DE602005004259T2 - Verfahren zur Herstellung einer verarbeitungsfreien Flachdruckplatte - Google Patents

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    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
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Description

  • TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer negativarbeitenden wärmeempfindlichen Druckplattenvorstufe, die zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte nach dem Direct-to-Plate-Verfahren (direkte Druckplattenbebilderung) geeignet ist.
  • ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK
  • Bei lithografischem Druck verwendet man einen sogenannten Druckmaster wie eine auf eine Trommel der Druckpresse aufgespannte Druckplatte. Die Masteroberfläche trägt ein lithografisches Bild und ein Abzug wird erhalten, indem zunächst Druckfarbe auf das Bild aufgetragen und anschließend die Farbe vom Master auf ein Empfangsmaterial, in der Regel Papier, übertragen wird. Bei herkömmlichem lithografischem Nassdruck werden sowohl Druckfarbe als auch Feuchtwasser auf Wasserbasis auf das lithografische Bild, das aus oleophilen (oder hydrophoben, d. h. farbanziehenden, wasserabstoßenden) Bereichen und hydrophilen (oder oleophoben, d. h. wasseranziehenden, farbabstoßenden) Bereichen aufgebaut ist, angebracht. Bei sogenanntem driografischem Druck besteht das lithografische Bild aus farbanziehenden und farbabweisenden (d. h. farbabstoßenden) Bereichen und wird während des driografischen Drucks nur Druckfarbe auf den Master angebracht.
  • Druckmaster werden in der Regel durch bildmäßige Belichtung und Entwicklung eines als Plattenvorstufe bezeichneten bilderzeugenden Materials erhalten. Außer den allgemein bekannten strahlungsempfindlichen, sogenannten vorsensibilisierten Platten, die für eine UV-Kontaktbelichtung durch eine Filmmaske geeignet sind, sind in den späten 90er Jahren auch wärmeempfindliche Druckplattenvorstufen zu einem sehr populären Plattentyp geworden. Solche Thermomaterialien beinhalten den Vorteil ihrer Tageslichtbeständigkeit und sind besonders geeignet zur Verwendung im sogenannten Computer-to-Plate-Verfahren (direkte digitale Druckplattenbebilderung), bei dem die Plattenvorstufe direkt belichtet wird, d. h. ohne Einsatz einer Filmmaske. Das Material wird mit Wärme beaufschlagt oder mit Infrarotlicht belichtet und die dabei erzeugte Wärme löst einen (physikalisch)-chemischen Prozess aus, wie Ablation, Polymerisation, Insolubilisierung durch Vernetzung eines Polymers, eine thermisch induzierte Solubilisierung oder eine Koagulierung der Teilchen eines thermoplastischen polymeren Latex.
  • Bei den populärsten Thermoplatten erfolgt die Bilderzeugung dadurch, dass durch Erwärmung der Platten ein Löslichkeitsunterschied in alkalischem Entwickler zwischen den erwärmten Bereichen und nicht-erwärmten Bereichen der Beschichtung hervorgerufen wird. Die Beschichtung enthält in der Regel ein oleophiles Bindemittel, z. B. ein Phenolharz, dessen Lösungsgeschwindigkeit im Entwickler durch die bildmäßige Erwärmung entweder beschränkt (negativarbeitende Platte) oder gesteigert (positivarbeitende Platte) wird. Der Löslichkeitsunterschied sorgt dafür, dass während der Entwicklung die Nicht-Bildbereiche (d. h. die nicht-druckenden Bereiche) der Beschichtung entfernt werden und dabei der hydrophile Träger freigelegt wird, während die Bildbereiche (d. h. die druckenden Bereiche) der Beschichtung intakt auf dem Träger verbleiben. Typische Beispiele für solche Platten sind beschrieben in z. B. EP-A 625 728 , EP-A 823 327 , EP-A 825 927 , EP-A 864 420 , EP-A 894 622 und EP-A 901 902 . Negativarbeitende Ausführungsformen solcher Thermomaterialien erfordern oft einen Vorwärmungsschritt zwischen der Belichtung und der Entwicklung, wie beschrieben in z. B. EP-A 625 728 .
  • Gewisse dieser Thermoprozesse erlauben eine Plattenherstellung ohne Nassentwicklung und basieren zum Beispiel auf der Ablation einer oder mehrerer Schichten der Beschichtung, wobei in den belichteten Bereichen die Oberfläche einer unterliegenden Schicht freizuliegen kommt, die eine zur Oberfläche der nicht-belichteten Bereiche der Beschichtung unterschiedliche Affinität zu Druckfarbe oder Feuchtwasser aufweist. So werden die Bildbereiche (druckende Bereiche) und Nicht-Bildbereiche oder Hintergrundbereiche (nicht-druckende Bereiche) erhalten.
  • In US 5 605 780 wird eine lithografische Druckplatte mit einem anodisierten Aluminiumträger und einer darüber aufgetragenen, einen IR-Absorber und ein Cyanacrylatpolymer-Bindemittel enthaltenden bilderzeugenden Schicht offenbart. Die bilderzeugende Schicht wird durch laserinduzierte thermische Ablation entfernt, wobei der unterliegende hydrophile Träger freizuliegen kommt.
  • In EP-A 580 393 wird eine mittels Laserentladung direkt bebilderbare lithografische Druckplatte offenbart, wobei die Platte eine erste Deckschicht und eine unter der ersten Schicht vorliegende zweite Schicht aufweist, wobei die erste Schicht durch eine effiziente Absorption von Infrarotstrahlung gekennzeichnet ist und die erste Schicht und die zweite Schicht eine unterschiedliche Affinität zu zumindest einer Druckflüssigkeit aufweisen.
  • In EP 1 065 051 wird ein negativarbeitendes wärmeempfindliches Material zur Herstellung lithografischer Druckplatten offenbart, wobei das Material der Reihe nach einen lithografischen Schichtträger mit einer hydrophilen Oberfläche, eine oleophile Bilderzeugungsschicht und eine vernetzte hydrophile Deckschicht aufweist. Unter Einwirkung der während der Belichtung in der lichtempfindlichen Schicht erzeugten Wärme wird die hydrophile Deckschicht durch Ablation entfernt.
  • Bei den meisten ablativen Platten fällt bei der Ablation Abfall an, der Verschmutzung der Elektronik und Optik der Belichtungsvorrichtung verursachen kann und durch Wischen mit einem Reinigungslösungsmittel von der Druckplatte zu entfernen ist. Aus diesem Grund sind ablative Platten oft nicht „echt" prozesslos. Ablationsabfall, der sich auf die Plattenoberfläche abgesetzt hat, kann auch den Druckprozess beeinträchtigen und dabei zum Beispiel Tonen verursachen.
  • Weitere Thermoprozesse, die eine Plattenherstellung ohne Nassentwicklung ermöglichen, basieren zum Beispiel auf einer thermisch induzierten hydrophil/oleophil-Umwandlung einer oder mehrerer Schichten der Beschichtung, wobei in den belichteten Bereichen eine zur Oberfläche der nicht-belichteten Bereiche der Beschichtung unterschiedliche Affinität zu Druckfarbe oder Feuchtwasser erhalten wird.
  • In US 5 855 173 , US 5 839 369 und 5 839 370 wird ein Verfahren beschrieben, das auf der bildmäßigen hydrophil-hydrophob-Umwandlung einer Keramik wie Zirkonoxidkeramik und der darauf folgenden Umkehrumwandlung in einem Bildlöschschritt basiert. Erzielt wird diese bildmäßige Umwandlung durch Belichtung mit Infrarotlaserstrahlung bei einer Wellenlänge von 1.064 nm und hoher Laserleistung, die eine örtlich begrenzte Ablation und Bildung von unterstöchiometrischem Zirkonoxid hervorruft. In US 5 893 328 , US 5 836 248 und US 5 836 249 wird ein Druckmaterial offenbart, das einen Verbundwerkstoff aus einer Zirkonoxidlegierung und α-Tonerde enthält, der mittels eines ähnlichen Belichtungsmittels, das ein örtlich begrenztes "Schmelzen" der Legierung in den belichteten Bereichen und dabei die Bildung hydrophober und oleophiler Oberflächen auslöst, bebildert werden kann. Ein ähnliches Druckmaterial, das eine Legierung aus Zirkonoxid und Yttriumoxid enthält, ist beschrieben in US 5 870 956 . Aufgrund der bei diesen aus dem Stand der Technik bekannten Verfahren erforderlichen hohen Laserleistung müssen hier allerdings kostspielige Belichtungsgeräte herangezogen werden.
  • In EP 1 002 643 wird eine Druckplatte offenbart, die eine anodisierte Titanmetallfolie, die durch bildmäßige Belichtung mit aktinischem Licht hydrophil oder farbabstoßend gemacht wird, enthält. Die Druckplatte kann nach dem Druckzyklus regeneriert werden, indem zunächst die Platte gereinigt und anschließend die Plattenoberfläche in einem Thermoverarbeitungsschritt gleichmäßig oleophil oder farbanziehend gemacht wird.
  • In EP 958 941 wird eine Druckplattenvorstufe offenbart, deren Oberflächenschicht Si3N4 und/oder BN enthält und durch bildmäßige Belichtung bebildert werden kann.
  • In US 6 240 091 wird ein Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte durch bildmäßige Bestrahlung einer Druckplattenvorstufe offenbart, wobei die Vorstufe einen Träger mit einer darüber aufgetragenen hydrophilen, eine Metallverbindung enthaltenden Schicht mit fotolytischen Eigenschaften und auf dieser Schicht angebrachten winzigen, Licht in Wärme umwandelnden Teilchen enthält, wobei durch Polaritätswechsel der Metallschicht ein hydrophober Bereich erhalten wird.
  • In US 6 455 222 werden lithografische Druckplattenvorstufen offenbart, die Licht in Wärme umwandelnde Teilchen mit einer hydrophilen Oberfläche, wie anorganische Metalloxide, wie u. a. TiOx, SiOx und AlOx, enthalten. Bei Erwärmung der Teilchen wird die Oberfläche von hydrophil in hydrophob umgewandelt.
  • In EP 903 223 wird ein lithografisches Druckverfahren offenbart, in dem eine Druckplattenvorstufe verwendet wird, deren Oberfläche versehen ist mit einer dünnen Schicht aus TiO2, ZnO oder einer Verbindung aus der Gruppe bestehend aus RTiO3, wobei R ein Erdalkalimetallatom bedeutet, AB2-xCxD3-xExO10, wobei A ein Wasserstoffatom oder Alkalimetallatom bedeutet, B ein Erdalkalimetallatom oder Bleiatom bedeutet, C ein Seltenerdatom bedeutet, D ein Metallatom der Gruppe 5A des Periodensystems bedeutet, E ein Metallatom der Gruppe 4A des Periodensystems bedeutet und x eine Zahl zwischen 0 und 2 bedeutet, SuO2, Bi2O3 und Fe2O3. Im Belichtungsschritt mit aktinischem Licht durch eine Filmmaske wird die Oberfläche in den belichteten Bereichen hydrophil gemacht, wonach durch Erwärmung eine hydrophil/hydrophob-Umwandlung ausgelöst wird.
  • In US 6 455 222 wird eine lithografische Druckplattenvorstufe offenbart, die feine hydrophile, Licht in Wärme umwandelnde Teilchen, wie anorganische Metalloxide, wie u. a. TiOx (x = 1,0–2,0), SiOx (x = 0,6–2,0) und AlOx (x = 1,0–2,0), enthält. Bei Erwärmung werden die Teilchen von hydrophil in hydrophob umgewandelt.
  • Mit den aus dem Stand der Technik bekannten Materialien auf der Basis von Metalloxiden ist das wichtige Problem verbunden, dass solche Materialien eine Belichtung mit energiereichem Laserlicht und/oder den Einsatz kostspieliger Gelichter erfordern. Andere Platten auf Metalloxidbasis sind vor ihrem Einsatz einer Fotoreduktionsreaktion zu unterziehen und zwar um die hydrophobe Oberfläche in hydrophil umzuwandeln. Diese Fotoreduktionsreaktion kann zum Beispiel in einer vom Endbenutzer vorzunehmenden Vorwärmverarbeitung und/oder Ultraviolettflutbelichtung durchgeführt werden. Solche Vorverarbeitungsschritte machen die Plattenherstellung zu einem umständlichen Prozess.
  • KURZE DARSTELLUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist das Bereitstellen eines Verfahrens zur Herstellung einer negativarbeitenden wärmeempfindlichen lithografischen Druckplattenvorstufe, die keinen Entwicklungsschritt erfordert und direkt mittels eines Lasers mit niedriger Leistung und ohne dass eine Vorverarbeitung mit Ultraviolettflutbelichtung benötigt wird, erwärmt und/oder belichtet werden kann.
  • Gelöst wird die Aufgabe der vorliegenden Erfindung durch ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung einer negativarbeitenden wärmeempfindlichen lithografischen Druckplattenvorstufe:
    • (i) Bereitstellen eines Trägers mit einer titanhaltigen Oberfläche,
    • (ii) Modifizieren der Oberfläche durch Herstellung eines hydrophilen Titanoxids, wobei dieser Prozess folgende Schritte umfasst:
    • 1) Anodisieren der Oberfläche und
    • 2) Tempern der anodisierten Oberfläche unter vermindertem Druck,
    wobei das Titanoxid bei Erwärmung und/oder Belichtung mit Infrarotlicht von hydrophil in hydrophob umgewandelt werden kann.
  • Gelöst wird die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ebenfalls durch ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte:
    • (i) Bereitstellen einer erfindungsgemäßen lithografischen Druckplattenvorstufe und
    • (ii) bildmäßige Erwärmung der Vorstufe und/oder bildmäßige Belichtung der Vorstufe mit Infrarotlicht, wobei die Oberfläche der Vorstufe in belichteten Bereichen von hydrophil in hydrophob umgewandelt wird.
  • Gelöst wird die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ebenfalls durch ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Druckverfahren:
    • (i) Bereitstellen einer lithografischen Druckplatte, auf deren Oberfläche nach dem obenbeschriebene Verfahren ein lithografisches Bild aufgezeichnet ist,
    • (ii) Herstellung mehrerer gedruckter Kopien durch Auftrag von Druckfarbe auf die Druckplatte und Übertragung der Druckfarbe auf Papier,
    • (iii) gegebenenfalls Reinigung der Druckplatte durch Entfernung der Druckfarbe von der Platte,
    • (iv) Löschen des lithografischen Bildes durch Flutbelichtung der Druckplatte mit UV-Licht, wobei hydrophobe Bereiche der Oberfläche hydrophil gemacht werden, und
    • (iv) Wiederverwendung der so erhaltenen Vorstufe in einem nächsten, die Schritte (i) bis (iv) umfassenden Zyklus.
  • Bevorzugte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden in den Unteransprüchen definiert.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
  • Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren wird eine Druckplattenvorstufe mit einem Träger mit einer titanhaltigen Oberfläche von hydrophob in hydrophil umgewandelt, indem die Oberfläche zunächst anodisiert und dann unter vermindertem Druck getempert wird. Bei Bestrahlung der hydrophil gemachten Oberfläche mit Wärme und/oder Infrarotlicht wird die Hydrophilie der Oberfläche in eine Hydrophobie umgewandelt.
  • Der Träger der Druckplattenvorstufe mit einer titanhaltigen Oberfläche ist vorzugsweise eine Titanmetallfolie. Der Träger kann ebenfalls ein Schichtträger sein, auf den eine dünne Schicht aus Titanmetall aufgetragen wird.
  • Die Titanmetallfolie kann eine handelsübliche Titanmetallfolie mit einer Reinheit von vorzugsweise 99,5 Gew.-% bis 99,9 Gew.-% sein. Ebenfalls geeignet ist eine Legierung aus Titan und zum Beispiel Aluminium, Vanadium, Mangan, Eisen, Chrom und Molybdän in einer Menge von etwa 4 Gew.-% bis 5 Gew.-%. Die Stärke der Titanmetallfolie ist kein kritischer Parameter und kann zwischen 0,05 mm und 0,6 mm, vorzugsweise zwischen 0,05 mm und 0,4 mm, besonders bevorzugt zwischen 0,1 mm und 0,3 mm variieren.
  • Der Schichtträger, auf den eine dünne Titanschicht aufgetragen wird, kann eine Metallfolie sein, wie zum Beispiel eine Folie aus Aluminium, rostfreiem Stahl, Nickel und Kupfer. Weitere geeignete Schichtträger sind ein biegsamer Kunststoffträger, wie ein Träger aus Polyester oder Celluloseester, wasserfestes Papier, mit Polyethylen kaschiertes Papier oder mit Polyethylen imprägniertes Papier. Der Träger kann ebenfalls ein aus einer Aluminiumfolie und einer Kunststoffschicht, z. B. einer Polyesterschicht, bestehender Verbundträger sein.
  • Bei Verwendung einer Metallfolie als Schichtträger für die Titanschicht kann die Oberfläche des Metallträgers im voraus nach einem beliebigen bekannten Verfahren angeraut werden. Die Anrauung der Oberfläche kann mittels eines mechanischen Elements, eines elektromechanischen Elements, durch chemische Ätzung oder aber eine Kombination aus diesen Verfahren vorgenommen werden.
  • Ein besonders bevorzugter lithografischer Träger ist ein elektrochemisch angerauter und anodisierter Aluminiumträger. Der angeraute und anodisierte Aluminiumträger wird vorzugsweise elektrochemisch angeraut und durch Anodisiertechniken, bei denen Phosphorsäure oder ein Gemisch aus Schwefelsäure und Phosphorsäure verwendet wird, anodisiert. Verfahren zum Anrauen und Anodisieren von Aluminium sind den Fachleuten allgemein bekannt.
  • Durch Variieren des Typs und/oder des Verhältnisses des Elektrolyts und der Spannung im Anrauschritt lassen sich verschiedene Korntypen erhalten.
  • Durch Anodisieren des Aluminiumträgers werden sowohl dessen Abriebfestigkeit als Hydrophilie verbessert. Die Mikrostruktur und Stärke der Al2O3-Schicht werden durch den Anodisierschritt bestimmt. Das anodische Gewicht (g/m2 auf der Aluminiumoberfläche gebildetes Al2O3) variiert zwischen 1 und 8 g/m2.
  • Der Schichtträger kann nach bekannten Verfahren mit der dünnen Titanschicht beschichtet werden, wie zum Beispiel durch Aufdampfung, Sprühpyrolyse, Zerstäubung oder elektrolytische Abscheidung. Die Stärke der aufgetragenen Titanmetallschicht liegt vorzugsweise zwischen 0,01 μm und 10 μm, besonders bevorzugt zwischen 0,05 μm und 1,0 μm, ganz besonders bevorzugt zwischen 0,10 μm und 0,30 μm.
  • Die Titanfolie oder der mit einer Titanschicht beschichtete Schichtträger kann vor ihrer bzw. seiner Anodisierung einer Oberflächenanrauung unterzogen werden. Vor dem Oberflächenanrauungsschritt kann die Oberfläche mit zum Beispiel einem Tensid, einem organischen Lösungsmittel oder einer wässrigalkalischen Lösung entfettet werden.
  • Für die Oberflächenanrauung der Titanfolie oder des mit einer Titanschicht beschichteten Schichtträgers kommen verschiedene Verfahren in Frage, zum Beispiel mechanisches Anrauen (z. B. Mahlen mit Kugeln, Bürsten, Sandstrahlen oder Polieren), elektrochemische Auflösung (z. B. Oberflächenanrauung in einer Elektrolytlösung mit Wechselstrom oder Gleichstrom) oder chemische Auflösung (z. B. durch Eintauchen des Metalls in eine wässrige Lösung eines oder mehrerer Alkalisalze aus der Gruppe bestehend aus Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumsilikat oder Natriumpyrophosphat). Diese Verfahren können gesondert oder kombiniert angewandt werden.
  • Gemäß einem bevorzugten Verfahren der vorliegenden Erfindung erfolgt die Anodisierung des Titans durch Verarbeitung der titanhaltigen Oberfläche mit einer wässrigen Elektrolytlösung, wobei das Elektrolytverhältnis 0,001 Mol/l bis 5 Mol/l, vorzugsweise 0,005 Mol/l bis 3 Mol/l, die Flüssigkeitstemperatur 5°C bis 70°C, vorzugsweise 15°C bis 30°C, die angelegte Gleichspannung 1 V bis 100 V, vorzugsweise 5 V bis 50 V, besonders bevorzugt 10 V bis 30 V, und die Elektrolysedauer 10 Sekunden bis 10 Minuten, vorzugsweise 1 Minute bis 8 Minuten beträgt.
  • Besonders bevorzugt erfolgt die Anodisierung der Oberfläche des Trägers in einer wässrigen Elektrolytlösung, die zumindest eines der folgenden Chemikalien enthält:
    • • eine anorganische Säure aus der Gruppe bestehend aus Schwefelsäure, Phosphorsäure, Salpetersäure oder Borsäure,
    • • Wasserstoffperoxid als Zusatz zu einer oder mehreren der obigen anorganischen Säuren,
    • • ein Alkalimetallsalz und/oder ein Erdalkalimetallsalz dieser anorganischen Säuren,
    • • eine organische Säure aus der Gruppe bestehend aus Oxalsäure, Weinsäure, Zitronensäure, Essigsäure, Milchsäure, Bernsteinsäure, Glutaminsäure, Sulfosalicylsäure oder Naphthalindisulfonsäure,
    • • ein Alkalimetallsalz und/oder ein Erdalkalimetallsalz dieser organischen Säuren,
    • • Hydroxide und/oder wasserlösliche Carbonate von Natrium, Kalium, Calcium, Lithium und Magnesium und/oder wässrige Alkalilösungen, wie eine Ammoniumhydroxidlösung,
    • • Glycerinphosphorsäure und das Alkalimetallsalz und/oder das Erdalkalimetallsalz dieser Säure und/oder Essigsäure und das Alkalimetallsalz und/oder das Erdalkalimetallsalz dieser Säure.
  • Diese wässrigen Elektrolytlösungen können einzeln oder kombiniert verwendet werden. Das Verhältnis der Lösungen wird je nach Typ des für den Anodisierungsprozess verwendeten Elektrolyts eingestellt.
  • In einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform enthält die Elektrolytlösung Oxalsäure in einem Verhältnis von 0,6 Mol/l und wird die Anodisierungsreaktion 5 Minuten lang bei Zimmertemperatur unter Anlegen einer Gleichspannung von 20 V geführt.
  • Es kann von Vorteil sein, die anodisierte Oberfläche mit einem Metall wie Platin, Palladium, Gold, Silber, Kupfer, Nickel, Eisen oder Kobalt oder einem Gemisch aus solchen Metallen zu dotieren.
  • Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren wird der anodisierte Träger bei verringertem Luftdruck getempert. Beim Tempern können andere Gase, wie H2-Gas oder N2-Gas, verwendet werden.
  • Die Temperungstemperatur variiert vorzugsweise zwischen 350°C und 550°C, besonders bevorzugt zwischen 400°C und 500°C, und die Temperungsdauer variiert vorzugsweise zwischen 60 Minuten und 240 Minuten, besonders bevorzugt zwischen 80 Minuten und 200 Minuten. Der Druck während der Temperung wird zwischen 0,1 kPa (1 mbar) und 1 kPa (10 mbar), besonders bevorzugt zwischen 0,2 kPa (2 mbar) und 0,6 kPa (6 mbar) eingestellt.
  • Die so erhaltene, einen anodisierten und getemperten Träger umfassende lithografische Druckplattenvorstufe kann mit Wasser, mit einer ein Tensid enthaltenden Flüssigkeit, mit einer Gummiarabicum oder ein Stärke-Derivat enthaltenden Desensibilisierungsflüssigkeit (einer sogenannten Gummierlösung) oder mit einer Kombination derselben gespült werden.
  • Die Oberfläche der Druckplattenvorstufe ist hydrophil, bei bildmäßiger Erwärmung oder Belichtung allerdings werden die erwärmten bzw. belichteten Bereiche farbanziehend gemacht. Diese Umwandlung von einem hydrophilen Zustand in einen hydrophoben Zustand kann beispielsweise durch eine Zunahme des auf der Oberfläche gemessenen Kontaktwinkels für Wasser gekennzeichnet sein. Die nach Behandlung des Trägers bestimmte Zunahme des Kontaktwinkels für Wasser zeigt eine hydrophil/hydrophob-Umwandlung auf. Der Kontaktwinkel wird definiert als der Winkel zwischen dem Tangens zum Rand des Wassertropfens und der Berührungszone zwischen dem Träger und dem Tropfen.
  • Den anodisierten und getemperten Träger oder den geätzten und anodisierten Träger beschichtet man gegebenenfalls mit einer Schicht, die eine Licht absorbierende und die absorbierte Energie in Wärme umwandelnde Verbindung enthält. Die Licht absorbierende und das Licht in Wärme umwandelnde Verbindung ist vorzugsweise ein Infrarotlicht absorbierendes Mittel. Bevorzugte Infrarotlicht absorbierende Verbindungen sind Farbstoffe, wie Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarbstoffe, Indoanilinfarbstoffe, Oxonolfarbstoffe, Pyriliumfarbstoffe und Squariliumfarbstoffe, oder Pigmente, wie Russ. Beispiele für geeignete IR-Absorber sind beschrieben in z. B. EP-A 823 327 , EP-A 978 376 , EP-A 1 029 667 , EP-A 1 053 868 , EP-A 1 093 934 , WO 97/39894 und WO 00/29214 . Eine bevorzugte Verbindung ist folgender Cyaninfarbstoff IR-A:
    Figure 00110001
    in der X ein geeignetes Gegenion ist, wie Tosylat.
  • Außer der den IR-Absorber enthaltenden Schicht kann die Beschichtung ferner eine oder mehrere zusätzliche Schichten enthalten, wie zum Beispiel eine Schutzschicht oder eine zwischen der den IR-Absorber enthaltenden Schicht und dem Träger eingefügte haftungsfördernde Schicht.
  • Wahlweise kann die eine lichtabsorbierende Verbindung enthaltende Schicht oder eine eventuelle andere Schicht ferner zusätzliche Inhaltsstoffe enthalten, wie zum Beispiel Bindemittel, Tenside, wie Perfluor-Tenside, Siliciumteilchen oder Titandioxidteilchen, oder Farbmittel.
  • In der vorliegenden Erfindung wird dann die so erhaltene wärmeempfindliche Druckplattenvorstufe bildmäßig direkt erwärmt oder indirekt mit Infrarotlicht, vorzugsweise nahem Infrarotlicht, belichtet. Das Infrarotlicht wird vorzugsweise durch eine wie oben besprochene Infrarotlicht absorbierende Verbindung in Wärme umgesetzt. Die Druckplattenvorstufe ist unempfindlich gegenüber Umgebungslicht und erfordert deshalb keine Dunkelkammer für ihre Handhabung.
  • Die Druckplattenvorstufe kann mit Infrarotlicht, z. B. mittels einer LED oder eines Infrarotlasers, belichtet werden. Bevorzugt für die Belichtung wird ein nahes Infrarotlicht mit einer Wellenlänge zwischen etwa 700 und etwa 1.500 nm emittierender Laser, z. B. eine Halbleiterlaserdiode, ein Nd:YAG-Laser oder ein Nd:YLF-Laser.
  • An den Erwärmungs- oder Belichtungsschritt kann (können) ein Spülschritt und/oder ein Gummierschritt anschließen. Der Gummierschritt umfasst eine Nachverarbeitung der wärmeempfindlichen Druckplatte mit einer Gummierlösung. Eine Gummierlösung ist in der Regel eine wässrige Flüssigkeit, die eine oder mehrere oberflächenschützende Verbindungen, die das lithografische Bild eines wärmeempfindlichen Materials oder einer wärmeempfindlichen Druckplatte vor Verschmutzung oder Beschädigung schützen, enthält. Geeignete Beispiele für solche Verbindungen sind filmbildende hydrophile Polymere oder Tenside.
  • In der vorliegenden Erfindung ist die wärmeempfindliche Druckplatte dann ohne zusätzlichen Entwicklungsschritt druckfertig. Die erwärmte oder belichtete Platte kann in eine herkömmliche, sogenannte Nassoffsetdruckpresse, bei der Druckfarbe und Feuchtwasser auf das Material aufgebracht werden, eingespannt werden. Die Nicht-Bildbereiche halten das Feuchtwasser zurück, während die Bildbereiche die Druckfarbe zurückhalten.
  • Bei einem weiteren geeigneten Druckverfahren wird sogenannte Single-Fluid-Druckfarbe ohne Feuchtwasser verwendet. Geeignete Single-Fluid-Druckfarben sind beschrieben in US 4 045 232 , US 4 981 517 und US 6 140 392 . In einer ganz besonders bevorzugten Ausführungsform enthält die Single-Fluid-Druckfarbe eine Farbenphase, ebenfalls als hydrophobe oder oleophile Phase bezeichnet, und eine Polyolphase, wie beschrieben in WO 00/32705 .
  • In einer alternativen Ausführungsform wird die Druckplatte zunächst auf den Druckzylinder der Druckpresse aufgespannt und anschließend mittels eines eingebauten Belichters direkt auf der Presse bildmäßig belichtet. Die belichtete Druckplatte ist druckfertig.
  • Nach beendetem Druckzyklus kann die Druckplatte regeneriert werden. Ist einmal der Druckzyklus beendet, wird die Druckplatte einer Flutbelichtung mit Ultraviolettlicht unterzogen, wobei hydrophobe Bereiche hydrophil und wieder empfindlich gegenüber Infrarotlicht und/oder Wärmestrahlung gemacht werden. Wahlweise kann vor dem Flutbelichtungsschritt ein Reinigungsschritt durchgeführt werden, um die an der Platte haftende Druckfarbe zu entfernen. Für eine solche Reinigung geeignete Lösungsmittel sind u. a. hydrophobe Lösungsmittel auf Petrolbasis, wie aromatische Kohlenwasserstoffe, die im Handel als Druckfarbenlösungsmittel erhältlich sind: Leuchtöl, Benzol, Toluol, Xylol, Aceton, Methylethylketon und Gemische derselben.
  • Die so erhaltene regenerierte Druckplattenvorstufe kann sodann in einem nächsten Druckzyklus mit bildmäßiger Belichtung und Druck eingesetzt werden.
  • Beispiele
  • Beispiel 1
  • Eine Titanfolie (Goodfellow TI000380, Tintangehalt 99,6%, Folienstärke 125 μm) wird durch Ultraschallbehandlung in Isopropanol gereinigt und anschließend mit Wasser gespült.
  • Aus dem gereinigten Titanträger werden Proben mit einer Größe von 19 cm × 5,5 cm geschnitten, die sodann unter Verwendung einer Titangegenelektrode bei einem Abstand zwischen den zwei Elektroden von 2,4 cm anodisiert werden. In Tabelle 1 sind die verschiedenen Anodisierungsbedingungen aufgelistet. Die Druckplattenvorstufen 1 und 3 werden in einem einzelnen Schritt anodisiert, während Druckplattenvorstufe 2 in drei aufeinander folgenden Schritten anodisiert wird. An jeden Anodisierungsschritt schließt ein Spülschritt mit Wasser an. Tabelle 1: Anodisierungsbedingungen
    Anodisierungsbedingungen
    Druckplattenvorstufe Nummer wässrige Anodisierungslösung Mol/l Gleichspannung V Dauer Min. Temp.* °C
    1 H2SO4 2 20 5 ZT
    2 NaOH 0,2 20 5 ZT
    H2SO4 0,2 20 5 ZT
    NaOH 0,2 20 5 ZT
    3 Oxalsäure 0,6 20 5 ZT
    • * ZT = Zimmertemperatur
  • Anschließend werden die Druckplattenvorstufen bei vermindertem Druck zwei unterschiedlichen Lufttemperbehandlungen unterzogen:
    • 1) 2,10–5 mbar (0,21–0,5 kPa) bei 430°C während 90 Minuten und
    • 1) 2,10–5 mbar (0,21–0,5 kPa) bei 430°C während 180 Minuten
  • Die so erhaltenen Druckplattenvorstufen 1, 2 und 3 werden dann mittels einer Einzelstrahl-IR-Laserdiode bei 830 nm und einer Strahlbreite von 7 μm bei 280 mW und 4 m/s (was einer Energiedichte von 1.000 mJ/cm2 entspricht) und mit einer Einzelstrahl-IR-Laserdiode bei 830 nm und einer Strahlbreite von 7 μm bei 280 mW und 8 m/s (was einer Energiedichte von 500 mJ/cm2 entspricht) bestrahlt.
  • Anschließend an die Bestrahlung werden die Kontaktwinkel der Druckplatten 1, 2 und 3 gemäß der Wassertropfenmesstechnik mit einer Fibro DAT1100-Anlage (Warenzeichen von FIBRO System AB) gemessen. Die Messung der Kontaktwinkel erfolgt 2 ms nachdem sich der Wassertropfen auf die Platte abgesetzt hat. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 aufgelistet. Tabelle 2: Kontaktwinkel vor und nach dem Temperungsschritt
    Druckplatte Nr. Temperungsschritt Kontaktwinkel
    Druckplatte 1 vergleichend keine Temperung 50°
    erfindungsgemäß 90 Min., 430°C, 2,10–5 mbar (0,21–0,5 kPa) 33°
    erfindungsgemäß 180 Min., 430°C, 2,10–5 mbar (0,21–0,5 kPa) 38°
    Druckplatte 2 vergleichend keine Temperung 51°
    erfindungsgemäß 90 Min., 430°C, 2,10–5 mbar (0,21–0,5 kPa) 34°
    erfindungsgemäß 180 Min., 430°C, 2,10–5 mbar (0,21–0,5 kPa) 31°
    Druckplatte 3 vergleichend keine Temperung 42°
    erfindungsgemäß 90 Min., 430°C, 2,10–5 mbar (0,21–0,5 kPa) 28°
    erfindungsgemäß 180 Min., 430°C, 2,10–5 mbar (0,21–0,5 kPa) 27°
  • Die Ergebnisse in Tabelle 2 zeigen, dass die Temperung der Druckplattenvorstufen unter vermindertem Druck in einer Verringerung des Kontaktwinkels resultiert.
  • Nach Laserbestrahlung der Druckplattenvorstufe 3 (ungetemperte Probe und getemperte Probe) wird Druckplatte 3 erhalten. Im Falle der ungetemperten Platte ändert sich dabei der Kontaktwinkel dieser Druckplatte nicht, im Falle der getemperten Platte dagegen nimmt er zu, was auf eine hydrophil/hydrophob-Umwandlung deutet (Tabelle 3). Tabelle 3: Kontaktwinkel nach Laserbestrahlung
    Druckplatte Temperungsschritt Kontaktwinkel nach IR-Laserbestrahlung mJ/cm2
    0 500
    Druckplatte 3 vergleichend keine Temperung 42° 45°
    erfindungsgemäß 90 Min., 430°C, 2,10–5 mbar 28° 38°
    erfindungsgemäß 180 Min., 430°C, 2,10–5 mbar 27° 76°

Claims (5)

  1. Ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung einer negativarbeitenden wärmeempfindlichen lithografischen Druckplattenvorstufe: (i) Bereitstellen eines Trägers mit einer titanhaltigen Oberfläche, (ii) Modifizieren der Oberfläche durch Herstellung eines hydrophilen Titanoxids, wobei dieser Prozess folgende Schritte umfasst: 1) Anodisieren der Oberfläche und 2) Tempern der anodisierten Oberfläche unter vermindertem Druck, wobei das Titanoxid bei Erwärmung und/oder Belichtung mit Infrarotlicht von hydrophil in hydrophob umgewandelt werden kann.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Anodisierungsschritt aus einer Verarbeitung der Oberfläche bei Zimmertemperatur in einer wässrigen Elektrolytlösung besteht, wobei die Elektrolysedauer 1 Minute bis 8 Minuten, das Elektrolytverhältnis 0,005 Mol/l bis 3 Mol/l und die angelegte Gleichspannung 10 V bis 30 V beträgt.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Temperungsschritt 60 bis 240 Minuten bei einer Temperatur zwischen 350°C und 550°C und einem Druck zwischen 1 mbar und 10 mbar (zwischen 0,1 kPa und 1 kPa) stattfindet.
  4. Ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte: (i) Bereitstellen einer nach dem Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche hergestellten lithografischen Druckplattenvorstufe, (ii) bildmäßige Erwärmung der Vorstufe und/oder bildmäßige Belichtung der Vorstufe mit Infrarotlicht, wobei die Oberfläche der Vorstufe in belichteten Bereichen von hydrophil in hydrophob umgewandelt und dabei ein lithografisches Bild auf der Oberfläche erzeugt wird.
  5. Ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes lithografisches Druckverfahren: (i) Bereitstellen einer lithografischen Druckplatte nach dem in Anspruch 4 definierten Verfahren, (ii) Herstellung mehrerer gedruckter Kopien durch Auftrag von Druckfarbe auf die Druckplatte und Übertragung der Druckfarbe auf Papier, (iii) gegebenenfalls Reinigung der Druckplatte durch Entfernung der Druckfarbe von der Platte, (iv) Löschen des lithografischen Bildes durch Flutbelichtung der Druckplatte mit UV-Licht, wobei hydrophobe Bereiche der Oberfläche hydrophil gemacht werden, und (iv) Wiederverwendung der so erhaltenen Vorstufe in einem nächsten, die Schritte (i) bis (iv) umfassenden Zyklus.
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