-
Hintergrund
der Erfindung
-
Gebiet der Erfindung
-
Die
vorliegende Erfindung betrifft eine Klebefolie zum Zerschneiden.
Außerdem
betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Zerschneiden
unter Verwendung dieser Klebefolie zum Zerschneiden und die durch
dieses Schneideverfahren erhaltenen kleinen geschnittenen Teile.
Im Falle des Schneidens und Trennens (Zerschneiden) von kleinen
Elementteilen, wie Halbleiter-Wafer, ist die erfindungsgemäße Klebefolie
zum Zerschneiden als Klebefolie zum Zerschneiden von Halbleiter-Wafern
besonders nützlich,
die verwendet wird, um die zu zerschneidenden Materialien, wie Halbleiter-Wafer, zu fixieren.
-
Die
erfindungsgemäße Klebefolie
zum Zerschneiden kann z.B. als Klebefolie zum Zerschneiden von Siliciumhalbleitern,
Klebefolie zum Zerschneiden von zusammengesetzten Halbleiter-Wafern,
Klebefolie zum Zerschneiden von Halbleiterbaugruppen und Klebefolie
zum Zerschneiden von Glas und dgl. verwendet werden.
-
Beschreibung
des einschlägigen
Standes der Technik
-
Ein
Halbleiter-Wafer aus Silicium, Gallium oder Arsen wird herkömmlicherweise
mit einem großen Durchmesser
hergestellt, dann in kleine Elementteile geschnitten und getrennt
(zerschnitten) und zu einem Montageschritt befördert. Bei diesem Verfahren
wird der Halbleiter-Wafer in einem Zustand, in dem er durch Kleben
an einer Klebefolie gehalten wird, den entsprechenden Schritten,
wie z.B. einem Schritt des Zerschneidens, einem Waschschritt, einem
Schritt des Dehnens, einem Aufnahmeschritt und einem Montageschritt,
unterzogen. Als Klebefolie wird im allgemeinen eine Folie verwendet,
die ein Klebemittel der Acrylreihe mit einer Dicke von etwa 1 μm bis 200 μm aufweist,
das auf ein Trägermaterial
aufgebracht ist, das aus einer Kunststoffolie besteht.
-
Beim
Schritt des Zerschneidens wird der Wafer mit einer rotierenden und
beweglichen kreisförmigen Klinge
zerschnitten, jedoch ist ein Schneidesystem, das als "vollständig schneidend" bezeichnet wird,
bei dem das Trägermaterial
der Klebefolie zum Zer schneiden, das den Halbleiter-Wafer hält, bis
ins Innere des Trägermaterials
geschnitten wird, am üblichsten.
Da die Klebefolie durch das vollständig schneidende Verfahren
bis in ihr Inneres geschnitten wird, erzeugt das Trägermaterial,
d.h. die Kunststoffolie, fasrige Schnittabfälle.
-
Wenn
diese fasrigen Schnittabfälle
an der Seite des Chips (geschnittenes Teil) haften, werden die haftenden
fasrigen Schnittabfälle
in den späteren
Schnitten angebracht und sind im Chip enthalten, so daß es zu dem
Problem der deutlichen Herabsetzung der Zuverlässigkeit der entstehenden Halbleiterelemente
kommt. Beim Aufnahmeschritt werden die einzelnen Chips nach dem
Positionieren gemäß Erkennung
mit einer CCD-Kamera
aufgenommen, wenn jedoch fasrige Schnittabfälle vorliegen, besteht auch
das Problem, daß es zu
einem Erkennungsfehler kommt.
-
Als
Maßnahme
zur Lösung
dieser Probleme schlägt
z.B. die Japanische Patentanmeldungs-Offenlegungsschrift Nr. 156
214 (1993) eine Klebefolie vor, die ein Ethylen-Methacrylat-Copolymer als Trägermaterial verwendet.
Diese Klebefolie erreicht, daß die
Erzeugung von fasrigen Schnittabfällen bis zu einem gewissen Maß verringert
wird, sie ist jedoch bei der Herstellung von sehr zuverlässigen Halbleitern
beim Schritt des Zerschneidens nicht befriedigend haltbar.
-
Die
Japanische Patentanmeldungs-Offenlegungsschrift Nr. 211–234 (1993)
schlägt
zudem eine Klebefolie vor, die eine mit Elektronenstrahlen oder
Strahlen, wie etwa γ-Strahlen
mit 1 bis 80 MRad, bestrahlt worden ist. Diese Klebefolie wird jedoch
durch das Bestrahlen stark beschädigt,
so daß kaum
eine Folie bereitgestellt wird, deren Aussehen hervorragend ist,
und die Kosten der Folienherstellung deutlich erhöht werden,
und sie wird somit in Hinblick auf die Qualität und die Kosten nicht bevorzugt.
-
Ein
Wafer wird beim Schneideverfahren durch vollständiges Schneiden vollkommen
zerschnitten, und somit ändert
sich die Qualitätsstufe
des Schnitts in Abhängigkeit
von der zum Zerschneiden verwendeten Klebefolie. Da die Wafer in
den letzten Jahren immer dünner
geworden sind, kommt es auf der Rückseite des Wafers zu einem
Riß, der
als Absplittern bezeichnet wird, was zu dem ernsthaften Problem
einer geringeren Biegefestigkeit des Wafers führt.
-
Als
Maßnahme
zur Lösung
solcher Probleme schlägt
z.B. die Japanische Patentanmeldungs-Offenlegungsschrift Nr. 335
411 (1993) ein Verfahren zum Herstellen eines verkleinerten Halbleiterelementes
vor (indem das Zerschneiden zuerst durchgeführt wird), bei dem ein Halbleiter-Wafer
mit einem darauf ausgebildeten Element zuerst zerschnitten wird,
so daß eine
Vertiefung mit einer vorbestimmten Tiefe erzeugt wird, und dann bis
zur Tiefe der geschnittenen Vertiefung von hinten geschliffen wird.
-
Bei
diesem Verfahren kann verhindert werden, daß es zum Absplittern kommt;
da ein Halbleiter-Wafer jedoch vorher durch Zerschneiden mit einem
Schnitt mit einer Tiefe von Dutzenden bis Hunderten μm versehen
worden ist, entstehen Probleme, wie z.B. das Reißen vor dem Schritt, bei dem
von hinten geschliffen wird, und eine Verunreinigung der Oberfläche des
Wafers mit dem Schleifwasser aus der Vertiefung bei dem Schritt, bei
dem von hinten geschliffen wird, was folglich zu einer geringeren
Ausbeute von Halbleiter-Wafern führt.
-
Das
Dokument Derwent WPI; AN: 1995-251 433 (JP-A-715 6355; SEKISUI),
20.06.1995 offenbart eine Klebefolie, die eine Trägerfolie
und darauf eine Haftklebemittelschicht aufweist. Die Trägerfolie
weist ein Harz aus einem Propylen-Ethylen-Blockcopolymer mit einem Schmelzpunkt
von 140 bis 170 °C
auf. Die Trägerfolie
bildet ein thermoplastisches Elastomer.
-
Das
Dokument Derwent WPI; AN: 1998-245 663 (JP-A-100 773 75; HEISEI),
24.03.1998 offenbart eine Harzzusammensetzung, die als Trägermaterial
für Klebefolien
verwendet wird. Die Zusammensetzung weist ein Polyolefinharz auf,
das 50 bis 10 Gew.-% eines Ethylen-Propylen-Copolymers mit einem
Schmelzpunktmaximum von 130 °C
bis 160 °C
und 50 bis 90 Gew.-% eines anderen Ethylen-Propylen-Copolymers aufweist.
-
Die
WO-A-99-35 202 offenbart eine Klebefolie, die eine Trägerfolie
und darauf eine Klebemittelschicht aufweist. Die Trägerfolie
weist ein thermoplastisches Elastomergemisch mit zwei Phasen aus
einer kontinuierlichen Phase (Polypropylen oder Polyethylen) und
einer Partikelphase (Terpolymere von Ethylen-Propylen-Dien) auf.
-
Das
Dokument DE-A-199 23 780 offenbart eine klebende Schutzfolie, die
eine Trägerschicht
und eine Klebemittelschicht aufweist. Die Trägerschicht ist eine Folie und weist
mindestens ein Polypropylen-Blockcopolymer auf, das in einer Menge
von 10 bis 95 % (Gewicht/Gewicht) der Schutzfolie vorgesehen ist.
-
Die
der vorliegenden Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht darin,
eine Klebefolie zum Zerschneiden anzugeben, die bei einer geringeren
Verminderung der Qualitätsstufe
der Produkte und einer geringeren Erzeugung von fasrigen Schnittabfällen beim
Zerschneiden ohne ökonomische
Nachteile ist, so daß die vorstehend
beschriebenen Probleme gelöst
werden.
-
Eine
weitere Aufgabe besteht darin, eine solche Klebefolie zum Zerschneiden
anzugeben, mit der eine gute Ausbeute von geschnittenen Stücken, wie
Halbleiter-Wafern,
erreicht werden kann, und die auch das Auftreten von Absplitterungen
beim Zerschneiden verhindern kann.
-
Eine
weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verfahren
zum Zerschneiden anzugeben, um die gewünschten kleinen geschnittenen
Stücke
des zu zerschneidenden Materials zu erhalten.
-
Gemäß dieser
Erfindung wird diese Aufgabe mit einer Klebefolie, die die Merkmale
von Anspruch 1 aufweist, und einem Verfahren zum Zerschneiden gelöst, das
die Merkmale von Anspruch 13 aufweist. Weitere Ausführungen
der Klebefolie und des erfindungsgemäßen Verfahrens sind in den
Unteransprüchen
angegeben.
-
Die
hier genannten Erfinder haben eine extensive Untersuchung zu einer
Trägerfolie
durchgeführt,
die eine Klebefolie zum Zerschneiden darstellt, und als Ergebnis
festgestellt, daß die
vorstehend angegebene Aufgabe gelöst werden kann, wenn in der
Trägerfolie
ein bestimmtes thermoplastisches Olefinelastomer verwendet wird,
und gelangten somit zur vorliegenden Erfindung.
-
Das
heißt,
daß die
Erfindung eine Klebefolie zum Zerschneiden betrifft, die eine Trägerfolie
aufweist, die auf zumindest einer Oberfläche mit einer Klebemittelschicht
versehen ist, wobei die Trägerfolie
ein thermoplastisches Olefinelastomer aufweist, das Propylen und
Ethylen und/oder ein C4-8-α-Olefin als
Polymerisationskomponenten enthält,
und wobei das Schmelzpunktmaximum des thermoplastischen Olefinelastomers
120 °C bis
170 °C beträgt.
-
Die
hier genannten Erfinder haben festgestellt, daß von den thermoplastischen
Olefinelastomeren, die insbesondere Propylen und Ethylen und/oder
C4-8-α-Olefin
als Polymerisationskomponenten enthalten und die Trägerfolie
der erfindungsgemäßen Klebefolie
zum Zerschneiden bilden, ein Elastomer mit einem Schmelzpunktmaximum
von 120 °C
bis 170 °C
eine Verminderung der Dehnung der Trägerfolie beim Zerschneiden
erreicht, so daß die
Entstehung von fasrigen Schnittabfällen beim Zerschneiden verhindert
wird. Das Schmelzpunktmaximum des thermoplastischen Olefinelastomers
beträgt
vorzugsweise 140 °C
oder mehr, stärker
bevorzugt 160 °C
oder mehr. Das Schmelzpunktmaximum wird im allgemeinen gemäß JIS K7121
mit einem Kalorimeter mit Differentialscanning (DSC) gemessen.
-
Bei
der Klebefolie zum Zerschneiden beträgt das Verhältnis einer bei 0 °C eluierten
Fraktion des thermoplastischen Olefinelastomers zu seinen gesamten
eluierten Fraktionen beim Elutionsfraktionieren mit Temperaturerhöhung bei
Temperaturen im Bereich von 0 °C
bis 140 °C
in o-Dichlorbenzol als Lösungsmittel
vorzugsweise 10 bis 60 Gew.-%.
-
Das
Verhältnis
einer eluierten Fraktion des thermoplastischen Olefinelastomers
bei 0 °C
zu seinen gesamten eluierten Fraktionen liegt in einem solchen bevorzugten
Bereich, daß die
Entstehung von fasrigen Schnittabfällen beim Zerschneiden verhindert
werden und eine Entfaltung der Eigenschaften der Trägerfolie und
deren Haftung an der Klebemittelschicht erreicht werden kann.
-
Wenn
das Verhältnis
seiner bei 0 °C
eluierten Fraktion geringer ist, ist die durch Formen des thermoplastischen
Olefinelastomers erhaltene Trägerfolie
starr, so daß die
Streckbarkeit beim Dehnschritt schlechter und das Aufnehmen problematisch
wird, so daß das
Verhältnis
der bei 0 °C
eluierten Fraktion vorzugsweise 10 Gew.-% oder mehr, stärker bevorzugt
20 Gew.-% oder mehr beträgt.
-
Wenn
das Verhältnis
der eluierten Fraktion bei 0 °C
andererseits höher
ist, nimmt die Haftung der durch Formen des thermoplastischen Olefinelastomers
erhaltenen Trägerfolie
an der Klebemittelschicht ab, und somit beträgt das Verhältnis der bei 0 °C eluierten
Fraktion vorzugsweise 60 Gew.-% oder weniger, stärker bevorzugt 50 Gew.-% oder
weniger.
-
Das
Elutionsfraktionieren mit Temperaturerhöhung (TREF) stellt eine bekannt
Analysemethode dar. Aus grundsätzlicher
Sicht wird ein Polymer bei hoher Temperatur vollkommen in einem
Lösungsmittel
gelöst und
dann abgekühlt,
so daß auf
der Oberfläche
eines inerten Trägers,
der in der Lösung
vorhanden sein kann, eine dünne
Polymerschicht entsteht. Bei diesem Prozess entstehen in dieser
Reihenfolge Polymerschichten von leicht kristallisierbaren, sehr
gut kristallisierbaren Komponenten bis zu kaum kristallisierbaren,
schwach kristallisierbaren oder nicht kristallinen Komponenten.
-
Wenn
die Polymerschichten kontinuierlich oder schrittweise erwärmt werden,
kommt es zu deren Elution in umgekehrter Reihenfolge, d.h. die kaum
kristallisierbaren oder nicht kristallinen Komponenten werden zuerst
eluiert, und die sehr gut kristallisierbaren Komponenten werden
am Schluß eluiert.
Aus einer Elutionskurve, die erstellt wird, indem die Mengen der
bei den Elutionstemperaturen eluierten Fraktionen gegenüber der
Elutionstemperatur graphisch aufgetragen werden, kann die Verteilung
der Komponenten im Polymer analysiert werden.
-
Als
Meßvorrichtung
wurde eine Fraktioniervorrichtung mit Gewebe (CFC·T150A,
MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION) verwendet. Die zu messende Probe
(thermoplastisches Olefinelastomer) wurde bei 140 °C mit einer
Konzentration von 30 mg/ml in einem Lösungsmittel (o-Dichlorbenzol)
gelöst
und in die Probenschleife in der Meßvorrichtung eingesprüht. Die
folgende Messung wurde automatisch bei vorbestimmten Bedingungen
durchgeführt.
-
Die
in der Probenschleife gehaltene Probenlösung wird mit einem Volumen
von 0,4 ml in die TREF-Säule
(Säule
aus rostfreiem Stahl mit einem Innendurchmesser von 4 mm und einer
Länge von
150 mm, mit inerten Glaskügelchen
gefüllt)
gesprüht,
in der die Komponenten in der Probe in Abhängigkeit von der Temperatur
fraktioniert werden sollen, bei der sie gelöst werden.
-
Die
Probe wird mit einer Rate von 1 °C/min
von einer Temperatur von 140 °C
auf 0 °C
abgekühlt
und überzieht
den vorstehend genannten inerten Träger. Bei diesem Verfahren entstehen
auf der Oberfläche
des inerten Trägers
in dieser Reihenfolge Schichten aus der gut kristallisierbaren (leicht
kristallisierbaren) Komponenten bis zu wenig kristallisierbaren
(kaum kristallisierbaren) Komponenten.
-
Die
TREF-Säule
wird weitere 30 Minuten bei 0 °C
gehalten und dann wie nachstehend angegeben schrittweise erhöht, und
während
die Säule
30 Minuten bei jeder Temperatur gehalten wurde, wurde die bei jeder
Temperatur eluierte Fraktion gemessen. Elutionstemperatur (°C): 0, 5,
10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 49, 52, 55, 58, 61, 64, 67, 70,
73, 76, 79, 82, 85, 88, 91, 94, 97, 100, 102, 120, 140.
-
Bei
der erfindungsgemäßen Klebefolie
zum Zerschneiden weist die Trägerfolie
vorzugsweise ferner ein Kristallkeime bildendes Mittel mit einer
Kristallkeime bildenden Wirkung auf Polypropylen auf. Es wurde festgestellt,
daß die
Entstehung von fasrigen Schnittabfällen weiterhin dadurch verhindert
werden kann, wenn das Kristallkeime bildende Mittel in die Trägerfolie
eingeführt
wird.
-
Die
Klebefolie zum Zerschneiden weist einen Gehalt des Kristallkeime
bildenden Mittels von vorzugsweise 0,0001 bis 1 Gew.-% auf, und
zwar auf die gesamte Trägerfolie
bezogen. Der Gehalt des Kristallkeime bildenden Mittels ist nicht
besonders begrenzt, wenn der Gehalt jedoch im vorstehend angegebenen
Bereich eingestellt wird, tritt der Effekt der vorliegenden Erfindung
besonders vorteilhaft auf.
-
Die
keimbildende Wirkung nimmt mit abnehmender Menge des Kristallkeime
bildenden Mittels ab, und somit wird es problematisch, die Wirkung
der vorliegenden Erfindung zu erzielen, so daß der Gehalt des keimbildenden
Mittels 0,0001 Gew.-% oder mehr, vorzugsweise 0,0005 Gew.-% oder
mehr beträgt.
Andererseits wird die Flexibilität
der Trägerfolie
mit zunehmender Menge des keimbildenden Mittels gering, so daß die Streckbarkeit
beim Dehnschnitt schlechter und das Aufnehmen problematisch wird,
und somit beträgt
der Gehalt des Kristallkeime bildenden Mittels 1 Gew.-% oder weniger,
vorzugsweise 0,1 Gew.-% oder weniger.
-
Bei
der Klebefolie zum Zerschneiden kann als Kristallkeime bildendes
Mittel vorzugsweise Poly(3-methyl-1-buten) verwendet werden.
-
Bei
der Klebefolie zum Zerschneiden ist die Trägerfolie vorzugsweise eine
einschichtige Folie und enthält
50 Gew.-% oder mehr des thermoplastischen Olefinelastomers.
-
Bei
der Klebefolie zum Zerschneiden ist die Trägerfolie vorzugsweise eine
mehrschichtige Folie, und zumindest eine Schicht in dieser mehrschichtigen
Folie enthält
50 Gew.-% oder mehr des thermoplastischen Olefinelastomers.
-
In
Hinblick auf die Verhinderung der Entstehung von fasrigen Schnittabfällen wird
der Gehalt des thermoplastischen Olefinelastomers in der Trägerfolie
so gewählt,
daß dessen
Gehalt in der einschichtigen Folie oder in zumindest einer Schicht
in der mehrschichtigen Folie gewöhnlich
50 Gew.-% oder mehr, vorzugsweise 80 Gew.-% oder mehr beträgt.
-
Wenn
die Trägerfolie
als mehrschichtige Folie ausgebildet ist, wird eine Schicht mit
einer schlechten Streckbarkeit, die das thermoplastische Olefinelastomer
enthält,
als zumindest eine Schicht bis zur Schnittiefe bei einer kreisförmigen Schneidklinge
für das
vollständige
Schneiden angeordnet, so daß die
Entstehung von fasrigen Schnittabfällen beim Zerschneiden verhindert
werden kann, während
eine Schicht mit hervorragender Streckbarkeit, die für das Dehnen
erforderlich ist, als andere Schicht angeordnet wird, so daß die schlechte Streckbarkeit
der das thermoplastische Olefinelastomer enthaltenden Schicht kompensiert
werden kann.
-
Außerdem können darin
funktionelle Schichten, wie eine Schicht mit hervorragenden antistatischen
Eigenschaften, angeordnet werden, so daß eine mehrschichtige Folie
erzeugt wird, womit weitere Funktionen, wie eine antistatische Wirkung,
verliehen werden.
-
Bei
der erfindungsgemäßen Klebefolie
zum Zerschneiden enthält
die Trägerfolie
ferner vorzugsweise ein Polymer aus der Ethylenreihe, das als hauptsächliche
Polymerisationskomponente Ethylen enthält.
-
Bei
der erfindungsgemäßen Klebefolie
zum Zerschneiden wurde für
die Trägerfolie,
die von den thermoplastischen Olefinelastomeren, die Propylen und
Ethylen und/oder ein α-Olefin
mit 4 bis 8 Kohlenstoffatomen als Copolymerisationskomponenten enthalten,
ein Elastomer mit einem Schmelzpunktmaximum von 120 °C bis 170 °C und ein
Polymer aus der Ethylenreihe aufweist, das Ethylen als hauptsächliche
Polymersiationskomponente enthält,
festgestellt, daß sie
das Absplittern beim Zerschneiden verhindern kann.
-
Bei
der Klebefolie zum Zerschneiden ist der Gehalt des Polymers aus
der Ethylenreihe nicht besonders begrenzt, er liegt jedoch vorzugsweise
bei 5 bis 50 Gew.-%, stärker
bevorzugt bei 10 bis 40 Gew.-%, und zwar auf das thermoplastische
Olefinelastomer bezogen. Wenn der Gehalt in diesem vorstehen angegebenen Bereich
eingestellt wird, tritt der Effekt der vorliegenden Erfindung besonders
wirksam zutage.
-
Bei
der Klebefolie zum Zerschneiden ist das Polymer aus der Ethylenreihe
vorzugsweise Polyethylen hoher Dichte mit einer Dichte von 0,94
bis 0,97 g/cm3 und/oder lineares Polyethylen
niedriger Dichte mit einer Dichte von 0,91 bis 0,94 g/cm3. Das Polymer aus der Ethylenreihe ist nicht
besonders begrenzt, es ist jedoch vorzugsweise das vorstehend als
Beispiel aufgeführte
Polyethylen, um das Absplittern zu verhindern.
-
Bei
der Klebefolie zum Zerschneiden ist die Trägerfolie vorzugsweise eine
einschichtige Folie und enthält
insgesamt 50 Gew.-% oder mehr des thermoplastischen Olefinelastomers
und des Polymers aus der Ethylenreihe.
-
Bei
der Klebefolie zum Zerschneiden ist die Trägerfolie vorzugsweise eine
mehrschichtige Folie, und mindestens eine Schicht in dieser mehrschichtigen
Folie enthält
insgesamt 50 Gew.-% oder mehr des thermoplastischen Olefinelastomers
und des Polymers aus der Ethylenreihe.
-
In
Hinblick auf die Verhinderung der Entstehung fasriger Schnittabfälle wird
der Gesamtgehalt des thermoplastischen Olefinelastomers und des
Polymers aus der Ethylenreihe in der Trägerfolie so gewählt, daß deren
Gehalt in der einschichtigen Folie oder in zumindest einer Schicht
in der mehrschichtigen Folie gewöhnlich
50 Gew.-% oder mehr, vorzugsweise 80 Gew.-% oder mehr beträgt.
-
Wenn
die Trägerfolie
als mehrschichtige Folie ausgebildet ist, so ist eine Schicht, die
das thermoplastische Olefinelastomer und das Polymer aus der Ethylenreihe
enthält,
als zumindest eine Schicht bis zur Schnittiefe einer kreisförmigen Schneidklinge
für das
vollständige
Schneiden angeordnet, so daß das
Absplittern beim Zerschneiden verhindert werden kann, während eine
Schicht mit hervorragender Streckbarkeit, die beim Dehnen erforderlich
ist, als andere Schicht angeordnet ist, so daß die schlechte Streckbarkeit
der das thermoplastische Olefinelastomer enthaltenden Schicht kompensiert
werden kann.
-
Außerdem können darin
funktionelle Schichten, wie z.B. eine Schicht mit hervorragenden
antistatischen Eigenschaften, angeordnet sein, so daß eine mehrschichtige Folie
gebildet wird, womit weitere Funktionen, wie eine antistatische
Wirkung, übertragen
werden.
-
Die
Klebefolie zum Zerschneiden ist wirksam, wenn die Dicke der Klebemittelschicht
1 bis 200 μm
beträgt.
-
Eine
dickere Klebemittelschicht ist nicht nur ökonomisch von Nachteil, sondern
führt z.B.
aufgrund der Schwingungen des Halbleiter-Wafers beim Zerschneiden
auch zu einer deutlichen Verringerung der Schnittqualität, und somit
beträgt
die Dicke der Klebemittelschicht vorzugsweise 1 μm bis 200 μm, besonders bevorzugt 3 μm bis 50 μm. Beim Schritt
des Zerschneidens wird die Klebefolie zum Zerschneiden mit einer
kreisförmigen
Schneidklinge gewöhnlich
bis zu einer Tiefe von etwa 5 μm
bis 230 μm
geschnitten, so daß somit
bei einer Klebefolie, die dünner
als die Schnittiefe ist, die Trägerfolie
geschnitten werden kann, so daß es
zum Problem der fasrigen Schnittabfälle aus der Trägerfolie
kommt, oder wenn der Einfluß des
Absplitterns der Trägerfolie
problematisch ist, funktioniert die erfindungsgemäße Klebefolie
zum Zerschneiden in wirksamen Weise.
-
Bei
der Klebefolie zum Zerschneiden wird die Klebemittelschicht vorzugsweise
aus einem durch Strahlung härtenden
Klebemittel hergestellt.
-
Durch
die Verwendung der Schicht aus dem durch Strahlung härtenden
Klebemittel kann deren Haftung durch Bestrahlen verringert werden,
so daß die
Klebefolie nach dem Schneiden und Trennen von z.B. Wafern leicht
von den Wafern entfernt werden kann.
-
Die
vorliegende Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Zerschneiden,
das das Kleben der vorstehend beschriebenen Klebefolie zum Zerschneiden
auf ein zu zerschneidendes Material und das anschließende Schneiden
der Klebefolie bis zur Tiefe der Trägerfolie aufweist, so daß das zu
schneidende Material zerschnitten wird.
-
Als
zu schneidendes Material ist ein Halbleiterelement wirksam. Außerdem betrifft
die vorliegende Erfindung kleine geschnittene Stücke, die nach dem vorstehend
beschriebenen Verfahren zum Zerschneiden hergestellt sind, bei dem
das zu zerschneidende Material zerschnitten wird.
-
Kurze Beschreibung
der Zeichnungsfiguren
-
1 ist
eine Schnittansicht, die ein Beispiel der erfindungsgemäßen Klebefolie
zum Zerschneiden zeigt.
-
Beschreibung
der bevorzugten Ausführungsbeispiele
-
Die
erfindungsgemäße Klebefolie
zum Zerschneiden wird hier nachfolgend anhand von 1 ausführlich beschrieben.
Wie in 1 gezeigt, besteht die erfindungsgemäße Klebefolie 1 zum
Zerschneiden aus einer Trägerfolie 11 und
einer auf zumindest einer Seite der Trägerfolie 11 angeordneten
Klebemittelschicht 12 und, falls erforderlich, einem Separator 13,
der mit der Klebemittelschicht in Kontakt steht und an der Seite
der Klebemittelschicht klebt, die nicht mit der Trägerfolie
versehen ist. In 1 ist die Klebemittelschicht 12 auf einer
Seite der Trägerfolie 11 angeordnet,
die Klebemittelschicht kann jedoch auch auf beiden Seiten der Trägerfolie
ausgebildet sein. Die Klebefolie zum Zerschneiden kann auch in Form
eines Bandes aufgewickelt werden.
-
Die
Trägerfolie
weist ein thermoplastisches Olefinelastomer auf, das als Polymerisationskomponenten Propylen
und Ethylen und/oder ein α-Olefin
mit 4 bis 8 Kohlenstoffatomen enthält.
-
Als
Polymerisationskomponente im thermoplastischen Olefinelastomer gehören zu dem
4 bis 8 Kohlenstoffatome enthaltenden α-Olefin Buten-1, 3-Methylpenten,
4-Methylpenten-1, Hexen-1, Octen-1 und dgl. Das thermoplastische
Olefinelastomer ist vorzugsweise ein Propylen-Ethylen-Copoylmer.
-
Der
Gehalt jeder Polymerisationskomponente im thermoplastischen Olefinelastomer
ist nicht besonders begrenzt, sofern das thermoplastische Olefinelastomer
die Anforderungen in bezug auf Schmelzpunktmaximum und Elutionsfraktionieren
mit Temperaturerhöhung
erfüllt,
der Propylengehalt beträgt
jedoch gewöhnlich
50 bis 95 Gew.-%, stärker
bevorzugt 60 bis 92 Gew.-%. Ethylen und/oder ein α-Olefin mit
4 bis 8 Kohlenstoffatomen bilden den Rest des thermoplastischen
Olefinelastomers, wobei Propylen dabei ausgenommen ist.
-
Das
thermoplastische Olefinelastomer enthält in der vorliegenden Erfindung
die vorstehend beschriebenen Polymerisationskomponenten und erfüllt die
Anforderungen in bezug auf Schmelzpunktmaximum und Elutionsfraktionieren
mit Temperaturerhöhung.
Zum Verfahren zum Herstellen des thermoplastischen Olefinelastomers
gehören
ein Verfahren der schrittweisen Polymerisation, das mindestens zwei
Stufen aufweist, bei dem z.B. in einer ersten Stufe ein Propylenhomopolymer
oder ein statistisches Copolymer, das Propylen, eine geringe Menge
von Ethylen und/oder einem α-Olefin
mit 4 bis 8 Kohlenstoffatomen enthält, erzeugt wird und in einer
zweiten oder nachfolgenden Stufen ein statistisches Copolymer erzeugt
wird, das Propylen und Ethylen und/oder ein anderes α-Olefin mit
4 bis 8 Kohlenstoffatomen enthält;
und ein Verfahren, bei dem ein Propylenhomopolymer oder ein statistisches
Copolymer, das Propylen, eine geringe Menge Ethylen und/oder ein α-Olefin mit
4 bis 8 Kohlenstoffatomen aufweist, und ein statistisches Copolymer,
das Ethylen und ein α-Olefin mit
4 bis 8 Kohlenstoffatomen aufweist, oder ein statistisches Copolymer,
das Ethylen und/oder ein α-Olefin mit
4 bis 8 Kohlenstoffatomen und Propylen aufweist, getrennt polymerisiert
und dann miteinander gemischt werden. Von diesen Verfahren ist das
Verfahren der schrittweisen Polymerisation bevorzugt, das mindestens zwei
Stufen aufweist.
-
Nachfolgend
wird das Verfahren der schrittweisen Polymerisation beschrieben.
Der bei der schrittweisen Polymerisation verwendete Katalysator
ist nicht besonders begrenzt, zu dem Katalysator gehören jedoch vorzugsweise
eine Organoaluminiumverbindung und eine feste Komponente, die Titanatome,
Magnesiumatome, Halogenatome und eine Elektronendonorverbindung
als wesentliche Komponenten enthält.
-
Die
Organoaluminiumverbindung ist hier eine Verbindung, die bei dieser
Polymerisationsart bekannt ist, die mit der allgemeinen Formel (R1)mAlX(3-m) angegeben
wird, worin R1 für einen Kohlenwasserstoffrest
mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen steht, X für ein Halogenatom steht und
m eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, und zu Beispielen davon gehören Trialkylaluminium,
wie Trimethylaluminium oder Triethylaluminium, Dialkylaluminiumhalogenid,
wie Dimethylaluminiumchlorid oder Diethylaluminiumchlorid, Alkylaluminiumsesquihalogenid, wie
Methylaluminiumsesquichlorid oder Ethylaluminiumsesquichlorid, Alkylaluminiumdihalogenid,
wie Methylaluminiumdichlorid oder Ethylaluminiumdichlorid, und Alkylaluminiumhalogenid,
wie Diethylaluminiumhalogenid.
-
Die
feste Komponente, die Titanatome, Magnesiumatome, Halogenatome und
eine Elektronendonorverbindung als wesentliche Komponenten enthält, kann
zudem auch eine bei dieser Polymerisationsart bekannte sein. Zu
der Titanverbindung als Donor von Titanatomen gehören jene
Verbindungen, die mit der allgemeinen Formel Ti(OR2)(4-2)Xn angegeben
werden, worin R2 für einen Kohlenwasserstoffrest
mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen steht, X für ein Halogenatom steht und
n eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist, und insbesondere sind Titantetrachlorid,
Tetraethoxidtitan, Tetrabutoxidtitan und dgl. bevorzugt.
-
Zu
der Magnesiumverbindung als Donor für Magnesiumatome gehören z.B.
Dialkylmagnesium, Magnesiumdihalogenid, Dialkoxymagnesium, Alkoxymagnesiumhalogenid
und dgl., wovon Magnesiumdihalogenid bevorzugt ist. Zu den Halogenatomen
gehören
Fluor, Chlor, Brom und Iod, wovon Chlor bevorzugt ist, und diese
Halogene werden gewöhnlich
von der vorstehend beschriebenen Titanverbindung geliefert, können jedoch
auch von anderen Donoren für
Halogene, wie Aluminiumhalogeniden, Siliciumhalogeniden und Wolframhalogeniden,
geliefert werden.
-
Zu
der Elektronendonatorverbindung gehören sauerstoffhaltige Verbindungen,
wie Alkohol, Phenol, Keton, Aldehyd, Carbonsäure, organische Säure und
anorganische Säure
oder Derivate davon, sowie auch stickstoffhaltige Verbindungen,
wie Ammoniak, Amin, Nitril und Isocyanat. Die Elektronendonorverbindungen sind
besonders bevorzugt Ester von anorganischen Säuren, Ester von organischen
Säuren
und Halogenide organischer Säuren,
stärker
bevorzugt Siliciumester, Cellosolve-acetate und Phtalsäurehalogenide
und besonders bevorzugt jene Organosiliciumverbindungen, die mit
der allgemeinen Formel R3R4 (3-p)Si(OR5)p angegeben werden, worin R3 für einen
verzweigten aliphatischen Kohlenwasserstoffrest mit 3 bis 20, vorzugsweise 4
bis 10 Kohlenstoffatomen oder einen alicyclischen Kohlenwasserstoffrest
mit 5 bis 20, vorzugsweise 6 bis 10 Kohlenstoffatomen steht, R4 für
einen verzweigten oder linearen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest
mit 1 bis 20, vorzugsweise 1 bis 10 Kohlenstoffatomen steht und
p eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist, wobei zu bevorzugten Beispielen
t-Butylmethyldiethoxysilan, Cyclohexylmethyldimethoxysilan und Cyclohexylmethyldiethoxysilan gehören.
-
Beim
schrittweisen Polymerisationsverfahren werden Propylen und eine
geringe Menge Ethylen und/oder α-Olefin
mit 4 bis 8 Kohlenstoffatomen zugeführt und in der ersten Stufe
in Gegenwart des Katalysators bei einer Temperatur von 50 °C bis 150 °C, vorzugsweise
50 °C bis
100 °C,
bei einem Partialdruck von Propylen von 0,5 bis 4,5 MPa, vorzugsweise
1 bis 3,5 MPa, polymerisiert, so daß z.B. ein Propylenhomopolymer
erzeugt wird, und in der zweiten Stufe werden Propylen und Ethylen
und/oder ein α-Olefin
mit 4 bis 8 Kohlenstoffatomen zugeführt und in Gegenwart des Katalysators
bei einer Temperatur von 50 °C
bis 150 °C,
vorzugsweise 50 °C
bis 100 °C,
bei einem Partialdruck von 0,3 bis 4,5 MPa für sowohl Propylen als auch
Ethylen und/oder α-Olefin
mit 4 bis 8 Kohlenstoffatomen, vorzugsweise 0,5 bis 3,5 MPa, mit
dem vorstehend genannten Homopolymer copolymerisiert, so daß ein Copolymer
erzeugt wird, das Propylen und Ethylen und/oder ein α-Olefin mit
4 bis 8 Kohlenstoffatomen aufweist.
-
Die
Polymerisation kann in einem diskontinuierlichen, kontinuierlichen
oder halbkontinuierlichen System durchgeführt werden, und die Polymerisation
in der ersten Stufe erfolgt in der Gasphase oder der flüssigen Phase,
und die Polymerisation in der zweiten Stufe wird ebenfalls in der
Gasphase oder der flüssigen
Phase, besonders bevorzugt in der Gasphase, durchgeführt. Die
Verweilzeit beträgt
in jeder Stufe 0,5 bis 10 Stunden, vorzugsweise 1 bis 5 Stunden.
-
Wenn
Pulver oder Partikel des nach dem vorstehend beschriebenen Verfahren
hergestellten thermoplastischen Olefinelastomers ein Problem, wie
Klebrigkeit und dgl., aufweisen, wird nach der Polymerisation in der
ersten Stufe und vor oder während
der Polymerisation in der zweiten Stufe vorzugsweise eine aktiven
Wasserstoff enthaltende Verbindung im Bereich der 100- bis 1000-fachen
molaren Menge des Titanatoms in der festen Komponente im Katalysator
und gleichzeitig im Bereich der 2- bis 5-fachen molaren Menge der
Organoaluminiumverbindung im Katalysator zugesetzt. Zu der aktiven
Wasserstoff enthaltenden Verbindung gehören z.B. Wasser, Alkohol, Phenol,
Aldehyd, Carbonsäure,
Säureamid,
Ammoniak, Amine und dgl.
-
Das
nach dem vorstehend beschriebenen Verfahren hergestellte thermoplastische
Elastomer vom Olefin-Typ hat eine Schmelzfließrate (MFR) von 0,1 bis 50
g/10 min, die bei einer Temperatur von 230 °C unter einer Last von 21,18
N gemäß JIS K7210
bestimmt worden ist, eine Dichte von etwa 0,87 bis 0,89 g/cm3, die mit einem Verdrängungsverfahren in Wasser gemäß JIS K7112
bestimmt worden ist, und einen Steifigkeitsmodul von 600 MPa oder
weniger, der bei einer Temperatur von 23 °C gemäß JIS K7203 bestimmt worden
ist.
-
Das
thermoplastische Olefinelastomer kann auch einer dynamischen Wärmebehandlung
in Gegenwart eines bekannten organischen Peroxids und, falls erforderlich,
eines Vernetzungsmittels unterzogen werden, das im Molekül eine oder
mehrere, vorzugs weise zwei oder mehr, Doppelbindungen enthält, so daß die MFR
eingestellt werden kann.
-
Die
Trägerfolie
kann in der vorliegenden Erfindung das vorstehend beschriebene thermoplastische Olefinelastomer
als konstituierendes Harz enthalten und aus dem thermoplastischen
Olefinelastomer allein oder, falls erforderlich, einem Gemisch davon
mit anderen plastischen Harzen oder Elastomeren bestehen. Zu vorzugsweise
verwendeten plastischen Harzen oder Elastomeren gehören herkömmlicherweise
Harze für Kunststoff-
oder Elastomerfolien, z.B. bekannte Polyolefine, wie Polypropylen,
Polyethylen und Polybuten, sowie auch Polyethylenterephthalat, Polyvinylchlorid,
Polyurethan, Polystyrol, ein Elastomer vom Styrol-Typ und Ethylen-Propylen-Kautschuk
oder Copolymere von Ethylen/α-Olefin
(Kautschuk), die Ethylen und Propylen und/oder ein α-Olefin mit
4 bis 8 Kohlenstoffatomen aufweisen. Wie vorstehend beschrieben,
beträgt
der Gehalt des thermoplastischen Olefinelastomers in der Trägerfolie
gewöhnlich
50 Gew.-% oder mehr, vorzugsweise 80 Gew.-% oder mehr, um die Entstehung
von fasrigen Schnittabfällen
zu verhindern.
-
Wenn
der Einfluß der
Absplitterung der Trägerfolie
problematisch ist, besteht die Trägerfolie vorzugsweise aus einem
Gemisch des thermoplastischen Olefinelastomers und einem Polymer,
das als hauptsächliche
Polymerisationskomponente Ethylen enthält.
-
Als
Polymer aus der Ethylenreihe, das mit dem thermoplastischen Olefinelastomer
gemischt wird, kann ein Polymer ohne besondere Einschränkung verwendet
werden, das mindestens 50 Mol-% Ethylen als Polymerisationskomponente
enthält.
-
Zu
dem Polymer aus der Ethylenreihe gehören z.B. Hochdruck-Polyethylen
mit einer Dichte von 0,91 bis 0,94 g/cm3;
Polyethylen hoher Dichte mit einer Dichte von 0,94 bis 0,97 g/cm3; lineares Polyethylen niedriger Dichte
mit einer Dichte von 0,91 bis 0,94 g/cm3;
ein Copolymer von Ethylen/α-Olefin
vom Metallocen-Typ mit einer Dichte von 0,88 bis 0,91 g/cm3, z.B. ein Copolymer eines α-Olefin mit
3 bis 8 Kohlenstoffatomen, wie Propylen, 1-Buten, 1-Hexen oder 1-Octen;
und ein Kautschuk aus einem Ethylen/α-Olefin-Copolymer mit einer Dichte
von 0,85 bis 0,88 g/cm3.
-
Das
Verfahren zum Herstellen dieser Polymere aus der Ethylenreihe ist
nicht besonders begrenzt, diese Polymere werden jedoch z.B. durch
ein Hochdruck-Radikalpolymerisationsverfahren oder durch ein Koordinationspolymerisationsverfahren
mittels Anionen unter Verwendung eines Katalysators vom Ziegler-Typ
oder eines Katalysator mit einheitlichen aktiven Zentren, wie eines
Katalysators vom Metallocen-Typ, hergestellt.
-
Zu
den Polymeren aus der Ethylenreihe gehört ein Ethylen-Vinylacetat-Copoyymer
(EVA), ein Copolymer von Ethylen und Methacrylsäure und/oder Methacrylat, ein
Copolymer von Ethylen und Acrylsäure und/oder
Acrylat, ein Copolymer (Ionomer) von Ethylen und Metallmethacrylat
und/oder Metallacrylat, ein Kautschuk aus einem Copolymer von Ethylen-Propylen-nichtkonjugiertem
Dien (EPDM), ein Ethylen-Styrol-Copolymer,
ein Ethylen-Norbornan-Copolymer und dgl. Von diesen Polymeren aus
der Ethylenreihe sind Polyethylen hoher Dichte mit einer Dichte
von 0,94 bis 0,97 g/cm3 und/oder ein lineares
Polyethylen niedriger Dichte mit einer Dichte von 0,91 bis 0,94
g/cm3 bevorzugt. Insbesondere ist Polyethylen
hoher Dichte mit einer Dichte von 0,94 bis 0,97 g/cm3 bevorzugt.
-
Der
Anteil des Polymers aus der Ethylenreihe in bezug auf das thermoplastische
Olefinelastomer beträgt
vorzugsweise 5 bis 50 Gew.-%, wie es vorstehend beschrieben ist.
Das Verfahren zum Mischen des thermoplastischen Olefinelastomers
mit dem Polymer aus der Ethylenreihe ist nicht besonders beschränkt, es
können
jedoch z.B. ein Verfahren zum Kneten in der Schmelze mit einem Banbury-Mischer,
einem Einzelschneckenextruder oder einem Doppelschneckenextruder
und ein Verfahren genannt werden, bei dem sie bei der Herstellung
der Folie gemischt werden (Trockenmischen).
-
Insbesondere
ist das Verfahren zum Kneten in der Schmelze bevorzugt. Beim Kneten
in der Schmelze können
das thermoplastische Olefinelastomer und das Polymer aus der Ethylenreihe
auch in Gegenwart eines bekannten organischen Peroxids oder eines
Vernetzungsmittels, das im Molekül
eine oder mehrere, vorzugsweise zwei oder mehr, Doppelbindungen
enthält,
einer dynamischen Wärmebehandlung
unterzogen werden.
-
Die
Gesamtmenge des thermoplastischen Olefinelastomers und des Polymers
aus der Ethylenreihe in der Trägerfolie
beträgt
gewöhnlich
50 Gew.-% oder mehr, vorzugsweise 80 Gew.-% oder mehr, um das Absplittern
zu verhindern.
-
Diese
Trägerfolie
kann, falls erforderlich, mit Weichmachern, wie Mineralöl, Füllstoffen,
wie Calciumcarbonat, Siliciumdioxid, Talkum, Glimmer und Ton, und
verschiedenen Zusätzen,
wie Antioxidantien, Lichtstabilisatoren, antistatischen Mitteln, Gleitmitteln,
Dispersionsmitteln, neutralisierenden Mitteln, α-Kristallkeime bildenden Mitteln
und β-Kristallkeime
bildenden Mitteln, vermischt werden.
-
Von
diesen Zusätzen
ist das Kristallkeime bildende Mittel mit einer Kristallkeime bildenden
Wirkung auf Polypropylen vorzugsweise als Zusatz in der erfindungsgemäßen Trägerfolie
enthalten. Der Gehalt des Kristallkeime bildenden Mittels in der
Trägerfolie
beträgt
vorzugsweise 0,0001 bis 1 Gew.-%.
-
Das
Kristallkeime bildende Mittel ist nicht besonders eingeschränkt, und
zu Beispielen davon gehören verschiedene
anorganische Verbindungen, verschiedene Carbonsäuren oder Metallsalze davon,
Verbindungen vom Dibenzylidensorbit-Typ, Verbindungen vom Arylphosphat-Typ,
Gemische von cyclischen mehrwertigen Verbindungen vom Metallarylphosphat-Typ
und Alkalimetallfettsäuremonocarboxylate
oder basisches Aluminium·Lithium·Hydroxy·Carbonat·Hydrat,
und α-Kristallkeime
bildende Mittel, wie verschiedene polymere Verbindungen. Diese Kristallkeime
bildenden Mittel können
allein oder als Gemische davon verwendet werden.
-
Zu
Beispielen der anorganischen Verbindungen gehören Talkum, Alaun, Siliciumdioxid,
Titanoxid, Calciumoxid, Magnesiumoxid, Ruß, Tonminerale und dgl.
-
Zu
Beispielen der Carbonsäuren
gehören
Carbonsäuren,
ausgenommen Fettmonocarbonsäuren.
Zu Beispielen davon gehören
Malonsäure,
Succinsäure,
Adipinsäure,
Maleinsäure,
Azelainsäure,
Sebacinsäure, Dodecandisäure, Citronensäure, Butantricarbonsäure, Butantetracarbonsäure, Naphthensäure, Cyclopentancarbonsäure, 1-Methylcyclopentancarbonsäure, 2-Methylcyclopentancarbonsäure, Cyclopentencarbonsäure, Cyclohexancarbonsäure, 1-Methylcyclohexancarbonsäure, 4-Methylcyclohexancarbonsäure, 3,5-Dimethylcyclohexancarbonsäure, 4-Butylcyclohexancarbonsäure, 4-Octylcyclohexancarbonsäure, Cyclohexencarbonsäure, 4-Cyclohexen-1,2-dicarbonsäure, Benzoesäure, Toluylsäure, Xylylsäure, Ethylbenzoesäure, 4-t-Butylbenzoesäure, Salicylsäure, Phthalsäure, Trimellitsäure und
Pyromellitsäure.
Als Metallsalze dieser Carbonsäuren
können
neutrale Salze oder basische Salze davon mit Lithium, Natrium, Kalium,
Magnesium, Calcium, Strontium, Barium, Zink oder Aluminium genannt
werden.
-
Zur
Verbindung vom Dibenzylidensorbit-Typ gehören z.B.
1·3,2·4-Dibenzylidensorbit,
1·3-Benzyliden-2·4-p-methylbenzylidensorbit,
1·3-Benzyliden-2·4-p-ethylbenzylidensorbit,
1·3-p-Methylbenzyliden-2·4-benzylidensorbit,
1·3-p-Ethylbenzyliden-2·4-p-benzylidensorbit,
1·3-p-Methylbenzyliden-2·4-p-ethylbenzylidensorbit,
1·3-p-Ethylbenzyliden-2·4-p-methylbenzylidensorbit,
1·3,2·4-Bis(p-methylbenzyliden)sorbit,
1·3,2·4-Bis(p-ethylbenzyliden)sorbit,
1·3,2·4-Bis(p-n-propylbenzyliden)sorbit,
1·3,2·4-Bis(p-i-propylbenzyliden)sorbit,
1·3,2·4-Bis(p-n-butylbenzyliden)sorbit,
1·3,2·4-Bis(p-s-butylbenzyliden)sorbit,
1·3,2·4-Bis(p-t-butylbenzyliden)sorbit,
1·3-(2'·4'-Dimethylbenzyliden)-2·4-benzylidensorbit,
1·3-Benzyliden-2·4-(2'·4'-dimethylbenzyliden)sorbit,
1·3,2·4-Bis(2',4'-dimethylbenzyliden)sorbit,
1·3,2·4-Bis(3',4'-dimethylbenzyliden)sorbit,
1·3,2·4-Bis(p-methoxybenzyliden)sorbit,
1·3,2·4-Bis(p-ethoxybenzyliden)sorbit,
1·3-Benzyliden-2·4-p-chlorbenzylidensorbit,
1·3-p-Chlorbenzyliden-2·4-p-benzylidensorbit,
1·3-p-Chlorbenzyliden-2·4-p-methylbenzylidensorbit,
1·3-p-Chlorbenzyliden-2·4-p-ethylbenzylidensorbit,
1·3-p-Methylbenzyliden-2·4-p-chlorbenzylidensorbit,
1·3-p-Ethylbenzyliden-2·4-p-chlorbenzylidensorbit
und
1·3,2·4-Bis(p-chlorbenzyliden)sorbit.
-
Zu
der Verbindung vom Arylphosphat-Typ gehören z.B.
Lithium-bis(4-t-butylphenyl)phosphat,
Natrium-bis(4-t-butylphenyl)phosphat,
Lithium-bis(4-cumylphenyl)phosphat,
Natrium-bis(4-cumylphenyl)phosphat,
Kalium-bis(4-t-butylphenyl)phosphat,
Calcium-mono(4-t-butylphenyl)phosphat,
Calcium-bis(4-t-butylphenyl)phosphat,
Magnesium-mono(4-t-butylphenyl)phosphat,
Magnesium-bis(4-t-butylphenyl)phosphat,
Zink-mono(4-t-butylphenyl)phosphat,
Zink-bis(4-t-butylphenyl)phosphat,
Aluminium-dihydroxy-(4-t-butylphenyl)phosphat,
Aluminium-hydroxy-bis(4-t-butylphenyl)phosphat,
Aluminium-tris(4-t-butylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-ethyliden-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-methylen-bis(4-cumyl-6-t-butylphenyl)phosphat,
Lithium-2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat,
Lithium-2,2'-ethyliden-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat,
Lithium-2,2'-methylen-bis(4-cumyl-6-t-butylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-ethyliden-bis(4-i-propyl-6-t-butylphenyl)phosphat,
Lithium-2,2'-methylen-bis(4-methyl-6-t-butylphenyl)phosphat,
Lithium-2,2'-methylen-bis(4-ethyl-6-t-butylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-butyliden-bis(4,6-di-methylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-butyliden-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-t-octylmethylen-bis(4,6-di-methylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-t-octylmethylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-methylen-bis(4-methyl-6-t-butylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-methylen-bis(4-ethyl-6-t-butylphenyl)phosphat,
Natrium(4,4'-dimethyl-6,6'-di-t-butyl-2,2'-biphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-ethyliden-bis(4-s-butyl-6-t-butylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-methylen-bis(4,6-di-methylphenyl)phosphat,
Natrium-2,2'-methylen-bis(4,6-di-ethylphenyl)phosphat,
Kalium-2,2'-ethyliden-bis(4,6-di-butylphenyl)phosphat,
Calcium-bis[2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Magnesium-bis[2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Zink-bis[2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Aluminium-tris[2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Calcium-bis[2,2'-methylen-bis(4-methyl-6-t-butylphenyl)phosphat],
Calcium-bis[2,2'-ethyliden-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Calcium-bis[2,2'-thiobis(4-methyl-6-t-butylphenyl)phosphat],
Calcium-bis[2,2'-thiobis(4-ethyl-6-t-butylphenyl)phosphat],
Calcium-bis[2,2'-thiobis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Magnesium-bis[2,2'-thiobis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Magnesium-bis[2,2'-thiobis(4-t-octylphenyl)phosphat],
Barium-bis[2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Calcium-bis[(4,4'-dimethyl-6,6'-di-t-butyl-2,2'-biphenyl)phosphat],
Magnesium-bis[2,2'-ethyliden-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Barium-bis[2,2'-ethyliden-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Aluminium-tris[2,2'-ethyliden-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Aluminium-dihydroxy-2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat,
Aluminium-dihydroxy-2,2'-methylen-bis(4-cumyl-6-t-butylphenyl)phosphat,
Aluminium-hydroxy-bis[2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Aluminium-hydroxy-bis[2,2'-methylen-bis(4-cumyl-6-t-butylphenyl)phosphat],
Titan-dihydroxy-bis[2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Zinn-dihydroxy-bis[2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Zirconium-oxy-bis[2,2'-methylen-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat],
Aluminium-dihydroxy-2,2'-methylen-bis(4-methyl-6-t-butylphenyl)phosphat,
Aluminium-hydroxy-bis[2,2'-methylen-bis(4-methyl-6-t-butylphenyl)phosphat,
Aluminium-dihyddroxy-2,2'-ethyliden-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat
und
Aluminium-hydroxy-bis[2,2'-ethyliden-bis(4,6-di-t-butylphenyl)phosphat].
-
Zu
den Alkalimetallsalzen der Fettmonocarbonsäuren, die als Gemisch mit der
cyclischen mehrwertigen Verbindung vom Arylphosphat-Typ innerhalb
der vorstehend angegebenen Verbindungen vom Arylphosphat-Typ verwendet
werden, gehören
Lithium-, Natrium- oder Kaliumsalze von Essigsäure, Milchsäure, Propionsäure, Acrylsäure, Octylsäure, Isooctylsäure, Nonansäure, Decansäure, Laurinsäure, Myristinsäure, Palmitinsäure, Stearinsäure, Oleinsäure, Linolsäure, Linolensäure, 12-Hydroxystearinsäure, Ricinolsäure, Behensäure, Brassidinsäure, Montansäure, Melissinsäure, Stearoylmilchsäure, β-Dodecylmercaptoessigsäure, β-Dodecylmercaptopropionsäure, β-N-Laurylaminopropionsäure und β-N-Methyl-N-lauroylaminopropionsäure.
-
Zu
der polymeren Verbindung gehören
z.B. Polyethylen, Poly(3-methyl-1-buten), Poly(3-methyl-1-penten),
Poly(3-ethyl-1-penten), Poly(4-mehtyl-1-penten), Poly(4-methyl-1-hexen),
Poly(4,4-dimethyl-1-penten), Poly(4,4-dimethyl-1-hexen), Poly(4-ethyl-1-hexen),
Poly(3-ethyl-1-hexen), Polyallylnaphthalin, Polyallylnorbornan,
ataktisches Polystyrol, syndiotaktisches Polystyrol, Polydimethylstyrol,
Polyvinylnaphthalin, Polyallylbenzol, Polyallyltoluol, Polyvinylcyclopentan,
Polyvinyl cyclohexan, Polyvinylcycloheptan, Polyvinyltrimethylsilan
und Polyallyltrimethylsilan.
-
Diese
polymeren Verbindungen können
mit einem Verfahren, wie es z.B. in der Japanischen Patentanmeldungs-Offenlegungsschrift
Nr. 43 204 (1990) angegeben ist, als Propylenpolymere erhalten werden,
die die vorstehend genannten polymeren Verbindungen mit einer Konzentration
von etwa 0,01 bis 0,15 Gew.-% enthalten, wobei 0,01 bis 100 g Monomere
für die
Bildung der polymeren Verbindungen vorpolymerisiert und dann nur
mit Propylen polymerisiert oder mit Propylen und einer geringen
Menge Ethylen und/oder α-Olefin copolymerisiert
werden.
-
Wenn
das entstandene Produkt dem thermoplastischen Olefinelastomer zugesetzt
wird, kann die polymere Verbindung als Kristallkeime bildendes Mittel
wirksam und gleichmäßig mit
dem thermoplastischen Olefinelastomer gemischt werden, so daß eine hervorragende,
Kristallkeime bildende Wirkung bei einer sehr geringen Menge erreicht
wird.
-
Wenn
das Kristallkeime bildende Mittel eine niedermolekulare Verbindung
ist, nimmt die Haftung zwischen dem Trägermaterial und der Klebemittelschicht
ab, und die Halbleiter sind mit Metallionen verunreinigt, so daß das in
der vorliegenden Erfindung verwendete Kristallkeime bildende Mittel
vorzugsweise eine hochmolekulare Verbindung ist. Von den polymeren
Verbindungen ist Poly(3-methyl-1-buten) bevorzugt.
-
Die
Trägerfolie
kann in der vorliegenden Erfindung mit herkömmlichen Verfahren, wie Extrusion,
hergestellt werden, und deren Dicke beträgt gewöhnlich etwa 10 μm bis 300 μm, vorzugsweise
etwa 30 μm
bis 200 μm.
Diese Trägerfolie
kann entweder eine einschichtige oder mehrschichtige Folie sein,
eine Schicht, die von der Oberfläche,
die mit der Klebemittelschicht in Kontakt steht, bis zu einer Tiefe
von etwa 150 μm
reicht, wohin eine kreisförmige
Schneidklinge beim Zerschneiden reicht, ist jedoch vorzugsweise
die Schicht, die das thermoplastische Olefinelastomer enthält. Die
mehrschichtige Folie kann z.B. durch herkömmliches Folienlaminieren,
wie Coextrusion oder Trockenlaminieren, hergestellt werden, wobei
das vorstehend genannte Polyolefin usw. in anderen Schichten verwendet
wird.
-
Die
entstandene Trägerfolie
kann, falls erforderlich, mono- oder biaxial gereckt werden. Das
Recken erfolgt vorzugsweise bei etwa 60 °C bis 100 °C. Die so hergestellte Trägerfolie
kann, falls erforderlich, einer herkömmlichen physikalischen oder
chemischen Behandlung durch Mattieren, Koronaentladung, einen Primer und
dgl. unterzogen werden.
-
Die
Klebemittelschicht kann bekannte oder herkömmliche Klebemittel verwenden.
Solche Klebemittel sind nicht besonders begrenzt, und es werden
verschiedene Arten von Klebemitteln, wie die auf der Kautschukreihe,
der Acrylreihe, der Siliconreihe oder der Polyvinyletherreihe basierenden,
und dgl. verwendet.
-
Die
Klebemittel sind vorzugsweise Klebemittel aus der Acrylreihe. Acrylpolymere,
die als Basispolymer in Klebemitteln aus der Acrylreihe verwendet
werden, sind übliche
Polymere von Alkyl(meth)acrylat oder Copolymere davon mit copolymerisierenden
Monomeren. Das hauptsächliche
Monomer im Acrylpolymer ist vorzugsweise ein Alkyl(meth)acrylat,
das ein Homopolymer mit einem Umwandlungspunkt zweiter Ordnung von 20 °C oder weniger
ergibt.
-
Zur
Alkyleinheit im Alkyl(meth)acrylat gehören z.B. eine Methylgruppe,
Ethylgruppe, Butylgruppe, 2-Ethylhexylgruppe, Octylgruppe, Isononylgruppe
und dgl. Zu den copolymerisierenden Monomeren gehören Hydroxyalkylester
von (Meth)acrylaten (z.B. Hydroxyethylester, Hydroxybutylester,
Hydroxyhexylester und dgl.), Glycidyl(meth)acrylatester, (Meth)acrylsäure, Itaconsäure, Maleinsäureanhydrid,
(Meth)acrylsäureamid, (Meth)acrylsäure-N-hydroxymethylamid,
Alkylaminoalkyl(meth)acrylate (z.B. Dimethylaminoethylmethacrylat, t-Butylaminoethylmethacrylat
usw.), Vinylacetat, Styrol, Acrlynitril und dgl.
-
Das
verwendete Klebemittel kann ein durch Strahlung härtendes
Klebemittel, das mit UV-Strahlen, Elektronenstrahlen und dgl. gehärtet wird,
oder ein durch Wärme
schäumendes
Klebemittel sein. Außerdem kann
ein Klebemittel verwendet werden, das auch als Bindung bei der Chipmontage
dienen kann. In der vorliegenden Erfindung wird vorzugsweise ein
durch Strahlung härtendes
Klebemittel, insbesondere ein durch UV-Strahlen härtendes Klebemittel verwendet.
Wenn das verwendete Klebemittel ein durch Strahlung härtendes
Klebemittel ist, wird das Klebemittel vor oder nach dem Schritt
des Zerschneidens bestrahlt, so daß die Trägerfolie vorzugsweise eine
ausreichende Durchlässigkeit
für Strahlung
aufweist.
-
Zu
dem durch Strahlung härtenden
Klebemittel gehören
z.B. das vorstehend genannte Basispolymer (Acrylpolymer) und eine
durch Strahlung härtende
Komponente. Die durch Strahlung härtende Komponente kann irgendeine
der Komponenten, wie Monomere, Oligomere oder Polymere, sein, die
Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungen im Molekül aufweisen und durch Radikalpolymerisation
härten
können.
-
Zu
der durch Strahlung härtenden
Komponente gehören
z.B. Ester zwischen einem mehrwertigen Alkohol und (Meth)acrylsäure, wie
z.B. Trimethylolpropantri(meth)acrylat, Pentaerythritoltri(meth)acrylat,
Tetraethyleneglycoldi(meth)acrylat, 1,6-Hexandioldi(meth)acrylat,
Neopentylglycoldi(meth)acrylat und Dipentaerythritolhexa(meth)acrylat;
Acrylatoligomere; und Isocyanurate oder Isocyanuratverbindungen,
wie 2-Propenyldi-3-butenylcyanurat, 2-Hydroxyethylbis(2-acryloxyethyl)isocyanurat
und Tris(2-methacryloxyethyl)isocyanurat).
-
Das
im durch Strahlung härtenden
Klebemittel verwendete Basispolymer (Acrylpolymer) kann zudem ein
durch Strahlung härtendes
Polymer mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungen in den Seitenketten
des Polymers sein, und in diesem Fall ist die Zugabe der vorstehend
beschriebenen durch Strahlung härtenden Komponente
nicht erforderlich.
-
Für das Härten des
durch Strahlung härtenden
Klebemittels mit UV-Strahlen ist ein Photopolymerisationsinitiator
erforderlich. Zu den Polymerisationsinitiatoren gehören z.B.
Benzoinalkylether, wie Benzoylmethylether, Benzoinpropylether und
Benzoinisobutylether; aromatische Ketone, wie Benzyl-, Benzoin-,
Benzophenon- und α-Hydroxycyclohexylphenylketon;
aromatische Ketale, wie Benzyldimethylketal; Polyvinylbenzophenon;
und Thioxanthone, wie Chlorthioxanthon, Dodecylthioxanthon, Dimethylthioxanthon
und Diethylthioxanthon.
-
Falls
erforderlich, kann das Klebemittel auch herkömmliche Zusätze, wie ein Vernetzungsmittel,
ein klebrigmachendes Mittel, einen Füllstoff, einen Alterungsinhibitor
und ein färbendes
Mittel, enthalten. Zu dem Vernetzungsmittel gehören z.B. Polyisocyanatverbindungen,
Melaminharz, Harnstoffharz, Aziridinverbindungen, Epoxidharz, Anhydride,
Polyamin und Carboxylgruppen enthaltende Polymere.
-
Die
erfindungsgemäße Klebefolie 1 zum
Zerschneiden kann z.B. hergestellt werden, indem auf die Oberfläche einer
Trägerfolie 11 ein
Klebemittel aufgebracht wird, das Klebemittel getrocknet wird (falls
erforderlich thermisch vernetzt wird), so daß eine Klebemittelschicht 12 erzeugt
wird, und dann, falls erforderlich, an die Oberfläche der
Klebemittelschicht 12 ein Separator 13 geklebt
wird. In einem anderen Ausführungsbeispiel
kann auch ein Verfahren angewendet werden, bei dem die Klebemittelschicht 12 getrennt
auf dem Separator 13 erzeugt und diese dann an die Trägerfolie 11 geklebt
werden.
-
Die
Dicke der Klebemittelschicht kann in Abhängigkeit von der Art des Klebemittels
oder der Schnittiefe beim Zerschneiden geeignet bestimmt werden,
beträgt
jedoch gewöhnlich
etwa 1 bis 200 μm,
vorzugsweise etwa 3 bis 50 μm.
-
Zum
Ausgleichen oder Glätten
der Klebemittelschicht kann, falls erforderlich, ein Separator angeordnet
werden. Zu dem den Separator bildenden Material gehört eine
Folie aus einem synthetischen Harz, wie Papier, Polyethylen, Polypropylen,
Polyethylenterephthalat usw. Um die Ablösbarkeit von der Klebemittelschicht
zu verbessern, kann die Oberfläche
des Separators, falls erforderlich, einer Behandlung mit Silicon, einer
langkettigen Alkyl-, Fluorverbindung usw. unterzogen werden. Um
die Festigkeit zu verbessern, kann der Separator monoaxial oder
biaxial gereckt oder mit einer anderen Kunststoffolie laminiert
werden. Die Dicke des Separators beträgt gewöhnlich etwa 10 bis 200 μm, vorzugsweise
etwa 25 bis 100 μm.
-
Beispiele
-
Die
Vorliegende Erfindung wird nachstehend anhand der Beispiele ausführlicher
beschrieben, die die vorliegende Erfindung jedoch nicht einschränken sollen.
-
Beispiel 1
-
Herstellung einer Trägerfolie
-
Zelas
5053 (Handelsbezeichnung) von MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION hergestellt,
wurde einer Formgebungsmaschine mit einer T-Düse (bei einer Temperatur von
230 °C eingestellt)
zugeführt,
die von Plako Co., Ltd. hergestellt wird, so daß eine Trägerfolie mit einer Dicke von
100 μm und
einer Breite von 29 cm hergestellt wurde.
-
Zelas
5053 (Handelsbezeichnung) von MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION hergestellt,
ist ein thermoplastisches Olefinelastomer, das aus 79 Gew.-% einer
Pro pylenkomponente und 21 Gew.-% einer Ethylenkomponente besteht,
und das Verhältnis
einer bei 0 °C
eluierten Fraktion dieses handelsüblichen Produktes zu seinen
gesamten eluierten Fraktionen beim Elutionsfraktionieren mit Temperaturerhöhung bei
Temperaturen im Bereich von 0 °C
bis 140 °C
in o-Dichlorbenzol als Lösungsmittel
beträgt
41,7 Gew.-%, das Schmelzpunktmaximum liegt bei 164 °C, die Dichte
beträgt
0,88 g/cm3 und die MFR (230 °C, 21,18
N) beträgt
6,8 g/10 min.
-
Herstellung
eines Klebemittels
-
60
Gew.-Teile Dipentaerythritolhexaacrylat (Kayarad DPHA (Handelsbezeichnung),
Nippon Kayaku Co., Ltd.), 3 Gew.-Teile eines Photopolymerisationsinitiators
(Irgacure184 (Handelsbezeichnung), Ciba Specialty Chemicals) und
5 Gew.-Teile einer Polyisocyanatverbindung ColonateL (Handelsbezeichnung),
Nippon Urethane Co., Ltd.) wurden zu einer Lösung gegeben, die ein Acrylcopolymer
mit einem Gewichtsmittel des Molekulargewichts von 500000 enthält, das
auf übliche
Weise durch Copolymerisieren von 95 Gew.-Teilen Butylacrylat und
5 Gew.-Teilen Acrylsäure
in Toluol erhalten worden war, so daß eine Lösung eines durch UV-Strahlen
härtenden
Acrylklebemittels hergestellt wurde.
-
Herstellung
einer Klebefolie zum Zerschneiden
-
Die
vorstehend hergestellte Klebemittellösung wurde auf eine der Koronabehandlung
unterzogene Oberfläche
der vorstehend erhaltenen Trägerfolie
aufgebracht und 10 Minuten bei 80 °C thermisch vernetzt, so daß darauf
eine durch UV-Strahlen härtende
Klebemittelschicht mit einer Dicke von 20 μm erzeugt wurde. Dann wurde
ein Separator auf die Oberfläche
der Klebemittelschicht geklebt, so daß eine durch UV-Strahlen härtende Klebefolie
zum Zerschneiden hergestellt wurde.
-
Beispiel 2
-
Das
in Beispiel 1 verwendete Zelas 5053 (Handelsbezeichnung, MITSUBISHI
CHEMICAL CORPORATION) und Kernel KF261 (Nippon Polychem Co., Ltd.)
wurden in einem Verhältnis
von 80:20 (Gewichtsverhältnis)
einer Doppelschnecken-Knetvorrichtung
zugeführt
(PCM-45, Zylinderdurchmesser 45 mm, L/D = 34, bei einer Temperatur
von 200 °C
eingestellt, Ikegai Co., Ltd.) und aus der Schmelze zu Pellets geknetet
und dann in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 zu einer Folie
geformt, so daß eine
Trägerfolie
erhalten wurde.
-
Kernel
KF261, von Nippon Polychem Co., Ltd. hergestellt, ist ein auf Metallocen
basierendes Polyethylen niedriger Dichte mit einer Dichte von 0,898
g/cm3 und einer MFR (190 °C, 21,18
N) von 2,2 g/10 min.
-
Herstellung
einer Klebefolie zum Zerschneiden
-
Die
in Beispiel 1 hergestellte Klebemittellösung wurde auf eine der Koronabehandlung
unterzogene Oberfläche
der vorstehend erhaltenen Trägerfolie
aufgebracht und 10 Minuten bei 80 °C thermisch vernetzt, so daß darauf
eine durch UV-Strahlen härtende
Klebemittelschicht mit einer Dicke von 50 μm erzeugt wurde. Dann wurde
ein Separator auf die Oberfläche
der Klebemittelschicht geklebt, so daß eine durch UV-Strahlen härtende Klebefolie
zum Zerschneiden hergestellt wurde.
-
Beispiel 3
-
Herstellung einer Trägerfolie
-
Zelas
5053 (Handelsbezeichnung, MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION) und ein
Propylenhomopolymer mit einer MFR (230 °C, 21,18 N) von 4,8 g/10 min,
in das bei einer Vorpolymerisation 0,08 Gew.-% Poly(3-methyl-1-buten)
eingeführt
worden war, wurden in einem Verhältnis
von 100:1 (Gewichtsverhältnis)
einer Doppelschnecken-Knetvorrichtung (PCM-45, Zylinderdurchmesser
45 mm, L/D = 34, bei einer Temperatur von 200 °C eingestellt, Ikegai Co., Ltd.)
zugeführt
und aus der Schmelze zu Granulat geknetet. Dann wurde das Granulat
einer Formgebungsmaschine mit T-Düse zugeführt (bei einer Temperatur von
230 °C eingestellt), die
von Plako Co., Ltd. hergestellt wird, so daß eine Trägerfolie mit einer Dicke von
100 μm und
einer Breite von 29 cm hergestellt wurde. Der Gehalt des Kristallkeime
bildenden Mittels (Poly(3-methyl-1-buten)) in der so hergestellten
Trägerfolie
betrug 0,00079 Gew.-%.
-
Herstellung
eines Klebemittels
-
60
Gew.-Teile Dipentaerythritolhexaacrylat (Kayarad DPHA (Handelsbezeichnung),
Nippon Kayaku Co., Ltd.), 3 Gew.-Teile eines Photopolymerisationsinitiators
(Irgacure184 (Handelsbezeichnung), Ciba Specialty Chemicals) und
5 Gew.-Teile einer Polyisocyanatverbindung Colonate L (Handelsbezeichnung),
Nippon Urethane Co., Ltd.) wurden zu einer Lösung gegeben, die ein Acrylcopolymer
mit einem Gewichtsmittel des Molekulargewichts von 500000 enthält, das
auf übliche
Weise durch Copolymerisieren von 90 Gew.-Teilen Butylacrylat und
10 Gew.-Teilen Acrylsäure
in Toluol erhalten worden war, so daß eine Lösung eines durch UV-Strahlen
härtenden
Acrylklebemittels hergestellt wurde.
-
Herstellung
einer Klebefolie zum Zerschneiden
-
Die
vorstehend hergestellte Klebemittellösung wurde auf eine der Koronabehandlung
unterzogene Oberfläche
der vorstehend erhaltenen Trägerfolie
aufgebracht und 10 Minuten bei 80 °C thermisch vernetzt, so daß darauf
eine durch UV-Strahlen härtende
Klebemittelschicht mit einer Dicke von 20 μm erzeugt wurde. Dann wurde
ein Separator auf die Oberfläche
der Klebemittelschicht geklebt, so daß eine durch UV-Strahlen härtende Klebefolie
zum Zerschneiden hergestellt wurde.
-
Beispiel 4
-
Herstellung
einer Trägerfolie
-
Zelas
5053 (Handelsbezeichnung, MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION), das
in Beispiel 1 verwendet worden war, Novateck HD HB330 (Handelsbezeichnung,
Nippon Polychem Co., Ltd.) und ein Propylenhomopolymer mit einer
MFR (230 °C,
21,18 N) von 4,8 g/10 min, in das durch eine Vorpolymerisation 0,08 Gew.-%
Poly(3-methyl-1-buten)
eingeführt
worden war, wurden in einem Verhältnis
von 80:20:1 (Gewichtsverhältnis)
einer Doppelschnecken-Knetvorrichtung (PCM-45, Zylinderdurchmesser
45 mm, L/D = 34, die bei einer Temperatur von 200 °C eingestellt
worden war, Ikegai Co., Ltd.) zugeführt und aus der Schmelze zu
Granulat geknetet, das dann in der gleichen Weise wie in Beispiel
3 zu einer Trägerfolie
geformt wurde. Der Gehalt des Kristallkeime bildenden Mittels (Poly(3-methyl-1-buten))
in der so hergestellten Trägerfolie
betrug 0,00079 Gew.-%.
-
Novateck
HD HB330, von Nippon Polychem Co., Ltd. hergestellt, ist ein Polyethylen
hoher Dichte mit einer Dichte von 0,953 g/cm3 und
einer MFR (190 °C,
21,18 N) von 0,35 g/10 min.
-
Herstellung
einer Klebefolie zum Zerschneiden
-
Die
in Beispiel 3 hergestellte Klebemittellösung wurde auf eine der Koronabehandlung
unterzogene Oberfläche
der vorstehend erhaltenen Trägerfolie
aufgebracht und 10 Minuten bei 80 °C thermisch vernetzt, so daß darauf
eine durch UV-Strahlen härtende
Klebemittelschicht mit einer Dicke von 50 μm erzeugt wurde. Dann wurde
ein Separator auf die Oberfläche
der Klebemittelschicht geklebt, so daß eine durch UV-Strahlen härtende Klebefolie
zum Zerschneiden hergestellt wurde.
-
Vergleichsbeispiel 1
-
Eine
Klebefolie zum Zerschneiden wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel
1 hergestellt, außer
daß die
verwendete Trägerfolie
eine Folie mit einer Dicke von 100 μm war, die durch Extrusion von
Polyethylen niedriger Dichte durch eine T-Düse hergestellt worden war.
Das Schmelzpunktmaximum des Polyethylens niedriger Dichte beträgt 110 °C, die Dichte
liegt bei 0,923 g/cm3, und die MFR (190 °C, 21,18
N) beträgt
1,5 g/10 min.
-
Vergleichsbeispiel 2
-
Eine
Klebefolie zum Zerschneiden wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel
1 hergestellt, außer
daß die
verwendete Trägerfolie
eine Folie mit einer Dicke von 100 μm war, die durch Extrusion eines
Ethylen-Methacrylsäure-Copolymers
durch eine T-Düse
hergestellt worden war. Das Schmelzpunktmaximum des Ethylen-Methacrylsäure-Copolymers beträgt 100 °C, die Dichte
liegt bei 0,930 g/cm3, und die MFR (190 °C, 21,18 N)
beträgt
3 g/10 min.
-
Vergleichsbeispiel 3
-
Eine
durch UV-Strahlen härtende
Klebefolie zum Zerschneiden wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel
1 hergestellt, außer
daß die
verwendete Trägerfolie
eine Trägerfolie
mit einer Dicke von 100 μm
war, die durch Extrusion eines Ethylen-Methacryl säure-Copolymers
(MFR = 2,0) durch eine 7-Düse,
gefolgt von der Koronabehandlung einer Oberfläche der entstandenen Folie
hergestellt worden war.
-
Auswertunsgtest
-
Die
in den Beispielen und Vergleichsbeispielen erhaltenen Klebefolien
zum Zerschneiden wurden nach dem nachstehend beschriebenen Verfahren
ausgewertet. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 aufgeführt.
-
(1) Auswertung der Leistung
beim Zerschneiden
-
Ein
6 inch Wafer mit einer Dicke von 350 μm wurde auf der Klebefolie zum
Zerschneiden befestigt und dann bei folgenden Bedingungen zerschnitten. Bedingungen
beim Zerschneiden
Schneidevorrichtung: | DFD-651,
DISCO Co., Ltd. |
Schneidklinge: | NBC-ZH2050
27HEDD, DISCO Co., Ltd. |
Anzahl
der Umdrehungen der Schneidklinge: | 45000
U/min |
Schneidgeschwindigkeit: | 100
mm/s |
Schnittiefe: | bis
zu einer Tiefe von 30 μm
in der Trägerfolie |
Schnittgröße: | 2,5 × 2,5 mm |
Schnittmodus: | Abwärtsschnitt |
-
Nach
dem Zerschneiden wurde das Auftreten von fasrigen Schnittabfällen auf
den Oberflächen
der geschnittenen Chips mit einem Lichtmikroskop (× 200) betrachtet,
und es wurde die Anzahl der fasrigen Schnittabfälle mit einer Größe in einem
vorbestimmten Bereich erfaßt.
-
-
Wie
aus Tabelle 1 ersichtlich ist, zeigen die Klebefolien zum Zerschneiden
der Beispiele eine geringere Erzeugung von fasrigen Schnittabfällen. Diese
Klebefolien zeigen keine Entstehung von fasrigen Schnittabfällen mit
einer Größe von 100 μm oder mehr.
Insbesondere ist ersichtlich, daß die Klebefolien zum Zerschneiden der
Beispiele 3 und 4, die eine Trägerfolie
verwenden, die ein Kristallkeime bildendes Mittel enthält, zu einer geringeren
Erzeugung von fasrigen Schnittabfällen führen. Die Wafer in den Beispielen
und Vergleichsbeispielen zeigten keine Beeinträchtigung der Qualität.
-
Beispiel 5
-
Herstellung einer Trägerfolie
-
Zelas
5053 (Handelsbezeichnung, MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION) und Novateck
HD HB330 (Handelsbezeichnung, Nippon Polychem Co., Ltd.) wurden
in einem Verhältnis
von 80:20 (Gewichtsverhältnis)
einer Doppelschnecken-Knetvorrichtung zugeführt (PCM-45, Zylinderdurchmesser
45 mm, L/D = 34, die bei einer Temperatur von 200 °C eingestellt
worden war, Ikegai Co., Ltd.) und aus der Schmelze zu Granulat geknetet.
-
Das
Granulat wurde dann einer Formgebungsmaschine mit einer T-Düse zugeführt (bei
einer Temperatur von 230 °C
eingestellt), die von Plako Co., Ltd. hergestellt wird, so daß eine Trägerfolie
mit einer Dicke von 100 μm
und einer Breite von 29 cm hergestellt wurde.
-
Herstellung einer Klebefolie
zum Zerschneiden
-
Die
im Beispiel 3 hergestellte Klebemittellösung wurde auf eine der Koronabehandlung
unterzogene Oberfläche
der vorstehend erhaltenen Trägerfolie
aufgebracht und 10 Minuten bei 80 °C thermisch vernetzt, so daß darauf
eine durch UV-Strahlen härtende
Klebemittelschicht mit einer Dicke von 5 μm erzeugt wurde. Dann wurde
ein Separator auf die Oberfläche
der Klebemittelschicht geklebt, so daß eine durch UV-Strahlen härtende Klebefolie
zum Zerschneiden hergestellt wurde.
-
Beispiel 6
-
Herstellung einer Trägerfolie
-
Zelas
5053 (Handelsbezeichnung, MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION) und Novateck
LL UF420 (Handelsbezeichnung, Nippon Polychem Co., Ltd.) wurden
in einem Verhältnis
von 80:20 (Gewichtsverhältnis)
einer Doppelschnecken-Knetvorrichtung zugeführt (PCM-45, Zylinderdurchmesser
45 mm, L/D = 34, die bei einer Temperatur von 200 °C eingestellt
worden war, Ikegai Co., Ltd.) und aus der Schmelze zu
Granulat geknetet. Mit diesem Granulat wurde in der gleichen Weise
wie in Beispiel 5 eine Trägerfolie
erhalten.
-
Novateck
LL UF420, von Nippon Polychem Co., Ltd. hergestellt, ist ein lineares
Polyethylen niedriger Dichte mit einer Dichte von 0,925 g/cm3 und einer MFR (190 °C, 21,18 N) von 0,8 g/10 min.
-
Herstellung einer Klebefolie
zum Zerschneiden
-
Die
im Beispiel 3 hergestellte Klebemittellösung wurde auf eine der Koronabehandlung
unterzogene Oberfläche
der vorstehend erhaltenen Trägerfolie
aufgebracht und 10 Minuten bei 80 °C thermisch vernetzt, so daß darauf
eine durch UV-Strahlen härtende
Klebemittelschicht mit einer Dicke von 20 μm erzeugt wurde. Dann wurde
ein Separator auf die Oberfläche
der Klebemittelschicht geklebt, so daß eine durch UV-Strahlen härtende Klebefolie
zum Zerschneiden hergestellt wurde.
-
Vergleichsbeispiel 4
-
Bei
der Herstellung der Folie zum Zerschneiden mit einem gehärteten Klebemittel
in Beispiel 5 wurde eine Klebefolie in der gleichen Weise wie in
Beispiel 1 hergestellt, außer
daß die
verwendete Trägerfolie
eine Trägerfolie
mit einer Dicke von 80 μm
war, die durch Trockenmischen von 50 Gew.-Teilen Polypropylen (Novateck
FL6CK, von Nippon Polychem Co., Ltd. hergestellt) mit 50 Gew.-Teilen
eines Ethylen-Methylmethacrylat-Copolymers (AquliftWM305, Sumitomo
Chemical Co., Ltd.) und anschließendes Extrudieren des Gemischs
zu einer Trägerfolie
hergestellt worden war.
-
Vergleichsbeispiel 5
-
Bei
der Herstellung der Folie zum Zerschneiden mit einem gehärteten Klebemittel
in Beispiel 5 wurde eine Klebefolie in der gleichen Weise wie in
Beispiel 1 hergestellt, außer
daß die
verwendete Trägerfolie
eine Folie aus linearem Polyethylen niedriger Dichte mit einer Dicke
von 80 μm
war.
-
Auswertungstest
-
Die
in den Beispielen und Vergleichsbeispielen erhaltenen Klebefolien
zum Zerschneiden wurden nach folgendem Verfahren ausgewertet. Die
Ergebnisse sind in Tabelle 2 aufgeführt.
-
Auswertung
des Absplitterns
-
Ein
6 inch Wafer mit einer Dicke von 150 μm, dessen Rückseite von hinten geschliffen
worden war (Oberflächengüte #2000)
wurde auf jeder in den Beispielen und Vergleichsbeispielen erhaltenen
Klebefolie zum Zerschneiden befestigt, und jede Folie wurde bei
den nachstehend angegebenen Bedingungen zerschnitten. Nach dem Zerschneiden
wurde die Rückseite
der Folie mit UV-Strahlen (500 mJ/cm2) bestrahlt
und dann wurden 50 willkürliche
Halbleiterchips davon aufgenommen (abgelöst). Die Tiefe, in Richtung
der Chiptiefe, von jeder Absplitterung an der Seite des entstandenen
Halbleiters wurde mit einem Lichtmikroskop (× 200) betrachtet, und es wurde
die Anzahl der Absplitterungen mit einer Größe in einem vorbestimmten Bereich
erfaßt.
-
Ausbeute
-
Die
Ausbeute wurde als Verhältnis
der Halbleiterchips mit einer Größe der Absplitterung
von 50 μm oder
weniger zu den 50 willkürlichen
Halbleiterchips angegeben, bei denen das Absplittern ausgewertet
worden war. Bedingungen
beim Zerschneiden
Schneidevorrichtung: | DFD-651,
DISCO Co., Ltd. |
Schneidklinge: | NBC-ZH2050
27HEDD, DISCO Co., Ltd. |
Anzahl
der Umdrehungen der Schneidklinge: | 40000
U/min |
Schneidgeschwindigkeit: | 120
mm/s |
Schnittiefe: | bis
zu einer Tiefe von 30 μm
in der Trägerfolie |
Schnittgröße: | 2,5 × 2,5 mm |
Schnittmodus: | Abwärtsschnitt |
-
-
Wie
aus Tabelle 2 ersichtlich ist, zeigten die Klebefolien zum Zerschneiden
der Beispiele 5 und 6 eine sehr geringe Anzahl von Absplitterungen
mit einer Größe der Absplitterung
von 50 μm
oder mehr, was auf eine gute Ausbeute hinweist. Andererseits ist
bei den Vergleichsbeispielen 4 und 5 die Entstehung von Absplitterungen
mit einer Größe der Absplitterung
von 50 μm
oder mehr signifikant, was auf eine schlechte Ausbeute hinweist.