラマジエンタ、クリスタルバイオレット、メチ
ルオレンジ、ナイルブルー２Ｂ、ビクトリアブルー、マ
ラカイトグリーン、ベイシックブルー２０、ダイヤモン
ドグリーン等がある。

【００３１】また、光照射により発色する発色系染料を
含有してもスフェート、トリクロロアセトアミド、ヨウ
化アミル、ヨウ化イソブチル、１，１，１−トリクロロ
−２，２−ビス（ｐ−クロロフェニル）エタン、ヘキサ
クロロエタン等がある。

【００３２】さらに感光性樹脂層には、必要に応じて可
塑剤等の添加剤を含有しても感光性樹脂積層体の支持層
としては、活性光を透過する透明なものが望ましい。例
えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニ
ルアルコールフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化
ビニル共重合体フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィル
ム、塩化ビニリデン共重合体フィルム、ポリメタクリル
酸メチル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポ
リアクリロニトリルフィルム、スチレン共重合体フィル
ム、ポリアミドフィルム、セルロース誘導体フィルム等
が挙げられる。これらのフィルムは必要に応じ延伸され
たものも使用可能である。

【００３３】支持層と積層した感光性樹脂層の他、感光
性樹脂層表面に必要に応じて保護層を積層する。この保
護層の重要な特性は感光性樹脂層との密着力について、
支持層よりも保護層の方が、充分小さく容易に剥離でき
ることである。例えばポリエチレンフィルム、ポリプロ
ピレンフィルム等がある。

【００３４】本発明の感光性樹脂積層体の基板への積層
方法は、ホットロールラミネーターあるいは真空ラミネ
ーターを用いることができる。露光は、配線として残し
たい部分が透明な高透過性マスクを通し、超高圧水銀灯
などの紫外線を用いて行われる。

【００３５】現像は、アルカリ水溶液を用いて未露光部
を現像除去する。アルカリ水溶液としては、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナト
リウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機
アルカリ類、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の第
１アミン類、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン
等の第２アミン類、トリエチルアミン、メチルジエチル
アミン等の第３アミン類、ジメチルエタノールアミン、
トリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモ
ニウムヒドロキシド等の第４級アンモニウム塩等のアル
カリ類の水溶液等が使用できる。最も一般的には０．５
〜３％の炭酸ナトリウム水溶液が用いられる。

【００３６】これに電解金属めっきを行いレジストが無
い部分に所望の厚みの金属を形成させる。金属として
は、銅、ニッケル、クロム、金、はんだ等が挙げられ
る。特に銅めっきが多用される。導体配線を形成後、硬
化レジストを無機または有機アルカリ液により剥離除去
する。一般に現像液に比べてアルカリ性が強く、液温度
を高い条件で剥離する。

【００３７】剥離液としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタ
ケイ酸ナトリウム、アンモニア水等の無機アルカリ類、
エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の第１アミン類、
ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン等の第２アミ
ン類、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第
３アミン類、ジメチルエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシド等の第４級アンモニウム塩等のアルカリ類の水溶
液およびこれにメタノール、エタノール、ジメチルスル
ホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミ
ド等の有機溶剤を適量含んだ水溶液が使用できる。剥離
方法としては、スプレー、パドル、浸漬、超音波等の方
式が可能である。

【００３８】

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明の実施
の形態を具体的に説明する。実施例中の諸特性は、次の
方法により測定した。 （１）ラジカル重合体の分子量 日本分光製ゲルパーミエーションクロマトグラフィーに
よりポリスチレン換算の重量平均分子量として求めた。

【００３９】（２）剥離性評価 幅が８０ミクロン、長さが５ｃｍの露光部と幅が８０μ
ｍ、長さ５ｃｍの未露光部が交互に１００本ずつ並んだ
マスクを、感光性樹脂積層体がラミネートされた銅張り
積層板上に置き、オーク社製平行光露光機ＨＭＷ−８０
１で６０ｍＪ／ｃｍ²露光した。支持体を剥がした後、
３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液を６０秒間スプレー
し、未露光部分の感光性樹脂層を現像除去し、１００本
の並んでいるレジストパターンを形成させた。

【００４０】この基板を３０℃の酸性クリーナー（アト
テックジャパン製ＦＲＸ）に３分間浸漬することで脱脂
を行った後、硫酸銅めっき液（メルテックス社製カパー
グリーム１２５）中で２時間電解銅めっきした。電流密
度は２Ａ／ｄｍ²になるように調整した。約４０μｍの
高さのめっき銅ラインを１００本形成させた。めっき後
の基板を５０℃の３％水酸化ナトリウム水溶液に２分間
浸漬してレジストを剥離した。剥離後の基板を肉眼およ
び光学顕微鏡で観察し、硬化レジストが残っていないか
調べた。次のようなランクで判定した。

【００４１】 ○………完全に剥離された。 △………１００本のめっきライン中２０本未満のライン
間に剥離されない硬化レジストが残った。 ×………１００本のめっきライン中２０本以上のライン
間に剥離されない硬化レジストが残った。

【００４２】（３）解像性評価 同幅の露光部と未露光部が交互に５本ずつ並んだマスク
で、幅が５μｍ単位で増加するマスクを、感光性樹脂積
層体がラミネートされた銅張り積層板上に置き、オーク
社製平行光露光機ＨＭＷ−８０１で４０ｍＪ／ｃｍ²露
光した。支持体を剥がした後、３０℃の１％炭酸ナトリ
ウム水溶液を６０秒間スプレーし、未露光部分の感光性
樹脂層を現像除去し、光学顕微鏡で解像性を調べた。次
のようなランクで判定した。

【００４３】 ◎………解像度が５０μｍ以下。 ○………解像度が５０μｍを越え、７０μｍ以下。 △………解像度が７０μｍを越え、９０μｍ以下。 ×………解像度が９０μｍを越える。

【００４４】（合成例１）かきまぜ器、還流冷却器、温
度計を備えた２リットル容のセパラブルフラスコに、メ
チルエチルケトン（ＭＥＫ）３００ｇを入れ、窒素気流
下、８０℃でかきまぜながら単量体としてアクリル酸３
０ｇ、メタクリル酸６０ｇ，メタクリル酸メチル１８０
ｇ、アクリル酸ｎ−ブチル３０ｇ、重合開始剤としてア
ゾビスイソブチロニトリル１．２ｇの均一混合物を４時
間かけて滴下した。８時間加熱・撹拌し、アゾビスイソ
ブチロニトリル２ｇをＭＥＫ溶液として加え、さらに１
２時間加熱・撹拌した。最後にＭＥＫ４００ｇを加え
て、溶液濃度を３０％前後に調整し、目的のラジカル重
合体（Ｐ−１）を得た。分子量は１３．５万であった。

【００４５】（合成例２〜９）合成例１と同様の方法
で、表１、表２に示した単量体組成（単量体総量：３０
０ｇ）と重合開始剤（アゾビスイソブチロニトリル）の
量で目的のラジカル重合体を合成した。

【００４６】

【表１】

【００４７】

【表２】

【００４８】

【実施例】実施例１ 合成例１で重合したラジカル重合体溶液Ｐ−１と、光重
合性モノマー、光開始剤およびその他の成分を次に示す
成分比で、１２時間かきまぜた。 Ｐ−１（固形分重量として） ４８．１重量％ 式（１）でＲ１が水素、Ｒ２がｐ−ノルマルオクチル、
式（２）の繰り返し数が５、式（３）の繰り返し数が２
のモノアクリレート（Ｍ−１）１２重量％ ビス（トリエチレングリコールメタクリレート）ポリプ
ロピレングリコール（Ｍ−２）１８重量％

【００４９】ヘキサメチレンジイソシアネートとオリゴ
プロピレングリコールモノメタクリレートとのウレタン
反応物（Ｍ−３）１８重量％ ２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミ
ダゾリル二量体（Ｉ−１）３．６重量％ ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（Ｉ
−２）０．２４重量％

【００５０】次にこの混合溶液を、厚さ２０μｍのポリ
エチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）に
バーコーターを用いて均一に塗布し、９０℃の乾燥機中
で５分間乾燥して感光性樹脂層の厚さ４０μｍの積層体
を得た。その後、感光性樹脂層のＰＥＴフィルムを積層
していない側に２８μｍのポリエチレンフィルム（ＰＥ
フィルム）を張り合わせて目的の感光性樹脂積層体を得
た。

【００５１】この感光性樹脂積層体のＰＥフィルムを剥
がしながら、ジェットスクラブ整面（砥粒：サクランダ
ムＲ＃２２０、砥粒濃度：２０％、スプレー圧：２ｋｇ
／ｃｍ²）した銅張り積層板にホットロールラミネータ
ー（旭化成工業製「ＡＬ−７０」）により１０５℃でラ
ミネートした。剥離性評価では完全に剥離され、ランク
は○だった。解像性評価では、解像度が５０μｍであ
り、ランクは◎だった。

【００５２】実施例２〜９、比較例１〜５ 実施例１と同様の方法で、表３、表４に示した構成で感
光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を調製し、剥離性
評価と解像度評価を行った。評価の結果も表３、表４に
示す。

【００５３】表３、表４中の感光性樹脂原料の略号の意
味は下記のとおりである。 Ｍ−１：式（１）でＲ１が水素、Ｒ２がｐ−ノルマルオ
クチル、式（２）の繰り返し数が５、式（３）の繰り返
し数が２のモノアクリレート Ｍ−２：ビス（トリエチレングリコールメタクリレー
ト）ポリプロピレングリコール Ｍ−３：ヘキサメチレンジイソシアネートとオリゴプロ
ピレングリコールモノメタクリレートとのウレタン反応
物 Ｍ−４：トリメチロールプロパントリアクリレート Ｍ−５：トリメチロールプロパンエチレンオキサイド３
モル付加トリアクリレート

【００５４】Ｍ−６：ノナエチレングリコールジアクリ
レート Ｍ−７：ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加ジ
メタクリレート Ｍ−８：式（１）でＲ１が水素、Ｒ２がｐ−ノルマルノ
ニル、式（２）の繰り返し数が８、式（３）の繰り返し
数が３のモノアクリレート Ｍ−９：無水フタル酸と２−ヒドロキシプロピルアクリ
レートとの半エステル化物とプロピレンオキシドとの反
応物（日本触媒化学社製ＯＥ−Ａ２００）

【００５５】Ｍ−１０：フェノキシヘキサエチレングリ
コールアクリレート Ｉ−１：２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェ
ニルイミダゾリル二量体 Ｉ−２：ｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
ノン Ｉ−３：ベンジルジメチルケタール Ｉ−４：ベンゾフェノン Ｉ−５：２，４−ジエチルチオキサントン Ｉ−６：エチルｐ−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾ
エート

【００５６】

【表３】

【００５７】

【表４】

【００５８】

【発明の効果】本発明の感光性樹脂積層体を用いると、
めっき工程によるプリント配線板の製造において、解像
度が優れているため微細な配線を作ることができ、さら
にめっき後の硬化レジストの剥離が完全になされるとい
う効果が得られるので、プリント配線板の製造に極めて
好適である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０１ 7/031 7/031 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｆ Ｆターム(参考） 2H025 AA02 AA16 AB11 AB15 AC01 AD01 BC14 BC34 BC43 BC82 CA03 CA28 CB13 CB43 CB51 CB55 FA17 FA40 FA43 4J011 PA69 QA12 QA13 QA23 SA25 UA01 VA01 WA01 4J026 AA42 AA43 AA44 AA45 BA27 BA28 BA30 BB03 BB04 DA08 DA12 DB06 DB36 GA01

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体と感光性樹脂層からなり、該感光
   性樹脂層が、（ａ）カルボン酸を有するラジカル重合体
   ３０〜７０重量％、（ｂ）少なくとも１個の不飽和二重
   結合を有する重合性モノマー２０〜７０重量％、および
   （ｃ）光開始剤０．１〜２０重量％を含有する感光性樹
   脂積層体において、該感光性樹脂層の成分（ａ）のラジ
   カル重合体の酸当量が２００〜５００、重量平均分子量
   が５万〜４０万であって、ラジカル重合体に含まれる単
   量体由来の構造単位がアクリル酸由来の構造単位とメタ
   クリル酸由来の構造単位を同時に含み、かつ両者の合計
   に対するアクリル酸由来の構造単位の比率が１０〜７０
   重量％であり、そして成分（ｂ）の重合性モノマー総量
   に対して、１個の不飽和二重結合を有する重合性モノマ
   ーの占める比率が２５〜５０重量％、２個以上の不飽和
   二重結合を有する重合性モノマーが７５〜５０重量％で
   あり、かつ、成分（ｃ）の光開始剤としてイミダゾール
   ２量体とｐ，ｐ’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
   ノンを含有してなることを特徴とする感光性樹脂積層
   体。
2. 【請求項２】 感光性樹脂層の成分（ｂ）の重合性モノ
   マーの中で１個の不飽和二重結合を有する重合性モノマ
   ーが、下記式（１）に示した化合物であることを特徴と
   する請求項１記載の感光性樹脂積層体。 【化１】 （式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は
   炭素数１〜１５のアルキル基またはハロゲン基を表す。
   Ａは下記式（２）および下記式（３）の共重合体単位を
   表し、これらの繰り返し単位の合計が２〜１５である。
   Ｂはフェニル基を表す。） 【化２】 【化３】