DE60124635T2

DE60124635T2 - Bildaufzeichnungsmaterial

Info

Publication number: DE60124635T2
Application number: DE60124635T
Authority: DE
Inventors: Kazuhiro Yoshida-cho Haibara-gun Fujimaki; Tadahiro Yoshida-cho Haibara-gun Sorori; Keitaro Yoshida-cho Haibara-gun Aoshima
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2000-08-21
Filing date: 2001-08-21
Publication date: 2007-09-13
Anticipated expiration: 2021-08-22
Also published as: US6916595B2; ATE362846T1; EP1563991B1; US20030008239A1; EP1182033B1; US7105276B2; DE60128602T2; DE60128602D1; US20050187103A1; EP1563991A1; DE60124635D1; EP1182033A1; ATE345928T1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein durch IR-Laser beschreibbares, negatives Bildaufzeichnungsmedium und im Einzelnen betrifft diese ein negatives Bildaufzeichnungsmaterial, worin ein Bildteil einer Aufzeichnungsschicht eine hohe Festigkeit besitzt und das eine lithographische Druckplatte mit herausragender Druckbeständigkeit bilden kann.
Auf dem Gebiet der Lasertechnologie hat es in den letzten Jahren erhebliche Entwicklungen gegeben, und insbesondere Feststoff- und Halbleiterlaser mit einem Emissionsbereich von Nah-IR bis IR sind leistungsfähig und kompakt geworden. Daher sind diese Lasertechnologien als eine Belichtungslichtquelle zur Herstellung von Platten direkt aus digitalen Daten aus z.B. Computern nützlich.
Ein Material für eine negative lithographische Druckplatte für einen IR-Laser, auf welches ein IR-Laser mit einer Emissionsbereich über eine Nah-IR-Bereich bis zu einem IR-Bereich als eine Belichtungslichtquelle angelegt wird, besitzt eine lichtempfindliche Schicht, die ein IR-Absorptionsmittel, einen Polymerisationsinitiator, der Radikale durch Licht oder durch Wärme erzeugt, und eine polymerisierbare Verbindung enthält.
Im Allgemeinen wird bei dem negativen Bildaufzeichnungsmaterial ein Aufzeichnungsverfahren angewendet, worin eine Polymerisationsreaktion durch Radikale hervorgerufen wird, die Initiatoren sind und aufgrund von Licht oder Wärme erzeugt werden. Die Aufzeichnungsschicht wird hierdurch in dem belichteten Teil unter Erzeugung eines Bildteils gehärtet. Das negative Bildaufzeichnungsmaterial besitzt eine niedrige Bilderzeugungsfähigkeit im Vergleich zu einem positiven Typ, bei dem eine Aufzeichnungsschicht aufgrund von Energie aus einer IR-Bestrahlung löslich gemacht wird, und im Allgemeinen wird eine Wärmebehandlung vor einem Entwicklungsschritt zur Erzeugung eines festen Bildteils durch Beschleunigen der Härtungsreaktion durch Polymerisation durchgeführt.
Als eine solche Druckplatte, die eine Aufzeichnungsschicht besitzt, die durch Licht oder Wärme polymerisierbar ist, sind Techniken unter Verwendung einer photopolymerisierbaren Zusammensetzung oder einer wärmepolymerisierbaren Zusammensetzung in einer lichtempfindlichen Schicht bekannt gewesen, wie in JP-A-8-108621 und JP-A-9-34110 beschrieben. Während die lichtempfindliche Schichten eine herausragende hochempfindliche Bilderzeugungsfunktion besitzen, ist die Adhäsion an der Grenzfläche zwischen der lichtempfindlichen Schicht und einem Träger in dem Fall niedrig, dass ein einer hydrophilen Behandlung unterzogenes Substrat verwendet wird, wodurch das Problem einer schlechten Druckbeständigkeit auftritt.
Zwar wird angenommen, dass die Verwendung eines IR-Lasers mit hoher Leistung die Empfindlichkeit erhöht, doch verursacht dieser darüber hinaus das Problem der Abtragung der lichtempfindlichen Schicht zur Zeit der Laserabtastung und kontaminiert hierdurch das optische System.
EP-A1-0 897 795 offenbart einen direkt mit einem Bild beschreibbaren wasserfreien Flachdruckdruckplattenvorläufer aus einem Laminat aus mindestens einer wärmeempfindlichen Schicht und einer Siliconkautschukschicht auf einem Substrat, wobei die wärmeempfindliche Schicht ein Licht-in-Wärmeumwandlungsmaterial und eine Verbindung, die N-N-Bindungen enthält, einschließt.
WO-A1-87/46385 betrifft ein Bildaufzeichnungselement, das eine Substratschicht und eine IR-empfindliche Beschichtung einschließt, deren Löslichkeit durch IR-Bestrahlung beeinflusst wird.
EP-A1-0 919 868 offenbart ein Bilderzeugungsmaterial vom positiven Typ, das (A) eine Polymerverbindung, die eine phenolische Hydroxylgruppe besitzt und in einer alkalischen wässrigen Lösung löslich ist, (B) eine durch Licht und Wärme sich zersetzende Verbindung, die die Löslichkeit der Verbindung (A) unterdrückt oder durch Licht oder Wärme zersetzt wird, um ihren löslichkeitsunterdrückenden Effekt auf die Verbindung (A) zu verlieren, und (C) eine vernetzbare Verbindung, die den löslichkeitsunterdrückenden Effekt der Verbindung (B) erhöht.
EP-A1-0 761 429 offenbart ein negativ arbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial, das eine durch eine spezifische Wiederholungseinheit dargestellte, hochmolekulare Verbindung genauso wie eine Substanz, die unter Lichtabsorption Wärme erzeugt, umfasst.
US-A-6 042 987 betrifft ein Bildaufzeichnungsmaterial vom negativen Typ, das direktes Plattenherstellen bewirken kann, indem unter Verwendung eines IR-Strahlung emittierenden Feststofflasers oder Halbleiterlasers basierend auf digitalen Computersignalen aufgezeichnet wird. Das Aufzeichnungsmaterial umfasst eine durch die Wirkung von Licht oder Wärme unter Säureerzeugung zersetzbare Verbindung (A), Vernetzungsmittel (B), mindestens Eines aus einem alkalilöslichen Harz (C), einem IR-absorbierenden Mittel (D) und einer organischen Basisverbindung (E).
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Die Erfindung ist angesichts der vorstehenden Probleme entwickelt worden, und ein Ziel der Erfindung ist es, ein negatives Bildaufzeichnungsmaterial bereitzustellen, worin bei Durchführung von Laserabtastung eine Abtragung zur Zeit der Aufzeichnung unterdrückt wird, worin ein so gebildeter Bildteil eine hohe Festigkeit besitzt, und das zudem eine lithographische Druckplatte mit herausragender Druckbeständigkeit bilden kann.
Untersuchungen der Erfinder ergaben, dass bei Verwendung eines Harzes mit einer spezifischen ungesättigten Bindungsgruppe als eine Polymerverbindung, die in Wasser unlöslich, aber in einer wässrigen Alkalilösung löslich ist, Aufzeichnen unter Bildung eines Bildteils mit herausragender Festigkeit durchgeführt werden kann. Diese Entdeckung führte zur Vervollständigung der vorliegenden Erfindung.
Ein erfindungsgemäßer Aspekt betrifft ein negatives Aufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp, das (A) eine Polymerverbindung, die im Wasser unlöslich ist, aber in einer wässrigen Alkalilösung löslich ist und mindestens eine der Gruppen der folgenden allgemeinen Formeln (1) bis (3) auf einer Seitenkette besitzt; (B) ein photothermisches Umwandlungsmittel; (C) eine Oniumsalzverbindung, die Radikale durch Belichtung im Wärmemodus mit Licht erzeugt, das durch das photothermische Umwandlungsmittel (B) absorbiert werden kann; und gegebenenfalls (D) eine radikalisch polymerisierbare Verbindung umfasst, und das ein Bild durch Belichtung im Wärmemodus aufzeichnen kann:
worin R¹ bis R¹¹ jeweils unabhängig eine einwertige organische Gruppe darstellt; X und Y jeweils unabhängig ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom oder -N(R¹²)- darstellt; Z ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -N(R¹²)- oder eine Phenylengruppe darstellt; und R¹² ein Wasserstoffatom oder eine einwertige organische Gruppe darstellt.
Während nicht vollständig klar ist, wie die Erfindung funktioniert, wird angenommen, dass deren Mechanismus wie folgt ist. Das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial verwendet das Harz (A) mit mindestens einer der Gruppen der folgenden allgemeinen Formeln (1) bis (3) auf einer Seitenkette als eine Polymerverbindung, die in Wasser unlöslich ist, aber in einer wässrigen Alkalilösung löslich ist. Da die Polymerverbindung einen Seitenkettensubstituenten mit einer hohen radikalischen Reaktivität besitzt, wird bei Verwendung des Bildaufzeichnungsmaterials in einer lichtempfindlichen Schicht eines lithographischen Druckplattenoriginals vom Wärmemodustyp eine Vernetzungsreaktion sofort nach der Abtastbelichtung mit IR-Laser hervorgerufen, um so einen gehärteten Film mit einer hohen Vernetzungsdichte zu erzeugen. Folglich unterdrückt dieser eine Abtragung einer anderen Gewichtskomponente mit niedrigem Molekulargewicht in der lichtempfindlichen Schicht, wie etwa eines photothermischen Umwandlungsmittels, und verhindert deren Freisetzung aus der lichtempfindlichen Schicht, und eine Kontamination des optischen Systems, wie etwa eines Drehspiegels, wird so unterdrückt.
Darüber hinaus besitzt ein lithographisches Druckplattenoriginal vom Wärmemodustyp das folgende Problem. Während das Plattenoriginal ein Aluminiumsubstrat als ein Träger in vielen Fällen verwendet, wird durch die Belichtung im Wärmemodus hervorgerufene Wärme nicht ausreichend in die lichtempfindliche Schicht in der Nachbarschaft des Substrats aufgrund der Wärmediffusionseigenschaft von Aluminium übertragen, und folglich wird die Härtungsreaktion nicht ausreichend in der Nachbarschaft der Grenzfläche zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Träger durchgeführt. Wenn ein unter solchen Umständen erzeugtes Latentbild unter Verwendung einer Alkalientwicklungslösung entwickelt wird, dringt die Entwicklungslösung leicht aus dem oberen Teil der gehärteten lichtempfindlichen Schicht durch, und löst so den ungehärteten Teil in der Nachbarschaft der Grenzfläche auf. Daher wird die Festigkeit des Bildes verschlechtert und so eine lithographische Druckplatte mit niedriger Druckbeständigkeit erzeugt. Andererseits können bei Verwendung der erfindungsgemäßen Polymerverbindung als ein Bindemittel der lichtempfindlichen Schicht die Vernetzungsdichte in den gehärteten Teil erhöht werden, und das Durchdringen der Entwicklungslösung kann effektiv unterdrückt werden. Daher können die durch den Bildteil empfangenen Schäden herabgesetzt werden und so die Druckbeständigkeit verbessert werden.
Der Effekt der erfindungsgemäß verwendeten Polymerverbindung (A) ist bemerkenswert, wenn die Oniumsalzverbindung (C) als eine Verbindung verwendet wird, die Radikale durch Belichtung im Wärmemodus mit durch das photothermische Umwandlungsmittel absorbierbarem Licht bildet. Es wird angenommen, dass dies durch eine herausragende Kompatibilität zwischen der Polymerverbindung und der Oniumsalzverbindung hervorgerufen wird.
Im Allgemeinen wird in den meisten Fällen der Erzeugung eines gehärteten Films unter Verwendung von radikalischer Polymerisation eine Sauerstoffblockierschicht (Schutzschicht) als eine obere Schicht einer lichtempfindlichen Schicht zum Unterdrücken der Inhibierung der radikalischen Polymerisation aufgrund von Sauerstoff von der Außenseite des Systems bereitgestellt, um die Reaktion ausreichend durchzuführen, und so einen gehärteten Film mit ausreichender Festigkeit zu erhalten. In dem Fall, dass das Bindemittel der Erfindung verwendet wird, tritt im Wesentlichen keine Polymerisationsinhibierung aufgrund von Sauerstoff auf. Daher besitzt die Erfindung einen solchen Vorteil, dass es keine Notwendigkeit zum Bereitstellen einer Sauerstoffblockierschicht gibt.
Darüber hinaus wird angenommen, dass die erfindungsgemäße Polymerverbindung sofort nach dem Erzeugen von Radikalen aufgrund der Abtastbelichtung mit IR-Laser eine Vernetzungsreaktion verursacht und so einen gehärteten Film mit einer hohen Vernetzungsdichte erzeugt, und so wird die Abtragung einer anderen Komponente mit niedrigem Molekulargewicht in der lichtempfindlichen Schicht, wie etwa ein photothermisches Umwandlungsmittel, und deren Freisetzung aus der lichtempfindlichen Schicht unterdrückt, wodurch eine Kontamination des optischen Systems unterdrückt wird.
Die enthaltenen Struktureinheiten verbessern die Kompatibilität zwischen dem Bindemittelpolymer und anderen Komponenten, die das Bildaufzeichnungsmaterial, etwa eine Radikale erzeugende Verbindung, zusammensetzen. Daher wird angenommen, dass eine Phasenseparierung der Zusammensetzung mit dem Ablauf der Zeit unterdrückt wird, und so die Lagerungsstabilität herausragend ist.
Der Ausdruck "Wärmemodustyp", auf den erfindungsgemäß Bezug genommen wird, bezieht sich auf die Fähigkeit zum Aufzeichnen durch Belichtung im Wärmemodus. Die Definition der erfindungsgemäß verwendeten Belichtung im Wärmemodus wird nachstehend detailliert beschrieben. Wie in Hans-Joachim Timpe, IS&Ts NIP 15:1999 International Conference and Digital Printing Technologies, Seite 209 beschrieben, ist es bekannt, dass das Verfahren, das mit Lichtanregung einer lichtabsorbierenden Substanz beginnt, die ein Bild (wie etwa einen Farbstoff) in einem lichtempfindlichen Material erzeugt, und mit chemischer oder physikalischer Änderung der lichtabsorbierenden Substanz endet, im Allgemeinen in zwei Arten eingeteilt wird. Eine der Arten ist der so genannte Photonenmodus, worin die durch Licht angeregte lichtabsorbierende Substanz durch eine photochemische Wechselwirkung (wie etwa Energietransfer und Elektronentransfer) mit einer anderen reaktiven Substanz in dem lichtempfindlichen Material inaktiv gemacht wird, und folglich die aktivierte reaktive Substanz einer chemischen oder physikalischen Änderung verursacht, die zur Bilderzeugung notwendig ist. Die andere Artist der Wärmemodus, worin die durch Licht angeregte lichtabsorbierende Substanz durch Erzeugung von Wärme inaktiv gemacht wird, und eine reaktive Substanz eine chemische oder physikalische Änderung verursacht, die zur Bilderzeugung notwendig ist, indem die Wärme verwendet wird. Zusätzlich zu diesen gibt es einige besondere Arten, wie etwa Ablation bzw. Abtragung, worin eine Substanz durch lokal kondensierte Lichtenergie und Multiphotonenabsorption, worin eine große Anzahl von Photonen durch ein Molekül absorbiert werden, explosionsartig gestreut wird, aber diese Arten sind hierin nicht eingeschlossen.
Die Belichtungsverfahren unter Verwendung der vorstehenden Arten werden jeweils als Photonenmodusbelichtung und Wärmemodusbelichtung bezeichnet. Der technische Unterschied zwischen der Photonenmodusbelichtung und der Wärmemodusbelichtung besteht darin, dass die Energiemenge für jede der bei der Belichtung verwendeten Photonen zum Erhalt der Energiemenge für die gewünschte Reaktion akkumuliert werden kann oder nicht. Zum Beispiel sei der Fall betrachtet, dass eine bestimmte Reaktion unter Verwendung von n Photonen durchgeführt wird. Da die Photonenmodusbelichtung eine photochemische Wechselwirkung verwendet, kann die Energie von jedem Photon und des Prinzips der Erhaltung von Energie und Quantenmoment nicht akkumuliert und auf einmal verwendet werden. Mit anderen Worten muss die Energiemenge eines Photons zur Durchführung einer bestimmten Reaktion gleich oder größer als die Energiemenge der Reaktion sein. Andererseits kann bei der Belichtung im Wärmemodus die Energiemenge akkumuliert werden, da Wärme nach der Anregung durch Licht erzeugt wird und die Lichtenergie nach der Umwandlung in Wärme verwendet wird. Daher ist es ausreichend, dass die Gesamtenergiemenge von n Photonen gleich oder größer als die Energiemenge der Reaktion ist. Jedoch wird die Akkumulation der Energiemenge durch Wärmediffusion beeinflusst. Das heißt, in dem Fall, dass Wärme an einen Belichtungspunkt (Reaktionspunkt) erzeugt wird, und die nächste Wärmeerzeugung durch das Lichtanregungs- und Inaktivierungsverfahren auftritt, bevor die Wärme der ersten Reaktion durch Wärmediffusion verloren geht, kann eine Wärmeakkumulation sichergestellt werden, wodurch die Temperatur an dem Punkt erhöht wird. Jedoch wird die Wärme verloren gehen und sich nicht akkumulieren, wenn sich die nächste Wärmeerzeugung verzögert. Folglich ergibt der Fall, dass Licht mit einer hohen Energiemenge für eine kurze Zeitdauer belichtet wird und der Fall, dass Licht mit einer niedrigen Energiemenge für eine lange Zeitdauer belichtet wird, unterschiedliche Ergebnisse, sogar bei Durchführung der Belichtung im Wärmemodus mit der gleichen Gesamtmenge an Belichtungsenergie. Der erstere Fall, d.h., der Fall, dass die Belichtungsdauer kurz ist, ist zur Wärmeakkumulation vorteilhaft.
Bei der Belichtung im Photonenmodus kann aufgrund des Effektes von einigen Arten von aufeinander folgenden Reaktionen ein Phänomen, das dem vorstehend beschriebenen ähnlich ist, auftreten, aber grundsätzlich tritt dieses Problem nicht bei der Belichtung im Photonenmodus auf.
Vom Standpunkt der Eigenschaften eines lichtempfindlichen Materials ist die inhärente Empfindlichkeit (Energiemenge für eine zur Bilderzeugung benötigte Reaktion) des lichtempfindlichen Material im Hinblick auf die Belichtungsleistungsdichte (w(cm²) (d.h. Energiedichte pro Einheitszeitperiode) konstant, wohingegen im Wärmemodus die inhärente Empfindlichkeit des lichtempfindlichen Materials im Hinblick auf die Belichtungsleistungsdichte erhöht ist. Daher verwirklicht bei der praktischen Verwendung eines Bildaufzeichnungsmaterials, wenn die jeweiligen Moden bei einer gegebenen Belichtungszeit verglichen werden, die zum Beibehalten der notwendigen Produktivität ausreichend ist, der Photonenmodus eine hohe Empfindlichkeit von ungefähr 0,1 mJ/cm². Da die Reaktion jedoch sogar durch eine kleine Lichtmenge induziert wird, ist es wahrscheinlich, dass das Problem einer geringen Belichtungseintrübung in einem unbelichteten Bereich auftritt. Bei der Belichtung im Wärmemodus tritt andererseits die Reaktion nicht auf, wenn die Belichtungsmenge einen bestimmten Wert erreicht. Das Problem einer geringen Belichtungseintrübung kann vermieden werden, aber im Allgemeinen ist eine Belichtungsleistungsdichte von ungefähr 50 mJ/cm² für die hohe Stabilität des lichtempfindlichen Materials notwendig.
Tatsächlich ist eine Belichtungsleistungsdichte von 5000 W/cm² oder mehr und vorzugsweise 10 000 w/cm² oder mehr auf der Plattenoberfläche bei der Belichtung im Wärmemodus notwendig., Obwohl hierin nicht im Detail beschrieben, tritt jedoch bei Verwendung eines Lasers mit hoher Leistungsdichte von 5,0 × 105 w/cm² eine Ablation unter Verursachung von Problemen, wie etwa Kontamination einer Lichtquelle, auf.
BEVORZUGTE AUSFÜHRUNGSFORMEN DER ERFINDUNG
Die Erfindung wird nachstehend detaillierter beschrieben.
Das erfindungsgemäße negative Bildaufzeichnungsmaterial umfasst (A) eine Polymerverbindung, die in Wasser unlöslich ist, aber in einer wässrigen Alkalilösung löslich ist und mindestens eine der Gruppen der allgemeinen Formeln (1) bis (3) auf einer Seitenkette besitzt; (B) ein photothermisches Umwandlungsmittel; (C) eine Oniumsalzverbindung, die Radikale durch Belichtung im Wärmemodus mit Licht erzeugt, das durch das photothermische Umwandlungsmittel (B) absorbiert werden kann. Die Verbindungen, die in dem erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterial verwendet werden können, werden nachstehend jeweils beschrieben.
(A) Alkalilösliches Harz
Die Polymerverbindung, die in Wasser unlöslich ist, aber in einer wässrigen Alkalilösung löslich ist und mindestens eine der Gruppen de allgemeinen Formeln (1) bis (3) auf einer Seitenkette besitzt (nachstehend manchmal als ein bestimmtes alkalilösliches Harz bezeichnet) wird beschrieben.
In der allgemeinen Formel (1) stellt R¹ bis R³ jeweils unabhängig eine einwertige organische Gruppe dar. Beispiele für R¹ schließen ein Wasserstoffatom und eine Alkylgruppe ein, die einen Substituenten besitzen können, und von diesen sind ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe, eine Methylalkoxygruppe und eine Methylestergruppe bevorzugt. Beispiele für R² und R³ schließen unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Aminogruppe, eine Dialkylaminogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Sulfogruppe, eine Nitrogruppe, eine Cyanogruppe, eine Alkylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Arylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Alkoxygruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Aryloxygruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Alkylaminogruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Arylaminogruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Alkylsulfonylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, und eine Arylsulfonylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, und von diesen sind ein Wasserstoffatom, ein Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Alkylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, und eine Arylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, bevorzugt.
Beispiele für den Substituenten, der eingeführt werden kann, schließen eine Methoxycarbonylgruppe, eine Ethoxycarbonylgruppe, eine Isopropyloxycarbonylgruppe, eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine Phenylgruppe und dergleichen ein.
X stellt ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom oder -N(R¹²)- dar, und Beispiele für R¹² schließen eine Alkylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, ein.
In der der allgemeinen Formel (2) stellt R⁴ bis R⁸ jeweils unabhängig eine einwertige organische Gruppe dar. Beispiele für R⁴ bis R⁸ schließen ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Aminogruppe, eine Dialkylaminogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Sulfogruppe, eine Nitrogruppe, eine Cyanogruppe, eine Alkylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Arylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Alkoxygruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Aryloxygruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Alkylaminogruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Arylaminogruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Alkylsulfonylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, und eine Arylsulfonylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, ein. von diesen sind ein Wasserstoffatom, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Alkylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, und eine Arylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, bevorzugt. Beispiele für den Substituenten, der eingeführt werden kann, schließen diejenigen ein, die als Beispiele in der allgemeinen Formel (1) angegeben sind. Y stellt ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom oder -N(R¹²)- dar, und Beispiele für R¹² schließen diejenigen ein, die als Beispiele in der allgemeinen Formel (1) angegeben wurden.
In der allgemeinen Formel (3) stellt R⁹ bis R¹¹ jeweils unabhängig eine einwertige organische Gruppe dar. Beispiele für die organische Gruppe schließen solche wie ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Aminogruppe, eine Dialkylaminogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Sulfogruppe, eine Nitrogruppe, eine Cyanogruppe, eine Alkylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Arylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Alkoxygruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Aryloxygruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Alkylaminogruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Arylaminogruppe, die einen Substituenten besitzen kann, eine Alkylsulfonylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, und eine Arylsulfonylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, ein. von diesen sind ein Wasserstoffatom, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Alkylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, und eine Arylgruppe, die einen Substituenten besitzen kann, bevorzugt.
Beispiele für den Substituenten schließen diejenigen ein, die als Beispiele in der allgemeinen Formel (1) angegeben wurden.
Z stellt ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -NR¹²)- oder eine Phenylengruppe dar. Beispiele für R¹² schließen diejenigen ein, die als Beispiele in der allgemeinen Formel (1) angegeben wurden).
Beispiele für die Polymergerüststruktur des bestimmten alkalilöslichen Harzes (A), das eine wesentliche Komponente des erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterials vom Wärmemodustyp ist, schließen ein Poly(meth)acrylatharz, ein Polyurethanharz, ein Acetal modifiziertes Polyvinylalkoholharz und ein Polyimidharz ein, und von diesen ist ein Poly(meth)acrylatharz bevorzugt.
Die Seitenkettengruppen der allgemeinen Formeln (1) bis (3) sind vorzugsweise an die Polymerhauptkette durch eine lineare oder verzweigte Alkylengruppe gebunden.
Die Verbindung mit der Gruppe der allgemeinen Formel (1), die als ein Beispiel für das bestimmte alkalilösliche Harz (A) verwendet wird, das eine wesentliche Komponente des erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterials vom Wärmemodustyp ist, kann durch mindestens eines der folgenden Syntheseverfahren (1) und 2) hergestellt werden.
Syntheseverfahren (1)
Eines oder mehrere Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung der folgenden allgemeinen Formel (6) wird zur Erzeugung einer Polymerverbindung polymerisiert, und dann wird das Proton zur Freisetzung von Z unter Verwendung einer Base abgezogen, um so die gewünschte Polymerverbindung zu erhalten.
worin Z eine anionische Freisetzungsgruppe darstellt; Q ein Sauerstoffatom -NH- oder -NR²⁸- (worin R²⁸ eine Alkylgruppe darstellt, die einen Substituenten besitzen kann) darstellt; R²⁷ ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe darstellt, die einen Substituenten besitzen kann, wobei ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe, eine Methylalkoxygruppe und eine Methylestergruppe von diesen bevorzugt ist; und A eine zweiwertige organische Verbindungsgruppe darstellt.
Syntheseverfahren (2)
Eine oder mehrere Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer funktionalen Gruppe wird zur Synthese einer Gerüstpolymerverbindung (Polymerverbindung, die die Hauptkette zusammensetzt) polymerisiert, und dann werden die funktionale Seitenkettengruppe der Gerüstpolymerverbindung und eine Verbindung mit der Struktur der allgemeinen Formel (7) umgesetzt, um so die gewünschte Polymerverbindung zu erhalten.
Beispiele für die radikalisch polymerisierbare Verbindung der allgemeinen Formel (6) schließen die folgenden Verbindungen ein, aber sind nicht hierauf begrenzt.
Die radikalisch polymerisierbare Verbindung der allgemeinen Formel (6) ist als ein kommerzielles Produkt verfügbar oder kann durch ein in den nachstehenden Synthesebeispielen gezeigtes Syntheseverfahren hergestellt werden.
Eines oder mehrere Arten der radikalisch polymerisierbaren Verbindung und gemäß Bedarf eine andere radikalisch polymerisierbare Verbindung werden durch das allgemeine radikalische Polymerisationsverfahren zum Erhalt einer Polymerverbindung polymerisiert, und dann kann die Gruppe der allgemeinen Formel (1) darin auf folgende Weise eingeführt werden. Eine gewünschte Menge einer Base wird tropfenweise zu einer Lösung der Polymerverbindung unter Abkühlungs- oder Erhitzungsbedingungen gegeben, und dann, je nach Bedarf, mit einer Säure neutralisiert. Die Herstellung der Polymerverbindung kann durch ein bekanntes Verfahren, wie etwa ein Suspensionspolymerisationsverfahren oder ein Lösungspolymerisationsverfahren, durchgeführt werden.
Beispiele für die Base schließen sowohl eine anorganische Verbindung als auch ein organische Verbindung ein. Bevorzugte Beispiele für die anorganische Base schließen Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumcarbonat und Kaliumbicarbonat ein. Beispiele für die organische Base schließen ein Metallalkoxid, wie etwa Natriummethoxid, Natriummethoxid und Kalimum-t-butoxid, und eine organische Aminverbindung, wie etwa Triethylamin, Pyridin, Diisopropylethylamin, ein.
Beispiele für die funktionale Gruppe der radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer funktionalen Gruppe, die bei der Synthese der Gerüstpolymerverbindung in dem Syntheseverfahren (2) verwendet wird, schließen eine Hydroxylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Carbonsäurehalidgruppe, eine Carbonsäureanhydridgruppe, eine Aminogruppe, eine halogenierte Alkylgruppe, eine Isocyanatgruppe, eine Epoxidgruppe und dergleichen ein. Beispiele für die radikalisch polymerisierbare Verbindung mit diesen funktionalen Gruppen schließen 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethyacrylat, 4-Hydroxybutylacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, Acrylsäure, Methacrylsäure, Acrylchlorid, Methacrylsäurechlorid, Methacrylsäureanhydrid, N,N-Dimethyl-2-aminoethylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, 2-Ethylisocyanatmethacrylat, Glycidylacrylat, Glycidylmethacrylat und dergleichen ein.
Eine oder mehrere Arten dieser radikalisch polymerisierbaren Verbindungen werden polymerisiert, und je nach Bedarf, wird eine andere radikalisch polymerisierbare Verbindung copolymerisiert, so die Gerüstpolymerverbindung zu erzeugen. Danach wird die Gerüstpolymerverbindung mit der Verbindung mit der Gruppe der allgemeinen Formel (13) zum Erhalt der gewünschten Polymerverbindung umgesetzt.
Beispiele für die Verbindung mit der Gruppe der allgemeinen Formel (13) schließen diejenigen ein, die als Beispiele in der radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer funktionalen Gruppe angegeben sind.
Die Verbindung mit der Gruppe mit der allgemeinen Formel (2) kann durch mindestens eine der folgenden Syntheseverfahren (3) und (4) hergestellt werden.
Syntheseverfahren (3)
Eine oder mehrere Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer ungesättigten Gruppe der allgemeinen Formel (2) und einer ethylenisch ungesättigten Gruppe mit einer höheren Additionspolymerisierbarkeit als die ungesättigte Gruppe und, je nach Bedarf eine andere radikalisch polymerisierbare Verbindung werden zum Erhalt einer Polymerverbindung polymerisiert. Dieses Verfahren verwendet z. B. eine Verbindung mit mehreren ethylenisch ungesättigten Gruppen mit unterschiedlichen Graden von Additionspolymerisierbarkeit in einem Molekül, wie etwa Allylmethacrylat.
Syntheseverfahren (4)
Eine der mehrere Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer funktionalen Gruppe wird zur Erzeugung einer Polymerverbindung polymerisiert, und dann wird die funktionale Seitenkettengruppe mit einer Verbindung umgesetzt, die eine Struktur der allgemeinen Formel (8) besitzt, um so die Gruppe der allgemeinen Formel (2) einzuführen.
Beispiele für radikalisch polymerisierbare Verbindung mit der ungesättigten Gruppe der allgemeinen Formel (2) und einer ethylenisch ungesättigten Gruppe mit höherer Additionspolymerisierbarkeit als die ungesättigte Gruppe schließen Allylacrylat, Allylmethacrylat, 2-Alloxyethylacrylat, 2-Allyoxyethylmethacrylat, Propargylacrylat, Propargylmethacrylat, N-Allylacrylat, N-Allylmethacrylat, N,N-Diallylacrylat, N,N-Diallylmethacrylat, Allylacrylamid, Allylmethacrylamid und dergleichen ein.
Beispiele für die Polymerverbindung, die durch Polymerisieren einer oder mehrerer Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer funktionalen Gruppe erhalten wurde, schließen diejenigen ein, die als Beispiele in dem Syntheseverfahren (2) angegeben wurden.
Beispiele für die Verbindung mit einer Struktur der allgemeinen Formel (8) schlissen Allylalkohol, Allylamin, Diallylamin, 2-Allyoxyethylalkohol, 2-Chlor-1-buten, Allylisocyanat und dergleichen ein.
Die Verbindung mit der Gruppe der allgemeinen Formel (3) kann durch mindestens eines der folgenden Syntheseverfahren (5) und (6) hergestellt werden.
Syntheseverfahren (5)
Eine oder mehrere Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer ungesättigten Gruppe der allgemeinen Formel (3) und einer ethylenisch ungesättigten Gruppe mit einer höheren Additionspolymerisierbarkeit als die ungesättigte Gruppe wird polymerisiert, und je nach Bedarf wird eine andere radikalisch polymerisierbare Verbindung copolymerisiert, um so eine Polymerverbindung zu erhalten.
Syntheseverfahren (6)
Eine oder mehrere Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer funktionalen Gruppe wird zur Erzeugung einer Polymerverbindung polymerisiert, und dann wird die funktionale Seitenkettengruppe mit einer Verbindung umgesetzt, die eine Struktur der folgenden allgemeinen Formel (9) besitzt, um so die Gruppe der allgemeinen Formel (3) einzuführen.
Beispiele für die radikalisch polymerisierbare Verbindung mit der ungesättigten Gruppe der allgemeinen Formel (3) und einer ethylenisch ungesättigte Gruppe mit höherer Additionspolymerisierbarkeit als die ungesättigte Gruppe schließen Vinylacrylat, Vinylmethacrylat, 2-Phenylvinylacrylat, 2-Phenylvinylmethacrylat, 1-Propenylacrylat, 1-Propenylmethacrylat, Vinylacrylamid, Vinylmethacrylamid und dergleichen ein.
Beispiele für die Polymerverbindung, die durch Polymerisieren einer oder mehrerer Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer funktionalen Gruppe erhalten wurde, schließen diejenigen ein, die als Beispiele in dem Syntheseverfahren (2) angegeben wurden.
Beispiele für die Verbindung mit einer Struktur der allgemeinen Formel (9) schließen 2-Hydroxyethylmonovinylether, 4-Hydroxybutylmonovinylether, Diethylenglycolmonovinylether, 4-Chlormethylstyrol und dergleichen ein.
Repräsentative Synthesebeispiele und (A) spezifische Polymerverbindungen des erfindungsgemäßen bestimmten alkalilöslichen Harzes werden nachstehend beschrieben, aber die Erfindung ist nicht hierauf begrenzt.
Synthese der radikalisch polymerisierbaren Verbindung
(1) Synthese der Verbindung (M-1)
Eine Lösung, die 133 g 2-Hydroxyethylmethacrylat in 520 ml THF enthielt, wurde in einem 1000 ml Dreihalskolben hergestellt und auf 0°C abgekühlt. 130 g 3-Chlorpropionsäurechlorid wurde tropfenweise dazugegeben, während über eine Stunde gerührt wurde, und die Temperatur der Mischung wurde allmählich auf Raumtemperatur erhöht. Nach dem Rühren bei Raumtemperatur für 12 Stunden wurde die Reaktionsmischung in 1 l Eiswasser geschüttet. Nach dem Rühren für eine Stunde wurde die Reaktionsmischung dreimal mit 2 l Ethylacetat extrahiert, und die resultierende organische Schicht wurde mit Wasser, einer gesättigten wässrigen Natriumbicarbonatlösung und einer gesättigten Salinelösung in dieser Reihenfolge gewaschen und dann über Magnesiumsulfat getrocknet. Nach Filtration wurde das Lösungsmittel unter reduziertem Druck durch einen Rotationsverdampfer abgezogen. Das resultierende Restmaterial wurde durch Kieselgelsäulenchromatographie (Elutionslösungsmittel: Hexan/Ethylacetat) gereinigt, um 180 g der Verbindung (M-1) zu erhalten. Die Struktur der Verbindung (M-1) wurde durch NMR-Massenspektroskopie und IR-Spektroskopie überprüft.
(2) Synthese der Verbindung (M-5)
Die Verbindung (M-5) wurde auf die gleiche Weise wie bei der Synthese der Verbindung (M-1) synthetisiert, bis darauf, dass 4-Hydroxybutylmethacrylat anstelle von 2-Hydroxyethylmethacrylat verwendet wurde.
(3) Synthese der Verbindung (M-8)
Eine Lösung, die 49 g Ethanolamin in 500 ml THF enthielt, wurde in einen 1000 ml Dreihalskolben hergestellt und auf 0°C abgekühlt. 51 g 3-Chlorpropionsäurechlorid wurde tropfenweise wurde tropfenweise hinzugegeben, während über eine Stunde gerührt wurde, und die Temperatur der Mischung wurde allmählich auf Raumtemperatur erhöht. Nach dem Rühren bei Raumtemperatur für 12 Stunden wurde die Mischung filtriert, und das Lösungsmittel wurde unter reduziertem Druck abdestilliert. 10 g der resultierenden Restmaterie wurde in 100 ml Dreihalskolben geschüttelt und mit 50 ml THF aufgelöst und dann auf 0°C abgekühlt. 7 g Methacrylsäurechlorid wurde tropfenweise unter Rühren über 30 Minuten zugegeben und die Temperatur der Mischung wurde allmählich auf Raumtemperatur erhöht. Nach dem Rühren bei Raumtemperatur für 12 Stunden wurde die Reaktionsmischung in 300 ml Eiswasser geschüttet. Nach dem Rühren für eine Stunde wurde die Mischung dreimal mit 1 l Ethylacetat extrahiert, und die resultierende organische Schicht wurde mit Wasser, einer gesättigten wässrigen Natriumbicarbonatlösung und einer gesättigten Salinelösung in dieser Reihenfolge gewaschen und dann über Magnesiumsulfat getrocknet. Nach Filtration wurde das Lösungsmittel unter reduziertem Druck durch einen Rotationsverdampfer abgezogen. Die resultierende Restmaterie wurde durch Kieselgelsäulenchromatographie (Elutionslösungsmittel: Hexan/Ethylacetat) gereinigt, und so 8 g der Verbindung (M-8) erhalten. Die Struktur der Verbindung (M-8) wurde durch NMR-Massenspektroskopie und IR-Spektroskopie überprüft.
(4) Synthese der Verbindung (M-9)
Die Verbindung (M-9) wurde auf die gleiche Weise wie bei de Synthese der Verbindung (M-8) synthetisiert, bis darauf, dass 4-Hydroxy-1-butylamin anstelle von Ethanolamin verwendet wurde.
Synthese der Polymerverbindung
Synthesebeispiele für die Polymerverbindungen (1) bis (23), die in den folgenden Tabellen 1 bis 5 gezeigt werden, werden nachstehend beschrieben.
Synthesebeispiel 1 (Synthese von Polymerverbindung (1))
80 ml 1-Methoxy-2-propanol wurde in einen 500 ml Dreihalskolben gefüllt, der mit einer Kondensiervorrichtung und einer Rührvorrichtung ausgestattet war und auf 70°C erhitzt. Unter einem Stickstoffstrom wurde eine Lösung 53,0 g der Verbindung (M-1), 5,2 g Methacrylsäure und 0,746 g V-65 (hergestellt von Vako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 80 ml 1-Methoxy-2-propanol tropfenweise über 2,5 Stunden gegeben. Die Mischung wurde ferner bei 70°C zwei Stunden umgesetzt. Nachdem die Reaktionsmischung mit 100 ml 1-Methoxy-2-propanol verdünnt wurde und auf 0°C abgekühlt wurde, wurde 33,4 g Triethylamin tropfenweise unter Rühren zugegeben, und die Mischung wurde 12 Stunden umgesetzt, wobei die Temperatur allmählich auf Raumtemperatur erhöht wurde. Nach dem Abkühlen der Reaktionsmischung auf 0°C wurde 5 M HCl tropfenweise zu der Reaktionsmischung unter Rühren gegeben, bis der pH-Wert der Reaktionsmischung 6 oder weniger erreichte. Die Reaktionsmischung wurde in 3 l Wasser geschüttet, um ein Polymer abzuscheiden. Das Polymer wurde filtriert, gewaschen und getrocknet, um Polymerverbindung (1) zu erhalten. Es wurde durch NMR-Spektrum bestätigt, dass alle Gruppen, die von der Verbindung (M-1) abgeleitet waren, in Acrylgruppen umgewandelt wurden. Das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht der resultierenden Polymerverbindung wurde durch Gelpermeationschromatographie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als ein Standard gemessen, und mit 80000 festgestellt.
Synthesebeispiel 2 (Synthese von Polymerverbindung (2))
90 ml Methylethylketon wurde in einen 500 ml Dreihalskolben, der mit einem Rückflusskühler und einer Rührvorrichtung ausgestattet war, gefüllt und auf 70°C erhitzt. Unter Stickstoffstrom wurde eine Lösung aus 15,6 g 2-Hydroxyethylmethacrylat 5,2 g Methacrylsäure, 12,0 g Methylmethacrylat und 0,775 g V-65 (hergestellt von Vako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 90 ml Methylethylketon tropfenweise über 2,5 Stunden gegeben. Die Mischung wurde weiter bei 70°C für zwei Stunden umgesetzt. Nach Abkühlung der Reaktionsmischung auf 0°C wurden 10,9 g Acrylsäurechlorid tropfenweise unter Rühren zugegeben, und die Mischung wurde 12 Stunden umgesetzt, wobei die Temperatur allmählich auf Raumtemperatur erhöht wurde. Die Reaktionsmischung wurde in 3 l Wasser zur Abscheidung eines Polymers gefüllt. Das Polymer wurde abfiltriert, gewaschen und getrocknet, um die Polymerverbindung (2) zu erhalten. Es wurde durch NMR-Spektrum bestätigt, dass die Acrylgruppen auf die Seitenkette durch eine Polymerreaktion eingeführt wurden. Das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht der resultierenden Polymerverbindung wurde durch Gelpermeationschromatographie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als ein Standard gemessen, und mit 78000 festgestellt.
Synthesebeispiel 3 (Synthese von Polymerverbindung (3))
200 ml 1-Methoxy-2-propanol wurde in einen 1000 ml Dreihalskolben, der mit einer Kondensiervorrichtung und einer Rührvorrichtung ausgestattet war, gefüllt und auf 70°C erhitzt. Unter einem Stickstoffstrom wurde eine Lösung aus 40,9 g 2-Allyloxyethylmethacrylat, 5,2 g Methacrylsäure und 0,746 g V-65 (hergestellt von Vako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 200 ml 1-Methoxy-2-propanol tropfenweise über 2,5 Stunden hinzugegeben. Die Mischung wurde weiter bei 70°C für zwei Stunden umgesetzt. Die Reaktionsmischung wurde abfiltriert, gewaschen und getrocknet, um die Polymerverbindung (3) zu erhalten. Das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht der resultierenden Polymerverbindung wurde durch Gelpermeationschromatographie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als ein Standard gemessen, und mit 110000 festgestellt.
Synthesebeispiel 4 (Synthese von Polymerverbindung (4))
80 ml Methylethylketon wurde in einen 500 ml Dreihalskolben, der mit einer Kondensiervorrichtung und einer Rührvorrichtung ausgestattet war, gefüllt und wurde auf 70°C erhitzt. Unter einem Stickstoffstrom wurde eine Lösung aus 12,5 g Methacrylsäurechlorid, 5,2 g Methacrylsäure, 12,0 g Methylmethacrylat und 0,700 g V-65 (hergestellt von Vako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 80 ml Methylethylketon tropfenweise über 2,5 Stunden hinzugeben. Die Mischung wurde weiter bei 70°C für zwei Stunden umgesetzt. Nachdem der Reaktionsmischung auf 0°C abgekühlt war wurden 12,5 g 2-Allyloxyethylalkohol tropfenweise unter Rühren zugegeben, und die Mischung wurde 12 Stunden umgesetzt, wobei die Temperatur allmählich auf Raumtemperatur erhöht wurde. Die Reaktionsmischung wurde in 3 l Wasser zur Abscheidung eines Polymers gefüllt. Das Polymer wurde abfiltriert, gewaschen und getrocknet, um die Polymerverbindung (4) zu erhalten. Es wurde durch NMR-Spektrum bestätigt, dass Allylgruppen durch eine Polymerreaktion in die Seitenkette eingeführt wurden. Das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht der resultierenden Polymerverbindung wurde durch Gelpermeationschromatographie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als ein Standard gemessen, und mit 95000 festgestellt.
Synthesebeispiel 5 (Synthese von Polymerverbindung (5))
150 ml 1-Methoxy-2-propanol wurde in einen 500 ml Dreihalskolben gefüllt, der mit einer Kondensiervorrichtung und einer Rührvorrichtung ausgestattet war, und wurden auf 70°C erhitzt. Unter einem Stickstoffstrom wurde eine Lösung aus 26,7 g 26,9 Vinylmethacrylat, 5,2 g Methacrylsäure und 0,780 g V-65 (hergestellt von Vako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 150 ml 1-Methoxy-2-propanol tropfenweise über 2,5 Stunden hinzugegeben. Die Mischung wurde weiter bei 70°C für zwei Stunden umgesetzt. Die Reaktionsmischung wurde abfiltriert, gewaschen und getrocknet, um die Polymerverbindung (5) zu erhalten. Das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht der resultierenden Polymerverbindung wurde durch Gelpermeationschromatographie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als ein Standard gemessen, und mit 120000 festgestellt.
Synthesebeispiel 6 (Synthese von Polymerverbindung (6))
100 ml Methylethylketon wurden in einen 500 ml Dreihalskolben, der mit einer Kondensiervorrichtung und einer Rührvorrichtung ausgestattet war, gefüllt und auf 70°C erhitzt. Unter einem Stickstoffstrom wurde eine Lösung aus 12,5 g Methacrylsäurechlorid, 5,2 g Methacrylsäure, 12,0 g Methylmethacrylat und 0,700 g V-65 (hergestellt von Vako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 100 ml Methylethylketon tropfenweise über 2,5 Stunden hinzugeben. Die Mischung wurde weiter bei 70°C für zwei Stunden umgesetzt. Nachdem der Reaktionsmischung auf 0°C abgekühlt war wurden 11,0 g 2-Hydroxyethylmonovinylether tropfenweise unter Rühren zugegeben, und die Mischung wurde 12 Stunden umgesetzt, wobei die Temperatur allmählich auf Raumtemperatur erhöht wurde. Die Reaktionsmischung wurde in 3 l Wasser zur Abscheidung eines Polymers gefüllt. Das Polymer wurde abfiltriert, gewaschen und getrocknet, um die Polymerverbindung (6) zu erhalten. Es wurde durch NMR-Spektrum bestätigt, dass Vinylgruppen durch eine Polymerreaktion in die Seitenkette eingeführt wurden. Das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht der resultierenden Polymerverbindung wurde durch Gelpermeationschromatographie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als ein Standard gemessen, und mit 95000 festgestellt.
Synthesebeispiele 7 bis 23
Die folgenden Polymerverbindungen (7) bis (23) wurden auf die gleiche Weise wie bei der Synthese von Synthesebeispielen 1 bis 6 synthetisiert, bis darauf, dass die Spezies des geladenen Monomers und die Zusammensetzungsverhältnisse geändert wurden. Die Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewichte der Polymerverbindungen wurden auf die gleiche Weise wie in Synthesebeispielen 1 bis 6 gemessen.
Die bestimmten alkalilöslichen Harze (A), die in dem vorstehenden Syntheseverfahren erhalten wurden, werden in den folgenden Tabellen 1 bis 5 hinsichtlich der Strukturen der Zusammensetzungseinheiten und der Polymerisationsverhältnisse bezogen auf Mol zusammen mit den gemessenen Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewichten (Polymerverbindungen (1) bis (23)) gezeigt.
In einer anderen bevorzugten Ausführungsform wird das erfindungsgemäße bestimmte alkalilösliche Harz durch Copolymerisieren einer anderen radikalisch polymerisierbaren Verbindung zusätzlich zu der vorstehenden radikalisch polymerisierbaren Verbindung erzeugt, um verschiedene Leistungen, wie etwa die Bildfestigkeit zu verbessern, solange wie der erfindungsgemäße Effekt nicht verschlechtert wird.
Beispiele für die radikalisch polymerisierbare Verbindung, die in dem bestimmten erfindungsgemäßen alkalilöslichen Harz copolymerisiert werden kann, schließen radikalisch polymerisierbare Verbindung ein, die aus einem Acrylat, einem Methacrylat, einem N,N-disubstituierten Acrylamid, einem N,N-disubstituierten Methacrylamid, einem Styrol, einem Acrylnitril, einem Methacrylnitril und der dergleichen ausgewählt sind.
Spezifische Beispiele hierfür schließen ein Acrylat, wie etwa ein Alkylacrylat (dessen Alkylgruppe vorzugsweise 1 bis 20 Kohlenstoffatome besitzt) (wie etwa Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Ethylhexylacrylat, Octylacrylat, t-Octylacrylat, Chorethylacrylat, 2,2-Dimethylhydroxypropylacrylat, 5-Hydroxypentylacrylat, Trimethylolpropanmonoacrylat, Pentaerythritolmonoacrylat, Glycidylacrylat, Benzylacrylat, Methoxybenzylacrylat, Furfurylacrylat und Tetrahydrofurfurylacrylat), und ein Arylacrylat (wie etwa Phenylacrylat); ein Methacrylat, wie etwa ein Methylacrylat (dessen Alkylgruppe vorzugsweise 1 bis 20 Kohlenstoffatome besitzt (wie etwa Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Isopropylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, Chlorbenzylmethacrylat, Octylmethacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, 5-Hydroxypentylmethacrylat, 2,2-Dimethyl-3-hydroxypropylmethacrylat, Trimethylolpropanmonomethacrylat, Pentaerythritolmonomethacrylat, Glycidylmethacrylat, Furfurylmethacrylat und Tetrahydrofurfurylmethacrylat), und ein Arylmethacrylat (wie etwa Phenylmethacrylat, Cresylmethacrylat und Naphthylmethacrylat); ein Styrol, wie etwa Styrol, ein Alkylstyrol (wie etwa Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Ethylstyrol, Diethylstyrol, Isopropylstyrol, Butylstyrol, Hexylstyrol, Cyclohexylstyrol, Decylstyrol, Benzylstyrol, Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol und Acetoxymethylstyrol), ein Alkoxystyrol (wie etwa Methoxystyrol, 4-Methoxy-3-methylstyrol und Dimethoxystyrol), und ein halogeniertes Styrol (wie etwa Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Trichlorstyrol, Tetrachlorstyrol, Pentachlorstyrol, Bromstyrol, Dibromstyrol, Iodstyrol, Fluorstyrol, Trifluorstyrol, 2-Brom-4Trifluormethylstyrol, 2-Brom-4-trifluormethylstyrol und 4-Fluor-3-trifluormethylstyrol), Acrylnitril; und Methacrylnitril ein.
Von diesen radikalisch polymerisierbaren Verbindungen werden ein Acrylat, ein Methacrylat und ein Styrol vorzugsweise verwendet.
Diese radikalisch polymerisierbaren Verbindungen können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden, und der bevorzugte Gehalt der copolymerisierbaren Komponenten beträgt 0 bis 95 mol% und weiter bevorzugt 20 bis 90 mol%.
In dem erfindungsgemäßen bestimmten alkalilöslichen Harz (A) kann eine radikalisch polymerisierbare Verbindung mit einer Säuregruppe copolymerisiert werden, um verschiedene Leistungen, wie etwa die Entfernungsfunktion des Nicht-Bildteils, zu verbessern. Beispiele für die Säuregruppe, die in der radikalisch copolymerisierbaren Verbindung enthalten ist, schließen eine Carbonsäuregruppe, eine Sulfonsäuregruppe und eine Phosphorsäuregruppe ein, und eine Carbonsäuregruppe ist insbesondere bevorzugt. Beispiele für die radikalisch polymerisierbare Verbindung mit einer Carbonsäuregruppe schließen Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Incrotonsäure, Maleinsäure und p-Carboxylstyrol ein, und Acrylsäure, Methacrylsäure und p-Carboxylstyrol sind insbesondere bevorzugt.
Diese radikalisch polymerisierbaren Verbindungen können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden, und der bevorzugte Gehalt der copolymerisierbaren Komponenten beträgt von 0,5 bis 2,0 meq/g, und insbesondere bevorzugt von 0,8 bis 1,6 meq/g hinsichtlich des Säurewertes.
Das erfindungsgemäße bestimmte alkalilösliche Harz kann entweder ein Homopolymer oder Copolymere einer Kombination von verschiedenen radikalisch polymerisierbaren Verbindungen mit Gruppen der allgemeinen Formeln (1) bis (3) sein, oder eine Kombination von mindestens den radikalisch polymerisierbaren Verbindungen mit Gruppen der allgemeinen Formeln (1) bis (3) und anderen radikalisch polymerisierbaren Verbindungen, die vorstehend beschrieben wurden. Die Struktur des Copolymers kann entweder ein Blockcopolymer, ein statistisches Copolymer oder ein Pfropfcopolymer sein.
Beispiele für ein bei der Synthese der Polymerverbindung verwendetes Lösungsmittel schließen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Propanol, Butanol, Ethylenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Dimethylsulfoxid, Toluol, Ethylacetat, Methyllactat und Ethyllactat ein.
Diese Lösungsmittel können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden.
Die erfindungsgemäße Polymerkomponente (Komponente (A)) besitzt vorzugsweise ein Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht von 30 000 oder mehr, und weiter bevorzugt in dem Bereich von 80 000 bis 180 000.
Das bestimmte alkalilösliche Harz (A) kann ein Monomer enthalten, das nicht umgesetzt werden soll. In diesem Fall beträgt das Verhältnis des Monomers, das nicht umgesetzt werden soll, 15 Gew.-% oder weniger, basierend auf der Polymerverbindung.
Der Gehalt des bestimmten alkalilöslichen Harzes (A) in dem erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterial beträgt im Allgemeinen ungefähr 5 bis 95 Gew.-%, und vorzugsweise ungefähr 10 bis 85 Gew.-%. In dem Fall, dass der Gehalt weniger als 5 Gew.-% beträgt, kann die Festigkeit des Bildteils bei der Bilderzeugung unzureichend sein. In dem Fall, dass der Gehalt 95 Gew.-% übersteigt, wird kein Bild erzeugt werden.
(C) Oniumsalzverbindung
Die Oniumsalzverbindung, die Radikale durch Belichtung im Wärmemodus durch Licht erzeugt, das durch das photothermische Umwandlungsmittel (B) absorbiert werden kann, wird nachstehend beschrieben.
Die Oniumsalzverbindung, die Radikale durch Belichtung im Wärmemodus erzeugt (nachstehend manchmal als ein radikalischer Initiator bezeichnet), wird in Kombination des photothermischen Umwandlungsmittels (B) verwendet und erzeugt Radikale durch Energie von Licht, das durch das photothermische Umwandlungsmittel absorbiert werden kann, z. B. durch Energie von Licht, wärme oder sowohl bei Bestrahlung mit IR-Laser, um so eine Polymerisation des bestimmten alkalilöslichen Harzes (A) mit einer polymerisierbaren funktionalen Gruppe und, je nach Bedarf, einer anderen radikalisch polymerisierbaren Verbindung (D) zu initiieren und zu beschleunigen. Der Ausdruck "Belichtung im Wärmemodus", der hierbei verwendet wird, stimmt mit der vorstehenden Definition in der Erfindung überein.
Der radikalische Initiator kann aus bekannten Photopolymerisationsinitiatoren und thermischen Polymerisationsinitiatoren ausgewählt werden und verwendet werden, aber eine Oniumsalzverbindung wird erfindungsgemäß ausgewählt und verwendet, da sie eine hohe Empfindlichkeit besitzt.
Das Oniumsalz, das vorzugsweise als de radikalische Initiator erfindungsgemäß verwendet wird, wird nachstehend beschrieben. Bevorzugte Beispiele des Oniumsalzes schließen ein Iodoniumsalz, ein Diazoniumsalz und ein Sulfoniumsalz ein. Erfindungsgemäß fungieren diese Oniumsalze als ein Initiator zur radikalischen Polymerisation eher als ein Säuregenerator. Bevorzugte Beispiele für das Oniumsalz, das vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet wird, schließen Oniumsalze der folgenden allgemeinen Formeln (10) bis (12) ein.
In den allgemeinen Formel (10) stellt Ar¹¹ und Ar¹² jeweils unabhängig eine Arylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die einen Substituenten besitzen können. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten, der in der Arylgruppe enthalten ist, schließen ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen und eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen ein. Z^11- stellt ein Gegenion dar, das aus einem Halidion, einem Perchloration, einem Tetrafluorboration, einem Hexafluorphosphation und einem Sulfonation ausgewählt ist, und vorzugsweise ein Perchloration, ein Hexafluorphosphation und ein Arylsulfonation dar.
In der allgemeinen Formel (11) stellt Ar²¹ eine Arylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die einen Substituenten besitzen können. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten schließen ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Dialkylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Arylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen und eine Diarylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen ein. Z^21- stellt das gleiche Gegenion wie Z^11- dar.
In der allgemeinen Formel (12) können R³¹, R³² und R³³ gleich oder voneinander verschieden sein und jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen darstellen, die einen Substituenten besitzen können. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten schließen ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen und eine Arylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen ein. Z^31- stellt das gleiche Gegenion wie Z^11- dar.
Spezifische Beispiele für ein Oniumsalz, das vorzugsweise erfindungsgemäß als ein radikalischer Initiator verwendet werden kann, schließen diejenigen ein, die in den Absätzen Nr. (0030) bis (0033) in der japanischen Patentanmeldung Nr. 11-310623 beschrieben wurden.
Darüber hinaus können bekannte Polymerisationsinitiatoren, wie etwa die Oniumsalze der allgemeinen Fromeln (I) bis (IV), die in Absätzen Nr. (0012) bis (0050) in JP-A-9-34110 beschrieben wurden und die thermischen Polymerisationsinitiatoren, die in dem Absatz Nr. (0016) in JP-A-8-108621 beschrieben wurden, auch vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet werden.
Der radikalische Initiator, der erfindungsgemäß verwendet wird, besitzt vorzugsweise eine maximale Absorptionswellenlänge von 400 nm oder weniger, und weiter bevorzugt von 360 nm oder weniger. Wenn der radikalische Initiator so eine Absorptionswellenlänge in dem UV-Bereich besitzt, kann das Bildaufzeichnungsmaterial unter weißem Licht gehandhabt werden.
Beispiele für die Polymerskelettstruktur des bestimmten alkalilöslichen Harzes (A), das eine wesentliche Komponente in dem erfindungsgemäßen negativen Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp ist, schließen ein Poly(meth)acrylatharz, ein Polyurethanharz, ein Acetal modifiziertes Polyvinylalkoholharz und ein Polyimidharz ein, und von diesen ist ein Poly(meth)acrylatharz bevorzugt.
Das bestimmte alkalilösliche Harz (A), das eine wesentliche Komponente des erfindungsgemäßen negativen Bildaufzeichnungsmaterials vom Wärmemodustyp ist, kann durch mindestens eine der folgenden Syntheseverfahren (1) bis (3) hergestellt werden.
(Syntheseverfahren (1)
Eine oder mehrere Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung der folgenden allgemeinen Formel (13) wird copolymerisiert, oder alternativ werden 30 mol% oder mehr einer oder mehrerer Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung der folgenden allgemeinen Formel (13) und eine andere radikalisch polymerisierbaren Verbindung, d.h. eine ohne Struktureinheit, die in der radikalisch polymerisierbaren Verbindung der allgemeinen Formel (13) enthalten ist, in einem gewöhnlichen radikalischen Polymerisationsverfahren copolymerisiert, um so einen Vorläufer der gewünschten Polymerverbindung zu synthetisieren, und dann wird das Proton zur Freisetzung von Z unter Verwendung einer Base abstrahiert, um so die gewünschte Polymerverbindung zu erhalten.
Zu dieser Zeit kann die Herstellung des Vorläufers der Polymerverbindung durch ein bekanntes Verfahren, wie etwa ein Suspensionspolymerisationsverfahren oder ein Lösungspolymerisationsverfahren, hergestellt werden. Die Struktur des Copolymers kann entweder ein Blockcopolymer, ein statistisches Copolymer oder ein Pfropfcopolymer sein.
worin Z eine anionische Freisetzungsgruppe darstellt, deren bevorzugte Beispiele ein Halogenatom und eine Sulfonatgruppe einschließen.
Beispiele für die Base schließen sowohl eine anorganische Verbindung als auch eine organische Verbindung ein. Bevorzugte Beispiele für die anorganische Base schließen Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumcarbonat und Kaliumbicarbonat ein. Beispiele für die organische Base schließen ein Metallalkoxid, wie etwa Natriummethoxid, Natriummethoxid und Kalium-t-Butoxid, und eine organische Aminverbindung, wie etwa Triethylamin, Pyridin und Diisopropylethylamin, ein.
Beispiele für die radikalisch polymerisierbare Verbindung der allgemeinen Formel (13), schließen die folgenden Verbindungen ein, aber diese ist nicht hierauf begrenzt.
Diese radikalisch polymerisierbaren Verbindungen sind als ein kommerzielles Produkt verfügbar oder können durch das Syntheseverfahren hergestellt werden, das in JP-A-2000-249569 beschrieben ist.
Syntheseverfahren (2)
Eine oder mehrere Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer funktionalen Gruppe, die detailliert nachstehend beschrieben wird, wird copolymerisiert, oder alternativ werden 30 mol% oder mehr einer oder mehrerer Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit der funktionalen Gruppe und eine andere radikalisch polymerisierbaren Verbindung, d.h. eine ohne funktionale Gruppe, in einem gewöhnlichen radikalischen Polymerisationsverfahren copolymerisiert, um so eine Gerüstpolymerverbindung zu synthetisieren, und dann werden die funktionale Seitenkettengruppe und eine Verbindung der folgenden allgemeinen Formel (14) oder (15) zum Erhalt der gewünschten Polymerverbindung umgesetzt.
Die Herstellung der Gerüstpolymerverbindung kann durch ein bekanntes Verfahren, wie etwa einem Suspensionspolymerisationsverfahren oder einem Lösungspolymerisationsverfahren, durchgeführt werden.
Die Struktur des Copolymers kann entweder ein Blockcopolymer, ein statistisches Copolymer oder ein Pfropfcopolymer sein.
Beispiele für die funktionale Gruppe der radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer funktionalen Gruppe schließen eine Hydroxylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Carbonsäurehalidgruppe, eine Carbonsäureanhydridgruppe, eine Aminogruppe, eine halogenierte Alkylgruppe, eine Isocyanatgruppe und eine Epoxidgruppe ein. Beispiele für die radikalisch polymerisierbare Verbindung mit der funktionalen Gruppe schließen 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 4-Hydroxybutylacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, Acrylsäure, Methacrylsäure, Acrylsäurechlorid, Methacrylsäurechlorid, N,N-Dimethyl-2-aminoethylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, 2-Ethylisocyanatmethacrylat, 3-Propylisocyanatmethacrylat, Glycidylacrylat, Glycidylmethacrylat, 3,4-Epoxidcyclohexylmethacrylat, 3,4-Epoxidcyclohexylmethacrylat, 2-Bromethylmethacrylat, 3-Brompropylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylamid, 4-Hydroxybutylmethacrylamid und Itaconsäure ein.
Beispiele für die Verbindung mit niedrigem Molekulargewicht, die eine Gruppe der allgemeinen Formel (14) besitzt, schließen diejenigen ein, die als Beispiele in de radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit einer funktionalen Gruppe angegeben wurden. Beispiele für die Verbindung mit niedrigem Molekulargewicht, die eine Gruppe der allgemeinen Formel (15) besitzt, schließen Ethylenglycolmonovinylether, Propylenglycolmonovinylether, Butylenglycolmonovinylether, Diethylenglycolmonovinylether, 1-Chlorethylvinylether, 1-Aminoethylvinylether, 4-Chlormethylstyrol und p-Styrolcarbonsäure ein.
Syntheseverfahren (3)
Eine oder mehrere Arten einer radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit sowohl der ungesättigten Gruppe der allgemeinen Formel (15) als auch einer ethylenisch ungesättigten Gruppe mit höherer Additionspolymerisierbarkeit als die ungesättigte Gruppe wird copolymerisiert, oder alternativ werden 30 mol% oder mehr von einer oder mehreren Arten einer radikalisch polymersierbaren Verbindung mit sowohl der ungesättigten Gruppe der allgemeinen Formel (15) und einer ethylenisch ungesättigten Gruppe mit einer höheren Additionspolymerisierbarkeit als die ungesättigte Gruppe und eine andere radikalisch polymerisierbare Verbindung, d.h. eine ohne eine solche Gruppe, in einem gewöhnlichen radikalischen Polymerisationsverfahren copolymerisiert, um so eine Polymerverbindung zu synthetisieren.
Die Herstellung der Polymerverbindung kann durch ein bekanntes Verfahren, wie etwa ein Suspensionspolymerisationsverfahren oder ein Lösungspolymerisationsverfahren, durchgeführt werden. Die Struktur des Copolymers kann entweder ein Blockcopolymer, ein statistisches Copolymer oder ein Pfropfcopolymer sein.
Beispiele für die radikalisch polymerisierbare Verbindung mit sowohl der ungesättigten Gruppe der allgemeinen Formel (15) als auch einer ethylenisch ungesättigten Gruppe mit höherer Additionspolymerisierbarkeit als die ungesättigte Gruppe schließen Vinylacetat, Vinylmethacrylat, 2-Phenylvinylacrylat, 2-Phenylvinylmethacrylat, 1-Propenylacrylat, 1-Propenylmethacrylat, Vinylacrylamid und Vinylmethacrylamid ein.
Die bestimmte alkalilösliche Gruppe kann durch Durchführen eines dieser Produktionsverfahren (Syntheseverfahren) oder durch Durchführen einer Kombination davon erhalten werden.
Andere bevorzugte erfindungsgemäße Ausführungsform ist eine, worin das bestimmte erfindungsgemäße alkalilösliche Harz erzeugt wird, indem eine andere radikalisch polymerisierbare Verbindung zur Verbesserung verschiedener Leistungen, wie etwa der Bildfestigkeit, zusätzlich zu der vorstehenden radikalisch polymerisierbaren Verbindung mit der bestimmten funktionalen Gruppe copolymerisiert wird, solange wie der erfindungsgemäße Effekt nicht verschlechtert wird.
Beispiele für die radikalisch polymerisierbare Verbindung schließen radikalisch polymerisierbare Verbindungen ein, die aus einem Acrylat, einem Methacrylat, einem N,N-disubstituierten Acrylamid, einem N,N-disubstituierten Methacrylamid, einem Styrol, einem Acrylnitril und einem Methacrylnitril ausgewählt sind.
Spezifische Verbindungen hierfür schließen ein Acrylat, wie etwa ein Alkylacrylat (dessen Alkylgruppen vorzugsweise 1 bis 20 Kohlenstoffatome besitzen) (wie etwa Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Ethylhexylacrylat, Octylacrylat, t-Octylacrylat, Chlorethylacrylat, 2,2-Dimethylhydroxypropylacrylat, 5-Hydroxypentylacrylat, Trimethylolpropanmonoacrylat, Pentaerythritolmonoacrylat, Glycidylacrylat, Benzylacrylat, Methoxybenzylacrylat, Furfurylacrylat und Tetrahydrofurfurylacrylat) und ein Arylacrylat (wie etwa Phenylacrylat); ein Acrylat mit einer ungesättigten Kohlenstoff-Kohlenstoffbindung als ein Seitenkettensubstituent (wie etwa Allylacrylat, 2-Allyloxyethylacrylat und Propargylacrylat); ein Methacrylat, wie etwa ein Alkylmethacrylat (dessen Alkylgruppe vorzugsweise 1 bis 20 Kohlenstoffatome besitzt) (wie etwa Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Isopropylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Benzylmethacrylat, Chlorbenzylmethacrylat, Octylmethacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, 5-Hydroxypentylmethacrylat, 2,2-Dimethyl-3-hydroxypropylmethacrylat, Trimethylolpropanmonomethacrylat, Pentaerythritolmonomethacrylat, Glycidylmethacrylat, Furfurylmethacrylat und Tetrahydrofurfurylmethacrylat), und ein Arylmethacrylat (wie etwa Phenylmethacrylat, Cresylmethacrylat und Naphthylmethacrylat); ein Methacrylat mit einer ungesättigten Kohlenstoff-Kohlenstoffbindung als ein Seitenkettensubstituent (wie etwa Allylmethacrylat, 2-Alyloxyethylmethacrylat und Propargylmethacrylat); ein Styrol, wie etwa Styrol, ein Alkylstyrol (wie etwa Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Ethylstyrol, Diethylstyrol, Isopropylstyrol, Butylstyrol, Hexylstyrol, Cyclohexylstyrol, Decylstyrol, Benzylstyrol, Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol und Acetoxymethylstyrol), ein Alkoxystyrol (wie etwa Methoxystyrol, 4-Methoxy-3-methylstyrol und Dimethoxystyrol), und ein halogeniertes Styrol (wie etwa Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Trichlorstyrol, Tetrachlorstyrol, Pentachlorstyrol, Bromstyrol, Dibromstyrol, Iodstyrol, Fluorstyrol, Trifluorstyrol, 2-Brom-4-trifluormethylstyrol und 4-Fluor-3-trifluormethylstyrol); Acrylnitril; und Methacrylnitril.
Von diesen radikalisch polymerisierbaren Verbindungen werden ein Acrylat, ein Methacrylat und ein Styrol vorzugsweise verwendet, und ein Acrylat mit einer ungesättigten Kohlenstoff-Kohlenstoffbindung als ein Seitenkettensubstituent (wie etwa allylacrylat, 2-Allyloxyethylacrylat und Propargylacrylat) und ein Methacrylat mit einer ungesättigten Kohlenstoff-Kohlenstoffbindung als ein Seitenkettensubstituent (wie etwa Allylmethacrylat, 2-Allyloxyethylmethacrylat und Propargylmethacrylat) werden vorzugsweise verwendet.
Diese radikalisch polymerisierbaren Verbindungen können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden, und der Gehalt der copolymerisierbaren Komponente beträgt vorzugsweise 0 bis 70 mol%. Wenn der Gehalt 70 mol% übersteigt, kann die Festigkeit des gehärteten Films unzureichend sein.
In dem erfindungsgemäßen bestimmten alkalilöslichen Harz kann eine radikalisch polymerisierbare Verbindung mit einer Säuregruppe copolymerisiert werden, um verschiedene Leistungen zu verbessern, wie etwa die Entfernungsleistung des Nicht-Bildteils. Beispiele für die Säuregruppe, die in der radikalisch copolymerisierbaren Verbindung enthalten ist, schließen eine Carbonsäuregruppe, eine Sulfonsäuregruppe und eine Phosphorsäuregruppe ein, und eine Carbonsäuregruppe ist insbesondere bevorzugt. Beispiele für die radikalisch polymerisierbare Verbindung mit einer Carbonsäuregruppe schließen Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Incrotonsäure, Maleinsäure und p-Carboxylstyrol ein, und Acrylsäure, Methacrylsäure und p-Carboxylstyrol sind insbesondere bevorzugt.
Diese radikalisch polymerisierbaren Verbindungen können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden, und der Gehalt der copolymerisierbaren Komponenten beträgt vorzugsweise 0,5 bis 2,0 meq/g, und insbesondere bevorzugt 0,8 bis 1,6 meq/g hinsichtlich des Säurewertes. Wenn dieser 1,6 meq/g übersteigt, ist es wahrscheinlich, dass die Bildfestigkeit aufgrund eines alkalischen Wasserphänomens verringert wird.
Beispiele für ein bei der Synthese der Polymerverbindung verwendetes Lösungsmittel schließen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Aceton, Methanol, Ethanol, Propanol, Butanol, Ethylenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Dimethylsulfoxid, Toluol, Ethylacetat, Methyllactat und Ethyllactat ein.
Diese Lösungsmittel können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden.
Die erfindungsgemäße bestimmte alkalilösliche Verbindung (A') besitzt vorzugsweise ein Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht von 30 000 oder mehr, und weiter bevorzugt in einem Bereich von 80 000 bis 180 000. Wenn dieses weniger als 80 000 beträgt, besteht die Tendenz, dass die Festigkeit des gehärteten Films unzureichend ist, und wenn dieses 180 000 übersteigt, besteht die Tendenz, dass die Entwicklungsfunktion herabgesetzt wird.
Das bestimmte alkalilösliche Polymer (A') kann ein zur Reaktion nicht bestimmtes Monomer enthalten. In diesem Fall beträgt das Verhältnis des zur Reaktion nicht bestimmten Monomers vorzugsweise 15 Gew.-%, oder weniger, basierend auf der Polymerverbindung.
Die erfindungsgemäße Polymerverbindung kann allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren Arten davon verwendet werden. Andere Polymerverbindungen ohne eine Gruppe der allgemeinen Formel (4) oder (5) können vermischt und verwendet werden. In diesem Fall beträgt die Menge der Polymerverbindung ohne eine Gruppe der allgemeinen Formeln (4) oder (5) vorzugsweise 90 Gew.-% oder weniger, und weiter bevorzugt 70 Gew.-% oder weniger in der Polymerverbindung.
Der Gehalt des besonderen alkalilöslichen Harzes (A') in dem erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterial beträgt im Allgemeinen ungefähr 5 bis 95 Gew.-%, und vorzugsweise ungefähr 40 bis 90 Gew.-%. In dem Fall, dass der Gehalt zu gering ist, besteht eine Tendenz, dass die Festigkeit der Aufzeichnungsschicht unzureichend sein kann, und so eine niedrige Druckbeständigkeit hervorruft, und wenn dieser zu groß ist, beeinflusst er die Bilderzeugungsfunktion, wobei so eine Verschlechterung der Bildqualität möglich wird. Daher ist keiner der Fälle erwünscht.
Synthesebeispiel 24 (Synthese der Gerüstpolymerverbindung (24))
175 g 1-Methoxy-2-propanol wurde in einen 1000 ml Dreihalskolben gefüllt und auf 70°C erhitzt. Unter einem Stickstoffstrom wurde eine Lösung aus 90,4 g Methylacrylsäure, 51,3 g Ethylmethylmethacrylat und 2,88 g V-59 (hergestellt von Vako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 175 g 1-Methoxy-2-propanol tropfenweise über 2,5 Stunden hinzugegeben. Die Mischung wurde ferner bei 85°C für zwei Stunden umgesetzt. Nach Abkühlen der Reaktionsmischung auf Raumtemperatur wurde die Reaktionsmischung in 3 l Wasser zur Abscheidung eines Polymers gegeben. Das Polymer wurde abfiltriert, gewaschen und getrocknet, und so 130 g Gerüstpolymerverbindung (24) erhalten. Das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht der Gerüstpolymerverbindung wurde durch Gelpermeationschromatographie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als ein Standard gemessen, und mit 70 000 festgestellt. Der durch Titration gemessene Säurewert betrug 7,4 meq/g.
Synthesebeispiel 25 (Synthese von Polymerverbindung (24))
20 g Gerüstpolymerverbindung (24) und 1 g p-Methoxyphenol wurden in einen 1000 ml Dreihalskolben, der mit einer Kondensiervorrichtung ausgestattet war, gefüllt und in 150 g Dimethylsulfoxid aufgelöst. 22,8 g 1,8-Diazabicyclo[5.4.0]-7-undecen wurde tropfenweise unter Verwendung eines Eintropftrichters zugegeben. Nach dem Rühren für 30 Minuten bei Raumtemperatur wurden 14,8 g 3-Brompropylmethyacrylat tropfenweise hinzugegeben, gefolgt von Rühren bei 60°C für 8 Stunden. Nach dem Abkühlen auf Raumtemperatur wurde die Reaktionsmischung in 3 l Wasser zur Abscheidung eines Polymers gegeben. Das Polymer wurde abfiltriert, gewaschen und getrocknet und so 130 g Polymerverbindung (24) erhalten. Das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht der resultierenden Polymerverbindung wurde durch Gelpermeationschromatographie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als ein Standard gemessen, und mit 80 000 festgestellt. Der Säurewert, gemessen durch Titration, betrug 1,3 meq/g. Es wurde auf der Grundlage des Unterschieds des Säurewertes zwischen der Polymerverbindung (24) und der Gerüstpolymerverbindung (24) und den H NMR Werten bestätigt, dass die Polymerverbindung die in nachstehender Tabelle 6 gezeigte Struktur besaß.
Synthesebeispiel 26 (Synthese von Polymerverbindung (25))
20 g Gerüstpolymerverbindung (24) und 1 g p-Methoxyphenol wurden in einen 1000 ml Dreihalskolben gefüllt, der mit einer Kondensiervorrichtung ausgestattet war, und diese wurden in 50 g Dimethylsulfoxid aufgelöst. 22,8 g 1,8-Diazabicyclo[5.4.0]-7-undecen wurden tropfenweise unter Verwendung eines Eintropftrichters hinzugegeben. Nach dem Rühren für 30 Minuten bei Raumtemperatur wurden 11,3 g p-Chlormethylstyrol tropfenweise hinzugegeben, gefolgt von Rühren bei 60°C für 8 Stunden. Nach dem Abkühlen auf Raumtemperatur wurde die Reaktionsmischung in 3 l Wasser zur Abscheidung eines Polymers gegeben. Das Polymer wurde abfiltriert, gewaschen und getrocknet und so 120 g Polymerverbindung (25) erhalten. Das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht der resultierenden Polymerverbindung wurde durch Gelpermeationschromatographie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als ein Standard gemessen, und mit 85000 festgestellt. Durch Titration gemessener Säurewert betrug 1,3 meq/g. Aus der Differenz des Säurewertes zwischen der Polymerverbindung (25) und der Gerüstpolymerverbindung (24) und ¹H NMR Ergebnissen wurde bestätigt, dass die Polymerverbindung die in nachstehender Tabelle 6 gezeigte Struktur besaß.
Synthesebeispiel 27 (Synthese von Polymerverbindung (26))
80 ml 1-Methoxy-2-propanol wurde in einen 500 ml Dreihalskolben gefüllt, der mit einer Kondensiervorrichtung und einer Rührvorrichtung ausgestattet war und auf 70°C erhitzt. Unter einem Stickstoffstrom wurde eine Lösung 53,0 g der Verbindung (M-1), 8,6 g Methacrylsäure, 22,8 g Ethylmethacrylat und 0,746 g V-65 (hergestellt von Vako Pure Chemical Industries, Ltd.) in 80 ml 1-Methoxy-2-propanol tropfenweise über 2,5 Stunden dazugegeben. Die Mischung wurde weiter bei 70°C für zwei Stunden umgesetzt. Nachdem die Reaktionsmischung mit 100 ml 1-Methoxy-2-propanol verdünnt wurde und auf 0°C abgekühlt wurde, wurden 60,6 g Triethylamin tropfenweise unter Rühren zugegeben, und die Mischung wurde für 12 Stunden umgesetzt, wobei die Temperatur allmählich auf Raumtemperatur erhöht wurde. Nach dem Abkühlen der Reaktionsmischung auf 0°C wurden 5 M HCl tropfenweise zu der Reaktionsmischung unter Rühren gegeben, bis der pH-Wert der Reaktionsmischung 6 oder weniger erreichte. Die Reaktionsmischung wurde in 3 l Wasser geschüttet, um ein Polymer abzuscheiden. Das Polymer wurde abfiltriert, gewaschen und getrocknet, um Polymerverbindung (26) zu erhalten. Es wurde NMR-Spektrum bestätigt, dass alle aus der Verbindung (M-1) abgeleiteten Gruppen in Acrylgruppen umgewandelt wurden. Das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht der resultierenden Polymerverbindung wurde durch Gelpermeationschromatographie (GPC) unter Verwendung von Polystyrol als ein Standard gemessen, und mit 80 000 bestimmt.
Synthesebeispiele 28 bis 34
Die folgenden Polymerverbindungen (27) bis (33) wurden auf die gleiche Weise wie bei der Synthese von Synthesebeispielen 24 bis 26 synthetisiert, bis darauf, dass das Monomer und die Zusammensetzungsverhältnisse geändert wurden. Die Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewichte der Polymerverbindungen wurden auf die gleiche Weise wie in Synthesebeispielen 24 bis 26 gemessen.
Die bestimmten alkalilöslichen Harze (A), die in den vorstehenden Syntheseverfahren erhalten wurden, werden in den folgenden Tabellen 6 und 7 hinsichtlich der Strukturen der Zusammensetzungseinheiten und der Polymerisationsverhältnisse bezogen auf mol zusammen mit den gemessenen Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewichten (Polymerverbindungen (24) bis (33)) gezeigt.
(B) Photothermisches Umwandlungsmittel
Ein photothermisches Umwandlungsmittel ist dem erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterial notwendig, da es Aufzeichnen durch Belichtung im Wärmemodus durchführt, wofür repräsentative Beispiele Belichtung mit einem Laser, der einen IR-Strahl emittiert, einschließen. Das photothermische Umwandlungsmittel arbeitet derart, dass es Licht mit einer vorgeschriebenen Wellenlänge absorbiert und das Licht in Wärme umwandelt. Zu dieser Zeit wird die Komponente (C), d.h. die Verbindung, die Radikale durch Belichtung im Wärmemodus durch Licht erzeugt, das durch das photothermische Umwandlungsmittel (B) absorbiert werden kann, durch die so erzeugte Wärme zersetzt, um so Radikale zu erzeugen. Es ist ausreichend, dass das photothermische Umwandlungsmittel, das erfindungsgemäß verwendet wird, eine solche Funktion besitzt, dass absorbiertes Licht in Wärme umgewandelt wird. Im Allgemeinen schließen Beispiele hierfür Farbstoffe und Pigmente ein, die als ein so genanntes IR-Absorptionsmittel bezeichnet werden, dass das Absorptionsmaximum bei einer Wellenlänge es IR-Lasers besitzt, der zum Aufzeichnen verwendet wird, d.h. eine Wellenlänge von 760 bis 1200 nm.
Als der Farbstoff können bekannte Produkte verwendet werden, z. B. die kommerziell verfügbaren Farbstoffe und die in der Literatur beschriebenen Farbstoffe, wie etwa Senryo Binran (Dye Handbook), herausgegeben von der The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan, 1970. Spezifische Beispiele hierfür schließen ein Azofarbstoff, einen Metallkomplexazofarbstoff, einen Pyrazolonazofarbstoff, eine Naphthochinonfarbstoff, einen Antrachinonfarbstoff, einen Phthalocyaninfarbstoff, einen Carboniumfarbstoff, einen Chinoniminfarbstoff, einen Methinfarbstoff, einen Cyaninfarbstoff, einen Squaliriumfarbstoff, ein Pyryliumsalz und ein Metallthiolatkomplex ein.
Bevorzugte Beispiele für den Farbstoff schließen die Cyaninfarbstoffe, die in JP-A-58-125246, JP-A-5984356, JP-A-59-202829 und JP-A-60-78787 beschrieben sind, die Methinfarbstoffe, die in JP-A-59-173696, JP-A-58-181690 und JP-A-58-194595 beschrieben sind, die Naphthochinonfarbstoffe, die in JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940 und JP-A-60-63744 beschrieben sind, die Squaliriumfarbstoffe, die in JP-A-58-112792 beschrieben sind, und die Cyaninfarbstoffe, die in GB-PS 434 875 beschrieben sind, ein.
Die IR-absorbierenden Sensibilisierungsmittel, die in US-PS 5 156 938 beschrieben sind, werden auch vorzugsweise verwendet. Die substituierten Arylbenzo(thio)pyryliumsalze, die in US-PS 3 881 924 beschrieben sind, die Trimethinethiapyryliumsalze, die in JP-A-57-142645 (US-PS 4 327 169) beschrieben sind, die Verbindungen der Pyryliumreihe, die in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, JP-A-59-84248, JP-A-59-84249, JP-A-59-146063 und JP-A-59-146061 beschrieben sind, die Cyaninfarbstoffe, die in JP-A-59-216146 beschrieben sind, die Pentamethinthiopyryliumsalze, die in US-PS 4 283 475 beschrieben sind, und die Pyryliumverbindungen, die in JP-B-5-13514 und JP-B-5-19702 beschrieben sind, werden auch vorzugsweise verwendet.
Andere bevorzugte Beispiele für einen Farbstoff schließen die IR-absorbierenden Farbstoffe der Formeln (I) und (II) in US-PS 4 756 993 ein.
Von diesen Farbstoffen sind ein Cyaninfarbstoff, ein Squariliumfarbstoff, ein Pyryliumsalz und ein Nickelthiolatkomplex insbesondere bevorzugt. Darüber hinaus ist ein Cyaninfarbstoff und ein Cyaninfarbstoff der folgenden allgemeinen Formel (I) insbesondere bevorzugt:
In der allgemeinen Formel (I) stellt X¹ ein Halogenatom oder X²-L¹ da, worin X² ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom darstellt, und L¹ stellt eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen dar. R¹ und R² stellt jeweils unabhängig eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen dar. Vom Standpunkt der Lagerungsstabilität der Beschichtungszusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht ist es bevorzugt, dass R¹ und R² jeweils unabhängig eine Kohlenwasserstoffgruppe mit zwei oder mehr Kohlenstoffatomen darstellt, und es ist bevorzugt, dass R¹ und R² aneinander zur Erzeugung eines 5-gliedrigen Rings oder eines 6-gliedrigen Rings gebunden sind.
Ar¹ und Ar², die gleich oder verschieden sein können, stellen jeweils eine aromatische Kohlenwasserstoffgruppe dar, die einen Substituenten besitzen kann. Bevorzugte Beispiele für die aromatische Kohlenwasserstoffgruppe schließen einen Benzolring und einen Naphthalenring ein. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten schließen eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, ein Halogenatom und eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen ein. Y¹ und Y², die gleich oder verschieden sein können, stellen jeweils ein Schwefelatom oder eine Dialkylmethylengruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar. R³ und R⁴, die gleich oder verschieden sein können, stellen jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die einen Substituenten besitzen können. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten schließen eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Carboxylgruppe und eine Sulfogruppe ein. R⁵, R⁶, R⁷ und R⁸, die gleich oder verschieden sein können, stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, und bevorzugt ist ein Wasserstoffatom vom Standpunkt der Verfügbarkeit der Rohmaterialien. Z^1- stellt ein Gegenion dar. In dem Fall, dass eine Sulfogruppe auf einem von R¹ bis R⁸ substituiert ist, ist das Gegenanion, das durch Z^1- dargestellt wird, nicht notwendig. Bevorzugte Beispiele für das Gegenanion, das durch Z^1- dargestellt wird, schließen ein Halogenidion, ein Perchloration, ein Tetrafluorboration, Hexafluorphosphation und Sulfonation ein, und bevorzugt ist ein Per chloration, ein Hexafluorphosphation und ein Arylsulfonation.
Spezifische Beispiele für den Cyaninfarbstoff der allgemeinen Fromel (I), der vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet wird, schließen die in den Paragraphen Nr. (0017) bis (0019) von JP-A-11-310623 beschrieben sind, ein.
Beispiele für das Pigment, das erfindungsgemäß verwendet wird, schließen die kommerziell verfügbaren Pigmente und die in Color Index Handbook (C.I.), Saishin Ganryo Binrain (Newest Pigment Handbook) (herausgegeben von Society of Pigment Technologies, Japan, 1977), Saishin Ganryo Ouyou Gijutu (Newest Pigment Application Technologies), (herausgegeben von CMC Press, 1986 und Insatsu Ink Gijutu (Printing Ink Technologies) (herausgegeben von CMC Press, 1984) beschrieben sind.
Beispiele für die Spezies des Pigments schließen ein schwarzes Pigment, ein gelbes Pigment, ein orangenes Pigment, ein braunes Pigment, ein rotes Pigment, ein violettes Pigment, ein blaues Pigment, ein grünes Pigment, ein fluoreszierendes Pigment, ein Metallpulverpigment und ein Polymer gebundenen Farbstoff ein. Spezifische Beispiele hierfür schließen ein unlösliches Azopigment, ein Azobeizenfarbstoffpigment, ein kondensiertes Azopigment, ein Chelatazopigment, ein Phthalocyaninpigment, ein Anthrachinonpigment, Perylen und Perynonpigmente, ein Thioindigopigment, ein Chinacridonpigment, ein Dioxadinpigment, ein Isoindrinonpigment, ein Chinophthalonpigment, ein färbendes Beizenfarbstoffpigment, ein Azinpigment, ein Nitrosepigment, ein Nitropigment, ein natürliches Pigment, ein fluoreszierendes Pigment, ein anorganisches Pigment und Ruß ein. Von diesen Pigmenten ist Ruß bevorzugt.
Das Pigment kann verwendet werden, ohne einer Oberflächenbehandlung unterzogen zu werden oder kann nach Durchführung einer Oberflächenbehandlung verwendet werden. Beispiele für das Verfahren für die Oberflächenbehandlung schließen Beschichten eines Harzes oder Wachses auf die Oberfläche, Anbringen eines Tensids, und Binden einer reaktiven Substanz (wie etwa eines Silankupplungsmittels, einer Epoxidverbindung und eines Polyisocyanats) auf die Oberfläche des Pigments ein. Diese Verfahren zur Oberflächenbehandlung werden in Kinzoku Sekken no Seishitu to Ouyou (Nature and Applications of Metallic Soap) (veröffentlicht von Saiwai Shobo, Inc.), Insatsu Ink Gijutu (Printing Ink Technologies) (veröffentlicht von CMC Press, 1984), und Saishin Ganryo Ouyou Gijutu (Newest Pigment Application Technologies) (veröffentlicht von CMC Press, 1986) beschrieben.
Das Pigment besitzt vorzugsweise einen Teilchendurchmesser in einem Bereich von 0,01 bis 10 μm, weiter bevorzugt in einem Bereich von 0,05 bis 1 μm, und insbesondere bevorzugt in einem Bereich von 0,1 bis 1 μm. Ein Teilchendurchmesser des Pigments von wenige als 0,01 μm ist vom Standpunkt der Stabilität der Dispersion in der Beschichtungszusammensetzung für die lichtempfindliche Bildschicht nicht bevorzugt, und ein Teilchendurchmesser, der 10 μm übersteigt, ist vom Standpunkt der Gleichförmigkeit der lichtempfindlichen Bildschicht nicht bevorzugt.
Als das Verfahren zum Dispergieren des Pigments können bekannte Dispersionstechniken zur Herstellung von Tinten und Tonern verwendet werden. Beispiele für das Dispergiergerät schließen ein Ultraschalldispergiergerät, eine Sandmühle, eine Zerkleinerungsvorrichtung, eine Perlenmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, einen Propeller, eine Dispergiervorrichtung, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dynatron, ein Dreiwalzenmühle und eine Pressknetvorrichtung ein. Die Details hierfür werden in Saishin Ganryo Ouyou Gijutu (Newest Pigment Application Technologies) (veröffentlicht von CMC Press, 1986) beschrieben.
Das photothermische Umwandlungsmittel kann zu der gleichen Schicht als die andere Komponente zugegeben werden, oder alternativ kann eine andere Schicht bereitgestellt werden, auf welche das photothermische Umwandlungsmittel zugegeben wird. Es ist bevorzugt, dass bei Herstellung eines negativen Bildaufzeichnungsmaterials die optische Dichte der lichtempfindlichen Schicht beim Absorptionsminimum in einem Wellenlängenbereich von 760 bis 1200 nm innerhalb eines Bereichs von 0,1 bis 3,0 fällt. In dem Fall, dass die optische Dichte außerhalb dieses Bereichs liegt, besteht eine Tendenz, dass die Empfindlichkeit herabgesetzt wird. Da die optische Dichte durch die Zugabemenge des photothermischen Umwandlungsmittels und die Dicke der Aufzeichnungsschicht bestimmt wird, kann eine vorgeschriebene optische Dichte durch Einstellen dieser Parameter erhalten werden. Die optische Dichte der Aufzeichnungsschicht kann durch ein gewöhnliches Verfahren gemessen werden. Beispiele für das Messverfahren schließen ein Verfahren ein, worin eine Aufzeichnungsschicht auf einem transparenten oder weißen Träge in einer solchen Menge erzeugt wird, in geeigneter Weise der Trockenbeschichtungsmengenbereich bestimmt wird, der für eine lithographische Druckplatte benötigt wird, und die optische Dichte wird durch ein optisches Transmissionsdensitometer, und ein Verfahren, worin eine Aufzeichnungsschicht auf einem reflektierenden Träger, wie etwa Aluminium, erzeugt wird, gemessen, und die Reflexionsdichte wird gemessen.
(C) Radikalinitiator
Die Salzverbindung, die Radikale durch Belichtung im Wärmemodus mit Licht erzeugt, das durch das photothermische Umwandlungsmittel (B) absorbiert werden kann, wird nachstehend beschrieben.
Die Salzverbindung, die Radikale durch Belichtung im Wärmemodus erzeugt (nachstehend manchmal als Radikalinitiator bezeichnet) wird in Kombination mit dem photothermischen Umwandlungsmittel (B) verwendet und erzeugt Radikale durch Energie von Licht, das durch das photothermische Umwandlungsmittel absorbiert werden kann, z. B. durch Energie von Licht, Wärme oder beides bei Bestrahlung mit IR-Laser, um so die Polymerisation des bestimmten alkalilöslichen Harzes (A) und, je nach Bedarf, der anderen radikalisch polymerisierbaren Verbindung (D) zu initiieren, und zu beschleunigen. Der Ausdruck "Belichtung im Wärmemodus", der hierbei verwendet wird, geht auf die vorstehende erfindungsgemäße Definition zurück.
Der Radikalinitiator kann aus Photopolymerisationsinitiatoren und thermischen Polymerisationsinitiatoren ausgewählt werden, und ist ein Oniumsalz.
Das Oniumsalz, das als der radikalische Initiator erfindungsgemäß verwendet wird, insbesondere ein Iodoniumsalz, ein Diazoniumsalz, und ein Sulfoniumsalz, wird nachstehend beschrieben. Während das Oniumsalz als ein säurebildendes Mittel fungiert, wenn dieses in Kombination mit einer Verbindung mit radikalischer Polymerisierbarkeit wie in der Erfindung verwendet wird, fungiert es als ein Initiator der radikalischen Polymerisation. Bevorzugte Beispiele für das Oniumsalz, das erfindungsgemäß vorzugsweise verwendet wird, schließen Oniumsalze der folgenden allgemeinen Formeln (10) bis (12) ein.
In der allgemeinen Fromel (10), stellen Ar¹¹ und Ar¹² jeweils unabhängig eine Arylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die einen Substituenten besitzen können. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten, der in der Arylgruppe enthalten ist, schließen ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, einer Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen und eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen ein. Z^11- stellt ein Gegenion dar, das aus einem Halidion, einem Perchloration, einem Carboxylation, einem Tetrafluorboration, Hexafluorphosphation und Sulfonation, und vorzugsweise einem Perchloration, einem Hexafluorphosphation und einem Arylsulfonation ausgewählt ist.
In der allgemeinen Fromel (11), stellt Ar²¹ eine Arylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die einen Substituenten besitzen können. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten schließen ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Dialkylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Arylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen und eine Diarylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen ein. Z^21- stellt das gleiche Gegenion wie Z^11- dar.
In der allgemeinen Fromel (12) können R³¹, R³² und R³³ gleich oder voneinander unterschiedlich sein und jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen, die einen Substituenten besitzen können, darstellen. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten schließen ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen und eine Arylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen ein. Z^31- stellt das gleiche Gegenion wie Z^31- dar.
Spezifische Beispiele für ein Oniumsalz, das vorzugsweise erfindungsgemäß als ein Radikalinitiator verwendet wird, schließen diejenigen ein, die in Absätzen Nr. (0030) bis (0033) in JP-A-11-310623 beschrieben sind, und diejenigen, die in Absätzen Nr. (0015) bis (0046) in JP-A-2000-160323 beschrieben sind.
Das erfindungsgemäß verwendete Oniumsalz besitzt vorzugsweise eine maximale Absorptionswellenlänge von 400 nm oder weniger, und weiter bevorzugt 360 m oder weniger. Wenn das Oniumsalz so eine Absorptionswellenlänge in dem UV-Bereich besitzt, kann das Bildaufzeichnungsmaterial unter weißem Licht gehandhabt werden.
Der Radikalinitiator kann zu der Beschichtungszusammensetzung für die Aufzeichnungsschicht in einem Verhältnis von 0,1 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise von 0,5 bis 30 Gew.-%; und insbesondere bevorzugt von 1 bis 20 Gew.-%, zugegeben werden. Wenn die Zugabemenge weniger als 0,1 Gew.-% beträgt, wird die Empfindlichkeit herabgesetzt, und wenn diese 50 Gew.-% übersteigt, kann eine Verschmutzung des Nicht-Bildteils beim Drucken auftreten. Der Radikalinitiator kann allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden. Der Radikalinitiator kann zu der gleichen Schicht wie die andere Komponente zugegeben werden, oder alternativ kann eine andere Schicht bereitgestellt werden, zu welcher der Radikalinitiator zugegeben wird.
In der erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsschicht kann eine andere radikalisch polymerisierbare Verbindung (D) in Kombination zur Verbesserung der Bildfestigkeit, je nach Bedarf, verwendet werden.
(D) Radikalisch polymerisierbare Verbindung
Die radikalisch polymerisierbare Verbindung, die in Kombination in dem erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterial verwendet wird, ist eine radikalisch polymerisierbare Verbindung mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung, und wird aus Verbindungen mit mindestens einer, vorzugsweise zwei oder mehreren ethylenisch ungesättigten Bindungen ????. Eine solche Gruppe von Verbindungen ist auf diesem Gebiet wohl bekannt gewesen, und sie können erfindungsgemäß ohne irgendeine besondere Beschränkung verwendet werden. Sie besitzen verschiedene chemische Formeln, wie etwa ein Monomer, ein Dimer, ein Trimer, ein Oligomer, deren Mischung und deren Copolymer. Beispiele für das Monomer und dessen Copolymer schließen eine ungesättigte Carbonsäure (wie etwa Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure und Malinsäure), und ein Ester und dessen Amid ein, und ein Ester einer ungesättigten Carbonsäure und eine aliphatischen mehrwerten Alkoholverbindung und ein Amid einer ungesättigten Carbonsäure und einer aliphatischen mehrwertigen Aminverbindung werden vorzugsweise verwendet. Beispiele hierfür, die vorzugsweise verwendet werden, schließen ein ungesättigtes Carboxylat mit einer nukleophilen Gruppe, wie etwa einer Hydroxylgruppe, einer Aminogruppe und einer Mercaptogruppe, ein Additionsreaktionsprodukt eines Amids mit einem einwertigen oder mehrwertigen Isocyanat oder Epoxid und ein Dehydrationskondensationsreaktionsprodukt eines Amids mit einer einwertigen oder mehrwertigen Carbonsäure ein. Beispiele hierfür, die vorzugsweise verwendete werden, schließen ferner ein ungesättigtes Carboxylat mit einer elektrophilen Gruppe, wie etwa einer Isocyanatgruppe und einer Epoxidgruppe, ein Additionsreaktionsprodukt eines Amids mit einem einwertigen oder mehrwertigen Alkohol, Amin oder Thiol, ein ungesättigtes Carboxylat mit einer Freisetzungssubstituentengruppe, wie etwa einer Halogengruppe und einer Tosyloxygruppe, und ein Substitutionsreaktionsprodukt eines Amids mit einem einwertigen oder mehrwertigen Alkohol, Amin oder Thiol ein. Andere Beispiele hierfür, die verwendet werden können, schließen solche Verbindungen ein, die eingesetzt wurden, indem die ungesättigte Carbonsäure in den vorstehenden Verbindungen durch eine ungesättigte Phosphorsäure oder Styrol ersetzt wird.
Beispiele für das Ester einer aliphatischen mehrwertigen Alkoholverbindung und einer ungesättigten Carbonsäure, die die radikalisch polymerisierbare Verbindung ist, schließen die folgenden ein. Beispiele für ein Acrylat schließen Ethylenglycoldiacrylat, Triethylenglycoldiacrylat, 1,3-Butandioldicarylat, Tetramethylenglycoldiacrylat, Propylenglycoldiacrylat, Neopentylglycoldiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether, Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Tetraethylenglycoldiacrylat, Pentaerythritoldiacrylat, Pentaerythritoltriacrylat, Pentaerythritoltetraacrylat, Pentaerythritoldiacrylat, Dipentaerythritolhexaacrylat, Sorbitoltriacrylat, Sorbitoltetraacrylat, Sorbitolpentaacrylat, Sorbitolhexaacrylat, Tri(acrylolyloxyethyl)isocyanaurat und ein Polyesteracrylatoligomer ein.
Beispiele für ein Methacrylat einschließlich Tetramethylenglycoldimethacrylat, Triethylenglycoldimethacrylat, Neopentylglycoldimethacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Trimethylolethantrimethacrylat, Ethylenglycoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritoldimethacrylat, Penaerythritoltrimethacrylat, Pentaerythritoltetramethacrylat, Dipentaerythritoldimethacrylat, Dipentaerythritolhexamethylacrylat, Soribitoltrimethacrylat, Sorbitoltetramethylacrylat Bis(p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl)dimethylmethan und Bis(p-(methacryloxyethoxy)phenyl)dimethylmethan ein.
Beispiele für ein Itaconat einschließlich Ethylenglycodiitaconat, Propylenglycoldiitaconat, 1,3-Butandioldiitaconat, 1,4-Butandioldiitaconat, Tetramethylenglycoldiitaconat, Pentaerythritoldiitaconat und Sorbitoltetraitaconat ein.
Beispiele für ein Isocrotonat schlissen Ethylenglycoldiisocrotonat, Pentaerthritoldiisocrotonat und Sorbitoltetraisocrotonat ein.
Beispiele für ein Maleat einschließlich Ethylenglycoldimaleat, Tetraethylenglycoldimaleat, Pentaerthritoldimaleat und Sorbitoltetramaleat ein.
Beispiele für andere Ester schließen die Ester der aliphatischen Alkoholreihen, die in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334 und JP-A-57-196231 beschrieben werden, diejenigen mit einem aromatischen Skelett, die in JP-A-59-5240, JP-A-59-5241 und JP-A-2-226149 beschrieben werden, und diejenigen, die eine Aminogruppe enthalten, die in JP-A-1-165613 beschrieben werden, ein.
Spezifische Beispiele für ein Monomer eines Amids einer aliphatischen mehrwertigen Aminverbindung und einer ungesättigten Carbonsäure schließen Methylenbis(acrylamid), Methylenbis(methacrylamid), 1,6-Hexamethylenbis(acrylamid), 1,6-Hexamethylenbis(methacrylamid), Diethylentriamintrisquarylamid, Xylylolbisacrylamid und Xylylolbismethacrylamid ein.
Bevorzugte Beispiele für das Monomer der Amidreihen schließen diejenigen mit einer Cyclohexylenstruktur ein, die in JP-B-54-21726 beschrieben werden.
Eine additionspolymerisierbare Urethanverbindung, die hergestellt wird, indem eine Additionsreaktion eines Isocyanats und eine Hydroxylgruppe verwendet wird, ist auch bevorzugt. Spezifische Beispiel hierfür schließen eine Vinylurethanverbindung ein, die zwei oder mehrere polymerisierbare Vinylgruppen in einem Molekül enthält, hergestellt wird, indem ein Vinylmonomer, das eine Hydroxylgruppe der folgenden allgemeinen Formel (16) enthält, zu einer Polyisocyanatverbindung mit zwei oder mehreren Isocyanatgruppen in einem Molekül, die in JP-B-48-41708 beschrieben wird, gegeben wird. CH₂=C(R⁴¹)COOCH₂CH(R⁴²)OH (16)worin R⁴¹ und R⁴² jeweils unabhängig H oder CH₃ darstellt.
Das Urethanacrylat, das in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 und JP-B-2-16765 beschrieben wird, und eine Urethanverbindung mit einem Ethylenoxidgerüst, die in JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417 und JP-B-62-39418 beschrieben wird, werden vorzugsweise verwendet.
Darüber hinaus können die radikalisch polymerisierbaren Verbindungen mit einer Aminostruktur oder einer Sulfidstruktur, die in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 und JP-A-1-105238 beschrieben werden, auch verwendet werden.
Andere Beispiele schließen ein Polyesteracrylat und ein polyfunktionales Acrylat oder Methacrylat ein, wie etwa ein Epoxyacrylat, das gebildet wird, indem ein Polyesteracrylat oder ein Epoxid mit (Meth)acrylsäure umgesetzt wird, beschrieben in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 und JP-B-52-30490. Die bestimmten ungesättigten Verbindungen, die in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 und JP-B-1-40336 beschrieben werden, und die Vinylsulfonsäureverbindung, die in JP-A-2-25493 beschrieben wird, können auch als Beispiele genannt werden. Darüber hinaus wird in einigen Fällen die Struktur, die eine Perfluoralkylgruppe enthält, die in JP-A-61-22048 beschrieben wird, vorzugsweise verwendet. Die Verbindungen, die als photohärtbare Monomere und Oligomere in Nippon Seccaku Kyoukai Shi (Journal of the Adhesion Society of Japan) Band 20, Nr. 7, Seiten 300 bis 308 (1984) beschrieben werden, können auch verwendet werden.
Die radikalisch polymerisierbare Verbindung (D) kann allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden. Spezifische Verwendungsbedingungen, wie etwa die Struktur der Verbindung, ob diese allein oder in Kombination verwendet wird, und die Zugabemenge der Verbindung, können frei entsprechend der beabsichtigten Auslegung des Endaufzeichnungsmaterials bestimmt werden.
Es ist angesichts der Empfindlichkeit vorteilhaft, dass das Mischverhältnis der radikalisch polymerisierbaren Verbindung in dem Bildaufzeichnungsmaterial groß ist. Jedoch tritt, wenn dieses groß ist, eine unerwünschte Phasenseparierung auf, und ein Problem mit dem Herstellungsverfahren aufgrund des Anhaftungsvermögens der Bildaufzeichnungsschicht (z. B. Transfer der Aufzeichnungsschichtkomponente und Produktionsversagen aufgrund des Anhaftungsvermögens) und ein Problem der Abscheidung aus der Entwicklungslösung auftreten können. Angesichts dieser Umstände beträgt das Mischverhältnis der radikalisch polymerisierbaren Verbindung in manchen Fällen im Allgemeinen 5 bis 80 Gew.-%, und vorzugsweise 20 bis 75 Gew.-%, basierend auf der Gesamtmenge der Zusammensetzung.
Das Mischverhältnis des bestimmten alkalilöslichen Polymers (A) und der anderen erfindungsgemäßen radikalisch polymerisierbaren Verbindung (D) beträgt im Allgemeinen von 1/0,05 bis 1/3 bezogen auf das Gewicht, vorzugsweise von 1/0,1 bis 1/2, und weiter bevorzugt 1/0,3 bis 1/1,5.
In dem Verfahren der Verwendung der radikalisch polymerisierbaren Verbindung können die Struktur, die Mischverhältnisse und die Zugabemengen willkürlich vom Standpunkt des Ausmaßes der Polymerisationsinhibierung aufgrund von Sauerstoff, der Auflösung, der Eintrübungsfunktion, der Änderung des Brechungsindexes und des Oberflächenanhaftungsvermögens willkürlich ausgewählt werden. In einigen Fällen kann ein solcher Schichtaufbau und Beschichtungsverfahren wie ein Unterbeschichten und ein Überbeschichten in die Praxis umgesetzt werden.
Andere Komponenten
Das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial kann ferner verschiedene Verbindungen, die sich von den vorstehenden unterscheiden, enthalte. Zum Beispiel kann ein Farbstoff mit einer großen Absorption in dem sichtbaren Wellenbereich als ein Färbungsmittel eines Bildes verwendet werden. Spezifische Beispiele hierfür schließen Oil Yellow #101, Oil Yellow #103, Oil Pink #312, Oil Green Bouvier, Grenoble, Oil Blue BOS, Oil Blue #603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (alle hergestellt von Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (C.I. 42555), Methyl Violet (C.I. 42535), Ethyl Violet, Rhodamin B (C.I. 145170B), Malachit Green (C.I. 42000) und Methylen Blue (C.I. 52015), genau so wie die in JP-A-62-293247 beschriebenen Farbstoffe ein.
Pigmente, wie etwa Phthalocyaninpigment, ein Azopigment, Ruß und Titandioxid können auch vorzugsweise verwendet werden.
Das Färbemittel wird vorzugsweise zugegeben, da die Unterscheidung zwischen einem Bildteil und einem Nicht-Bildteil nach Erzeugung eines Bildes leicht wird. Die Zugabemenge davon beträgt im Allgemeinen 0,01 bis 10 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt der Beschichtungslösung für die lichtempfindliche Schicht.
Es ist erfindungsgemäß bevorzugt, dass eine kleine Menge eines thermischen Polymerisationsinhibitors zugegeben wird, um eine nicht notwendige thermische Polymerisation der radikalisch polymerisierbaren Verbindung während der Herstellung und Lagerung des Bildaufzeichnungsmaterials zu verhindern. Beispiele für den geeigneten thermischen Polymerisationsinhibitor schließen Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-kresol, Pyrogallol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4'-Thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-Methylenbis(4-methyl-6-t-butylphenol) und N-Nitroso-N-phenylhydroxylaminaluminiumsalz ein. Die Zugabemenge des thermischen Polymerisationsinhibitors beträgt vorzugsweise ungefähr 0,01 bis 5 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtgewicht der Zusammensetzung. Ein höheres Fettsäurederivat, wie etwa Beheninsäure und Beheninamid, können zugegeben werden, um so auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht, je nach Bedarf, lokalisiert zu sein, eine Polymerisationsinhibierung aufgrund von Sauerstoff zu verhindern. Die Zugabemenge des höheren Fettsäurederivats beträgt vorzugsweise ungefähr 0,1 bis 10 Gew.-%, basierend auf der Gesamtzusammensetzung.
Das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial wird hauptsächlich zur Erzeugung einer Bildaufzeichnungsschicht für ein lithographisches Druckplattenoriginal verwendet. Zur Verstärkung der Stabilität der Bildaufzeichnungsschicht hinsichtlich der Entwicklungsbedingungen kann ein anionisches oberflächenaktives Mittel, das in JP-A-62-251740 und JP-A-3-208514 beschrieben wird, und ein amphotäres oberflächenaktives Mittel, das in JP-A-59-121044 und JP-A-4-13149 beschrieben wird, zugegeben werden.
Spezifische Beispiele für das nicht-ionische oberflächenaktive Mittel schließen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Stearinsäuremonoglycerid und Polyoxyethylennonylphenylether ein.
Spezifische Beispiele für das amophäre oberflächenaktive Mittel schließen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliniumbetain und N-Tetradeycl-N,N-betain (z. B. Amogen K, Handelsname, hergestellt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) ein.
Das Verhältnis des nicht-ionischen oberflächenaktiven Mittels und des amophären oberflächenaktiven Mittels in der Beschichtungslösung für die lichtempfindliche Schicht beträgt vorzugsweise von 0,05 bis 15 Gew.-%, und weiter bevorzugt von 0,1 bis 5 Gew.-%.
Darüber hinaus kann, um dem Beschichtungsfilme eine Flexibilität zu verleihen, ein Weichmacher, je nach Bedarf zu der Beschichtungszusammensetzung für die erfindungsgemäße lichtempfindliche Schicht gegeben werden. Zum Beispiel können Polyethylenglycol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat und Tetrahydrofurfuryloleat verwendet werden.
Zur Herstellung eines lithographischen Druckplattenoriginals unter Verwendung des erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterials ist es im Allgemeinen ausreichend, dass Zusammensetzungskomponenten des Bildaufzeichnungsmaterials in einem Lösungsmittel zusammen mit anderen Komponenten, die zur Erzeugung einer Beschichtungszusammensetzung notwendig sind, aufgelöst werden, und die resultierende Zusammensetzung auf einen geeigneten Träger beschichtet wird. Beispiele für das verwendete Lösungsmittel schließen hierbei Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglycolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyrolacton, Toluol und Wasser ein, aber dieses ist nicht auf diese beschränkt. Das Lösungsmittel kann allein oder als eine Mischung zugegeben werden. Die Konzentration der vorstehenden Komponente (alle Feststoffkomponenten einschließlich der Zusatzstoffe) in dem Lösungsmittel beträgt vorzugsweise von 1 bis 50 Gew.-%.
Die Beschichtungsmenge (Feststoffkomponente) der Bildaufzeichnungsschicht nach dem Beschichten und Trocknen auf dem Träger beträgt im Allgemeinen vorzugsweise von 0,5 bis 5,0 g/m² für ein lithographisches Druckplattenoriginal, während diese abhängig vom Zweck variiert. Verschiedene Verfahren können zum Beschichten verwendet werden. Beispiele hierfür schließen Stabbeschichtungsvorrichtungsbeschichten, Spinnbeschichten, Sprühbeschichten, Vorhangbeschichten, Eintauchbeschichten, Luftmesserbeschichten, Klingenbeschichten und Walzenbeschichten ein. Wenn die Beschichtungsmenge verringert wird, wird die scheinbare Empfindlichkeit erhöht, aber die Filmcharakteristik der Bildaufzeichnungsschicht wird herabgesetzt.
Ein oberflächenaktives Mittel, wie etwa ein fluoriertes oberflächenaktives Mittel, das in JP-A-62-170950 beschrieben wird, kann zu der Beschichtungszusammensetzung für die erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsschicht zum Verbessern der Beschichtungsfunktion zugegeben werden. Dessen Zugabemenge beträgt im Allgemeinen von 0,01 bis 1 Gew.-%, und vorzugsweise von 0,05 bis 0,5 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt der lichtempfindlichen Schicht.
Das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial verwendet das bestimmte alkalilösliche Polymer (A), das einen festen Beschichtungsfilm durch schnelles Härten als ein Bindemittel bilden kann, und so einen solchen Vorteil besitzt, dass eine Verschlechterung der Bilderzeugungsfunktion aufgrund der Polymerisationsinhibierung durch Sauerstoff unterdrückt werden kann. Daher benötigt dieses keine Schutzschicht, die im Allgemeinen in einem lithographischen Druckplattenoriginal mit einer relativ polymerisierbaren Wärmemodus-Aufzeichnungsschicht verwendet worden ist. Jedoch kann das Bildaufzeichnungsmaterial eine Schutzschicht besitzen, die eine wasserlösliche Polymerverbindung mit relativ hoher Kristallinität verwendet, wie etwa Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, säure Cellulose, Gelatine, arabischer Gummi und Polyacrylsäure, die leicht durch ein Entwicklungsverfahren nach Belichtung entfernt werden können.
Träger
Der unter Verwendung des erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterials bei Herstellung eines lithographischen Druckplattenoriginals verwendete Träger ist nicht besonders beschränkt, solange wie dieser eine Plattenform und eine Größenstabilität besitzt. Beisiele hierfür schließen Papier, Papier, das mit Kunststoffen laminiert ist (wie etwa Polyethylen, Polypropylen und Polystyrol), eine Metallplatte (wie etwa Aluminium, Zink und Kupfer), und einen Kunststofffilm (wie etwa Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Celluloselactat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetal) ein. Diese können als ein aus einem einzigen Material gebildetes Blatt, wie etwa ein Harzfilm und eine Metallplatte, oder ein laminierter Körper aus zwei oder mehreren Materialien sein. Beispiele für den laminierten Körper schließen Papier und einen Kunststofffilm, auf welchem ein Metall laminiert oder Dampf abgeschieden ist, und ein laminiertes Blatt aus Kunststofffilmen unterschiedlicher Arten ein.
Der Träger ist vorzugsweise ein Polyesterfilm oder eine Aluminiumplatte, und eine Aluminiumplatte ist insbesondere bevorzugt, da diese eine gute Größenstabilität besitzt und relativ kostengünstig ist. Bevorzugte Beispiele für die Aluminiumplatte schließen eine reine Aluminiumplatte und eine Legierungsplatte, die Aluminium als eine Hauptkomponente, eine kleine Menge eines zusätzlichen Elementes enthält, ein, und ein Kunststofffilm darauf laminierten oder dampfabgeschiedenen Aluminium kann auch verwendet werden. Beispiele für das zusätzliche Element, das in der Aluminiumlegierung enthalten ist, schließen Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Bismuth, Nickel und Titan ein. Der Gehalt des zusätzlichen Elementes in der Legierung beträgt 10 Gew.-% höchstens. Vorzugsweise ist das erfindungsgemäße Aluminium reines Aluminium. Jedoch kann Aluminium, das eine geringfügige Menge eines zusätzlichen Elementes enthält, verwendet werden, da reines Aluminium angesichts der Schmelztechnologie schwierig herzustellen ist. Das heißt, die erfindungsgemäß verwendete Aluminiumplatte ist nicht hinsichtlich deren Zusammensetzung beschränkt, und eine Aluminiumplatte, die mit herkömmlich bekannten Materialien gebildet ist, kann in geeigneter Weise verwendet werden.
Die Dicke der Aluminiumplatte beträgt im Allgemeinen ungefähr 0,1 bis 0,6 mm, vorzugsweise ungefähr 0,15 bis 0,4 mm, und insbesondere bevorzugt ungefähr 0,2 bis 0,3 mm.
Vor der Aufrauung der Oberfläche der Aluminiumplatte wird diese, je nach Bedarf, einer Entfettungsbehandlung mit einem organischen Lösungsmittel oder einer wässrigen Alkalilösung unterzogen, um Walzenöl auf der Oberfläche zu entfernen.
Das Oberflächenaufrauen der Aluminiumplatte wird durch verschiedene Verfahren durchgeführt, wobei Beispiele hierfür ein Verfahren zum mechanischen Aufrauen, Aufrauen durch elektrochemisches Auflösen der Oberfläche, und Aufrauen durch selektives chemisches Auflösen der Oberfläche einschließen. Beispiele für das mechanische Verfahren schließen Kugelpolieren, Bürstenpolieren, Strahlpolieren und Glanzschleifpolieren ein, die in der Technik bekannt sind. Beispiele für das elektrochemische Aufrauungsverfahren schließen die Verwendung eines alternierenden Stroms oder eines Direktstroms einem Salzsäureelektrolyten oder einem Salpetersäureelektrolyten ein. Das in JP-A-54-64902 offenbarte Verfahren, worin beide der Verfahren kombiniert werden, kann auch verwendet werden.
Je nach Bedarf kann die Aluminiumplatte mit einer so aufgerauten Oberfläche einer Alkaliätzbehandlung und einer Neutralisierungsbehandlung unterzogen werden, und dann einer anodischen Oxidationsbehandlung zum Erfüllen der Wasserzurückhaltungskapazität und der Abriebsbeständigkeit der Oberfläche unterzogen werden. Beispiele für einen Elektrolyten, der bei der anodischen Oxidationsbehandlung der Aluminiumplatte verwendet werden kann, schließen verschiedene Elektrolyten ein, die einen porösen Oxidfilm bilden. Im Allgemeinen Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Chromsäure und eine gemischte Säure davon. Die Konzentration des Elektrolyten wird in geeigneter Weise abhängig von den Arten des Elektrolyts bestimmt.
Die Bedingungen für die anodische Oxidationsbehandlung kann nicht einfach bestimmt werden, da die Bedingungen abhängig von der Art des Elektrolyten variieren. Im Allgemeinen beträgt die Konzentration des Elektrolyten von 1 bis 80 Gew.-%, die Lösungstemperatur von 5 bis 70°C, die elektrische Stromdichte von 5 bis 60 A/dm², die elektrische Spannung von 1 bis 100 V, die Elektrolysezeit von 10 Sekunden bis 5 Minuten.
Die Menge des anodischen Oxidfilms beträgt vorzugsweise 1,0 g/m² oder mehr, und weiter bevorzugt 2,0 bis 6,0 g/m². Wenn die Menge des anodischen Oxidfilms weniger als 1,0 g/m² beträgt, kann die Druckbeständigkeit unzureichend sein, es ist wahrscheinlich, dass der Nicht-Bildteil der lithographischen Druckplatte beständig wird, und folglich ein so genanntes "Kratzverschmutzen", worin Tinte auf den Kratzer beim Drucken anhaftet, wird wahrscheinlich auftreten.
Während die anodische Oxidationsbehandlung auf der Oberfläche des Trägers der lithographischen Druckplatte, die zum Drucken verwendet wird, durchgeführt wird, wird ein anodischer Oxidfilm von 0,01 bis 3 g/m² im Allgemeinen auf deren rückwärtigen Oberfläche aufgrund von Umschließender elektrischen Feldlinien erzeugt.
Die hydrophile Behandlung der Oberfläche dese Trägers wird nach der anodischen Oxidationsbehandlung unter Verwendung eines bekannten Behandlungsverfahrens durchgeführt. Beispiele für die hydrophile Behandlung schließen die Verfahren ein, die ein Alkalimetallsilicat (wie etwa eine wässrige Lösung aus Natriumsilicat) verwenden, die in US-PSen 2 714 066, 3 181 461, 3 280 734 und 3 390 734 beschrieben sind. In diesem Verfahren wird der Träger einer Eintauchbehandlung oder einer Elektrolysebehandlung mit einer wässrigen Lösung aus Natriumsilicat unterzogen. Die Verfahren der Behandlung mit Kaliumfluorzirconat, das in JP-PS-22063/1961 beschrieben ist, und mit Polyvinylphosphorsäure, das in US-PSen 3 276 868, 4 153 461 und 4 689 272 beschrieben ist, kann auch verwendet werden.
Von diesen ist die Silicatbehandlung als die hydrophile Behandlung in der Erfindung insbesondere bevorzugt.
Der anodische Oxidfilm der Aluminiumplatte, der der vorstehenden Behandlung unterzogen worden ist, wird in eine wässrige Lösung mit einer Konzentration eines Alkalimetallsilicats von 0,1 bis 30 Gew.-%, vorzugsweise von 0,5 bis 10 Gew.-%, und einem pH-Wert bei 25°C von 10 bis 13 bei einer Temperatur von 15 bis 80°C für eine Dauer von 0,5 bis 120 Sekunden eingetaucht. Wenn der pH-Wert der wässrigen Lösung eines Alkalimetallsilicats weniger als 10 beträgt, bildet die Lösung ein Gel, und wenn dieser 13,0 übersteigt, löst sich der Oxidfilm auf. Beispiele für das Alkalimetallsilicat, das erfindungsgemäß verwendet wird, schließen Natriumsilicat, Kaliumsilicat und Lithiumsilicat ein. Beispiele für das Hydroxid, das zum Erhöhen des pHs der wässrigen Alkalimetallsilicatlösung verwendet wird, schließen Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid ein. Ein Erdalkalimetallsalz oder Metallsalz der Gruppe IVB kann mit der Behandlungslösung vermischt werden. Beispiele für das Erdalkalimetallsalz schließen ein Nitrat, wie etwa Calciumnitrat, Strontiumnitrat, Magnesiumnitrat und Bariumnitrat, und wasserlösliches Salz, wie etwa ein Sulfat, ein Hydrochlorid, ein Phosphat, ein Acetat, ein Oxalat und ein Borat ein. Beispiele für das Metallsalz des Metalls der Gruppe IVB schließen Titantetrachlorid, Titantrichlorid, Titankaliumfluorid, Titankaliumoxalat, Titansulfat, Titantetraiodid, Zirkonchloridoxid, Zirkondioxid, Zirkonoxychlorid und Zirkontetrachlorid ein. Das Erdalkalimetallsalz und das Metallsalz des Metalls der Gruppe IVB können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden. Die Konzentration des Metallsalzes beträgt vorzugsweise 0,01 bis 10 Gew.-%, und weiter bevorzugt 0,05 bis 5,0 Gew.-%.
Die Hydrophilizität der Oberfläche der Aluminiumplatte wird ferner durch die Behandlung mit einem Silicat verbessert, und es ist so schwierig, dass die Tinte auf den Nicht-Bildteil beim Drucken angebracht wird, wodurch die Verschmutzungsverhinderung verbessert wird.
Eine rückwärtige Beschichtung wird auf der rückwärtigen Oberfläche des Trägers, je nach Bedarf, bereitgestellt. Bevorzugte Beispiele für die rückwärtige Beschichtung schließen Beschichtungsschichten ein, wie der in JP-A-5-45885 beschriebenen organischen Polymerverbindung und dem Metalloxid, das durch Hydrolyse und Polykondensation einer organischen oder anorganischen Metallverbindung, die in JP-A-6-35174 beschrieben wird, erzeugt werden.
Von den Beschichtungsschichten sind eine Alkoxyverbindung aus Silicium, wie etwa Si(OCH₃)₄, Si(OC₂H₅)₄, Si(OC₃H₇)₄, Si(OC₄H₉)₄, insbesondere bevorzugt, da sie kostengünstig und leicht verfügbar sind, und Beschichtungsfilme eines Metalloxids, das durch diese Verbindungen bereitgestellt wird, umfassen eine herausragende Entwicklungsbeständigkeit.
Ein lithographisches Druckplattenoriginal kann unter Verwendung des erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterials gemäß dem vorstehenden Verfahren hergestellt werden. Das lithographische Druckplattenoriginal kann mit einem IR-Laser beschrieben werden. Es kann auch thermische Aufzeichnung mit einer UV-Strahlenlampe und einem thermischen Kopf unterzogen werden. Erfindungsgemäß wird es der bildweisen Belichtung mit einem Feststofflaser oder einem Halbleiterlaser, der IR-Strahlen mit einer Wellenlänge von 760 bis 1200 nm emittiert, unterzogen.
Nach dem Belichten mit einem IR-Laser wird as Bildaufzeichnungsmaterial vorzugsweise mit Wasser oder einer wässrigen alkalischen Lösung entwickelt.
In dem Fall, dass die wässrige Alkalilösung als eine Entwicklungslösung verwendet wird, können bekannte wässrige alkalische Lösungen als die Entwicklungslösung und eine Auffülllösung verwendet werden. Beispiele hierfür schließen ein anorganisches Alkalisalz, wie etwa Natriumsilicat, Kaliumsilicat, tertiäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumbicarbonat, Ammoniumbicarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid ein. Ein organisches Alkalimittel kann auch verwendet werden, Beispiele für dieses schließen Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin ein.
Diese alkalischen Mittel können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren Verwendet werden.
In dem Fall, dass die Entwicklung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine durchgeführt wird, ist es bekannt, dass eine große menge von lithographischen Druckplattenoriginalen ohne Änderung einer Entwicklungslösung in einem Entwicklungsbehälter für eine lange Zeitdauer bearbeitet werden kann, indem die gleiche Lösung wie die Entwicklungsmittellösung oder eine wässrige Lösung (Auffülllösung) mit einer höheren Alkalistärke als die Entwicklungslösung zu der Entwicklungslösung gegeben wird. Diese Art von Zuführungsverfahren wird erfindungsgemäß bevorzugt angewendet.
Verschiedene Arten von Tensiden und organischen Lösungsmitteln können zu der Entwicklungslösung und der Auffülllösung zur Beschleunigung oder Unterdrückung der Entwicklung, Streuung von Entwicklungsstäuben, und Zunahme der Affinität eines Bildteils der Druckplatte gegenüber Tinte zugegeben werden. Bevorzugte Beispiele für das Tensid schließen ein anionisches Tensid, ein kationisches Tensid ein nicht-ionisches Tensid und en amphotäres Tensid ein. Bevorzugte Beispiele für das organische Lösungsmittel schließen Benzylalkohol ein. Polyethylenglycol, ein Derivat davon, Polypropylenglycol und ein Derivat davon werden auch vorzugsweise zugegeben. Ein nicht-reduzierender Zucker, wie etwa Arabit, Sorbit und Mannit können auch zugegeben werden.
Darüber hinaus könne auf anorganischem Salz basierende reduzierende Mittel, wie etwa Hydrochinon, Resorcin und ein Natriumsalz und ein Kaliumsalz von Schwefelsäure oder Bischwefelsäure, eine organische Carbonsäure, ein Entschäumungsmittel und ein Weichmacher für hartes Wasser auch zugegeben werden.
Die Druckplatte, die der Entwicklungsbehandlung unter Verwendung der Entwicklungslösung und der Auffülllösung, die vorstehend beschrieben wurde, unterzogen worden ist, wird dann einer Nachbehandlung mit Wasser zum Waschen, einer Abspüllösung, die ein Tensid enthält, und eine Befeuchtungslösung, die arabischen Gummi oder Stärkederivate enthält, unterzogen. Diese Behandlungen können in verschiedenen Kombinationen als die Nachbehandlung verwendet werden, wenn das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial als ein Druckplattenmaterial verwendet wird.
In den letzten Jahren wird eine automatische Entwicklungsmaschine für eine Druckplatte weithin zur Rationalisierung und Standardisierung von Vorpressverfahren auf dem Gebiet der Vorpresse und dem Drucken weithin verwendet. Die automatische Entwicklungsmaschine besitzt im Allgemeinen einen Entwicklungsabschnitt und einen Nachbehandlungsabschnitt mit Vorrichtungen zum Transportieren einer Druckplatte, Prozesslösungsbäder und Sprühvorrichtungen, worin eine belichtete Druckplatte der Entwicklungsbehandlung durch Sprühen der Behandlungslösungen unterzogen wird, die durch Pumpen zur Druckplatte aus Düsen gezogen wurden, während die Druckplatte horizontal transportiert wird. In den letzten Jahren ist auch ein Verfahren bekannt, worin eine Druckplatte mit in-Flüssigkeitsführungsrollen unter Eintauchen in mit Behandlungslösungen gefüllten Behandlungsbädern transportiert wird. Die automatische Behandlung kann durch Zuführen von Auffülllösungen zu den jeweiligen Behandlungslösungen gemäß der Behandlungsmenge und der Verfahrenszeit zugeführt werden. Die Auffülllösungen können auch automatisch unter Verwendung eines Messfühlers zur Bestimmung der elektrischen Leitfähigkeit automatisch zugeführt werden.
Ein so genanntes wegwerfbares Behandlungsmaterial kann auch verwendet werden, wodurch die Druckplatte mit einer im Wesentlichen ungebrauchten Behandlungslösung behandelt wird.
Die so erhaltene lithographische Druckplatte wird einem Druckschritt nach Anwenden von Befeuchtungsgummi hierauf je nach Bedarf unterzogen. Zum Erhalt einer lithographischen Druckplatte mit höherer Druckbeständigkeit wird eine Brennbehandlung durchgeführt.
In dem Fall, dass die lithographische Druckplatte der Brennbehandlung unterzogen wird, ist es bevorzugt, dass die Druckplatte mit einer Oberflächeneinstelllösung, die in JP-B-61-2518, JP-8-55-28062, JP-A-62-31859 und JP-A-61-159655 beschrieben ist, vor dem Brennen behandelt wird.
Die Behandlung mit einer Oberflächeneinstelllösung kann durch ein solches Verfahren durchgeführt werden, das die Oberflächeneinstelllösung auf die lithographische Druckplatte mit einem Schwamm oder einer absorbierenden Baumwolle, die mit der Oberflächeneinstelllösung getränkt ist, beschichtet wird, die Druckplatte in eine Schale eingetaucht wird, die mit der Oberflächeneinstelllösung gefüllt ist, oder die Oberflächeneinstelllösung durch eine automatische Beschichtungsvorrichtung aufgetragen wird. Weiter bevorzugte Ergebnisse können erhalten werden, indem die aufgetragene Menge davon gleichförmig durch Ausdrücken oder Verwendung einer Abquetschwalze gleichförmig gemacht wird.
Im Allgemeinen beträgt die aufgetragene Menge der Oberflächeneinstelllösung in geeigneter Weise von 0,03 bis 0,8 g/m² (Trockenmenge). Die lithographische Druckplatte mit der Oberflächeneinstelllösung, die darauf aufgetragen wurde, wird nach Bedarf getrocknet, und dann einer hohen Temperatur durch eine Brennbearbeitungsvorrichtung (z. B. einer Brennbearbeitungsvorrichtung BP-1300, erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd.) erhitzt. Die Erhitzungstemperatur und die Erhitzungszeit betragen hierbei vorzugsweise 180 bis 300°C für 1 bis 20 Minuten, während diese je nach Art der Komponenten, die das Bild zusammensetzen, variieren.
Die lithographische Druckplatte, die der Brennbehandlung unterzogen worden ist, kann den Beahndlungen unterzogen werden, die in dem herkömmlichen Verfahren durchgeführt worden sind, wie etwa Wasser waschen und Gummi auftragen. In dem Fall, dass eine Oberflächeneinstelllösung, die eine wasserlösliche Polymerverbindung enthält, verwendet wird, kann die so genannte Befeuchtungsbehandlung, wie etwa Gummiauftragung, weggelassen werden.
Die lithographische Druckplatte, die aus dem erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterial durch die vorstehenden Behandlungen erhalten wurde, wird in eine Offsetdruckmaschine eingebaut und wird zum Drucken einer großen Anzahl von Blättern verwendet.
Die Erfindung wird detaillierter anhand der folgenden Beispiele und Vergleichsbeispiele beschrieben, aber die Erfindung sollte nicht so verstanden werden, dass sie hierauf begrenzt ist.
BEISPIELE 1 BIS 6 UND VERGLEICHSBEISPIEL 1
Herstellung des Trägers
Eine geschmolzene Flüssigkeit einer Legierung gemäß JIS A1050, die 99,5% Aluminium mit 0,30% Fe, 0,10% Si, 0,02% Ti und 0,013% Cu enthielt, wurde einer Reinigungsbehandlung und dann Formen unterzogen. Die Reinigungsbehandlung wurde durchgeführt, indem eine Entgasungsbehandlung zum Entfernen nicht-notwendiger Gase, wie etwa Sauerstoff, aus der geschmolzenen Flüssigkeit durchgeführt wurde und dann eine Behandlung mit einem keramischen Rohrfilter durchgeführt wurde. Das Formen wurde durch ein DC-Formverfahren durchgeführt. Die Oberfläche des verfestigten Blocks mit einer Dicke von 500 mm wurde um 10 mm abgeschliffen, und dann einer Homogenisierungsbehandlung bei 550°C für 10 Stunden unterzogen, um zu vermeiden, dass intermetallische Verbindungen grob waren. Anschleißend wurde dieses Heizwalzen bei 400°C und Härten in einem kontinuierlichen Härtungsofen bei 500°C für 60 Sekunden, gefolgt von Kaltwalzen, unterzogen, um so eine gewalzte Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm zu erhalten. Die Grobheit der Oberfläche der Walze wurde eingestellt, um eine Mittellinienoberflächerauhigkeit Ra nach dem Kaltwalzen von 0,2 μm einzustellen. Danach wurde diese einer Spannungsnivelliervorrichtung zur Verbesserung der Flachheit zugeführt.
Eine Oberflächenbehandlung zur Herstellung eines Trägers für eine lithographische Druckplatte wurde durchgeführt.
Die Oberfläche der Aluminiumplatte wurde einer Entfettungsbehandlung mit einer 10%igen wässrigen Lösung aus Natriumaluminat bei 50°C für 30 Sekunden zur Entfernung von Walzenöl unterzogen und dann einer Neutralisierungs- und Endmattierungsbehandlung mit einer 30%igen wässrigen Schwefelsäurelösung bei 50°C für 30 Sekunden unterzogen.
Eine so genannte Sandaufrauungsbehandlung zum Aufrauen der Oberfläche des Trägers wurde zur Verbesserung der Anhaftung zwischen dem Träger und einer Aufzeichnungsschicht und zur Verleihung von Wasserzurückhaltungsfunktion einem Nicht-Bildteil durchgeführt. Eine wässrige Lösung, die 1% Salpetersäure und 0,5% Aluminiumnitrat enthielt, wurde bei 45°C gehalten, und ein Aluminiumnetz wurde hindurchgeführt, und ein elektrischer Strom mit einer Dichte von 20 A/dm² in einer alternierenden Wellenform mit einem Nassverhältnis von 1/2 bei einer anodischen Elektrizitätsmenge von 240 C/dm² wurde durch eine indirekte Zuführungszelle angelegt, um so die Sandaufrauungsbehandlung durchzuführen. Danach wurde eine Ätzbehandlung bei 50°C für 30 Sekunden mit einer 10%igen wässrigen Lösung aus Natriumaluminat durchgeführt, und dann wurde eine Neutralisierungs- und Endmattierungsbehandlung mit einer 30%igen wässrigen Schwefelsäurelösung bei 50°C für 30 Sekunden durchgeführt.
Darüber hinaus wurde zur Besserung der chemischen Beständigkeit und der Wasserzurückhaltungsfunktion ein Oxidfilm auf dem Träger durch anodische Oxidation erzeugt. Eine 20%ige wässrige Schwefelsäurelösung bei 35°C wurde als ein Elektrolyt verwendet, und das Aluminiumnetz wurde hindurchgeführt, und ein Direktstrom von 14 A/dm² wurde durch eine indirekte Zuführungszelle zur Durchführung einer Elektrolysebehandlung angelegt, wodurch ein anodischer Oxidfilm von 2,5 g/m² erzeugt wurde.
Danach wurde eine Silicatbehandlung zur Sicherstellung der Hydrophilizität des Nicht-Bildteils der Druckplatte durchgeführt. Eine 1,5%ige wässrige Lösung aus Natriumsilicat Nr. 3 wurde bei 70°C gehalten, und das Aluminiumnetz wurde mit der Kontaktzeit von 15 Sekunden hindurchgeführt, und dann mit Wasser gewaschen. Die Menge vom angebrachten Si betrug 10 mg/m². Der so erhaltene Träger besaß eine Mittellinienoberflächenrauhigkeit Ra von 0,25 μm.
Herstellung der lichtempfindlichen Schicht
Die folgende lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-1) wurde hergestellt und auf den Aluminiumträger, der in dem vorstehenden erhalten wurde, unter Verwendung eines Drahtstabes beschichtet. Er wurde in einer Heißlufttrockenvorrichtung bei 115°C für 45 Sekunden zur Erzeugung einer lichtempfindlichen Schicht getrocknet, wodurch ein lithographisches Druckplattenoriginal erhalten wurde. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen war in einem Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m².
Die in den Beispielen verwendete Polymerverbindung war das bestimmte alkalilösliche Harz, das in den vorstehenden Synthesebespielen erhalten wurde. Das alkalilösliche Harz B-1, das in dem Vergleichsbeispiel 1 verwendet wurde, war ein Benzylmethacrylat/Methylmethacrylatcopolymer (eine Polymerverbindung mit einem Polymerisationsverhältnis von 80/20 bezogen auf mol und einem Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht von 100000).
Lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-1)
Alkalilösliches Harz (Komponente (A))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 8 gezeigt werden

Radikalisch polymerisierbare Verbindung (Komponente (D))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 8 gezeigt werden

IR-Absorptionsmittel (IR-6) (Komponente (B))	0,08 g
Iodoniumsalz (I-1) (Komponente (C))	0,30 g
Naphthalensulfonat von Victoria Pure Blue	0,04 g
Fluoriertes Tensid	0,01 g
(Megafac F-176, hergestellt von Dainippon Inc und
Chemicals, Inc.)
Methylethylketon	9,0 g
Methanol	10,0 g
1-Methoxy-2-propanol	8,0 g

Tabelle 8

R-1: Dipentaerythritolhexaacrylat

Belichtung
Die resultierende lithographischen Druckplattenoriginale wurden einer Belichtung unter Verwendung von Trendsetter 3244VFS, hergestellt von Creo Products, Inc., die mit einem wassergekühlten 40 W IR-Halbleiterlaser mit einer Ausstoßleistung von 6,5 W, einer äußeren Oberflächentrommelrotationszahl von 81 U/min, einer Plattenoberflächenenergie von 188 mJ/cm² und einer Auflösung von 2400 dpi ausgestattet war, unterzogen. Nach der Belichtung wurde das Vorhandensein von Abtragung auf der Platte mit dem bloßen Auge bewertet. Die Ergebnisse werden in Tabelle 8 gezeigt.
Es ist aus Tabelle 8 ersichtlich, das die lithographischen Druckplatte der Beispiele, die das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial als die lichtempfindliche Schicht verwenden, ohne Abtragung bei Belichtung beschrieben werden konnten.
BEISPIELE 7 BIS 12
Die folgende lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-2) wurde hergestellt und auf den Aluminiumträger unter Verwendung eines Drahtstabs beschichtet. Dieser wurde in einer Heißlufttrocknungsvorrichtung bei 115°C für 45 Sekunden getrocknet, und so ein lithographisches Druckplattenoriginal erhalten. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen war in einem Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m².
Lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-2)
Alkalilösliches Harz (Komponente (A))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 9 gezeigt werden

Radikalisch polymerisierbare Verbindung (Komponente (D))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 9 gezeigt werden

Tabelle 9

R-3: Pentaerythritoltetraacrylat

Belichtung
Nach der Belichtung wurden die resultierenden lithographischen Druckplattenoriginale der Belichtung unter Verwendung eines Trendsetters 3244VFS, hergestellt von Creo Products, Inc., das mit einem wassergekühlten 40 W IR-Halbleiterlaser mit einer Ausstoßleistung von 9 W, einer äußeren Oberflächentrommelrotationszahl von 210 U/min, einer Energie an der Plattenoberfläche von 100 mJ/cm² und einer Auflösung von 2400 dpi ausgestattet war, unterzogen.
Entwicklungsbehandlung
Die Druckplatten wurden einer Entwicklungsbehandlung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine STABLON 900N, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd. unterzogen. Die Entwicklungsmittellösungen, sowohl die aufgeladene Lösung als auch die Auffülllösung, waren eine 1/1 verdünnte wässrige Lösung aus DN-3C, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd. Die Temperatur des Entwicklungsmittelbads betrug 30°C. Das Endbehandlungsmittel war eine 1/1 verdünnte wässrige Lösung aus FN-6, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.
Bewertung der Druckbeständigkeit
Drucken wurde dann unter Verwendung einer Druckmaschine, Lithrone, hergestellt von Komori Corp. durchgeführt. Zu dieser Zeit wurde die Anzahl von Blättern, die mit ausreichender Tintendichte bedruckt werden konnte, mit dem bloßen Auge bestimmt, um hierdurch die Druckbeständigkeit zu bewerten. Die Ergebnisse werden in Tabelle 9 gezeigt. Die in dem Vergleichsbeispiel 1 erhaltene lithographische Druckplatte wurde auch bezüglich der Druckbeständigkeit auf die gleiche Weise bewertet. Das Ergebnis wird in Tabelle 9 gezeigt.
Es folgt aus den Ergebnissen von Tabelle 9, dass die lithographischen Druckplatten, die das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial als die lichtempfindliche Schicht verwenden, eine herausragende Druckbeständigkeit im Vergleich zu Vergleichsbeispiel 1 und dass das bekannte wasserunlösliche und alkalilösliche Harz verwendet, zeigen.
BEISPIELE 13 BIS 17
Lithographische Druckplattenoriginale wurden auf die gleiche Weise wie in dem Beispiel 1 erhalten, bis darauf, dass die Zusammensetzungen der lichtempfindlichen Schichtbeschichtungszusammensetzungen in die folgenden Zusammensetzungen geändert wurden. Die Druckplattenoriginale wurden einer Laserabtastbelichtung und der Entwicklungsbehandlung auf die gleiche Weise in dem Beispiel 1 unterzogen, um so Druckplatten zu erhalten. Die so erhaltenen Druckplatten wurden Drucken auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 zur Bewertung der Empfindlichkeit, der Druckbeständigkeit und der Verschmutzungseigenschaft unterzogen. Die resultierenden lithographischen Druckplattenoriginale wurde einer erzwungenen Alterung durch Lagern bei 60°C für 3 Tage und Lagern bei 45°C und einer Feuchtigkeit von 75% relativer Feuchtigkeit für 3 Tage unterzogen, und dann dem Drucken auf die gleiche Weise wie in dem vorstehenden unterzogen. Die erhaltenen Ergebnisse werden in Tabelle 10 gezeigt.
Lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-3)
Alkalilösliches Harz (Komponente (A))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 10 gezeigt werden

Radikalisch polymerisierbare Verbindung (Komponente (D))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 10 gezeigt werden

IR-Absorptionsmittel (IR-6) (Komponente (B))	0,08 g
Sulfoniumsalz (S-1) (Komponente (C))	0,30 g
Naphthalensulfonat von Victoria Pure Blue	0,04 g
Fluoriertes Tensid	0,01 g
(Megafac F-176, hergestellt von Dainippon Inc und
Chemicals, Inc.)
Methylethylketon	9,0 g
Methanol	10,0 g
1-Methoxy-2-propanol	8,0 g

Es ist aus Tabelle 10 zu entnehmen, dass die lithographischen Druckplatten, die das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial als die lichtempfindliche Schicht verwenden, keine Verschmutzung auf dem Nicht-Bildteil zeigten und eine herausragende Druckbeständigkeit besaßen. Sie zeigten keine Verschlechterung der Druckbeständigkeit bezüglich der Verschmutzung auf dem Nicht-Bildteil sogar nach Lagerung bei einer hohen Temperatur und in einer Umgebung mit hoher Feuchtigkeit, und so konnte gefolgert werden, dass sie eine herausragende Lagerstabilität besaßen.
BEISPIELE 18 BIS 23 UND VERGLEICHSBEISPIEL 2
Herstellung des Trägers
Eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde Sandaufrauen unter Verwendung einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension aus Pamiston mit Maschenzahl 400 unterzogen, und dann gut mit Wasser gewaschen. Nach dem Ätzen durch Eintauchen in eine 10%ige wässrige Lösung aus Natriumhydroxid bei 70°C für 60 Sekunden, wurde diese unter fließendem Wasser gewaschen und mit 20 gew.-%iger Salpetersäure neutralisiert, und dann mit Wasser gewaschen. Sie wurde dann einer elektrolytischen Oberflächenaufrauungsbehandlung unter Verwendung eines elektrischen Stroms mit einer alternierenden Wellenform einer sinusförmigen Welle unter der Bedingung von V_A = 12,7 V in einer 1%igen wässrigen Salpetersäurelösung mit einer anodischen Elektrizitätsmenge von 160 C/dm² unterzogen. Die Oberflächenrauhigkeit wurde gemessen, und diese betrug 0,6 μm hinsichtlich Ra. Sie wurde dann in eine 30 gew.-%ige wässrige Schwefelsäurelösung bei 55°C für 2 Minuten zum Endmattieren eingetaucht, und dann einer anodischen Oxidationsbehandlung in einer 20 gew.-%sigen Schwefelsäurelösung bei einer elektrischen Stromdichte von 2 A/dm² für 2 Minuten unterzogen, und so ein anodischer Oxidfilm mit einer Dicke von 2,7 g/m² erzeugt.
Herstellung der Unterbeschichtungsschicht
Eine flüssige Zusammensetzung eines SG-Verfahrens (Solflüssigkeit) wurde auf die folgende Weise hergestellt. Solflüssigkeitszusammensetzung

Methanol 130 g

Wasser 20 g

85 gew.-%ige Phosphorsäure 16 g

Tetraethoxysilan 50 g

3-Methacryloxypropyltrimethoxysilan 60 g
Die vorstehende Solflüssigkeitszusammensetzung wurde vermischt und gerührt. Die Wärmeerzeugung wurde nach ungefähr 5 Minuten beobachtet. Nach dem Umsetzen für 60 Minuten wurde der Inhalt in einen anderen Behälter gefüllt, zu welchem 300 g Methanol zugegeben wurde, um so eine Solflüssigkeit zu erhalten.
Die Solflüssigkeit wurde mit einem gemischten Lösungsmittel aus Methanol/Ethylenglycol (9/1 bezogen auf das Gewicht) verdünnt, und in einer solchen Menge beschichtet, dass die Si-Menge auf dem Träger 3 mg/m² betrug, und dann bei 100°C für 1 Minute getrocknet.
Die lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung mit der folgenden Zusammensetzung (P-4) wurde auf den Aluminiumträger mit der unteren Beschichtung beschichtet, die unter Verwendung eines Drahtstabes bereitgestellt wurde und in einer Heißlufttrocknungsvorrichtung bei 115°C für 45 Sekunden getrocknet, um so ein lithographisches Druckplattenoriginal zu erhalten. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen war in einem Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m².
Das alkalilösliche Harz B-2, das in dem Vergleichsbeispiel 2 verwendet wurde, war ein Methylmethacrylat/Methacrylsäurecopolymer (eine Polymerverbindung mit einem Polymerisationsverhältnis von 75/22 bezogen auf mol und einem Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht von 80000).
Lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-4)
Alkalilösliches Harz (Komponente (A))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 11 gezeigt werden

Radikalisch polymerisierbare Verbindung (Komponente (D))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 11 gezeigt werden

IR-Absorptionsmittel (IR-1) (Komponente (B))	0,08 g
Iodoniumsalz (I-1) (Komponente (C))	0,30 g
Naphthalensulfonat von Victoria Pure Blue	0,04 g
Fluoriertes Tensid	0,01 g
(Megafac F-176, hergestellt von Dainippon Inc und
Chemicals, Inc.)
Methylethylketon	9,0 g
Methanol	10,0 g
1-Methoxy-2-propanol	8,0 g

Tabelle 11
Belichtung
Die resultierenden lithographischen Druckplattenoriginale wurde einer Belichtung unter Verwendung von Luxel T-9000CTP, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd., das mit einem Multikanallaserkopf bei einer Ausstoßleistung pro Strahl von 250 mW, einer äußeren Oberflächentrommelrotationszahl von 800 U/min und einer Auflösung von 2400 dpi ausgestattet war, unterzogen.
Entwicklungsbehandlung
Nach der Belichtung wurden die Druckplatten einer Entwicklungsbehandlung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine STABLON 900N, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd. unterzogen. Die Entwicklungsmittellösungen, sowohl die aufgeladene Lösung als auch die Auffülllösung, waren eine 1/8 verdünnte wässrige Lösung aus DP-4, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd. Die Temperatur des Entwicklungsmittelbads betrug 30°C. Das Endbehandlungsmittel war eine 1/2 verdünnte wässrige Lösung aus GU-7, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.
Bewertung der Druckbeständigkeit und Verschmutzung
Drucken wurde dann unter Verwendung einer Druckmaschine, Heidelberg SOR-KZ, durchgeführt. Zu dieser Zeit konnte die Anzahl von Blättern, die mit ausreichender Tintendichte bedruckt werden konnte, mit dem bloßen Auge bestimmt werden, um hierdurch die Druckbeständigkeit zu bewerten. Die Verschmutzung auf dem Nicht-Bildteil des resultierenden Drucks wurde mit dem bloßen Auge bewertet.
Die Ergebnisse werden in Tabelle 11 gezeigt.
Aus den Ergebnissen von Tabelle 11 kann entnommen werden, dass die lithographischen Druckplatten unter Verwendung des erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsmaterials als die lichtempfindliche Schicht keine Verschmutzung auf dem Nicht-Bildteil zeigten und eine herausragende Druckbeständigkeit besaßen.
BEISPIELE 24 BIS 28
Herstellung der Unterbeschichtungsschicht
Die folgende Unterbeschichtungsschichtzusammensetzung wurde auf den gleichen Aluminiumträger, wie in den Beispielen 1 bis 6 verwendet, unter Verwendung eines Drahtstabes beschichtet, und dann in einer Heißlufttrocknungsvorrichtung bei 90°C für 30 Sekunden getrocknet. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen betrug 10 mg/m².
Unterbeschichtungsschichtbeschichtungszusammensetzung
Copolymer von Ethylmethacrylat und Natrium-2-acrylamid-2-methyl-1-propansulfonat (75/15 bezogen auf mol)

2-Aminoethylphosphorsäure 0,1 g

Methanol 50 g

Ionenaustauscherwasser 50 g
Die lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung mit der folgenden Zusammensetzung (P-5) wurde auf den Aluminiumträger, der so unter Verwendung eines Drahtstabes behandelt wurde, beschichtet und in einer Heißlufttrocknungsvorrichtung bei 115°C für 45 Sekunden getrocknet, um so ein lithographisches Druckplattenoriginal zu erhalten. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen lag in einem Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m².
Lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-5)
Alkalilösliches Harz (Komponente (A))
Verbindung und Menge, die in Tabelle 12 gezeigt werden
Radikalisch polymerisierbare Verbindung (Komponente (D))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 12 gezeigt werden

Tabelle 12

Die resultierenden lithographischen Druckplattenoriginale wurden der Belichtung und der Entwicklungsbehandlung auf die gleiche Weise wie in den Beispielen 1 bis 6 unterzogen, bis darauf, dass eine 1/4 verdünnte wässrige Lösung aus CA-1, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd. als eine Entwicklungsmittelösung verwendet wurde, und sie dem Drucken zur Bewertung der Druckbeständigkeit unterzogen wurden. Die erhaltenen Ergebnisse werden in Tabelle 12 gezeigt.
Es ist aus Tabelle 12 ersichtlich, dass die lithographischen Druckplatten, die das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial als die lichtempfindliche Schicht verwenden, eine herausragende Druckbeständigkeit besitzen.
BEISPIELE 29 BIS 33
Eine lichtempfindliche Schicht wurde auf einem Aluminiumträger auf die gleiche Wiese wie in den Beispielen 7 bis 12 gebildet. Eine 3 gew.-%ige wässrige Lösung aus Polyvinylalkohol (Verseifungsgrad: 86,5 bis 89 mol%, Polymerisationsgrad: 1000) wurde darauf zum Erhalt einer Trockenbeschichtungsmenge von 2 g/m² beschichtet und bei 100°C für 2 Minuten getrocknet, um so eine Schutzschicht auf der lichtempfindlichen Schicht zu erzeugen, wodurch lithographische Druckplattenoriginale erhalten wurden.
Die resultierenden lithographischen Druckplattenoriginale wurden der Belichtung und der Entwicklungsbehandlung auf die gleiche Weise wie in den Beispielen 7 bis 12 unterzogen, und wurden dem Drucken zur Bewertung der Druckbeständigkeit unterzogen. Die erhaltenen Ergebnisse werden in Tabelle 13 gezeigt. Tabelle 13
Es ist aus Tabelle 13 ersichtlich, dass die lithographischen Druckplatten, die das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial als die lichtempfindliche Schicht verwendeten, eine herausragende Druckbeständigkeit besaßen, und es wird beobachtet, dass die Druckbeständigkeit durch Bereitstellen einer Schutzschicht verbessert wird. Gemäß diesem Aspekt der Erfindung wird ein solches negatives Bildaufzeichnungsmaterial bereitgestellt, dass digitale Daten aus Computern direkt durch Beschreiben mit einem Feststofflaser oder einem Halbleiterlaser, der einen IR-Strahl emittiert, aufgezeichnet werden können, und in dem Fall, dass dieses als eine lichtempfindliche Schicht eines lithographischen Druckplattenoriginals verwendet wird, kann ein Bild mit hoher Festigkeit ohne Verursachung von Abtragung erhalten werden, wodurch eine hohe Druckbeständigkeit verwirklicht wird.
BEISPIELE 34 BIS 38 UND VERGLEICHSBEISPIELE 3 UND 4
Herstellung des Trägers
Eine geschmolzene Flüssigkeit einer Legierung gemäß JIS A1050, die 99,5% oder mehr Aluminium mit 0,30% Fe, 0,10% Si, 0,02% Ti und 0,013% Cu enthielt, wurde einer Reinigungsbehandlung und dann Formen unterzogen. Die Reinigungsbehandlung wurde durchgeführt, indem eine Entgasungsbehandlung zum Entfernen nicht-notwendiger Gase, wie etwa Wasserstoff, aus der geschmolzenen Flüssigkeit durchgeführt wurde und dann eine Behandlung mit einem keramischen Rohrfilter durchgeführt wurde. Das Formen wurde unter Verwendung des DC-Formverfahrens durchgeführt. Die Oberfläche des verfestigten Blocks mit einer Dicke von 500 mm wurde um 10 mm abgeschliffen, und dann einer Homogenisierungsbehandlung bei 550°C für 10 Stunden unterzogen, um zu vermeiden, dass Intermetallverbindungen grob waren. Anschleißend wurde dieser Heizwalzen bei 400°C und Härten in einem kontinuierlichen Härtungsofen bei 500°C für 60 Sekunden, gefolgt von Kaltwalzen, unterzogen, um so eine gewalzte Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm zu erhalten. Die Grobheit der Oberfläche der Walze wurde eingestellt, um die Mittellinienoberflächerauhigkeit Ra nach dem Kaltwalzen auf 0,2 μm einzustellen. Danach wurde eine Spannungsnivelliervorrichtung zur Verbesserung der Flachheit angewendet.
Eine Oberflächenbehandlung zur Herstellung eines Trägers für eine lithographische Druckplatte wurde durchgeführt.
Die Oberfläche der Aluminiumplatte wurde einer Entfettungsbehandlung mit einer 10%igen wässrigen Lösung aus Natriumaluminat bei 50°C für 30 Sekunden zur Entfernung von Walzenöl unterzogen und dann einer Neutralisierungs- und Endmattierungsbehandlung mit einer 30%igen wässrigen Schwefelsäurelösung bei 50°C für 30 Sekunden unterzogen.
Eine so genannte Sandaufrauungsbehandlung zum Aufrauen der Oberfläche des Trägers wurde zur Verbesserung der Anhaftung zwischen dem Träger und einer Aufzeichnungsschicht und zur Verleihung von Wasserzurückhaltungskapazität einem Nicht-Bildteil durchgeführt. Eine wässrige Lösung, die 1% Salpetersäure und 0,5% Aluminiumnitrat enthielt, wurde bei 45°C gehalten, und ein Aluminiumnetz wurde hindurchgeführt, und ein elektrischer Strom mit einer Dichte von 20 A/dm² in einer alternierenden Wellenform mit einem Nassverhältnis von 1/1 bei einer anodischen Elektrizitätsmenge von 240 C/dm² wurde durch eine indirekte Zuführungszelle angelegt, um so die Sandaufrauungsbehandlung durchzuführen. Danach wurde eine Ätzbehandlung bei 50°C für 30 Sekunden mit einer 10%igen wässrigen Lösung aus Natriumaluminat durchgeführt, und dann wurde eine Neutralisierungs- und Endmattierungsbehandlung mit einer 30%igen wässrigen Schwefelsäurelösung bei 50°C für 30 Sekunden durchgeführt.
Darüber hinaus wurde zur Verbesserung der chemischen Beständigkeit und der Wasserzurückhaltungsfunktion ein Oxidfilm auf dem Träger durch anodische Oxidation erzeugt. Eine 20%ige wässrige Schwefelsäurelösung bei 35°C wurde als ein Elektrolyt verwendet, und das Aluminiumnetz wurde hindurchgeführt, und ein Direktstrom von 14 A/dm² wurde durch eine indirekte Zuführungszelle zur Durchführung einer Elektrolysebehandlung angelegt, wodurch ein anodischer Oxidfilm von 2,5 g/m² erzeugt wurde.
Danach wurde eine Silicatbehandlung zur Sicherstellung der Hydrophilizität des Nicht-Bildteils der Druckplatte durchgeführt. Eine 1,5%ige wässrige Lösung aus Natriumsilicat Nr. 3 wurde bei 70°C gehalten, und das Aluminiumnetz wurde hindurchgeführt, wobei die Kontaktzeit 15 Sekunden betrug, und damit mit Wasser gewaschen. Die Menge an angebrachten Si betrug 10 mg/m². Der so erhaltene Träger besaß eine Mittellinienoberflächenrauhigkeit Ra von 0,25 μm.
Herstellung der lichtempfindlichen Schicht
Die folgende lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-6) wurde hergestellt und auf den Aluminiumträger, der in dem vorstehenden erhalten wurde, unter Verwendung eines Drahtstabes hergestellt und beschichtet. Diese wurde in einer Heißlufttrockenvorrichtung bei 115°C für 45 Sekunden zur Erzeugung einer lichtempfindlichen Schicht getrocknet, wodurch ein lithographisches Druckplattenoriginal erhalten wurde. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen lag in einem Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m².
Die in den Beispielen verwendete Polymerverbindung war das bestimmte alkalilösliche Harz, das in den vorstehenden Synthesebespielen erhalten wurde. Die Polymerverbindung, die in dem Vergleichsbeispiel 3 verwendet wurde (alkalilösliches Harz B-1) wird nachstehend beschrieben. Die radikalisch polymerisierbare Verbindung HPHA ist Dipentaerythritolhexaacrylat.
Lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-6)
Alkalilösliches Harz (Komponente (A))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 14 gezeigt werden

Radikalisch polymerisierbare Verbindung (Komponente (D))
Verbindung und Menge, die in Tabelle 14 gezeigt werden

IR-Absorptionsmittel (IR-6) (Komponente (B))	0,08 g
Polymerisationsinhibitor (S-2) (Komponente (C))	0,30 g
Naphthalensulfonat von Victoria Pure Blue	0,04 g
Fluoriertes Tensid	0,01 g
(Megafac F-176, hergestellt von Dainippon Inc und
Chemicals, Inc.)
Methylethylketon	9,0 g
Methanol	10,0 g
1-Methoxy-2-propanol	8,0 g

Tabelle 14

Belichtung
Die resultierenden lithographischen Druckplattenoriginale wurden einer Belichtung unter Verwendung von Trendsetters 3244VFS, hergestellt von Creo Products, Inc., der mit einem wassergekühlten 40 W IR-Halbleiterlaser bei einer Ausstoßleistung von 6,5 W, einer äußeren Oberflächentrommelrotationszahl von 81 U/min, einer Energie an der Plattenoberfläche von 188 mJ/cm² und einer Auflösung von 2400 dpi ausgestattet war, belichtet. Nach der Belichtung wurde das Vorhandensein von Abtragung auf der Platte mit dem bloßen Auge bewertet. Die Ergebnisse werden in Tabelle 14 gezeigt.
Es ist aus Tabelle 14 ersichtlich, dass die lithographischen Druckplatten der Beispiele, die das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial als die lichtempfindliche Schicht verwenden, ohne Abtragung bei Belichtung beschrieben werden konnten.
BEISPIELE 28 BIS 43 UND VERGLEICHSBEISPIELE 5 UND 6
Die folgende Unterbeschichtungsschichtzusammensetzung wurde auf den Aluminiumträger beschichtet und dann unter einer 80°C Umgebung für 30 Sekunden getrocknet. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen betrugt 10 mg/m².
Unterbeschichtungsschichtbeschichtungszusammensetzung
Die folgenden Komponenten wurden zur Herstellung einer Beschichtungszusammensetzung für eine Unterbeschichtungsschicht vermischt.

2-Aminoethylphosphorsäure 0,5 g

Methanol 40 g

Reines Wasser 60 g
Die lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung mit der folgenden Zusammensetzung (P-7) wurde auf den Aluminiumträger mit der Unterbeschichtungsschicht unter Verwendung eines Drahtstabs beschichtet und in einer Heißlufttrocknungsvorrichtung bei 115°C für 45 Sekunden getrocknet, und so ein lithographisches Druckplattenoriginal erhalten. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen war in einem Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m².
Die in den Beispielen verwendeten Polymerverbindungen waren die bestimmten alkalilöslichen Polymere, die in den vorstehenden Synthesebeispielen erhalten wurden. Der Ausdruck ATMMT bezieht sich auf Pentaerythritoltetraacrylat. (Nachstehend wird die Zusammensetzungsstruktur des alkalilöslichen Polymers B-1, das in dem Vergleichsbeispielen 3 bis 6 verwendet wird, gezeigt.
Lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-7)
Alkalilösliches Harz (Komponente (A))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 15 gezeigt werden

Radikalisch polymerisierbare Verbindung (Komponente (D))
Verbindung und Menge, die in Tabelle 15 gezeigt werden

IR-Absorptionsmittel (IR-2) (Komponente (B))	0,08 g
Polymerisationsinitiator (S-3) (Komponente (C))	0,30 g
Naphthalensulfonat von Victoria Pure Blue	0,04 g
Fluoriertes Tensid	0,01 g
(Megafac F-176, hergestellt von Dainippon Inc und
Chemicals, Inc.)
N-Nitroso-N-phenylhydroxylaminaluminium	0,001 g
Methylethylketon	9,0 g
Methanol	10,0 g
1-Methoxy-2-propanol	8,0 g

Tabelle 15

Belichtung
Die resultierenden lithographischen Druckplattenoriginale wurden einer Belichtung unter Verwendung Trendsetter 3244VFS, hergestellt von Creo Products, Inc., das mit einem wassergekühlten 40 W IR-Halbleiterlaser mit einer Ausstoßleistung von 9 W, einer äußeren Oberflächentrommelrotationszahl von 210 U/min, einer Energie an der Plattenoberfläche von 133 mJ/cm² und einer Auflösung von 2400 dpi ausgestattet war, belichtet.
Entwicklungsbehandlung

Nach der Belichtung wurden die Druckplatten einer Entwicklungsbehandlung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine STABLON 900N, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd. unterzogen. Die Entwicklungsmittellösungen, die verwendet wurden, waren die folgende Lösung D-1 für die Auffülllösung und die folgende Lösung D-2 für die Nachfülllösung. Die Temperatur des Entwicklungsmittelbands betrug 30°C, und die Entwicklungszeit betrug 12 Sekunden. Zu dieser Zeit wurde die Auffülllösung automatisch auf eine solche Weise zugegeben, dass die elektrische Leitfähigkeit der Entwicklungslösung in dem Entwicklungsbad konstant war. Das Endbehandlungsmittel war eine 1/1 verdünnte wässrige Lösung aus FN-6, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.

(Entwicklungsmittellösung D-1)
Kaliumhydroxid	3 g
Kaliumbicarbonat	1 g
Kaliumcarbonat	2 g
Natriumsulfit	1 g
Polyethylenglycolmononaphthylether	150 g
Natriumdibutylnaphthalensulfonat	50 g
Tetranatriumethylendiamintetraacetat	8 g
Wasser	785 g
(Entwicklungsmittellösung D-2)
Kaliumhydroxid	6 g
Kaliumcarbonat	2 g
Natriumsulfit	1 g
Polyethylenglycolmononaphthylether	150 g
Natriumdibutylnaphthalensulfonat	50 g
Kaliumhydroxyethandiphosphonat	4 g
Silicon TSA-731	0,1 g
(Hergestellt von Toshiba Silicone Co., Ltd.
Wasser	786,9 g

Bewertung der Druckbeständigkeit
Drucken wurde dann unter Verwendung einer Druckmaschine, Lithrone, hergestellt von Komori Corp. durchgeführt. Zu dieser Zeit wurde die Anzahl von Blättern, die mit ausreichender Tintendichte bedruckt werden konnte, mit dem bloßen Auge bestimmt, um hierdurch die Druckbeständigkeit zu bewerten. Die Ergebnisse werden in Tabelle 15 gezeigt.
Aus den Ergebnissen von Tabelle 15, ist zu entnehmen, dass die lithographischen Druckplatten, die das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial als die lichtempfindliche Schicht verwenden, eine herausragende Druckbeständigkeit im Vergleich zu den Vergleichsbeispielen 5 und 6, die die bekannten wasserunlöslichen und alkalilöslichen Harze verwendet, besitzen.
BEISPIEL 44 BIS 47 UND VERGLEICHSBEISPIEL 7
Herstellung des Trägers
Eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde Sandaufrauen unter Verwendung einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension aus Pamiston mit Maschenzahl 400 unterzogen, und dann gut mit Wasser gewaschen. Nach dem Ätzen durch Eintauchen in eine 10%ige wässrige Lösung aus Natriumhydroxid bei 70°C für 60 Sekunden, wurde diese unter fließendem Wasser gewaschen und mit 20 gew.-%iger Salpetersäure neutralisiert, und dann mit Wasser gewaschen.
Diese wurde dann einer elektrolytischen Oberflächenaufrauungsbehandlung unter Verwendung eines elektrischen Stroms mit einer alternierenden Wellenform einer sinusförmigen welle unter der Bedingung von V_A = 12,7 V in einer 1%igen wässrigen Salpetersäurelösung mit einer anodischen Elektrizitätsmenge von 160 C/dm² unterzogen. Die Oberflächenrauhigkeit wurde gemessen, und diese betrug 0,6 μm hinsichtlich Ra. Diese wurde dann in 30 gew.-%ige wässrige Schwefelsäurelösung bei 55°C für 2 Minuten zum Endmattieren eingetaucht, und dann einer anodischen Oxidationsbehandlung in einer 20 gew.-%igen Schwefelsäurelösung bei einer elektrischen Stromdichte von 2 A/dm² für 2 Minuten zur Erzeugung eines anodischen Oxidfilms mit einer Dicke von 2,7 g/m² unterzogen. Danach wurde die Beschichtungszusammensetzung für eine Unterbeschichtungsschicht darauf beschichtet und unter einer 80°C Umgebung für 30 Sekunden getrocknet. Die Trockenbeschichtungsmenge betrug 10 mg/m².
Herstellung der lichtempfindlichen Schicht
Die folgende lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-8) wurde hergestellt, und auf Aluminiumträger, der in dem vorstehenden so hergestellt wurde, unter Verwendung eines Drahtstabes beschichtet. Diese wurde in einer Heißlufttrocknungsvorrichtung bei 115°C für 45 Sekunden getrocknet und so ein lithographisches Druckplattenoriginal erhalten. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen war in einem Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m². Diese wurden dann einer Laserabtastbelichtung und Entwicklungsbehandlung auf die gleiche Weise wie in Beispiel 38 zum Erhalt von lithographischen Druckplatten unterzogen.
Lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-8)
Alkalilösliches Harz (Komponente (A'))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 16 gezeigt werden

Radikalisch polymerisierbare Verbindung (Komponente (D))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 16 gezeigt werden

IR-Absorptionsmittel (IR-2) (Komponente (B))	0,08 g
Polymerisationsinitiator (S-3) (Komponente (C'))	0,30 g
Naphthalensulfonat von Victoria Pure Blue	0,04 g
Fluoriertes Tensid	0,01 g
(Megafac F-176, hergestellt von Dainippon Inc und
Chemicals, Inc.)
t-Butylcatechol	0,001 g
Methylethylketon	9,0 g
Methanol	10,0 g
1-Methoxy-2-propanol	8,0 g

Entwicklungsbehandlung
Die so erhaltenen Druckplatten wurden einem Drucken auf die gleiche Weise wie in dem Beispiel 40 zur Bewertung der Empfindlichkeit, der Druckbeständigkeit und der Verschmutzungsfunktion unterzogen. Die resultierenden lithographischen Druckplattenoriginale wurden einer erzwungenen Alterung unter Lagerung bei 60°C für 3 Tage und Lagerung bei 45°C und einer Feuchtigkeit von 75% relativer Feuchtigkeit für 3 Tage unterzogen, und dann dem Drucken auf die gleiche Weise wie in dem vorstehenden unterzogen. Die erhaltenen Ergebnisse werden in Tabelle 16 gezeigt.
Aus Tabelle 16 ist zu entnehmen, dass die lithographischen Druckplatten, die das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial als die lichtempfindliche Schicht verwenden, keine Verschmutzung auf dem Nicht-Bildteil zeigten und eine herausragende Druckbeständigkeit besaßen. Sie zeigten keine Verschlechterung der Druckbeständigkeit oder Verschmutzung auf dem Nicht-Bildteil sogar nach Lagerung in einer Hochtemperatur- und Hochfeuchtigkeitsumgebung, und so wurde gefolgert, dass sie eine herausragende Lagerungsstabilität besaßen.
BEISPIELE 48 BIS 51 UND VERGLEICHSBEISPIEL 8
Herstellung des Trägers
Eine Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,30 mm wurde Sandaufrauen unter Verwendung einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension aus Pamiston mit Maschenzahl 400 unterzogen, und dann gut mit Wasser gewaschen. Nach dem Ätzen durch Eintauchen in eine 10%ige wässrige Lösung aus Natriumhydroxid bei 70°C für 60 Sekunden, wurde diese mit fließendem Wasser gewaschen und mit 20 gew.-%iger Salpetersäure neutralisiert, und dann mit Wasser gewaschen. Diese wurde dann einer elektrolytischen Oberflächenaufrauungsbehandlung unter Verwendung eines elektrischen Stroms mit einer alternierenden Wellenform einer sinusförmigen Welle unter der Bedingung von V_A = 12,7 V in einer 1%igen wässrigen Salpetersäurelösung mit einer anodischen Elektrizitätsmenge von 160 C/dm² unterzogen. Die Oberflächenrauhigkeit wurde gemessen, und diese betrug 0,6 μm hinsichtlich Ra. Diese wurde dann in eine 30 gew.-%ige wässrige Schwefelsäurelösung bei 55°C für 2 Minuten zum Endmattieren eingetaucht, und dann einer anodischen Oxidationsbehandlung in einer 20 gew.-%igen Schwefelsäurelösung bei einer elektrischen Stromdichte von 2 A/dm² für 2 Minuten zur Erzeugung eines anodischer Oxidfilm mit einer Dicke von 2,7 g/m² unterzogen.
Herstellung einer Unterbeschichtungsschicht
Eine flüssige Zusammensetzung für ein SG-Verfahren (Solflüssigkeit) wurde auf die folgende weise hergestellt. Solflüssigkeitszusammensetzung

Methanol 130 g

Wasser 20 g

85 gew.-%ige Phosphorsäure 16 g

Tetraethoxysilan 50 g

3-Methacryloxypropyltrimethoxysilan 60 g
Die vorstehende Solflüssigkeitszusammensetzung wurde vermischt und gerührt. Eine Wärmeerzeugung wurde nach ungefähr 5 Minuten beobachtet. Nach dem Umsetzen für 60 Minuten wurde der Inhalt in einen anderen Behälter gefüllt, zu welchem 300 g Methanol zugegeben wurde, um so eine Solflüssigkeit zu erhalten.
Die Solflüssigkeit wurde mit einem gemischten Lösungsmittel aus Methanol/Ethylenglycol (9/1 bezogen auf das Gewicht) verdünnt, und in einer solchen Menge beschichtet, dass die Si-Menge auf dem Träger 30 mg/m² betrug, und dann bei 100°C für 1 Minute getrocknet.
Die lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung mit der folgenden Zusammensetzung (P-9) wurde auf den Aluminiumträger mit der bereitgestellten Unterbeschichtung unter Verwendung eines Drahtstabes beschichtet und in einer Heißlufttrocknungsvorrichtung bei 115°C für 45 Sekunden getrocknet, um so ein lithographisches Druckplattenoriginal zu erhalten. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen war in einem Bereich von 1,2 bis 1,3 g/m².
Lichtempfindliche Schichtbeschichtungszusammensetzung (P-9)
Alkalilösliches Harz (Komponente (A))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 17 gezeigt werden

Radikalisch polymerisierbare Verbindung (Komponente (D))

Verbindung und Menge, die in Tabelle 17 gezeigt werden

IR-Absorptionsmittel (IR-1) (Komponente (B))	0,08 g
Polymerisationsinitiator (S-2) (Komponente (C))	0,30 g
Naphthalensulfonat von Victoria Pure Blue	0,04 g
Fluoriertes Tensid	0,01 g
(Megafac F-176, hergestellt von Dainippon Inc und
Chemicals, Inc.)
t-Butylcatechol	0,001 g
Methylethylketon	9,0 g
Methanol	10,0 g
p-Methoxyphenol	0,001 g
1-Methoxy-2-propanol	8,0 g

Tabelle 17

Belichtung
Die resultierenden lithographischen Druckplattenoriginale wurden einer Belichtung unter Verwendung eines Luxel T-9000CTP, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd., das mit einem Multikanallaserkopf bei einer Ausstoßleistung von 250 mW, einer äußeren Oberflächentrommelrotationszahl von 800 U/min und einer Auflösung von 2400 dpi ausgestattet war, unterzogen.
Entwicklungsbehandlung
Nach der Belichtung wurden die Druckplatten einer Entwicklungsbehandlung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine STABLON 900N, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd. unterzogen. Die Entwicklungsmittellösungen, sowohl die aufgeladene Lösung als auch die Nachfülllösung, waren eine 1/8 verdünnte wässrige Lösung aus DP-4, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd. Die Temperatur des Entwicklungsmittelbads betrug 30°C. Das Endbehandlungsmittel war eine 1/2 verdünnte wässrige Lösung aus GU-7, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.
Bewertung der Druckbeständigkeit und Verschmutzung
Drucken wurde dann unter Verwendung einer Druckmaschine, Heidelberg SOR-KZ, durchgeführt. Zu dieser Zeit wurde die Anzahl von Blättern, die mit ausreichender Tintendichte bedruckt werden konnte, unter Verwendung des bloßen Auges bestimmt, um hierdurch die Druckbeständigkeit zu bewerten. Die Verschmutzung auf dem Nicht-Bildteil des resultierenden Drucks wurde mit dem bloßen Auge bewertet. Die Ergebnisse werden in Tabelle 17 gezeigt.
Aus den Ergebnissen von Tabelle 17 ist ersichtlich, dass die lithographischen Druckplatten, die das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial als die lichtempfindliche Schicht verwenden, keine Verschmutzung auf dem Nicht-Bildteil zeigen und eine herausragende Druckbeständigkeit besitzen.
Gemäß diesem Aspekt der Erfindung wird ein solches negatives Bildaufzeichnungsmaterial bereitgestellt, worin digitale Daten aus Computern direkt aufgezeichnet werden können, indem mit einem Feststofflaser oder einem Halbleiterlaser, der IR-Strahlen emittiert, aufgezeichnet wird, und in dem Fall, dass dieses als eine lichtempfindliche Schicht eines lithographischen Druckplattenoriginals verwendet wird, kann ein Bild mit hoher Festigkeit ohne Hervorrufung von Abtragung erhalten werden, wodurch eine hohe Druckbeständigkeit verwirklicht wird.

Claims

Negatives Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp, das (A) eine Polymerverbindung, die in Wasser unlöslich, aber in einer wässrigen Alkalilösung löslich ist und wenigstens eine der durch die folgenden allgemeinen Formeln (1) bis (3) dargestellten Gruppen in einer Seitenkette aufweist; (B) ein fotothermisches Umwandlungsmittel; und (C) eine Oniumsalzverbindung umfasst, die durch Belichtung im Wärmemodus mit Licht, das durch das fotothermische Umwandlungsmittel (B) absorbiert werden kann, Radikale bildet, wobei das negative Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp ein Bild durch Belichtung im Wärmemodus aufzeichnen kann:
worin R¹ bis R¹¹ jeweils unabhängig eine einwertige organische Gruppe darstellen; X und Y jeweils unabhängig ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom oder -N(R¹²)darstellen; Z ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -N(R¹²)- oder eine Phenylengruppe darstellt; und R¹² ein Wasserstoffatom oder eine einwertige organische Gruppe darstellt.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp gemäss Anspruch 1, worin das Bildaufzeichnungsmaterial ferner (D) eine radikalisch polymerisierbare Verbindung umfasst.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp gemäss Anspruch 1, worin die Polymerverbindung (A) aus einem Poly(meth)acrylatharz, einem Polyurethanharz und einem Acetal-modifizierten Polyvinylalkoholharz ausgewählt ist.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial vom wärmemodustyp gemäss Anspruch 1, worin die Polymerverbindung (A) ein Poly(meth)acrylatharz ist.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp gemäss Anspruch 1, worin die Polymerverbindung (A) eine Carbonsäuregruppe in einer Menge von 0,8 bis 1,6 mäq/g enthält und einen Gewichtsmittelwert des Molekulargewichts von 80.000 bis 180.000 hat.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial vom wärmemodustyp gemäss Anspruch 1, worin die Polymerverbindung (A) durch die allgemeinen Formeln (1) bis (3) dargestellte Seitenkettengruppen hat, die an die Polymerhauptkette durch eine lineare oder verzweigte Alkylengruppe gebunden sind.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp gemäss Anspruch 1, worin das fotothermische Umwandlungsmittel (B) ein Cyaninfarbstoff ist.
Negatives Bildaufzeichnungsmaterial vom wärmemodustyp gemäss Anspruch 1, worin die Oniumsalzverbindung (C) eine Sulfoniumsalzverbindung ist.
Lithografisches Druckplattenoriginal, das folgendes umfasst: einen Träger und ein auf dem Träger vorgesehenes negatives Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp, wobei das negative Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp folgendes umfasst: (A) eine Polymerverbindung, die in Wasser unlöslich, aber in einer wässrigen Alkalilösung löslich ist und wenigstens eine der durch die folgenden allgemeinen Formeln (1) bis (3) dargestellten Gruppen in einer Seitenkette aufweist; (B) ein fotothermisches Umwandlungsmittel; und (C) eine Oniumsalzverbindung, die durch Belichtung im Wärmemodus mit Licht, das durch das fotothermische Umwandlungsmittel (B) absorbiert werden kann, Radikale bildet, wobei das negative Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp ein Bild durch Belichtung im Wärmemodus aufzeichnen kann:
worin R¹ bis R¹¹ jeweils unabhängig eine einwertige organische Gruppe darstellen; X und Y jeweils unabhängig ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom oder -N(R¹²)- darstellen; Z ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -N(R¹²)- oder eine Phenylengruppe darstellt; und R¹² ein Wasserstoffatom oder eine einwertige organische Gruppe darstellt.
Verfahren zur Herstellung eines Bildes auf einer lithografischen Druckplatte, das die folgenden Schritte umfasst: (a) Bilden eines negativen Bildaufzeichnungsmaterials vom Wärmemodustyp, das folgendes umfasst: (A) eine Polymerverbindung, die in Wasser unlöslich, aber in einer wässrigen Alkalilösung löslich ist und wenigstens eine der durch die folgenden allgemeinen Formeln (1) bis (3) dargestellten Gruppen in einer Seitenkette aufweist; (B) ein fotothermisches Umwandlungsmittel; und (C) eine Oniumsalzverbindung, die durch Belichtung im Wärmemodus mit Licht, das durch das fotothermische Umwandlungsmittel (B) absorbiert werden kann, Radikale bildet, wobei das negative Bildaufzeichnungsmaterial vom Wärmemodustyp ein Bild durch Belichtung im Wärmemodus aufzeichnen kann, (b) Anbringen des negativen Bildaufzeichnungsmaterials vom Wärmemodustyp auf einem Träger zur Bildung eines lithografischen Druckplattenoriginals, (c) Belichten des lithografischen Druckplattenoriginals mit einem Infrarotlaser zur Bildung eines latenten Bildes, und (d) Erzeugen eines Bildes unter Verwendung einer wässrigen Alkalilösung zur Entwicklung des latenten Bildes
worin R¹ bis R¹¹ jeweils unabhängig eine einwertige organische Gruppe darstellen; X und Y jeweils unabhängig ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom oder -N(R¹²)darstellen; Z ein Sauerstoffatom, ein Schwefelatom, -N(R¹²)- oder eine Phenylengruppe darstellt; und R¹² ein Wasserstoffatom oder eine einwertige organische Gruppe darstellt.