DE60018499T2

DE60018499T2 - Methode zur Herstellung lithographischer Druckplatten

Info

Publication number: DE60018499T2
Application number: DE60018499T
Authority: DE
Inventors: Hisashi Yoshida-cho Hotta
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1999-04-15
Filing date: 2000-04-14
Publication date: 2006-04-13
Anticipated expiration: 2020-04-15
Also published as: EP1044809B1; JP2000296682A; US6482570B1; ATE290466T1; DE60018499D1; EP1044809A1

Description

Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft allgemein das Druckgebiet, speziell den Lithographiedruck und insbesondere einen neuen lithographischen Druckplattenvorläufer, der leicht eine Druckplatte bilden kann. Vor allem betrifft die vorliegende Erfindung einen lithographischen Druckplattenvorläufer, der ein Bild durch Rasterbelichtung auf Basis von Laserstrahlen aufzeichnen kann und auch als solcher in einen Drucker eingesetzt werden und ohne Entwicklung drucken kann.
Hintergrund der Erfindung
Eine lithographische Druckplatte umfaßt allgemein einen oleophilen (tintenaufnahmefähigen) Bildteil, der Tinte während des Druckens aufnimmt, und einen hydrophilen (wasseraufnahmefähigen) Nicht-Bildteil, der Wischwasser aufnimmt. Als ein solcher lithographischer Druckplattenvorläufer wird bislang eine PS-Platte weithin verwendet, die einen hydrophilen Träger mit einer darauf vorgesehenen oleophilen lichtempfindlichen Harzschicht umfaßt. Ein Plattenherstellungsverfahren für eine lithographische Druckplatte umfaßt allgemein das Durchführen der Belichtung durch das Bild eines Lith-Films und dgl. und dann das Auflösen und Entfernen des Nicht-Bildteils mit einer Entwicklungslösung, um dadurch eine Druckplatte zu erhalten.
Der herkömmliche Plattenherstellungsprozeß für eine PS-Platte erfordert den Vorgang der Auflösung und Entfernung eines Nicht-Bildteils nach Belichtung, und bezüglich der Verbesserung der herkömmlichen Techniken ist es erwünscht, die Verwendung eines solchen zusätzlichen Naßverfahrens zu beenden oder zu vereinfachen. Insbesondere gibt es seit einigen Jahren eine zunehmende Nachfrage nach einer Verbesserung dieses Aspekts, da die Entsorgung von Abfallösungen, die als Ergebnis des Naßprozesses verworfen werden, zu einer großen Sorge in der Industrie insgesamt hinsichtlich des globalen Umweltschutzes geworden ist.
Als ein einfaches Plattenherstellungsverfahren, das die obige Nachfrage erfüllt, wurde ein Verfahren vorgeschlagen, das eine Bildaufzeichnungsschicht verwendet, durch die die Entfernung des Nicht-Bildteils eines Druckplattenvorläufers in einem allgemeinen Druckprozeß durchgeführt werden kann, und in dem die Entwicklung nach der Belichtung auf einem Drucker bewirkt wird, um dadurch die fertige Druckplatte zu erhalten. Das System der Plattenherstellung für eine lithographische Druckplatte durch ein solches Verfahren wird als System mit Entwicklung auf der Maschine bezeichnet. Spezifisch können zum Beispiel ein Verfahren der Verwendung einer Bildaufzeichnungsschicht, die in Wischwasser und einem Tintenlösungsmittel löslich ist, und ein Verfahren der Durchführung der mechanischen Entfernung eines Nicht-Bildteils durch Kontakt mit dem Druckzylinder und dem Gummizylinder in einem Drucker exemplarisch angegeben werden. Jedoch ist es ein großes Problem des Systems mit Entwicklung auf der Maschine, daß komplizierte Maßnahmen ergriffen werden sollen, wie zum Beispiel daß ein Druckplattenvorläufer unter einem vollständig lichtabgeschirmten Zustand oder unter dem Zustand konstanter Temperatur nach der Belichtung während des Zeitraums bis zum Einsetzen der Druckplatte in einen Drucker gelagert werden muß, weil die Bildaufzeichnungsschicht noch nicht fixiert ist.
Andererseits herrschen als ein weiterer Trend auf diesem Gebiet digitalisierte Techniken der elektronischen Verarbeitung, Speicherung und Ausgabe von Bilddaten unter Verwendung eines Computers vor, und verschiedene Bildausgabesysteme, die diesen digitalisierten Techniken entsprechen, wurden in die Praxis umgesetzt. Als ein Beispiel für eine solche Technik zieht eine Computer-zu-Platte-Technik öffentliche Aufmerksamkeit auf sich, die eine Druckplatte direkt herstellt, die die Rasterbelichtung eines Druckplattenvorläufers mit hochkonvergenten Strahlen, wie zum Beispiel einem Laserstrahl, die digitalisierte Bilddaten tragen, ohne Verwendung eines Lith-Films umfaßt. Bei dieser Tendenz ist es eine wichtige technische Aufgabe geworden, einen gut an diesen Zweck angepaßten Druckplattenvorläufer zu erhalten.
Entsprechend sind die Vereinfachung der Plattenherstellung und die Realisierung eines trockenen Systems, das den Naßprozeß vermeidet, weiterhin sehr erwünscht hinsichtlich beider Aspekte des oben beschriebenen Umweltschutzes und der Anpassung zur Digitalisierung.
Als ein Beispiel, das die obige Nachfrage erfüllt, wird ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte in JP-A-9-169098 offenbart (der Begriff "JP-A" wie hier verwendet bezeichnet eine "ungeprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung"), das ein Verfahren ist, das in einem Druckplattenherstellungsverfahren vom Nicht-Entwicklungstyp von der Bestrahlung von Zirkoniumoxidkeramik mit aktivem Licht und Hydrophilisieren des bestrahlten Teils Gebrauch macht. Jedoch ist die Lichtempfindlichkeit von Zirkoniumoxid gering, und die Lichtumwandlungswirkung von Hydrophobie zu Hydrophilie ist unzureichend, so daß die Unterscheidungseigenschaft eines Bildteils von einem Nicht-Bildteil unzufriedenstellend ist.
Außerdem wurde festgestellt, daß die Oberfläche von Titanoxid bei Bestrahlung mit aktivem Licht hydrophil wird, und eine einfache Anwendung dieses Phänomens auf einen Druckplattenvorläufer wurde vorgeschlagen. Als Verfahren zur Bildung eines Titanoxidfilms sind allgemein bekannt: ein Dampfphasenverfahren, wie zum Beispiel ein Vakuumabscheidungsverfahren, ein chemisches Abscheidungsverfahren, ein Sputter-Verfahren und ein CVD-Verfahren (Gasphasenabscheidung nach chemischem Verfahren), ein Flüssigphasenverfahren, wie zum Beispiel ein Rotationsbeschichtungsverfahren und ein Tauchverfahren, ein thermisches Spritzverfahren und ein Festphasenverfahren unter Verwendung einer Festphasenrektion. Obwohl durch diese herkömmlich bekannten Verfahren erzeugte Titanoxidfilme eine Bilderzeugungseigenschaft zeigen, die jedem der oben beschriebenen Verfahren überlegen ist, ist eine weitere Verbesserung der Unterscheidungseigenschaft eines Bildteils und eines Nicht-Bildteils erwünscht.
Feststofflaser mit hoher Leistung, zum Beispiel ein Halbleiterlaser und ein YAG-Laser, sind seit einigen Jahren kostengünstig erhältlich. Als Ergebnis ist als ein weiteres Herstellungsverfahren für eine Druckplatte durch Rasterbelichtung, das leicht in eine digitalisierte Technik eingefügt werden kann, ein Plattenherstellungsverfahren unter Verwendung dieser Laser als Bildaufzeichnungsmittel vielversprechend. In herkömmlichen Plattenherstellungsverfahren wird die Bildaufzeichnung durch bildweise Belichtung eines lichtempfindlichen Vorläufers mit niedrigem bis mittlerem Grad durchgeführt, um eine Veränderung der physikalischen Eigenschaften des Bildes auf der Oberfläche des Vorläufers durch eine photochemische Reaktion zu verursachen. Andererseits wird im Verfahren der Verwendung der Belichtung mit hoher Leistungsdichte durch einen Hochleistungslaser eine große Lichtenergiemenge auf die Belichtungsregion in konvergenter Weise während einer vorübergehenden Belichtungszeit eingestrahlt, die Lichtenergie wird wirksam in Wärmeenergie umgewandelt, wodurch eine chemische Veränderung, eine Phasenveränderung oder eine physikalische Veränderung verursacht wird, wie zum Beispiel Veränderungen von Form und Struktur aufgrund der Wärme, und diese Veränderung wird in der Bildaufzeichnung verwendet. Das heißt Bilddaten werden durch Lichtenergie, wie zum Beispiel Laserlicht, eingegeben, aber die Bildaufzeichnung wird durch die Reaktion aufgrund der Wärmeenergie durchgeführt. Allgemein wird dieses Aufzeichnungssystem, das von der Wärmeerzeugung durch Belichtung mit hoher Leistungsdichte gebrauch macht, als Aufzeichnung vom Wärmemodus ("heat mode recording") bezeichnet, und die Umwandlung von Lichtenergie zu Wärmeenergie wird Licht/Wärme-Umwandlung genannt.
Ein großer Vorteil eines Plattenherstellungsverfahrens, das ein Aufzeichnungsmittel vom Wärmemodus verwendet, besteht darin, daß das Material nicht empfindlich für Licht allgemeiner Beleuchtungsstärke ist, wie zum Beispiel Raumbeleuchtung, und durch Belichtung mit hoher Beleuchtungsstärke aufgezeichnete Bilder keine Fixierung erfordern. Das heißt, wenn ein Material vom Wärmemodus in der Bildaufzeichnung verwendet wird, ist das Material gegenüber Raumlicht vor der Belichtung sicher, und eine Fixierung des Bildes nach der Belichtung ist nicht wesentlich. Entsprechend wird es zum Beispiel möglich, wenn eine Bildaufzeichnungsschicht, die durch Belichtung vom Wärmemodus unlöslich oder löslich gemacht wird, in einem Plattenherstellungsprozeß der bildweisen Entfernung einer belichteten Bildaufzeichnungsschicht verwendet wird, um eine Druckplatte durch das System mit Entwicklung auf der Maschine herzustellen, ein Drucksystem zu realisieren, in dem ein Bild selbst dann nicht beeinflußt wird, wenn die Entwicklung (die Entfernung eines Nicht-Bildteils) Umgebungslicht in einem Raum für einen gewissen Zeitraum nach der Bildbelichtung ausgesetzt wird.
Falls entsprechend die Aufzeichnung vom Wärmemodus verwendet wird, wird erwartet, daß es möglich sein wird, einen lithographischen Druckplattenvorläufer zu erhalten, der für das System mit Entwicklung auf der Maschine angepaßt ist.
Als ein bevorzugtes Plattenherstellungsverfahren für eine lithographische Druckplatte auf Basis der Aufzeichnung vom Wärmemodus wird ein Verfahren vorgeschlagen, das die bildweise Belichtung im Wärmemodus einer hydrophoben Bildaufzeichnungsschicht, die auf einem hydrophilen Substrat bereitgestellt ist, zur Umwandlung der Löslichkeit/Dispergierbarkeit der hydrophoben Schicht und das Entfernen eines Nicht-Bildteils durch Naßentwicklung, gemäß Notwendigkeit, umfaßt.
Als Beispiele für solche Plattenvorläufer offenbart JP-B-46-27919 (der Begriff "JP-B" wie hier verwendet bezeichnet eine "geprüfte japanische Patentveröffentlichung") ein Verfahren zum Erhalt einer Druckplatte durch Beschreiben im Wärmemodus eines Plattenvorläufers, der einen hydrophilen Träger mit einer drauf vorgesehenen Aufzeichnungsschicht umfaßt, die eine sogenannte positive Funktion zeigt, d.h. eine solche Funktion, daß die Löslichkeit durch Wärme verbessert wird, spezifisch eine Aufzeichnungsschicht mit spezifischen Zusammensetzungen, wie zum Beispiel Sacchariden und Melamin-Formaldehyd-Harzen.
Jedoch hat keine dieser Aufzeichnungsschichten eine ausreichende Wärmeempfindlichkeit, und daher ist die Empfindlichkeit für die Rasterbelichtung im Wärmemodus äußerst unzufriedenstellend. Außerdem ist es ein Problem in der praktischen Anwendung, daß die Unterscheidung von Hydrophobie/Hydrophilie, d.h. die Veränderung der Löslichkeit, vor und nach der Belichtung gering ist. Falls die Unterscheidung schlecht ist, ist die Plattenherstellung durch das System mit Entwicklung auf der Maschine in der Praxis schwierig.
Verfahren zum/zur Plattenherstellung/Druck durch Bildaufzeichnen im Wärmemodus, die das Bereitstellen einer Oberflächenschicht aus einem lipophilen Metall oder eine organischen Schwefel-Verbindung auf einer hydrophilen Unterschicht und das bildweise Bestrahlen der oleophilen Schicht mit einem Laserstrahl umfassen, werden in JP-A-52-37104, JP-A-3-197192 und JP-A-7-1848 offenbart. Diese Techniken haben die Vorteile der/des oben beschriebenen Plattenherstellung/Drucks im Wärmemodus, aber die Empfindlichkeit im Wärmemodus für Bestrahlung mit einem Laserstrahl ist noch nicht ausreichend, und eine weitere Verbesserung der Unterscheidungseigenschaft eines Bildteils und eines Nicht-Bildteils ist erwünscht.
Außerdem sind einige der herkömmlich verwendeten Druckplattenvorläufer vom positiven Wärmemodustyp von einem großen Nachteil begleitet, wie zum Beispiel Restfilmen. Das heißt in einem Druckplattenvorläufer vom positiven Wärmemodustyp beruht die Wärmeerzeugung durch Belichtung im Wärmemodus auf der Lichtabsorption der lichtabsorbierenden Substanz in einer Aufzeichnungsschicht, und daher ist die erzeugte Wärmemenge wahrscheinlich groß auf der Oberfläche der Aufzeichnungsschicht und klein in der Nähe des Trägers. Deshalb ist die Veränderung der Löslichkeit der Aufzeichnungsschicht durch Belichtung in der Nähe des Trägers klein, und der Grad der Hydrophilisierung nimmt ab. Als Ergebnis wird der hydrophobe Film häufig nicht vollständig entfernt und verbleibt als solcher auf einem belichteten Teil, wodurch im wesentlichen eine hydrophile Oberfläche bereitgestellt wird. Als solcher verursacht ein zurückbleibender Film das Tonen auf Drucken, und eine Verbesserung dieses Aspekts ist notwendig.
Jedes der oben beschriebenen Plattenherstellungs/Druckverfahren, das die Bildaufzeichnung durch Bestrahlung mit aktivem Licht und durch Bildaufzeichnung vom Wärmemodus verwendet, kann direkt eine Druckplatte aus der Blockkopie ohne Verwendung eines Films erzeugen. Während diese Verfahren Vorteile darin besitzen, daß eine Druckplatte auf der Maschine hergestellt und ein Entwicklungsprozeß ausgelassen werden kann, besitzen sie entsprechend auch Nachteile darin, daß die Empfindlichkeit wie oben beschrieben unzureichend ist und sich die Empfindlichkeit zwischen der Oberfläche und dem Boden einer Bildaufzeichnungsschicht unterscheidet. Diese Mängel sind grundsätzlich der Unzulänglichkeit der Unterscheidungseigenschaft eines Bildteils und eines Nicht-Bildteils zuzuschreiben. Diese Mängel sind auch direkt mit der Qualität der Drucke und der Drucklebensdauer verbunden. Entsprechend ist ein fundamentales Mittel zur Verbesserung der Qualität von Drucken und Drucklebensdauer nur die Verbesserung der Unterscheidungseigenschaft eines Bildteils und eines Nicht-Bildteils bei beiden Plattenherstellungs/Druckverfahren, die die Bildaufzeichnung durch Bestrahlung mit aktivem Licht und die Bildaufzeichnung durch Lichtbestrahlung im Wärmemodus verwenden.
GB-A-2 325 886 offenbart einen lithographischen Druckplattenvorläufer, der ein gekörntes und eloxiertes Aluminiumsubstrat umfaßt, das mit einer Lösung aus einem wasserlöslichen Salz eines Metallfluorids der Gruppe IVa behandelt wurde, und über dem eine metallische Schicht vorgesehen ist.
WO 98/50231 offenbart ein Verfahren zur Bilderzeugung mit einem lithographischen Druckelement, worin das Druckelement eine erste, zweite und dritte Schicht einschließt, und worin die erste Schicht von der zweiten Schicht nach dem Bilderzeugungsschritt entfernt wird, um ein lithographisches Bild zu erzeugen.
EP-A-0 934 824 stellt Stand der Technik gemäß Artikel 54(3) EPÜ dar und offenbart ein Verfahren zur Herstellung von lithographischen Druckplatten auf der Presse. Im Herstellungsverfahren wird eine oleophobe Schicht auf einem lithographischen Grundmaterial angebracht.
Zusammenfassung der Erfindung
Entsprechend ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen lithographischen Druckplattenvorläufer bereitzustellen, der eine Druckplatte mit ausgezeichneter Bildqualität und einer ausreichenden Unterscheidungseigenschaft für einen Bildteil und einen Nicht-Bildteil durch ein einfaches Plattenherstellungsverfahren erzeugen kann, das frei von einer alkalischen Entwicklungslösung ist.
Eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die oben beschriebenen Probleme im Plattenherstellungsverfahren unter Verwendung von Belichtung mit einem Laserstrahl zu lösen, das heißt einen lithographischen Druckplattenvorläufer bereitzustellen, der direkt in einen Drucker zur Herstellung einer Druckplatte nach Rasterbelichtung für kurze Zeit ohne Entwicklungsprozeß und mit ausgezeichneter Drucklebensdauer eingesetzt werden kann und weniger Tonen auf den Drucken verursacht.
Die Autoren der vorliegenden Erfindung haben nach Materialien gesucht, die ausreichende Unterscheidungseigenschaft für einen Bildteil und einen Nicht-Bildteil zeigen und wesentliche Eigenschaften als Druckplatte besitzen, zum Beispiel Adhäsion von Tinte und Drucklebensdauer, zum Erreichen der obigen Aufgaben. Im Verlauf nahmen die Autoren der vorliegenden Erfindung an, daß ein Mittel notwendig war, um auffallend die Veränderung der physikalischen Eigenschaften einer Metallverbindung aufgrund von Wärme zu zeigen, und betrachteten die Oberflächeneigenschaften der Metallverbindungen der Elemente, die zur Gruppe 4 bis Gruppe 6 des Periodensystems gehören. Als Ergebnis verschiedener Untersuchungen wurde die vorliegende Erfindung vollendet.
Die vorliegende Erfindung wurde durch die folgenden Mittel erreicht.

(1) Ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte, das das bildweise Bestrahlen eines lithographischen Druckplattenvorläufers mit einem Laserstrahl umfaßt, um den bestrahlten Teil hydrophil zu machen, worin der lithographische Druckplattenvorläufer eine Metallverbindung, die aus wenigstens einem Metallelement ausgewählt ist, das zur Gruppe 4 bis Gruppe 6 des Periodensystems gehört, und eine auf der Oberfläche davon vorgesehene oleophile Schicht umfaßt, und worin die Oberfläche der Metallverbindung der lithographischen Druckplatte eloxiert ist.
(2) Die Wirkung der vorliegenden Erfindung wird weiter auffallend, wenn die auf der Oberfläche der Metallverbindung der lithographischen Druckplatte vorgesehene oleophile Schicht ein Metall ist.
(3) Es ist bevorzugt, daß das Metall, daß die oleophile Schicht darstellt, einen Schmelzpunkt von 500°C oder weniger hat.

Die vorliegende Erfindung beruht auf dem Aufbau mit einer oleophilen Schicht, deren Filmschicht durch Zerstäubung oder durch Ablation durch Bestrahlung der Oberfläche der Metallverbindung des Elements, das zur Gruppe 4 bis Gruppe 6 des Periodensystems gehört, mit einem Laserstrahl entfernt werden. Eine Technik der Bereitstellung einer oleophilen Schicht auf einem Metallträger und des bildweisen Einsatzes des Laserstrahls auf der oleophilen Schicht und des Aufzeichnens eines Bildes, um dadurch eine Druckplatte herzustellen, ist bekannt, aber die Empfindlichkeit von Aufzeichnungsschichten für einen Laserstrahl ist, wie oben beschrieben, nicht notwendigerweise ausreichend für die Anforderungen des Marktes. Jedoch wurde festgestellt, daß im Falle der Metallverbindungen der Elemente, die zur Gruppe 4 bis Gruppe 6 des Periodensystems gehören, die Empfindlichkeit im Wärmemodus für Bestrahlung mit einem Laserstrahl auf der Oberfläche hoch ist, die thermische Diffusion geringer ist, ein hochpräzises Bild aufgezeichnet werden kann und außerdem die Drucklebensdauer ausgezeichnet ist. Insbesondere ist der Effekt deutlich, wenn die Oberflächen der Metallverbindungen der Elemente, die zur Gruppe 4 bis Gruppe 6 gehören, eloxiert wurden.
Wenn die Oberfläche der oben beschriebenen oleophilen Schicht, die im wesentlichen eine Drucktinten aufnehmende oleophile Oberfläche ist, bildweise mit aktivem Licht bestrahlt wird, verursacht der mit dem aktiven Licht bestrahlte Teil durch Verwendung dieser Eigenschaften eine Ablation durch Wärme, wodurch die hydrophile Oberfläche der unteren Filmschicht der Metallverbindung freigelegt wird und die Region bildet, um Wischwasser aufzunehmen, und die oleophile Oberfläche, die nicht bestrahlt wurde, eine tintenaufnehmende Region bildet, wodurch eine Druckebene aufgebaut werden kann. Als Ergebnis kann eine Druckplatte erhalten werden, die als solche ohne Durchführung eines Entwicklungsprozesses in einen Drucker eingesetzt werden kann.
Das heißt ein Bild kann auf dem so erhaltenen lithographischen Druckplattenvorläufer mit ausreichender Empfindlichkeit durch Rasterbelichtung mit Laserstrahlen aufgezeichnet werden, und der Plattenvorläufer kann direkt in einen Drucker als solcher als Druckplatte eingesetzt werden und den Druck ohne einen Entwicklungsprozeß beginnen, und er ist auch ausgezeichnet in der Drucklebensdauer. Somit können die oben beschriebenen Nachteile der herkömmlichen Techniken durch die vorliegende Erfindung gelöst werden.
In der folgenden Beschreibung werden "die Metallverbindungen der Elemente, die zur Gruppe 4 bis Gruppe 6 des Periodensystems gehören" manchmal kollektiv als "erfindungsgemäße Übergangsmetallverbindungen" bezeichnet.
Ausführliche Beschreibung der Erfindung
Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend im Detail beschrieben.
Erfindungsgemäße Übergangsmetallverbindungsschicht
Der Begriff "die erfindungsgemäßen Metallverbindungen der Elemente, die zur Gruppe 4 bis Gruppe 6 des Periodensystems gehören" ist ein allgemeiner Begriff für die Verbindungen Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo und W. Ti, Zr, Nb, Ta und W sind darunter besonders bevorzugt. "Die Metallverbindung" ist ein allgemeiner Begriff für Oxide, Nitride, Silicide, Boride und Carbide dieser Verbindungen, und jede Verbindung, die die Kombination aus diesen Verbindungen und sauren Resten umfaßt, kann als Metallverbindung verwendet werden, und es kann nicht nur eine einzelne Verbindung, sondern auch eine Mischung verwendet werden.
Als bevorzugte metallische Oxide zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung können Titanoxid, Zirkoniumoxid, Hafniumoxid, Vanadiumoxid, Nioboxid, Tantaloxid, Molybdänoxid, Wolframoxid und Chromoxid exemplarisch angegeben werden.
Bevorzugte metallische Nitride schließen Titannitrid, Zirkoniumnitrid, Hafniumnitrid, Vanadiumnitrid, Niobnitrid, Tantalnitrid, Molybdännitrid, Wolframnitrid und Chromnitrid ein.
Bevorzugte metallische Silicide schließen Titansilicid, Zirkoniumsilicid, Hafniumsilicid, Vanadiumsilicid, Niobsilicid, Tantalsilicid, Molybdänsilicid, Wolframsilicid und Chromsilicid ein, und bevorzugte metallische Boride schließen Titanborid, Zirkoniumborid, Hafniumborid, Vanadiumborid, Niobborid, Tantalborid, Molybdänborid, Wolframborid und Chromborid ein.
Bevorzugte metallische Carbide schließen Titancarbid, Zirkoniumcarbid, Hafniumcarbid, Vanadiumcarbid, Niobcarbid, Tantalcarbid, Molybdäncarbid, Wolframcarbid und Chromcarbid ein.
Die Schichten aus diesen Metallverbindungen können durch ein anodisches Oxidationsverfahren, ein Abscheidungsverfahren, ein CVD-Verfahren, ein Sol-Gel-Verfahren, ein Sputter-Verfahren, ein Ion-Plating-Verfahren und ein Diffusionsverfahren gebildet werden. Jede der obigen Verbindungen ist kommerziell erhältlich, und das kommerziell erhältliche Produkt kann als Ausgangsmaterial zur Bildung einer Schicht auf einem Substrat gemäß jedem der obigen Schichtbildungsverfahren verwendet werden. Bei der elektrolytischen Oxidation kann die Plattenoberfläche aus der obigen Verbindung direkt elektrolytisch oxidiert werden. Obwohl es von der Art der Verbindung abhängt, können die Synthese der Verbindung und die Bildung einer Schicht gleichzeitig durch Einführen jedes einzelnen Materials, das die Verbindung darstellt, in das oben beschriebene Schichtbildungsmittel durchgeführt werden. Im Falle eines Nitrids wird die Schicht aus einem Nitrid in einer Stickstoffatmosphäre bei hoher Temperatur durch das obige Schichtbildungsmittel gebildet.
Für den Fall, daß die Verbindung ungeeignet für das obige Schichtbildungsmittel ist, wie zum Beispiel ein Siliciumcarbid, kann eine Schicht durch Auftragen oder Sintern der feinen Partikel der Verbindung gebildet werden.
Andere Verfahren zur Schichtbildung werden in den nachfolgenden Beispielen beschrieben.
Es ist bevorzugt, die Oberfläche aus einem Metall durch ein anodisches Oxidationsverfahren zu oxidieren, um dadurch eine Metalloxidschicht zu bilden.
Die Dicke der Übergangsmetallverbindungsschicht ist von 0,01 bis 10 μm, bevorzugt von 0,05 bis 10 μm und besonders bevorzugt 0,30 μm oder weniger, um eine Verzerrung aufgrund von Lichtinterferenz zu verhindern. Die Schichtdicke ist bevorzugt 0,01 μm oder mehr, um ausreichend die Funktion der Bestrahlung mit Licht zu ergeben.
Verfahren der anodischen Oxidation
Die anodische Oxidationsbehandlung der Oberflächen der erfindungsgemäßen Übergangsmetallplatten wird in den folgenden elektrolytischen wäßrigen Lösungen durchgeführt.

(1) Eine wäßrige Lösung, die eine oder mehrere anorganische Säuren enthält, die aus Schwefelsäure, Phosphorsäure, Salpetersäure und Borsäure ausgewählt sind.
(2) Eine wäßrige Lösung, die Wasserstoffperoxid zusätzlich zu den obigen anorganischen Säuren enthält.
(3) Eine gemischte Lösung, die anorganische Säuren aus Ziffer (1) oben und zusätzlich ein oder mehrere Alkalimetallsalze und Erdalkalimetallsalze davon enthält.
(4) Eine wäßrige Lösung, die ein oder mehrere Ammoniumsalze der anorganischen Säuren aus Ziffer (1) oben enthält, oder eine Lösung, die ein oder mehrere Ammoniumsalze der anorganischen Säuren aus Ziffer (1) oben und eine gemischte Lösung aus Ethylenglykol und Wasser als Lösungsmittel enthält.
(5) Eine wäßrige Lösung, die eine oder mehrere organischen Säuren enthält, die aus Oxalsäure, Weinsäure, Zitronensäure, Essigsäure, Milchsäure, Bernsteinsäure, Glutaminsäure, Sulfosalicylsäure und Naphthalindisulfonsäure ausgewählt sind.
(6) Eine wäßrige Lösung, die ein oder mehrere Alkalimetallsalze und Erdalkalimetallsalze der obigen organischen Säuren enthält.
(7) Eine wäßrige Lösung, die ein oder mehrere Ammoniumsalze der organischen Säuren aus Ziffer (5) oben enthält, oder eine Lösung, die ein oder mehrere Ammoniumsalze der organischen Säuren aus Ziffer (5) oben und eine gemischte Lösung aus Ethylenglykol und Wasser als Lösungsmittel enthält.
(8) Eine wäßrige Lösung, die einen oder mehrere Vertreter enthält, die aus den Hydroxiden von Na, K, Ca, Li und Mg, einem wasserlöslichen Kohlenstoffsalz und einer alkalischen wäßrigen Lösung wie Ammoniumhydroxid ausgewählt sind.
(9) Eine wäßrige Lösung, die wenigstens einen Vertreter aus Glycerophosphorsäure, den Alkalimetallsalzen und Erdalkalimetallsalzen davon enthält, und die bevorzugt ferner wenigstens einen Vertreter aus Essigsäure und den Alkalimetallsalzen und Erdalkalimetallsalzen davon enthält.
(10) Eine wäßrige Lösung, die die Lösungskomponenten der Ziffern (1) bis (9) oben in Kombination enthält.

Die Konzentration der obigen elektrolytischen wäßrigen Lösung wird beliebig gemäß der Art des Elektrolyten bestimmt, und die Behandlungsbedingungen für die anodische Oxidation werden verschieden gemäß der ausgewählten elektrolytischen wäßrigen Lösung ausgewählt, aber allgemein ist die Konzentration des Elektrolyten 0,001 bis 3 mol/l, bevorzugt 0,005 bis 1 mol/l, die Temperatur der Lösung ist 5 bis 70°C, bevorzugt 20 bis 50°C, die elektrische Stromdichte ist 1 bis 60 A/dm², bevorzugt 2 bis 10 A/dm², die Spannung ist 1 bis 500 V, bevorzugt 100 bis 400 V, und die Elektrolysezeit ist 10 Sekunden bis 10 Minuten, bevorzugt 1 bis 5 Minuten. Angemessene Bedingungen für die anodische Oxidation von repräsentativen elektrolytischen wäßrigen Lösungen werden in den nachfolgenden Beispielen beschrieben.
Die Dicke eines anodischen Oxidfilms ist ca. 0,001 bis ca. 10 μm, bevorzugt ca. 0,1 bis 5,0 μm und insbesondere bevorzugt 0,3 bis 1,0 μm.
In einigen Fällen ist die Dotierung einer bestimmten Art von Metall auf der eloxierten Oberfläche effektiv, zum Beispiel zur thermischen Diffusion. Metalle mit einer geringen Ionisierungstendenz sind für diesen Zweck geeignet, zum Beispiel werden bevorzugt Pt, Pd, Au, Ag, Cu, Ni, Fe und Co verwendet. Diese bevorzugten Metalle können in einer Mehrzahl dotiert werden.
Vorbehandlung der anodischen Oxidation
Die erfindungsgemäßen Übergangsmetallplatten, einschließlich derjenigen mit einem einzelnen Aufbau aus einer Metallplatte und diejenigen, die mit einem Träger verstärkt sind, können der Oberflächenaufrauhungsbehandlung vor der anodischen Oxidation unterworfen werden. Durch eine Oberflächenaufrauhungsbehandlung kann die Wasseraufnahmefähigkeit der Oberfläche, wenn sie hydrophilisiert ist, erhöht werden, wodurch die Unterscheidungseigenschaft für einen Bildteil und einen Nicht-Bildteil verbessert werden kann. Vor der Oberflächenaufrauhung einer Metallplatte wird je nach Notwendigkeit eine Entfettungsbehandlung zur Entfernung des Walzöls auf der Oberfläche der Platte durchgeführt, zum Beispiel mit einem Tensid, einem organischen Lösungsmittel oder einer alkalischen wäßrigen Lösung.
Die Oberflächenaufrauhungsbehandlung einer Metallplatte (einer dünnen Schicht) kann durch verschiedene Verfahren durchgeführt werden, zum Beispiel kann jedes aus einem mechanischen Aufrauhungsverfahren, einem elektrochemischen Aufrauhungsverfahren zur Auflösung der Oberfläche und einem chemischen Aufrauhungsverfahren zur selektiven Auflösung der Oberfläche oder eine Kombination aus diesen Verfahren verwendet werden. Als mechanisches Aufrauhungsverfahren können allgemein bekannte Verfahren verwendet werden, zum Beispiel ein Kugelreibverfahren, ein Bürstenabriebverfahren, ein Sandstrahlverfahren oder ein Schwabbelverfahren. Als elektrochemisches Aufrauhungsverfahren können allgemein bekannte elektrochemische Aufrauhungsverfahren für eine Aluminiummetalloberfläche für die Oberflächenaufrauhung der erfindungsgemäßen Übergangsmetalloberfläche eingesetzt werden, zum Beispiel Verfahren der Aufrauhung der Oberfläche in einer elektrolytischen Salzsäure- oder Salpetersäurelösung durch Wechselstrom oder Gleichstrom. Außerdem können beide Verfahren in Kombination verwendet werden, wie in JP-A-54-63902 offenbart. Die chemische Aufrauhung wird durch Ätzen der Oberfläche eines Metalls durch Eintauchen eines Metallblechs in eine gemischte wäßrige Lösung aus Alkalisalzen durchgeführt, die aus Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumsilicat und Natriumpyrophosphat ausgewählt sind.
Die so oberflächenaufgerauhte Metallplatte wird der anodischen Oxidationsbehandlung wie oben beschrieben unterworfen. Jedoch ist die Oberflächenaufrauhung einer Metallplatte nicht wesentlich in der vorliegenden Erfindung.
Lipophile Schicht
Die oleophile Schicht zur Verwendung im erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufer ist nicht besonders beschränkt, solange sie durch Zerstäuben, d.h. Ablation, durch Bestrahlung mit einem Laserstrahl entfernt werden kann und oleophil ist. Zum Beispiel können oleophile Metalle und oleophile Polymere verwendet werden. Die in der vorliegenden Erfindung bevorzugt verwendeten oleophilen Schichten werden nachfolgend beschrieben.
Wenn oleophile Schichten Metalldünnfilmschichten sind, sind die Metalle bevorzugt Übergangsmetalle, Indium, Zinn, Antimon, Thallium, Tellur, Blei, Bismut, Aluminium, Kalium, Germanium und Legierungen aus diesen Verbindungen. Als Übergangsmetalle können die Verbindungen von beliebigen Übergangsmetallen verwendet werden, wie zum Beispiel von Skandium bis Zink mit den Ordnungszahlen 21 bis 30, von Yttrium bis Cadmium mit den Ordnungszahlen 39 bis 48, von Hafnium bis Quecksilber mit den Ordnungszahlen 72 bis 80 und Seltenerdmetalle der Lanthanoid-Reihe mit den Ordnungszahlen 57 bis 71. Da Zink, Cadmium und Quecksilber allgemein viele Strukturen haben, die die Elektronenhülle aufweisen kann, gibt es ferner Fälle, in denen sie in den Übergangsmetallen eingeschlossen oder nicht eingeschlossen werden, aber die vorliegende Erfindung schließt diese Elemente in den Übergangsmetallen ein, da sie auch die Wirkung der vorliegenden Erfindung zeigen.
Titan, Zink, Eisen, Cobalt, Nickel, Kupfer, Zinn, Tellur, Indium, Vanadium und Bismut werden bevorzugt als oleophiles Metall verwendet.
Vor allem werden Zinn, Tellur, Bismut und Zink mit jeweils einem Schmelzpunkt von 500°C oder weniger besonders bevorzugt verwendet.
Die Dicke einer Metallschicht ist bevorzugt 100 A bis 1 um und besonders bevorzugt 500 bis 5000 A.
Als oleophile Schichten, die von einem Metall verschieden sind, können Schichten vorgesehen werden, die (1) ein oleophiles und thermoplastisches Harz und (2) eine Substanz enthalten, die Laserstrahlen zu Wärme umwandelt.
Beispiele für die oleophilen und thermoplastischen Harze schließen ein: Polyethylen, Polypropylen, Polyester, Polyamid, ein Acrylharz, ein Vinylchloridharz, ein Vinylidenchloridharz, ein Polyvinylbutyralharz, Nitrocellulose, Polyacrylat, Polymethacrylat, Polycarbonat, Polyurethan, Polystyrol, ein Vinylchloridharz/Vinylacetat-Copolymer, ein Vinylchlorid/Vinylacetat/Vinylalkohol-Copolymer, ein Vinylchlorid/Vinylharz/Maleinsäure-Copolymer, ein Vinylchlorid/Acrylat-Copolymer, Polyvinylidenchlorid und ein Vinylidenchlorid/Acrylnitril-Copolymer.
Als Substanzen, die Laserstrahlen zu Wärme umwandeln können, werden bevorzugt ein Kohlenstoffsimplex, wie Ruß und Graphit, und Farbstoffe, Pigmente und Metalle verwendet, die sichtbare Strahlung, Strahlung des nahen Infrarots und Infrarotstrahlen absorbieren. Jede davon kann verwendet werden, solange sie Eigenschaften der Absorption der verwendeten Laserstrahlen hat und sie zu Wärmeenergie ohne Emittieren von Phosphoreszenz umwandelt.
Beispiele für die Färbemittel für den Fall, daß ein Infrarot-Laser verwendet wird, werden nachfolgend beschrieben. Bevorzugte Färbemittel sind Farbstoffe und Pigmente, die die Eigenschaft der Absorption von Infrarotstrahlen und deren Umwandlung zu Wärmeenergie haben.
Beispiele für bevorzugte Farbstoffe und Pigmente schließen einen Cyanin-Farbstoff, einen Squarylium-Farbstoff, einen Methin-Farbstoff, einen Naphthochinon-Farbstoff, einen Chinonimin-Farbstoff, einen Chinondiimin-Farbstoff, einen Pyryliumsalz-Farbstoff, einen Phthalocyanin-Farbstoff, einen Naphtholocyanin-Farbstoff, einen Dithiolmetallkomplex-Farbstoff, einen Anthrachinon-Farbstoff, einen Azo-Farbstoff, einen Trisazo-Farbstoff, einen Aminiumsalz-Farbstoff, ein Porphyrin-Pigment, ein Morpholin-Pigment und ein Phthalocyanin-Pigment ein.
Spezifische Beispiele für die bevorzugten Pigmente und Farbstoffe schließen die folgenden ein: Cobalt Green (C.I. 77335), Emerald Green (C.I. 77410), Phthalocyanin Blue (C.I. 74100), Copper Phthalocyanin (C.I. 74160), Ultramarine (C.I 77007), Prussian Blue (C.I. 77510), Cobalt Violet (C.I. 77360), Paliogen Red 310 (C.I. 71155), Permanent Red BL (C.I. 71137), Perylen Red (C.I. 71140), Rhodamine Lake B (C.I. 45170:2), Helio Bordeaux BL (C.I. 14830), Light Fast Red Toner R (C.I. 12455), Fast Scarlet VD, Lithol Fast Scarlet G (C.I. 12315), Permanent Brown FG (C.I. 12480), Indanthrene Brilliant Orange RK (C.I. 59300), Chrome Orange (C.I. 77601), Hansa Yellow 10G (C.I. 11710), Titan Yellow (C.I. 77738), Zinc Yellow (C.I. 77955) und Chrome Yellow (C.I. 77600). Zusätzlich zu diesen werden auch bevorzugt verschiedene Arten von Pigmenten verwendet, die als Toner für die elektrostatische Aufzeichnung verwendet werden.
Als von den obigen verschiedene Verbindungen können exemplarisch angegeben werden: Malachitgrün-Oxalsäure, Chinizarin, 2-(α-Naphthyl)-5-phenyloxazol, Oil Pink #312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (Produkte von Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Basic Fuchsine, m-Kresolviolett, Cyano-p-diethylaminophenylacetanilid und in JP-A-62-293247 und JP-A-9-179290 offenbarten Farbstoffe.
Darunter sind Phthalocyaninkomplexsalze von Kupfer, Cobalt, Nickel und Eisen, z.B. Phthalocyaningrün und Phthalocyaninblau, und Dicarbocyanin- und Tricarbocyanin-Farbstoffe, die durch 3,3'-Ethylmesoethylnaphthothia(oxa)dicarbocyanin und 3,3'-Ethylnaphthothia(oxa)tricarbocyanin dargestellt werden, bevorzugt.
Träger
Eine Vielzahl von Formen von Trägern kann im erfindungsgemäßen Druckplattenvorläufer verwendet werden.
Ein besonders bevorzugter ist die Form eines Simplexaufbaus, der eine Metallplatte als solche als Träger und mit einer eloxierten Oberfläche der Metallplatte umfaßt. Die Dicke der Metallplatte in diesem Fall ist ca. 0,1 bis ca. 0,6 mm, bevorzugt 0,15 bis 0,4 mm und besonders bevorzugt 0,2 bis 0,3 mm.
In einer anderen Form dient ein Metall nicht auch als Träger, sondern ein Metall einer dünnen Platte (eine Dünnschicht) kann mit einer kostengünstigen Metallplatte verstärkt werden, oder eine Metallplatte wird auf der Oberfläche einer flexiblen Metallplatte vorgesehen, und die Oberfläche kann eloxiert werden. Bevorzugte Metallplatten mit hoher Intensität, die kostengünstig und flexibel sind, sind Metallplatten aus zum Beispiel Aluminium, rostfreiem Stahl, Nickel und Kupfer. Eine dünne Metallplatte und ein Metallplattenträger können zusammen verbunden werden, oder ein Metall kann auf einer Metallplatte in einer Dünnfilmschicht vakuumabgeschieden werden. Ersteres ist wirtschaftlich und einfach. In der nachfolgenden Beschreibung wird der Träger manchmal als Substrat gemäß Übung in der Industrie bezeichnet, wenn der Träger ein Metall ist, aber bezüglich des Metalls haben der Träger und das Substrat die gleiche Bedeutung.
Zusätzlich kann eine Metalldünnfilmschicht auf einem Kunststoffträger vorgesehen werden, wie zum Beispiel auf chemisch stabilen und flexiblen Polyestern und Celluloseethern. Ferner kann eine Metallschicht auf einem Träger aus wasserfestem Papier, mit Polyethylen laminiertem Papier oder imprägniertem Papier vorgesehen werden.
Kunststoff- und Papierträger, die bevorzugt in der vorliegenden Erfindung verwendet werden, schließen zum Beispiel ein: Papier, das mit Polyethylen, Polypropylen oder Polystyrol laminiert ist, eine Kunststoffolie, wie zum Beispiel Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat oder Polyvinylacetal, und Papier oder eine Kunststoffolie, die mit Aluminium laminiert sind oder auf denen Aluminium abgeschieden ist.
Unter den obigen sind bevorzugte Träger Polyesterfolie, Aluminium und eine SUS-Platte, die nur schwer korrosiv auf einer Druckplatte ist. Unter diesen Materialien ist eine Aluminiumplatte besonders bevorzugt, weil sie formbeständig und relativ kostengünstig ist. Bevorzugte Aluminiumplatten sind eine Platte aus reinem Aluminium und eine Platte aus Aluminiumlegierung, die Aluminium als Hauptkomponente und eine Spur unterschiedlicher Elemente umfaßt. Eine Kunststoffolie, die mit Aluminium laminiert oder auf der Aluminium abgeschieden ist, kann ebenfalls verwendet werden. Unterschiedliche Elemente, die in Aluminiumlegierungen enthalten sein können, sind Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Bismut, Nickel, Titan etc. Der Gehalt unterschiedlicher Elemente in der Aluminiumlegierung ist höchstens 10 Gew.%. Besonders bevorzugtes Aluminium zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung ist reines Aluminium, aber 100 % reines Aluminium ist aus der Raffinationstechnik schwierig herzustellen, und entsprechend kann eine äußerst geringe Menge unterschiedlicher Elemente enthalten sein. Die Zusammensetzung von in der vorliegenden Erfindung verwendeten Aluminiumplatten ist nicht spezifiziert, und Aluminiumplatten, die aus herkömmlich bekannten und üblicherweise verwendeten Materialien hergestellt sind, können beliebig verwendet werden.
Wenn eine eloxierte Übergangsmetallplatte als Träger verwendet wird, kann der Metallträger durch allgemein bekannte Oberflächenaufrauhungsverfahren behandelt werden. Die Oberflächenaufrauhungsbehandlung kann durch jedes Verfahren durchgeführt werden, wie zum Beispiel ein mechanisches Aufrauhungsverfahren, ein elektrochemisches Aufrauhungsverfahren und ein chemisches Ätzverfahren, oder eine Kombination dieser Verfahren kann verwendet werden. Durch die Oberflächenaufrauhungsbehandlung des Trägers wird manchmal die Wasseraufnahmefähigkeit des auf dem Träger vorgesehenen eloxierten Übergangsmetallfilms erhöht. Ein oberflächenaufgerauhter bevorzugter Metallträger ist ein Aluminiumträger.
Wenn ein Metallträger bereitgestellt wird, der sich von der Übergangsmetallplatte unterscheidet, ist die Dicke des Trägers ca. 0,06 bis ca. 0,6 mm, bevorzugt 0,1 bis 0,4 mm und besonders bevorzugt 0,1 bis 0,3 mm, und die Dicke der Übergangsmetalldünnfilmschicht ist 0,001 bis 0,1 mm oder ähnlich, bevorzugt 0,005 bis 0,05 mm und besonders bevorzugt 0,01 bis 0,05 mm.
Plattenherstellung
Die Oberfläche des erfindungsgemäßen Druckplattenvorläufers, die eine eloxierte Übergangsmetallplatte mit einer darauf vorgesehenen oleophilen Schicht umfaßt, ist ursprünglich oleophil und tintenaufnahmefähig, aber wenn der Druckplattenvorläufer bildweise mit aktivem Licht belichtet wird, verursacht der bestrahlte Teil Ablation, so daß der bestrahlte Teil der Oberfläche der unteren eloxierten Übergangsmetallschicht hydrophil und tintenabstoßend wird. Wenn entsprechend der bildweise belichtete Druckplattenvorläufer in Kontakt mit lithographischer Drucktinte gebracht wird, wird die Druckebene gebildet, die den Wischwasser zurückhaltenden Nicht-Bildteil und den tintenaufnehmenden Bildteil umfaßt, und das Drucken wird durch Inkontaktbringen der Druckebene mit einer zu bedruckenden Fläche zur Übertragung der Tinte durchgeführt.
Lichtbestrahlung
In der vorliegenden Erfindung kann das aktive Licht, das den eloxierten Metalldünnfilm anregt, das Licht aus jeder Lichtquelle sein, solange das Licht die Empfindlichkeit innerhalb der Empfindlichkeitsregion des Dünnfilms hat. Zum Beispiel ist die Empfindlichkeitsregion des Titanoxids vom Anastas-Typ 387 nm oder weniger und diejenige vom Rutil-Typ 413 nm oder weniger, in ähnlicher Weise ist die Empfindlichkeitsregion eines eloxierten Titanfilms 420 nm oder weniger, und deshalb können eine Quecksilberlampe, eine Wolframhalogenlampe, andere Metallhalogenidlampen, eine Xenonlampe und eine Kohlebogenlampe bevorzugt verwendet werden.
Außerdem können als Anregungslichtquelle auch ein Helium-Cadmium-Laser mit einer Schwingungswellenlänge von 325 nm und ein wassergekühlter Argonlaser mit einer Schwingungswellenlänge von 351,1 bis 363,8 nm verwendet werden. Außerdem können auch ein Zinksulfidlaser mit einer Schwingungswellenlänge von 330 nm, ein Zinksulfidlaser mit einer Schwingungswellenlänge von 370 nm und ein Zinksulfid/Cadmium-Laser mit einer Schwingungswellenlänge von 330 bis 440 nm, worin die nahe Ultraviolett-Schwingung bestätigt wurde, verwendet werden.
Ein Nd/YAG-Laser mit einer Wellenlänge von 1064 nm kann auch verwendet werden. Vor allem ist ein Nd/YAG-Laser, der mit einer Güteschaltung ausgerüstet ist und konstruktionsmäßig durch Pulsschwingung mit einer Krypton-Markierungslampe angeregt wird, bevorzugt. Wenn ein Bild auf einem eloxierten Titanfilm gebildet wird, wird die Bestrahlung bevorzugt mit Laserstrahlen mit einer Spitzenleistung von 1000 W, bevorzugt 2000 W, durchgeführt.
Daneben können auch ein Halbleiterlaser, wie GaAs, GaP, PbS und PbSe, ein Excimer-Laser, wie ArF, KrF, XeCl und XeF, und ein Helium-Neon-Laser verwendet werden.
Die bevorzugte Intensität des Bestrahlungslichts variiert gemäß der Wellenlänge des Lichts, aber allgemein ist die Oberflächenbelichtungsstärke vor der Modulation durch das zu druckende Bild bevorzugt 0,05 bis 100 Joule/cm², besonders bevorzugt 0,2 bis 10 Joule/cm² und besonders bevorzugt 0,5 bis 5 Joule/cm².
Wenn die Bildbelichtung eine solch starke Bestrahlung ist, wie sie von Zerstäuben und Entfernung einer bilderzeugenden Schicht begleitet ist, was als Ablation bezeichnet wird, ist es bevorzugt, das Rastern auf dem Druckplattenvorläufer unter Verwendung von Laserlichtquellen, die einen großen Anteil an Infrarotstrahlungskomponenten enthalten, unter Modulation der Laserstrahlen durch das Bild durchzuführen, aber selbst mit einem Laser mit sichtbarer Strahlung wird eine Licht/Wärme-Umwandlung hervorgerufen, falls die Bestrahlung derart ist, daß das lichtabsorbierende Material effizient Licht absorbiert. Beispiele für Laserlichtquellen schließen einen Halbleiterlaser, einen Helium-Neon-Laser, einen Helium-Cadmium-Laser und einen YAG-Laser ein. Die Bestrahlung kann mit Laserstrahlen mit einer Leistung von 0,1 bis 300 W durchgeführt werden. Wenn ein Pulslaser verwendet wird, wird die Bestrahlung bevorzugt mit Laserstrahlen mit einer Spitzenleistung von 1000 W, bevorzugt 2000 W durchgeführt. In diesem Fall ist die Belichtungsmenge bevorzugt in der Oberflächenbelichtungsstärke vor der Modulation durch das Druckbild von 0,1 bis 10 Joule/cm², besonders bevorzugt von 0,3 bis 1 Joule/cm².
Die obige Lichtempfindlichkeit unterscheidet sich von der Lichtempfindlichkeit der oben beschriebenen Zirkonoxidkeramik als herkömmliche Technik (offenbart in JP-A-9-169098). Zum Beispiel wird bezüglich der Empfindlichkeit im obigen Patent offenbart, daß Laserstrahlen mit 7 W/μm² für die Zirkoniumoxidkeramik verwendet werden, was 70 Joule/cm2 entspricht, wenn die Pulsdauer der Laserstrahlen zu 100 ns herangezogen wird. Im Vergleich mit der Empfindlichkeit des eloxierten Titanoxidfilms ist die Empfindlichkeit der Zirkonoxidkeramik um eine Größenordnung oder mehr geringer als diejenige des Titanoxidfilms. Verglichen mit den oben beschriebenen herkömmlichen Plattenherstellungs/Druckverfahren (offenbart in JP-A-52-37104, JP-A-3-197192 und JP-A-7-1848), die das Bereitstellen einer Oberflächenschicht aus einem oleophilen Metall oder einer organischen Schwefelverbindung auf einer hydrophilen unteren Schicht, das bildweise Bestrahlen der oleophilen Schicht mit Laserstrahlen und das Durchführen der Bildaufzeichnung im Wärmemodus umfassen, ist auch die Empfindlichkeit im Wärmemodus für Laserbestrahlung in der vorliegenden Erfindung höher, was zur hohen Unterscheidungseigenschaft eines Bildteils und eines Nicht-Bildteils beiträgt.
Druckprozeß
Nach der bildweisen Druckbelichtung der Oberfläche des erfindungsgemäßen Druckplattenvorläufers, der eine eloxierte Übergangsmetallplatte mit einer darauf vorgesehenen oleophilen Schicht umfaßt, kann der Druckplattenvorläufer einem lithographischen Druckprozeß als solcher ohne eine Entwicklungsverarbeitung zugeführt werden.
Entsprechend hat das erfindungsgemäße lithographische Druckverfahren verschiedene Vorteile, die sich durch Einfachheit im Vergleich mit allgemein bekannten lithographischen Druckverfahren auszeichnen. Das hießt die chemische Behandlung mit einer alkalischen Entwicklungslösung ist, wie oben beschrieben, nicht notwendig, und als Ergebnis sind begleitende Vorgänge wie Wischen und Bürsten nicht erforderlich, und ferner folgt nicht die Zunahme der Umweltbelastung aufgrund der Entsorgung der Entwicklungsabfallösungen.
Die belichtete Fläche der so erhaltenen lithographischen Druckplatte wurde ausreichend hydrophilisiert, aber sie kann, falls gewünscht, einer Nachbehandlung unter Verwendung von Wischwasser, einer Spüllösung, die ein Tensid oder dgl. enthält, und einer Desensibilisierungslösung, die Gummi arabicum und Stärkederivate enthält, unterworfen werden. Wenn das erfindungsgemäße Bildaufzeichnungsmaterial als Druckmaterial verwendet wird, können diese Behandlungen in verschiedenen Kombinationen als Nachbehandlung verwendet werden.
Als ein solches Verfahren kann ein Verfahren der Beschichtung auf der lithographischen Druckplatte unter Verwendung eines Schwamms oder von Saugwatte, die mit Platteneinbrennkonditionierer imprägniert sind, oder ein Verfahren der Beschichtung durch Eintauchen der Druckplatte in eine mit dem Platteneinbrennkonditionierer gefüllte Wanne oder ein Verfahren der Beschichtung unter Verwendung eines automatischen Beschichters eingesetzt werden. Einstellen der Beschichtungsmenge der Lösung unter Verwendung eines Wischgummis oder einer Gummiwalze nach der Beschichtung ergibt ein bevorzugtes Ergebnis. Die Beschichtungsmenge des Platteneinbrennkonditionierers ist allgemein angemessen von 0,03 bis 0,8 g/m² (als Trockengewicht).
Die durch diese Behandlungen erhaltene lithographische Druckplatte wird in einen lithographischen Drucker eingesetzt und zum Drucken einer großen Anzahl von Seiten verwendet.
Beispiele
Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend im Detail unter Bezugnahme auf die Beispiele beschrieben, aber die vorliegende Erfindung sollte nicht als darauf beschränkt aufgefaßt werden.
Beispiele 1 bis 28 und Vergleichsbeispiele 1 bis 3 In Beispiel 1 wurde Substrat (A) durch Eloxieren einer kommerziell erhältlichen Titanplatte mit einer Dicke von 0,2 mm unter Verwendung einer gemischten Lösung aus 0,005 mol/l Natriumglycerophosphat und 0,09 mol/l Strontiumacetat bei 40°C mit einer elektrischen Stromdichte von 5 A/dm2 und Anlegen von Gleichstrom an die Platte für 4 Minuten hergestellt, die Platte wurde dann gespült und getrocknet. Dann wurde Zinn auf Substrat (A) in einer Dicke von 500 A unter Verwendung einer von JEOL, Ltd., hergestellten Vakuumabscheidungsvorrichtung vakuumabgeschieden, wodurch der lithographische Druckplattenvorläufer (A-1) hergestellt wurde. Dieser Druckplattenvorläufer (A-1) wurde mit einem YAG-Laser unter der folgenden Bedingung bestrahlt.
Laserleistung: 0,7 W
Strahlradius: 45 μm
Rastergeschwindigkeit: 1,2 m/s
Auswertung der Bedruckbarkeit
Der lithographische Druckplattenvorläufer (A-1) mit dem durch Laserbestrahlung erzeugten Bild wurde in einen Drucker ohne Durchführen einer Nachbehandlung eingesetzt, und das Drucken wurde durchgeführt. Der Druck wurde unter Verwendung einer AURELIA 125 Einfarb-Bogenzuführungs-Offsetdruckmaschine (Blattgröße: 19 Zoll × 25 Zoll) (hergestellt von Harris Corporation) als Drucker, Geos sumi (hergestellt von Dainippon Chemicals and Ink Co., Ltd.) als Tinte, einer Mischung, die 90 Vol.-% EU-3 (hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), verdünnt mit Wasser auf 1/100, und 10 Vol.-% Isopropanol als Wischwasser umfaßt, und hochqualitativem Papier durchgeführt. Als Ergebnis wurde kein Tonen auf dem mit Laserstrahlen bestrahlten Teil erzeugt, die Haftung der Tinte auf dem nicht-bestrahlten Teil war zufriedenstellend, und 30 000 Seiten klarer Drucke konnten gedruckt werden.
Auswertung des Tonens
Die Geschwindigkeit der Entfernung von Tinte, die an der Nicht-Bildfläche anhaftete, wurde mit den folgenden Beurteilungen ausgewertet:
O: Geschwindigkeit der Entfernung von Tinte, die an der Nicht-Bildfläche anhaftet, ist schnell
Δ: Geschwindigkeit der Entfernung von Tinte, die an der Nicht-Bildfläche anhaftet, ist langsamer als diejenige der Beurteilung O, aber schneller als diejenige der Beurteilung X
X: Geschwindigkeit der Entfernung von Tinte, die an die Nicht-Bildfläche anhaftet, ist sehr langsam
Auswertung des Farbauftrags
Die Farbauftraggeschwindigkeit zum Erhalt eines klaren Druckbildes wurde mit den folgenden Beurteilungen ausgewertet:
O: Farbauftraggeschwindigkeit ist schnell
Δ: Farbauftraggeschwindigkeit ist langsamer als diejenige der Beurteilung O, aber schneller als diejenige der Beurteilung X
X: Farbauftraggeschwindigkeit ist langsam
In Beispiel wurde der Druckplattenvorläufer (A-2) in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, außer daß Chrom in einer Dicke von 1000 A anstelle von Zinn abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 3 wurde der Druckplattenvorläufer (A-3) in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 hergestellt, außer daß Titan anstelle von Chrom abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 4 wurde der Druckplattenvorläufer (A-4) in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 hergestellt, außer daß Eisen anstelle von Chrom abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 5 wurde der Druckplattenvorläufer (A-5) in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 hergestellt, außer daß Zink anstelle von Chrom abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 6 wurde der Druckplattenvorläufer (A-6) in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 hergestellt, außer daß Graphit anstelle von Chrom abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 7 wurde der Druckplattenvorläufer (A-7) in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 hergestellt, außer daß Nickel anstelle von Chrom abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 8 wurde der Druckplattenvorläufer (A-8) in der gleichen weise wie in Beispiel 2 hergestellt, außer daß Tellur anstelle von Chrom abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 9 wurde der Druckplattenvorläufer (A-9) in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 hergestellt, außer daß Kupfer anstelle von Chrom abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 10 wurde der Druckplattenvorläufer (A-10) in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 hergestellt, außer daß Silber anstelle von Chrom abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 11 wurde Substrat (B) durch Eloxieren einer handelsüblichen Zirkoniumplatte mit einer Dicke von 0,2 mm unter Verwendung von 100 g/l Schwefelsäurelösung mit 30°C bei einer elektrischen Stromdichte von 5 A/dm2 und Anlegen von Gleichstrom an die Platte für 90 Sekunden hergestellt, die Platte wurde dann gespült und getrocknet. Zinn wurde auf Substrat (B) in einer Dicke von 600 A in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 vakuumabgeschieden, wodurch der lithographische Druckplattenvorläufer (B-1) hergestellt wurde. Dieser Druckplattenvorläufer (B-1) wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 12 wurde Substrat (C) durch Eloxieren einer handelsüblichen Tantalplatte unter Verwendung einer gemischten Lösung aus 0,005 mol/l Natriumglycerophosphat und 0,09 mol/l Strontiumacetat mit 40°C bei einer elektrischen Stromdichte von 5 A/dm² und Anlegen von Gleichstrom an die Platte für 4 Minuten hergestellt, das Blech wurde dann gespült und getrocknet. Titan wurde auf Substrat (C) in der gleichen Weise wie in Beispiel 3 vakuumabgeschieden, wodurch der lithographische Druckplattenvorläufer (C-1) hergestellt wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 13 wurde der Druckplattenvorläufer (C-2) in der gleichen Weise wie in Beispiel 12 hergestellt, außer daß Nickel anstelle von Titan abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 14 wurde der Druckplattenvorläufer (C-3) in der gleichen weise wie in Beispiel 12 hergestellt, außer daß Vanadium anstelle von Titan abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 15 wurde der Druckplattenvorläufer (C-4) in der gleichen Weise wie in Beispiel 12 hergestellt, außer daß Chrom anstelle von Titan abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 20 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 16 wurde der Druckplattenvorläufer (C-5) in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, außer daß Zinn in einer Dicke von 5000 Å abgeschieden wurde. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 20 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 17 wurde der Druckplattenvorläufer (C-6) in der gleichen Weise wie in Beispiel 4 durch Abscheiden von Eisen hergestellt. Der Druckplattenvorläufer wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 20 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 18 wurde Substrat (D) durch Eloxieren einer handelsüblichen Wolframplatte unter Verwendung von 100 g/l Schwefelsäurelösung mit 30°C bei einer elektrischen Stromdichte von 5 A/dm² und Anlegen von Gleichstrom an die Platte für 90 Sekunden hergestellt, die Platte wurde dann gespült und getrocknet. Titan wurde auf Substrat (D) in der gleichen Weise wie in Beispiel 3 vakuumabgeschieden, wodurch der lithographische Druckplattenvorläufer (D-1) hergestellt wurde. Dieser Druckplattenvorläufer (D-1) wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 10 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 19 wurde Substrat (E) durch Eloxieren einer handelsüblichen Niobplatte unter Verwendung einer Lösung, die 0,2 mol Ammoniumborat und 600 g Ethylenglykol umfaßte, gelöst in 400 g Wasser mit 25°C als Elektrolytlösung mit einer elektrischen Stromdichte von 5 A/dm² und Anlegen von Gleichstrom an die Platte für 30 Sekunden hergestellt, die Platte wurde dann gespült und getrocknet. Zinn wurde auf Substrat (E) in der gleichen Weise wie in Beispiel 16 vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (E-1) hergestellt wurde. Substrat (E-1) wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 20 wurde Chrom auf Substrat (E) in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (E-2) hergestellt wurde. Substrat (E-2) wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 21 wurde ein Substrat durch ein reaktives Sputter-Verfahren gebildet. Eine Titannitrid-Schicht mit einer Dicke von 500 Å wurde in einer Argon/Stickstoff-Atmosphäre (im Verhältnis 50/50) auf einem Substrat aus rostfreiem Stahl mit einer Dicke von 0,2 mm gebildet. Zinn wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (F-1) hergestellt wurde. Das Substrat wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 22 wurde Titancarbid auf einer handelsüblichen Platte aus rostfreiem Stahl mit einer Dicke von 0,2 mm aus Titanchlorid, Methangas, Argon und Wasserstoffgas gebildet. Titan wurde auf dem Titancarbid in der gleichen Weise wie in Beispiel 3 vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (F-2) hergestellt wurde. Das Substrat wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 23 wurde wolframcarbid durch eine Carbonisierungsbehandlung eines handelsüblichen Wolframsubstrats mit einer Dicke von 0,2 mm hergestellt. Titan wurde auf dem Wolframcarbid in der gleichen Weise wie in Beispiel 3 vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (F-3) hergestellt wurde. Das Substrat wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 24 wurde handelsübliches Vanadium durch Erwärmen auf 700°C in Luft behandelt, und dann wurde Titan in der gleichen Weise wie in Beispiel 3 auf dem wärmebehandelten Vanadium vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (F-4) hergestellt wurde. Das Substrat wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 25 wurde eine handelsübliche Titanplatte mit einer Dicke von 0,2 mm mit Borchlorid und Wasserstoffgas behandelt, um Titanborid herzustellen, und dann wurde Titan auf dem Titanborid in der gleichen Weise wie in Beispiel 3 vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (F-5) hergestellt wurde. Das Substrat wurde mit einem YRG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 26 wurde eine handelsübliche Zirkoniumplatte mit einer Dicke von 0,2 mm mit Borchlorid und Wasserstoffgas zur Herstellung von Zirkoniumborid behandelt, und dann wurde Titan auf dem Zirkoniumborid in der gleichen Weise wie in Beispiel 3 vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (F-6) hergestellt wurde. Das Substrat wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 27 wurde eine handelsübliche Molybdänplatte mit einer Dicke von 0,2 mm einer Silicatbehandlung mit Siliciumchlorid und Wasserstoffgas zur Herstellung von Molybdänsilicid unterworfen, und dann wurde Titan auf dem Molybdänsilicid in der gleichen weise wie in Beispiel 3 vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (F-7) hergestellt wurde. Das Substrat wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 28 wurde Substrat (G) durch Eloxieren von Hafnium unter Verwendung von 100 g/l Schwefelsäurelösung bei 30°C mit einer elektrischen Stromdichte von 5 A/dm² und Anlegen von Gleichstrom an die Platte für 90 s hergestellt, die Platte wurde dann gespült und getrocknet. Eisen wurde auf dem Substrat (G) in der gleichen Weise wie in Beispiel 4 vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (G-1) hergestellt wurde. Substrat (G-1) wurde mit einem YAG-Laser in der gleichen weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 30 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
In Beispiel 29 wurde Substrat (A) in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, und die nachfolgend gezeigte lichtempfindliche Lösung A wurde auf Substrat (A) in einer trockenen Dicke von 1 um aufgetragen. Das beschichtete Substrat (A) wurde dann mit einem YAG-Laser in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bestrahlt und das Drucken wurde durchgeführt. Als Ergebnis konnten 20 000 Seiten klarer Drucke erhalten werden.
Lichtempfindliche Lösung A
Behensäure (49 Gew.-Teile), Styrolharz (49 Gew.-Teile, hergestellt von Esso Standard Petrolum Co., Ltd.) und Phthalocyaninblau (2 Gew.-Teile, ein kommerziell erhältliches Produkt) wurden in Tetrahydrofuran gelöst. Die so erhaltene Lösung wurde als lichtempfindliche Lösung A bezeichnet.
In Vergleichsbeispiel 1 wurde Substrat (H) durch Eloxieren einer handelsüblichen Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,2 mm unter Verwendung von 100 g/l Schwefelsäurelösung bei 30°C mit einer elektrischen Stromdichte von 5 A/dm² und Anlegen von Gleichstrom an die Platte für 90 Sekunden hergestellt, die Platte wurde dann gespült und getrocknet. Kupfer wurde auf Substrat (H) in der gleichen Weise wie in Beispiel 9 vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (H-1) hergestellt wurde. Substrat (H-1) wurde der Bestrahlung mit einem YAG-Laser unterworfen, aber ein Bild konnte nicht unter der gleichen Bedingung wie in Beispiel 1 gebildet werden.
In Vergleichsbeispiel 2 wurde Substrat (H) in der gleichen Weise wie in Vergleichsbeispiel 1 hergestellt, und Silber wurde auf Substrat (H) in der gleichen Weise wie in Beispiel 10 vakuumabgeschieden, wodurch Substrat (H-2) hergestellt wurde. Substrat (H-2) wurde der Bestrahlung mit einem YAG-Laser unterworfen, aber ein Bild konnte nicht unter der gleichen Bedingung wie in Beispiel 1 gebildet werden. Das Drucken wurde durchgeführt, aber die Tinte haftete an der gesamten Oberfläche des Drucks an, und ein Nicht-Bildteil konnte nicht erhalten werden.
In Vergleichsbeispiel 3 wurde Substrat (A), hergestellt in der gleichen Weise wie in Beispiel 1, der Bestrahlung mit einem YAG-Laser unter der gleichen Bedingung wie in Beispiel 1 unterworfen, aber ein Bild konnte nicht gebildet werden. Außerdem konnte Tinte bei der Durchführung des Druckens nicht am Druck anhaften.
Die Ergebnisse der obigen Untersuchungen sind in der nachfolgenden Tabelle 1 zusammengefaßt.
Wie aus den Ergebnissen in Tabelle 1 ersichtlich ist, konnten zufriedenstellende Ergebnisse hinsichtlich Drucktonen, Farbauftragseigenschaft bzw. Drucklebensdauer für jede Probe der erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufer erhalten werden, während jeder vergleichende lithographische Druckplattenvorläufer unzufriedenstellend in der einen oder anderen Eigenschaft war.
Wie oben beschrieben wurde, können aufgrund des Aufbaus des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers, der eine eloxierte Metallverbindung, die zur Gruppe 4 bis Gruppe 6 des Periodensystems gehört, und eine auf der Oberfläche der eloxierten Metallverbindung vorgesehene oleophile Schicht umfaßt, die durch Laserbelichtung eine Ablation erfahren kann, eine lithographische Druckbildebene gebildet werden, in der der nicht-belichtete Teil nur durch bildweise Belichtung mit aktivem Licht tintenaufnahmefähig wird, und eine lithographische Druckbildebene, in der der belichtete Teil tintenabstoßend durch die Ablation aufgrund der bildweisen Bestrahlung mit Laserstrahlen wird, gebildet werden. Keines der Systeme erfordert eine Entwicklungslösung und jedes ermöglicht das lithographische Drucken unter Aufrechterhaltung einer klaren Druckebene. Außerdem ist es auch möglich, erfindungsgemäß die Plattenherstellung auf der Maschine durchzuführen.
Zusätzlich kann die vorliegende Erfindung einen lithographischen Druckplattenvorläufer bereitstellen, der frei von Tonen ist und eine ausgezeichnete Farbauftragseigenschaft und Drucklebensdauer (Druckhaltbarkeit) hat.

Claims

Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte, das das bildweise Bestrahlen eines lithografischen Druckplattenvorläufers mit einem Laserstrahl umfasst, um den bestrahlten Teil hydrophil zu machen, worin der lithografische Druckplattenvorläufer eine Metallverbindung, die aus wenigstens einem Metallelement ausgewählt ist, das zur Gruppe 4 bis Gruppe 6 des Periodensystems gehört, und eine auf der Oberfläche davon vorgesehene oleophile Schicht umfasst, worin die Oberfläche der Metallverbindung eloxiert ist.
Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte gemäss Anspruch 1, worin die auf der Oberfläche der Metallverbindung vorgesehene oleophile Schicht eine Metallschicht ist.
Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte gemäss Anspruch 1, worin die oleophile Schicht einen Schmelzpunkt von 500°C oder weniger hat.
Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte gemäss Anspruch 1, worin die oleophile Schicht aus Zinn, Tellur, Bismut oder Zink hergestellt ist.
Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte gemäss Anspruch 2, worin die Metallschicht eine Dicke von 100 Å bis 1 μm hat.