DE60122509T2 - Verfahren zur verbesserung der adhäsion von polymerischen materialien an metalloberflächen - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 68
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 37
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims description 18
- -1 halide ions Chemical class 0.000 claims description 18
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 13
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 claims description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 12
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 12
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 12
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 12
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 claims description 12
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 10
- VYWYYJYRVSBHJQ-UHFFFAOYSA-N 3,5-dinitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1 VYWYYJYRVSBHJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- LWFUFLREGJMOIZ-UHFFFAOYSA-N 3,5-dinitrosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC([N+]([O-])=O)=C1O LWFUFLREGJMOIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 7
- BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 6
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N vanadate(3-) Chemical class [O-][V]([O-])([O-])=O LSGOVYNHVSXFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Substances C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- PRAWSOTXOKHQBG-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazole;1-hydroxybenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2NN=NC2=C1.C1=CC=C2N(O)N=NC2=C1 PRAWSOTXOKHQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 39
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 36
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 18
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 18
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 4
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 4
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- ASOKPJOREAFHNY-UHFFFAOYSA-N 1-Hydroxybenzotriazole Chemical group C1=CC=C2N(O)N=NC2=C1 ASOKPJOREAFHNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical group 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- YOBAEOGBNPPUQV-UHFFFAOYSA-N iron;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Fe].[Fe] YOBAEOGBNPPUQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical group SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical group 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(i) oxide Chemical compound [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 2
- VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L molybdic acid Chemical compound O[Mo](O)(=O)=O VLAPMBHFAWRUQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011185 multilayer composite material Substances 0.000 description 2
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N tungstate Chemical compound [O-][W]([O-])(=O)=O PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- BZSXEZOLBIJVQK-UHFFFAOYSA-N 2-methylsulfonylbenzoic acid Chemical compound CS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O BZSXEZOLBIJVQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L Copper hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cu+2] JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000570 Cupronickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010016275 Fear Diseases 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical group [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical group [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910001919 chlorite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052619 chlorite group Inorganic materials 0.000 description 1
- QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N chlorous acid Chemical compound OCl=O QBWCMBCROVPCKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Chemical group 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical group [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Cu+2].[O-]S([O-])(=O)=O JZCCFEFSEZPSOG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Chemical group 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- UJJUJHTVDYXQON-UHFFFAOYSA-N nitro benzenesulfonate Chemical compound [O-][N+](=O)OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 UJJUJHTVDYXQON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000005310 oxohalides Chemical class 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920001983 poloxamer Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M potassium chlorate Chemical compound [K+].[O-]Cl(=O)=O VKJKEPKFPUWCAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Chemical group 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 1
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L tungstic acid Chemical compound O[W](O)(=O)=O CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WQEVDHBJGNOKKO-UHFFFAOYSA-K vanadic acid Chemical compound O[V](O)(O)=O WQEVDHBJGNOKKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/382—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
- H05K3/383—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal by microetching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
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Description
- HINTERGRUND DER ERFINDUNG
- Die Erfindung betrifft eine Zusammensetzung zur Erhöhung der Haftung eines polymeren Materials an einer Metalloberfläche, insbesondere zur Verwendung bei der Herstellung von gedruckten Schaltungen und spezieller zur Verwendung in einem Verfahren zur Herstellung einer eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden gedruckten Schaltung.
- Gedruckte Schaltungen, die eine oder mehrere innenliegende Schaltungsschichten enthalten, werden heutzutage in sehr großem Umfang verwendet, da die Notwendigkeit, Gewicht und Platzbedarf in elektronischen Vorrichtungen immer weitergehend zu bewahren, zunimmt.
- Bei der typischen Herstellung einer eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden gedruckten Schaltung werden zuerst mit einem Muster versehene innenliegende Schaltungsschichten hergestellt durch ein Verfahren, bei welchem ein mit Kupferfolie ummanteltes dielektrisches Substratmaterial mit einem Muster aus Resist in Form des positiven Bilds des gewünschten Schaltungsmusters versehen wird, gefolgt von einem Wegätzen des exponierten Kupfers. Nach der Entfernung des Resists bleibt das gewünschte Kupferschaltungsmuster zurück.
- Eine oder mehrere innenliegende Schaltungsschichten mit einer jeglichen bestimmten Art oder jeglichen bestimmten Arten von Schaltungsmuster wie auch innenliegende Schaltungsschichten, die Erdungsebenen und Strom führende Ebenen bilden könnten, werden zu einer eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden Schaltung zusammengebaut, indem eine oder mehrere Schichten aus teilweise gehärtetem dielektrischem Substratmaterial (sogenannte „Prepreg"-Schichten) zwischen den innenliegenden Schaltungsschichten angeordnet werden, um ein Verbundmaterial aus alternierenden innenliegenden Schaltungsschichten und dielektrischem Substratmaterial herzustellen. Das Verbundmaterial wird dann Wärme und Druck unterworfen, um das teilweise gehärtete Substratmaterial zu härten und eine Verklebung der innenliegenden Schaltungsschichten damit zu erzielen. In dem so gehärteten Verbundmaterial wird dann eine Anzahl von durchgehenden Löchern durch dieses hindurch gebohrt werden, die dann metallisiert werden, um ein Mittel bereitzustellen, um alle Schaltungsschichten leitend zu verbinden. Im Verlauf des Metallisierungsverfahrens der durchgehenden Löcher werden auch typischerweise gewünschte Schaltungsmuster auf den nach Außen weisenden Schichten des eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden Verbundmaterials gebildet.
- Ein alternativer Ansatz zu der Herstellung einer eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden gedruckten Leiterplatte erfolgt durch additive oder Oberflächenlaminierungs-Schaltungstechniken. Diese Techniken beginnen mit einem nicht-leitfähigen Substrat, auf welches die Schaltungselemente additiv plattiert werden. Weitere Schichten werden erzielt, indem wiederholt ein mit einem Bild versehbarer Überzug auf die Schaltung aufgebracht wird und weitere Schaltungselemente auf den mit einem Bild versehbaren Überzug plattiert werden.
- Es ist seit langem bekannt, dass die Festigkeit der Klebebindung, die zwischen dem Kupfermetall der innenliegenden Schaltungsschichten und den gehärteten Prepreg-Schichten oder anderen nicht-leitfähigen Überzügen, die damit in Kontakt stehen, gebildet wird, zu wünschen übriglässt mit dem Ergebnis, dass das gehärtete eine Mehrzahl von Schichten aufweisende Verbundmaterial oder der Überzug zu einer Delaminierung bei einer nachfolgenden Weiterverarbeitung und/oder Verwendung neigt. In Reaktion auf dieses Problem hat das Fachgebiet die Technik entwickelt, auf den Kupferoberflächen der innenliegenden Schaltungsschichten (bevor diese mit Prepreg-Schichten zu einem eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden Verbundmaterial zusammengefügt werden) eine Schicht aus Kupferoxid zu bilden, wie beispielsweise durch chemische Oxidation der Kupferoberflächen. Die frühesten Bemühungen in dieser Hinsicht (sogenannte „black oxide" (schwarzes Oxid)-Haftverstärker) erzeugten eine lediglich minimale Verbesserung bei der Verklebung der innenliegenden Schaltungsschichten mit den dielektrischen Substratschichten in der fertigen eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden Schaltung verglichen mit jener, die ohne das Vorsehen von Kupferoxid erzielt wurde. Nachfolgende Variationen an der „black oxide"-Technik umfassten Verfahren, in welchen zuerst ein „black oxide"- Überzug auf der Kupferoberfläche erzeugt wurde, gefolgt von einer Nachbehandlung der Abscheidung aus „black oxide" mit 15%-iger Schwefelsäure, um ein „red oxide" (rotes Oxid) herzustellen, welches als Haftverstärker dienen sollte, wie von A.G. Osborne, „An Alternate Route To Red Oxide For Inner Layers", PC Fab. August 1984, offenbart wurde, wie auch Variationen, welche eine direkte Bildung eines „red oxide"-Haftverstärkers umfassten, wobei unterschiedliche Erfolgsausmaße erzielt wurden. Die bemerkenswerteste Verbesserung in diesem Fachgebiet wird in den U.S.-Patenten mit den Nr. 4,409,037 und 4,844,981 von Landau dargestellt, wobei die Lehren von beiden in ihrer Gänze in diese Unterlagen unter Bezugnahme aufgenommen werden, welche ausgehend von oxidierenden Kupferzusammensetzungen mit relativ hohem Chloritgehalt und relativ niedrigem Alkaligehalt gebildete Oxide umfasste und deutlich verbesserte Ergebnisse bei der Haftung von innenliegenden Schaltungsschichten erzeugte.
- Wie früher festgestellt, wird das zusammengefügte und gehärtete eine Mehrzahl von Schichten aufweisende Schaltungs-Verbundmaterial mit durchgehenden Löchern versehen, die dann eine Metallisierung benötigen, um als ein Mittel für die leitende Verbindung der Schaltungsschichten der Schaltung dienen zu können. Die Metallisierung der durchgehenden Löcher umfasst Schritte einer Entfernung von Harz-Verschmutzungen an den Lochoberflächen, katalytischen Aktivierung, elektrolosen Kupferabscheidung, elektrolytischen Kupferabscheidung und dergleichen. Viele dieser Verfahrensschritte umfassen die Verwendung von Medien, wie Säuren, die in der Lage sind, den Überzug aus Kupferoxid-Haftverstärker auf den bei oder nahe dem durchgehenden Loch exponierten Abschnitten der innenliegenden Schaltungsschichten aufzulösen. Diese lokalisierte Auflösung des Kupferoxids, die durch die Bildung eines rosafarbenen Rings oder Hofs um das durchgehende Loch herum (aufgrund der rosa Farbe des darunterliegenden Kupfermetalls, das dadurch exponiert wird) nachgewiesen wird, kann ihrerseits zu einer lokalisierten Delaminierung bei der eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden Schaltung führen.
- Das Fachgebiet ist sich dieses „pink ring"-Phänomens sehr bewusst und hat intensive Bemühungen darauf verwandt im Bemühen, zu einem Herstellungsverfahren für eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden gedruckten Schaltungen zu gelangen, welches zu keiner derartigen lokalisierten Delaminierung neigt. Ein vorgeschlagener Ansatz bestand darin, das haftverstärkende Kupferoxid als einen dicken Überzug bereitzustellen, um dessen Auflösung bei einer nachfolgenden Verarbeitung einfach aufgrund des schieren Kupferoxid-Volumens, das vorhanden ist, zu verzögern. Dies erweist sich jedoch als im Wesentlichen kontraproduktiv, da der dickere Oxidüberzug als ein Haftverstärker per se inhärent weniger wirksam ist. Andere Vorschläge, die die Optimierung der Press/Härtungsbedingungen für das Zusammenbauen des eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden Verbundmaterials betreffen, sind nur von begrenztem Erfolg gewesen.
- Andere Ansätze für dieses Problem umfassen eine Nachbehandlung des haftungsverstärkenden Kupferoxidüberzugs vor dem Zusammenbauen der innenliegenden Schaltungsschichten und Prepreg-Schichten zu einem eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden Verbundmaterial. Beispielsweise offenbart das U.S.-Patent Nr. 4,775,444 von Cordani ein Verfahren, in welchem die Kupferoberflächen der innenliegenden Schaltungsschichten zuerst mit einem Kupferoxidüberzug versehen und dann mit einer wässrigen Chromsäurelösung in Kontakt gebracht werden, bevor die innenliegenden Schaltungsschichten in die eine Mehrzahl von Schichten aufweisende Anordnung eingebaut werden. Die Behandlung dient dazu, den Kupferoxid-Überzug vor einer Auflösung in den sauren Medien, auf welche er in nachfolgenden Verarbeitungsschritten trifft (z.B. Metallisierung der durchgehenden Löcher), zu stabilisieren und/oder zu schützen, wodurch „pink ring"/Delaminierungsmöglichkeiten minimiert werden.
- Das U.S.-Patent Nr. 4,642,161 von Akahoshi et al., das U.S.-Patent Nr. 4,902,551 von Nakaso et al. und das U.S.-Patent Nr. 4,981,560 von Kajihara et al. und diverse Literaturstellen, die darin zitiert werden, betreffen Verfahren, in denen die Kupferoberflächen der innenliegenden Schaltungsschichten vor dem Einbau der innenliegenden Schaltungsschichten in eine eine Mehrzahl von Schichten aufweisende Schaltungsbaugruppe zuerst behandelt werden, um einen Oberflächenüberzug aus haftungsverstärkendem Kupferoxid bereitzustellen. Das so gebildete Kupferoxid wird dann zu metallischem Kupfer unter Verwendung von bestimmten Reduktionsmitteln und -bedingungen reduziert. Als Folge wird die eine Mehrzahl von Schichten aufweisende Baugruppe, die solche innenliegenden Schaltungsschichten einsetzt, keine „pink ring"-Bildung zeigen, da es kein Kupferoxid, das für eine lokalisierte Auflösung zur Verfügung steht, und keine lokalisierte Exposition von darunterliegendem Kupfer bei einer nachfolgenden Bearbeitung der durchgehenden Löcher gibt. Wie bei anderen Techniken gibt es jedoch bei Verfahren dieser Art Befürchtungen hinsichtlich der Haftung, die zwischen den dielektrischen Substratschichten und den innenliegenden Schaltungsschichten aus metallischem Kupfer erzielbar ist. Dies ist bei diesen Reduktionsverfahren ganz besonders so, da die der Verklebung dienende Schaltungsoberfläche nicht nur aus metallischem Kupfer besteht, sondern auch das metallische Kupfer in unterschiedlichen Phasen aufweist (d.h. (1) Kupfer-aus-einer-Reduktion-von-Kupferoxid gegenüber (2) Kupfer der Kupferfolie), welche zu einer Trennung/Delaminierung entlang der Phasengrenze neigen.
- Die U.S.-Patente mit den Nr. 4,997,722 und 4,997,516 von Adler umfassen in ähnlicher Weise die Bildung eines Kupferoxid-Überzugs auf den Kupferoberflächen von innenliegenden Schaltungsschichten, gefolgt von einer Behandlung mit einer speziellen reduzierenden Lösung, um das Kupferoxid zu metallischem Kupfer zu reduzieren. Bestimmte Abschnitte des Kupferoxids können offensichtlich nicht vollständig zu metallischem Kupfer reduziert werden (wobei sie stattdessen zu wässrigem Kupfer(I)-oxid oder Kupfer(I)-hydroxid reduziert werden) und diese Spezies werden nachfolgend mittels einer nicht-oxidierenden Säure, die die bereits zu metallischem Kupfer reduzierten Abschnitte nicht angreift oder auflöst, abgelöst. Als solche wird die eine Mehrzahl von Schichten aufweisende Baugruppe, welche solche innenliegenden Schaltungsschichten einsetzt, keine „pink ring"-Bildung zeigen, da kein Kupferoxid für eine lokalisierte Auflösung und eine lokalisierte Exposition von darunterliegendem Kupfer bei einer nachfolgenden Bearbeitung der durchgehenden Löcher vorhanden ist. Auch hier können jedoch wieder Probleme in Hinblick auf die Haftung zwischen den dielektrischen Schichten und den innenliegenden Schaltungsschichten aus metallischem Kupfer auftreten, erstens da die der Verklebung dienende Oberfläche aus metallischem Kupfer besteht und zweitens, da das metallische Kupfer überwiegend in unterschiedlichen Phasen vorliegt (d.h. (1) Kupfer-aus-einer-Reduktion-von-Kupferoxid gegenüber (2) Kupfer der Kupferfolie), eine Situation, welche zu einer Trennung/Delaminierung entlang der Phasengrenze neigt.
- Das U.S.-Patent Nr. 5,289,630 von Ferrier et al. offenbart ein Verfahren, durch welches eine haftungsverstärkende Schicht von Kupferoxid auf den Schaltungselementen gebildet wird, gefolgt von einer kontrollierten Auflösung und Entfernung einer substantiellen Menge des Kupferoxids in einer Weise, die die Topographie nicht nachteilig beeinflusst.
- Die PCT-Anmeldung Nr. WO 96/19097 von McGrath (und das verwandte U.S.-Patent Nr. 5,800,859) diskutiert ein Verfahren zur Verbesserung der Haftung von polymeren Materialien an einer Metalloberfläche. Das diskutierte Verfahren umfasst, die Metalloberfläche mit einer haftungsverstärkenden Zusammensetzung, umfassend Wasserstoffperoxid, eine anorganische Säure, einen Korrosionshemmer und ein quartäres Ammonium-Surfactant, in Kontakt zu bringen.
- US-A-6036758 offenbart eine Zusammensetzung mit den Merkmalen des vor dem kennzeichnenden Teil gelegenen Abschnitts von Anspruch 1.
- Diese Erfindung schlägt eine Zusammensetzung zur Erhöhung der Haftung von polymeren Materialien an einer Metalloberfläche, speziell Kupfer- oder Kupferlegierungs-Oberflächen, vor. Die hier vorgeschlagene Zusammensetzung ist besonders nützlich bei der Herstellung von eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden gedruckten Schaltungen.
- ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
- Die Erfindung stellt eine Zusammensetzung bereit, die bei der Erhöhung der Haftung eines polymeren Materials an einer Metalloberfläche nützlich ist, wobei die Zusammensetzung umfasst: a. ein Oxidationsmittel; b. eine Säure; c. einen Korrosionshemmer; und d. eine organische Nitro-Verbindung, welche dadurch gekennzeichnet ist, dass die organische Nitro-Verbindung ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus p-Nitrophenol, 3,5-Dinitrosalicylsäure und 3,5-Dinitrobenzoesäure, und dadurch, dass die Zusammensetzung weiter umfasst: e. eine Quelle von Halogenidionen.
- Die hier vorgeschlagene Zusammensetzung ermöglicht eine optimale Haftung zwischen den metallischen und polymeren Oberflächen (d.h. der Schaltung und der dazwischenliegenden isolierenden Schicht).
- Die hier vorgeschlagene Zusammensetzung ermöglicht eine optimale Haftung zwischen den metallischen und polymeren Oberflächen (d.h. der Schaltung und der dazwischenliegenden isolierenden Schicht), beseitigt oder minimiert den „pink ring" und arbeitet wirtschaftlich, alles verglichen mit herkömmlichen Verfahren.
- Die Erfinder haben festgestellt, dass die vorangegangene Zusammensetzung die Haftung von Metalloberflächen an den polymeren Materialien verbessert, insbesondere, wenn die Metalloberflächen Kupfer oder Kupferlegierungen umfassen. Das Verfahren unter Verwendung der Zusammensetzung der Erfindung ist besonders geeignet für die Herstellung von eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden gedruckten Leiterplatten.
- DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
- Lediglich beispielhaft werden jetzt Ausführungsformen der Erfindung beschrieben.
- Der hiesige Erfinder hat festgestellt, dass die Haftung zwischen einer Metalloberfläche und einem polymeren Material erhöht wird, indem die Metalloberfläche mit einer haftungsverstärkenden Zusammensetzung in Kontakt gebracht wird, bevor das polymere Material mit der Metalloberfläche verklebt wird. Die Erfindung schlägt dementsprechend ein Verfahren zur Erhöhung der Haftung eines polymeren Materials an einer Metalloberfläche vor, wobei das Verfahren umfasst:
- 1) In-Kontakt-Bringen der Metalloberfläche mit einer haftungsverstärkenden Zusammensetzung, umfassend: a) ein Oxidationsmittel; b) eine Säure; c) einen Korrosionshemmer; d) eine organische Nitro-Verbindung, vorzugsweise eine aromatische Nitro-Verbindung und am meisten bevorzugt eine organische Nitro-Verbindung, die aus der Gruppe bestehend aus Natriummeta nitrobenzolsulfonat, p-Nitrophenol, 3,5-Dinitrosalicylsäure und 3,5-Dinitrobenzoesäure ausgewählt ist. e) gegebenenfalls ein Benzotriazol mit einer Elektronen abziehenden Gruppe in der Position 1, wobei die Elektronen abziehende Gruppe eine stärker Elektronen abziehende Gruppe als eine Wasserstoffgruppe ist und welche Elektronen abziehende Gruppe vorzugsweise aus der aus Hydroxygruppen, Aminogruppen, Nitrogruppen, Nitrigruppen, Sulfonatgruppen, Carboxylatgruppen, Halogenidgruppen, Mercaptangruppen und ungesättigten Alkylgruppen bestehenden Gruppe ausgewählt ist; f) gegebenenfalls eine haftungsverbessernde Spezies, welche Spezies ausgewählt sind aus der Gruppe bestehend aus Molybdaten, Wolframaten, Tantalaten, Niobaten, Vanadaten, Isopoly- oder Heteropolysäuren von Molybdän, Wolfram, Tantal, Niob, Vanadium und Kombinationen von irgendwelchen der Vorangehenden; g) gegebenenfalls ein wasserlösliches Polymer; und h) gegebenenfalls eine Quelle von Halogenidionen.
- 2) danach Verbinden des polymeren Materials mit der Metalloberfläche.
- Die Erfinder haben festgestellt, dass die vorgeschlagene haftungsverstärkende Zusammensetzung eine mikro-aufgerauhte durch Umwandlung überzogene Oberfläche auf dem Metall erzeugt. Die erzeugte Oberfläche ist besonders geeignet für das Verbinden oder Verkleben mit polymeren Materialien, indem signifikant erhöhte Haftungswerte verglichen mit einer nicht-behandelten Metalloberfläche erzielt werden. Zusätzlich hält die durch Umwandlung überzogene (behandelte) Metalloberfläche die verstärkte Haftung über die Zeit bei und verringert die Wahrscheinlichkeit von jeglichen unerwünschten Reaktionen, welche mit der Zeit zwischen dem Metall und dem polymeren Material auftreten.
- Das vorgeschlagene Verfahren ist besonders geeignet für die Herstellung von eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden gedruckten Leiterplatten. Dementsprechend wird in dieser Anmeldung die Metallschaltung (üblicherweise Kupfer) der innenliegenden Schichten mit der hier vorgeschlagenen haftungsverstärkenden Zusammensetzung behandelt. Nach der Behandlung, gefolgt von Spülen mit Wasser, werden die innenliegenden Schichten mit polymeren Materialien, wie Prepregs oder mit einem Bild versehbaren Dielektrika, miteinander verklebt, was zu der eine Mehrzahl von Schichten aufweisenden gedruckten Leiterplatte führt.
- Die Metalloberfläche, die behandelt werden soll, kann verschiedene Metalle, wie Kupfer, Kupferlegierungen, Nickel und Eisen, umfassen. Das Verfahren der Erfindung erzeugt jedoch die besten Ergebnisse, wenn die Metalloberflächen Kupfer oder Kupferlegierungen umfassen. Das polymere Material kann aus verschiedenen polymeren Materialien bestehen, einschließlich Prepreg-Materialien, mit einem Bild versehbare Dielektrika, photostrukturierbare oder -sensitive Harze, Lötmasken, Klebstoffe oder polymere Ätzresists.
- Das Oxidationsmittel, das in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung verwendet wird, kann ein jegliches Oxidationsmittel umfassen, das in der Lage ist, die Metalloberfläche in der Matrix der haftungsverstärkenden Zusammensetzung zu oxidieren. Die Erfinder haben festgestellt, dass Wasserstoffperoxid und Persulfate besonders bevorzugte Oxidationsmittel für eine Verwendung in dem Verfahren der Erfindung sind, wobei Wasserstoffperoxid das am meisten bevorzugte Oxidationsmittel ist. Die Konzentration des Oxidationsmittels in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung kann von 0,5 bis 120 Gramm pro Liter reichen, beträgt aber vorzugsweise 2 bis 60 Gramm pro Liter und beträgt am meisten bevorzugt 3 bis 30 Gramm pro Liter.
- Die Säure, die in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung verwendet wird, kann eine jegliche Säure sein, die in der Matrix stabil ist; die Erfinder haben jedoch festgestellt, dass Mineralsäuren besonders bevorzugt sind. Schwefelsäure ist besonders bevorzugt. Die Konzentration der Säure in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung kann von 1 bis 360 Gramm pro Liter reichen, beträgt aber vorzugsweise 20 bis 110 Gramm pro Liter.
- Der Korrosionshemmer, der in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung verwendet wird, ist eine Verbindung, die wirksam mit der Metalloberfläche unter Bildung einer schützenden komplexen Schicht reagiert. Bevorzugte Korrosionshemmer werden aus der aus Triazolen, Benzotriazolen, Tetrazolen, Imidazolen, Benzimidazolen und Mischungen der Vorangegangenen bestehenden Gruppe ausgewählt. Benzotriazole sind besonders bevorzugt. Die Konzentration des Korrosionshemmers in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung kann von 0,1 bis 50 Gramm pro Liter reichen, beträgt aber vorzugsweise 0,2 bis 5 Gramm pro Liter.
- Die Erfinder haben festgestellt, dass die Aufnahme von organischen Nitro-Verbindungen, vorzugsweise aromatischen Nitro-Verbindungen, in die haftungsverstärkende Zusammensetzung eine Zusammensetzung ergibt, die mit einer metallischen Oberfläche, insbesondere Kupfer oder Kupferlegierungen, reagieren wird unter Bildung einer gleichförmigen, durch Umwandlung überzogenen Metalloberfläche, die sich gut mit polymeren Materialien verbinden oder verkleben lässt, während die Metalloberfläche mit relativ niedrigen Raten geätzt wird. Niedrige Metallätzraten sind aus wenigstens drei Gründen vorteilhaft. Erstens entfernt eine niedrige Ätzrate weniger Metall von der Oberfläche, wodurch mehr des ursprünglichen Metallquerschnitts intakt gelassen wird. Das Vorangegangene ist besonders wichtig für Schaltungsbahnen mit Impedanz- oder Widerstandstoleranzen, die beibehalten werden müssen, da diese Eigenschaften in direkter Beziehung zu der Querschnittsfläche der Schaltung stehen. Zweitens eröffnen niedrige Metallätzraten die Möglichkeit, fehlerhafte Abschnitte zu überarbeiten. Als Letztes verringern niedrige Metallätzraten die Rate, mit welcher sich Metall in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung anhäuft. Da der Aufbau oder die Anhäufung von Metall in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung eine Auswirkung auf die spätere Nutzungsdauer der Zusammensetzung hat, führen niedrigere Ätzraten zu einer verlängerten Nutzungsdauer für die haftungsverstärkenden Lösungen in Bezug auf die maximalen Quadratfuss Metall, welche pro Gallone von haftungsverstärkender Zusammensetzung verarbeitbar sind. Die in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung dieser Erfindung verwendbaren organischen Nitro-Verbindungen sind vorzugsweise aromatische Nitro-Verbindungen. Einige Beispiele von besonders nützlichen organischen Nitro-Verbindungen sind Natriummetanitrobenzolsulfonat, p-Nitrophenol, 3,5-Dinitrosalicylsäure und 3,5-Dinitrobenzoesäure. Die Konzentration der organischen Nitro-Verbindung in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung kann von 0,05 bis 25 Gramm pro Liter reichen, beträgt aber vorzugsweise 0,1 bis 10 Gramm pro Liter und beträgt am meisten bevorzugt 0,2 bis 2 Gramm pro Liter.
- Die Erfinder haben auch festgestellt, dass die Zugabe eines Benzotriazols mit einer Elektronen abziehenden Gruppe in der 1-Position, welche Elektronen abziehende Gruppe eine stärkere Elektronen abziehende Gruppierung als eine Wasserstoffgruppe ist, Vorteile in Hinblick auf die Gleichförmigkeit des hergestellten Überzugs und der nach einem Verkleben erzielten Haftung bringt. Die Erfinder haben festgestellt, dass die Elektronen abziehende Gruppe vorzugsweise ausgewählt wird aus der Gruppe bestehend aus Hydroxygruppen, Aminogruppen, Nitrogruppen, Nitrigruppen, Sulfonatgruppen, Carboxylatgruppen, Halogenidgruppen, Mercaptangruppen und ungesättigten Alkylgruppen. Am meisten bevorzugt ist die Elektronen abziehende Gruppe eine Hydroxygruppe und dementsprechend ist das am meisten bevorzugte Material in dieser Hinsicht 1-Hydroxybenzotriazol mit der folgenden Struktur:
- Der Korrosionshemmer und das Benzotriazol mit einer Elektronen abziehenden Gruppe in der 1-Position können beides die gleiche Verbindung sein. Beispielsweise kann 1-Hydroxybenzotriazol sowohl die Rolle des Korrosionshemmers als auch die Rolle des Benzotriazols mit der Elektronen abziehenden Gruppe in der 1-Position spielen.
- Die Vorteile, die bei der Verwendung der vorangegangenen Materialien erzielbar sind, sind am ausgeprägtesten, wenn eine Quelle von die Haftung verbessernden Spezies, wie nachfolgend beschrieben, in Verbindung mit den vorangegangenen Materialien in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung verwendet wird. Die Erfinder haben festgestellt, dass die vorgeschlagene Kombination synergistische Wirkungen erzeugt. Die Konzentration des Benzotriazols mit der Elektronen abziehenden Gruppe in der 1-Position kann von 0,2 g/l bis 20 g/l reichen, beträgt aber vorzugsweise 0,5 g/l bis 5 g/l.
- Die Quelle von die Haftung verbessernden Spezies kann ein jegliches Material sein, das zu der haftungsverstärkenden Zusammensetzung Spezies, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Molybdaten, Wolframaten, Tantalaten, Niobaten, Vanadaten und Mischungen davon, beitragen wird. Solche Quellen umfassen Alkalimetallsalze von Molybdaten, Wolframat, Tantalaten, Niobaten, Vanadaten und Mischungen davon, wie Natrium- (oder Kalium-) -molybdat, -wolframat, -niobat oder -vanadat, und Heteropolysäuren oder Isopolysäuren von Molybdän, Wolfram, Tantal, Niob oder Vanadium. Dementsprechend sind Molybdate oder Wolframate, die Heteroatome, wie Phosphor, Silicium, Cobalt, Mangan und Wolfram, umfassen, geeignet. Bevorzugte Quellen umfassen Iso- und Heteropolysäuren von Molybdän, Wolfram, Niob, Vanadium und Mischungen davon, wie Molybdänsäure, Vanadiumsäure und Wolframsäure. Die am meisten bevorzugte Quelle von die Haftung verbessernden Spezies ist Molybdänsäure. Die Konzentration der die Haftung verbessernden Spezies in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung kann von 1 mg/l bis 500 mg/l reichen (basierend auf dem Gehalt an die Haftung verbessernden Ionen), beträgt aber vorzugsweise 5 mg/l bis 200 mg/l. Die haftungsverbessernde Spezies kann mit dem oder ohne das Benzotriazol mit der Elektronen abziehenden Gruppe in der Position 1 eingesetzt werden.
- Gegebenenfalls kann die haftungsverstärkende Zusammensetzung auch ein wasserlösliches Polymer umfassen. Sofern verwendet, ist das wasserlösliche Polymer vorzugsweise kein Benetzungsmittel oder grenzflächenaktives Mittel, sondern ist stattdessen ein wasserlösliches Homopolymer oder Copolymer von wasserlöslichen Monomeren mit niedrigem Molekulargewicht. Am meisten bevorzugt ist das wasserlösliche Polymer ein Polymer von Ethylenoxid, ein Ethylenoxid-Propylenoxid-Copolymer, Polyethylenglycole, Polypropylenglycole oder Polyvinylalkohole. Unter den am meisten bevorzugten sind die Polymere von Ethylenoxid oder Polyethylenglycole, die von der Union Carbide Company unter dem Handelsnamen Carbowax (eingetragene Marke) vertrieben werden. Die Erfinder haben festgestellt, dass Carbowax 750 und Carbowax MPEG 2000 besonders nützlich sind. Auch besonders nützlich sind die Ethylenoxid-Polymere oder Ethylenoxid-Propylenoxid-Copolymere, die von der Firma BASF unter dem Handelsnamen Pluronic (eingetragene Marke) vertrieben werden. Die Konzentration des wasserlöslichen Polymers in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung kann von 0,2 bis 15 Gramm pro Liter reichen, beträgt aber vorzugsweise 3 bis 6 Gramm pro Liter.
- Die haftungsverstärkende Zusammensetzung enthält vorzugsweise eine Quelle von Halogenidionen. Die Quelle von Halogenidionen kann eine jegliche Verbindung sein, die in der Matrix der haftungsverstärkenden Zusammensetzung Halogenidionen bereitstellen würde. Die Quelle von Halogenidionen sind vorzugsweise Alkalimetallsalze, wie Natriumchlorid oder Kaliumchlorid, Oxohalogenide, wie Natriumchlorat oder Kaliumchlorat, oder Halogenid enthaltende Mineralsäuren, wie Salzsäure. Die Quelle von Halogenidionen stellt der haftungsverstärkenden Zusammensetzung vorzugsweise Chloridionen bereit. Die Konzentration der Quelle von Halogenidionen in der haftungsverstärkenden Zusammensetzung kann von 0,5 bis 500 Milligramm pro Liter reichen, beträgt aber vorzugsweise 1 bis 12 Milligramm pro Liter, alles basierend auf dem Halogenidionen-Gehalt.
- Dementsprechend sollte die haftungsverstärkende Zusammensetzung eine Säure, ein Oxidationsmittel, einen Korrosionshemmer und eine organische Nitro-Verbindung enthalten. Die Zusammensetzung umfasst auch vorzugsweise ein Benzotriazol mit einer Elektronen abziehenden Gruppe in der Position 1, wie hier beschrieben, oder der Korrosionshemmer kann das Benzotriazol mit der Elektronen abziehenden Gruppe in der Position 1 sein. In jedem Falle umfasst die Zusammensetzung vorzugsweise auch die die Haftung verbessernde Spezies, wie hier beschrieben, unabhängig davon, ob das Benzotriazol mit der Elektronen abziehenden Gruppe in der Position 1 verwendet wird oder nicht. Zusätzlich umfasst die haftungsverstärkende Zusammensetzung auch vorzugsweise eine Quelle von Halogenidionen.
- Die Metalloberfläche kann mit der haftungsverstärkenden Zusammensetzung auf verschiedene Weisen; einschließlich Eintauchen, Besprühen oder Fluten, behandelt werden. Die Temperatur der haftungsverstärkenden Zusammensetzung während der Behandlung kann von 27°C bis 66°C (80°F bis 150°F) reichen, beträgt aber vorzugsweise 32°C bis 49°C (90°F bis 120°F). Die Behandlungsdauer wird abhängig von der Temperatur und dem Behandlungsverfahren variieren, kann aber von 15 s bis 15 min reichen und beträgt vorzugsweise 1 bis 2 min.
- Die folgenden nicht-einschränkenden Beispiele sollen die Erfindung veranschaulichen Der folgende Zyklus wurde bei der Verarbeitung der mit Kupfer plattierten Tafeln und Kupferfolien in allen der folgenden Beispiele verwendet:
Zeit (min) 5% Schwefelsäure, 21°C (70°F) 1 Spülen mit kaltem Wasser 1 Alkaline Soak Cleaner, 66°C (150°F) 2 Spülen mit kaltem Wasser 2 Vortauchbad (2 g/l Benzotriazol, 1 % (Vol./Vol.) 50% H2O2), 21°C (70°F) 1 Haftungsverstärkungslösung, 38°C (100°F) 1 Spülen mit kaltem Wasser 1 Umlufttrocknung 1 - Vergleichsbeispiel
- Es wurde eine Haftungsverstärkungszusammensetzung mit der folgenden Zusammensetzung hergestellt: 140 g/l Kupfersulfat-Pentahydrat, 0,2 g/l Benzotriazol, 3 g/l 1-Hydroxybenzotriazol, 9 mg/l Natriumchlorid, 2 Vol.-% Schwefelsäure und 1,5 Vol.-% 50 Gew.-% Wasserstoffperoxid. Mittels dieser Lösung verarbeitete Kupferoberflächen hatten ein nicht-gleichförmiges dunkelrosafarbenes Erscheinungsbildung und zeigten einen Gewichtsverlust, der zu einer Dicke von Kupfer von 35 Mikrozoll äquivalent war.
- Beispiele 1–14'
- Lösungen, die in den folgenden Beispielen verwendet werden, wurden auf die gleiche Weise wie in dem Vergleichsbeispiel hergestellt, wobei die Konzentrationen der folgenden Komponenten auf die in der nachfolgenden Tabelle I angegebenen Konzentrationen eingestellt wurden, wobei das resultierende Erscheinungsbild und die resultierende Ätzrate auf einer Kupferoberfläche wie in der nachfolgenden Tabelle I angegeben sind. Beispiel 1 ist nicht gemäß der beanspruchten Erfindung.
- Die Abkürzungen in Tabelle I stellen die folgenden Komponenten dar:
MNBS = Natriummetanitrobenzolsulfonat
PNP = p-Nitrophenol
DNSA = 3,5-Dinitrosalicylsäure
DNBA = 3,5-Dinitrobenzoesäure
μln = Mikrozoll - Das Erscheinungsbild von jeder der behandelten Kupferoberflächen in Tabelle 1 war gleichförmig. Nach der Behandlung wurden die mit Kupfer plattierten Tafeln und Folien mittels eines NELCO (eingetragene Marke) 4205-2 B-Stage-Materials zusammen laminiert und geätzt, um 2,54 cm (ein Zoll)-Streifen herzustellen. Diese Streifen wurden in 288°C (550°F) heißes Lötmittel null, zehn und zwanzig Sekunden eingetaucht. Die Streifen wurden dann abgezogen oder abgeschält, um die Festigkeit der Bindung des Kupfers an das Polymer nach der Laminierung zu bestimmen. Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle II aufgeführt.
Claims (9)
- Zusammensetzung, die bei der Erhöhung der Haftung eines polymeren Materials an einer Metalloberfläche nützlich ist, wobei die Zusammensetzung umfasst: a. ein Oxidationsmittel, das ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Wasserstoffperoxid und Persulfaten; b. eine Säure; c. einen Korrosionshemmer, der ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus Triazolen, Benzotriazolen, Imidazolen, Tetrazolen und Mischungen der Vorangehenden; d. eine organische Nitro-Verbindung; dadurch gekennzeichnet, dass die organische Nitro-Verbindung ausgewählt ist aus der Gruppe bestehend aus p-Nitrophenol, 3,5-Dinitrosalicylsäure und 3,5-Dinitrobenzoesäure und dadurch, dass die Zusammensetzung weiter umfasst: e. eine Quelle von Halogenidionen.
- Zusammensetzung nach Anspruch 1, in der die haftungsfördernde Zusammensetzung auch ein Benzotriazol mit einer Elektronen abziehenden Gruppe in der Position 1 umfasst, wobei die Elektronen abziehende Gruppe stärker Elektronen abziehend ist als eine Wasserstoffgruppe.
- Zusammensetzung nach Anspruch 1, in der die haftungsfördernde Zusammensetzung auch eine Quelle von haftungsverbessernden Spezies umfasst, wobei die Spezies ausgewählt sind aus der Gruppe bestehend aus Molybdaten, Wolframaten, Tantalaten, Niobaten, Vanadaten, Isopoly- oder Heteropolysäuren von Molybdän, Wolfram, Tantal, Niob oder Vanadium und Kombinationen von irgendwelchen der Vorangehenden.
- Zusammensetzung nach Anspruch 1, in der die haftungsfördernde Zusammensetzung auch ein wasserlösliches Polymer umfasst.
- Zusammensetzung nach Anspruch 1, in der die Konzentration des Oxidationsmittels 0,5 bis 120 Gramm pro Liter beträgt, die Konzentration der Säure 1 bis 360 Gramm pro Liter beträgt, die Konzentration des Korrosionshemmers 0,1 bis 50 Gramm pro Liter beträgt, die Konzentration des Halogenidions 0,5 bis 500 Milligramm pro Liter beträgt und die Konzentration der organischen Nitro-Verbindung 0,05 bis 25 Gramm pro Liter beträgt.
- Zusammensetzung nach Anspruch 2, in der das Benzotriazol 1-Hydroxybenzotriazol ist.
- Zusammensetzung nach Anspruch 2, in der die Konzentration des Benzotriazols 0,2 bis 20 Gramm pro Liter beträgt.
- Zusammensetzung nach Anspruch 3, in der die haftungsverstärkenden Spezies ausgewählt sind aus der Gruppe bestehend aus Molybdaten, Wolframaten, Vanadaten und Kombinationen der Vorangehenden.
- Zusammensetzung nach Anspruch 3, in der die Konzentration der haftungsverstärkenden Spezies 1 bis 500 Milligramm pro Liter beträgt.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US590046 | 2000-06-08 | ||
US09/590,046 US6383272B1 (en) | 2000-06-08 | 2000-06-08 | Process for improving the adhesion of polymeric materials to metal surfaces |
PCT/US2001/014012 WO2001094033A1 (en) | 2000-06-08 | 2001-05-01 | Process for improving the adhesion of polymeric materials to metal surfaces |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE60122509D1 DE60122509D1 (de) | 2006-10-05 |
DE60122509T2 true DE60122509T2 (de) | 2007-05-03 |
Family
ID=24360670
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE60122509T Expired - Lifetime DE60122509T2 (de) | 2000-06-08 | 2001-05-01 | Verfahren zur verbesserung der adhäsion von polymerischen materialien an metalloberflächen |
DE60142648T Expired - Lifetime DE60142648D1 (de) | 2000-06-08 | 2001-05-01 | Zusammensetzung zur Verbesserung der Haftfähigkeit von Polymeren an der Metalloberflächen |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE60142648T Expired - Lifetime DE60142648D1 (de) | 2000-06-08 | 2001-05-01 | Zusammensetzung zur Verbesserung der Haftfähigkeit von Polymeren an der Metalloberflächen |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6383272B1 (de) |
EP (2) | EP1289678B1 (de) |
JP (1) | JP3884706B2 (de) |
CN (1) | CN1282505C (de) |
AU (1) | AU2001259312A1 (de) |
CA (1) | CA2407280A1 (de) |
DE (2) | DE60122509T2 (de) |
ES (2) | ES2271008T3 (de) |
TW (1) | TWI250048B (de) |
WO (1) | WO2001094033A1 (de) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7351353B1 (en) | 2000-01-07 | 2008-04-01 | Electrochemicals, Inc. | Method for roughening copper surfaces for bonding to substrates |
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JP7462654B2 (ja) | 2019-01-15 | 2024-04-05 | アトテック ドイチェランド ゲーエムベーハー ウント コ カーゲー | 銅表面に酸化銅を形成する方法 |
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-
2000
- 2000-06-08 US US09/590,046 patent/US6383272B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-05-01 CN CNB018106528A patent/CN1282505C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-01 ES ES01932816T patent/ES2271008T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-01 DE DE60122509T patent/DE60122509T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-01 EP EP01932816A patent/EP1289678B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-01 CA CA002407280A patent/CA2407280A1/en not_active Abandoned
- 2001-05-01 DE DE60142648T patent/DE60142648D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-01 AU AU2001259312A patent/AU2001259312A1/en not_active Abandoned
- 2001-05-01 ES ES06075567T patent/ES2347907T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-01 JP JP2002501596A patent/JP3884706B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-01 EP EP06075567A patent/EP1681373B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-01 WO PCT/US2001/014012 patent/WO2001094033A1/en active IP Right Grant
- 2001-05-21 TW TW090112075A patent/TWI250048B/zh not_active IP Right Cessation
-
2002
- 2002-02-27 US US10/090,048 patent/US6503566B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6383272B1 (en) | 2002-05-07 |
WO2001094033A1 (en) | 2001-12-13 |
ES2347907T3 (es) | 2010-11-25 |
JP3884706B2 (ja) | 2007-02-21 |
CA2407280A1 (en) | 2001-12-13 |
EP1289678B1 (de) | 2006-08-23 |
EP1681373B1 (de) | 2010-07-21 |
ES2271008T3 (es) | 2007-04-16 |
EP1289678A1 (de) | 2003-03-12 |
DE60122509D1 (de) | 2006-10-05 |
CN1282505C (zh) | 2006-11-01 |
JP2003535224A (ja) | 2003-11-25 |
TWI250048B (en) | 2006-03-01 |
AU2001259312A1 (en) | 2001-12-17 |
EP1681373A1 (de) | 2006-07-19 |
DE60142648D1 (de) | 2010-09-02 |
EP1289678A4 (de) | 2004-09-15 |
CN1431939A (zh) | 2003-07-23 |
US6503566B2 (en) | 2003-01-07 |
US20020124768A1 (en) | 2002-09-12 |
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