DE60033468T2 - Vorläufer für eine lithographische Druckplatte sowie Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents

Vorläufer für eine lithographische Druckplatte sowie Verfahren zu seiner Herstellung Download PDF

Info

Publication number
DE60033468T2
DE60033468T2 DE60033468T DE60033468T DE60033468T2 DE 60033468 T2 DE60033468 T2 DE 60033468T2 DE 60033468 T DE60033468 T DE 60033468T DE 60033468 T DE60033468 T DE 60033468T DE 60033468 T2 DE60033468 T2 DE 60033468T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
metal
printing plate
hydrophilic
particles
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE60033468T
Other languages
English (en)
Other versions
DE60033468D1 (de
Inventor
Kiyotaka Yoshida-cho Haibara-gun Fukino
Keiji Yoshida-cho Haibara-gun Akiyama
Shunsaku Yoshida-cho Haibara-gun Higashi
Satoshi Yoshida-cho Haibara-gun Hoshi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP23162799A external-priority patent/JP2001054986A/ja
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of DE60033468D1 publication Critical patent/DE60033468D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE60033468T2 publication Critical patent/DE60033468T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1025Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials using materials comprising a polymeric matrix containing a polymeric particulate material, e.g. hydrophobic heat coalescing particles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1041Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/04Intermediate layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06Developable by an alkaline solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/145Infrared

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft einen gegenüber direkter Wärme empfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufer zum Offsetdrucken, der keiner Entwicklung bedarf und eine herausragende Drucklebensdauer besitzt, einen nicht-bearbeitenden lithographischen Druckplattenvorläufer vom negativen Typ und ein Verfahren zur Herstellung desgleichen, und ein Verfahren zum lithographischen Drucken unter Verwendung desgleichen. Im Einzelnen betrifft die vorliegende Erfindung einen lithographischen Druckplattenvorläufer oder einen nicht-bearbeitenden lithographischen Druckplattenvorläufer vom negativen Typ und ein Verfahren zur Herstellung desgleichen, der durch Bildaufzeichnen im Wärmemodus hergestellt werden kann, Bildaufzeichnen durch Abtastbelichtung basierend auf digitalen Signalen durchführen kann, mit Wasser entwickelt werden kann, oder auf einen Drucker ohne Entwicklung ladbar ist und mit dem Drucken wie er ist, durchgeführt werden kann, und auf ein Verfahren zum lithographischen Drucken.
  • Eine lithographische Druckplatte umfasst im Allgemeinen einen lipophilen Bildbereich, der eine Tinte während dem Drucken empfängt, und einen hydrophilen Nicht-Bildbereich, der eine Wischlösung empfängt. Als solche sind ein lithographischer Druckplattenvorläufer, eine PS-Platte (vorsensibilisierte Platte), die einen hydrophilen Träger mit einer darauf bereitgestellten lipophilen lichtempfindlichen Harzschicht umfasst, bisher weithin verwendet worden. Ein Plattenherstellungsverfahren eines lithographischen Druckplattenvorläufers umfasst im Allgemeinen das Durchführen von Belichtung durch das Bild eines entwickelten Lith-Films und dergleichen und dann Auflösen und Entfernen eines Nicht-Bildbereichs mit einer Entwicklungslösung, um hierdurch eine Druckplatte zu erhalten.
  • Das herkömmliche Plattenherstellungsverfahren einer PS-Platte wird durch das Nassverfahren der Auflösung und Entfernung eines Nicht-Bildbereichs nach Belichtung begleitet, und es ist gewünscht gewesen, auf ein solches Nassverfahren zu verzichten oder dieses zu vereinfachen. Da die Entsorgung von Abfalllösungen, die als Folge des Nassverfahrens entladen werden, nicht nur eine ökonomische Last für die Industrie bedeutet, sondern auch vom Standpunkt des globalen Umweltschutzes erhebliche Bedeutung für die Industrie besitzt, besteht insbesondere in den letzten Jahren ein erhöhter Bedarf nach der Verbesserung dieses Aspektes.
  • Als ein einfaches Plattenherstellungsverfahren, das den vorstehenden Bedarf erfüllt, ist ein Verfahren zur Verwendung einer Bildaufzeichnungsschicht vorgeschlagen worden, durch welches die Entfernung des Nicht-Bildbereichs eines Druckplattenvorläufers bei dem gewöhnlichen Druckverfahren durchgeführt werden kann, und die Entwicklung nach Belichtung auf einem Drucker durchgeführt werden kann, um hierdurch eine Enddruckplatte zu erhalten. Ein System der Plattenherstellung einer lithographischen Druckplatte durch ein solches Verfahren wird ein Entwicklungssystem auf der Druckpresse genannt. Im Einzelnen kann z. B. ein Verfahren der Verwendung einer Bildaufzeichnungsschicht, die in einer Wischlösung und einem Tintenlösungsmittel löslich ist, und ein Verfahren zur Durchführung mechanischer Entfernung eines Nicht-Bildbereichs durch Kontakt mit der Eindrucktrommel und der Leertrommel in einem Drucker beispielhaft aufgeführt werden. Jedoch ist ein grobes Problem des Entwicklungssystems auf der Druckpresse, dass komplizierte Einrichtungen verwendet werden sollten, so dass ein Druckplattenvorläufer in einem vollständig vor Licht abgeschirmten Zustand oder unter einer konstanten Temperaturbedingung während der Zeitdauer, bis die Druckplatte auf einem Drucker geladen ist, gelagert werden muss, da eine Bildaufzeichnungsschicht nicht nach Belichtung fixiert wird.
  • Andererseits sind als ein anderer Trend auf diesem Gebiet digitalisierte Techniken der elektronischen Bearbeitung, Akkumulierung und Ausstoßen von Bilddaten unter Verwendung eines Computers vorherrschend geworden, und verschiedene Bildausstoßsysteme, die diesen digitalisierten Techniken entsprechen, sind zur praktischen Anwendung gelangt. Als ein Beispiel für solche Techniken zieht eine Computer-zu-Plattentechnik mit direkter Druckplattenherstellung die öffentliche Aufmerksamkeit an sich, was Abtastbelichtung eines Druckplattenvorläufers mit hochkonvergenten Strahlen, wie etwa Laserstrahlen, die digitalisierte Bilddaten tragen, ohne Verwendung eines Lith-Films umfasst. Aufgrund dieser Tendenz ist es ein wichtiges technisches Ziel geworden, einen gut an diesen Zweck angepassten Druckplattenvorläufer zu erhalten.
  • Demgemäß sind die Vereinfachung der Plattenherstellung und die Verwirklichung eines Trockensystems und Nicht-Bearbeitungssystems aus beiden Aspekten des vorstehend beschriebenen Umweltschutzes und der Anpassung auf die Digitalisierung weiter stark erwünscht gewesen.
  • Feststoffzustandslaser mit hoher Leistung, z. B. ein Halbleiterlaser und ein YAG-Laser sind in den letzten Jahren kostengünstig verfügbar. Folglich ist ein Herstellungsverfahren einer Druckplatte durch Abtastbelichtung, die in eine digitalisierte Technik leicht einzubauen ist, ein Plattenherstellungsverfahren unter Verwendung dieser Laser als eine Bildaufzeichnungseinrichtung vielversprechend. In herkömmlichen Plattenherstellungsverfahren wird das Bildaufzeichnen durch bildweise Belichtung eines lichtempfindlichen Druckplattenvorläufers in niedrigen bis mittleren Grad durchgeführt und so die Änderungen von physikalischen Eigenschaften des Bildes auf der Oberfläche des Vorläufers durch eine photochemische Reaktion hervorgerufen. Andererseits wird in einem Verfahren der Verwendung der Belichtung mit hoher Leistungsdichte durch einen Leistungslaser eine große Menge an Lichtenergie auf einem Belichtungsbereich konvergent während einer momentanen Belichtungszeit bestrahlt, die Lichtenergie wird effizient in Wärmeenergie umgewandelt und so eine chemische Änderung, eine Phasenänderung, oder eine thermische Änderung, wie etwa die Änderung und das Reißen der Form und Struktur aufgrund der Wärme, hervorgerufen, und diese Änderung wird beim Bildaufzeichnen verwendet. Das heißt, Bilddaten werden durch Lichtenergie, wie etwa Laserlicht eingegeben, aber Bildaufzeichnen wird durch die Reaktion aufgrund von Wärmeenergie durchgeführt. Dieses Aufzeichnungssystem, das eine Wärmeerzeugung durch hohe Leistungsdichtenbelichtung verwendet, wird im Allgemeinen Aufzeichnen im Wärmemodus genannt und die Umwandlung von Lichtenergie in Wärmeenergie wird Licht/Wärme-Umwandlung genannt.
  • Ein großer Vorteil eines Plattenherstellungsverfahrens, das eine Aufzeichnungseinrichtung im Wärmemodus verwendet, ist, dass ein Material nicht gegenüber Licht von einem allgemeinen Beleuchtungsniveau, wie etwa Raumbeleuchtung, empfindlich ist, und Bilder, die durch Hochbeleuchtungsbelichtung aufgezeichnet werden, keine Fixierung benötigen. Das heißt, bei Verwendung eines Wärmemodusmaterials beim Bildaufzeichnen ist das Material gegenüber Raumlicht vor Belichtung sicher und die Fixierung des Bildes nach Belichtung ist nicht wesentlich. Demgemäß wird es bei Verwendung einer Bildaufzeichnungsschicht, die durch Belichtung im Wärmemodus bei einem Plattenherstellungsverfahren zum bildweisen Entfernen einer belichteten Bildaufzeichnungsschicht unlöslich gemacht oder löslich gemacht wird und so eine Druckplatte durch das Entwicklungssystem auf der Druckplatte hergestellt wird, es möglich, ein Drucksystem zu verwirklichen, worin ein Bild sogar bei Aussetzung der Entwicklung (der Entfernung eines Nicht-Bildbereichs) gegenüber atmosphärischen Licht in einem Raum für eine bestimmte Zeitdauer nach Bildbelichtung nicht beeinflusst wird.
  • Demgemäß wird beim Aufzeichnen im Wärmemodus erwartet, dass es möglich sein wird, einen lithographischen Druckplattenvorläufer zu erhalten, der an das Entwicklungssystem auf der Druckpresse angepasst ist, insbesondere leicht zu einem Computer-zu-Plattensystem zu entwickeln ist.
  • Als ein Mittel des Wärmemodussystems, das als eine Maßnahme gegen die Vereinfachung des Plattenherstellungsverfahrens weiterentwickelt worden ist, ist eine Technik zum Mikroeinschluss in Betracht gezogen worden.
  • Plattenmaterialien, die einen Träger mit darauf bereitgestellter wärmeempfindlicher Aufzeichnungsschicht umfassen, die eine mikroverkapselte Wärme schmelzende Substanz und ein Bindemittelharz umfasst, worin ein erhitzter Teil in einen lipophilen Teil umgewandelt wird, werden in JP-A-3-108588 und JP-A-5-8575 (der Ausdruck "JP-A-", wie hierin verwendet, bedeutet eine "ungeprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung") offenbart. Da jedoch Beliebige der mikroverkapselten bei Wärme schmelzenden Substanzen, die in diesen Patenten offenbart sind, keine Reaktivität mit dem Medium besitzen, ist die Diffundierbarkeit groß und eine ausreichende Unterscheidung kann nicht erhalten werden. Andererseits werden lithographische Druckplattenvorläufer, die einen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche mit einer darauf bereitgestellten Aufzeichnungsschicht, die einen aktiven Wasserstoff enthaltenden Bindemittelpolymer zusammen mit Blockisocyanat enthalten, umfassen, und Verfahren zur Herstellung desgleichen in JP-A-62-164569 und JP-A-62-164049 offenbart. Jedoch ist es bei diesen Druckplattenmaterialien notwendig bei dem Entwicklungsverfahren einen Nicht-Druckteil nach dem Drucken zu entfernen.
  • Ferner gibt es als ein lithographisches Druckplattenmaterial vom Direkttyp ein lithographisches Druckplattenmaterial vom Direktzugtyp, worin eine Bildfläche auf der Oberfläche einer hydrophilen Schicht durch externe Mittel, wie etwa einem Tintenstrahl und Tonertransfer gebildet wird, und ein Versuch zum Einbau einer Mikroverkapselungstechnik in diese Techniken ist durchgeführt worden. Ein Druckmaterial, das Beschichten einer mikroverkapselten nicht-reaktiven Wärme schmelzenden Substanz und Erzeugen einer Tonerempfangsschicht durch Wärmedrucken wird in JP-A-62-1587 offenbart. Jedoch wird dieses Material erst dann eine Druckplatte, wenn ein lipophiler Toner etc. auf der erzeugten Tonerempfangsschicht fixiert werden und es wird keine Bildfläche nach dem Drucken erzeugt.
  • JP-A-7-1849 offenbart eine Technik, die darauf abzielt, die Drucklebensdauer einer Druckplatte durch Anwenden des Mechanismus zu verbessern, dass eine lipophile Komponente in einer Kapsel und ein hydrophiles Bindemittelpolymer eine chemische Bindung an der Grenzfläche zwischen einer Mikrokapsel und einem Bindemittel hervorrufen, um hierdurch Anschwellen zu unterdrücken. Dieser Druckplattenvorläufer erfüllt sicher die Anforderung des Marktes, aber da die Technik ein System ist, das durch Wärme veranlasstes Reißen der Kapsel mittels eines thermischen Kopfes und dann Erzeugen einer Tintenempfangsfläche durch die Reaktion der lipophilen Substanz mit dem Bindemittel hervorruft, wird eine Vergrößerung des hydrophoben Bereichs aufgrund der Diffusion der lipophilen Substanz erwartet, weswegen dies zur hochgenauen Bilderzeugung nicht geeignet ist.
  • Wie vorstehend beschrieben worden ist sind sogar bei Verwendung einer Technik zum Mikroeinschluss verschiedene Nachteile bezüglich herkömmlicher Materialien für eine wärmeempfindliche lithographische Druckplatte, wie etwa, dass die Drucklebensdauer, Unterscheidbarkeit und Lipophilizität unzureichend waren, nicht gelöst wurden, daher ist die Verwendung auf Drucken im geringen Umfang beschränkt gewesen.
  • Als ein bevorzugtes Plattenherstellungsverfahren der lithographischen Druckplatte, die auf Aufzeichnen im Wärmemodus basiert, ist ein Verfahren vorgeschlagen worden, das Bereitstellen einer hydrophoben Bildaufzeichnungsschicht auf einem hydrophilen Substrat, bildweises Belichten der hydrophoben Schicht durch Belichtung im Wärmemodus zur Änderung der Löslichkeit und Dispergierfähigkeit der hydrophoben Schicht, und, soweit notwendig, Entfernen des Nicht-Bildbereichs durch die Entwicklung umfasst.
  • Als ein Beispiel für einen solchen Druckplattenvorläufer ist in JP-B-46-27919 (der Ausdruck "JP-B", wie hierin verwendet bedeutet eine "geprüfte japanische Patentveröffentlichung") ein Verfahren zum Erhalten einer Druckplatte durch Beschreiben eines Plattenvorläufers im Wärmemodus, der einen hydrophilen Träger mit einer darauf bereitgestellten Aufzeichnungsschicht umfasst, die eine sogenannte positive Funktion besitzt, d.h., deren Löslichkeit durch Wärme verbessert wird, insbesondere eine Aufzeichnungsschicht mit einer spezifischen Zusammensetzung, wie etwa Saccharid- und Melanin-Formaldehydharze. Da offenbarte einfache Plattenherstellungstechniken zum Aufzeichnen im Wärmemodus, die das vorstehende Verfahren einschließen, im Allgemeinen keine ausreichende Wärmeempfindlichkeit besitzen, ist die Empfindlichkeit für die Abtastbelichtung im Wärmemodus extrem unzureichend. Demgemäß ist die Unterscheidung der Hydrophobizität/Hydrophilizität des bestrahlten Teils und des nicht-bestrahlten Teils, d.h. die Unterscheidung eines Bildbereichs und eines Nicht-Bildbereichs klein, was bei der praktischen Verwendung eine Beschränkung gewesen ist. Wenn die Unterscheidung unzureichend ist, ist die Plattenherstellung gemäß dem Entwicklungssystem auf der Druckpresse im Wesentlichen schwierig.
  • Als Mittel zur Lösung des Problems werden Verfahren zur Entfernung der Bildschicht an dem bestrahlten Teil durch Wärme aufgrund der Bearbeitungswärme einer Hochleistungslaserstrahlbestrahlung (genannt Abrasion) z. B. in WO 98/40212, WO 98/34796 und JP-A-6-199064 offenbart, im Einzelnen werden lithographische Druckplattenvorläufer, die eine Platte ohne Durchführung von Entwicklung herstellen können, die eine hydrophile Schicht umfassen, die ein Übergangsmetalloxidkolloid als die obere Schicht und eine lipophile Bildaufzeichnungsschicht als die untere Schicht enthalten, offenbart. Die Unterscheidungsfähigkeit des bestrahlten Teils und des nicht bestrahlten Teils, wo die Wärmebehandlung vollständig durchgeführt worden ist, ist bestimmt gemäß diesen Verfahren groß, aber es gibt andere Probleme, dass der Drucker durch die verstreute Materie verschmutzt wird, die Verschmutzung auf der Druckplattenoberfläche den Druckbetrieb und die Druckqualität verschlechtert, zudem erreicht die Wärme des bestrahlten Lichts häufig nicht den tiefen Teil der Bildaufzeichnungsschicht, folglich wird der Bodenteil der Bildaufzeichnungsschicht nahe dem Träger nicht behandelt und bleibt zurück, d.h., das Phänomen, das ein Restfilm genannt wird, wird hervorgerufen. Die wesentliche Unterscheidbarkeit wird aufgrund des Restfilms nicht erzielt, was zu einer Verringerung der Druckqualität führt.
  • Gegenwärtig werden als ein nicht mit solchen Nachteilen behaftetes Verfahren einfache Plattenherstellungsverfahren offenbart, die eine Änderung des Grads der Hydrophilizität/Hydrophobizität der Oberfläche durch Wärme, d.h. der Änderung der Polarität nicht gemäß Abrasion bewirken, sogar wenn ein Bild durch Lichtbestrahlung im Wärmemodus erzeugt wird. Zum Beispiel werden Verfahren, die die Zugabe eines thermoplastischen Polymers, wie etwa hydrophobes Wachs und Polymerlatex zu einer hydrophilen Schicht und Hydrophobisieren durch Phasenseparation der Oberfläche durch Wärme umfassen, in JP-A-58-199153 und US-PS 3 168 864 offenbart. Diese Techniken schlagen als Richtung die Verbesserung mittels Unterscheidbarkeit vor. Da jedoch diese offenbarten Techniken eine unzureichende Unterscheidbarkeit besitzen und es die Befürchtung gibt, dass Verschmieren (d.h. Verschmutzung) von bedruckter Materie aufgrund insbesondere unzureichender Hydrophilizität auftritt, ist die Verbesserung erwünscht.
  • Eine ausreichende Unterscheidung einer Bildfläche und einer Nicht-Bildfläche ist eine fundamental wichtige Eigenschaft, die direkt mit der Verbesserung der Druckqualität und Drucklebensdauer verbunden ist, somit ist die Entwicklung des Plattenherstellungsverfahrens mit der Unterscheidungseigenschaft und Leichtigkeit des Druck herstellenden Betriebs insbesondere ein Verfahren mit hoher Unterscheidungsfähigkeit, hoher Empfindlichkeit, das kein Entwicklungsverfahren benötigt, und eine Plattenherstellung im Wärmemodus ermöglicht, erwünscht.
  • Es ist eine durch Wärme hervorgerufene Hydrophobisierung durch Aufzeichnung im Wärmemodus versucht worden. Zum Beispiel werden Druckplattenmaterialien, die einen Träger mit einer drauf bereitgestellten wärmeempfindlichen Schicht umfassen in JP-A-53-64747 und JP-A-1-113290 offenbart, worin eine Plattenherstellung durch Wärmedrucken und Schmelzen eines Wärme schmelzenden Harzes und eines in der wärmeempfindlichen Schicht dispergierten thermoplastischen Harzes durchgeführt wird, und der erhitzte Teil von hydrophil zu lipophil umgewandelt wird, und US-PSen 4 034 183 und 4 063 949 offenbaren Druckplattenmaterialien (d.h. Vorläufer), worin ein hydrophiles Polymer, das auf einem Träger bereitgestellt ist, mit Laserstrahlen zur Entfernung von Hydrophilizität und Umwandlung in Hydrophobizität (d.h. Lipophilizität) bestrahlt wird. Jedoch besitzen diese Materialien den Nachteil, dass eine Nicht-Bildfläche verschmiert wird (d.h. verschmutzt wird), da die Wärme schmelzende Substanz auf der Plattenoberfläche Tinte aufnimmt, daher ist die Unterscheidung einer Bildfläche und einer Nicht-Bildfläche gering.
  • Andererseits wird ein lithographischer Druckplattenvorläufer, der einen Träger mit einer darauf bereitgestellten hydrophilen Vernetzungsschicht und einer lipophilen Licht/Wärmeumwandlungsschicht umfasst, der keine Entwicklung zur Plattenherstellung benötigt, in EP 94/18005 offenbart. Jedoch benötigt die Plattenherstellung das Verfahren des Wegnehmens der vernetzten hydrophilen Schicht, daher wird angenommen, dass es ein Problem bezüglich der Einfachheit gibt.
  • Ferner wird ein lithographischer Druckplattenvorläufer, der einen Träger mit einer darauf bereitgestellten hydrophilen Schicht, die Metalloxidkolloid enthält, und einer lipophilen Bildaufzeichnungsschicht, die eine Licht/Wärme-Umwandlungssubstanz enthält und keine Entwicklung zum Plattenherstellen benötigt, in WO 98/40212 offenbart. Jedoch haben wenigstens die Erfinder angenommen, dass es viele zu lösende Probleme gibt, um die Unterscheidbarkeit eines Bildbereichs und eines Nicht-Bildteils sicherzustellen, wenn eine Licht/Wärme-Umwandlungsschicht lipophil ist.
  • Ein lithographischer Druckplattenvorläufer, der einen Träger mit einer darauf bereitgestellten hydrophilen Bildaufzeichnungsschicht, die eine durch Licht umwandelbare und tintenaufnahmefähige Licht absorbierende Substanz, z. B. ein Farbstoff und ein Pigment, und eine kolloidale Dispersion aus Metall oder Metalloxid enthält und keine Entwicklung zur Plattenherstellung benötigt, wird in WO 99/04974 offenbart, aber als die Beispiele für das spezifische Licht/Wärme-Umwandlungsmittel werden lediglich zwei Arte von Licht absorbierenden kationischen Farbstoffen und Ruß offenbart.
  • Lithographische Druckplattenvorläufer durch Aufzeichnen mittels Laser werden in JP-A-6-199064 und WO 98/40212 offenbart, die einen Zweischichtenaufbau unter Verwendung in Kombination einer Schicht, die an Licht/Wärme-Umwandlungsmittel enthält, und einer Schicht, die sich in dem Grad der Hydrophilizität/Hydrophobizität von der vorstehenden Schicht unterscheidet, umfassen. Diese Techniken schlagen einen Weg zur weiteren Verbesserung vor.
  • Ferner tritt als ein anderes großes Problem bei herkömmlichen Druckplattenvorläufern mit positivem Wärmemodussystem das Problem auf, dass es zu einem Restfilm genannten Phänomen in einem Nicht-Bildbereich kommt. Das heißt, der Defekt, dass die Änderung der Löslichkeit in einer Aufzeichnungsschicht durch Belichtung in der Nachbarschaft eines Trägers, verglichen mit derjenigen in der Nachbarschaft der Oberfläche einer Aufzeichnungsschicht klein ist und so eine Filmsubstanz hinterlässt, die nicht aufgelöst und entfernt wird, tritt wahrscheinlich auf und die Verbesserung dieses Punktes ist benötigt worden. Im Allgemeinen basiert in einem Druckplattenvorläufer vom positiven Wärmemodustyp die Wärmeerzeugung durch Belichtung im Wärmemodus auf der Lichtabsorption der Licht absorbierenden Substanz in einer Aufzeichnungsschicht, somit ist es wahrscheinlich, dass die erzeugte Wärmemenge auf der Oberfläche einer Aufzeichnungsschicht groß und in der Nachbarschaft eines Trägers klein ist. Daher nimmt der Grad der Hydrophilisierung einer Aufzeichnungsschicht in der Nachbarschaft eines Trägers relativ ab. Folglich wird ein hydrophober Film häufig nicht vollständig entfernt und bleibt, wie er ist, am belichteten Teil zurück, was wesentlich ist, um eine hydrophile Oberfläche bereitzustellen. Ein solcher Restfilm auf einem Nicht-Bildbereich erzeugt ein Verschmieren beim Drucken. Herkömmlicherweise verwendete Multischichtstrukturen vom separaten Funktionstyp, die eine Licht/Wärmeumwandlungsschicht und eine Bildaufzeichnungsschicht umfassen, sind in dieser Hinsicht nachteilhaft.
  • Wie in den vorstehend beschriebenen Details der Plattenherstellungs-/Drucktechnik gemäß Bildaufzeichnen im Wärmemodus gezeigt, ist der charakteristische Vorteil dieser Plattenherstellungs/Drucktechnik derjenige, dass eine Druckplatte direkt aus einer Blockkopie, die keinen Film benötigt, hergestellt werden kann, somit eine Plattenherstellung auf der Druckpresse ohne Entwicklungsbetrieb möglich ist. Andererseits besitzt diese Technik Nachteile, dass eine Empfindlichkeit im Wärmemodus unzureichend ist, eine Bild erzeugende Substanz durch Wärme diffundiert wird, und sich die Empfindlichkeit an einem Oberflächenbereich und einem Bodenbereich der Bildaufzeichnungsschicht unterscheidet. Diese Nachteile sind die Defekte, die das Fehlen der Unterscheidungsfähigkeit einer Bildfläche und eines Nicht-Bildteils hervorrufen, somit sind diese auch die Defekte, die direkt zu Druckqualität und Drucklebensdauer führen. Demgemäß ist ein fundamentales Mittel zur Verbesserung sowohl der Druckqualität als auch der Drucklebensdauer eines Plattenherstellungs-/Druckverfahrens unter Verwendung von Bildaufzeichnen im Wärmemodus, ausschließlich die Unterscheidungsfähigkeit zu verbessern. Es wird erwartet, dass die Lösung der Unterscheidungsfähigkeit natürlich zu der Lösung der vorstehend beschriebenen anderen verschiedenen Defekte führt.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • Ein erfindungsgemäßes Ziel ist es, durch Lösen der vorstehenden Defekte von Plattenherstellungsverfahren im Wärmemodus unter Verwendung von Laserstrahlen etc. einen lithographischen Druckplattenvorläufer vom Wärmemodustyp bereitzustellen, der eine Platte nach kurzzeitiger Abtastbelichtung ohne Durchführung von Entwicklungsverfahren herstellen kann, herausragende Drucklebensdauer besitzt, und kein Verschmieren (d.h. keine Verschmutzung) auf einer Druckplattenoberfläche erzeugt.
  • Ein anderes erfindungsgemäßes Ziel ist es, einen lithographischen Druckplattenvorläufer vom Wärmemodustyp bereitzustellen, der eine herausragende Unterscheidungsfähigkeit eines Bildbereichs und einer Nicht-Bildfläche vom Standpunkt des spezifischen Mittels zur Verbesserung sowohl der Drucklebensdauer als auch der Verhinderung von Druckverschmieren besitzt.
  • Ein weiteres erfindungsgemäßes Ziel ist es, die vorstehend beschriebenen Defekte von Plattenherstellungssystemen im Wärmemodus zu lösen und die Druckleistung zu verbessern, d.h. einen (negativen) lithographischen Druckplattenvorläufer bereitzustellen, der leicht eine Platte herstellen kann, direkt auf einen Drucker geladen werden kann und eine Platte herstellen kann, eine herausragende Drucklebensdauer besitzt, und kaum Verschmieren auf der Druckplattenoberfläche erzeugt, ein Verfahren zur Herstellen desselben bereitzustellen, und ein Verfahren zum lithographischen Drucken unter Verwendung desgleichen bereitzustellen.
  • Insbesondere ist es ein erfindungsgemäßes Ziel, einen lithographischen Druckplattenvorläufer vom Wärmemodustyp bereitzustellen, der eine Plattenherstellung gemäß Bildbelichtung vom Abtasttyp durch einen Laserstrahl leicht herstellen kann und eine herausragende Unterscheidungsfähigkeit eines Bildbereichs und eines Nicht-Bildbereichs besitzt.
  • Die Erfinder haben angenommen, dass der Schlüssel zur Lösung der vorstehenden Probleme darin besteht, ein neues Mittel zum Erhalt der maximalen Änderung von Hydrophilizität in Hydrophobizität durch bildweise Lichtbestrahlung bereitzustellen. Als Folge einer ernsthaften Untersuchung haben die Erfinder das neue Prinzip des Enthüllens der Unterscheidungsfunktion herausgefunden, und die vorliegende Erfindung ist basierend auf dem Prinzip erreicht worden.
  • Zudem haben die Erfinder betreffend der vorstehenden Ziele einer auffälligen Tintenaufnahmefähigkeit (Hydrophobizität) und mechanischen Festigkeit (Drucklebensdauer) einer Metalloberfläche mit kontinuierlicher Phase Aufmerksamkeit geschenkt und als Folge gründlicher Suche nach dem Mittel zur bildweisen Verteilung einer Metallschicht auf einer hydrophilen Oberfläche sind die Erfinder auf die Idee gekommen, eine durch Wärme verschmolzene Metallschicht zu bilden und haben durch wiederholte Untersuchungen die vorliegende Erfindung erreicht.
  • Das heißt, die erfindungsgemäßen Ausführungsformen und die bevorzugten Ausführungsformen sind wie folgt.
    • (1) Lithographischer Druckplattenvorläufer, der einen hydrophoben Bereich umfasst, der durch bildweises Bestrahlen des Druckplattenvorläufers, der Teilchen mit hydrophilen Oberflächen enthält, mittels Belichtung im Wärmemodus und thermisches Verschmelzen des Metallstaubs auf dem bestrahlten Bereich bildweise erzeugt wurde.
    • (2) Der lithographische Druckplattenvorläufer wie in dem vorstehenden Punkt (1) beschrieben, worin die Teilchen mit hydrophilen Oberflächen, die Metallstaub tragen, Teilchen sind, die aus einer Metallverbindung mit photokatalytischen Eigenschaften hergestellt worden sind.
    • (3) Der lithographischer Druckplattenvorläufer, wie in dem vorstehenden Punkt (1) beschrieben, worin die Teilchen mit hydrophilen Metallstaub tragenden Oberflächen Teilchen sind, die aus einer Metallverbindung mit photokatalytischer Funktion hergestellt wurden.
    • (3) Der lithographischer Druckplattenvorläufer, wie in dem vorstehenden Punkt (1) beschrieben, worin die Teilchen mit hydrophilen Metallstaub tragenden Oberflächen Teilchen aus einer Metallverbindung sind, die in Wasser kaum löslich ist.
    • (4) Verfahren zur Herstellung eines lithographischen Druckplattenvorläufers, das die die Durchführung einer bildweisen Bestrahlung des Druckplattenvorläufers, der an der Oberfläche hydrophile, Metallstaub tragende Oberflächen enthält, mittels Wärmemodusbelichtung und thermisches Verschmelzen des Metallstaubs auf dem bestrahlten Bereich, um hierdurch einen bildweisen, Tinten aufnehmenden hydrophoben Bereich zu erzeugen, umfasst.
    • (5) Ein Verfahren zum lithographischen Drucken, das Durchführen bildweiser Bestrahlung eines Druckplattenvorläufers, der an der Oberfläche hydrophile, Metallstaub tragende Teilchen enthält, mittels Wärmemodusbelichtung und thermisches Verschmelzen des Metallstaubs auf dem bestrahlten Bereich, um einen hydrophoben Bereich einer bildweisen dünnen Metallschicht zu bilden, wodurch der genannte bildweise hydrophobe Bereich eine Tinten aufnehmend Druckoberfläche bildet, und Durchführen eines Druckvorgangs umfasst.
  • Die vorliegende Erfindung beruht auf der Entdeckung des fundamentalen Prinzips, dass die Oberfläche eines Druckplattenvorläufers ausreichen hydrophil zum Aufweisen des Unterscheidungseffektes einer Bildfläche und einer Nicht-Bildfläche nach der Plattenherstellung bestmöglich sein sollte, was zur Zunahme des Unterschieds zwischen der Hydrophobizität und der Hydrophilizität eines bestrahlten Bereichs und eines nicht-bestrahlten Bereichs beiträgt, und dass eine unzureichende Hydrophilizität der Oberfläche eines Druckplattenvorläufers nicht durch die Verstärkung der Hydrophobizität in einem bestrahlten Teil kompensiert werden kann. Basierend auf dem Prinzip der vorliegenden Erfindung ist es fundamentaler Aufbau, dass alle Zusammensetzungselemente einer Bildaufzeichnungsschicht, die auf einem Träger bereitgestellt sind, d.h. das Medium einer Bildaufzeichnungsschicht, die Oberfläche eines Hydrophobisierungsvorläufers, und ein Licht/Wärmeumwandlungsmittel selbst oder die Oberflächen eines Licht/Wärmeumwandlungsmittels, wenn es die Form von Teilchen annimmt, hydrophil sind. Wenn die Bildaufzeichnungsschicht mit einem solchen Aufbau bildweise bestrahlt wird, erzeugt das Licht/Wärmeumwandlungsmittel Wärme, der Hydrophobisierungsvorläufer wird in der Nachbarschaft durch die Wärme hydrophob gemacht und die Hydrophobizität der gebildeten Bildfläche zeigt eine scheinbare Unterscheidungsfähigkeit zwischen der Hydrophilizität der Nicht-Bildfläche, die der Schlüssel zur Verstärkung der Tintenabstoßungsfähigkeit des Nicht-Bildbereichs wird, und so wird bei Erzeugung einer Druckplatte ein Verschmieren von Drucken verhindert und die Drucklebensdauer verbessert.
  • Erfindungsgemäß ist ausgearbeitet worden, jedes Zusammensetzungselement der Bildaufzeichnungsschicht zu hydrophilisieren, um den Grundsatz zu erfüllen.
  • An erster Stelle sind hinsichtlich des Mediums als hochhydrophile Medien Sol/Gel umwandelbare Medien, insbesondere Sol/Gel umwandelbare Medien, die durch Dehydrationskondensation aus Metalloxidsol in Metalloxidgelstruktur umgewandelt werden, dargestellt durch nachstehend beschriebenes Sol/Gel-Umwandlungssystem aus Silanol/Siloxan, bevorzugt.
  • Zur weiteren Verbesserung der Hydrophilizität der Bildaufzeichnungsschicht ist es effektiv, eine kolloidale Dispersion, die aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus hochhydrophilen Siliciumdioxid, Siliciumhydroxid, Aluminiumhydroxid, Aluminiumoxid, Titandioxid und Titanhydroxid besteht, in Sol/Gel umwandelbare hydrophile Medien einzubauen.
  • An nächster Stelle sind Hydrophobisierungsvorläufer mit hydrophilen Oberflächen (1) ein Vorläufer, der eine Dispersion von Teilchen des Kompositaufbaus ist, der eine hydrophobe Substanz an dem Kernteil enthält und eine Oberflächenschicht mit oberflächlicher Hydrophilizität besitzt, und die eingebaute hydrophobe Substanz macht die Nachbarschaften aufgrund der Wärmearbeit durch Lichtbestrahlung und Licht/Wärmeumwandlung hydrophob und (2) ein Vorläufer, der eine Dispersion von Teilchen mit hydrophiler Oberfläche und durch Wärme vernetzbar ist und eine Hydrophobizität durch die Initiierung einer Vernetzungsreaktion aufgrund von Wärmearbeit zeigt.
  • Als die bevorzugten Formen der ersteren Dispersion von Teilchen mit einem Kompositaufbau kann das Folgende beispielhaft dargestellt werden:
    • (1) Sogenannte Hetero-Coagulationsteilchen, die ein thermoplastisches Harz enthalten, das durch die Temperatur der Bildbelichtung im Wärmemodus sich aufweicht oder schmilzt und hydrophile Solteilchenschichten, die auf den Oberflächen coaguliert und angebracht sind,
    • (2) hydrophilisierungsbehandelte Teilchen, die ein thermoplastisches Harz enthalten, das durch die Temperatur der Bildbelichtung im Wärmemodus aufweicht oder schmilzt und hydrophile Oberflächenschichten, wie etwa Sol/Gel-Umwandlungsschichten, werden auf den Oberflächen erzeugt,
    • (3) Kompositteilchen vom Kern/Schalentyp, die hydrophobe Feinteilchen aus einem thermoplastischen Polymer umfassen, das durch Dispersionspolymerisation als der Kernteil und hydrophile Polymerschichten, die dort herum erzeugt werden, erhalten wurde,
    • (4) emulgierte Teilchen aus einem thermisch diffundierbaren oder thermoplastischen hydrophoben organischen Verbindung, die in einem hydrophilen Medium emulgiert und dispergiert wurde, und
    • (5) mikroverkapselte Teilchen, die eine hydrophobe Kernsubstanz umfassen, die durch ein Wandmaterial mit hydrophiler Oberfläche geschützt sind.
  • Diese Teilchen werden detailliert in der folgenden detaillierten Beschreibung der Erfindung und in den Beispielen beschrieben.
  • Als die letzteren Teilchendispersionen, die eine Hydrophobizität durch die Initiierung der Vernetzungsreaktion durch Wärme zeigen, können gemischte Dispersionen aus einem polymerisierbaren Monomer und einer vernetzbaren Verbindung beispielhaft dargestellt werden.
  • Zudem können Verbindungen und Gruppen von Verbindungen mit der Funktion der Hydrophobisierung der Nachbarschaften der Teilchen durch die Wärmearbeit als die erfindungsgemäßen Hydrophobisierungsvorläufer verwendet werden.
  • Spezifische hydrophobe Verbindungen, die in die emulgierten und dispergierten Teilchen (4) oder in die mikroverkapselten Teilchen (5) eingebaut werden können, sind flüssige oder feste organische niedrigmolekulare Verbindungen mit einem Schmelzpunkt von 300°C oder weniger, und einem Siedepunkt von 100°C oder mehr bei Normaldruck, und organische hochmolekulare Verbindungen mit einer Löslichkeit in 100 g Wasser bei 25°C oder der Menge an Wasserabsorption pro 100 g von Wasser bei 25°C von 2 g oder weniger.
  • Die organischen niedrigmolekularen Verbindungen, die insbesondere bevorzugt sind, besitzen den vorstehend beschriebenen Schmelzpunkt und Siedepunkt und zudem beträgt mindestens entweder (1) die Löslichkeit in 100 g bei 25°C 2 g oder weniger, oder (2) das Verhältnis der organischen Eigenschaft/anorganischen Eigenschaft in der organischen Konzeptzeichnung beträgt 0,7 oder mehr.
  • Andererseits sind organische hochmolekulare Verbindungen, die in diese Teilchen eingebaut werden können, vorzugsweise mindestens eines aus Polyurethanen, Polycarbonaten, Polyestern, Polyacrylaten, Celluloseestern, und Celluloseacetalen.
  • An nächster Stelle sind Licht/Wärme umwandelnde Mittel, die in einem hydrophilen Medium enthalten sind, durch Licht/Wärme umwandelbare feste feine Teilchen, deren Oberflächen hydrophilisiert werden, oder durch Licht/Wärme umwandelbare und bioabbaubare hydrophile Farbstoffe, die gefärbt oder molekular in einem Medium dispergiert werden können. Die festen Feinteilchen werden aus der Gruppe ausgewählt, die aus Metallen, Metallverbindungen, Pigmenten und einfachen Kohlenstoffsubstanzen besteht.
  • Es ist für die Oberfläche des erfindungsgemäßen Druckplattenvorläufers bevorzugt, mit einer wasserlöslichen Schutzschicht zur Verhinderung von Verschmieren (d.h. Verschmutzung) des Druckplattenvorläufers während der Handhabung, insbesondere zur Verhinderung von Hydrophobisierung, ausgestattet zu sein.
  • Die vorliegende Erfindung, die vorstehend zusammengefasst wurde, wird nachstehend detaillierter beschrieben.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine typische Zeichnung, die ein repräsentatives erfindungsgemäßes Plattenherstellungsverfahren zeigt.
  • Schlüssel zu den Symbolen:
  • 1
    Druckplattenvorläufer
    2
    Träger
    3
    Bildaufzeichnungsschicht
    4
    Teilchen mit einer hydrophilen Oberfläche
    5
    Eines Metallstücks (d.h. Metallstaub)
    6
    Laserstrahl
    11
    Druckplatte
    14
    Titandioxidfeinteilchen, das kein Silberstaub trägt
    15
    Metallsilberdünnschicht durch Wärmediffusion
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung wird in der Reihenfolge von der Bildaufzeichnungsschicht beschrieben.
  • Bildaufzeichnungsschicht
  • Die erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsschicht ist eine hydrophile Schicht, die auf einem Träger bereitgestellt ist, und enthält einen Hydrophobisierungsvorläufer mit einer hydrophilen Oberfläche und ein Licht/Wärmeumwandlungsmittel, das in sich selbst hydrophil ist, oder mindestens auf der Oberfläche des Umwandlungsmittels ist.
  • Licht/Wärmeumwandlungsmittel
  • Unter den erfindungsgemäßen Licht/Wärmeumwandlungsmitteln sind Substanzen zu verstehen, die ein Absorptionsvermögen von mindestens 0,3 × 103 cm-1, vorzugsweise 1 × 103 cm-1 oder mehr, weiter bevorzugt 1 × 104 cm-1 oder mehr besitzen, worin das absorbierte Licht im Wesentlichen nicht in fluoreszierendes Licht oder phosphoreszierendes Licht umgewandelt wird. Ein Absorptionsvermögen ist ein Wert, der durch Teilen der Transmissionsdichte durch die Dicke erhalten wurde. Ferner ist, wenn das Licht/Wärmeumwandlungsmittel im Wesentlichen molekular in einem Medium, wie etwa einem Farbstoff, dispergiert wird, der Absorptionskoeffizient des Mediums das Absorptionsvermögen des Licht/Wärmeumwandlungsmittels.
  • Es muss nicht besonders betont werden, dass viele Substanzen Licht in einem gewissen Grad absorbieren, und wenn eine Substanz Licht absorbiert, erzeugt das Energieniveau der Substanz, die durch die Absorption angeregt wird, Wärme, wenn es auf das Basisniveau zurückfällt, wenn es nicht fluoreszierendes Licht oder phosphoreszierendes Licht emittiert. Daher kann genau gesprochen gesagt werden, dass fast alle Substanzen eine Licht/Wärmeumwandlungsfunktion, wenn überhaupt, besitzen. Demgemäß ist es zweckmäßig, dass ein Licht/Wärmeumwandlungsmittel eine Substanz bedeutet, die eine ausreichende Licht absorbierende Funktion besitzt, um die beabsichtigte Wärmeänderung zu bewirken. Daher ist unter dem erfindungsgemäßen Licht/Wärmeumwandlungsmittel eine Substanz zu verstehen, die mindestens das vorstehend beschriebene Absorptionsvermögen unter Berücksichtigung des erfindungsgemäßen Ziels besitzt.
  • Die Licht/Wärmeumwandlungsmittel zur erfindungsgemäßen Verwendung, die die vorstehend beschriebenen benötigten Bedingungen erfüllen, können beliebige aus einer Metallverbindung, wie etwa Metall, Metalloxid, Metallnitrid, Metallsulfit, Metallcarbid, einer nicht-metallischen einfachen Substanz und einer Verbindung, einfachen Kohlenstoffsubstanz, einem Pigment und einem Farbstoff sein.
  • durch Licht/Wärme umwandelbare feste feine Teilchen
  • Die durch Licht/Wärme umwandelbare feste feine Teilchen können beliebige aus Teilchen sein, die eine hydrophobe Substanz in sich selbst, eine hydrophile Substanz oder ein Intermediat umfassen, aber sie müssen einer Oberflächenhydrophilisierungsbehandlung unterzogen werden, bis auf Teilchen, die eine hydrophile Substanz in sich selbst umfassen. Die Oberflächenhydrophilisierungsbehandlung wird durch Silicatbehandlung, Aluminatbehandlung, Bereitstellung einer chemischen Absorptionsschicht aus Wasser durch Wasserdampfbehandlung, Bereitstellen einer Oberflächenschicht aus kolloidalem Schutzpolymer, und eine Behandlung mit einem oberflächenaktiven Mittel, allein oder in Kombination durchgeführt wird, die detailliert später mit spezifischen Beispielen beschrieben wird.
  • Bevorzugte Beispiele von Metallverbindungen, die als Licht/Wärmeumwandlungsmittel verwendet werden, schließen Oxide von Übergangsmetallen, Sulfide oder Metallelemente, die zur Gruppe II bis Gruppe VIII des Periodensystems gehören, und Nitride von Metallen, die zur Gruppe III bis Gruppe VIII des Periodensystems gehören, ein. Beispiele für Metalloxide von Übergangsmetallen schließen Oxide von Eisen, Kobalt, Chrom, Mangan, Nickel, Molybdän, Tellur, Niob, Yttrium, Zirkon, Bismuth, Ruthenium, und Vanadium ein. Es gibt Einteilungsverfahren, die nicht notwendigerweise Übergangsmetalle einschließen, aber Oxide von Zink, Merkur, Cadmium, Silber und Kupfer können auch erfindungsgemäß verwendet werden. Von diesen schließen insbesondere bevorzugte Metalloxide FeO, Fe2O3, Fe3O4, CoO, Cr2O3, MnO2, ZrO2, Bi2O3, CuO, CuO2, AgO, PbO, PbO2,und VOx (x ist von 1 bis 5) ein. VOx schließen VO, V2O3, VO2 und braunes V2O5 ein.
  • Als bevorzugte anorganische Metalloxide können TiOx (x ist von 1,0 bis 2,0), SiOx (x ist von 0,6 bis 2,0), AlOx (x ist von 1,0 bis 2,0) auch beispielhaft dargestellt werden. In TiOx (x ist von 1,0 bis 2,0), gibt es schwarzes TiO, dunkles purpurfarbenes Ti2O3, und TiO2, die verschiedene Farben von farblos bis schwarz aufgrund von Kristallformen und Verunreinigungen annehmen. In SiOx (x ist von 0,6 bis 2,0), gibt es SiO, Si3O2, und SiO2, die farblos, oder purpurfarben, blau und rot aufgrund von coexistierenden Substanzen annehmen. Als A1Ox (x ist 1,5) kann Korund, das farblos, oder rot, blau und grün aufgrund von coexistierenden Substanzen nimmt, beispielhaft dargestellt werden.
  • Wenn Metalloxide niedere Oxide von mehrwertigen Metallen sind, gibt es Fälle, in denen sie Licht/Wärme umwandelnde Mittel und gleichzeitig Luftoxidationsreaktionssubstanzen vom selbstexothermen Typ sind. Eine solche Substanz ist sehr bevorzugt, da die Wärmeenergie, die von der selbstexothermen Reaktion resultiert, auch zusätzlich zu der Energie, die die aus dem absorbierten Licht erzeugt wird, verwendet werden kann. Als solche niedere Oxide von mehrwertigen Metallen können niedrere Oxide von Fe, Co und Ni beispielhaft dargestellt werden.
  • Im Einzelnen können Eisen(II)oxid, Trieisentetroxid, Titanmonoxid, Zinnoxid, und Chromoxid beispielhaft dargestellt werden. von diesen Eisen(II)oxid, Trieisentetroxid und Titanmonoxid bevorzugt.
  • Es kann leicht durch Differentialthermogravimetrie (TG/DTA) (Thermogravimetrie/thermische Differentialanalyse) bestätigt werden, ob eine selbstexotherme Reaktion auftreten wird oder nicht. Wenn eine selbstexotherme Reaktionssubstanz in eine Differentialthermowaage eingefügt wird und Temperatur bei einer konstanten Rate erhöht wird, erscheint ein exothermer Peak bei einer bestimmten Temperatur, wodurch die Tatsache des Auftretens einer exothermen Reaktion bestätigt werden kann. Wenn eine Oxidationsreaktion von Metall oder niedrem oxidierten Metall als eine selbstexotherme Reaktion verwendet wird, wird die Gewichtszunahme auch in der Thermowaage genauso wie das Erscheinen des exothermen Peaks beobachtet. Wie bereits erwähnt, kann durch die Verwendung der Energie einer selbstexothermen Reaktion zusätzlich zu einem Licht/Wärme-Umwandlungsmechanismus mehr Wärmeenergie pro Einheitsstrahlungsmenge als die gewöhnlich verwendete verwendet werden und darüber hinaus kann folglich kontinuierlich die Empfindlichkeit verbessert werden.
  • Wenn durch Licht/Wärme umwandelbare feine Teilchen ein Metalloxid umfassen, sind die bevorzugte Metallsulfide Schwermetallsulfide, wie etwa Übergangsmetalle. Beispiele für bevorzugte Metallsulfide schließen Sulfide von Eisen, Kobalt, Chrom, Mangan, Nickel, Molybdän, Tellur, Strontium, Zinn, Kupfer, Silber, Blei, und Cadmium ein, und Silbersulfid, Eisen(II)sulfid und Kobaltsulfid sind insbesondere bevorzugt
  • Wenn durch Licht/Wärme umwandelbare Feinteilchen ein Metallnitrid umfassen, sind bevorzugte Metallnitride Azidverbindungen von Metallen. Insbesondere sind Azidverbindungen von Kupfer, Silber und Zinn bevorzugt. Diese Azidverbindungen sind auch selbstexotherme Verbindungen, die Wärme durch Photozersetzung erzeugen.
  • Als andere bevorzugte anorganische Metallnitride können TiNx (x ist von 1,0 bis 2,0), SiNx (x ist von 1,0 bis 2,0), und AlNx (x ist von 1,0 bis 2,0) beispielhaft dargestellt werden. Als TiNx (x ist von 1,0 bis 2,0), können TiN mit einer bronzefarbenen Farbe und braunes TiNx (x ist 1,3) beispielhaft dargestellt werden. Als SiNx (x ist von 1,0 bis 2,0), können Si2N3, SiN und Si3N4 beispielhaft dargestellt werden, und als AlNx (x ist von 1,0 bis 2,0), kann AlN beispielhaft dargestellt werden.
  • Jedes der vorstehend beschriebenen Metalloxide, Metallsulfide und Metallnitride kann durch wohlbekannte Verfahren erhalten werden. Viele von diesen sind mit den Namen von Titanschwarz, Eisenschwarz, Molbdänrot, Emeraldgrün, Cadmiumrot, Kobaltblau, preußisch Blau, und Ultramarin, kommerziell verfügbar.
  • Die optimalen Teilchengrößen von diesen hydrophilen Metallverbindungen unterscheiden sich durch die Brechungsindices und die Absorptionskoeffizienten der Substanzen, die die Teilchen zusammensetzen, aber betragen im Allgemeinen von 0,005 bis 5 μm, vorzugsweise von 0,01 bis 3 μm. Die Lichtabsorption wird aufgrund der Lichtstreuung, wenn die Teilchengrößen zu fein sind, und aufgrund der Grenzflächenreflexion von Teilchen, wenn sie zu groß sind, unzureichend.
  • Durch Licht/Wärme umwandelbare Metallfeinteilchen
  • Durch Licht/Wärme umwandelbare Feinteilchen von Metallen werden nachstehend beschrieben. Viele Metallteilchen sind durch Licht/Wärme umwandelbar und zudem selbstexotherm. Metallteilchen sollten einer Oberflächenhydrophilisierungsbehandlung unterzogen werden, die ähnlich zu dem Fall einer Metallverbindung ist, die nicht selbsthydrophil ist.
  • Beispiele für Metallfeinteilchen schließen Feinteilchen von Mg, AI, Si, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Pb, etc. ein. Diese Metallfeinteilchen sind gleichzeitig durch Licht/Wärme umwandelbar und zudem selbstexotherm. Von diesen Metallfeinteilchen sind diejenigen, die leicht eine exotherme Reaktion wie etwa Oxidationsreaktion durch die Wärmeenergie, die durch die Licht/Wärme-Umwandlung des absorbierten Lichts erhalten wurde, erzeugen können, bevorzugt sind AI, Si, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Mo, Ag, In, Sn und W insbesondere bevorzugt. Vor allem sind als die Metallfeinteilchen, die ein hohes Absorptionsvermögen für Lichtstrahlen und große Wärmeenergie einer selbstexothermen Reaktion besitzen, Fe, Co, Ni, Cr, Ti und Zr bevorzugt.
  • Ferner können Feinteilchen eine einfache Metallsubstanz umfassen oder können Legierungen aus zwei oder mehreren Komponenten umfassen. Teilchen, die aus Metallen mit Metalloxiden, Metallnitriden, Metallsulfiden, und Metallcarbiden bestehen, können auch verwendet werden. Eine einfach Metallsubstanz verleiht eine ziemlich große selbstexotherme Reaktionswärmeenergie, wie etwa Oxidation etc., aber die Behandlung in der Luft ist kompliziert und einige einfache Metallsubstanzen bergen die Gefahr einer spontanen Verbrennung bei Kontakt mit Luft in sich. Daher werden einige Nanometer der Dicke von der Oberfläche von solchen Metallteilchen vorzugsweise mit Oxiden, Nitriden, Sulfiden oder Carbiden von Metallen bedeckt.
  • Die Teilchengröße von diesen Feinteilchen beträgt 10 μm oder weniger, vorzugsweise 0,005 bis 5 μm, und weiter bevorzugt 0,01 bis 3 μm. Wenn die Teilchengröße weniger als 0,01 μm beträgt, ist die Dispersion von Teilchen schwierig und wenn diese mehr als 10 μm besitzt, wird die Druckgenauigkeit verschlechtert.
  • Feste Feinteilchen, wie etwa das vorstehend beschrieben schwach hydrophile oder hydrophobe anorganische Metalloxid und anorganische Metallnitrid, die einfache Metallsubstanz, Legierung und einfach Licht absorbierende Substanz können den erfindungsgemäßen Effekt zeigen, indem sie einer hydrophilisierenden Oberflächenbehandlung unterzogen werden. Als Mittel für die hydrophilisierende Oberflächenbehandlung kann eine herkömmlich wohl bekannte Oberflächenhydrophilisierungsbehandlung verwendet werden. Zum Beispiel kann ein Verfahren zum Dispergieren von Feinteilchen durch Zugeben eines oberflächenaktiven Mittels, das hydrophil ist und Teilchen adsorbieren kann, um eine hydrophile mit einem oberflächenaktiven Mittel adsorbierte Schicht auf die Oberflächen der Feinteilchen zu bilden; ein Verfahren zum Erzeugen eines Schutzkolloids, einer hydrophilen und Oberflächen adsorptiven, polymerreichen Beschichtung, z. B.
  • Gelatine, Kasein, Polyvinylalkohol, und Polyvinylpyrrolidon, in dem vorstehenden Verfahren; ein Dispergierverfahren zum weiteren Hydrophilisieren und Stabilisieren der Teilchenoberflächen in Gegenwart eines oberflächenaktiven Mittels in den vorstehenden Verfahren; und ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung mit einer Substanz mit einer hydrophilen Gruppe, die mit den Zusammensetzungssubstanzen der Teilchen reagieren kann, kann erfindungsgemäß verwendet werden.
  • Ein insbesondere bevorzugtes Verfahren ist in Oberflächenbehandlungsverfahren mit Silicat z. B. in dem Fall, dass Feinteilchen, Eisenfeinteilchen oder Trieisentetroxidfeinteilchen sind, können die Oberflächen der Teilchen ausreichend durch Eintauchen in eine 3 %ige wässrige Lösung au Natriumsilicat bei 70°C für 30 Sekunden hydrophilisiert werden.
  • Metalloxidfeinteilchen, die einer Oberflächenhydrophilisierungsbehandlung unterzogen wurden, insbesondere Metalloxidfeinteilchen, die mit einer Oberflächensilicatbehandlung behandelt wurden, vor allem Eisenoxidfeinteilchen und Eisenfeinteilchen, die mit Silicat oberflächenbehandelt wurden, werden vorzugsweise erfindungsgemäß zum Zeigen des erfindungsgemäßen Effektes verwendet.
  • Bei Verwendung eines oberflächenaktiven Mittels für eine Dispersion wird ein zweckmäßiges oberflächenaktives Mittel gemäß den zu dispergierenden Teilchen und der Art des Mediums der Bildaufzeichnungsschicht ausgewählt. Zum Dispergieren von Feinteilchen mit einer Oberflächenhydrophilizität in einem hydrophilen Medium können nicht ionische oberflächenaktive Mittel, wie etwa Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäuremonoglycerid, und Polyoxyethylennonylphenylether; ampholytische oberflächenaktive Mittel, wie etwa Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliniumbetain, und N-Tetradecyl-N,N-betain (z. B. Amorgen K, hergestellt von Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), und anionische oberflächenaktive Mittel, wie etwa wie etwa Dodecylbenzenzolsulfonsäure und andere Alkylbenzenzolsulfonsäuren mit 8 bis 22 Kohlenstoffatome, Alkylnaphthalensulfonsäure (mit 1 oder 2 Alkylgruppen und 1 bis 6 Kohlenstoffatomen), Naphthalensulfonsäure, und Formalin Kondensationsprodukte davon (Kondensationszahl beträgt von 2 bis 5), und Alkylsulfat mit 8 bis 22 Kohlenstoffatomen erfindungsgemäß verwendet werden.
  • Durch Licht/Wärme umwandelbare einfache Nicht-Metallsubstanz
  • Zusätzlich zu den vorstehenden Metallverbindungen können durch Licht/Wärme umwandelbare Feinteilchen aus einfachen Nicht-Metallsubstanzen und Nicht-Metallverbindungen erfindungsgemäß auch verwendet werden. Diese durch Licht/Wärme umwandelbaren Feinteilchen schließen eine einfache Substanz, wie etwa Ruß, Graphit, Knochenschwarz, und verschiedene organische und anorganische Pigmente ein. Viele von diesen sind in sich selbst hydrophob und es ist notwendig, dass sie durch eine Hydrophilisierungsbehandlung oberflächenbehandelt werden.
  • Herkömmlicherweise wohlbekannte beliebige Verfahren können zur Oberflächenhydrophilisierungsbehandlung verwendet werden. Zum Beispiel können die Oberflächen von Ruß durch ein wohlbekanntes Verfahren durch die Einführung von Hydroxylgruppen oder durch Silicatbehandlung hydrophilisiert werden. Zum Beispiel wird 10 g Ruß in einen Reaktionsbehälter unter verringertem Druck gestellt und entlüftet, und dann wird eine Plasmabestrahlung unter strömenden Wasserdampf durchgeführt, so kann Ruß erhalten werden, worin Hydroxylgruppen eingeführt worden sind. Ferner kann beim Dispergieren des so erhaltenen Rußes mit eingeführten Hydroxylgruppen Wasser und tropfenweiser Zugabe von Tetraethoxysilan hierzu und Umsetzen mit dem Ruß bei Raumtemperatur mit Silicat oberflächenbehandeltes Ruß erhalten werden.
  • Durch Licht/Wärme umwandelbares Pigment
  • Erfindungsgemäß können beliebige Pigmente verwendet werden, z. B. ein Pigment, das selbst eine hydrophile Oberfläche besitzt, zudem durch Licht/Wärme mit Bestrahlungslicht für die Bilderzeugungsschicht umwandelbar ist und feine Teilchen dispergieren kann. Pigmente können beliebige aus einem Metallkomplexpigment und einem nicht metallischen Pigment sein.
  • Spezifische Beispiele für die bevorzugten Pigmente schließen Cobalt Green (C.I. 77335), Emerald Green (C.I. 77410), Phthalocyanin Blue (C.I. 74100), Copper Phthalocyanin (C.I. 74160), Ultramarine (C.I. 77007), Prussian Blue (C.I. 77510), Cobalt Violet (C.I. 77360), Pariodien Red 310 (C.I. 71155), Permanent Red BL (C.I. 71137), Perylen Red (C.I. 71140), Rhodamin Lake B (C.I. 45170:2), Helio Bordeaux BL (C.I. 14830), Light Fast Red Toner R (C.I. 12455), Fast Scarlet VD, Lithol Fast Scarlet G (C.I. 12315), Permanent Brown FG (C.I. 12480), Indanthrene Brilliant Orange RK (C.I. 59300), Chrome Orange (C.I. 77601), Hansa Yellow 10G (C.I. 11710), Titan Yellow (C.I. 77738), Zink Yellow (C.I. 77955), und Chrome Yellow (C.I. 77600) ein. Zusätzlich zu diesen werden auch verschiedene Arten von Pigmenten, die als Toner zum elektrostatischen Aufzeichnen verwende werden, vorzugsweise verwendet.
  • Hinsichtlich von Pigmenten sind zudem bis auf Teilchen, die eine hydrophile Substanz in sich selbst umfassen, diese zum Unterziehen einer Oberflächenhydrophilisierungsbehandlung, die den Fällen von Metallverbindungen ähnlich sind, die nicht in sich selbst hydrophil sind, Metallen und einfachen Kohlenstoffsubstanzen, notwendig.
  • Der Gehalt von durch Licht/Wärme umwandelbaren Feinteilchen in einer Bilderzeugungsschicht beträgt von 1 bis 95 Gew.-%, vorzugsweise von 3 bis 90 Gew.-%, und weiter bevorzugt von 5 bis 80 Gew.-%, basierend auf dem Gehalt von festen Zusammensetzungselementen. Wenn der Gehalt weniger als 1 Gew.-% beträgt, wird die Menge der Wärmeerzeugung unzureichend, während, wenn dieser mehr als 95 Gew.-% beträgt, sich die Filmfestigkeit herabsetzt.
  • Durch Licht/Wärme umwandelbarer hydrophiler Farbstoff
  • Als ein durch Licht/Wärme umwandelbares Mittel können hydrophile Farbstoffe mit einem Lichtabsorptionsbereich in dem spektralen Wellenlängenbereich des Bestrahlungslichts, die zudem eine Färbungsfunktion und molekulare Dispersionsfunktion für ein hydrophiles Medium besitzen, auch erfindungsgemäß verwendet werden. Ein bevorzugter Farbstoff ist ein IR-Absorber, insbesondere Farbstoffe mit einer wasserlöslichen Gruppe in dem Molekül, und Farbstoffe die aus Polymethinfarbstoff, einen Cyaninfarbstoff, einen Squaryliumfarbstoff, einem Pyryliumfarbstoff, einem Diimmoniumfarbstoff, einer Phthalocyaninverbindung, einem Triarylmethanfarbstoff, und einem Metalldithiolen ausgewählt sind. Weiter bevorzugt von diesen sind ein Polymethinfarbstoff, ein Cyaninfarbstoff, ein Squaryliumfarbstoff, ein Pyryliumfarbstoff, ein Diimmoniumfarbstoff, und eine Phthalocyaninverbindung, und ein Polymethinfarbstoff. Ein Polymethinfarbstoff, ein Cyaninfarbstoff und eine Phthalocyaninverbindung sind vom Standpunkt der Synthesegeeignetheit insbesondere bevorzugt.
  • Als die bevorzugte wasserlösliche Gruppe können eine Sulfonsäuregruppe, eine Carboxylgruppe und eine Phosphonsäuregruppe beispielhaft dargestellt werden.
  • Spezifische Beispiele von IR-Absorbern zur erfindungsgemäßen Verwendung werden nachstehend gezeigt, aber die vorliegende Erfindung ist nicht hierauf begrenzt.
  • Figure 00300001
  • Figure 00310001
  • Figure 00320001
  • Figure 00330001
  • Figure 00340001
  • Figure 00350001
  • Der Gehalt eines IR-Absorbers beträgt erfindungsgemäß 6 Gew.-% oder mehr, vorzugsweise 10 Gew.-% oder mehr, und insbesondere bevorzugt 15 Gew.-% oder mehr, basierend auf dem gesamten Feststoffgehalt in der lichtempfindlichen Schicht. Wenn der Gehalt eines IR-Absorbers weniger als 6 Gew.-% beträgt, wird die Empfindlichkeit herabgesetzt.
  • Zum Zeigen des erfindungemäßen Effektes ist es wesentlich, dass nicht nur ein durch Licht/Wärme umwandelbares Mittel das vorstehende Absorptionsvermögen besitzt, sondern auch die Bildaufzeichnungsschicht, die das durch Licht/Wärme umwandelbare Mittel enthält, das notwendige Niveau der Lichtabsorptionsleistung, d.h. Teilchendichte, zum effektiven Hervorrufen, der Licht/Wärme-Umwandlungsfunktion besitzt. Die notwendige Licht-Absorptionsleistung bedeutet, einen spektralen Absorptionsbereich mit einem Absorptionsvermögen von 0,3 oder mehr in dem durch Licht/Wärme umwandelbaren Spektralwellenbereich von 300 bis 1200 nm aufzuweisen, im Einzelnen bedeutet dies, ein Absorptionsmaximum des Absorptionsvermögens von 0,3 oder in dem Wellenlängenbereich des bestrahlten Lichts zur Bilderzeugung aufzuweisen (in dem Fall eines Lichts mit kurzer Wellenlänge, der Wellenlängenbereich von 100 nm Breite mit der Wellenlänge als Mittelpunkt), oder bedeutet, dass der spektrale Absorptionswellenlängenbereich von kontinuierlichen 100 nm oder mehr mit einem Absorptionsvermögen von 0,3 oder mehr vorhanden ist, wenn das Absorptionsmaximum in diesem Wellenlängenbereich nicht vorhanden ist. Wenn die Bedingung der Lichtabsorptionsleistung erfüllt wird, nimmt der Grad der Empfindlichkeit zu und die Unterscheidungsfunktion wird durch Durchführen der bildweisen Belichtung gemäß dem Absorptionswellenlängenbereich verbessert.
  • Darüber hinaus beträgt die Transmissionsdichte einer Bilderzeugungsschicht vorzugsweise von 0,3 bis 3,0, gemessen basierend auf dem internationalen Standard ISO5-3 und ISO5-4. Wenn die Transmissionsdichte mehr als 3,0 beträgt, wird die Bestrahlungsstrahlstärke am unteren Teil eines Bildbereichs auffällig als Folge der Abschwächung des Bestrahlungsstrahls abgeschwächt und die Umwandlung in die Hydrophobizität tritt mit Schwierigkeit auf. Wenn die Transmissionsdichte 0,3 oder weniger beträgt, wird die Absorption der Bestrahlungsstrahlenergie unzureichend, so ist es wahrscheinlich, dass die Wärmemengenenergie, die durch Licht/Wärme-Umwandlung erhalten wurde, unzureichend ist.
  • Hydrophiles Medium
  • Ein hydrophiles Medium für die Bilderzeugungsschicht wird nachstehend beschrieben.
  • Ein erfindungsgemäßes hydrophiles Medium besitzt einen Aufbau, der eine hydrophile hochmolekulare Verbindung, Sol/Gel umwandelbares Material, das aus dem System aus Metallhydroxid und Metalloxid besteht, hydrophile Solteilchen, und das andere subsidiäre Komponenten, Verbindungen, z. B. Farbstoffe und oberflächenaktive Mittel, die aus verschiedenen Zwecken ausgewählt sind, wie etwa der Steuerung des Grads der Hydrophilizität, der Verbesserung der physikalischen Festigkeit der Bilderzeugungsschicht, der Verbesserung der gegenseitigen Dispergierfähigkeit der Zusammensetzungen, die die Schicht zusammensetzen, der Verbesserung der Beschichtungsfunktion, der Verbesserung der Druckgeeignetheit, und der Zweckmäßigkeit des Plattenherstellungsverfahrens.
  • Es ist erfindungsgemäß insbesondere bevorzugt, dass eine hydrophile Bilderzeugungsschicht ein Sol/Gel umwandelbares System umfasst. Ein Sol/Gel umwandelbares System mit einer Funktion des Erzeugens einer Polysiloxangelstruktur ist vor allem bevorzugt.
  • <Medium des Sol/Gel umwandelbaren Systems>
  • Insbesondere bevorzugte Medien für die erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsschicht sind Sol/Gel umwandelbare Systeme, die nachstehend beschrieben werden. Das heißt, das Sol/Gel umwandelbare System ist ein Sol in dem Zustand einer Beschichtungslösung, wird ein Gelzustand nach Beschichten und während dem Verstreichen der Zeit, kann so auf eine Druckplatte aufgetragen werden. Die Sol/Gel umwandelbaren Systeme, die vorzugsweise erfindungsgemäß angewendet werden, sind Polymer, worin die Bindungsgruppen der mehrwertigen Elemente eine Netzstruktur über Sauerstoffatome binden und gleichzeitig mehrwertige Metalle auch Hydroxylgruppen und Alkoxylgruppen besitzen, die nicht gebunden sind, und sie gemischt werden und eine harzartige Struktur bilden. Die Systeme sind in einem Solzustand vor dem Beschichten, wenn es viele Alkoxylgruppen und Hydroxylgruppen gibt, und die Harznetzstruktur erhöht sich mit dem Voranschreiten der Esterbindung nach dem Beschichten und wird ein Gelzustand. Zusätzlich zu der Funktion, dass der Grad der Hydrophilizität der harzartigen Struktur variiert, besitzen die Sol/Gel umwandelbaren Systeme erfindungsgemäße die Funktion des Binden eines Teils der Hydroxylgruppe an die festen Feinteilchen und modifizieren so die Oberflächen der festen Feinteilchen, um hierdurch den Grad der Hydrophilizität zu ändern. Die mehrwertigen bindenden Elemente der Verbindungen mit Sol/Gel umwandelbaren Hydroxylgruppen und Alkoxylgruppen sind Aluminium, Silicium, Titan und Zirkon, von denen alle erfindungsgemäß verwendet werden können. Die Sol/Gel umwandelbaren Systeme, die erfindungsgemäß vorzugsweise angewendet werden, sind Polymere, worin die Bindungsgruppen aus mehrwertigen Elementen eine Netzstruktur über Sauerstoffatome bilden und gleichzeitig mehrwertige Metalle auch Hydroxylgruppen und Alkoxylgruppen, die nicht gebunden sind, besitzen und sie vermischt sind und eine harzartige Struktur bilden. Die Systeme sind in einem Solzustand vor dem Beschichten, wenn es viele Alkoxylgruppen und Hydroxylgruppen gibt, und die harzartige Netzstruktur sich mit dem Voranschreiten der Esterbindung nach dem Beschichten erhöht und ein Gelzustand wird. Zusätzlich zu der Funktion, dass der Grad der Hydrophilizität der harzartigen Struktur variiert, besitzen die Sol/Gel umwandelbaren Systeme erfindungsgemäß auch die Funktion des Bindens eines Teils der Hydroxylgruppen an die festen Feinteilchen und modifizieren so die Oberflächen der festen Feinteilchen, um hierdurch den Grad der Hydrophilizität zu ändern. Die mehrwertigen bindenden Elemente, der Verbindungen mit Sol/Gel umwandelbaren Hydroxylgruppen und Alkoxylgruppen sind Aluminium, Silicium, Titan und Zirkon, von denen alle erfindungsgemäß verwendet werden können. Die durch Siloxanbindung umwandelbaren Sol/Gel-Systeme, die insbesondere bevorzugt erfindungsgemäß vorzugsweise verwendet werden, werden nachstehend beschrieben. Die Sol/Gel-Umwandlung unter Verwendung von Aluminium, Titan und Zirkon kann durch Ersetzen jeweiliger Elemente durch die im Folgenden beschriebenen Siliciumverbindungen durchgeführt werden.
  • Da der Metallstaub im Vorstehenden (d.h. manchmal das metallische Feinstück genannt) eine Licht/Wärme umwandelnde Funktion besitzt, d.h. die Funktion des Absorbierens von Lichtenergie und Umwandeln von diesem in Wärmenergie, wenn die Energie des bestrahlten Lichts ausreichend groß ist, nimmt die Temperatur des feinen Metallstücks mehr als der Schmelzpunkt des Metalls durch das absorbierte Licht durch das feine Metallstück selbst zu, folglich schmilzt das feine Metallstück und bildet eine dünne Metallschicht. Ferner wird angenommen, dass beim Schmelzen des feinen Metallstücks die Bindemittelmatrix auch zusammen mit der Wärmearbeit schmilzt, und eine ähnliche Funktion zeigt, wobei sie durch die dünne Metallschicht umgeben ist. Demgemäß bildet der mit Licht bestrahlte Teil eine bildweise Metallschichtfläche und die Oberfläche der dünnen Metallschicht zeigt eine auffällige Hydrophobizität und zudem eine hohe mechanische Festigkeit, daher kann eine herausragende Druckqualität mit hoher Unterscheidung und überlegener Druckfunktion verwirklicht werden. Darüber hinaus ist das Plattenherstellungsverfahren einfach und erfordert keine Entwicklung, so wird das erfindungsgemäße Ziel ausreichend erfüllt.
  • Der Mechanismus wird ferner durch 1 erläutert. 1 ist eine typische Zeichnung, die ein repräsentatives erfindungsgemäßes Plattenherstellungsverfahren zeigt. Der auf der linken Seite von 1 gezeigte Druckplattenvorläufer umfasst Träger 2 und eine Bildaufzeichnungsschicht 3, die auf Träger 1 bereitgestellt ist, und die Bildaufzeichnungsschicht 3 umfasst oberflächlich hydrophile Teilchen 4, die ein feines Metallstück 5 tragen. In dem in 1 gezeigten Beispiel ist das feine Metallstück 5 ein Staub aus metallischem Silber, und die oberflächlich hydrophilen Teilchen 4 sind Titanoxidteilchen. Die Druckplatte 11 auf der rechten Seite von 1 zeigt, dass das feine Silberstück 5 aufgrund von Wärme mit Bestrahlung mit dem Laserstrahl 6, der mit feinen auf der oberen Seite des Druckplattenvorläufers 1 auf der linken Seite gezeigt wird, schmilzt und eine dünne Silberschicht 15 wird, und eine hydrophobe Fläche wird auf der Oberfläche der bestrahlten Fläche der Bildaufzeichnungsschicht, die Titanoxidteilchen 14 enthält, gebildet, wo das feine Silberstück verschwunden ist.
  • Die oberflächlich hydrophilen Teilchen, die ein feines Metallstück tragen, sind die Oberflächen der hydrophilen Teilchen 4 in 1. Die hydrophilen Oberflächen, die das feine Metallstück tragen, sind vorzugsweise die Oberflächen der Teilchen. Die Oberfläche des Druckplattenvorläufers, der durch das aufgeraut sein durch die Teilchen hydrophil ist, wird durch das thermische Schmelzen des feinen Metallstücks geglättet und es wird angenommen, dass die Beschleunigung der Hydrophobisierung durch die Umwandlung der Oberflächenform hervorgerufen wird.
  • Als ein Mittel um zu bewirken, dass die Teilchenoberflächen einen Metallstaub tragen, kann ein Verfahren zur Verwendung einer Metallverbindung mit einer photokatalytischen Funktion erfindungsgemäß angewendet werden. Gemäß diesen Verfahren wird beim Bestrahlen der Metallverbindung mit aktivem Licht in Gegenwart eines reduzierbaren Metallsalzes die Oberfläche der Verbindung eine stark reduzierbare Oberfläche durch die katalytische Funktion und reduziert das vorstehende Metallsalz, um einen Metallstaub auf der Oberfläche auszufällen.
  • Ein anderes Verfahren ist ein Verfahren der Verwendung einer kaum wasserlöslichen Metallverbindung. Gemäß diesem Verfahren wird beim Unterziehen eines reduzierbaren Metallsalzes einer stromlosen Reduktion ein Metallstaub auf der Oberfläche der kaum wasserlöslichen Metallverbindung ausgefällt.
  • Gemäß den vorstehenden erfindungsgemäßen Verfahren ist die lediglich bildweise Lichtbestrahlung im Wärmemodus auf den Druckplattenvorläufer, der oberflächlich hydrophile Teilchen enthält, die Metallstaub auf den Oberflächen tragen, genug, um eine Metallschicht aus dem metallischen Staub zu bilden, der thermisch auf den bestrahlten Teil verschmolzen ist, so wird ein bildweiser tintenaufnahmefähiger hydrophober Bereich gebildet, der einen bemerkbaren Unterschied der Polarität zwischen einem nicht bestrahlten Bereich, der Metallstaub trägt und eine auffällige Hydrophilizität zeigt, erzeugt. Daher kann eine Druckplatte, die wenig Verschmieren beim Drucken verursacht und eine herausragende Drucklebensdauer besitzt, durch ein einfaches Verfahren, das keine Entwicklung benötigt, hergestellt werden.
  • Ein erstes erfindungsgemäßes Merkmal ist, dass aufgrund der Durchführung des Oberflächenaufrauens durch Auftragen von Metallstaub die auffällig hydrophilisierte Oberfläche als die Tinten abstoßende Fläche der Druckplatte unabhängig von den Größen der ursprünglichen Polaritäten der Staubsubstanzen verwendet wird.
  • Ein zweites erfindungsgemäßes Merkmal ist, dass eine stabile, auffällig hydrophobe und kontinuierliche Phasenmetalloberfläche aus dem Metallstaub durch die Wärmearbeit als die tintenaufnahmefähige Fläche der Druckplatte verwendet wird.
  • Das dritte ist das Merkmal, dass die Verwirklichung des Verfahrens der funktionalen Oberfläche, die den vorstehenden Metallstaub trägt, d.h. das Merkmal, dass der vorstehende charakteristische Druckplattenvorläufer, der zu der Druckplatte führt, unter Verwendung eines Photokatalysators oder durch stromlose Reduktion erhalten wird.
  • Wenn eine Metallverbindung mit einer photokatalytischen Funktion bei der Herstellung von Metallstaub verwendet wird, ist das Metallelement des Staubs vorzugsweise ein Metallelement, das in der Reihenfolge der Ionisierungstendenz (edler Charakter) nach einem Wasserstoffelement folgt und Metallsalze, die solche Metallelemente umfassen, werden zur Erzeugung eines Staubs verwendet.
  • Andererseits wird bei Verwendung der stromlosen Reduktion bei der Herstellung eines Metallstaubs ein Metallsalz, das das Metallelement eines Staubs spendet, ausreichen, solange wie dieses ein Metallsalz ist, das durch eine stromlose Reduktionsverbindung reduziert wurde, somit können die Metallelemente mit einer höheren Ionisierungstendenz auch verwendet werden. Ferner ist es für kaum wasserlösliche Teilchen, die mit Metallstaub tragen, nicht notwendig, eine photokatalytische Funktion zu besitzen, so kann das Material aus einem breiten Bereich ausgewählt werden.
  • Eine andere erfindungsgemäße Ausführungsform wird detailliert nachstehend beschrieben.
  • Herstellung von Teilchen, die Metallstaub tragen
  • Das Herstellungsverfahren von Teilchen, die Metallstaub tragen (manchmal ein metallisches Feinstück genannt), ist wie vorstehend beschrieben aus (1) einem Verfahren zum Ausfällen eines Metallstaubes auf den Oberflächen der Metallverbindungsteilchen mit einer photokatalytischen Funktion durch Lichtbestrahlung, und (2) einem Verfahren zum Ausfällen von Metallstaub auf der Oberfläche der kaum wasserlöslichen Metallverbindung durch stromlose Reduktion ausgewählt.
  • (1) Ein Verfahren zum Auswählen von Metallstaub auf den Oberflächen der Metallverbindungsteilchen mit einer photokatalytischen Funktion durch Lichtbestrahlung
  • <Metallverbindungsteilchen mit photokatalytischer Funktion>
  • Metallverbindungsteilchen mit einer photokatalytischen sind Verbindungen mit einer Funktion, dass das elektronische Energieniveau angeregt wird und die Reaktivität bei Absorption eines aktiven Lichts beschleunigt wird. Das Licht mit einer anregenden Funktion wird ein aktives Licht genannt. Als die Metallverbindungen mit einer photokatalytischen Funktion, die erfindungsgemäß verwendet werden können, können TiO2, RTiO3 (worin R ein Erdalkalimetallatom darstellt), AB2-xCxD3-xExO10 (worin A ein Wasserstoffatom oder ein Alkalimetallatom darstellt, B ein Alkalimetallatom oder ein Bleiatom darstellt, C ein seltenes Erdatom darstellt, D ein Metallatom, das zur Gruppe V-A des Periodensystems gehört, darstellt, E ein Metallatom darstellt, das zur Gruppe IV des Periodensystems gehört, und X einen willkürlichen numerischen Wert von 0 bis 2 darstellt), SnO2, MoS2, MoSe2, ZrO2, ZnO, ZnS, CdS, CdSe, PbS, SiC, Bi2O3, WO3 und Fe2O3 beispielhaft dargestellt werden.
  • Titandioxid (TiO2), das durch beliebige wohlbekannte Verfahren hergestellt wurde, z. B. Calcinierung durch Erhitzen in Schwefelsäure oder Sauerstoffoxidation nach Heißchlorierung von Ilmenit und Titanschlamm, kann erfindungsgemäß verwendet werden. Titandioxid vom beliebigen Kristalltyp kann erfindungsgemäß verwendet werden, insbesondere sind Kristall vom Anatastyp wegen ihrer hohen Empfindlichkeit bevorzugt. Es ist wohlbekannt, dass Kristalle vom Anatastyp erhalten werden können, indem die Calcinierungsbedingungen zum Erhalt von Titandioxid durch Calcinierung ausgewählt werden. In diesem Fall kann amorphes Titandioxid oder Titandioxid vom Rutiltyp enthalten sein, aber diejenigen, die 40 % oder mehr vom Anatastyp, vorzugsweise 60 % oder mehr, umfassen, sind aus dem vorstehenden Grund bevorzugt.
  • R von RTiO3 ist ein Metallatom, das zu Erdalkalielementen des Periodensystems gehört, wie etwa Magnesium, Calcium, Strontium, Barium, und Beryllium, und Strontium und Barium sind insbesondere bevorzugt. Zwei oder mehrere Arten von Erdalkalimetallatomen können coexistieren, solange wie die Gesamtheit des vorstehenden R stöchiometrisch mit der Formel übereinstimmen.
  • In der durch AB2xCxD3-xExO10 dargestellten Formel stellt A ein Wasserstoffatom oder ein einwertiges Atom, das aus einem Alkalimetallatom ausgewählt ist, wie etwa Natrium, Kalium, Rubidium, Cäsium, da und Lithium und zwei oder mehrere Arten von Alkalimetallatomen können coexistieren, solange wie die Gesamtheit von A stöchiometrisch mit der Formel übereinstimmt.
  • B stellt das gleiche Erdalkalimetallatom mit dem vorstehenden R oder ein Bleiatom dar, und ähnlich wie vorstehend können zwei oder mehrere Atome coexistieren solange wie die Gesamtheit von B stöchiometrisch mit der Formel übereinstimmt.
  • C stellt ein Seltenerdatom dar, vorzugsweise zusätzlich zu Scandium und Yttrium, ein Atom zur der Gruppe der Lantanoidelemente gehört, wie etwa Lanthan, Cer, Praseodymium, Neodymium, Holmium, Europium, Gadolinium, Terbium, Thulium, Ytterbium, oder Lutetium und zwei oder mehrere Atome können coexistieren, solange wie die Gesamtheit von C stöchiometrisch mit der Formel übereinstimmt.
  • D stellt eines oder mehrere Metallatome dar, die zu Elementen der Gruppe V-A des Periodensystems gehören, wie etwa Vanadium, Niob oder Tantal, und zwei oder mehrere Atome der Gruppe V-A können coexistieren, solange wie der stöchiometrische Zusammenhang erfüllt wird.
  • E stellt ein Metallatom dar, das zu Elementen der Gruppe IV des Periodensystems gehört, wie etwa Silicium, Germanium Zinn, Blei, Titan, oder Zirkon, und zwei oder mehrere Metallatome der Gruppe IV können coexistieren.
  • x stellt einen willkürlichen numerischen Wert von 0 bis 2 dar.
  • Spezifische Beispiele für die Verbindungen der Formel AB2-xCxD3-xExO10 schließen CsLa2NbTi2O10, HCa1,5La0,5Nb2,5Ti0,5O10, und LaNbTi2O10 ein.
  • Als das Herstellungsverfahren für diese Verbindungen können z. B. feine Teilchen aus CsLa2NbTi2O10 durch feines stöchiometrisch übereinstimmendes Pulverisieren von Cs2CO3, La2O3, NbO5 und TiO2 in einen Mörser, Stellen des Inhaltes in einem Platinziegel und Calcinieren bei 130°C für 5 Stunden, dann Abkühlen des calcinierten Produktes und wiederum Stellen von diesen in einen Mörser und Pulverisierens in feine Teilchen mit einer Teilchengröße von einigen Mikrometern oder weniger erhalten werden. Dieses Verfahren ist nicht auf feine Teilchen von CsLa2NbTi2O10 begrenzt und kann auch auf HCa1,5La0,5Nb2,5Ti0,5O10 und LaNbTi2O10, das durch die vorstehende Formel AB2-xCxD3-xExO10 (0 < x < 2) dargestellt wird, angewendet werden.
  • Als andere Metallverbindungen mit einer photokatalytischen Funktion können diejenigen, die kommerziell leicht verfügbar sind, verwendet werden.
  • Erfindungsgemäß wird eine dispergierte Teilchenschicht, die mindestens eine Verbindung allein oder eine Kombination aus zwei oder mehreren aus TiO2, RTiO3, AB2-xCxD3-xExO10, SnO2, MoS2, MoSe2, ZrO2, ZnO, ZnS, CdS, CdSe, PbS, SiC, Bi2O3, WO3 und Fe2O3 umfasst, auf dem Träger bereitgestellt.
  • Die optimalen Teilchengrößen von diesen Metallverbindungsteilchen unterscheiden sich durch die Brechungsindices und die Absorptionskoeffizienten der Substanzen, die die Teilchen zusammensetzen, aber liegen im Allgemeinen von 0,01 bis 10 μm, vorzugsweise von 0,02 bis 5 μm. Die Lichtabsorption wird aufgrund der Lichtstreuung, wenn die Teilchengrößen zu fein sind, und aufgrund der Verringerung der Dispergierfähigkeit und der Grenzflächenreduktion von Teilchen, wenn diese zu groß sind, ineffizient.
  • Der Gehalt der Metallverbindungsteilen in der hydrophilen Schicht, die Metallverbindungsteilchen mit einer photokatalytischen Funktion enthalten, beträgt von 2 bis 90 Gew.-%, vorzugsweise von 5 bis 80 Gew.-%.
  • <Oberflächlich hydrophiler durch Licht/Wärme umwandelbarer Staub>
  • Eine durch Licht/Wärme umwandelbare Substanz, die als Staub auf der Oberfläche eines Metallsalzes mit photokatalytischer Funktion geträgert ist, kann in sich selbst hydrophil oder hydrophob sein, wenn die Substanz eine Hydrophilizität in dem geträgerten Zustand zeigt, und verschiedene wohlbekannte, durch Licht/Wärme umwandelbare Substanzen können erfindungsgemäß verwendet werden.
  • Durch Licht/Wärme umwandelbare Substanzen, die vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet werden können, sind Metallstaub und AI, Si, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Mo, Ag, Au, Pt, Pd, Rh, In, Sn und W können beispielhaft dargestellt werden.
  • Bevorzugt von Metallen, die diesen Metallstaub zusammensetzen, sind Metalle, die in ihrer Ionisierungstendenz (edlen Charakter) nach dem Wasserstoffelement folgen, z. B. Ag, Au, Cu, Pt, Pd und Rh, und insbesondere bevorzugte Elemente sind Ag, Au und Cu. Diese Metalle können auf den Teilchenoberflächen einer Metallverbindung mit einer photokatalytischen Funktion durch die vorstehenden Verfahren geträgert werden, aber weiter bevorzugt werden bei Bestrahlung der Teilchen einer Metallverbindung mit einer photokatalytischen Funktion mit einem aktiven Licht in Gegenwart der wasserlöslichen Salze der vorstehenden Metalle die wasserlöslichen Salze auf der Oberfläche einer Metallverbindung mit einer photokatalytischen Funktion als ein Staub lichtreduziert und ausgefällt, so wird eine hydrophile Oberfläche erzeugt. Demgemäß können die Metallverbindungsteilchen mit einer photokatalytischen Funktion, die einen erfindungsgemäßen hydrophilen durch Licht/Wärme umwandelbaren Staub tragen, leicht erhalten werden.
  • Wasserlösliche Metallsalze, die zum Erzeugen eines Metallstaubs verwendet werden, sind Nitrate, Sulfate, Halogensäuresalze, Halide, Halogensäurekomplexsalze, Ammoniumkomplexsalze (wässrige ammoniakalische Lösung von jedem der vorstehenden Salze), und Sulfite der vorstehenden bevorzugten Metalle.
  • Metallkomplexsalze von Ammonium und Carbonsäuren können auch verwendet werden. Zum Beispiel können Silberaminnitratkomplex, Silberacetat, Silberlactat und Silberbenzoat beispielhaft dargestellt werden.
  • <Verfahren zum Trägern von Metallstaub>
  • Für die Oberfläche eines Metalls mit einer photokatalytischen Funktion wird zum Trägern eines Metallstaubs das Metall mit einer photokatalytischen Funktion mit aktivem Licht in Gegenwart des Metallsalzes, das dem Metall des Staubs (d.h. des Vorläufers des Metallstaubs) bestrahlt. Im Einzelnen kann ein beliebiges der folgenden Verfahren verwendet werden, d.h. ein Verfahren, worin eine hydrophile Schicht, die Metallverbindungsteilchen mit eine photokatalytischen Funktion enthält, die darin dispergiert sind, in ein wässrige Lösung aus einem Metallsalz eingetaucht wird, und die gesamte Oberfläche mit einem aktiven Licht bestrahlt wird, ein Verfahren, worin eine hydrophile Schicht, die Metallverbindungsteilchen mit einer photokatalytischen Funktion enthält, mit einer wässrigen Lösung eines Metallsalzes imprägniert wird und die gesamte Oberfläche mit einem aktiven Licht bestrahlt wird, ein Verfahren, worin eine hydrophile Schicht, die ein Metallsalz zusammen mit Metallverbindungsteilchen mit einer photokatalytischen Funktion enthält, mit einem aktiven Licht bestrahlt wird, ein Verfahren, worin Metallverbindungsteilchen mit einer photokatalytischen Funktion in einer Lösung, die ein Metallsalz enthält, suspendiert wird, mit aktiven Licht zur Ausfällung von Metallstaub auf den Oberflächen der Metallverbindungsteilchen im Vorhinein bestrahlt wird, und ein Verfahren, worin eine Beschichtungslösung, die mindestens Metallverbindungsteilchen und ein Metallsalz enthält, mit einem aktiven Licht zur Ausfällung von Metallstaub auf den Oberflächen der Metallverbindungsteilchen bestrahlt wird, und dann eine Druckplatte hergestellt wird. Wenn eine wässrige Lösung aus Metallsalz verwendet wird, beträgt die Konzentration des Metallsalzes in der wässrigen Lösung von 0,0001 bis 10 mol/Liter, vorzugsweise von 0,001 bis 5 mol/Liter, und weiter bevorzugt von 0,01 bis 3 mol/Liter. Wenn ein Metallsalz zu einem lichtempfindlichen Druckplattenvorläufer imprägniert oder zugegeben wird, wird das Metallsalz imprägniert oder zugegeben, so dass die Konzentration in der beschichteten Schicht auf einer Trockenfilmbasis von 0,0001 bis 10 mol/Liter, vorzugsweise von 0,001 bis 5 mol/Liter, und weiter bevorzugt von 0,01 bis 3 mol/Liter wird.
  • Die Beschichtungsrate des Staubes einer durch Licht/Wärme umwandelbaren Substanz, die auf der Oberfläche eines Metalls mit einer photokatalytischen Funktion geträgert wird, kann willkürlich innerhalb des Bereichs, in dem eine Lichtreaktion im Wärmemodus auftritt, ausgewählt werden. Im Allgemeinen beträgt die Beschichtungsrate, bei der eine Lichtreaktion im Wärmemodus auf einem praktischen Niveau auftritt, 2 % oder mehr, und die gesamte Oberfläche kann beschichtet werden. Jedoch beträgt zum Beibehalten einer hohen Oberflächenhydrophilizität die Beschichtungsrate 90 % oder weniger, vorzugsweise 20 % bis 80 %. Die coexistierenden Konzentration eine Metallsalzes die Bestrahlungsintensität eines aktiven Lichts und die Bestrahlungszeit werden so ausgewählt, um den vorstehenden Bereich der Beschichtungsrate zu erreichen. Die Lichtaussetzungsmenge beträgt von 0,01 bis 30 CMS, vorzugsweise von 0,1 bis 10 CMS, und das Versagen des Reziprozitätsgesetztes ist vernachlässigbar.
  • Das aktive Licht bedeutet das Licht der Wellenlänge durch die Absorption, von welcher eine Verbindung mit einer photokatalytischen Funktion aktiviert wird, und eine katalytische Funktion zeigt. Die Lichtquellen des aktiven Lichtes sind eine Quecksilberlampe, wie etwa einer Hochdruckquecksilberlampe, eine Xenonbogenlampe, eine elektrische Xenonentladungslampe, verschiedene Arten von Fluoreszenzlampen, eine Wolframhalogenlampe, und Laserstrahlen mit einer Oszillationswellenlänge im sichtbaren Wellenlängenbereich und UV-Bereiche, die gemäß dem Plattenherstellungsverfahren und den Arten der Verbindungen mit einer photokatalytischen Funktion ausgewählt werden.
  • Ferner ist es bevorzugt, dass eine bei aktiver Lichtbestrahlung oxidierbare Verbindung zum Zweck des Beschleunigens des Ausfällens eines metallischen Feinstücks enthalten ist. Beispiele für die Verbindungen zur Verwendung für diesen Zweck schließen Saccharide und Carbohydrate, wie etwa Maltose Lactose, Dextran, Dextrin, und lösliche Stärke, Aldehyde wie etwa Formaldehyd, Acetaldehyd, Glyoxal, und Succindialdehyd, Alkohole und Phenole mit einer Hydroxylgruppe, wie etwa Sorbitol, Polyethylenglycol, Polyvinylalkohol, und Hydrochinon, Verbindungen mit einer Carboxylgruppe, wie etwa Polyacrylsäure, Ether, wie etwa Ethylenglycoldimethylether, Amide, wie etwa N-Methylpyrrolidon, Ester, wie etwa Ethylenglycolmonomethylmonoacetat, und Ketone, wie etwa Acetylketon ein. Die Zugabemenge dieser Verbindungen variiert gemäß den Arten der Verbindungen, aber wenn sie zu einer hydrophilen Schicht zugegeben werden, beträgt die Menge von 0,1 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise von 0,5 bis 30 Gew.-%, basierend auf dem Gewicht des Feststoffgehalts in der hydrophilen Schicht, und wenn sie zu einer wässrigen Lösung zugegeben werden, die ein Metallsalz enthält, beträgt die Menge von 0,001 bis 5 Gew.-%, vorzugsweise von 0,01 bis 1 Gew.-%.
  • (2) Verfahren zum Ausfällen eines Metallstaubs auf der Oberfläche einer kaum wasserlöslichen Metallverbindung durch stromlose Reduktion
  • <Kaum wasserlösliche Metallverbindungsteilchen>
  • Kaum wasserlösliche Verbindungen, die auf das Verfahren zum Ausfällen eines Metallstaubs durch stromlose Abscheidung angewendet werden können, können erfindungsgemäß angewendet werden, wenn sie Metallverbindungen sind, die im Wesentlichen in der Beschichtungslösung für eine Bilderzeugungsschicht kaum löslich sind, und Teilchen werden können, die in einer Bilderzeugungsschicht dispergierbar sind. Beispiele für die bevorzugte Metallverbindungen schließen Oxide, Hydroxide und Sulfate Metallelements, das zu den Gruppen II bis VI und Gruppe VIII des Periodensystems gehört, Minerale und synthetische Minerale, die diese Metallverbindungen enthalten, und Glas ein.
  • Beispiele für die bevorzugten Verbindungen, die zu Oxiden, Hydroxiden und Sulfaten des Metallelements gehören, das zu den Gruppen II bis VI und Gruppe VIII des Periodensystems gehören, schließen Sulfate von Elementen der Gruppe II-A, Oxide und Hydroxide der Gruppen II-B, III bis V, VI-A und VIII Element, im Einzelnen Sulfate von Ba, Ca und Sr, und Oxide und Hydroxide von al, Ga, Ti, Zr, Sn, Pb, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Fe, Co, Ni, Pd, Rh, Si und Mn ein.
  • Insbesondere bevorzugt von diesen Bariumsulfate, Aluminiumoxid, Zirkonoxid, Titanoxid, Siliciumdioxid, Zinnoxid, Vanadiumoxid, Chromoxid, Eisen(III)oxid, Trieisentetroxid, Bleioxid, Nickeloxid und Kobaltoxid sind insbesondere bevorzugt.
  • Als bevorzugte Beispiele für Mineralien und synthetische Mineralien, die diese Element des Periodensystems enthalten, können Siliciumdioxid, Zeolith, Montmorillonit, Kaolinit, Zeophyllit, und Molekularsiebe von verschiedenen Strukturen beispielhaft dargestellt werden.
  • Als bevorzugte Beispiele für Glas können Sodaglas, Borsilicatglas, Bleiglas, Quarzglas und Borglas beispielhaft dargestellt werden. Sogenanntes Glas mit niedrigem Schmelzpunkt, dessen Zusammensetzung durch Erhöhen des Gehalts an Bleioxid und dergleichen modifiziert ist, kann als ein bevorzugtes Beispiel wegen seines Beitrags zur Formänderung der Glasteilchen bei Lichtbestrahlung beispielhaft aufgezählt werden.
  • Die Teilchen für diese kaum wasserlöslichen Metallverbindungen besitzen vorzugsweise eine Teilchengröße, die in einer Bildaufzeichnungsschicht dispergierbar ist, d.h. von 0,005 bis 10 μm, vorzugsweise von 0,01 bis 5,0 μm, und weiter bevorzugt von 0,05 bis 3,0 μm. Diese Metallverbindungsteilchen können wohlbekannten Oberflächenbehandlungen, z. B. Silicatbehandlung, gemäß der Notwendigkeit zum Verbessern der Dispergierfähigkeit in einer hydrophilen Bildaufzeichnungsschicht unterzogen werden.
  • Der Gehalt der kaum wasserlöslichen Metallverbindungsteilchen in der hydrophilen Schicht, die die kaum wasserlöslichen Metallverbindungsteilchen enthalten, beträgt von 2 bis 90 Gew.-%, vorzugsweise von 5 bis 80 Gew.-%.
  • <Reduzierbares Metallsalz>
  • Reduzierbare Metallsalze (d.h. Metallsalze, die reduziert werden), die erfindungsgemäß angewendet werden, werden nachstehend erläutert.
  • Da die Nicht-Reduzierbarkeit von Metallsalzen durch die Steuerung der stromlosen Reduktionsbedingung bestimmt werden, können verwendbare Metallsalze aus einem breiteren Bereich ausgewählt werden als in dem Fall des Ausfällens eines Metallstaubs unter Verwendung der photokatalytischen Funktion wie vorstehend beschrieben. Bevorzugte Metallsalze sind wasserlösliche Metallsalze und die Salze von Elementen in einer dem Chromelement nachgeordneter Reihenfolge der Ionisationstendenz des Zusammensetzungsmetallelements, d.h. der Salze von edleren Elementen. Diese Metallelement schließen Chrom, Kobalt, Nickel, Zinn, Titan, Blei, Eisen(III), Kupfer, Molybdän, Wolfram, Rhodium, Iridium, Palladium, Quecksilber, Silber, Platin und Gold ein.
  • Die Metallelemente, die insbesondere bevorzugte Metallsalze zusammensetzen sind Silber, Kupfer, Eisen, Nickel, Blei, Palladium, Gold, Platin, Wolfram, Titan, Kobalt und Chrom, und insbesondere bevorzugt sind Eisen, Chrom, Gold, Silber und Kupfer.
  • Die Gegensalze des Metallelements von Metallsalzen können eine beliebige Form von Salz sein, solange wie sie wasserlöslich sind, d.h. sie aus anorganischen Salzen, wie etwa Nitrat, Sulfat, Chlorid, und Thiocyanat, Aminkomplexsalzen, wie etwa Silberammoniumkomplexnitrat und Kupferammoniumkomplexnitrat, und Polyhalokomplexsalzen aus Silber und Gold, wie etwa Polychlor-Silberkomplexion ausgewählt.
  • <Reduktionsmittel zur stromlosen Reduktion>
  • Die Reduktionsmittel, die mit dem reduzierbaren Metallsalz zu kombinieren sind, werden nachstehend beschrieben.
  • Wie vorstehend beschrieben, ist die Bedingung eines Reduktionsmittels, das das Oxidationspotential des Reduktionsmittels niedriger als das Reduktionspotential des Metallsalzes ist, das in dem System der betreffenden wässrigen Lösung kombiniert wird, was in der Praxis bedeutet, dass das maximale Potential der Oxidationswelle des Reduktionsmittels auf der negativen Seite (niedrigern Seite) als das maximale Potential der Reduktionswelle des Metallsalzes ist. Insbesondere bevorzugt ist das Reduktionspotential des Metallsalzes um 20 mV oder mehr edler als das Oxidationspotential des Reduktionsmittels.
  • Als praktischer Standard sind reduzierbare Verbindungen mit dem maximalen Potential der Oxidationswelle von +100 bis –700 mV (SCE) bevorzugt. Wasserstoffionen (oder Hydroxidioinen) sind in vielen Oxidations/Reduktionsreaktionen betroffen, somit unterscheiden sich das maximale Potential der Reduktionswelle in der Reduktionswelle in der cyclischen Voltametrie von reduzierbaren Verbindungen in erheblicher Weise durch den pH-Wert. Demgemäß können die Ausfällungsbedingungen und die Ausfällungsrate durch die Steuerung des pH-Wertes ausgewählt werden, und wenn die Metallsalze die vorstehend beschriebenen Gold-, Silber- oder Kupferverbindungen sind, beträgt das zweckmäßige maximale Oxidationspotential des Reduktionsmittels von +100 bis –700 mV (SEC) in dem System der betreffenden wässrigen Lösung. Bevorzugte Reduktionsmittel, die in diesem Bereich des Potentials in dem System einer wässrigen Alkalilösung fallen, werden ferner nachstehend detailliert beschrieben.
  • Spezifische Beispiele für die Reduktionsmittel werden nachstehend gezeigt.
  • 1) Saccharide und Carbohydrate
  • Saccharide und Carbohydrate, die Stärken einschließen, die eine polymerisierte Form von Sacchariden sind, werden erfindungsgemäß als bevorzugte Reduktionsmittel verwendet. Die Reduktionsfunktion von Sacchariden und Carbohydraten werden als schwach angenommen, jedoch besitzen sie eine Reduktionsfunktion und reduzieren so die vorstehend beschriebenen reduzierbaren Metallsalze unter alkalischen Bedingungen ausreichend. Zudem können sie in hoher Konzentration verwendet werden und die Reduktionsreaktion schreitet gleichförmig voran, daher können sogar genaue Reaktionsmuster mit Genauigkeit erzeugt werden.
  • Als bevorzugte spezifische Beispiele können die folgenden beispielhaft dargestellt werden.
  • Spezifische Beispiele für Monosaccharide zur erfindungsgemäßen Verwendung werde nachstehend gezeigt. Die folgenden als Monosaccharide beispielhaft dargestellt werden: Glyceraldehyd, Dihydroxyaceton (einschließlich von einem Dimer), Erythros, Threose, Ribose, Arabinose, Xylose, Lyxose, Xylulose, Ribulose, Deoxy-D-ribose, Allose, Altrose, Glucose, Mannose, Gulose, Idose, Galactose, Talose, Chinovose, Digitalose, Digitoxose, Cymarose, Sorbose, Tagatose, Fucose, 2-Deoxy-D-glucose, Psicose, Fructose, Rhamnose, D-Glucosamin, D-Galaetosamin, D-Mannosamin, D-Glycero-D-galactoheptose, D-Glycero-D/L-mannoheptose, D-Glycero-D-gloheptose, D-Glycero-D-idoheptose, D-Glycero-L-glucoheptose, D-Glycero-L-taloheptose, Altroheptulose, Mannoheptulose, Altro-3-heptulose, Glucuronsäure, N-Acetyl-D-glucosamine, Glycerol, Threitol, Erythritol, Arabitol, Adonite, Xylitol, Sorbitol, Mannitol, Iditol, Talitol, Dulcitol, und Allodulcitol.
  • Von diesen beispielhaft dargestellten Verbindungen werden insbesondere bevorzugt Xylose, Glucose, Mannose, Galactose, Sorbose, D-Glycero-D/L-mannoheptose, Glycerol, Sorbitol und Mannitol verwendet.
  • Spezifische Beispiele für Polysaccharide zur erfindungsgemäßen Verwendung werden nachstehend gezeigt. Die folgenden können beispielhaft als Polysaccharide aufgezählt werden: Maltose, Cerbiose, Trehalose, Gentiobiose, Isomaltose, Lactose, Raffinose, Gentianose, Stachyose, Xylan, Araban, Glycogen, Dextran, Inulin, Levan, Galactan, Agarose, Amylose, Sucrose, Agarobiose, α-Dextrin, β-Dextrin, γ-Dextrin, β-Dextrin, -Dextrin, lösliche Stärke, und dünne Klebestärke. Als Derivate von Polysacchariden können Methylcellulose, Dimethylcellulose, Trimethylcellulose, Ethylcellulose, Diethylcellulose, Triethylcellulose, Carboxymethylcellulose, Carboxyethylcellulose, Aminoethylcellulose, Hydroxymethylcellulose, Hydroxyethylmethylcellulose, Hydroxypropylcellulose, Hydroxypropylmethylcellulose, Hydroxypropylmethylcelluloseacetatesuccinat, und Carboxymethylhydroxyethylcellulose verwendet werden.
  • Von diesen beispielhaft dargestellten Verbindungen werden Maltose, Actose, Dextran, Inulin, Amylose, Sucrose, α-Dextrin, β-Dextrin, γ-Dextrin, lösliche Stärke, Methylcellulose, Ethylcellulose, Carboxymethylcellulose, Carboxyethylcellulose, Hydroxymethylcellulose, Hydroxyethylmethylcellulose, Hydroxypropylcellulose, Hydroxypropylmethylcellulose, Hydroxypropylmethylcelluloseacetatesuccinat, und Carboxymethylhydroxyethylcellulose insbesondere bevorzugt verwendet.
  • Saccharide kommen weithin und natürlich vor und sind kommerziell leicht verfügbar. Zudem können sie leicht durch Reduktion, Oxidation oder Dehydrationsreaktion mit verschiedenen Arten von Derivaten synthetisiert werden.
  • Bei Verwendung Sacchariden als Reduktionsmittel beträgt der pH-Wert der wässrigen Lösung zur stromlosen Reduktion für die Ausfällung eines Metallstaubes vorzugweise 8 oder mehr, weiter bevorzugt 10 oder mehr, und insbesondere bevorzugt 12 oder mehr. Die obere Grenze kann der Bereich sein, wo der pH-Wert keine wesentliche Bedeutung hat, d.h. 14 oder mehr, oder die Konzentration von Alkalihydroxid kann 10 % sein.
  • Die Zugabemenge dieser Saccharide zu der wässrigen Lösung zur stromlosen Reduktion beträgt von 0,1 bis 30 Gew.-%, vorzugsweise von 0,5 bis 15 Gew.-%, und es ist bevorzugt, dass deren Gesamtmenge stöchiometrisch größer als die Menge des Metallsalze ist, wenn das Metallsalz in der wässrigen Lösung coexistieren und zudem, wenn es in den Materialien der Bildaufzeichnungsschicht enthalten ist. Im Allgemeinen beträgt die Menge von 1,0 bis 10 Gewichtsäquivalente, vorzugsweise von 1,01 bis 5 Gewichtsäquivalente, basierend auf dem Metallsalz. Der optimale Bereich unterscheidet sich gemäß der Existenz einer Metallverbindung und eines Komplex bildenden Mittels.
  • 2) Aldehyde
  • Wie aus dem Beispiel der Fehling'schen Lösung abgeleitet werden kann, können Aldehyde erfindungsgemäß als Reduktionsmittel verwendet werden. Spezifische Beispiele für die Aldehydverbindungen, die erfindungsgemäß verwendet werden können, schließen aliphatisch gesättigte Aldehyde, wie etwa Formaldehyd, Glutaraldehyd, Acetaldehyd, Propionaldehyd, und Butyraldehyd, aliphatische Fialdehyde wie etwa Glyoxal und Succindialdehyd, ungesättigte Aldehyde wie etwa Acrolein, Crotonaldehyd und Propiolaldehyd, aromatische Aldehyde wie etwa Benzaldehyd und Salicylaldehyd, und heterocyclische Aldehyde wie etwa Furfural, zudem Sucrosen mit einer Aldehydgruppe oder einer Ketongruppe, Monosaccharide, wie etwa Glucose, Fructose, Oligosaccharide, Monosaccharide, die mit Deoxyzucker substituiert sind, Methylglycose, Thiozucker, und Aminozucker ein.
  • Die Zugabemenge dieser Aldehydverbindungen zu der wässrigen Lösung zur stromlosen Abscheidung beträgt von 0,02 bis 5,0 mol, vorzugsweise von 0,1 bis 2,0 mol pro Liter der wässrigen Lösung. Aldehyde werden vorzugsweise unter alkalischen Bedingungen verwendet, der pH-Wert beträgt von 7 bis 14, vorzugsweise von 9 bis 12.
  • 3) Photographisches Entwicklungsmittel
  • Ferner werden die folgenden Verbindungen, die als photographische Entwicklungsmittel bekannt sind, auch vorzugsweise als das Reduktionsmittel zur stromlosen Reduktion verwendet, z. B. Hydrochinone, wie etwa Hydrochinon und Monochlorhydrochinon, Catechole, wie etwa Catechol und Pryrocatechol, p-Aminophenole, wie etwa p-Aminophenol und N-Methyl-p-aminophenol, p-Phenylendiamine, wie etwa p-Phenyldiamin, 2-Methyl-p-phenylendiamin, und Diethyl-p-phenylendiamin, 3-Pyrazolidone, wie etwa o-Phenylendiam und 1-Phenyl-3-pyrazolidone, 3-Aminopyrazole, 4-Aminopyrazolone, 5-Aminouracile, 4,5-Dihydroxy-6-aminopyridine, Leductone, wie etwa Ascorbinsäure, Erysobinsäure und Leduktionsäure, o- oder p-Sulfonamidonaphthole, o- oder p-Sulfonamidophenole, 2,4-Disulfonamidiophenole, Resorcine, wie etwa Recorcin und Diaminoresorcin, 2,4-Disulfonamidonaphthole, o- oder p-Acylaminophenole, 2-Sulfonamidoindanone, 4-Sulfonamido-5-pyrazolone, 3-Sulfonamidoindole, Sulfonamidopyrazolobenzimidazole, Sulfonamidopyrazolobenztriazole, Sulfonamidketone, und Hydrazine wie etwa Arylhydrazin, Phenylhydrazin und Hydrazobenzol.
  • Leductone beeinflussen nicht auf schädliche Weise Oxidationsmittel, somit sind sie insbesondere bevorzugt. Insbesondere bevorzugte Leductone sind Ascorbinsäure, Erysorbinsäure, Glucoleducton und Leductonsäure.
  • Die Zugabemenge dieser Entwicklungsmittel zu der wässrigen Lösung zur stromlosen Reduktion von beträgt von 0,005 bis 1,0 mol, vorzugsweise von 0,05 bis 0,5 mol pro Liter der wässrigen Lösung. Bei Verwendung von Entwicklungsmitteln als das Reduktionsmittel werden sie auch vorzugsweise unter alkalischen Bedingungen verwendet, der pH-Wert ist vorzugsweise niedriger als derjenige in der bei Entwicklungsbedingungen von photographischen Materialien, z. B. von 5 bis 12, vorzugsweise von 7 bis 9.
  • <Verfahren zum Trägern von metallischem Staub>
  • Für die Oberflächen einer kaum wasserlöslichen Metallverbindung zum Trägern von Metallstaub wird die wässrige Lösung zur stromlosen Reduktion, die ein Reduktionsmittel enthält, auf die Oberfläche der Metallverbindung in Gegenwart des Metallsalzes, das dem Metall des Staubes entspricht (d.h. des Vorläufers des Metallstaubes) aufgetragen. Im Einzelnen können beliebige der folgenden Verfahren verwendet werden, d.h. ein Verfahren, worin ein Metallsalz und ein Reduktionsmittel zu der wässrigen Lösung zur stromlosen Reduktion zugegeben werden, und eine hydrophile Bildaufzeichnungsschicht, die darin dispergierte Metallverbindungsteilchen enthält, mit der wässrigen Lösung imprägniert oder darin eingetaucht wird, um ein metallisches Feinstück auf den Oberflächen der Teilchen auszufällen, ein Verfahren, worin eine hydrophile Bildaufzeichnungsschicht, die ein Metallsalz zusammen mit Metallverbindungsteilchen enthält, mit der wässrigen Lösung, die ein Reduktionsmittel enthält, imprägniert oder darin eingetaucht wird, um hierdurch ein Metallfeinstück auf den Oberflächen der Teilchen auszufällen, und ein Verfahren, worin kaum wasserlösliche Metallverbindungsteilchen in der wässrigen Lösung zur stromlosen Reduktion, die ein Reduktionsmittel enthält, suspendiert werden, um hierdurch Metallstaub auf den Oberflächen der Metallverbindungsteilchen im Vorhinein auszufällen und eine Bildaufzeichnungsschicht mit den vorstehenden Metallverbindungsteilchen beschichtet wird. Wenn eine wässrige Lösung eines Metallsalzes verwendet wird, beträgt die Konzentration des Metallsalzes in der wässrigen Lösung von 0,0001 bis 10 mol/Liter, vorzugsweise von 0,01 bis 5 mol/Liter, und weiter bevorzugt von 0,01 bis 2 mol/Liter. Wenn ein Metallsalz zu einer Bildaufzeichnungsschicht zugegeben oder imprägniert wird, wird das Metallsalz imprägniert oder zugegeben, so dass die Konzentration der Reduktionsreaktionsatmosphäre der Ausfällung eines Metallstücks von 0,0001 bis 10 mol/Liter, vorzugsweise on 0,001 bis 5 mol/Liter, und weiter bevorzugt von 0,01 bis 2 mol/Liter wird.
  • Die bevorzugte Beschichtungsrate von Metallstaub, der auf der Oberfläche einer Metallverbindung geträgert wird, ist die gleiche wie vorstehend in dem Metallverbindungsteilchen mit einer photokatalytischen Funktion beschrieben, und kann willkürlich innerhalb des Bereichs zum Zeigen einer Lichtreaktion im Wärmemodus ausgewählt werden. Im Allgemeinen beträgt die Beschichtungsrate, die eine Lichtreaktion im Wärmemodus zu einem praktischen Niveau zeigt, 2 % oder mehr, und die gesamte Oberfläche kann beschichtet werden. Jedoch beträgt die Beschichtungsrate zum Beibehalten einer hohen Oberflächenhydrophilizität 90 % oder weniger, vorzugsweise 20 % bis 80 %. Die Konzentration eines Reduktionsmittels und eines Metallsalzes, pH-Wert, Temperatur und Reaktionszeit werden so ausgewählt, dass der vorstehende Bereich der Beschichtungsrate erreicht wird.
  • <Andere Hilfsadditive>
  • Die wässrige Lösung zur stromlosen Reduktion oder, soweit notwendig, einer hydrophilen Bildaufzeichnungsschicht kann die folgenden Verbindungen zum Zweck des Beschleunigens der Ausfällung eines Metallfeinstücks oder Unterdrückens einer Nebenreaktion enthalten.
  • 1) Komplexbildungsmittel
  • Komplexbildungsmittel, die keine erfindungsgemäße wesentliche Komponente sind, aber vorzugsweise zur Ausfällung eines Metallfeinstücks gemäß den Arten von Metallsalzen und Reduktionsmitteln verwendet werden, nachstehend beschrieben. Ein Komplexbildungsmittel wird zu der wässrigen Lösung zur stromlosen Reaktion zugegeben, aber es kann zu einer hydrophilen Bildaufzeichnungsschicht gemäß den Umständen zugegeben werden.
  • In dem System der wässrigen Lösung zur stromlosen Reduktion besteht häufig eine Konkurrenz der Reduktionsausfällung eine Metallsalzes mit der Bildungsreaktion eines Metallhydroxids, wobei die wässrige Lösung häufig instabil wird. Demgemäß ist es in einem solchen Fall bevorzugt, ein Komplexbildungsmittel, das dem Metallion entspricht, zu einer alkalischen Lösung eines wasserlöslichen Metallsalze zur Stabilisierung des Metallsalzes zu geben. Ein solches Komplexbildungsmittel besitzt vorzugsweise eine Gesamtsicherheitskonstante von mindestens 103 oder mehr, und das System, worin ein Komplexbildungsmittel wenigstens äquimolar oder mehr ist, zu dem wasserlöslichen Metallsalz wird ausgewählt.
  • Bevorzugte Komplexbildungsmittel, die die Bedingungen für wasserlösliche Metallsalze erfüllen, insbesondere Gold, Silber und Kupferverbindungen, werden aus stickstoffhaltigen organischen Verbindungen, schwefelhaltigen organischen Verbindungen und sauerstoffhaltigen organischen Verbindungen ausgewählt. Insbesondere bevorzugte Komplex bildende Mittel werden aus jeder Verbindungsgruppe von Halid, Thiocyansäure, Cyanid, Alkanolamin, aliphatischen Amin, cyclischen Amin, Aminosäure, Ammonium, Thioharnstoff, und Thiosulfat ausgewählt.
  • Spezifische Beisiele für Komplex bildende Mittel werden nachstehend beschrieben, aber die Komplex bildende Mittel zur erfindungsgemäßen Verwendung sind nicht hierauf begrenzt. Chlorinion, Brominion, Iodinion, Ammonium, Cyanidion, Thiocyanation, Sulfition, Thiosulfation, Thioharnstoff, aliphatische primäre Amine (geradkettige oder verzweigte Dodecylamin, Hexylamin, Nonylamin, Pentadecylamin, etc.), cyclische Amine (Pyridin, Imidazol, 2-Methylimidazol, Triazol, Thiadiazol, Picolin, Perazin, Pyrrol, Piperidin, Pyrazin, Pyrimidin, Pyridazin, Isothiazol, Chinolin, Isochinolin, etc.), Alkanolamin (Diethanolamin, Monoethanolamin, Isopropanolamin, Triisopropanolamin, etc.), Polyamin (Triethylentetramin, Pentaethylenhexamin, Diethylentriamin, Ethylendiamin, etc.), Aminosäure (Alanin, Arginin, Histidine, Cystein, Methionin, Glutamin, etc.), Thiol (Thioglycol, etc.), Thiosemicarbazid und Thiouraeil.
  • Die Komplex bildende Mittel für Silberionen werden in T.H. James, The Theory of the Photographic Processes, 4. Auflage, Seiten 8 bis 11, Macmillan Publishing Co., Inc. beschrieben.
  • Von den vorstehenden Komplex bildenden Mittel von Metallionen sind Alkalimetallionen, Erdalkalimetallionen und Ammoniumsalze von jedem Ion aus Chlorion, Bromion, Cyanideion, Thiocyanation, Thiosulfation, jeder Base selbst oder Chlorid, Sulfat oder Hydrochlorid von Thioharnstoff, Ammoniak, Imidazol, 2-Methlimidazol, und Ethylendiamin insbesondere bevorzugt.
  • Wenn ein Komplex bildendes Mittel durch Zugabe zu der wässrigen Lösung zur stromlosen Reduktion verwendet wird, beträgt die Konzentration des Metallsalzes in der wässrigen Lösung von 0,01 bis 10 mol/Liter, vorzugsweise von 0,05 bis 5 mol/Liter und weiter bevorzugt von 0,1 bis 2 mol/Liter. Wenn ein Komplex bildendes Mittel zu einer Bildaufzeichnungsschicht imprägniert oder zugegeben wird, wird die Imprägnierung oder Zugabe so ausgeführt, dass die Konzentration in der Reduktionsreaktionsatmosphäre der Ausfällung eines Metallfeinstücks von 0,1 bis 10 mol/Liter, vorzugsweise von 0,05 bis 5 mol/Liter und weiter bevorzugt von 0,1 bis 2 mol/Liter wird.
  • 2) Alkalimittel und pH-Wertpuffer
  • Ein Alkalimittel zur zweckmäßigen Einstellung des pH-Wertes und, soweit notwendig, ein pH-Wertpuffer zur stabilen Beibehaltung des pH-Wertes werden zu der wässrigen Lösung zur stromlosen Reduktion zugegeben.
  • Als ein Alkalimittel oder ein pH-Wertpuffer können Alkalimetallhydroxid, Erdalkalimetallhydroxid, Carbonat, Phosphat, Borat, Tetraborat, Hydroxybenzoat, Glycylsalz, N,N-Dimethylglycinsalz, Leucinsalz, Norleucinsalz, Guaninsalz, 3,4-Dihydroxyphenylalaninsalz, Alaninsalz, Aminobutyrat, 2-Amino-2-methyl-1,3-propandiolsalz, Valinsalz, Prolinsalz, Trihydroxyaminomethansalz, und lysinsalz verwendet werden. Insbesondere besitzen Carbonat, Phosphat, Tetraborat, und Hydroxybenzoat eine herausragende Pufferleistung bei hohem pH-Wertbereich bei 9,0 oder mehr.
  • Spezifische Beispiele für diese Alkalimittel und pH-Wertpuffer schließen Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Calciumhydroxid, Magnesiumhydroxid, Tetramethylammoniumhydroxid, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Natriumbicarbonat, Kaliumbicarbonat, Trinatriumphosphat, Trikaliumphosphat, Dinatriumphosphat, Dikaliumphosphat, Natriumborat, Kaliumborat, Natriumtetraborat (Borax), Kaliumtetraborat, Natrium o-Hydroxybenzoat (Natriumsalicylat), Kalium o-Hydroxybenzoat, Natrium 5-Sulfo-2-hydroxybenzoate (Natrium 5-Sulfosalicylat), und Kalium 5-Sulfo-2-hydroxybenzoat (Kalium 5-Sulfosalicylat) ein, aber die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese Verbindungen begrenzt.
  • Die Menge eines Alkali- oder Puffermittels und die Gesamtmenge bei Verwendung in Kombination beträgt von 0,02 bis 5,0 mol/Liter, insbesondere von 0,1 bis 2,0 mol/Liter.
  • Wenn ein Alkalimittel und ein Puffer durch Zugabe zur wässrigen Lösung zur stromlosen Reduktion verwendet werden, beträgt die Konzentration von diesen in der wässrigen Lösung von 0,01 bis 10 mol/Liter, vorzugsweise von 0,02 bis 2 mol/Liter, und weiter bevorzugt von 0,05 bis 1 mol/Liter. Wenn diese zu einer Bildaufzeichnungsschicht zugegeben oder imprägniert werden, wird die Imprägnierung oder Zugabe so durchgeführt, dass die Konzentration in der Reduktionsreaktionsatmosphäre der Ausfällung eines Metallstaubs die vorstehende Konzentration wird.
  • 3) Oberflächenaktives Mittel
  • Eine wässrige Alkalilösung, die eine wasserlösliche Metallverbindung und ein Reduktionsmittel enthält, vorzugsweise ferner ein Komplex bildendes Mittel für ein Metall enthält, kann zudem ein oberflächenaktives Mittel genauso zum Zweck der Beschleunigung der Ausfällung eines Metalls auf gleichförmige und glatte Weise und zum Verbessern der Genauigkeit des erzeugten Metallmusters enthalten.
  • Oberflächenaktive Mittel können beliebige aus nichtionischen anionischen (jedes schließt ampholytische ein) und kationische, solange wie sie den Kontaktwinkel einer wässrigen Lösung und eines Substratmaterials herabsetzen können, sein, aber nicht ionische oberflächenaktive Mittel und anionische oberflächenaktive Mittel sind insbesondere bevorzugt.
  • Als bevorzugte nicht ionische oberflächenaktive Mittel seien beispielhaft genannt: Polyoxyethylenalkylether, z. B. Polyoxyethylenlaurylether, Polyoxyethylenstearylether, Polyoxyethylencetylether, und Polyoxyethylenoleylether, Polyoxyethylenalkylarylether, z. B., Polyoxyethylenoctylphenylether, und Polyoxyethylennonylphenylether, Polyoxyethylen-Polyoxypropylen-Blockcopolymere, Kompositpolyoxyalkylenalkylether, z. B., Polyoxyethylen-Polyoxypropylen-Blockcopolymer zu welchem eine aliphatische Gruppe mit 5 bis 24 Kohlenstoffatome an der endständigen Hydroxylgruppe durch Etherbindung gebunden ist, und Polyoxyethylen-Polyoxypropylen-Blockcopolymer, an welches eine Alkyl substituierte Arylgruppe an der endständigen Hydroxylgruppe durch Etherbindung gebunden ist, Sorbitanfettsäureester, z. B. Sorbitanmonolaurat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitanmonostearat, Sorbitanmonooleat, Sorbitantrioleat, und Sorbitantristearat, und Polyoxyethylensorbitanfettsäureester z. B. Polyoxyethylensorbitanmonolaurat, Polyoxyethylensorbitanmonopalmitat, Polyoxyethylensorbitanmonostearat, Polyoxyethylensorbitantrioleat, und Polyoxyethylensorbitantristearat.
  • Beispiele für anionische oberflächenaktive Mittel schließen Alkylsulfonsäuren, Arylsulfonsäuren, aliphatische Carbonsäuren, aromatische Carbonsäuren, Alkylnaphthalensulfonsäure, Kondensationsprodukte von Naphthalensulfonsäure oder Alkylnaphthalensulfonsäure mit Formaldehyd, aliphatische Carbonsäuren mit 9 bis 26 Kohlenstoffatomen, aliphatische Sulfonsäuren mit 9 bis 26 Kohlenstoffatomen, Alkyl-Benzolsulfonsäuren, und Polyoxyethylen haltige Schwefelsäuren und Polyoxyethylen haltige Phosphorsäuren, z. B., Lauroylpolyoxyethylenschwefelsäure, Stearoylpolyoxyethylenschwefelsäure, Cetyloxypolyoxyethylensulfonsäure, und Oleyloylpolyoxyethylenphosphonsäure ein.
  • Die Zugabemenge dieser oberflächenaktiven Mittel beträgt im Allgemeinen von 0,1 bis 10 g, vorzugsweise 0,5 g bis 5 g pro Liter der wässrigen Lösung zur stromlosen Reduktion.
  • Oberflächenaktive Mittel können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden.
  • 4) Viskositätssteuerungsmittel.
  • Zum Steuern der Viskosität der wässrigen Lösung, die ein reduzierbares Metallsalz und ein Reduktionsmittel enthält und zum Ausfällen eines Metallstaubs auf der Oberfläche der Metallverbindungsteilchen auf gleichförmige und nicht grobe Weise, kann die wässrige Lösung eine wasserlösliche hochmolekulare Verbindung als ein Viskositätssteuerungsmittel enthalten.
  • Hochmolekulare Verbindungen, die bei Auflösung in wässriger Lösung einen bestimmten Grad an Viskositätszunahme zeigen, besitzen eine Funktion eines Schutzkolloids und nicht auf schädliche Weise die Reduktionsfunktion einer wässrigen Lösung beeinflussen, können verwendet werden. Bezüglich der Viskosität wird eine hochmolekulare Verbindung zugegeben, um so einen Viskositätskoeffizienten von 0,05 bis 50 cp (Centipoise), vorzugsweise von 0,1 bis 20 cp zu erreichen. Ein Viskositätskoeffizient, d.h. Viskosität kann mit einem Fallball-Viskometer, einem Rotationsviskometer, einem Ostwald-Viskometer, oder willkürlichen Viskometern, basieren auf dem gleichen Prinzip wie beliebige der vorstehenden und mit einem zweckmäßigen Messbereich erhalten werden. Die vorstehend beschriebene Viskosität ist der Messwert bei 25°C, wenn nicht anders angegeben.
  • Bevorzugte Beispiele für wasserlösliche hochmolekulare Verbindungen schließen Gelatine, Polyvinylalkohol, teilweises verseiftes Polymer von Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, teilweise verseiftes Polymer von Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylsäure, Polymethacrylsäure, und wasserlösliche Ester davon; Polystyrolsulfonsäure; Copolymere von Acrylsäure, Methacrylsäure, und wasserlösliche Ester davon, Styrol und Acrylonitrile; und wasserlösliche Cellulosederivate wie etwa Methylcellulose, Ethylcellulose, Hydroxymethylcellulose, Hydroxyethylcellulose, Carboxymethylcellulose, Carboxyethylcellulose, Methoxymethylcellulose, und Methoxyethylcellulose ein.
  • Die Zugabemenge dieser wasserlöslichen hochmolekularen Verbindungen wird zweckmäßigerweise ausgewählt, um so die vorstehende Viskosität zu erreichen, in vielen Fällen ist die Zugabemenge von 1 bis 20 g pro Liter der wässrigen Lösung zur stromlosen Reduktion.
  • Diese hochmolekularen Verbindungen können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden.
  • <Vorbehandlung zur Aktivierung>
  • Es gibt Fälle, indem die Ausfällung eines Metallfeinstücks nicht ausreichend gemäß der Kombination von reduzierbaren Metallsalzen und Reduktionsmittel voranschreitet. In einem solchen Fall kann eine Aktivierungsvorbehandlung durchgeführt werden, um im Vorhinein eine hochaktive Ausfällungsverunreinigung auf der Oberfläche des Teilchens, dass einen Metallstaub trägt, bereitzustellen.
  • Bevorzugte Ausfällungsverunreinigungen sind Metallfeinteilchen aus Palladium, Platin, Iridium oder Rhodium. Wenn eine Palladiumverunreinigung als eine Ausfällungsverunreinigung bereitgestellt wird, wird die Oberfläche des Teilchens, das einen Metallstaub trägt, mit einer Zinnchloridlösung behandelt, die durch Auflösung von 0,2 bis 0,5 mol Zinnchlorid pro Liter einer 0,01 bis 0,1 mol Salzsäurelösung für 1 bis 10 Minuten bei Raumtemperatur erhalten wurde, behandelt, und dann mit einer Palladiumchloridlösung, die durch Auflösung von 0,1 bis 0,5 g Palladiumchlorid pro Liter einer 0,01 bis 0,1 mol wässrigen Salzsäurelösung für 1 bis 3 Minuten bei Raumtemperatur erhalten wurde, behandelt Palladiumkomplexsalze, wie etwa Palladiumkaliumchlorid können anstelle des Palladiumchlorids verwendet werden. Wenn Metallfeinteilchen von Platin, Iridium oder Rhodium als die Ausfällungsverunreinigungen verwendet werden, wird die Behandlung auf die gleiche Weise unter Verwendung der Säurelösung von jeder Metallverbindung durchgeführt.
  • Bei der stromlosen Reduktion zur Herstellung der kaum wasserlöslichen Teilchenoberfläche, die einen Metallstaub trägt, wird die Temperatur in geeigneter Weise für jedes Reaktionssystem aus dem Bereich von Raumtemperatur bis 90°C ausgewählt, in vielen Fällen ist die Temperatur vorzugsweise von 25 bis 50°C. Die Zeit der Behandlung wird auch in zweckmäßiger Weise gemäß der Temperatur ausgewählt, im Allgemeinen wird die Reaktionsbedingung, dass ein Metallstaub von einigen Sekunden bis 10 Minuten erzeugt wird, ausgewählt. Die Aktivität des stromlosen Reduktionssystems wird durch Steuern der Konzentration von jedem aus einem wasserlöslichen Metallsalz, einem Komplexbildungsmittel, und einem Reduktionsmittel und dem pH-Wert einer Reaktionslösung eingestellt.
  • Die Zusammensetzung einer Bildaufzeichnungsschicht
  • Die Metallverbindungen, die ein oberflächliches hydrophiles durch Licht/Wärme umwandelbares Feinstück gemäß der vorliegenden Erfindung tragen, sind beschrieben worden. Die Zusammensetzung einer Bildaufzeichnungsschicht, d.h. einer lichtempfindlichen Schicht, die die Metallverbindung enthält, wird nachstehend beschrieben.
  • Die Zusammensetzung einer Bildaufzeichnungsschicht gemäß der vorliegenden Erfindung umfasst ein hydrophiles Medium mit darin dispergierten Metallverbindungsteilchen, die einen oberflächlich hydrophilen durch Licht/Wärme umwandelbaren Staub tragen. Das hydrophile Medium ist vorzugweise ein hochmolekulares hydrophiles Medium oder ein hydrophiles Sol/Gel umwandelbares Medium, insbesondere bevorzugt ein hydrophiles Sol/Gel umwandelbares Medium. Vor allem sind Sol/Gel umwandelbare Systeme mit der Funktion der Erzeugung einer Gelstruktur aus Polysiloxan bevorzugt. Die erfindungsgemäße Bildaufzeichnung wird durch Bestrahlen der lichtempfindlichen Schicht mit einem Laserstrahl durchgeführt, um hierdurch die lichtempfindliche Schicht in eine hydrophobe umzuwandeln, so wird die erfindungsgemäße lichtempfindliche Schicht manchmal die Bildaufzeichnungsschicht genannt. Hydrophile Medien für die Bildaufzeichnungsschicht werden nachstehend beschrieben.
  • <Medium für das Sol/Gel umwandelbare System>
  • Insbesondere bevorzugte Bindemittel für die erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsschicht sind Sol/Gel umwandelbare Systeme, die nachstehend beschrieben werden. Die Sol/Gel umwandelbaren Systeme, die vorzugsweise erfindungsgemäß angewendet werden, sind Polymere, worin die Bindungsgruppen der mehrwertigen Element eine Netz-Struktur über Sauerstoffatome bilden und gleichzeitig mehrwertige Metalle auch Hydroxylgruppen und Alkoxylgruppen besitzen, die nicht gebunden sind, und sie gemischt sind und eine harzartige Struktur bilden. Die Systeme sind in einem Solzustand, wenn es viele Alkoxylgruppen und Hydroxylgruppen gibt, und die harzartige Netzstruktur sich mit dem Voranschreiten der Etherbindung verstärkt. Zusätzlich zu der Funktion, dass der Grad der Hydrophilizität der harzartigen Struktur variiert besitzen die Sol/Gel umwandelbaren Systeme erfindungsgemäß auch die Funktion der Bindung eines Teils der Hydroxylgruppe an die festen Feinteilchen und modifizieren so die Oberflächen der festen Feinteilchen, um hierdurch den Grad der Hydrophilizität zu ändern. Die mehrwertigen Bindungselemente der Verbindung mit Sol/Gel umwandelbaren Hydroxylgruppen und Alkoxylgruppen sind Aluminium, Silicium, Titan und Zirkon, von denen alle erfindungsgemäß verwendet werden. Die durch Siloxanbindung umwandelbaren Sol/Gel umwandelbaren Systeme, die insbesondere bevorzugt erfindungsgemäß verwendet werden, werden nachstehend beschrieben. Die Sol/Gel-Umwandlung unter Verwendung von Aluminium, Titan und Zirkon kann durch Ersetzen jeweiliger Elemente durch die im Folgenden beschriebenen Siliciumverbindungen durchgeführt werden.
  • Das heißt, insbesondere bevorzugt verwendete Systeme sind Sol/Gel umwandelbare Systeme, die Silanverbindungen mit mindestens einer Silanolgruppe enthalten.
  • Systeme unter Verwendung der Sol/Gel-Umwandlung werden nachstehend beschrieben.
  • Anorganische hydrophile Matrices, die durch Sol/Gel-Umwandlung gebildet werden, sind vorzugsweise Harze mit einer Siloxanbindung einer Silanolgruppe. Die Bildaufzeichnungsschicht eines erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers ist ein Solsystem, das eine Silanverbindung mit mindestens einer Silanolgruppe enthält, worin die Hydrolysekondensation der Silanolgruppe voranschreitet, um die Struktur eines Siloxanskletts zu bilden, und die Gelbildung schreitet während dem Verstreichen der Zeit nach Beschichtung voran. Die Schicht, die durch die Sol/Gel-Umwandlung gebildet wird, besitzt einen hohen Grad an Hydrophilizität, wobei so die Unterscheidungsfunktion von der hydrophilen Fläche groß wird, was ein vorteilhaftes erfindungsgemäßes Kennzeichen ist. Die Aufzeichnungsschichten, die Materialien, wie etwa die nachstehend beschriebenen organischen hochmolekularen Verbindungen, in der Gelstruktur des Mediums zum Zweck der Verbesserung von physikalischen Eigenschaften (z. B. der Verbesserung der Filmdicke und Flexibilität) und Beschichtungsfunktion enthalten, werden erfindungsgemäß vorzugsweise verwendet.
  • Ein Siloxanharz mit Gelstruktur wird durch die folgende Formel (I) dargestellt, und eine Silanverbindung mit mindestens einer Silanolgruppe wird durch die folgende Verbindung (II) dargestellt. Eine Substanz, die von hydrophil in hydrophob umwandelt, die in der Bildaufzeichnungsschicht enthalten ist, ist nicht notwendigerweise eine Silanverbindung der Formel (II) allein, im Allgemeinen kann die Substanz das Oligomer der Silanverbindung, das teilweise durch Hydrolyse polymerisiert ist umfassen, oder die Mischung aus der Silanverbindung und dessen Oligomer sein.
  • Figure 00690001
  • Das auf Siloxan basierende Harz der Formel (I) wird durch Sol/Gel-Umwandlung aus der Dispersionslösung, die mindestens eine Silanverbindung der folgenden Formel (II) enthält, erzeugt. In Formel (I) stellt mindestens eines aus R01, R02 und R03 eine Hydroxylgruppe dar, und der Rest stellt einen organischen Rest dar, der aus R0 und Y in der folgenden Formel (II) ausgewählt ist. (R0)nSi(Y)4-n (II) worin mindestens eines aus R0 eine Hydroxylgruppe, eine Kohlenwasserstoffgruppe oder eine heterocyclische Gruppe darstellt; Y ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, -OR1, -OCOR2 oder -N(R3) (R4); (R1und R2 jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe darstellen, und R3 und R4, die gleich oder verschieden sein können, jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe darstellt; und n 0, 1, 2 oder 3 darstellt.
  • R0 in Formel (II) stellt vorzugsweise, als eine Kohlenwasserstoffgruppe oder eine heterocyclische Gruppe, die sich von der Hydroxylgruppe unterscheidet, eine geradkettige oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, die substituiert sein kann (z. B. Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl, Pentyl, Hexyl, Heptyl, Octyl, Nonyl, Decyl, Dodecyl, etc.; als die Substituenten dieser Gruppen, Halogen (Chlor, Fluor, Brom), Hydroxyl, Thiol, Carboxyl, Sulfo, Cyano, Epoxy, -OR' (R1 stellt Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl, Heptyl, Hexyl, Octyl, Decyl, Propenyl, Butenyl, Hexenyl, Octenyl, 2-Hydroxyethyl, 3-Chlorpropyl, 2-Cyanoethyl, N,N-Dimethylaminoethyl, 2-Bromethyl, 2-(2-Methoxyethyl)oxyethyl, 2-Methoxycarbonylethyl, 3-Carboxypropyl, Benzyl, etc.), -OCOR''<R'' besitzt die gleiche Bedeutung wie R'), -COOR'', -COR, M (R''') (R''') (R'''' stellt Wasserstoff dar oder besitzt die gleiche Bedeutung wie R', zwei R''' können gleich oder verschieden sein), -NHCONHR'', -NHCOOR'', -Si(R'')3, -CONHR''' und -NHCOR'' können beispielhaft dargestellt werden. Eine Mehrzahl von Substituenten können auf der Alkylgruppe substituiert sein), eine geradkettige oder verzweigte Alkyengruppe mit 2 bis 12 Kohlenstoffatomen, die substituiert sein kann (z. B. Vinyl, Propenyl, Butenyl, Pentenyl, Hexenyl, Octenyl, Decenyl, Dodecenyl, etc. als die Substituenten dieser Gruppen, wobei die gleichen Substituenten, die vorstehend als die Substituenten der Alkylgruppe beschrieben wurden, beispielhaft genannt werden können, eine Aralkylgruppe mit 7 bis 14 Kohlenstoffatomen, die substituiert sein kann (z. B. Benzyl, Phenethyl, 3-Phenylpropyl, Naphthylmethyl, 2-Naphthylethyl, als die Substituenten dieser Gruppen, die gleichen Gruppen, die vorstehend als die Substituenten der Alkylgruppe beschrieben wurden, können beispielhaft dargestellt werden, eine Mehrzahl von Substituenten kann substituiert werden), eine alicyclische Gruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen, die substituierte werden kann (z. B. Cyclopentyl, Cyclohexyl, 2-Cyclohexylethyl, 2-Cyclopentylethyl, Norbornyl, Adamantyl, etc., als die Substituenten dieser Gruppen, die gleichen Gruppen, die vorstehend als die Substituenten der Alkylgruppen beschrieben wurden, können beispielhaft genannt werden, eine Mehrzahl der Substituenten kann substituiert sein), eine Arylgruppe mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen (z. B. Phenyl, Naphthyl, als die Substituenten dieser Gruppen, die bei gleichen Gruppen, die vorstehend als die Substituenten der Alkylgruppen beschrieben wurden, können beispielhaft genannt werden, eine Mehrzahl der Substituenten kann substituiert sein), oder eine heterocyclische Gruppe, die mindestens ein Atom enthält, das aus einem Stickstoffatom, einem Sauerstoffatom und einem Schwefelatom ausgewählt ist, die kondensiert sein können (z. B. Pyran, Furan, Thiophen, Morpholin, Pyrrol, Thiazol, Oxazol, Pyridin, Piperidin, Pyrrolidon, Benzothiazol, Benzoxazol, Chinolin, Tetrahydrofuran, etc., die jeweils einen Substituenten besitzen können, als die Substituenten dieser Gruppen, die gleichen Gruppen, die vorstehend als die Substituenten als der Alkylgruppe beschrieben wurden, können beispielhaft genannt werden, eine Mehrzahl der Substituenten kann substituiert sein).
  • Vorzugsweise stellt Y eine -OR1 Gruppe, eine OCOR2 Gruppe oder eine -N(R3) (R4) Gruppe dar.
  • In der -OR1 Gruppe, stellt R1 eine aliphatische Gruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatome dar, die substituiert sein können (z. B., Methyl, Ethyl, Propyl, Butoxy, Heptyl, Hexyl, Pentyl, Octyl, Nonyl, Decyl, Propenyl, Butenyl, Heptenyl, Hexenyl, Octenyl, Decenyl, 2-Hydroxyethyl, 2-Hydroxypropyl, 2-Methoxyethyl, 2-(Methoxyethyloxo)ethyl, 2-(N,N-Diethylamino)ethyl, 2-Methoxypropyl, 2-Cyanoethyl, 3-Methyloxapropyl, 2-Chlorethyl, Cyclohexyl, Cyclopentyl, Cyclooctyl, Chlorcyclohexyl, Methoxycyclohexyl, Benzyl, Phenethyl, Dimethoxybenzyl, Methylbenzyl, Brombenzyl, etc.).
  • In der -OCOR2 Gruppe, stellt R2 eine aliphatische Gruppe mit der gleichen Bedeutung wie R1 für eine aromatische Gruppe mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen (als die aromatische Gruppe können diejenigen, die vorstehend in der Arylgruppe in R beschrieben wurden, beispielhaft genannt werden) dar.
  • In der N(R3) (R4) Gruppe, stellen R3 und R4, die gleich oder verschieden sein können, jeweils ein Wasserstoffatom oder eine aliphatische Gruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen dar, die substituiert sein können (z. B. die gleichen Gruppen, die in R1 der -OR1 Gruppe beschrieben wurden, können beispielhaft genannt werden).
  • Weiter bevorzugt beträgt die Gesamtzahl der Kohlenstoffatome von R3 und R4 nicht mehr als 16.
  • Als die spezifischen Beispiele für die Silanverbindung der Formel (II) können die folgenden Verbindungen beispielhaft dargestellt werden, aber die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese Verbindungen begrenzt: Tetrachlorsilan, Tetrabromsilan, Tetramethoxysilan, Tetraethoxysilan, Tetraisopropoxysilan, Tetra-n-propylsilan, Tetra-n-butoxy-silan, Methyltrichlorsilan, Methyltribromsilan, Methyltrimethoxysilan, Methyltriethoxysilan, Methyl-Triisopropoxysilan, Methyltri-t-butoxysilan, Ethyl-Trichlorosilan, Ethyltribromsilan, Ethyltrimethoxysilan, Ethyltriethoxysilan, Ethyltriisopropoxysilan, Ethyltri-t-butoxysilan, n-Propyltrichlorsilan, n-Propyltribromsilan, n-Propyltrimethoxysilan, n-Propyltriethoxysilan, n-Propyltriisopropoxysilan, n-Propyltri-t-butoxysilan, n-Hexyltrichlorsilan, n-Hexyltribromsilan, n-Hexyltri-methoxysilan, n-Hexyltriethoxysilan, n-Hexyltriisopropoxysilan, n-Hexyltri-t-butoxysilan, n-Decyltrichlorsilan, n-Decyltribromsilan, n-Decyltrimethoxysilan; n-Decyltri-ethoxysilan, n-Decyltriisopropoxysilan, n-Decyltri-t-butoxysilan, n-Octadecyltrichlorsilan, n-Octadecyltribromsilan, n-Octadecyltrimethoxysilan, n-Octadecyltriethoxysilan, n-Octadecyltriisopropoxysilan, n-Octadecyl-tri-t-butoxysilan, Phenyltrichlorsilan, Phenyltribromsilan, Phenyltrimethoxysilan, Phenyltriethoxysilan, Phenyltriisopropoxysilan, Phenyltri-t-butoxysilan, Dimethoxydiethoxysilan, Pimethyldichlorsilan, Pimethyldibromosilan, Pimethyldimethoxysilan, Pimethyldiethoxysilan, Piphenyldichlorsilan, Piphenyldibromsilan, Piphenyldimethoxysilan, Piphenyldiethoxysilan, Phenyl-methyldichlorsilan, Phenylmethyldibromsilan, Phenylmethyldimethoxysilan, Phenylmethyldiethoxysilan, Triethoxyhydrosilan, Tribromhydrosilan, Trimethoxyhydrosilan, Isopropoxyhydrosilan, Tri-t-butoxyhydrosilan, Vinyltrichlorsilan, Vinyltribromosilan, Vinyltrimethoxysilan, Vinyltriethoxysilan, Vinyltriisopropoxysilan; Vinyltri-t-butoxysilan, Trifluoropropyltrichlorosilan, Trifluorpropyltribromsilan, Trifluoropropyltrimethoxysilan, Trifluorpropyltriethoxysilan, Trifluorpropyltriisopropoxysilan, Trifluorpropyltri-t-butoxysilan, γ-Glycidoxypropylmethyldimethoxysilan, γ-Glycidoxypropylmethyldiethoxysilan, γ-Glycidoxypropyltrimethoxysilan, γ-Glycidoxypropyl-triethoxysilan, γ-Glycidoxypropyltriisopropoxysilan, γ-Glycidoxypropyltri-t-butoxysilan, γ-Methacryloxypropylmethyldimethoxysilan, γ-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilan, γ-Methacryloxypropyltrimethoxysilan, γ-Methacryloxy-propyltriisopropoxysilan, γ-Methacryloxypropyltri-t-butoxy-silan, γ-Aminopropylmethyldimethoxysilan, γ-Aminopropylmethyldiethoxysilan, γ-Aminopropyltrimethoxysilan, γ-Aminopropyltriethoxysilan, γ-Aminopropyltriisopropoxysilan, γ-Aminopropyltri-t-butoxysilan, γ-Mercaptopropylmethyldimethoxysilan, γ-Mercaptopropylmethyldiethoxysilan, γ-Mercaptopropyltrimethoxysilan, γ-Mercaptopropyltriethoxysilan, γ-Mercaptopropyltriisopropoxysilan, γ-Mercapto-propyltri-t-butoxysilan, β-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyl-trimethoxysilan, und β-(3,4-Epoxycyclohexyl)ethyltriethoxysilan.
  • Zusammen mit der Silanverbindung der Formel (II), die zum Erzeugen der Bildaufzeichnungsschicht oder zum Erzeugen der anorganischen hydrophilen Matrix für die hydrophile Schicht verwendet wird, können Metallverbindungen, z. B. Ti, Zn, Sn, Zr, Al, etc., die sich mit Harzen zur Erzeugung eines Films verbinden können, in Kombination verwendet werden.
  • Beispiele für die Metallverbindungen zur Verwendung für diesen Zweck schließen z. B. Ti(OR'')4 (R'' stellt Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl, Pentyl, Hexyl dar), TiCl4, Zn(OR'')2, Zn(CH3COCHCOCH3)2, Sn(OR'')4, Sn(CH3COCHCOCH3)4, Sn(OCOR'')4, SnCl4, Zr(OR'')4, Zr(CH3COCHCOCH3)4, Al(OR'')3, AI(CH3COCHCOCH3), etc. ein.
  • Zum Beschleunigen der Hydrolyse und der Polymerisationskondensationsreaktion der Silanverbindung der Formel (II) und der vorstehend beschriebenen Metallverbindung, die in Kombination verwendet werden, ist es bevorzugt, einen sauren Katalysator einen basischen Katalysator zusammen zu verwenden.
  • Als der Katalysator kann eine saure oder basische Verbindung wie sie ist, verwendet werden, oder kann in Wasser oder einem Lösungsmittel, wie etwa Alkohol (nachstehend als der saure Katalysator oder basische Katalysator bezeichnet) aufgelöst werden. Die Konzentration des Katalysators ist nicht besonders beschränkt, aber wenn die Konzentration hoch ist, ist es wahrscheinlich, dass die Hydrolyse und Polymerisationskondensationsreaktion schnell werden. Jedoch wird bei Verwendung des basischen Katalysators in hoher Konzentration in einigen Fällen ein Präzipitat erzeugt, daher ist die Konzentration des basischen Katalysators vorzugweise 1 N (berechnet hinsichtlich der Konzentration in einer wässrigen Lösung) oder weniger.
  • Die Arten des sauren Katalysators oder des basischen Katalysators sind nicht beschränkt, aber wenn Katalysatoren in hoher Konzentration verwendet werden müssen, sind Katalysatoren, die aus den Elementen zusammengesetzt sind, die in den Katalysatorkristallkörner nach Calcinierung kaum verbleiben, bevorzugt. Im Einzelnen können als die sauren Katalysatoren Halogenwasserstoff, wie etwa Chlorwasserstoffsäure, Carbonsäuren, wie etwa Salpetersäure, Schwefelsäure, schweflige Säure, Wasserstoffsulfit, Perchlorsäure, Hydrogenperoxid, Kohlensäure, Ameisensäure und Essigsäure substituierte Carbonsäure, die durch RCOOH dargestellt wird, worin R durch andere Elemente oder Substituenten substituiert ist und Sulfonsäure, wie etwa Benzolsulfonsäure beispielhaft dargestellt werden, und als die basischen Katalysatoren können ammoniakalische Basen, wie etwa wässriger Ammoniak, und Amine, wie etwa Ethylamin und Anilin beispielhaft dargestellt werden.
  • Wie vorstehend beschrieben wird eine Bildaufzeichnungsschicht, die durch Sol/Gel-Verfahren hergestellt wurde, insbesondere bevorzugt in den erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufer verwendet. Die Details des Sol/Gel-Verfahrens werden in Sumio Sakuhana, Sol/Gel Ho no Kagaku (Chemistry of Sol/Gel Method), Agune Shofu-Sha (1988) und Seki Hirashima, Saishin Sol/Gel Ho ni yoru Kino-Sei Hakumaku Sakusei Gijutsu (Producing Technique of Functional Thin Film by the Latest Sol/Gel Method), Sogo Gijutsu Center (1992).
  • <Hydrophile hochmolekulare Verbindung>
  • Als die hochmolekularen Verbindungen, die in der Bildaufzeichnungsschicht des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers enthalten sind, können andere als die vorstehenden synthetischen hochmolekularen Verbindungen, organische hochmolekulare Verbindungen mit einer Hydroxylgruppe zum Verleihen einer geeigneten Festigkeit als die Bildaufzeichnungsschicht und oberflächlich Hydrophilizität verwendet werden. Im Einzelnen Polyvinylalkohol (PVA), modifiziertes PVA, wie etwa Carboxyl modifiziertes PVA, Stärke und deren Derivate, Cellulosederivative wie etwa Carboxymethylcellulose und Hydroxyethylcellulose, Casein, Gelatine, wasserlösliches auf Acryl basierende Copolymere, die wasserlösliche Acrylmonomere als Hauptzusammensetzungskomponente enthalten, wie etwa Polyvinylpyrrolidon, Vinylacetat-Crotonsäurecopolymer, Styrol-Maleinsäurecopolymer, Polyacrylsäure und deren Salze, Polyacrylamid, Acrylsäure, und Acrylamid, Alginsäure und deren alkalischen Metallsalze, Erdalkalimetalllsalze oder Ammoniumsalze, Polyacrylsäure, Polyacrylat, Poly(ethylenoxid), wasserlösliche Harze, wie etwa wasserlösliche Urethanharze, wasserlösliche Polyesterharze, Polyhydroxyethylacrylat, auf Polyethylenglycoldiacrylat basierende Polymere, und N-Vinylcarbonsäureamidpolymere.
  • Als Wasserschutzmittel zum Vernetzen und Härten der vorstehend beschriebenen organischen hochmolekularen Verbindungen mit einer Hydroxylgruppe, können Aldehyde, wie etwa Glyoxal, und Melamin-Formaldehydharze, Harnstoff-Formaldehydharze, Methylolverbindungen wie etwa N-Methylolharnstoff, N-Methylolmelamin, und methylierte Polyamidharze, aktive Vinylverbindungen, wie etwa Divinylsulfon und Bis(β-Hydroxyethylsulfonat), Epoxidverbindungen, wie etwa Epichlorhydrin, Polyethylenglycoldiglycidylether, Polyamid-Polyamin-Epichlorhydrin-Addukte und Polyamidepichlorhydrinharze, Esterverbindungen, wie etwa Monochloracetat und Thioglycolat, Polycarbonsäuren wie etwa Polyacrylsäure-Methylvinylether-Maleinsäurecopolymere, Borsäure, Titanylsulfat, anorganische Vernetzungsmittel, wie etwa Salze of Cu, AI, Sn, V und Cr, und modifizierte Polyamid-Polyimidharze beispielhaft dargestellt werden.
  • Zudem können Vernetzungskatalysatoren, wie etwa Ammoniumchlorid, ein Silankupplungsmittel, ein Titankupplungsmittel in Kombination verwendet werden.
  • Erfindungsgemäß wird von dem organischen hochmolekularen Verbindungen mit einer Hydroxylgruppe Gelatine vorzugsweise hauptsächlich verwendet.
  • Gelatine ist eine Art von abgeleiteten Proteinen und es gibt keine besondere Beschränkung bezüglich der Gelatine solange wie diese aus Collagen hergestellte Gelatine genannt wird. Eine bevorzugte Gelatine besitzt eine leichte Farbe, ist transparent, geschmacklos und geruchlos. Ferner wird photographische Gelatine vorzugsweise verwendet, da die physikalischen Eigenschaften, wie etwa die Viskosität als eine wässrige Lösung, die Gelfestigkeit des Gels, innerhalb eines konstanten Bereichs liegen.
  • Die Wasserbeständigkeitsfunktion der erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsschicht wird durch Verwendung der Gelatinehärtungsverbindungen in Kombination verbessert, um hierdurch die Schicht zu härten.
  • Wohlbekannte Gelatinehärtungsverbindungen können erfindungsgemäß verwendet werden. Hinsichtlich der Gelatinehärtungsverbindungen können z. B. T.H. James, The Theory of the Photographic Processes, Kap. 2, Abschnitt III, Macmillan Publishing Co., Inc. (1977), und Forschungsveröffentlichung, Nr. 17643, S. 26 (Dezember 1970) genannt werden.
  • Als bevorzugte Beispiele für die Gelatinehärtungsverbindungen, können die Aldehyde, wie etwa Succinaldehyd, Glutaraldehyd, und Adipoaldehyd, Diketone (z. B. 2,3-Butandion, 2,5-Hexadion, 3-Hexen-2,5-dion, 1,2-Cyclopentadion, etc.), und aktive Olefinverbindungen mit 2 oder mehreren Doppelbindungen, die an Elektronen ziehende Gruppen benachbart gebunden sind, beispielhaft genannt werden.
  • Die Menge der Gelatinehärtungsverbindung ist vorzugsweise von 0,5 bis 20 Gewichtsteilen, weiter bevorzugt von 0,8 bis 10 Gewichtsteilen pro 10 Gewichtsteilen der Gelatine.
  • Die Bildaufzeichnungsschicht, die mit diesem Bereich der Gelatinehärtungsverbindung erhalten wurde, bewahrt eine Filmfestigkeit, zeigt eine Wasserbeständigkeitsfunktion und hindert gleichzeitig nicht die Hydrophilizität der Bildaufzeichnungsschicht.
  • Andere Additive zu der Bildaufzeichnungsschicht
  • Neben den vorstehend beschriebenen Metallverbindungsteilchen mit einer photokatalytischen Funktion, die einen hydrophilen durch Licht/Wärme umwandelbaren Staub tragen, und einem hydrophilen Medium, kann die Bildaufzeichnungsschicht verschiedene Verbindungen zum Zweck des Steuerns des Hydrophilizitätsgrads, Verbessern der physikalischen Eigenschaften der Bildaufzeichnungsschicht, Verbessern der gegenseitigen Dispergierfähigkeit der Zusammensetzung, die die Schicht zusammensetzt, Verbessern der Beschichtungsfunktion, Verbessern der Druckgenauigkeit und zur Erleichterung der Plattenherstellungsarbeit enthalten. Als solche Additive können die folgenden Verbindungen beispielhaft genannt werden.
  • <Hydrophile Solteilchen>
  • Die Bildaufzeichnungsschicht des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers kann hydrophile Solteilchen neben den vorstehend beschriebenen durch Licht/Wärme umwandelbaren Substanzen, und organische hochmolekulare Verbindungen mit einer Hydroxylgruppe zum Steuern der Hydrophilizität und zum Verbessern der Filmfunktion enthalten.
  • Als die hydrophilen Solteilchen können, obwohl nicht besonders beschränkt, vorzugsweise ein Siliciumdioxidsol, ein Aluminiumoxidsol, ein Aluminiumoxid-Siliciumdioxidkompositsol, Titanoxid, Magnesiumoxid, Magnesiumcarbonat, und Calciumalginat vorzugsweise verwendet werden, und diese Verbindungen können zum Beschleunigen der Hydrophilisierung und Verstärkung eines Sol/Gel-Films verwendet werden, auch wenn sie nicht durch Licht/Wärme umwandelbar sind.
  • Weiter bevorzugte Verbindungen sind ein Siliciumdioxidsol, ein Aluminiumoxidsol, ein Aluminiumoxid-Siliciumdioxidkompositsol, ein Calciumalginatsol, und Mischungen aus diesen.
  • Ein Siliciumdioxidsol besitzt viele Hydroxylgruppen auf der Oberfläche und die Innenseite setzt eine Siloxanbindung (-Si-O-Si-) zusammen. Ein Siliciumdioxidsol wird auch ein kolloidales Siliciumdioxid genannt, das ultra-superfeines Siliciumdioxidteilchen mit einer Teilchengröße von 1 bis 100 nm umfasst, die in Wasser oder polaren Lösungsmitteln dispergiert sind. Ein Siliciumdioxidsol wird im Einzelnen beschrieben in, herausgegeben von Toshiro Kagami und Akira Hayashi, Kojundo Silica no Oyo Gijutsu (Application Technique of High Purity Silica), Bd. 3, veröffentlicht von CMC Publishing Co., Ltd. (1991).
  • Ein Aluminiumoxidsol ist ein Aluminiumoxidhydrat (Boehmit basiert) mit einer Teilchengröße von 5 bis 200 nm, und in Wasser mit den Anionen in Wasser (z. B. einem Halidion, wie etwa Fluorion und einem Chlorion, und Carboxylatanion, wie etwa einem Acetation) als das Stabilisierungsmittel dispergiert
  • Die vorstehenden hydrophilen Solteilchen besitzen vorzugsweise eine durchschnittliche Teilchengröße von 10 bis 50 nm, weiter bevorzugt von 10 bis 40 nm. Alle von diesen hydrophilen Solteilchen sind kommerziell leicht verfügbar.
  • Wenn jede Teilchengröße der hydrophilen Solteilchen, hydrophile Teilchen, die ein Metallfeinstück tragen, und hydrophile Solteilchen (nachstehend werden diese manchmal lediglich als Siliciumdioxidteilchen bezeichnet), die in Kombination verwendet werden können, innerhalb des vorstehenden Bereichs fällt, wird die Filmfestigkeit der erhaltenen Bildaufzeichnungsschicht ausreichend erhalten, und wenn der Druckplattenvorläufer mit Laserstrahlen und dergleichen zur Herstellung einer Druckplatte bestrahlt wird und Drucken durchgeführt wird, erzeugt die Druckplatte kein Verschmieren aufgrund von Tintenadhäsion auf den Nicht-Bildbereich, was zeigt, dass die Hydrophilizität bemerkenswert herausragend ist.
  • Das Verhältnis der Siliciumdioxidteilchen, die in Kombination mit den erfindungsgemäßen hydrophilen Teilchen verwendet werden können, beträgt von 100/0 bis 30/70 bezogen auf das Gewichtsverhältnis, vorzugsweise von 100/0 bis 40/60 bezogen auf das Gewichtsverhältnis.
  • Wenn die hydrophilen Teilchen und die hydrophilen Solteilchen in der Bildaufzeichnungsschicht enthalten sind, beträgt die Zugabemenge insgesamt von 2 bis 95 Gew.-%, vorzugsweise von 5 bis 85 Gew.-%, weiter bevorzugt von 5 bis 80 Gew.-%, und insbesondere bevorzugt von 20 bis 60 Gew.-%, basierend auf dem Feststoffgehalt der Bildaufzeichnungsschicht.
  • <Organische hochmolekulare Verbindung>
  • Die Bildaufzeichnungsschicht kann organische hochmolekulare Verbindungen zum Steuern des Hydrophilizitätsgrads, Erhöhen der Festigkeit der Bildaufzeichnungsschicht und Verbessern der gegenseitigen Dispergierfähigkeit von anderen Komponenten in der Bildaufzeichnungsschicht enthalten. Beispiele für die organischen hochmolekularen Verbindungen, die zuzugeben sind, schließen z. B. Polyvinylchloride, Polyvinylacetat, Polyvinylphenol, halogenierte Polyvinylphenol, Polyvinylformal, Polyvinylacetal, Polyvinylbutyral, Polyamid, Polyurethan, Polyharnstoff, Polyimid, Polycarbonat, Epoxidharz, Phenolnovolak, Kondensationsharze aus Resolphenolen und Aldehyd oder Keton, Polyvinylpyrrolidon, Polyvinylidenchlorid, Polystyrol und Silikonharzen ein.
  • Organische hochmolekulare Verbindungen, die aus Wasseremulsionen bestehen, werden vorzugsweise in den erfindungsgemäßen hydrophilen Schichten verwendet. Die Wasseremulsion ist eine wässrige Lösung einer hydrophoben Polymersuspesion, die feine Polymerteilchen umfasst, und, soweit notwendig, ein Schutzmittel zum Stabilisieren der Dispersion der Polymerteilchen, die in Wasser dispergiert sind.
  • Spezifische Beispiele für die Wasseremulsionen zur erfindungsgemäßen Verwendung schließen Vinylsystempolymerlatex (Polyacrylatsystem, Vinylacetatsystem, und Ethylenvinylacetatsystemlatexe), konjugierte Diensystempolymerlatexe (Methylmethacrylat-Butadiensystem, Styrol-Butadiensystem, Acrylonitril-Butadiensystem, Chloroprensystem), und Polyurethanharze ein.
  • Wenn organische hochmolekulare Verbindungen zu der Bildaufzeichnungsschicht zugegeben werden, beträgt die Zugabemenge von 1 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise von 2 bis 10 Gew.-%, basierend auf dem Feststoffgehalt der Bildaufzeichnungsschicht.
  • <Farbstoff und Pigment>
  • Farbstoffe und Pigmente können zu der erfindungsgemäßen Bildaufzeichnungsschicht zum Färben und Unterscheiden von Arten der Platte zugegeben werden.
  • Bevorzugte Beispiele für die Farbstoffe schließen Rhodamin 6G Chlorid, Rhodamin B Chlorid Crystal Violet, Malachit Green Oxalat, Oxazin 4 Perchlorat, Quinizarin 2-(α-Naphthyl)-5-phenyloxazol, und Coumarin-4 ein. Als andere Farbstoff können Farbstoffe der Triphenylmethan-Reihen, Diphenylmethan-Reihen, Oxazin-Reihen, Xanthen-Reihen, Iminonaphthochinon-Reihen, Azomethin-Reihen, und Anthrachinon-Reihen, die durch Oil Yellow #101, Oil Yellow #103, Oil Pink #312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue #603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (hergestellt von Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (C.I. 42555), Methyl Violet (C.I. 42535), Ethyl Violet, Methylen Blue (C.I. 52015), Patent Pure Blue (hergestellt von Sumitomo Mikuni Chemical Co., Ltd.), Brilliant Blue, Methyl Green, Erythrithin B, Basic Fuchsin, m-Kresol Purpl, Auramin, 4-p-Diethylaminophenyliminonaphthochinon, und Cyano-p-diethylaminophenylacetanilid, und die in JP-A-62-293247 und JP-A-9-179290 offenbarten Farbstoffe beispielhaft genannt werden.
  • Wenn die vorstehenden Farbstoffe in die Bildaufzeichnungsschicht gegeben werden, beträgt die Zugabemenge im Allgemeinen ungefähr 0,02 bis 10 Gew.-%, vorzugsweise ungefähr von 0,1 bis 5 Gew.-%, basierend auf dem Feststoffgehalt in der Bildaufzeichnungsschicht.
  • <Oberflächenaktives Mittel>
  • Zum Aufweiten der Stabilität gegenüber Druckbedingungen kann die Bildaufzeichnungsschicht des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers die nicht ionischen oberflächenaktiven Mittel, die in JP-A-62-251740 und JP-A-3-208514, offenbart sind, die kationischen oberflächenaktiven Mittel und Fluor enthaltenden oberflächenaktiven Mittel, wie in JP-A-2-195356 offenbart sind, und die ampholytischen oberflächenaktiven Mittel, wie in JP-A-59-121044 und JP-A-4-13149 offenbart sind, zusätzlich zu dem vorstehend beschriebenen nicht ionischen und anionischen oberflächenaktiven Mitteln enthalten.
  • Als spezifische Beispiele für ampholytische oberflächenaktive Mittel können Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethyl-imidazoliniumbetain und N-Tetradecyl-N,N-betain (z. B., Amorgen K (Handelsname), hergestellt von Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) beispielhaft genannt werden.
  • Spezifische Beispiele für nicht ionische oberflächenaktive Mittel schließen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Stearinsäure Monoglycerid, und Polyoxyethylen-Nonylphenylether ein.
  • Spezifische Beispiele für kationische oberflächenaktive Mittel schließen Laurylaminacetat, Lauryltrimethylammoniumchlorid, Distearyldimethylammoniumchlorid, und Alkylbenzyldimethylammoniumchlorid ein.
  • Das Verhältnis, das durch die vorstehenden oberflächenaktiven Mittel in dem Gesamtfeststoffgehalt in der Bildaufzeichnungsschicht besetzt wird, beträgt vorzugsweise 0,05 bis 15 Gew.-%, weiter bevorzugt 0,1 bis 5 Gew.-%.
  • Gemäß diesen Fällen kann die Bildaufzeichnungsschicht ein auf Fluor basierendes oberflächenaktives Mittel innerhalb des vorstehend beschriebenen Zugabemengenbereichs des oberflächenaktiven Mittels verwenden. Im Einzelnen werden vorzugsweise oberflächenaktive Mittel mit einer Perfluoralkylgruppe verwendet, z. B. anionische oberflächenaktive Mittel mit einem beliebigen aus Carbonsäure, Sulfonsäure, Sulfat und Phosphat, kationische oberflächenaktive Mittel, wie etwa aliphatisches Amin und quaternäre Ammoniumsalze, ampholytische oberflächenaktive Mittel vom Betaintyp, und nicht ionische oberflächenaktive Mittel, wie etwa aliphatische Ester von Polyoxyverbindungen, Polyalkylenoxidkondensationstyp und Polyethyleniminkondensationstyp können beispielhaft genannt werden.
  • Lösungsmittel
  • Die Beschichtungslösung für die Bildaufzeichnungsschicht ist ein Wasserlösungssystem und wasserlösliches Lösungsmittel wird in Kombination zur gleichförmigen Verflüssigung durch Inhibierung der Ausfällung während der Herstellung der Beschichtungslösung verwendet. Beispiele für wasserlösliche Lösungsmittel schließen Alkohole (z. B. Methanol, Ethanol, Propylalkohol, Ethylenglycol, Diethylenglycol, Propylenglycol, Dipropylenglycol, Ethylenglycolmonomethylether, Propylenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, etc.), Ether (z. B., Tetrahydrofuran, Ethylenglycoldimethylether, Propylenglycoldimethylether, Tetrahydropyran, etc.), Ketone (z. B., Aceton, Methylethylketon, Acetylaceton, etc.), Ester (z. B. Methylacetat, Ethylenglycolmonomethylmonoacetat, etc.), und Amide (z. B., Formamide, N-Methyl-Formamid, Pyrrolidon, N-Methylpyrrolidon, etc.) ein, und das Lösungsmittel kann allein oder zwei oder mehrere Lösungsmittel können in Kombination verwendet werden.
  • Diese Lösungsmittel können allein oder zwei oder mehrere Lösungsmittel können in Kombination verwendet werden. Wenn die Beschichtungslösung hergestellt wird, beträgt die Konzentration der vorstehend beschriebenen Zusammensetzungskomponenten der Bilderzeugungsschicht (alle der gesamte Festgehalt einschließlich Additive) in dem Lösungsmittel vorzugsweise 1 bis 50 Gew.-%.
  • Beschichtung
  • Die Beschichtungslösung, die durch Mischen der vorstehend beschriebenen Zusammensetzungskomponenten hergestellt wurde, wird auf einem Träger durch beliebige der wohlbekannten Beschichtungsverfahren beschichtet und getrocknet, so wird ein Plattenvorläufer erhalten.
  • Das Beschichtungsverfahren kann aus den folgenden wohlbekannten Verfahren ausgewählt werden, z. B. Balkenbeschichtungsvorrichtungsbeschichten, Rotationsbeschichten, Sprühbeschichten, Vorhangbeschichten, Eintauchbeschichten, Luftmesserbeschichten, Plattenbeschichten, Walzenbeschichten, etc.
  • Die Bilderzeugungsschicht des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers kann oberflächenaktive Mittel enthalten, z. B. die vorstehend beschriebenen verschiedene Arten von oberflächenaktiven Mitteln und die fluorhaltigen oberflächenaktiven Mittel, die in JP-A-62-170950 zum Verbessern der Beschichtungsfunktion offenbart sind. Die Zugabemenge des oberflächenaktiven Mittels beträgt vorzugsweise 0,01 bis 1 Gew.-%, weiter bevorzugt 0,05 bis 0,5 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt in der Bildaufzeichnungsschicht.
  • Die Trockenbeschichtungsmenge der Bilderzeugungsschicht (Feststoffgehalt) wird gemäß dem Zweck variiert, aber in dem allgemeinen lithographischen Druckplattenvorläufer beträgt diese von 0,1 bis 30 g/m2, vorzugsweise von 0,3 bis 10 g/m2, weiter bevorzugt von 0,5 bis 5,0 g/m2, und insbesondere bevorzugt von 0,5 bis 2,0 g/m2.
  • Da die Oberfläche des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers hydrophil ist, ist es wahrscheinlich, dass er durch die Umweltatmosphäre beeinflusst wird und während der Handhabung vor Verwendung hydrophob wird, um durch Temperatur und Feuchtigkeit beeinflusst zu werden, oder gegenüber mechanischen Kratzern und Verschmutzung empfänglich ist. Im Allgemeinen wird eine Schutzarbeit durch Beschichten eines Plattenbrennkonditionsmittels (auch eine Gummierlösung) auf der Platte bei dem Plattenherstellungsverfahren durchgeführt. Wenn eine Schutzlösung auf die Platte bei dem Produktionsschritt des Druckplattenvorläufers beschichtet wird, kann eine Schutzfunktion sofort nach Herstellung erhalten werden und die Zeit zum Beschichten eines Plattenbrennkonditionsmittels bei der Plattenherstellungsstufe kann gespart werden, so wird die Bearbeitbarkeit verbessert. Dies ist für die hydrophilen Oberflächen des erfindungsgemäßen Druckplattenvorläufers sehr effektiv.
  • Demgemäß wird in der erfindungsgemäßen bevorzugten Ausführungsform eine wasserlösliche Oberflächenschutzschicht auf der Bildaufzeichnungsschicht, wie vorstehend beschrieben, bereitgestellt. Der Gehalt der Oberflächenschutzschicht ist der gleiche wie das Plattentrennkonditionsmittel (eine Gummierlösung). Die Details werden nachstehend in dem Punkt der Beschichtungslösung als "eine Oberflächeendbearbeitungslösung" beschrieben.
  • Träger
  • Ein Substrat (d.h. ein Träger) worauf eine Beschichtungslösung für die Bildaufzeichnungsschicht beschichtet wird, wird nachstehend beschrieben.
  • Substrate, die erfindungsgemäß verwendet werden können, sind plattenähnliche Materialien mit Größenstabilität, und Beispiele für Substrate schließen Papier, mit Kunststoffen (z. B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol) laminiertes Papier, eine Metallplatte (z. B. Aluminium, Zink, Kupfer, Nickel, rostfreier Stahl), ein Kunststofffilm (z. B. Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetal, etc.), und Papier oder ein Kunststofffilm, der mit den vorstehenden Metallen laminiert ist oder worauf die vorstehenden Metalle abgeschieden wurden, ein.
  • Bevorzugte Substrate sind ein Polyesterfilm, Aluminium, eine SUS-Platte, die wahrscheinlich nicht auf einer Druckplatte korrosiv ist. Von diesen Materialien ist eine Aluminiumplatte insbesondere bevorzugt, da diese größer, stabil und relativ kostengünstig ist.
  • Bevorzugte Aluminiumplatten sind eine reine Aluminiumplatte und eine Aluminiumlegierungsplatte, die Aluminium als eine Hauptkomponente und eine Spurmenge aus verschiedenen Elementen umfasst. Ein Kunststofffilm, der mit Aluminium laminiert oder worauf Aluminium abgeschieden ist, kann auch verwendet werden. Unterschiedliche Elemente, die in der Aluminiumlegierung enthalten sein können, sind Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Bismuth, Nickel, Titan, etc. Der Gehalt von unterschiedlichen Elementen in der Aluminiumlegierung beträgt höchstens 10 Gew.-%. Insbesondere bevorzugtes Aluminium zur erfindungsgemäßen Verwendung sind reines Aluminium, aber 100 %ig reines Aluminium ist von der Raffiniertechnik her schwierig herzustellen, demgemäß kann ein extrem kleine Menge aus unterschiedlichen Elementen enthalten sein. Die Zusammensetzung von erfindungsgemäß verwendeten Aluminiumplatten werden wie vorstehend beschrieben nicht spezifiziert, und herkömmlicherweise wohl bekannte und gewöhnlich verwendete Aluminiummaterialien können willkürlich verwendet werden. Ein Substrat zur erfindungsgemäßen Verwendung besitzt eine Dicke von ungefähr 0,05 bis ungefähr 0,6 mm, und vorzugsweise von 0,1 bis 0,4 mm, und insbesondere bevorzugt von 0,15 bis 0,3 mm.
  • Vor dem Oberflächenaufrauen einer Aluminiumplatte wird, soweit gewünscht, eine Entfettungsbehandlung zum Entfernen von Walzenöl auf der Oberfläche der Platte unter Verwendung eines oberflächenaktiven Mittels, eines organischen Lösungsmittels oder einer wässrigen Alkalilösung beispielsweise durchgeführt.
  • Die Oberflächenaufrauungsbehandlung einer Aluminiumplatte kann durchgeführt werden oder nicht. Die Oberflächenaufrauungsbehandlung einer Aluminiumplatte kann durch verschiedene Verfahren durchgeführt werden, z. B. mechanisches Aufrauen, elektrochemisches Aufrauen durch Auflösen der Oberfläche, und chemisches Aufrauen durch selektives Auflösen der Oberfläche. Als mechanisches Aufrauen können wohlbekannte Verfahren, z. B. ein Kugelabreibverfahren, ein Bürstenabschleifverfahren, ein Strahlverfahren oder Polierverfahren verwendet werden. Als chemisches Aufrauen wird geeigneterweise ein Verfahren zum Aufrauen der Oberfläche durch Eintauchen einer Aluminiumplatte in eine gesättigte wässrige Lösung des Aluminiumsalzes einer anorganischen Säure, wie in JP-A-54-31187 offenbart, in geeigneter Weise verwendet. Als elektrochemisches Aufrauen kann ein Verfahren zum Aufrauen der Oberfläche in einem Salzsäure- oder Salpetersäureelektrolyt durch alternierenden Strom oder Direktstrom verwendet werden. Ferner kann das elektrolytische Oberflächenaufrauen unter Verwendung von gemischten Säuren, wie in JP-A-54-63902 offenbart, verwendet werden.
  • Von diesen Oberflächenaufrauungsverfahren wird ein Aufrauungsverfahren unter Verwendung von mechanischem Aufrauen und elektrochemischen Aufrauen in Kombination, wie in JP-A-55-137993 offenbart, vorzugsweise verwendet, da die Adhäsion eines Sensibilisierungsbildes auf einen Träger stark ist.
  • Diese Aufrauungsbehandlungen werden vorzugsweise so durchgeführt, dass die mittlere Oberflächenrauhigkeit (Ha) eine Aluminiumplatte von 0,3 bis 1,0 μm wird.
  • Die so oberflächenaufgeraute Aluminiumplatte wird, soweit benötigt, einer Alkaliätzbehandlung mit einer wässrigen Lösung aus Kaliumhydroxid oder Natriumhydroxid und einer Neutralisierungsbehandlung und dann einer Anodisierungsbehandlung unterzogen, um ein gewünschtes Wasserzurückhaltungsvermögen und einen Abrasionswiderstand der Oberfläche zu erhalten.
  • Verschiedene Elektrolyten zum Erzeugen eines porösen Oxidfilms können bei der Anodisierungsbehandlung eine Aluminiumplatte verwendet werden und im Allgemeinen werden Schwefelsäure, Salzsäure, Oxalsäure, Chromsäure und gemischte Säuren von diesen verwendet. Die Konzentration dieser Elektrolyten wird willkürlich gemäß der art der Elektrolyten bestimmt.
  • Die Anodisierungsbehandlungsbedingungen variieren gemäß den verwendeten Elektrolyten, aber im Allgemeinen beträgt die Konzentration des Elektrolyten in geeigneter Weise von 1 bi 80 Gew.-% Lösung, die Flüssigkeitstemperatur beträgt von 5 bis 70°C, die elektrische Stromdichte beträgt von 5 bis 60 A/dm2, die Spannung beträgt von 1 bis 100 V, die Elektrolytzeit beträgt von 10 Sekunden bis 5 Minuten.
  • Die Menge des erzeugten Films beträgt vorzugsweise 1,0 bis 5,0 g/m2, insbesondere bevorzugt von 1,5 bis 4,0 g/m2. Wenn die Menge des anodischen Oxidfilms weniger als 1,0 g/m2 beträgt, wird die Drucklebensdauer unzureichend.
  • Von diesen Analysierungsbehandlungen sind das Verfahren zum Anodisieren in Schwefelsäure bei hoher elektrischer Stromdichte, dass in GB-PS 1 412 768 offenbart wird, und das Verfahren zum Anodisieren mit Phosphorsäure als Elektrolytbad, das in US-PS 3 511 661 offenbart wird, bevorzugt.
  • Die Aluminiumplatte, die vorzugsweise aufgeraut und anonodisiert wird, kann einer Hydrophilisierungsbehandlung, soweit notwendig, unterzogen werden. Als bevorzugte Beispiele gibt es ein Verfahren zur Behandlung unter Verwendung von Alkalimetallsilicat, z. B. eine wässrige Lösung aus Natriumsilicat, die in US-PSen 2 714 066 und 3 181 461 offenbart werden, ein Verfahren zur Verwendung von Kaliumzirkonatfluorid, das in JP-B-36-22063 offenbart wird (der Ausdruck "JP-B", wie hierin verwendet, bedeutet eine "geprüfte japanische Patentveröffentlichung"), und ein Verfahren zur Behandlung unter Verwendung von Polyvinylsulfonat, das in US-PS 4 153 461 offenbart wird. In vielen Fällen kann das Hintergrundverschmieren durch die Hydrophilisierungsbehandlung verhindert werden.
  • Eine Aluminiumplatte und eine SUS-Platte werden mit einer organischen Unterbeschichtungsschicht vor dem Beschichten einer lichtempfindlichen Schicht, gemäß der Notwendigkeit, bereitgestellt. Als organische Verbindungen, zur Verwendung in der organischen Unterbeschichtungsschicht können z. B. Phosphonsäuren mit einer Aminogruppe, wie etwa Carboxymethylcellulose, Dextrin, arabischer Gummi, und 2-Aminoethylphosphonsäure, organische Phosphonsäuren, wie etwa Phenylphosphonsäure, Naphthylphosphonsäure, Alkylphosphonsäure, Glycerophosphonsäure, Methylendiphosphonsäure, und Ethylendiphosphonsäure, die jeweils eine Substituenten besitzen können, organische Phosphorsäuren, wie etwa Phenylphosphorsäure, Naphthylphosphorsäure, Alkylphosphorsäure, und Glycerophosphorsäure, die jeweils einen Substituenten besitzen können, organische Phosphinsäure, wie etwa Phenylphosphinsäure, Naphthylphosphinsäure, Alkylphosphinsäure, und Glycerophosphinsäure, die jeweils einen Substituenten besitzen können, Aminosäuren wie etwa Glycin und β-Alanin, und Hydrochlorid von Amin mit einer Hydroxylgruppe, wie etwa Hydrochlorid von Triethanolamin beispielhaft aufgezählt werden, diese organischen Verbindungen können in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden.
  • Diese organischen Unterbeschichtungsschichten werden durch die folgenden Verfahren bereitgestellt. Das heißt, die vorstehenden organischen Verbindungen werden in Wasser oder in einem organischen Lösungsmittel, z. B. Methanol, Ethanol, Methylethylketon, oder einer Mischungen aus diesen organischen Lösungsmitteln aufgelöst, die erhaltene Lösung wird auf eine Aluminiumplatte beschichtet und getrocknet, oder die vorstehenden organischen Verbindungen werden in Wasser oder in einem organischen Lösungsmittel, z. B. Methanol, Ethanol, Methylethylketon, oder einer Mischung aus diesen organischen Lösungsmitteln aufgelöst, eine Aluminiumplatte wird in die Lösung eingetaucht, um die organischen Verbindungen auf die Platte zu adsorbieren, dann mit Wasser und dergleichen gewaschen und getrocknet, um hierdurch eine organische Unterbeschichtungsschicht zu erhalten. In dem ersteren Verfahren kann die Lösung der vorstehenden organischen Verbindungen in einer Konzentration von 0,005 bis 10 Gew.-% mit verschiedenen Verfahren beschichtet werden. Zum Beispiel können beliebige aus Stabbeschichtungsvorrichtungsbeschichten, Rotationsbeschichten, Sprühbeschichten, Vorhangbeschichten verwendet werden. Ferner beträgt in dem letzteren Verfahren die Konzentration der Lösung von 0,01 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise von 0,05 bis 5 Gew.-%, die Eintauchtemperatur beträgt von 20 bi 90°C, vorzugsweise von 25 bis 50°C, und die Eintauchzeit beträgt von 0,1 Sekunden bis 20 Minuten, vorzugsweise von 2 Sekunden bis 1 Minute.
  • Der pH-Wert der Lösung wird mit basischen Substanzen, wie etwa Ammoniak, Triethylamin und Kaliumhydroxid oder sauren Substanzen, wie etwa Salzsäure und Phosphorsäure, eingestellt. Der pH-Wertbereich kann von 1 bis 12 sein. Ein gelber Farbstoff kann zu der Lösung zur Verbesserung der Tonwiedergabefähigkeit von lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten zugegeben werden.
  • Die Trockenbeschichtungsmenge der organischen Unterbeschichtungsschicht beträgt im Allgemeinen von 2 bis 200 mg/m2, vorzugsweise von 5 bis 100 mg/m2. Wenn das Beschichtungsgewicht weniger als 2 mg/m2 beträgt, kann eine ausreichende Drucklebensdauer nicht erhalten werden, während, wenn diese mehr als 200 mg/m2 beträgt, die Situation die gleiche ist.
  • Zum Sicherstellen einer Kontaktadhäsion zwischen dem Träger und der Bildaufzeichnungsschicht kann eine Unterbeschichtungslösung, die ein Silankupplungsmittel, oder in einigen Fällen ein Titankupplungsmittel enthält, auf die Oberfläche des Trägers beschichtet werden. Die Silankupplungsmittel werden im Allgemeinen durch die Formel (RO)3SiR' (R und R' stellen jeweils eine Alkylgruppe dar), dargestellt, die RO Gruppe wird hydrolysiert und wird eine OH Gruppe, und wird an die Oberfläche des Trägers durch Etherbindung gebunden, während die Adhäsion der R' Gruppe an das Medium der Bildaufzeichnungsschicht durch Hydrolyse und Etherbindung verbessert wird.
  • Beispiele von Silankupplungsmitteln schließen γ-Chlorpropyltrimethoxysilan, Vinyltrichlorsilan, Vinyltriethoxysilan, Vinyltris(β-methoxyethoxy)silan, γ-Methacryloxypropyltrimethoxysilan, γ-Glycosidoxypropyltrimethoxysilan, γ-Mercaptopropyltrimethoxysilan, γ-Aminopropyltriethoxysilan, γ-Ureidopropyltriethoxysilan, und N-(β-Aminoethyl)-(β-aminopropyl)dimethoxysilan ein.
  • Zum Sicherstellen der Adhäsion mit de Bildaufzeichnungsschicht wird der Kunststoffträger einer wohlbekannten elektrostatischen Aufladungsbehandlung vor dem Beschichten unterzogen.
  • Andere Schichten
  • Soweit notwendig, wird eine Rückbeschichtungsschicht auf der rückwärtigen Oberfläche des Trägers bereitgestellt. Hinsichtlich solcher rückwärtigen Beschichtungsschichten werden die organischen hochmolekularen Verbindungen, die in JP-A-5-45885 offenbart sind, und die Beschichtungsschicht, die ein Metalloxid umfasst, das durch Hydrolyse und Polymerisationskondensation erhalten wurde, das in JP-A-6-35174 offenbart wird, vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet.
  • Von diesen Beschichtungsschichten sind Alkoxylverbindungen von Silicium, wie etwa SI (OCH3)4, Si(OC2H5)4, Si(OC3H7)4, und Si(OC4H9)4 kostengünstig verfügbar und die Beschichtungsschicht dieser Metalloxide besitzen eine herausragende Hydrophilizität.
  • Plattenherstellungsverfahren
  • Das Plattenherstellungsverfahren dieses lithographischen Druckplattenvorläufers wird nachstehend beschieben. Dieser lithographischer Druckplattenvorläufer kann auf direktes bildweises wärmeempfindliches Aufzeichnen mittels eines thermischen Aufzeichnungskopfes, etc., und auf eine Belichtung vom Licht/Wärme-Umwandlungstpy, wie etwa Feststofflaser oder Halbleiterlaser, der IR-Strahlen der Wellenlänge von 760 bis 1200 nm emittiert, Blitzlicht mit hoher Intensität, wie etwa elektrische Xenonentladungslampe, und IR-Lampenbelichtung angewendet werden.
  • Das Beschreiben von Bildern kann mit einem Beliebigen aus Belichtungssystem und Abtastsystem durchgeführt werden. Der erstere Fall ist ein IR-Bestrahlungssystem, oder das System zum Bestrahlen des Plattenvorläufers mit einer elektrischen Xenonentladungslampe mit hoher Beleuchtungsintensität für eine kurze Zeitdauer und Erzeugen von Wärme durch Licht/Wärme-Umwandlung. Wenn eine Flächenbelichtungslichtquelle, wie etwa eine IR-Lampe verwende wird, wird die bevorzugte Belichtungsmenge durch die Beleuchtungsintensität variiert, aber im Allgemeinen beträgt die Flächenbelichtungsintensität vor dem Moduliert werden durch Bilder zum Drucken vorzugsweise 0,1 bis 10 J/cm2, weiter bevorzugt 0,1 bis 1 J/cm2. Bei Verwendung eines transparenten Trägers kann eine Belichtung von der rückwärtigen Seite des Trägers durch den Träger bewirkt werden. Es ist bevorzugt, die Beleuchtungsintensität der Belichtung so auszuwählen, dass sie die vorstehende Beleuchtungsintensität mit der Strahlungszeit von 0,01 bis 1 msec, vorzugsweise von 0,01 bis 0,1 msec erreicht. Wenn die Bestrahlungszeit lang ist, ist es notwendig, die Belichtungsintensität in dem Licht des Wettbewerbszusammenhangs zwischen der Erzeugungsrate von Wärmeenergie und Diffusionsrate der erzeugten Wärmeenergie zu erhöhen.
  • In dem letzteren Fall wird Abtasten auf dem Druckplattenvorläufer unter Verwendung von Laserlichtquellen, die eine große Menge von IR-Komponenten enthalten, durch Modulieren der Laserstrahlen durch das Druckbild durchgeführt. Beispiele für Laserlichtquellen schließen einen Halbleiterlaser, eine Helium-Neonlaser, einen Helium-Cadmiumlaser, und ein YAG-Laser ein. Eine Laserlichtquelle mit einer Laserleistung von 0,1 bis 300 W kann zur Bestrahlung verwendet werden. Bei Verwendung eines Pulslasers ist es bevorzugt, eine Bestrahlung mit Laserstrahlen mit einer Peakleistung von 1000 W, vorzugsweise 2000 W durchzuführen. In diesem Fall trägt die Belichtungsmenge in der Flächenbelichtungsintensität vor der Modulation durch das Druckbild vorzugsweise von 0,1 bis 10 J/cm2, weiter bevorzugt von 0,3 bis 1 J/cm2. Bei Verwendung eines transparenten Trägers kann eine Belichtung von der rückwärtigen Seite des Trägers durch den Träger bewirkt werden.
  • Bei Durchführung der Plattenherstellung einer lithographischen Druckplatte wird, soweit notwendig, eine Gummierung genanntes Verfahren nach der Bildbelichtung zum Schutz des Nicht-Bildbereichs durch Beschichten eiern Plattenoberflächenschutzlösung (sogenannte Gummierlösung) auf die Plattenoberfläche durchgeführt. Das Gummieren wird für verschiedene Zwecke durchgeführt, z. B. zur Verhinderung der Verschlechterung der Hydrophilizität der hydrophilen Oberfläche der lithographischen Druckplatte durch den Einfluss einer kleinen Menge von Kontaminierungsmitteln in der Luft, zum Erhöhen der Hydrophilizität der Nicht-Bildfläche, zur Verhinderung der Verschlechterung der lithographischen Druckplatte während der Zeit nach der Plattenherstellung bis zum Drucken, oder nach der Unterbrechung des Drucks bis zur Wiederaufnahme, zur Verhinderung, dass die Nicht-Bildfläche Tintenaufnahmefähig wird, und aufgrund der Adhäsion von Ölen, die von Fingern übertragen wurden, und Tinte während der Handhabung im Fall der Beladung der Platte auf die Druckmaschine verschmiert wird, ferner zum Verhindern, dass Kratzer auf der Nicht-Bildfläche und der Bildfläche während der Handhabung erzeugt werden.
  • Als bevorzugte Beispiele für die wasserlöslichen Harze mit einer Filmerzeugungsfunktion zur erfindungsgemäßen Verwendung, z. B. arabischer Gummi, Cellulosederivate (z. B. Carboxymethylcellulose, Carboxyethylcellulose, Methylcellulose, etc.), und deren modifizierte Produkte, Polyvinylalkohol und deren Derivate, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylamid und der Copolymere, Acrylsäurecopolymere, Vinylmethylether-Maleinanhydridcopolymere, Vinylacetat-Maleinanhydridcopolymere, Styrol-Malinanhydridcopolymere, calciniertes Dextrin, Säure zersetztes Dextrin, und Säure zersetztes verethertes Dextrin können beispielhaft genannt werden.
  • Der Gehalt der vorstehend beschriebenen wasserlöslichen Harze in dem Schutzmittel in der Oberflächen fertig gestellten Lösungen beträgt im Allgemeinen 3 bis 25 Gew.-%, vorzugsweise 10 bis 25 Gew.-%.
  • Erfindungsgemäß können die vorstehend beschriebenen wasserlöslichen Harze in einer Mischung aus zwei oder mehreren verwendet werden.
  • Ein Plattenoberflächenschutzmittel für eine lithographische Druckplatte kann verschiedene oberflächenaktive Mittel neben den vorstehenden enthalten. Anionische oberflächenaktive Mittel und nicht ionische oberflächenaktive Mittel können verwendet werden. Beispiele für anionische oberflächenaktive Mittel schließen aliphatische Alkoholsulfate, Weinsäure, Äpfelsäure, Milchsäure, Levulinsäure, und organische Sulfonsäure, und als anorganische Säuren sind Salpetersäure, Schwefelsäure, und Phosphorsäure nützlich. Mindestens zwei oder mehrere von anorganischen Säuren, organischen Säuren und anorganischen Salzen können in Kombination verwendet werden.
  • Zusätzlich zu den Vorstehenden können, soweit notwendig, niedere mehrwertige Alkohole, wie etwa Glycerol, Ethylenglycol, und Triethylenglycol als Benetzungsmittel verwendet werden. Der Gehalt dieser Benetzungsmittel in einem Schutzmittel beträgt von 0,1 bis 5,0 Gew.-%, vorzugsweise von 0,5 bis 3,0 Gew.-%. Neben den vorstehend beschriebenen Verbindungen kann ein Plattenoberflächenschutzmittel für eine lithographische Druckplatte erfindungsgemäß Konservierungsmittel, z. B. Benzoinsäure und deren Derivate, Phenol, Formaldehyd, Natriumdehydroacetat, etc. in einer Menge von 0,005 bis 2,0 Gew.-% enthalten.
  • Ein Endschäumungsmittel kann zu einem Plattenoberflächenschutzmittel zugegeben werden. Organische Siliconverbindungen werde vorzugsweise als ein Endschäumungsmittel verwendet und die Zugabemenge beträgt vorzugsweise 0,0001 bis 0,1 Gew.-%
  • Zum Verhindern der Empfindlichkeitsverringerung der Bildfläche kann ein Plattenoberflächenschutzmittel ein organisches Lösungsmittel enthalten. Bevorzugte organische Lösungsmittel sind wasserlösliche und Petroleumfraktionen mit einem Siedepunkt von ungefähr 120 bis ungefähr 250°C, und Weichmacher mit einem Gefrierpunkt von 15°C oder weniger und einem Siedepunkt von 300°C oder mehr, z. B. Dibutylphthalat und Dioctyladipat können beispielhaft genannt werden. Ein solches organisches Lösungsmittel wird in einer Menge von 0,05 bis 5 Gew.-% zugegeben.
  • Ein Plattenoberflächenschutzmittel kann eine beliebige Form aus einem homogenen Lösungstyp, einem Suspensionstyp und einem Emulsionstyp annehmen und der Emulsionstyp, der die vorstehenden organischen Lösungsmittel enthält, zeigt eine herausragende Leistung. In diesem Fall ist es bevorzugt, dass ein oberflächenaktives Mittel in Kombination enthalten ist, wie in JP-A-55-105581 offenbart.
  • Ein Druckplattenvorläufer, der eine Bildbelichtung und Wasserentwicklung nach Entwicklung und, soweit notwendig, einer Gummierbehandlung unterzogen worden ist, kann auf eine Druckmaschine geladen werden und Drucken kann sofort durchgeführt werden. Ferner kann ein Druckplattenvorläufer auf eine Druckmaschine sofort nach Belichtung und eingebaut werden und Drucken kann sofort ohne Durchführen einer Entwicklung durchgeführt werden. Alternativ kann nach dem Einbau eines Druckplattenvorläufers auf einer Druckmaschine eine Druckplatte auf der Maschine durch bildweises Durchführen von Abtastbelichtung mit Laserstrahlen erzeugt werden. Das heißt, bei dem Plattenherstellungsverfahren unter Verwendung des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers kann eine lithographische Druckplatte ohne Durchführung von Entwicklung hergestellt werden.
  • Zur Verwirklichung des erfindungsgemäßen Effektes ist es notwendig, dass die Bildaufzeichnungsschicht, die durch Licht/Wärme umwandelbare Substanzen enthält, eine Lichtabsorptionsfunktion auf einem Niveau besitzt, das zum effektiven Hervorrufen einer Licht/Wärme-Umwandlungswirkung, d.h. Teilchendichte, notwendig ist. Die Lichtabsorptionsfunktion auf einem notwendigen Niveau bedeutet, dass ein spektraler Absorptionsbereich des Absorptionsvermögens von 0,3 oder mehr in dem durch Licht/Wärme umwandelbaren spektralen Wellenlängenbereich von 300 bis 1200 nm besteht, im Einzelnen bedeutet dies, dass ein Absorptionsmaximum des Absorptionsvermögens von 0,3 oder mehr in dem Wellenlängenbereich des Bestrahlungslichtes zur Bilderzeugung (in dem Fall der kurzen Wellenlänge, des Wellenlängenbereichs von 100 nm Breite mit der Wellenlänge als die Mitte) besteht, oder bedeutet, dass ein kontinuierlicher spektraler Absorptionswellenlängenbereich 500 nm oder mehr des Absorptionsvermögens von 0,3 oder mehr vorhanden ist, sogar wenn das Absorptionsmaximum nicht in diesem Wellenlängenbereich vorhanden ist.
  • Ferner beträgt die Transmissionsdichte einer Bilderzeugungsschicht vorzugsweise 0,3 bis 3,0, gemessen basierend auf der internationalen Standardisierungsorganisation ISO5-3 und ISO5-4. Wenn die Transmissionsdichte 3,0 übersteigt, wird die Intensität der Bestrahlungsstrahlen an dem unteren Teil der Bildaufzeichnungsschicht erheblich aufgrund der Abschwächung von Bestrahlungsstrahlen verringert, folglich tritt eine Umwandlung in Hydrophobizität schwer auf. Während, wenn diese 0,3 oder weniger beträgt, die Bestrahlungsstrahlenenergie nicht ausreichen absorbiert wird, folglich ist die Wärmeenergie, die durch Licht/Wärme-Umwandlung erhalten wurde, häufig unzureichend.
  • BEISPIELE
  • Die vorliegende Erfindung wird detaillierter anhand er nachstehenden Beispiele veranschaulicht, aber diese sollen die Erfindung nicht begrenzen.
  • BEISPIELE II-1
  • Herstellung des Aluminiumträgers
  • Die Oberfläche einer Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,24 mm (JIS-A-1050) wurde unter Verwendung einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension mit Bimssteinpulver mit einer Maschenzahl 400 oberflächlich abgeschliffen und die Platte wurde gründlich mit Wasser gewaschen. Die Platte wurde dann in eine 10 %ige wässrige Lösung von Natriumhydroxid bei 70°C für 60 Sekunden eingetaucht und Ätzen wurde durchgeführt, und dann wurde mit fließendem Wasser gewaschen. Die Platte wurde mit einer 20 %igen wässrigen Lösung aus Salpetersäure neutralisiert und mit Wasser gewaschen. Anschließend wurde die Platte einer Oberflächenaufrauungsbehandlung in einer 1 %igen wässrigen Salpetersäurelösung, die 0,5 % Aluminiumnitrat enthielt, unter Verwendung eines Stroms mit rechteckiger alternierender Wellenform (Bedingungen: Anodenzeitspannung: 12,7 V, Verhältnis der Elektrizitätsmenge der Kathodenzeit zu der Elektrizitätsmenge der Anodenzeit: 0,9, Elektrizitätsmenge der Anodenzeit: 160 Coulomb/dm2. Die Oberflächenrauhigkeit der erhaltenen Platte betrugt 0,5 μm (Ra). Auf die vorstehende Behandlung folgend wurde die Platte in eine 1 %ige wässrige Lösung aus Natriumhydroxid bei 40°C 30 Sekunden eingetaucht, dann in eine 30 %ige wässrige Lösung aus Schwefelsäure bei 55°C für 1 Minute zur Bewirkung der Behandlung eingetaucht. Danach wurde die Platte einer anodischen Oxidationsbehandlung in einer 20 %igen wässrigen Lösung aus Schwefelsäure unter Verwendung von Direktstrom bei einer elektrischen Stromdichte von 2 A/dm2 unterzogen, um 2,5 g/dm2 der Filmdicke zu erhalten. Die Platte wurde mit Wasser gewaschen und getrocknet, wodurch ein Träger hergestellt wurde.
  • Herstellung der Bildaufzeichnungsschicht
  • Die Wassersystembeschichtungslösung mit der nachstehend gezeigten Zusammensetzung wurde 10 Minuten mit einer Farbschüttelvorrichtung dispergiert. Die erhaltene Beschichtungslösung wurde auf den vorstehend hergestellten Aluminiumträger mit eiern Stabbeschichtungsvorrichtung beschichtet, die Platte wurde in einem Ofen bei 100°C für 10 Minuten getrocknet. Das Trockenfilmgewicht der hydrophilen Schicht betrug 3,0 g/m2.
    Titandioxidpulver (Rutiltyp, durchschnittliche Teilchengröße: 0,2 μm, hergestellt von Wako Pure Chemical Industries Ltd.) 1,5 g
    PVAl17 (10 %ige wässrige Lösung, hergestellt von Kurare Co., Ltd.) 3,5 g
    20 %ige wässrige Lösung von Siliciumdioxidgeldispersion 6,0 g
    Sol/Gel-Einstelllösung 7,2 g
    Wasser 26,4 g
  • Die verwendete Sol/Gel-Einstelllösung, die hierbei verwendet wurde, besitzt die folgende Zusammensetzung. Sol/Gel-Einstell+lösung (Raumtemperatur, Reifen für 1 Stunde)
    Tetramethoxysilan 11,0 g
    Ethanol 20,7 g
    0,1 N Salpetersäure 4,5 g
  • Ausfällung des Metallstaubs
  • Der so hergestellte Druckplattenvorläufer wurde in eine wässrige Lösung aus 1 N Silbernitrat eingetaucht, und dann wurde die gesamte Oberfläche mit einer 100 W Hochdruckquecksilberlampe durch einen Pyrexfilter für 2 Minuten bestrahlt, um schwarzen Metallsilberstaub auf der Oberfläche des Titandioxids auszufällen. Der Kontaktwinkel mit einem Wassertropfen der Oberfläche der so hergestellten Druckplatte zeigte eine verstärkte Benetzung (d.h. ausgebreitetes Benetzen), d.h. die Hydrophilizität der Oberfläche war bemerkenswert hoch.
  • Bildweise Belichtung
  • Wenn die Druckplatte einer Belichtung unter Verwendung von PEARL Setter 74 (hergestellt von Presstek Co., Ltd.) als ein Laserstrahlabtastbelichtungsgerät unterzogen wurde, schmolz die Oberfläche der belichteten Fläche, die in den Zustand umgewandelt wurde, mit einem Silberfilm zusammen. Der Kontaktwinkel mit einem Wassertropfen der Oberfläche des bestrahlten Bereichs dieser Druckplatte betrug 50° und die Oberfläche wurde in eine Oberfläche mit hoher Hydrophobizität umgewandelt.
  • Drucken
  • Das Drucken wurde unter Verwendung von RYOBI-3200MCD Druckmaschine durchgeführt. Als Wischlösung wurde eine wässrige Lösung von 1 Vol.-% EU-3 (hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) verwendet und die Tinte wat GEOS (N) schwarz. Nach dem Bedrucken von 10 Blättern vom Beginn wurde eine herausragende Druckmaterie erhalten, die Adhäsion der Tinte an dem Bildpunktteil und dem einfarbigen Teil war gleichförmig und Verschmieren wurde an der Nicht-Bildfläche nicht beobachtet. Fünfzigtausend (50000) Blätter wurden weiter bedruckt und Druck mit hoher Qualität ohne Verschmieren wurden erhalten.
  • BEISPIEL II-2
  • In diesem Beispiel wurde ein von dem in Beispiel II-1 unterschiedliches Medium als das Medium der Bildaufzeichnungsschicht verwendet. Ein lithographischer Druckplattenvorläufer wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel II-1 hergestellt, bis darauf, dass die Sol/Gel umwandelbare Substanz in Beispiel II-1 durch das Medium mit der nachstehend gezeigten Zusammensetzung ersetzt wurde. Das Trockenfilmgewicht der hydrophilen Schicht mit der folgenden Zusammensetzung betrug 3,0 g/m2.
    Titandioxidpulver (Rutiltyp, durchschnittliche Teilchengröße: 0,2 μm, hergestellt von Wako Pure Chemical Industries Ltd.) 1,7 g
    PVA117 (10 %ige wässrige Lösung, hergestellt von Kurare Co., Ltd.) 10,1 g
    20 %ige wässrige Lösung einer Siliciumdioxidgeldispersion 6,0 g
    Glyoxal 0,8 g
    Wässrige Lösung von 0,1 N Silbernitrat 8,4 g
    Oberflächenaktives Mittel K* (5 %ige wässrige Lösung 0,3 g
    Wasser 13,7 g
    • * Oberflächenaktives Mittel K: Polyethylenglycol-p-nonylphenylether (durchschnittliche Zahl von Ethylenoxygruppen: 8,5)
  • Der so hergestellte Druckplattenvorläufer wurde mit einer 100 W Hochdruckquecksilberlampe durch einen Pyrexfilter für 2 Minuten bestrahlt, um ein schwarzes metallisches Silberfeinstück auf der Oberfläche des Titandioxids auszufällen. Der Kontaktwinkel mit einem Wassertropfen auf der Oberfläche der Bildaufzeichnungsschicht, die das Titandioxid enthielt, das das Silberfeinstück trugt, zeigt, eine verstärkte Benetzung, d.h. die Hydrophilizität der Oberfläche war bemerkenswert hoch. Die Druckplattenoberfläche wurde einer Belichtung unter Verwendung von PEARL Setter 74 (hergestellt von Presstek Co., Ltd.) als ein Abtastungsbelichtungsgerät unterzogen. Der Kontaktwinkel mit einem Wassertropfen auf der Oberfläche der zusammengeschmolzenen Metallschicht betrug 50°, was das gleiche wie das Ergebnis in Beispiel II-1 war.
  • Auf ähnliche Weise zu Beispiel II-1 wurden herausragende Drucke von 50000 Blatt ohne Druckverschmieren erhalten.
  • BEISPIEL II-3
  • In diesem Beispiel wurden unterschiedliche durch Licht/Wärme umwandelbare Metallverbindungsteilchen verwendet. Eine Druckplatte wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel II-1 hergestellt, bis darauf, dass Zinkoxidpulver (durchschnittliche Teilchengröße: 0,15 μm) anstelle der Titanverbindung in Beispiel II-1 verwendet wurde. Bei der Durchführung von Drucken auf die gleiche Weise wie in Beispiel II-1 wurden Drucke von 50 000 Blättern mit hoher Qualität ohne Druckverschmieren erhalten.
  • BEISPIEL II-4
  • In diesem Beispiel wurde eine photokatalytische Metallverbindung, die einen Metallstaub im Vorhinein trug, verwendet. Die Reaktionslösung mit der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt. Die Reaktionslösung wurde mit einer 100 W Hochdruckquecksilberlampe durch einen Pyrexfilter für 30 Minuten unter gründlichem Rühren bestrahlt. Die Reaktionslösung wurde filtriert, mit Wasser gewaschen und getrocknet. Gefärbte Teilchen aus Titandioxid, auf deren Oberfläche Silberstaub des metallischen Silbers abgeschieden war, mit hoher Ausbeute erhalten. Zusammensetzung der Reaktionslösung
    Titandioxidpulver (Anastasetyp, durchschnittliche Teilchengröße: 0,15 μm, hergestellt von Wako Pure Chemical Industries Ltd.) 30,0 g
    Wässrige Lösung aus 0,1 N Silbernitrat 34,5 g
    Methanol 265,5 g
  • Unter Verwendung der so hergestellten Titandioxidteilchen, die den metallischen Silberstaub trugen, wurde die Wassersystembeschichtungslösung mit der folgenden Zusammensetzung hergestellt, indem die Zusammensetzung mit einer Farbschüttelvorrichtung 10 Minuten dispergiert wurde.
  • Die erhaltene Beschichtungslösung wurde auf den Korona entladenen PET-Träger mit einer Dicke von 180 μm unter Verwendung einer Stabbeschichtungsvorrichtung in einer Trockenbeschichtungsmenge von 22,5 ml/m2 beschichtet, und die Platte wurde in einem Ofen bei 100°C für 10 Minuten getrocknet. Das Trockenfilmgewicht der hydrophilen Schicht betrug 3,0 g/m2.
    Titandioxidteilchen, die den vorstehenden Metallsilberstaub trugen 1,5 g
    PVA117 (10 %ige wässrige Lösung, hergestellt von Kurare Co., Ltd.) 3,5 g
    20 %ige wässrige Lösung von Siliciumdioxidgeldispersion 6,0 g
    Sol/Gel Einstelllösung 7,2 g
    Wasser 26,4 g
  • Die Sol/Gel-Einstelllösung, die hierbei verwendet wurde, besitzt die folgende Zusammensetzung. Sol/Gel-Einstelllösung (Raumtemperatur, Reifen für 1 Stunde)
    Tetramethoxysilan 11,0 g
    Ethanol 20,7 g
    0,1 N Salpetersäure 4,5 g
  • Bildweises Belichten wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel II-1 durchgeführt. Sowohl der bestrahlte Teil als auch der nicht bestrahlte Teil zeigten den gleichen Kontaktwinkel mit einem Wassertropfen wie in Beispiel II-1. Das Drucken wurde unter Verwendung dieses Druckplattenvorläufers auf die gleiche Weise wie in Beispiel II-1 durchgeführt. Die gleichen Ergebnisse wie in Beispiel II-1 wurden erhalten.
  • BEISPIEL II-5
  • Dieses Beispiel zeigt, dass der Druckplattenvorläufer durch Ausfällen eines Metallstaubes aus dem Zustand einer, Beschichtungslösung, die ein Metallsalz enthält, in dem Schritt der Herstellung eines Druckplattenvorläufers hergestellt werden kann. Die Beschichtungslösung für eine hydrophile Schicht, die in Beispiel II-2 hergestellt wurde, wurde mit einer 100 W Hochdruckquecksilberlampe durch einen Pyrexfilter für 5 Minuten bestrahlt, um ein dunkelbraunes metallisches Silber auf der Oberfläche des Titandioxids auszufällen. Die Beschichtungslösung wurde auf einen Träger in einem Trockenfilmgewicht von 3,0 g/m2 beschichtet, und die Platte wurde in einem Ofen bei 100°C 10 Minuten getrocknet, hierdurch wurde eine lithographische Druckplatte erhalten. Die optische Reflexionsdichte dieser Druckplatte betrug 1,12. Der Kontaktwinkel mit einem Wassertropfen auf der Oberfläche zeigt eine verstärke Benetzung, d.h. die Hydrophilizität der Oberfläche war bemerkenswert hoch. Bei Durchführen von Drucken auf die gleiche Weise wie in Beispiel II-1 wurden Drucke von 10000 Blättern mit hoher Qualität ohne Druckverschmieren erhalten.
  • BEISPIEL II-6
  • In diesem Beispiel wurde eine kaum wasserlösliche Metallverbindung verwendet.
  • Herstellung der Bildaufzeichnungsschicht
  • Die Wassersystembeschichtungslösung mit der nachstehend gezeigten Zusammensetzung wurde 10 Minuten mit einer Farbschüttelvorrichtung dispergiert. Die erhaltene Beschichtungslösung wurde auf dem gleichen Aluminiumträger wie in Beispiel II-1 verwendet, mit einer Stabbeschichtungsvorrichtung beschichtet, die Platte wurde in einem Ofen bei 100°C 10 Minuten getrocknet. Das Trockenfilmgewicht der hydrophilen Schicht betrug 3,0 g/m2.
    Siliciumdioxidteilchen, (Silysia 310 durchschnittliche Teilchengröße: 1,4 μm, hergestellt von Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.) 1,5 g
    PVAl17 (10 %ige wässrige Lösung, hergestellt von Kurare Co., Ltd.) 3,5 g
    Sol/Gel Einstelllösung 7,2 g
    Wasser 26,4 g
  • Die Sol/Gel-Einstelllösung, die hierbei verwendet wurde, besitzt die folgende Zusammensetzung. Sol/Gel-Einstelllösung (Raumtemperatur, Reifen für 1 Stunde)
    Aminopropyltriethoxysilan 11,0 g
    Ethanol 20,7 g
    0,1 N Salpetersäure 4,5 g
  • Ausfällung des Metallstaubs
  • Der so hergestellte Druckplattenvorläufer wurde in eine wässrige 1 N Silbernitratlösung 30 Sekunden eingetaucht und dann herausgenommen. Anschließend wurde der Vorläufer in eine wässrige Lösung, die 1 % Formaldehyd und 0,2 % Natriumhydroxid enthielt, 30 Sekunden eingetaucht. Der Vorläufer wurde herausgenommen und wiederum in eine wässrige 1 N Silbernitratlösung 30 Sekunden eingetaucht und dann herausgenommen. Anschließend wurde der Vorläufer wiederum in eine wässrige Lösung, die 1 % Formaldehyd und 0,2 % Natriumhydroxid enthält, 30 Sekunden eingetaucht.
  • Schwarzer Metallsilberstaub wurde auf die Oberfläche der Siliciumdioxid enthaltenen Bildaufzeichnungsschicht durch dieses Verfahren ausgefällt. Der Kontaktwinkel mit einem Wassertropfen der Oberfläche der so hergestellten Druckplatte zeigte eine verstärkte Benetzung, d.h. die Hydrophilizität der Oberfläche war bemerkenswert hoch.
  • Bildweise Belichtung
  • Wenn die Druckplatte einer Belichtung unter Verwendung von PEARL Setter 74 (hergestellt von Presstek Co., Ltd.) als ein Laserstrahlabtastbelichtungsgerät unterzogen wurde, schmolz die Oberfläche der belichteten Fläche, die in den Zustand umgewandelt wurde, mit einem Silberfilm zusammen. Der Kontaktwinkel mit einem Wassertropfen der Oberfläche des bestrahlten Bereichs dieser Druckplatte betrug 50° und die Oberfläche wurde in eine Oberfläche mit hoher Hydrophobizität umgewandelt.
  • Drucken
  • Drucken wurde unter Verwendung einer RYOBI-3200MCD Druckmaschine durchgeführt. Eine Wischlösung, eine wässrige Lösung aus 1 Vol.-% EU-3 (hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) wurde verwendet, und die Tinte wat GEOS (N) schwarz. Nachdem 10 Blättern vom Beginn an bedruckt wurden, wurde ein herausragender Druck erhalten, die Adhäsion der Tinte an dem Bildpunktteil und dem einfarbigen Teil war gleichförmig und es wurde kein Verschmieren an dem Nicht-Bildfläche beobachtet. Fünfzigtausend (50000) Blätter wurden ferner bedruckt und Druck mit hoher Qualität ohne Verschmieren wurden erhalten.
  • BEISPIEL II-7
  • Ein lithographischer Druckplattenvorläufer wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel II-6 hergestellt, bis darauf, dass der Druckplattenvorläufer in eine wässrige Lösung aus Silbernitrat (1 mol), die 24 mol Ammoniumhydroxid und 1 mol Glucose enthielt, bei 45°C für 2 Minuten eingetaucht und dann gewaschen und getrocknet anstelle des Eintauchens des Plattenvorläufers in eine wässrige 1 N Silbernitratlösung und eine wässrige Lösung, 1 % Formaldehyd und 0,2 % Natriumhydroxid enthielt, auf alternierende Weise. Der Plattenvorläufer wurde einer bildweisen Belichtung zur Herstellung einer Druckplatte unterzogen, und Drucken wurde durchgeführt. Die gleichen Ergebnisse wie in Beispiel II-6 wurden erhalten.
  • BEISPIEL II-8
  • Ein lithographischer Druckplattenvorläufer wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel II-6 hergestellt, bis darauf, dass der Druckplattenvorläufer in eine wässrige Kupferammoniakkomplexsalzlösung (1 mol) mit der nachstehend gezeigten Zusammensetzung und eine wässrige Lösung aus Reduktionsmittel (a) bei 35°C alternierend jeweils für 30 Sekunden eingetaucht wurde und dann gewaschen wurde und anstelle des Eintauchens des Plattenvorläufers in eine wässrige 1 N Silbernitratlösung und eine wässrige Lösung, die 1 % Formaldehyd und 0,2 % Natriumhydroxid enthielt, auf alternierende Weise. Der Plattenvorläufer wurde einer bildweisen Belichtung zur Herstellung einer Druckplatte unterzogen, und Drucken wurde durchgeführt. Die gleichen Ergebnisse wie in Beispiel II-6 wurden erhalten.
  • Wässrige Kupferammoniakkomplexsalzlösung
  • Kupfersulfat (0,1 mol) wurde in 800 ml Wasser aufgelöst, 1 mol Ammoniumsulfat wurde hinzugegeben, der pH-Wert wurde auf 11 mit 28 %igem wässrigen Ammoniak eingestellt und Wasser wurde zur Herstellung des Volumens von 1 Liter hinzugegeben.
  • Wässrige Lösung des Reduktionsmittels (a)
  • Kartoffelstärke (50 g) und 60 g Kaliumhydroxid wurde in 800 ml Wasser aufgelöst, und Wasser wurde zur Herstellung des Volumens von 1 Liter hinzugegeben, so wurde die wässrige Lösung des Reduktionsmittels (a) erhalten.
  • BEISPIEL II-9
  • Ein lithographischer Druckplattenvorläufer wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel II-6 hergestellt, bis darauf, dass anstelle der Verwendung von Siliciumdioxidteilchen als kaum wasserlösliche Metallverbindungsteilchen die gleiche Menge von Zinnoxidteilchen (eine 8 %ige wässrige Dispersionslösung, Seramase S-8, hergestellt von Taki Chemical Co., Ltd.) verwendet wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde einer bildweisen Belichtung zur Herstellung einer Druckplatte unterzogen, und Drucken wurde durchgeführt. Die gleichen Ergebnisse wie in Beispiel II-6 wurden erhalten
  • BEISPIEL II-10
  • Ein Papierträger für schwarzes und weißes photographisches Papier mit einer Barytaunterbeschichtungsschicht wurde in eine wässrige Lösung aus Silbernitrat (1 mol/Liter), die Ammoniumhydroxid (24 mol/Liter) und Glucose (1 mol/Liter) enthielt bei 45°C 5 Minuten eingetaucht, gewaschen und getrocknet, wodurch ein schwarzer Plattenvorläufer hergestellt wurde. Ein Silberfeinstück wurde auf den Oberflächen der Barytateilchen ausgefällt. Der Plattenvorläufer wurde einer bildweisen Belichtung auf die gleiche Weise wie in Beispiel II-6 zur Herstellung einer Druckplatte unterzogen und Drucken wurde durchgeführt. Ein Druck von 1000 Blatt mit hoher Qualität mit wenig Druckverschmieren wurde erhalten.
  • BEISPIEL II-11
  • Die Wassersystembeschichtungslösung mit der nachstehend gezeigten Zusammensetzung wurde 10 Minuten mit einer Farbschüttelvorrichtung dispergiert, dann wurde 0,16 g 0,2 %ige wässrige Glyoxallösung hinzugegeben und so eine schwarze Beschichtungslösung erhalten, die Siliciumdioxidteilchen mit einem metallischen Silberfeinstück, das auf den Oberflächen ausgefällt wurde, enthielt. Die erhaltene Beschichtungslösung wurde auf den gleichen Aluminiumträger, wie in Beispiel II-1 verwendet, mit einer Stabbeschichtungsvorrichtung beschichtet, die Platte wurde in einem Ofen bei 145°C 5 Minuten getrocknet. Das Trockenfilmgewicht der hydrophilen Schicht betrugt 4,0 g/m2.
    Siliciumdioxidteilchen, (Silysia 310 durchschnittliche Teilchengröße: 1,4 μm, hergestellt von Fuji Silysia Chemical Co., Ltd.) 1,5 g
    10 %ige wässrige Lösung von Polyacrylsäure 3,5 g
    10 %ige wässrige Lösung von Tetraethylenglycoldiglycidylether 0,7 g
    Wässrige Lösung von 0,1 N Silbernitrat 0,1 g
    Wasser 7,1 g
  • Der Kontaktwinkel mit einem Wassertropfen der Oberfläche des so hergestellten Druckplattenvorläufers zeigte eine verstärkte Benetzung, d.h. die Hydrophilizität der Oberfläche war bemerkenswert hoch. Dieser Plattenvorläufer wurde einer bildweisen Belichtung zur Herstellung einer Druckplatte unterzogen und Drucken wurde durchgeführt. Die gleichen Ergebnisse wie in Beispiel II-6 wurden erhalten.
  • BEISPIEL II-12
  • Ein lithographischer Druckplattenvorläufer wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel II-11 hergestellt, bis darauf, dass Titandioxidsol STS-01 (hergestellt von Ishihara Sangyo Kaisha Ltd.) anstelle der Siliciumdioxidteilchen verwendet wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde einer bildweisen Belichtung zur Herstellung einer Druckplatte unterzogen, und Drucken wurde durchgeführt. Die gleichen Ergebnisse wie in Beispiel II-11 wurden erhalten
  • Das Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen lithographischen Druckplatte im Wärmemodus vom negativen Typ aus einem Druckplattenvorläufer mit einer hydrophilen Oberfläche, die einen durch Licht/Wärme umwandelbaren Metallstaub durch bildweise Belichtung trägt, wodurch die belichtete Fläche, von der eine hydrophobe und eine schnelle Tinten aufnahmefähigen Oberfläche hergestellt wird, und ein Verfahren zum Drucken unter Verwendung dieser Druckplatte zeigen eine herausragende Druckleistung, wie etwa eine hohe Unterscheidungsfunktion der Bildfläche und der Nicht-Bildfläche, und eine herausragende Drucklebensdauer, die kaum Druckverschmieren erzeugt. Zudem kann die vorliegende Erfindung einen lithographischen Druckplattenvorläufer bereitstellen, wodurch eine Druckplatte direkt aus digitalen Daten durch Hindurchführen von Aufzeichnen mit einem Feststoffzustandslaser oder einem Halbleiterlaser, der IR-Strahlen emittiert, durchgeführt werden kann.

Claims (5)

  1. Lithografie-Druckplattenvorläufer, der einen hydrophoben Bereich umfasst, der durch bildweises Bestrahlen des Druckplattenvorläufers, der Partikel mit hydrophilen, Metallstaub-tragenden Oberflächen enthält, mittels Wärmemodus-Belichtung und thermisches Verschmelzen des Metallstaubs auf dem bestrahlten Bereich bildweise erzeugt wurde.
  2. Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Anspruch 1, wobei die genannten Partikel mit hydrophilen, Metallstaubtragenden Oberflächen Partikel sind, die aus einer metallischen Verbindung mit fotokatalytischen Eigenschaften hergestellt worden sind.
  3. Lithografie-Druckplattenvorläufer gemäss Anspruch 1, wobei die genannten Partikel mit hydrophilen, Metallstaubtragenden Oberflächen Partikel einer in Wasser wenig löslichen metallischen Verbindung sind.
  4. Verfahren zur Herstellung eines Lithografie-Druckplattenvorläufers, das die Durchführung einer bildweisen Bestrahlung des Druckplattenvorläufers, der an der Oberfläche hydrophile, Metallstaub-tragende Oberflächen enthält, mittels Wärmemodus-Belichtung und thermisches Verschmelzen des Metallstaubs auf dem bestrahlten Bereich, so dass ein bildweiser, tintenaufnehmender hydrophober Bereich gebildet wird, umfasst.
  5. Lithografie-Druckverfahren, umfassend die bildweise Bestrahlung eines Druckplattenvorläufers, der an der Oberfläche hydrophile, Metallstaub-tragende Partikel enthält, mittels Wärmemodus-Belichtung und thermisches Verschmelzen des Metallstaubs auf dem bestrahlten Bereich, um einen hydrophoben Bereich einer bildweisen dünnen Metallschicht zu bilden, wodurch der genannte bildweise hydrophobe Bereich eine tintenaufnehmende Druckoberfläche bildet, und Durchführen eines Druckvorgangs.
DE60033468T 1999-06-04 2000-06-02 Vorläufer für eine lithographische Druckplatte sowie Verfahren zu seiner Herstellung Expired - Lifetime DE60033468T2 (de)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15869799 1999-06-04
JP15869799 1999-06-04
JP23162799A JP2001054986A (ja) 1999-08-18 1999-08-18 平版印刷用ネガ型無処理刷版、その作製方法及び平版印刷方法
JP23162799 1999-08-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE60033468D1 DE60033468D1 (de) 2007-04-05
DE60033468T2 true DE60033468T2 (de) 2007-10-31

Family

ID=26485728

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE60033468T Expired - Lifetime DE60033468T2 (de) 1999-06-04 2000-06-02 Vorläufer für eine lithographische Druckplatte sowie Verfahren zu seiner Herstellung

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6653042B1 (de)
EP (2) EP1057622B1 (de)
AT (2) ATE354470T1 (de)
DE (1) DE60033468T2 (de)

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6740464B2 (en) 2000-01-14 2004-05-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
US6686125B2 (en) * 2000-01-14 2004-02-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor
ATE307846T1 (de) 2000-12-28 2005-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd Verfahren zur herstellung feiner polymerpartikel und diese enthaltende lithographische druckplatte
US7261998B2 (en) * 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
US20030143407A1 (en) 2001-06-11 2003-07-31 Sumiaki Yamasaki Planographic printing plate precursor, substrate for the same and surface hydrophilic material
JP2003118258A (ja) * 2001-10-16 2003-04-23 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷用原板
US6936399B2 (en) 2001-10-22 2005-08-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Hydrophilic member, hydrophilic graft polymer, and support of planographic printing plate
US6977132B2 (en) 2001-12-07 2005-12-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
JP3672193B2 (ja) * 2002-01-18 2005-07-13 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版原板
JP3901595B2 (ja) * 2002-02-25 2007-04-04 富士フイルム株式会社 平版印刷用原版
US7659046B2 (en) * 2002-04-10 2010-02-09 Eastman Kodak Company Water-developable infrared-sensitive printing plate
US7172850B2 (en) 2002-04-10 2007-02-06 Eastman Kodak Company Preparation of solvent-resistant binder for an imageable element
US6946231B2 (en) * 2002-08-19 2005-09-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Presensitized lithographic plate comprising microcapsules
DE60315772T2 (de) 2002-09-05 2008-06-05 Fujifilm Corp. Flachdruckplattenvorläufer
JP2004122363A (ja) 2002-09-30 2004-04-22 Konica Minolta Holdings Inc 印刷版材料及び画像形成方法
CA2507559A1 (en) * 2002-12-11 2004-06-24 Creo Il. Ltd. Lithographic printing precursor and method of making a printing plate by ink jet imaging
US7097956B2 (en) * 2003-01-27 2006-08-29 Eastman Kodak Company Imageable element containing silicate-coated polymer particle
US7001704B2 (en) 2003-01-29 2006-02-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Presensitized lithographic plate comprising microcapsules
US6924085B2 (en) * 2003-03-18 2005-08-02 Printing Developments, Inc. Photoresist coatings for copper clad stainless steel printing plates
US7323288B2 (en) 2003-04-14 2008-01-29 Kodak Graphic Communications Canada Company Layers in printing plates, printing plates and method of use of printing plates
EP1470914A3 (de) * 2003-04-21 2005-07-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Bildaufzeichnungsverfahren und Bildbelichtungsvorrichtung
JP2007528285A (ja) * 2003-05-11 2007-10-11 ベン グリオン ユニバーシティ オブ ザ ネゲブ リサーチ アンド ディベロップメント オーソリティ 封入された精油
US6884563B2 (en) * 2003-05-20 2005-04-26 Eastman Kodak Company Thermal imaging material containing combustible nitro-resin particles
ITMI20031125A1 (it) * 2003-06-04 2004-12-05 Digital Mind S R L Matrice per stampa litografica e procedimento di realizzazione
US20040253533A1 (en) * 2003-06-12 2004-12-16 Leon Jeffrey W. Thermally sensitive composition containing nitrocellulose particles
US7018775B2 (en) * 2003-12-15 2006-03-28 Eastman Kodak Company Infrared absorbing N-alkylsulfate cyanine compounds
JP2006003783A (ja) * 2004-06-21 2006-01-05 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 印刷版材料及び印刷版材料の画像形成方法
JP4431085B2 (ja) * 2004-06-24 2010-03-10 シャープ株式会社 導電性インキ組成物、反射部材、回路基板、電子装置
JP4418725B2 (ja) * 2004-09-24 2010-02-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
FR2880349B1 (fr) * 2004-12-31 2009-03-06 Michelin Soc Tech Nanoparticules de polyvinylaromatique fonctionnalise
JP2007015212A (ja) * 2005-07-07 2007-01-25 Fujifilm Holdings Corp 平版印刷用親水性基板
JP2007101693A (ja) * 2005-09-30 2007-04-19 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
GB0600193D0 (en) * 2006-01-06 2006-02-15 Inovink Ltd Improvements in and relating to security printing
US8113116B2 (en) * 2006-03-14 2012-02-14 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor
FR2903411B1 (fr) * 2006-07-06 2012-11-02 Soc Tech Michelin Nanoparticules de polymere vinylique fonctionnalise
JP2008230024A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法
JP2008238573A (ja) * 2007-03-27 2008-10-09 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および印刷方法
US8283101B2 (en) 2007-08-30 2012-10-09 Eastman Kodak Company Imageable elements with improved abrasion resistance
US8043787B2 (en) 2008-03-14 2011-10-25 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements with improved abrasion resistance
JP5405141B2 (ja) * 2008-08-22 2014-02-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
CN105818515B (zh) * 2015-01-05 2019-03-01 中国科学院化学研究所 一种喷墨打印制版方法

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1424008A (fr) * 1963-12-05 1966-01-07 Gevaert Photo Prod Nv Procédé d'enregistrement d'informations au moyen d'un matériel sensible à la chaleur et à la pression
JPS621587A (ja) 1985-06-27 1987-01-07 Mitsubishi Paper Mills Ltd 直描型オフセツト印刷用原版
JPH0723030B2 (ja) 1986-01-16 1995-03-15 株式会社巴川製紙所 平版印刷原版およびその製版方法
JPS62164596A (ja) 1986-01-16 1987-07-21 Tomoegawa Paper Co Ltd 感熱性平版印刷原版およびその製版方法
US4973572A (en) * 1987-12-21 1990-11-27 Eastman Kodak Company Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
JPH03108588A (ja) 1989-09-22 1991-05-08 Toppan Printing Co Ltd 平版印刷用版材及び平版印刷版の製造方法
JPH058575A (ja) 1991-07-03 1993-01-19 Nippon Shokubai Co Ltd 平版印刷用原版
DE69402537D1 (de) * 1993-02-09 1997-05-15 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung eines Druckstroms für Flachdruck
JP3064807B2 (ja) 1993-04-20 2000-07-12 旭化成工業株式会社 平版印刷原版およびその製版方法
CN1077048C (zh) * 1993-04-20 2002-01-02 旭化成株式会社 平版印刷原版及用其制版的方法
EP0770494B1 (de) 1995-10-24 2000-05-24 Agfa-Gevaert N.V. Verfahren zur Herstellung einer lithographische Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindenden Entwicklung
US6110644A (en) * 1995-10-24 2000-08-29 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making a lithographic printing plate involving on press development
US5816162A (en) * 1995-11-16 1998-10-06 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making a lithographic printing plate by image-wise heating an imaging element using a thermal head
US5981144A (en) * 1996-04-09 1999-11-09 Agfa-Gevaert, N.V. Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US6197478B1 (en) * 1996-09-25 2001-03-06 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making a driographic printing plate involving the use of a heat-sensitive imaging element
US5858606A (en) * 1996-11-29 1999-01-12 Agfa-Gevaert, N.V. Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
DE69612501T2 (de) * 1996-12-04 2001-10-25 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung eines durch Wärme erzeugten verbesserten Bildes
EP0849091B1 (de) 1996-12-19 2001-03-21 Agfa-Gevaert N.V. Wärme-empfindliches Aufzeichnungselement zur Herstellung lithographischer Druckplatten, Polymerteilchen mit spezifischer Teilchengrössenverteilung enthaltend
US6427595B1 (en) * 1996-12-19 2002-08-06 Agfa-Gevaert Heat-sensitive imaging element for making lithographic printing plates comprising polymer particles with a specific particle size
EP0949088B1 (de) 1996-12-26 2005-10-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Platte für thermische direktlithographie und herstellungsverfahren dafür
WO1998040212A1 (en) 1997-03-13 1998-09-17 Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. Lithographic printing plates with a sol-gel layer
US5948591A (en) * 1997-05-27 1999-09-07 Agfa-Gevaert, N.V. Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US6106996A (en) * 1997-05-27 2000-08-22 Agfa-Gevaert, N.V. Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US6022667A (en) * 1997-05-27 2000-02-08 Agfa-Gevaert, N.V. Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US5998095A (en) * 1997-08-12 1999-12-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative-working photosensitive material
US5919600A (en) * 1997-09-03 1999-07-06 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal waterless lithographic printing plate
US6004728A (en) * 1997-10-08 1999-12-21 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
US6207348B1 (en) * 1997-10-14 2001-03-27 Kodak Polychrome Graphics Llc Dimensionally stable lithographic printing plates with a sol-gel layer
EP0925916B1 (de) 1997-12-09 2002-04-10 Agfa-Gevaert Rückstandsfreies Aufzeichnungselement ohne Materialabtrag für die Herstellung von Flachdruckplatten mit unterschiedlicher Farbdichte zwischen Bild und Nicht-Bild
US6232034B1 (en) * 1997-12-26 2001-05-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and method for the preparation of lithographic printing plate employing the same
US6014390A (en) 1998-01-30 2000-01-11 Lucent Technologies Inc. Tunable transmitter with Mach-Zehnder modulator
US6153353A (en) * 1998-03-14 2000-11-28 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
US6230621B1 (en) * 1998-07-31 2001-05-15 Agfa-Gevaert Processless thermal printing plate with well defined nanostructure
DE19834745A1 (de) * 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6258512B1 (en) * 1998-09-25 2001-07-10 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for preparation of lithographic printing plate and lithographic printing plate prepared thereby
US6300032B1 (en) * 1999-02-01 2001-10-09 Agfa-Gevaert Heat-sensitive material with improved sensitivity
JP3743604B2 (ja) * 1999-03-24 2006-02-08 富士写真フイルム株式会社 平版印刷用原板
US6686125B2 (en) * 2000-01-14 2004-02-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor

Also Published As

Publication number Publication date
EP1475232B1 (de) 2011-08-17
ATE520528T1 (de) 2011-09-15
EP1057622A3 (de) 2002-03-20
DE60033468D1 (de) 2007-04-05
EP1057622B1 (de) 2007-02-21
ATE354470T1 (de) 2007-03-15
EP1475232A1 (de) 2004-11-10
EP1057622A2 (de) 2000-12-06
US6653042B1 (en) 2003-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60033468T2 (de) Vorläufer für eine lithographische Druckplatte sowie Verfahren zu seiner Herstellung
DE60013938T2 (de) Flachdruckplattenvorstufe
DE60005114T2 (de) Flachdruckplattenvorstufe
DE60014526T2 (de) Wärmeempfindlicher Vorläufer für eine Flachdruckplatte
DE60225883T2 (de) Lithographischer Druckplattenvorläufer
JP2000318331A (ja) 感熱性平版印刷版
DE60216694T2 (de) Flachdruckplattenvorläufer
DE60018499T2 (de) Methode zur Herstellung lithographischer Druckplatten
DE60214803T2 (de) Lithographische Druckplatte und lithographisches Verfahren
US20010006757A1 (en) Radiant ray-sensitive lithographic printing plate precursor
DE602004005904T2 (de) Vorsensibilisierte Flachdruckplatte mit Mikrokapseln
DE60301505T2 (de) Lithographischer Druckplattenvorläufer
US6534240B1 (en) Method of producing lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and method of forming images
JP4070390B2 (ja) 平版印刷用原板及び平版印刷方法
JP4105338B2 (ja) 平版印刷用原板及び平版印刷方法
JP3722343B2 (ja) 感熱記録型平版印刷版原版及び平版印刷版の製造方法
US20080286694A1 (en) Method to obtain a positive-working thermal lithographic printing master
JP2001080226A (ja) 感熱性平版印刷版用原板
JP2001054986A (ja) 平版印刷用ネガ型無処理刷版、その作製方法及び平版印刷方法
JP3893413B2 (ja) 感熱性平版印刷版
JP2001039045A (ja) 平版印刷用原板及び平版印刷方法
JP2000355178A (ja) 平版印刷用原板
JP2001092116A (ja) 平版用印刷版の作製方法及び平版用印刷版
JP2002283758A (ja) 平版印刷版用原版
JP2001058819A (ja) 金属微小片を担持した金属化合物粒子、その作製方法、及びその粒子を用いた平版印刷用原板

Legal Events

Date Code Title Description
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: FUJIFILM CORP., TOKIO/TOKYO, JP

8364 No opposition during term of opposition