DE19913643A1 - Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte - Google Patents

Abstract

Offenbart wird ein Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte, welches das Belichten einer Lithografiedruckplatten-Vorstufe mit wenigstens einer hydrophilen Schicht auf einem Träger und einer Silber-Dünnschicht auf der hydrophilen Schicht durch einen Laserstrahl umfaßt, wodurch die Silber-Dünnschicht bildweise entfernt und die hydrophile Schicht freigelegt wird, worin die der Silber-Dünnschicht benachbarte hydrophile Schicht wenigstens ein anorganisches Oxid enthält.

Description

Hintergrund der Erfindung

Diese Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte, insbesondere ein Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte, mit der bei Raumlicht umgegangen werden kann, die mit einem Laser im Erhitzungsmodus ein Bild erzeugen kann, die ein Bild mit hoher Auflösung liefern kann und keine Abfallflüssigkeit durch das Plattenherstellungsverfahren für das Lithografiedruckmaterial erzeugt.

Eine Lithografiedruckplatte umfaßt einen oleophilen Bildbereich, der ölige Tinte annimmt, und einen ölabstoßenden Nicht-Bildbereich, der keine Tinte annimmt. Der Nicht- Bildbereich umfaßt im allgemeinen einen hydrophilen Anteil, der Wasser annimmt. In einer gewöhnlichen Lithografiedruckplatte wird das Drucken durchgeführt, indem sowohl Wasser als auch Tinte der Plattenoberfläche zugeführt werden, wodurch der Bildbereich selektiv die Tinte annimmt und der Nicht-Bildbereich selektiv Wasser annimmt, und indem die Tinte auf dem Bildbereich auf ein zu bedruckendes Material, wie Papier oder dgl., überführt wird.

Eine Lithografiedruckplatte wurde bis jetzt hergestellt durch Bilden einer oleophilen tintenaufnehmenden Schicht auf einem Substrat, wie einer Aluminiumplatte, einer Zinkplatte, Papier oder dgl., deren Oberflächen einer hydrophilen Behandlung unterzogen wurde. Darunter werden im allgemeinen diejenigen verwendet, in denen ein lichtempfindliches Material, wie eine Diazoverbindung oder oder Photopolymer etc., auf einer Aluminiumbasis aufgebracht ist, deren Oberfläche einer hydrophilen Behandlung unterzogen wurde, welches eine sogenannte vorsensibilisierte ("presensitized", PS-) Platte ist, oder diejenigen, in denen ein Bild geformt wird, indem ein S ilberkomplex-Diffusionstransferverfahren (DTR-Verfahren) unter Verwendung eines Silberhalogenids auf Papier oder einem Kunststoffträger als lichtempfindliches Material eingesetzt wird.

Ein Verfahren zur Bildung einer tintenaufnehmenden Schicht (nachfolgend als "Bildschicht" bezeichnet) durch eine Diazoverbindung oder ein Photopolymer umfaßt zuerst die Auftragung eines lichtempfindlichen Materials, wie einer Diazoverbindung, eines Photopolymers oder dgl., auf ein Substrat, wie eine Metallplatte, Papier, eine laminierte Platte, ein isolierendes Substrat oder dgl. Dann wird das lichtempfindliche Material mit Licht belichtet, um eine chemische Veränderung zu verursachen, wodurch die Auflösungseigenschaften gegenüber einer Entwicklerlösung verändert werden. Dabei kann das lichtempfindliche Material in zwei Typen unterteilt werden, abhängig von der Art der chemischen Änderung. Das heißt, eines ist der Negativtyp, in dem der Anteil, der dem Licht ausgesetzt wird, polymerisiert und aushärtet, wodurch er gegenüber der Entwicklerlösung unlöslich wird, und der andere ist der Positivtyp, in dem eine funktionelle Gruppe in dem Anteil, der dem Licht ausgesetzt wird, verändert wird, so daß er Löslichkeit in einer Entwicklerlösung aufweist. In beiden Fällen wird das in einer Entwicklerlösung unlösliche lichtempfindliche Material, das nach der Behandlung mit einer Entwicklerlösung auf dem Substrat zurückbleibt, zu einer Bildschicht.

Andererseits wird eine Lithografiedruckplatte, die das DTR- Verfahren verwendet, insbesondere eine Lithografiedruckplatte mit einer physikalischen Entwicklungskernschicht auf einer Silberhalogenid-Emulsionsschicht z. B. beschrieben in den US-PSen Nrn. 3,728,114, 4,134,769, 4,160,670, 4,336,321, 4,501,811, 4,510,228 und 4,621,041. Die belichteten Silberhalogenid-Mikrokristalle verursachen eine chemische Entwicklung durch den DTR-Entwickler und wandeln sich in schwarzes Silber zur Bildung eines hydrophilen Nicht- Bildbereiches um. Andererseits werden nicht belichtete Silberhalogenid-Mikrokristalle zu einem Silberkomplex durch das Komplexierungsmittel in der Entwicklerlösung, so daß sie zur physikalischen Entwicklungskernschicht an deren Oberfläche diffundieren und eine physikalische Entwicklung in Gegenwart der Kerne verursachen, wodurch ein Bildbereich erzeugt wird, der hauptsächlich physikalisch entwickeltes, tintenaufnehmendes Silber umfaßt. Ebenfalls wird eine Lithografiedruckplatte, in der eine physikalische Entwicklungskernschicht und eine Silberhalogenid- Emulsionsschicht in dieser Reihenfolge auf einem aufgerauhten und eloxierten Aluminiumträger aufgetragen sind, z. B. in den japanischen vorläufigen Patentveröffentlichungen Nrn. 260 491/1988, 116 151/1991, 282 295/1992 und dgl. offenbart. Die oben genannte Lithografiedruckplatte wird bildweise belichtet, gefolgt von DTR-Entwicklung, und die Silberhalogenid-Emulsionschicht wird mit warmem Wasser zur Bildung eines Bildbereiches abgewaschen, der hauptsächlich das physikalisch entwickelte Silber auf der eloxierten Aluminiumbasis umfaßt.

Als Plattenherstellungsschritt des Verfahrens zur Herstellung dieser Druckplatten wurde in der Vergangenheit hauptsächlich ein intermediärer Film oder eine Blockkopie aus Buchstaben, Bildern oder fotografischen Kopien hergestellt, diese wurden auf einer Platte zur Herstellung eines Abschlußfilms zusammengestellt, und dann wurde ein Nahbereich- Belichtungssystem mit UV-Licht oder weißem Licht verwendet.

Ebenfalls wurde ein Verfahren der Laminierung von Blockkopien zur Herstellung einer vollständigen Blockkopie und des Abfotografierens davon mit einer Kamera zur Plattenherstellung verwendet. Einhergehend mit dem Fortschritt in der Computertechnologie wurde jedoch ein Laser-Direkt-Bilderzeugungssystem eingesetzt, in dem digitale Signale der Computerinformation auf eine Belichtungsvorrichtung übertragen werden (Computer zu Platte) und ein lichtempfindliches Material direkt unter Verwendung eines Lasers belichtet wird. Das Laser-Direkt Bilderzeugungssystem besitzt Vorteile hinsichtlich geringer Kosten, Zeitersparnis und hoher Produktivität bei vielen Arten von Produkten mit geringer Größe oder dgl., da die im Verlauf der Bearbeitung zu verwendenden Filme ausgelassen werden können.

Um mit dem Laser-Direkt-Bilderzeugungssystem eingesetzt zu werden, wird bevorzugt ein lichtempfindliches Material mit hoher Empfindlichkeit verwendet. In einer Diazoverbindung oder eine Photopolymer sind die Empfindlichkeiten gering, z. B. einige bis einige Hundert mJ/cm², da eine photochemische Reaktion auftritt. Um das Material zur Belichtung zu verwenden, muß die Laser-Ausgabevorrichtung daher eine hohe Ausgangsleistung aufweisen, wodurch Probleme darin entstehen, daß die Vorrichtung groß oder die Kosten hoch werden.

Wenn ein Bild durch das DTR-Verfahren unter Verwendung eines Silberhalogenids gebildet wird, beträgt dessen Empfindlichkeit andererseits einige µJ/cm², so daß die Belichtung in ausreichender Weise mit einem simplen und einfachen Halbleiter-Laser oder dgl. durchgeführt werden kann. Jedoch besteht ein Nachteil darin, daß die Effizienz und Plattenherstellungsschritte deutlich schlechter werden, da Lagerung, Auftragung auf ein Substrat oder dgl. vor der Belichtung unter Sicherheitslicht durchgeführt werden müssen. Ferner schreitet die Reaktion im Falle der Diazoverbindung oder des Photopolymers bei Raumlicht oder Sonnenlicht fort, und ihre Reaktivitäten ändern sich bei hoher Temperatur. Wenn Sauerstoff zugegen ist, wird dieser darüber hinaus ein Inhibitor für die Reaktion. Daher ist es notwendig, in einer Dunkelkammer oder in einem dunklen Behälter unter sauerstoffarmen Bedingungen zu arbeiten, bis die Belichtung und Entwicklung durchgeführt sind.

Weiterhin wird die Verarbeitung in den obigen Bilderzeugungsverfahren im allgemeinen mit einer Flüssigkeit unter Verwendung einer Entwicklerlösung durchgeführt, so daß ein Nachteil darin besteht, daß die Behandlung der Abfallösung zu einem Umweltaspekt wird. Seit 1995 ist es verboten, Abfallflüssigkeit im Meer zu verklappen, und heutzutage ist die Verarbeitung im trockenen Zustand sehr erwünscht.

Als Material, das die obigen Bedürfnisse erfüllt, wurde eine Druckplatte eines Systems vorgeschlagen, in dem die Bilderzeugung durchgeführt wird, indem eine oleophile Metall- Dünnschicht auf einen Träger mit einer hydrophilen Oberfläche aufgebracht wird und die oleophile Metall-Dünnschicht bildweise durch Bestrahlung mit einem hochenergetischen Laserstrahl im Erhitzungsmodus entfernt wird. Zum Beispiel wird in der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 180 976/1998 ein Verfahren zur Herstellung einer Platte offenbart, in dem eine Laser-Belichtung einer Druckplattenvorstufe im Erhitzungsmodus bewirkt wird, worin eine Silber-Dünnschicht auf einem Träger mit einer hydrophilen Schicht durch DTR-Entwicklung ohne Bewirken der Entwicklung gebildet wird.

Zur Herstellung einer solchen Druckplattenvorstufe ist das Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren effektiv als Verfahren zur Bildung eines Silber-Dünnfilms auf einem Träger. Als erstes System gibt es ein System, in dem ein Material, worin eine physikalische Entwicklungskernschicht auf einem Träger bereitgestellt ist, und ein Material, worin eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht auf einem Träger als Donor für ein Silberkomplexsalz aufgetragen ist, durch einen physikalischen Entwickler geleitet werden, gestapelt und der Diffusionstransferentwicklung unterzogen werden, um Silber auf den physikalischen Entwicklungskernen zur Bildung einer Silber-Dünnschicht auszufällen. Beispiele für das Material, das das System zur Bildung eines Silber-Dünnfilms wie oben erwähnt verwendet, können Copyrapid (Handelsbezeichnung, erhältlich von Agfa Gevaert) oder dgl. einschließen.

Als zweites System wird ein Material, in dem eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht als Donor für das Silberkomplexsalz auf einem Träger bereitgestellt ist, auf dem eine physikalische Entwicklungskernschicht bereitgestellt ist, einer physikalischen Entwicklungsverarbeitung unterworfen, und dann wird die Silberhalogenid- Emulsionsschicht zur Bildung eines Silber-Dünnfilms auf den physikalischen Entwicklungskernen abgewaschen. Beispiele des Einsatzes eines solchen Systems zur Bildung eines Silber- Dünnfilms können Silver Digiplate SDP-αR (Handelsbezeichnung, erhältlich von Mitsubishi Paper Mills Ltd.), Silverlith SDS (Handelsbezeichnung, erhältlich von E.I. DuPont) oder dgl. einschließen.

Gemäß den obigen zwei Typen von Systemen gibt es jedoch Probleme darin, daß die Herstellung der Silberhalogenid- Emulsionsschicht mühselig ist, die Herstellung des Silber- Dünnfilms eine Dunkelkammer erfordert, und dgl.

Als drittes System wird ein Träger, auf dem eine physikalische Entwicklungskernschicht bereitgestellt ist, in eine Lösung eingetaucht, die ein durch ein Silberhalogenid- Lösungsmittel aufgelösten Silberkomplexsalz und ein Reduktionsmittel enthält, um eine Silber-Dünnschicht auf den physikalischen Entwicklungskernen zu bilden. Dieses System ist ebenfalls als stromloses Platierungssystem bekannt und wird z. B. in den japanischen Patentveröffentlichungen Nrn. 23 745/1967 und 12 862/1968 und der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 287 542/1993 offenbart.

Jedoch gibt es gemäß diesen Verfahren, die in den Verweisen zum Stand der Technik offenbart werden, Nachteile darin, daß die gewünschte Druckfähigkeit nicht erhalten werden kann, ein Silberfilm innerhalb kurzer Zeit gebildet werden muß und dgl.

Zusammenfassung der Erfindung

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte bereitzustellen, mit der bei Raumlicht umgegangen werden kann, die für ein Direkt-Bilderzeugungsverfahren durch Laserstrahl geeignet ist, die ein Bild mit hoher Auflösung bereitstellen kann und keine Abfallflüssigkeit durch das Plattenherstellungsverfahren des Lithografiedruckmaterials erzeugt.

Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte bereit zustellen, in dem die Tinten/Wasser-Reaktion verbessert ist, wenn ein Film oder ein polyethylenbeschichtetes Papier als Träger verwendet wird.

Die Autoren der vorliegenden Erfindung haben intensive Untersuchungen betrieben, um die oben genannten Probleme zu lösen, und haben als Ergebnis die folgende Erfindung gemacht.

Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte umfaßt das Belichten einer Lithografiedruckplatten-Vorstufe mit wenigstens einer hydrophilen Schicht auf einem Träger und einer Silber- Dünnschicht auf der hydrophilen Schicht durch einen Laserstrahl, wodurch die Silber-Dünnschicht bildweise entfernt und die hydrophile Schicht freigelegt wird, worin die der Silber-Dünnschicht benachbarte hydrophile Schicht wenigstens ein anorganisches Oxid enthält.

Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen

In der vorliegenden Erfindung ist der Silber- Dünnschichtbereich hydrophob, und der freigelegte Bereich der hydrophilen Schicht ist natürlich hydrophil. Deshalb tritt aufgrund der Gegenwart oder Abwesenheit der Belichtung im Erhitzungsmodus eine Unterscheidung auf der Oberfläche der Lithografiedruckplatte in einen tintenaufnehmenden Bereich und einen tintenabstoßenden (Wasseraufnahme-) Bereich auf. Das heißt, wenn die Platte nach dem Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte der vorliegenden Erfindung hergestellt wird, schmilzt oder verschmilzt die durch die Laserstrahl-Belichtung erhitzte Silber-Dünnschicht thermisch, so daß sie zu feinen Teilchen wird (und danach werden diese feinen Teilchen unter Verwendung einer Entfernungsvorrichtung entfernt, falls erforderlich), wodurch die hydrophile Schicht darunter freigelegt wird, so daß sie ein Nicht-Bildanteil wird, der Tinte abstößt, aber Wasser annimmt. Andererseits verbleibt die Silber-Dünnschicht auf dem Anteil, der nicht erhitzt wird, so daß sie ein Bildanteil wird, der Tinte annimmt, wodurch der Lithografiedruck durchgeführt werden kann.

Zusammen mit der Wärmeverschmelzung der Silber-Dünnschicht durch die Laserstrahl-Belichtung wird jedoch ebenfalls die der Silber-Dünnschicht benachbarte Oberfläche der hydrophilen Schicht auf eine hohe Temperatur erhitzt. Falls daher die Wärmebeständigkeit des Materials, das die Oberfläche der hydrophilen Schicht darstellt, schlecht ist, werden die Oberflächeneigenschaften der hydrophilen Schicht vor der Belichtung durch das Erhitzen verändert, wodurch leicht Flecken beim Drucken hervorgerufen werden.

Selbst wenn es keine sichtbare Veränderung in der Hydrophilie der hydrophilen Schicht gibt, treten, falls die hydrophile Schicht durch die Hochtemperaturerhitzung verschlechtert wird und sich möglicherweise vom Träger ablöst, Flecken beim Drucken leicht auf, die dadurch verursacht werden, wenn der Träger ein Film oder ein polyethylenbeschichtetes Papier ist, daß die Trägeroberfläche keine wesentliche Hydrophilie aufweist, die das Drucken überstehen kann.

In diesem Aspekt besitzt ein anorganisches Oxid im allgemeinen Wärmebeständigkeit und ist deshalb thermisch äußerst stabil. Daher kann durch Zugabe des anorganischen Oxids zur hydrophilen Schicht eine Änderung der Eigenschaften beim Drucken verhindert werden.

In einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist das anorganische Oxid im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte wenigstens eines aus einem Oxid von Elementen, die aus Aluminium, Silizium, Zirkonium und Titan ausgewählt sind.

Durch Zugabe eines Oxids dieser Elemente zur hydrophilen Schicht kann die thermische Veränderung der hydrophilen Schicht verhindert werden, und gemäß den hydrophilen Eigenschaften dieser anorganischen Oxide kann die Lithografiedruckplatte mit ausgezeichneten Tinten/Wasser- Reaktionen beim Drucken versehen werden.

In einer dritten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beträgt die Teilchengröße des anorganischen Oxids im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte 0,001 bis 0,1 µm.

Falls die Teilchengröße größer als 0,1 µm ist, ist es schwierig, einen einheitlichen Film in dem der Silber- Dünnschicht benachbarten Bereich zu bilden, und entsprechend werden ein Bereich, der leicht entfernbar ist, und ein Bereich, der schwierig zu entfernen ist, in der Silber- Dünnschicht bei Laserbelichtung erzeugt, wodurch eine Ungleichheit bezüglich der Entfernbarkeit auftritt.

Durch Verwendung eines anorganischen Oxids mit einer Teilchengröße von 0,001 bis 0,1 µm kann ein einheitlicher und fester Film als hydrophile Schicht gebildet werden, wodurch thermischer Verlust einheitlich über die gesamte hydrophile Schicht verhindert und die Entfernbarkeit der Silber- Dünnschicht einheitlich gemacht werden kann. Entsprechend kann ein Bild mit hoher Auflösung erhalten werden.

In einer vierten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfaßt die Silber-Dünnschicht der Lithografiedruckplatten- Vorstufe im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte physikalisches Entwicklungssilber, das durch das Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren gebildet wird.

Die Silber-Dünnschicht, die durch das Silberkomplex- Diffusionstransferverfahren physikalisch entwickelt wird, hat ein höheres Laser-Absorptionsverhältnis und eine höhere Hydrophilie im Vergleich zu einer durch das Abscheidungsverfahren etc. gebildeten Silber-Dünnschicht, wodurch die Entfernungseffizienz des Silber-Dünnfilms durch Laserstrahl-Belichtung verbessert wird und die Tintenaufnahmefähigkeit des Bildbereiches des Silber- Dünnfilms ansteigt, so daß die Eigenschaften der Lithografiedruckplatte verbessert werden.

In einer fünften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die Silber-Dünnschicht im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gebildet, indem eine hydrophile Schicht mit physikalischen Entwicklungskernen, die ein Oxid wenigstens eines Elements enthält, das ausgewählt ist aus Aluminium, Silizium, Zirkonium und Titan, und wenigstens eine Silberhalogenid-Emulsionsschicht auf einen Träger in dieser Reihenfolge aufgebracht werden, eine Entwicklungsbehandlung durch das Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren ohne Bewirkung von Belichtung durchgeführt wird und die Silberhalogenid-Emulsionsschicht abgewaschen wird, um physikalisches Entwicklungssilber auf den physikalischen Entwicklungskernen in einem Schichtzustand zu bilden.

In einem solchen Schichtaufbau wirkt die physikalische Entwicklungskernschicht ebenfalls als oben genannte hydrophile Schicht, und eine hydrophile Schicht, die ein anorganisches Oxid enthält, kann zusätzlich zwischen der physikalischen Entwicklungskernschicht und dem Träger bereitgestellt werden.

In diesem Verfahren kann die Hydrophilie der freigelegten Oberfläche deutlich verbessert und eine ausgezeichnete Tinten/Wasser-Reaktion erhalten werden. Der genaue Mechanismus dafür ist noch nicht klar, aber es kann angenommen werden, daß der Silber-Dünnfilm und das Oxid der obigen Elemente, das ein anorganisches Oxid ist, äußerst nahe zueinander vorliegen und der Anteil eines solchen Aufbaus sehr groß wird, wodurch die thermische Schädigung der hydrophilen Schicht gering wird.

In einer sechsten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist das anorganische Oxid im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte in der hydrophilen Schicht in einer Menge von 50 Gew.-% oder mehr enthalten.

Zusammen mit der Zunahme des Gehalts des anorganischen Oxids in der hydrophilen Schicht erhöht sich der Anteil der äußerst nahe zueinander vorliegenden Silber-Dünnschicht und des anorganischen Oxids. Wenn der Gewichtsanteil des anorganischen Oxids 50% oder mehr wird, kann die thermische Veränderung in der hydrophilen Schicht deutlich bekämpft werden, und eine ausgezeichnetere Tinten/Wasser-Reaktion zum Zeitpunkt des Druckbeginns kann erhalten werden.

In einer siebten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung setzt sich die Silber-Dünnschicht im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte aus granularen Silberteilchen mit einer mittleren Teilchengröße von 0,005 bis 0,2 µm zusammen.

Die Silber-Dünnschicht, die solche Silberteilchen umfaßt, kann leicht durch eine Laserbelichtung im Erhitzungsmodus entfernt werden, und die Druckfähigkeit ist ebenfalls ausgezeichnet.

In einer achten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung werden die granularen Silberteilchen im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte in Gegenwart eines Silberhalogenid-Lösungsmittels gebildet.

Die so hergestellte Silber-Dünnschicht besitzt eine ausgezeichnete Tintenaufnahmefähigkeit.

In einer neunten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist das Silberhalogenid-Lösungsmittel im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte eine Aminverbindung.

Die so hergestellte Silber-Dünnschicht weist eine noch ausgezeichnetere Tintenaufnahmefähigkeit auf.

In einer zehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die Aminverbindung im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte eine durch die Formel (I) dargestellte Verbindung:

worin wenigstens ein Vertreter aus R¹, R², R³, R⁴ und R⁵ eine substituierte oder unsubstituierte Aminogruppe darstellt; und die verbleibenden Substituenten jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine substituierte oder unsubstituierte, gesättigte oder ungesättigte Alkylgruppe, Cycloalkylgruppe, Alkoxygruppe, Arylgruppe, Acylgruppe, Aroylgruppe oder heterozyklische Gruppe darstellen oder zwei benachbarte dieser Substituenten einen Ring bilden können.

In einer elften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung hat die hydrophile Polymerschicht im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte eine Dicke von 0,01 bis 0,5 µm und ist zusätzlich auf die Silber-Dünnschicht der Lithografiedruckplatte aufgebracht.

Die hydrophile Polymerschicht hat die Aufgabe der Verhinderung der Verschlechterung der Empfindlichkeit, die mit der Änderung der Silber-Dünnschicht-Oberfläche im Zeitverlauf einhergeht. Weil das hydrophile Polymer im infraroten Spektralbereich lichtdurchlässig ist, verursacht es auch eine nachteilige Wirkung auf die Entfernungsempfindlichkeit der Silber-Dünnschicht, wenn eine hydrophile Polymerschicht auf der Silber-Dünnschicht vorhanden ist. Wenn jedoch die Dicke der hydrophilen Polymerschicht innerhalb des obigen Bereiches liegt, wird die Empfindlichkeit nicht wesentlich erniedrigt.

In einer zwölften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung enthält die hydrophile Polymerschicht im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte 1 bis 30 Gew.-% einer hydrophoben Verbindung.

Wenn der Gehalt der hydrophoben Verbindung in der hydrophilen Polymerschicht innerhalb des obigen Bereiches liegt, kann die Tintenaufnahmefähigkeit verbessert werden, ohne daß die Entfernungseffizienz der Silber-Dünnschicht wesentlich beeinflußt wird.

In einer dreizehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die hydrophobe Verbindung im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte eine Verbindung mit einer Mercaptogruppe und wenigstens einem hydrophoben Substituenten.

Falls die hydrophobe Verbindung eine Verbindung mit einer Mercaptogruppe und wenigstens einem hydrophoben Substituenten ist, weist sie eine Wechselwirkung mit der Silber- Dünnschicht-Oberfläche auf, wodurch die Tintenaufnahmefähigkeit verbessert und stabilisiert werden kann.

In einer vierzehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte nach der Freilegung der hydrophilen Schicht durch Laserstrahl-Belichtung, d. h. nach der Laserstrahl-Belichtung, und, falls erwünscht, nach Entfernung des auf der hydrophilen Schicht verbliebenen Rückstandes der Silber-Dünnschicht, eine UV-Belichtung wenigstens auf der hydrophilen Schicht durchgeführt.

Unter den anorganischen Oxiden gibt es Substanzen, die die Oberflächeneigenschaften, insbesondere die hydrophilen/hydrophoben Eigenschaften, durch UV-Belichtung regulieren können. Daher kann durch Ausführung der UV-Belichtung der hydrophilen Schicht, die ein solches anorganisches Oxid enthält, der Kontaktwinkel der hydrophilen Schicht verringert werden, wodurch ein gutes bedruckten Material mit weniger Druckflecken erhalten werden kann.

In einer fünfzehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die UV-Belichtung der Lithografiedruckplatten- Vorstufe im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte nach der Laserstrahl-Belichtung und vor dem Druckbeginn durchgeführt.

Durch Bewirken der UV-Belichtung nach der Laserstrahl- Belichtung und vor dem Druckbeginn kann die Hydrophilie der hydrophilen Schicht, die ein Nicht-Bildbereich ist, verbessert werden, ohne daß die Haftfähigkeit der Silber- Dünnschicht verringert wird, die ein Bildbereich ist.

In einer sechzehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die UV-Belichtung der Lithografiedruckplatten- Vorstufe im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte während der Laserstrahl-Belichtung durchgeführt.

Durch Bewirken der UV-Belichtung während der Laserstrahl- Belichtung wird die durch Laserstrahl-Belichtung freigelegte hydrophile Schicht anschließend den UV-Strahlen ausgesetzt, wodurch die Hydrophilie der hydrophilen Schicht, die ein Nicht-Bildbereich ist, verbessert werden kann, ohne die Gesamt-Plattenherstellungszeit zu verlängern.

In einer siebzehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird als Träger für die Lithografiedruckplatten- Vorstufe im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte ein Film oder ein polyethylenbeschichtetes Papier verwendet.

Ein Film oder ein polyethylenbeschichtetes Papier ist kostengünstiger als eine Aluminiumbasis, aber weist eine schlechtere Oberflächenhydrophilie auf als die Aluminiumbasis, die einer Oberflächenbehandlung unterzogen wurde, um die Oberfläche hydrophil zu machen. Daher waren diese unterlegen bezüglich unterschiedlicher Druckfähigkeitseigenschaften, einschließlich der Tinten/Wasser-Reaktion. Jedoch wird die Hydrophilie im Nicht- Bildbereich verbessert, selbst wenn ein Film oder ein polyethylenbeschichtetes Papier als Träger verwendet wird, indem eine hydrophile Schicht bereitgestellt wird, die ein anorganisches Oxid enthält, und eine Tinten/Wasser-Reaktion kann erhalten werden, die derjenigen einer Aluminiumbasis entspricht, die der Oberflächenbehandlung unterzogen wurde, um die Oberfläche hydrophil zu machen. Ferner kann das anorganische Oxid die physikalische Festigkeit der hydrophilen Schicht verbessern, so daß die Lauflänge ebenfalls verbessert wird.

In einer achtzehnten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die Bilderzeugung im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte durch Verwendung eines Lasers mit einer Ausgangsleistung auf der Lithografiedruckplatten- Vorstufe von 0,1 bis 10 W und einer Silbermenge in der Silber-Dünnschicht von 0,1 bis 1,5 g/m² durchgeführt.

Die Silbermenge in der Silber-Dünnschicht beeinflußt deutlich die Entfernbarkeit des Silber-Dünnfilms durch den bilderzeugenden Laser und die Druckfähigkeit zum Zeitpunkt des Drucks. Falls die Silbermenge in der Silber-Dünnschicht größer als 1,5 g/m² ist, wird die Entfernbarkeit bei der Bilderzeugung schlecht, und Silber bleibt auf der Oberfläche der hydrophilen Oberfläche zurück, so daß als Ergebnis eine Fleckenbildung beim Drucken hervorgerufen wird. Falls andererseits die Silbermenge in der Silber-Dünnschicht kleiner als 0,1 g/m² ist wird die Entfernbarkeit verbessert und die hydrophile Oberfläche wird freigelegt, aber die Lauflänge wird schlechter beim Drucken. Daher kann durch Einstellen der Silbermenge in der Silber-Dünnschicht auf 0,1 bis 1,5 g/m² eine Lithografiedruckplatte hergestellt werden, in der sowohl die Entfernbarkeit als auch die Druckfähigkeit bei der Bilderzeugung gut ausbalanciert und beide ausgezeichnet sind.

Erfindungsgemäß kann eine Lithografiedruckplatte durch Erhitzen des Bereiches, der ein Nicht-Bildbereich wird, mit einem Laserstrahl gemäß den gewünschten, herzustellenden Bildern ohne Verwendung eines flüssigen Entwicklers oder von Vorrichtungen hergestellt werden, die zur Durchführung dieser Behandlungen verwendet werden. Ferner können die Arbeitsschritte bei Raumlicht während des Plattenherstellungsschrittes von der Lithografiedruckplatten- Vorstufe durchgeführt werden, und der Druckschritt kann realisiert werden, und eine lang anhaltende Konservierung bei Raumlicht oder Sauerstoff wird in stabiler Weise möglich.

Die erfindungsgemäße Lithografiedruckplatten-Vorstufe besitzt wenigstens eine hydrophile Schicht auf einem Träger, und eine Silber-Dünnschicht ist zusätzlich darauf aufgebracht. Als Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte der vorliegenden Erfindung wird eine Bestrahlung der Lithografiedruckplatte mit einem Laserstrahl bildweise durchgeführt (Nicht-Bildanteil-Belichtung). Hier wird die Silber-Dünnschicht durch Laserstrahl-Belichtung entfernt (Abtrag), oder nach der Laserstrahl-Belichtung wird der im belichteten Anteil der Druckplattenvorstufe zurückbleibende Rest durch eine Einrichtung wie Vakuumabsaugung oder dgl. entfernt, oder die Silberteilchen werden granuliert, wodurch die Platte fertiggestellt wird, indem zuletzt die hydrophile Schicht in dem Bereich freigelegt wird, der der Nicht- Bildbereich wird. Danach, wenn die Druckplatte in einen Lithografiedrucker eingesetzt wird, wird Tinte vom Bereich der zurückbleibenden Silber-Dünnschicht angenommen, und Wasser wird von der freigelegten hydrophilen Schicht angenommen, wodurch der Druck durchgeführt werden kann.

Die hydrophile Schicht gemäß der Lithografiedruckplatte der vorliegenden Erfindung enthält wenigstens ein anorganisches Oxid.

In der vorliegenden Erfindung bedeutet anorganisches Oxid eine Verbindung, in der wenigstens eine Komponente direkt an Sauerstoff bindet, und zusätzlich zu einem Oxid stellt sie ein Hydroxid, hydratisiertes Oxid und eine Komplexverbindung davon dar. Als Elementkomponente eines solchen anorganischen Oxids können genannt werden: Aluminium, Silizium, Zirkonium, Titan, Beryllium, Zink, Eisen, Zinn, Barium, Silber, Strontium, Bismut, Wolfram etc. Das anorganische Oxid in der vorliegenden Erfindung kann wenigstens eines dieser Elemente enthalten, und diejenigen, die zwei oder mehr Arten davon enthalten, wie Aluminiumsilikat etc., sind ebenfalls eingeschlossen. Spezielle Beispiele für ein solches anorganisches Oxid können z. B. anorganische Oxide einschließen, wie Aluminiumoxid, Siliziumdioxid, Zirkoniumoxid, Titandioxid, Berylliumoxid, Zinkoxid, Eisenoxid, Zinnoxid, Bariumoxid, Silberoxid, Strontiumoxid, Bismutoxid und Wolframoxid; anorganische Hydroxide, wie Aluminiumhydroxid, Siliziumhydroxid, Zirkoniumhydroxid, Titanhydroxid, Berylliumhydroxid, Zinkhydroxid, Eisenhydroxid, Zinnhydroxid, Bariumhydroxid, Silberhydroxid, Strontiumhydroxid, Bismuthydroxid und Wolframhydroxid; hydratisierte anorganische Oxide der oben genannten anorganischen Oxide; und eine zusammengesetzte Verbindung daraus.

Diese anorganischen Oxide, die in der vorliegenden Erfindung bevorzugt in Form feiner Teilchen verwendet werden, sind ausgezeichnet bezüglich der Wärmebeständigkeit und schwierig in einem Lösungsmittel für Tinte und Sprühlösung aufzulösen. Die bevorzugte Teilchengröße des anorganischen Oxids in der vorliegenden Erfindung beträgt 0,001 bis 0,1 µm, besonders bevorzugt 0,005 bis 0,05 µm. Ebenfalls wird in der herkömmlichen Silbersalz-Druckplatte, die einen Träger auf Film- oder Papierbasis verwendet, eine Verbesserung der Lauflänge oder der Hydrophilie erreicht, indem ein anorganisches Oxid, wie Siliziumdioxid oder Titandioxid, mit einer relativ hohen Teilchengröße, wie z. B. 0,1 bis 10 µm, verwendet wird, um eine Unebenheit der Oberfläche der hydrophilen Schicht zu erzeugen, und diese anorganischen Oxide können in Kombination mit den anorganischen Oxiden der vorliegenden Erfindung verwendet werden.

Hinsichtlich der Hydrophilie und der Tinten/Wasser-Reaktion beim Druck ist von diesen anorganischen Oxiden wenigstens ein Oxid eines Elements besonders bevorzugt, das ausgewählt ist aus Aluminium, Silizium, Zirkonium und Titan. In der vorliegenden Erfindung wird das anorganische Oxid in Form einer Dispersion verwendet, und als eine solche Dispersion werden ein Aluminiumoxidsol, kolloidales Silika, Titanoxidsol und Zirkoniumoxidsol bevorzugt verwendet. Diese Sole können wäßrige Sole sein oder können ein Organosol unter Verwendung eines organischen Lösungsmittels sein. Diese Materialien können einzeln oder in Kombination aus zwei oder mehr Arten mit unterschiedlichen Zusammensetzungen, Korngrößen etc. verwendet werden.

Das anorganische Oxid in der vorliegenden Erfindung kann einer Behandlung zur Oberflächenmodifizierung mit einem geeigneten Oberflächenmodifizierer unterzogen werden, um die ionischen Eigenschaften oder die Dispergierfähigkeit zu verbessern. Als Oberflächenmodifizierer können z. B. verschiedene Arten ionischer Spezies, verschiedene Arten von Tensiden sowie Kuppler verwendet werden, die Silizium, Titan, Aluminium etc. enthalten. Ferner kann als Dispersionsstabilisator ein Kation, das aus einem Alkalimetall oder Ammonium etc. stammt, oder ein Anion, das aus Essigsäure, Salzsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure etc. stammt, enthalten sein.

Wenn das anorganische Oxid in der vorliegenden Erfindung selbst einen Film bildet oder einen anorganischen Oxidfilm mit Lauflänge in Kombination mit einem Härter bildet, dann kann die hydrophile Schicht in der vorliegenden Erfindung ein anorganisches Oxid umfassen, falls erwünscht. Ebenfalls kann in der hydrophilen Schicht in der vorliegenden Erfindung ein hydrophiles Polymer etc. in Kombination verwendet werden.

Wenn das hydrophile Polymer etc. verwendet wird, beträgt der Gewichtsanteil (Gehalt) des anorganischen Oxids in der hydrophilen Schicht in der vorliegenden Erfindung bevorzugt 50 Gew.-% oder mehr. Die so hergestellte hydrophile Schicht kann deutlich die thermischen Veränderungen der hydrophilen Schicht durch Laserstrahl-Belichtung bekämpfen und resultiert nicht nur in einer ausgezeichneten Fleckenbeständigkeit beim Drucken, sondern ebenfalls in einer ausgezeichneten Tinten/Wasser-Reaktion. Besonders bevorzugt beträgt der Gehalt des anorganischen Oxids 70 Gew.-% oder mehr, noch mehr bevorzugt 80 Gew.-% oder mehr.

Als in der hydrophilen Schicht in der vorliegenden Erfindung zu verwendendes hydrophiles Polymer können die folgenden Beispiele genannt werden. Diese Materialien können in Kombination aus zwei oder mehr Arten hinsichtlich der Druckeigenschaften, wie Hintergrundfleckenbildung oder Lauflänge, verwendet werden.

Als natürliche Materialien können diejenigen genannt werden, die erhalten werden aus Algen, wie Stärken, Mannan aus Meeresalgen, Agar und Natriumalginat; pflanzliches Viskosematerial, wie Mannan, Pektin, Tragacanthharz, Karayagummi, Xanthingummi, Guajakgummi, Johannisbrotkerngummi und Gummi arabicum; Viskosematerialien von Mikroorganismen, einschließlich Homopolysaccharide, wie Dextran, Glucan, Xanthangummi und Levan; und Heteropolysaccharide, wie Succinoglucan, Pullulan, Curdlan und Xanthangummi; Proteine, wie Leim, Gelatine, Kasein und Collagen; Chitin und Derivate davon, und dgl.

Ebenfalls können als halbnatürliche (halbsynthetische) Materialien genannt werden: modifizierte Gummistoffe, wie Cellulosederivate und Carboxymethylguajakgummi; modifizierte Stärken, einschließlich geröstete Stärken, wie Dextrin; oxidierte Stärken, veresterte Stärken und dgl.

Als synthetische Materialien können genannt werden:
Polyvinylalkohol, modifizierte Polyvinylalkohole, wie teilweise acetalisierter Polyvinylalkohol, allylmodifizierter Polyvinylalkohol, Polyvinylmethylether, Polyvinylethylether, Polyvinylisobutylether etc.; Polyacrylsäurederivate und Polymethacrylsäurederivate, wie Polyacrylsäuresalze, teilweise verseifte Produkte von Polyacrylaten, Polymethacrylsäuresalze und Polyacrylamide; Polyethylenglykol, Polyethylenoxid, Polyvinylpyrrolidon, Vinylpyrrolidon/Vinylacetat-Copolymer, Carboxyvinyl­ polymerisiertes Material, Styrol/Maleinsäure-Copolymer, Styrol/Crotonsäure-Copolymer und dgl.

Von diesen wird Gelatine bevorzugt verwendet zur Bildung des Silber-Dünnfilms durch das Silberkomplex- Diffusionstransferverfahren, wenn die hydrophile Schicht ebenfalls als Silberhalogenid-Emulsionsschicht verwendet wird.

Als in der hydrophilen Schicht in der vorliegenden Erfindung zu verwendende Gelatine kann jede Gelatine, die aus tierischem Kollagen hergestellt wird, als Ausgangsmaterial verwendet werden, aber bevorzugt wird Gelatine verwendet, die aus Kollagen hergestellt wird, das aus Schweinehaut, Rinderhaut und Rinderknochen erhalten wird. Ebenfalls gibt es keine spezielle Beschränkung der Gelatineart, aber zusätzlich zur alkalibehandelten Gelatine und säurebehandelten Gelatine können Gelatinederivate verwendet werden, wie sie offenbart sind in den japanischen Patentveröffentlichungen Nrn. 4854/1963, 5514/1964, 12 237/1965 und 26 345/1967; den US-PSen Nrn. 2,525,753, 2,594,293, 2,594,293, 2,614,298, 2,763,639, 3,118,766, 3,132,945, 3,186,846, 3,312,553 und GB-PS 1,033,189. Diese Materialien können einzeln oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden.

Wenn Gelatine als hydrophile Schicht verwendet wird, kann sie durch ein Gelatinehärtungsmittel gehärtet werden. Als Gelatinehärtungsmittel können z. B. genannt werden: anorganische Verbindungen wie Chromalaun; Aldehyde, wie Formalin, Glyoxal, Malealdehyd und Glutaraldehyd; N-Methylalverbindungen, wie Harnstoff, Ethylenharnstoff etc.; aldehydanaloge Verbindungen, wie Mucochlorsäure und 2,3-Dihydroxy-1,4-dioxan; Verbindungen mit aktivem Halogen, wie 2,4-Dichlor-6-hydroxy-S-triazinsalz und 2,4-Dihydroxy-6- chlor-S-triazinsalz; Divinylsulfon, Divinylketon, N,N,N- Triacryloylhexahydrotriazin, Verbindungen mit einer Ethyleniminogruppe, die ein aktiver dreigliedriger Ring ist, oder wenigstens zwei Epoxygruppen im Molekül und Dialdehydstärken als Polymerhärtungsmittel oder dgl., und diese Verbindungen können einzeln oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden.

Ebenfalls kann die hydrophile Schicht in der vorliegenden Erfindung gebildet werden durch Auflösen oder Dispergieren einer Zusammensetzung, aus der die hydrophile Schicht besteht, in einem geeigneten Lösungsmittel und deren Auftragung auf einen Träger, der als Lithografiedruckplatten- Vorstufe verwendet wird, gefolgt von Trocknung. Um eine Beschichtungslösung zur Herstellung einer hydrophilen Schicht gut herzustellen oder die Beschichtungseigenschaften zu verbessern, kann wenigstens ein anionisches, kationisches oder nichtionisches Tensid als Beschichtungshilfe verwendet werden, und ein Mattierungsmittel, ein Verdickungsmittel oder ein Antistatikmittel können ebenfalls in Kombination verwendet werden.

Die Silber-Dünnschicht in der vorliegenden Erfindung kann durch ein herkömmlich bekanntes Mittel zur Bildung eines Metall-Dünnfilms erzeugt werden, wie Vakuumabscheidung, Sputtern, CVD ("Chemical Vapor Deposition"), Metallisieren etc. Andererseits kann die Silber-Dünnschicht erzeugt werden unter Verwendung des Verfahrens der physikalischen Entwicklung unter Verwendung des Silberkomplexsalz- Diffusionstransferverfahrens. In diesem Verfahren, wenn es als Druckplatte verwendet wird, ist nicht nur reines metallisches Silber, sondern sind ebenfalls sogenannte lipophile Verunreinigungen, wie Oxide, Sulfide etc., in gemischter Form in der Silber-Dünnschicht vorhanden, die der Bildbereich wird, und eine Oberflächenunebenheit wird in geeigneter Weise in mikroskopischer Hinsicht geformt, obwohl es ein kontinuierlicher Film ist. Dadurch wird die Adsorption von Tinte bei der Durchführung dieses Verfahrens besser als bei der Durchführung anderer Verfahren, und das Laser- Absorptionsverhältnis steigt an, und die Empfindlichkeit des Lithografiedruckmaterials wird ebenfalls gesteigert. Ferner ist es dahingehend bevorzugt, daß die industrielle Massenprodukten auf einfache Weise durchgeführt werden kann.

In der vorliegenden Erfindung wird eine Silber-Dünnschicht bevorzugt verwendet, die Silberteilchen mit einer mittleren Teilchengröße von 0,005 bis 0,2 µm umfaßt. Die Silber- Dünnschicht, die solche Silberteilchen umfaßt, wird leicht durch Belichtung unter Verwendung eines Laserstrahls im Erhitzungsmodus entfernt, und ihre Druckfähigkeit ist ebenfalls ausgezeichnet. In einer Silber-Dünnschicht, die Silberteilchen mit einer mittleren Teilchengröße von mehr als 0,2 µm umfaßt, oder in einer Silber-Dünnschicht, die Silberteilchen mit einer mittleren Teilchengröße von weniger als 0,005 µm umfaßt, hergestellt durch Vakuumabscheidung, ist die Tintenaufnahmefähigkeit der Silber-Dünnschicht schlecht, so daß die Bildqualität des bedruckten Materials ebenfalls schlecht wird.

In der vorliegenden Erfindung sind drei Typen von Systemen des Silberkomplex-Diffusionstransferverfahrens als bevorzugte Verfahren zur Herstellung der Silber-Dünnschicht bekannt. Von diesen drei Typen von Systemen werden die ersten zwei Systeme in der Praxis in einer Plattenherstellungskamera oder einer Laser-Belichtungsmaschine vom Fotomodus verwendet. Die Druckfähigkeit der durch diese Verfahren gebildeten Silber- Dünnschicht hängt von den plattenaufbauenden Elementen ab, wie der Schichtzusammensetzung der Platte, der Halogenzusammensetzung der Silberhalogenid-Emulsion, der mittleren Teilchengröße der Emulsionsteilchen, dem Entwicklungsinhibitor oder dgl.; von den Elementen, aus denen sich die Diffusionstransfer-Entwicklerlösung zusammensetzt, wie dem Entwicklungsmittel, der Silberhalogenid-Emulsion, dem Entwicklungsinhibitor oder dgl.; und von den Bedingungen der Diffusionstransfer-Entwicklungsbehandlung. Bezüglich dieser Faktoren werden sie z. B. offenbart in den US-PSen Nrn. 3,728,114, 4,134,769, 4,160,670, 4,336,321, 4,501,811, 4,510,228 und 4,621,041, den japanischen vorläufigen Patentveröffentlichungen Nrn. 260 491/1988, 116 151/1991 und 282 295/1992 oder dgl. Die Einstellung der Silberteilchen, die in der Silber-Dünnschicht enthalten sind, auf 0,005 bis 0,2 µm kann erreicht werden durch Optimieren dieser bekannten Techniken.

Bezüglich des dritten Systems wird dieses in den japanischen Patentanmeldungen Nrn. 304 390/1997, 304 391/1997, 304 392/1997, 304 393/1997 und 304 394/1997 offenbart, und durch Optimierung der Zusammensetzung der Behandlungslösung, die aus einem Entwicklungsmittel, einem Silberhalogenid-Lösungsmittel, einem Silbersalz etc. zusammengesetzt ist, können die Silberteilchen, die in der Silber-Dünnschicht enthalten sind, gemäß den darin offenbarten Techniken auf 0,005 bis 0,2 µm eingestellt werden, wodurch eine vorteilhafte Druckfähigkeit erhalten werden kann.

Als Verfahren zur Messung der Teilchengröße der Silberteilchen, die in der Silber-Dünnschicht enthalten sind, kann ein Verfahren genannt werden, in dem die Silber- Dünnschicht fotografiert wird und die Größe der entsprechenden Silberteilchen auf der Fotografie gemessen wird und daraus der Mittelwert berechnet wird. In einem simplen und einfachen Verfahren werden Teilchen mittlerer Größe ausgewählt, und die Größen dieser Teilchen werden gemessen.

In der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, physikalische Entwicklungskerne zur Herstellung eines guten Silber- Dünnfilms zum Zeitpunkt der Herstellung zu verwenden. Als physikalische Entwicklungskerne können genannt werden: feine Metallkolloidteilchen aus Silber, Antimon, Bismut, Cadmium, Cobalt, Blei, Nickel, Palladium, Rhodium, Gold, Platin und dgl. oder ein Sulfid, ein Polysulfid, ein Selenid dieser Metalle oder eine Mischung daraus oder ein gemischter Kristall daraus.

Zur Bildung einer Schicht durch vorhergehendes Auftragen physikalischer Entwicklungskerne kann ein hydrophiles Polymer in Kombination mit den physikalischen Entwicklungskernen verwendet werden. Als in der physikalischen Entwicklungskernschicht zu verwendendes hydrophiles Polymer kann z. B. genannt werden: Gelatine, Stärke, Dialdehydstärke, Carobxymethylcellulose, Gummi arabicum, Natriumalginat, Hydroxyethylcellulose, Polystyrolsulfonsäure, Natriumpolyacrylat, ein Copolymer aus Vinylimidazol und Acrylamid, ein Copolymer aus Acrylsäure und Acrylamid, eine hydrophiles Polymer, wie Polyvinylalkohol oder dgl., oder ein Oligomer davon, und deren Gehalt beträgt bevorzugt 0,5 g/m² oder weniger.

Zur physikalischen Entwicklungskernschicht kann ein Entwicklungsmittel, wie Hydrochinon, Methylhydrochinon, Catechol etc., oder ein bekanntes Filmhärtungsmittel, wie Formalin, Dichlor-S-Triazin etc., zusätzlich hinzugegeben werden. Ebenfalls wird in einer bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wenigstens ein Oxid eines Elements aus der Gruppe aus Aluminium, Silizium, Zirkonium und Titan zur physikalischen Entwicklungskernschicht hinzugegeben. Diese Oxide können die gleichen sein wie diejenigen, die in der hydrophilen Schicht in der vorliegenden Erfindung verwendet werden.

Wenn eine Silberhalogenid-Emulsionschicht als Donor für Silberionen zur Bildung der Silber-Dünnschicht bereitgestellt wird, können ebenfalls Silberhalogenide, wie Silberchlorid, Silberbromid, Silberchlorbromid und Silberjodid, verwendet werden, und sie werden in Form von Kristallen verwendet. Die Silberhalogenidkristalle können ein Schwermetallsalz enthalten, wie Rhodiumsalz, Iridiumsalz, Palladiumsalz, Rutheniumsalz, Nickelsalz, Platinsalz etc., und deren Menge beträgt 10^-8 bis 10^-3 Mol pro Mol Silberhalogenid. Die Kristallform des Silberhalogenids ist nicht besonders beschränkt, und es können kubische oder tetradekaedrische Teilchen und zusätzlich solche vom Kern-Hülle-Typ oder tafelförmige Teilchen sein. Die Silberhalogenidkristalle können monodisperse oder polydisperse Kristalle sein, und ihre mittlere Teilchengröße liegt im Bereich von 0,2 bis 0,8 µm. Als ein bevorzugtes Beispiel können monodisperse oder polydisperse Kristalle genannt werden, die 80 Mol-% oder mehr Silberchlorid und ein Rhodiumsalz oder ein Iridiumsalz enthalten.

Wenn die Herstellung des Silber-Dünnfilms unter Verwendung des dritten Verfahrens durchgeführt wird, ist ebenfalls die Art der Silberionen nicht besonders beschränkt, aber sie werden ausgewählt aus Silbernitrat und Silberhalogenid, wie Silberchlorid, Silberbromid, Silberjodid, Silberchlorbromid, Silberchlorjodid, Silberchlorbromjodid und dgl.

In der vorliegenden Erfindung kann als Reduktionsmittel, das zur Herstellung des Silber-Dünnfilms zu verwenden ist, Hydrochinon, Phenylendiamin, Phenidon, Dimethylphenidon und dgl. verwendet werden.

Die Entwicklungsverarbeitungslösung zur Bildung der Silber- Dünnschicht kann eine alkalische Substanz zur Einstellung des pH enthalten, wie Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, tertiäres Natriumphosphat etc.; oder eine saure Substanz, wie Schwefelsäure, Salpetersäure, Phorphorsäure etc.; ein Konservierungsmittel wie ein Sulfit; ein Silberhalogenid-Lösungsmittel, wie ein Thiosulfat, ein Thiocyanat, ein zyklisches Imid, 2-Mercaptobenzoesäure, eine Aminverbindung etc.; ein Verdickungsmittel, wie Hydroxyethylcellulose, Carboxymethylcellulose etc.; ein Antischleiermittel wie Kaliumbromid; einen Entwicklungsmodifizierer, wie eine Polyoxyethylenverbindung, eine Oniumverbindung etc. Ferner kann in der Entwicklungsbehandlungslösung eine Verbindung verwendet werden, die die Tintenaufnahmefähigkeit der Oberfläche des Silber-Dünnfilms verbessert, wie sie offenbart wird in US-PS 3,776, 728.

Wenn in der vorliegenden Erfindung eine Silber-Dünnschicht hergestellt werden soll, die granulare Silberteilchen umfaßt, wird dies bevorzugt in Gegenwart einer Verbindung durchgeführt, die ein Silberhalogenid-Lösungsmittel wird. Die so hergestellte Silber-Dünnschicht weist eine ausgezeichnete Tintenaufnahmefähigkeit auf. Als in der vorliegenden Erfindung zu verwendendes Silberhalogenid-Lösungsmittel können z. B. genannt werden: ein Sulfit (z. B. wasserfreies Natriumsulfit, wasserfreies Kaliumsulfit etc.), ein Thiosulfit (z. B. Natriumthiosulfit-hexahydrat, Ammoniumthiosulfit etc.) und eine Aminverbindung oder dgl. Unter den oben genannten Silberhalogenid-Lösungsmitteln wird die Aminverbindung bevorzugt in der vorliegenden Erfindung verwendet. Die so hergestellte Silber-Dünnschicht weist eine noch ausgezeichnetere Tintenaufnahmefähigkeit auf.

In der vorliegenden Erfindung kann die als Silberhalogenid- Lösungsmittel zu verwendende Aminverbindung Ammoniak und diejenigen Aminverbindungen einschließen, die substituiert sind mit einer substituierten oder unsubstituierten und gesättigten oder ungesättigten Alkylgruppe, Cycloalkylgruppe, Alkoxygruppe, Arylgruppe, Alkanoylgruppe, Aroylgruppe oder heterozyklischen Gruppe, und diese Substituenten können zur Bildung eines Rings miteinander verbunden sein.

Nachfolgend sind spezielle Beispiele der Aminverbindungen gezeigt, aber die vorliegende Erfindung ist nicht darauf beschränkt.

Ebenfalls ist in der vorliegenden Erfindung die durch die folgende Formel (I) dargestellte Verbindung besonders bevorzugt als Aminverbindung.

worin wenigstens ein Vertreter aus R¹, R², R³, R⁴ und R⁵ eine substituierte oder unsubstituierte Aminogruppe darstellt; und die verbleibenden Substituenten jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine substituierte oder unsubstituierte, gesättigte oder ungesättigte Alkylgruppe, Cycloalkylgruppe, Alkoxygruppe, Arylgruppe, Acylgruppe, Aroylgruppe oder heterozyklische Gruppe darstellen oder zwei benachbarte dieser Substituenten einen Ring bilden können.

Wenn in der Verbindung der Formel (I) die Aminogruppe einen Substituenten aufweist, ist der Substituent eine substituierte oder unsubstituierte und gesättigte oder ungesättigte Alkylgruppe, Cycloalkylgruppe, Alkoxygruppe, Arylgruppe, Acylgruppe, Aroylgruppe oder heterozyklische Gruppe, und zwei benachbarte dieser Substituenten können durch gegenseitige Kombination einen Ring bilden. Als Halogenatom können ein Chloratom, ein Bromatom, ein Jodatom oder dgl. genannt werden.

Die obige Alkylgruppe kann zusätzlich mit einer geeigneten Gruppe substituiert sein (z. B. mit einem Halogenatom, einer Alkoxygruppe etc.). Eine bevorzugte Alkylgruppe ist diejenige mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, insbesondere eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine n-Propylgruppe, eine n-Hexylgruppe, eine Trichlormethylgruppe, eine Vinylgruppe oder dgl.

Die obige Cycloalkylgruppe ist eine Cycloalkylgruppe mit ca. 3 bis 10 Kohlenstoffatomen und kann zusätzlich substituiert sein mit einer geeigneten Gruppe (z. B. einer Alkylgruppe, einem Halogenatom, einer Alkoxygruppe etc.). Spezielle Beispiele dafür können eine Cyclohexylgruppe, eine Cyclopentylgruppe oder dgl. einschließen.

Die obige Alkoxygruppe kann geradkettig oder verzweigt sein und kann zusätzlich mit einer geeigneten Gruppe substituiert sein (z. B. einer Alkylgruppe, einem Halogenatom, einer Alkoxygruppe etc.). Eine bevorzugte Alkoxygruppe ist diejenige mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, insbesondere eine Methoxygruppe, eine Ethoxygruppe, eine n-Propoxygruppe, eine n-Hexyloxygruppe oder dgl.

Als obige Arylgruppe ist eine aromatische Gruppe, wie eine Phenylgruppe, eine Naphthylgruppe oder dgl. bevorzugt, und diese aromatischen Gruppen können mit einer geeigneten Gruppe substituiert sein (z. B. einem Halogenatom, einer Alkylgruppe, einer Alkoxygruppe, einer Nitrogruppe etc.).

Als obige Acylgruppe kann eine geradkettige oder verzweigte Acylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen genannt werden, und spezielle Beispiele dafür sind eine Formylgruppe, eine Acetylgruppe, eine Propionylgruppe, eine Pivaloylgruppe oder dgl.

Als Arylgruppen-Anteil der obigen Aroylgruppe wird eine aromatische Gruppe, wie eine Phenylgruppe, eine Naphthylgruppe oder dgl. bevorzugt genannt. Diese aromatischen Gruppen können mit einer geeigneten Gruppe substituiert sein (z. B. einem Halogenatom, einer Alkylgruppe, einer Alkoxygruppe, einer Nitrogruppe etc.).

Als obige heterozyklische Gruppe können z. B. genannt werden: eine substituierte oder unsubstituierte Pyridylgruppe, Furylgruppe, Thienylgruppe oder dgl.

Spezielle Beispiele für die durch die Formel (I) dargestellte Verbindung sind nachfolgend aufgezählt.

Diese Silberhalogenid-Lösungsmittel, die die oben genannten Aminverbindungen einschließen, werden bevorzugt in einer Menge von 0,1 bis 100 Mol, bevorzugt 1 bis 50 Mol, verwendet, bezogen auf die Grammionenzahl der Silberionen. Diese Silberhalogenid-Lösungsmittel werden einzeln oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet.

In der Silber-Dünnschicht nach der physikalischen Entwicklung der Lithografie-Druckplattenvorstufe der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, durch ein optionales bekanntes Tensid ihre Tintenaufnahmeeigenschaft zu modifizieren oder ihre Aufnahmefähigkeit zu erhöhen.

Solche Behandlungslösungen werden z. B. offenbart in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 29 723/1973, US-PS 3,721,559 oder dgl.

Um die Entfernung der Silber-Dünnschicht durch Laserstrahl- Bestrahlung zu unterstützen oder die Effizienz (d. h. die "Empfindlichkeit" der Lithografiedruckplatten-Vorstufe der vorliegenden Erfindung) der Freilegung der hydrophilen Schicht zu verbessern, kann in der vorliegenden Erfindung ein Lichtabsorptionsmittel, das den Laserstrahl absorbiert, entweder dem Träger oder der hydrophilen Schicht zugegeben werden. Selbst wenn ein Teil des Laserstrahls durch die Silber-Dünnschicht hindurchtritt, wird dieser gemäß diesem Aufbau in der unteren Schicht absorbiert, so daß die thermische Effizienz verbessert werden kann.

Als für die obige Aufgabe einzusetzendes lichtabsorbierendes Mittel kann ein gewöhnlicher Farbstoff oder ein Pigment genannt werden, die einen Absorptionsbereich im Laserstrahl- Belichtungsbereich aufweisen, wie Ruß, Graphit, Kupfersulfid, Zinksulfid, Molybdäntrisulfid, schwarzes Titandioxid, metallfreies oder Metall-Phthalocyanin, Farbstoffe der Polymethin-Serie (Cyaninfarbstoffe), Azuleniumfarbstoffe, Pyryliumfarbstoffe, Thiopyryliumfarbstoffe, Farbstoffe der Squarylium-Serie, Farbstoffe der Crocoonium-Reihe, Thio- Nickel-Komplex-Chlorfarbstoffe, Farbstoffe der Mercaptophenol- oder Mercaptonaphthol-Komplexreihe, Farbstoffe der Triarylmethanreihe, Farbstoffe der Immonium- oder Diimmonium-Reihe, Farbstoffe der Anthrachinon-Reihe oder dgl.

In der Lithografiedruckplatten-Vorstufe der vorliegenden Erfindung kann eine hydrophile Polymerschicht auf den Silber- Dünnfilm aufgebracht werden. Durch Aufbringen einer hydrophilen Polymerschicht auf den Silber-Dünnfilm kann die Verschlechterung der Empfindlichkeit der Silber-Dünnschicht verhindert werden, die von der Veränderung der Oberfläche der Schicht im Verlauf der Zeit begleitet wird. Als in der hydrophilen Polymerschicht zu verwendendes hydrophiles Polymer können diejenigen verwendet werden, die optional ausgewählt sind aus den oben genannten, in der hydrophilen Schicht der vorliegenden Erfindung zu verwendenden hydrophilen Polymeren. Das in der hydrophilen Polymerschicht zu verwendende hydrophile Polymer kann gleich oder verschieden von demjenigen sein, das in der hydrophilen Schicht verwendet wird, und kann einzeln oder in Kombination aus zwei oder mehr Arten verwendet werden.

Die Dicke der hydrophilen Polymerschicht, die auf den Silber- Dünnfilm aufgebracht wird, beträgt bevorzugt 0,01 bis 0,5 µm. Falls die Dicke der hydrophilen Polymerschicht geringer als 0,01 µm ist, ist der Effekt der Fleckenbildungsverhinderung gering, wohingegen, falls sie 0,5 µm überschreitet, ein nachteiliger Effekt auf die Entfernungseffizienz der Silber- Dünnschicht verursacht und die Anhaftung der Tinte im Bildbereich manchmal verzögert wird, weil das hydrophile Polymer eine Lichtdurchlässigkeit im infraroten Spektralbereich aufweist, so daß dies nicht bevorzugt ist.

In der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, eine hydrophobe Verbindung in der hydrophilen Polymerschicht in einer Menge von 1 bis 30 Gew.-% hinzuzugeben, bezogen auf das Gesamtgewicht der hydrophilen Polymerschicht. Falls die Menge der hydrophoben Verbindung in der hydrophilen Polymerschicht innerhalb des obigen Bereiches ist, kann die Tintenaufnahmefähigkeit verbessert werden, ohne daß die Entfernungseffizienz des Silber-Dünnfilms wesentlich beeinflußt wird. Wenn granulare Silberteilchen mit einem mittleren Teilchendurchmesser von 0,005 bis 0,2 µm verwendet werden, können diese selbst Tinte aufnehmen, aber durch Zugabe einer hydrophoben Verbindung zur hydrophilen Polymerschicht kann die Tintenaufnahmefähigkeit stabilisiert werden.

Als in der vorliegenden Erfindung zu verwendende hydrophobe Verbindung kann z. B. genannt werden: Phthalsäureester, wie Diethylphthalat, Dibutylphthalat etc.; Phosphorsäureester, wie Tricresylphosphat etc.; bekannte Öle; und verschiedene Arten von tierischen Ölen und pflanzlichen Ölen. Ebenfalls sind Mercaptotetrazol-Derivate mit einer hydrophoben Gruppe, wie Phenylmercaptotetrazol etc., wirksam, und eine hydrophobe Verbindung mit einer Mercaptogruppe und wenigstens einem hydrophoben Substituenten ist geeignet. Beispiele für solche hydrophoben Verbindungen können z. B. zusätzlich zu den Mercaptotetrazol-Derivaten, wie dem Phenylmercaptotetrazol etc., ein durch die folgende Formel (II) dargestelltes Mercaptotriazol-Derivat und ein durch die Formel (III) dargestelltes Mercaptooxadiazol-Derivat einschließen:

worin R⁶ eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe darstellt; und R⁷ ein Wasserstoffatom oder eine Acylgruppe darstellt;

worin R⁶ die gleiche Bedeutung wie oben definiert hat.

In der obigen Formel (II) ist R⁶ bevorzugt eine Alkylgruppe mit 3 bis 16 Kohlenstoffatomen.

Ferner wird als hydrophobe Verbindung bevorzugt eine Verbindung verwendet, die Tintenaufnahmefähigkeit liefert. Beispiele dafür sind z. B. genannt in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 29 723/1973 und in US-PS 3,721,559, und diese Verbindungen können zu diesem Zweck verwendet werden.

Die hydrophile Polymerschicht, die eine hydrophobe Verbindung enthält, kann nach Bildung der Silber-Dünnschicht gebildet werden, indem eine Zusammensetzung zur Bildung der Schicht auf der Silber-Dünnschicht aufgetragen wird. Die hydrophobe Verbindung kann zur wäßrigen hydrophilen Polymerlösung unter Verwendung einer bekannten Öldispersionstechnik oder nach Auflösung in einem geeigneten Lösungsmittel und anschließender Zugabe zur wäßrigen hydrophilen Polymerlösung hinzugegeben werden. Ebenfalls kann die Verbindung mit einer Mercaptogruppe und wenigstens einem hydrophoben Substituenten zur hydrophilen Polymerlösung hinzugegeben werden, indem sie unter Verwendung einer Aminverbindung aufgelöst wird, wie sie in den japanischen vorläufigen Patentveröffentlichungen Nrn. 79 982/1994 und 248 630/199.5 beschrieben wird.

Ebenfalls kann in der vorliegenden Erfindung nach der Freilegung der hydrophilen Schicht, gleichzeitig mit der Laser-Belichtung oder nach der Laser-Belichtung, eine UV-Belichtung wenigstens der hydrophilen Schicht durchgeführt werden. Die hier genannte UV-Belichtung meint eine Bestrahlung mit UV-Strahlen mit einer Wellenlänge von 450 nm oder weniger, bevorzugt ca. 250 bis 390 nm. Als Lichtquelle zur Bestrahlung mit UV-Strahlen kann in geeigneter Weise eine Quecksilberlampe oder eine Metallhalogenidlampe verwendet werden.

Anorganische Oxide, wie TiO₂, ZnO, SnO₂, SrTiO₃, WO₃, Bi₂O₃ und Fe₂O₃, haben eine Lichtabsorption im Wellenlängenbereich der ultravioletten Strahlung. Wenn diese Verbindungen in der hydrophilen Schicht enthalten sind, wird die Schicht stärker hydrophil gemacht. Die Mechanismen der Steigerung der Oberflächenhydrophilie wird im Detail in der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 140 046/1998 beschrieben.

Als in der Lithografiedruckplatte der vorliegenden Erfindung zu verwendender Träger können z. B. genannt werden: Papier, verschiedene Arten von Filmen, Kunststoffe, mit einer harzartigen Substanz beschichtetes Papier, Metalle und ein Laminat, in dem ein Polyesterfilm oder Papier auf einem der oben beispielhaft genannten Träger laminiert ist.

Von diesen ist als Träger eines Films ein Polyesterfilm bevorzugt, auf den ein organisches Copolymer aufgetragen ist und der einer hydrophilen Behandlung unterzogen wurde. Für einen solchen Film kann eine Oberflächenbehandlung zusätzlich durchgeführt werden, um die Anhaftung zur hydrophilen Schicht zu verstärken, und dann kann eine Unterschicht, die ein organisches Polymer umfaßt, auf den Polyesterfilm aufgebracht werden. Als Träger können die folgenden zwei Typen von Filmen genannt werden.

Ein Typ besteht aus einer Beschichtung einer Zusammensetzung, die ein organisches Lösungsmittel, das ein Quellmittel oder ein Auflösungsmittel für den Polyesterfilm wird, und ein organisches Copolymer umfaßt (nachfolgend als "Lösungsmittelunterschicht-Verfahren" bezeichnet). Beispiele dafür sind genannt in US-PS 2,830,030; GB-PSen 772,600, 776,157 und 785,789; und den japanischen vorläufigen Patentveröffentlichungen Nrn. 1718/1975 und 8259/1975.

Der andere Typ ist eine Beschichtung einer Zusammensetzung in Form einer wäßrigen Zusammensetzung (sogenannter "Latex") aus einem organischen Copolymer, das im wesentlichen kein organisches Lösungsmittel enthält (nachfolgend als "wäßriges Unterschichtverfahren" bezeichnet). Beispiele dafür sind genannt in den japanischen Patentveröffentlichungen Nrn. 13 278/1969 und 10 988/1970; den japanischen vorläufigen Patentveröffentlichungen Nrn. 11 118/1974, 27 918/1976, 114 670/1977, 11 177/1979, 67 745/1980, 169 145/1983 und 77 439/1984.

Das oben genannte Lösungsmittelunterschicht-Verfahren beinhaltet die Probleme, daß sich die physikalischen Eigenschaften des Polyesterfilm während der Unterschichtbehandlung verschlechtern oder das organische Lösungsmittel Umweltschutzprobleme oder Probleme hinsichtlich der Sicherheit und Gesundheit bei der Verarbeitung verursacht. Daher geht das Unterschichtverfahren zum wäßrigen Unterschichtverfahren über. Ebenfalls kann zur Verbesserung der Adhäsion ein Träger verwendet werden, auf den ein Dünnfilm aus Gelatine mit einer Beschichtungsmenge von 0,02 bis 0,1 g/m² aufgebracht wird.

Die Oberfläche des in der vorliegenden Erfindung zu verwendenden Trägers kann einer Oberflächenbehandlung unterzogen werden, um die Haftfähigkeit mit einer als Oberschicht aufgetragenen Schicht zu verbessern, oder feste feine Teilchen können zu jeder der Schichten hinzugegeben werden, die auf dem Träger aufgebracht sind.

Ebenfalls kann hinsichtlich der Fördereigenschaften etc. in einer Bilderzeugungsvorrichtung etc. auf der gegenüberliegenden Oberfläche (Rückfläche) des Trägers, die die gegenüberliegende Oberfläche der Oberfläche ist, auf der die hydrophile Schicht etc. bereitgestellt ist (sind), eine Schicht bereitgestellt werden, die ein Mattierungsmittel oder ein Antistatikmittel enthält.

In der vorliegenden Erfindung kann als Laser, der durch Entfernung der Silber-Dünnschicht zur Freilegung der hydrophilen Schicht verwendet wird, die die hydrophile physikalische Entwicklungskernschicht enthält, ein handelsüblicher Laser genannt werden, der einen Gaslaser einschließt, wie einen CO₂-Laser, einen Stickstoff-Laser, einen Ar-Laser, einen He/Ne-Laser, einen He/Cd-Laser, einen Kr-Laser oder dgl.; einen Flüssigkeits- (Farbstoff) -Laser; einen Feststoff-Laser, wie einen Rubin-Laser, einen Nd/YAG- Laser oder dgl.; einen Halbleiter-Laser, wie einen GaAs/GaAlAs-Laser, einen InGaAs-Laser oder dgl.; einen Eximer-Laser, wie einen KrF-Laser, einen XeCl-Laser, einen XeF-Laser, einen Ar₂-Laser oder dgl.

In der vorliegenden Erfindung hängt die Effizienz der Entfernung der Silber-Dünnschicht (d. h. die Empfindlichkeit der Lithografiedruckplatte im Verfahren der vorliegenden Erfindung) von der Dicke des Silber-Dünnfilms ab. Eine dünnere Silber-Dünnschicht kann leicht entfernt werden durch Verringerung der Lauflänge. Daher ist es bevorzugt, die Dicke der Silber-Dünnschicht durch die Laser-Ausgangsleistung zu bestimmen, die zur Bilderzeugung verwendet wird. In einer Plattensetzmaschine eines derzeit verwendeten Systems im Erhitzungsmodus beträgt die Ausgangsleistung auf der Lithografiedruckplatten-Oberfläche 0,1 bis 10 W, und wenn diese Plattensetzmaschinen eingesetzt werden, beträgt die Silbermenge in der Silber-Dünnschicht bevorzugt 0,1 g/m² bis 1,5 g/m². Wenn ein Laser mit mehr als 1 W verwendet wird oder wenn eine Druckplatte für einen langen Durchlauf erhalten werden soll, kann als allgemeine Tendenz eine Silbermenge in einer relativ höheren Menge eingestellt werden. Gleichfalls wird die Silbermenge bevorzugt auf eine relativ niedrigere Menge eingestellt, wenn die Empfindlichkeit wichtiger ist als die Lauflänge, d. h. wenn ein Laser mit nicht mehr als 1 W verwendet wird.

Beispiele

Im folgenden wird die vorliegende Erfindung im Detail unter Bezugnahme auf Beispiele erläutert, aber die vorliegenden Erfindung ist nicht durch die folgenden Beispiele beschränkt, soweit sie nicht den Erfindungsumfang überschreiten. Gleichzeitig wird zur Berechnung des Gewichtsanteils des anorganischen Oxids die in den Prospekten beschriebene feste Komponente verwendet.

Beispiel 1

Auf eine Oberfläche eines PET-Films (Polyethylenterephthalat) mit einer Dicke von 157 µm und mit einer 0,04 g/m² Gelatineunterschicht wurde eine Lösung aus kolloidem Silika (erhältlich von Nissan Chemical Industries, Ltd., mittlere Teilchengröße: 0,004 bis 0,006 µm, 30%iges Sol) und Polyvinylalkohol mit einem Gewichtsanteil des kolloiden Silika von 80% so aufgetragen und getrocknet, daß eine hydrophile Schicht mit einem Feststoffgehalt von 2 g/m² gebildet wurde.

Als nächstes wird auf die hydrophile Schicht die in Beispiel 2 der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 21 602/1978 beschriebene Kernbeschichtungslösung aufgetragen und getrocknet (als physikalische Entwirkungskerne ist Palladiumsulfid enthalten, und als hydrophiles Polymer ist das in der oben genannten Veröffentlichung beschriebene Copolymer Nr. 3, das Acrylamid und Imidazol umfaßt, in einer Beschichtungsmenge von 4 mg/m² enthalten).

Während eine wäßrige Lösung aus inaktiver Gelatine auf 60°C unter kräftigem Rühren gehalten wurde, wurden eine gemischte wäßrige Lösung aus Natriumchlorid und Kaliumbromid (Kaliumbromid: 29,5 Mol-%) und eine wäßrige Silbernitratlösung gleichzeitig hinzugegeben, um eine Silberchlorbromid-Emulsion mit einer mittleren Teilchengröße von 0,28 µm herzustellen. Dann wurde Kaliumjodid in einer 0,5 Mol-%/Mol Ag entsprechenden Menge hinzugegeben, um eine Oberflächensubstitution durchzuführen. Die diese Silberhalogenid-Emulsionsteilchen enthaltende Emulsion wurde auf den oben genannten Träger mit einer Silbernitratmenge von 3 g/m² aufgetragen und getrocknet, um ein Lithografiedruckmaterial zu erhalten. Die Silberhalogenid- Emulsion war eine monodisperse Silberchlorjodbromid-Emulsion, die 70% Silberchlorid, 29,5% Silberbromid und 0,5% Silberjodid umfaßte, und 90 Gew.-% der gesamten Teilchen befanden sich innerhalb der mittleren Teilchengröße ± 30%.

Das so erhaltene Lithografiedruckmaterial wurde für 15 Sekunden ohne Belichtung mit einer Entwicklerlösung entwickelt, die erhalten wurde durch Zugabe von 40 ml/l N-Methylethanolamin zur in Beispiel 1 der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 282 295/1992 beschriebenen Diffusionstransfer-Entwicklerlösung, und die Gelatineschicht wurde direkt nach der Entwicklung mit fließendem Wasser abgewaschen, um eine Lithografiedruckplatten-Vorstufe 1 zu erhalten, in der die Silber-Dünnschicht freigelegt war.

Die Silbermenge der so hergestellten Lithografiedruckplatten- Vorstufe 1 wurde durch eine Röntgenfluoreszenzvorrichtung (3270, Handelsbezeichnung, hergestellt von K.K. Rigaku) zu 0,80 g/m² gemessen.

Als nächstes wurde die Silber-Dünnschicht mit einem Raster- Elektronenmikroskop fotografiert. So kann festgestellt werden, daß sie granulare Silberteilchen umfaßt, und wenn deren Größe gemessen wird, kann festgestellt werden, daß sie innerhalb des Bereiches von 0,005 bis 0,2 µm liegt.

Die hydrophile Schicht dieser Lithografiedruckplatten- Vorstufe wurde mit einem Halbleiter-Laser mit einer Wellenlänge von 830 nm und einer Ausgangsleistung von 0,5 W belichtet, um eine Lithografiedruckplatte zu erhalten (Lithografiedruckplatte 1). Diese Lithografiedruckplatte 1 wurde in einen Offsetdrucker eingesetzt (3200MCD, Handelsbezeichnung, hergestellt von Ryobi Imagics Co.), eine Ätzlösung (SLM-OH, Handelsbezeichnung, hergestellt von Mitsubishi Paper Mills Ltd.) wurde auf die gesamte Plattenoberfläche gesprüht, und der Druck wurde unter Verwendung von New Champion Black N (Handelsbezeichnung, erhältlich von Dainippon Ink Co.) als Tinte durchgeführt. Als Ergebnis konnten bedruckte Materialien mit ausgezeichneter Druckbildqualität ohne Flecken im Nicht-Bildbereich vom Druckbeginn an erhalten werden. Ferner trat keine Fleckenbildung am Ende des Druckens von 10 000 Blättern auf, und bedruckte Materialien mit ausgezeichneter Druckbildqualität konnten erhalten werden.

Beispiel 2

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatten-Vorstufe 2 hergestellt, außer daß Zirkoniumoxid (erhältlich von Nissan Chemical Industries, Ltd., mittlere Teilchengröße: 0,03 µm, 15%iges Sol) anstelle von kolloidem Silika verwendet wurde. Dann wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 eine Lithografiedruckplatte 2 hergestellt.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 2 bei Verwendung eine Druckfähigkeit mit ausgezeichneter Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 3

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatten-Vorstufe 3 hergestellt, außer daß Titanoxid (erhältlich von Nissan Chemical Industries, Ltd., mittlere Teilchengröße: 0,03 µm, 13%iges Sol) anstelle von kolloidem Silika verwendet wurde. Dann wurde eine Lithografiedruckplatte 3 in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 3 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 4

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatten-Vorstufe 4 hergestellt, außer daß δ-Aluminiumoxid (erhältlich von Nippon Aerosil K.K., mittlere Teilchengröße: 0,012 µm, 20%iges Sol) anstelle von kolloidem Silika verwendet wurde. Dann wurde eine Lithografiedruckplatte 4 in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 4 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Vergleichsbeispiel 1

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatte (a) hergestellt, außer daß kein kolloides Silika verwendet wurde und die hydrophile Schicht allein mit Polyvinylalkohol hergestellt wurde.

Wenn das Drucken in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, traten bei Verwendung der Lithografiedruckplatte (a) streifenförmige Flecken im Nicht- Bildbereich auf, und die Flecken verschwanden auch nicht, als das Drucken für 1000 Blätter fortgesetzt wurde. Der Drucker wurde angehalten, und die Tinte auf der Plattenoberfläche wurde mit einer Ätzlösung abgewischt und das Drucken erneut begonnen. Dann war der Grad der Fleckenbildung geringfügig reduziert, aber ausgezeichnet bedruckte Materialien konnten nicht erhalten werden.

Vergleichsbeispiel 2

In der gleichen Weise wie in Vergleichsbeispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatte (b) hergestellt, außer daß Gelatine anstelle von Polyvinylalkohol verwendet wurde.

Wenn das Drucken in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, traten bei Verwendung der Lithografiedruckplatte (b) streifenförmige Flecken im Nicht- Bildbereich wie in Vergleichsbeispiel 1 auf, und das Drucken wurde für 1000 Blätter fortgesetzt, aber die Flecken verschwanden nicht. Der Drucker wurde angehalten, und die Tinte auf der Plattenoberfläche wurde mit einer Ätzlösung abgewischt und das Drucken erneut begonnen. Dann war der Grad der Fleckenbildung geringfügig reduziert, aber ausgezeichnet bedruckte Materialien konnten nicht erhalten werden.

Beispiel 5

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatte 5 hergestellt, außer daß Silika (erhältlich von Fuji Silisia Chemical K.K., mittlere Teilchengröße: 2,2 bis 2,0 µm) anstelle von kolloidem Silika verwendet wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, traten bei Verwendung der Lithografiedruckplatte 5 zu Beginn des Druckens punktförmige Flecken im Nicht-Bildbereich auf. Der Drucker wurde einmal angehalten und die Plattenoberfläche abgewischt, und das Drucken wurde erneut begonnen. Danach traten keine punktförmigen Flecken auf, und gute bedruckte Materialien konnten erhalten werden.

Beispiel 6

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatte 6 hergestellt, außer daß Titanoxid (erhältlich von Ishihara Sangyo K.K., mittlere Teilchengröße: 0,2 bis 0,4 µm) anstelle von kolloidem Silika verwendet wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, traten bei Verwendung der Lithografiedruckplatte 6 zu Beginn des Druckens punktförmige Flecken im Nicht-Bildbereich auf. Jedoch verschwanden diese Flecken auf natürlichem Wege während des Druckens, und gute bedruckte Materialien konnten ohne erneutes Auftreten der Flecken erhalten werden.

Beispiel 7

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatte 7 hergestellt, außer daß die in Beispiel 2 der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 21 602/1978 beschriebene Kernbeschichtungslösung verwendet wurde (als physikalische Entwicklungskerne ist Palladiumsulfid enthalten, und als hydrophiles Polymer ist das in der Veröffentlichung beschriebene Copolymer Nr. 3, das Acrylamid und Imidazol umfaßt, in einer Beschichtungsmenge von 4 mg/m² enthalten), zu der kolloides Silika (erhältlich von Nissan Chemical Industries, Ltd., mittlere Teilchengröße: 0,004 bis 0,006 µm, 30%iges Sol) auf eine Menge von 0,1 g/m² hinzugegeben wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 7 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 8

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatte 8 hergestellt, außer daß die in Beispiel 2 der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 21 602/1978 beschriebene Kernbeschichtungslösung verwendet wurde (als physikalische Entwicklungskerne ist Palladiumsulfid enthalten, und als hydrophiles Polymer ist das in der Veröffentlichung beschriebene Copolymer Nr. 3, das Acrylamid und Imidazol umfaßt, in einer Beschichtungsmenge von 4 mg/m² enthalten), zu der Zirkoniumoxid (erhältlich von Nissan Chemical Industries, Ltd., mittlere Teilchengröße: 0,03 µm, 15%iges Sol) auf eine Menge von 0,1 g/m² hinzugegeben wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 8 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 9

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatte 9 hergestellt, außer daß die in Beispiel 2 der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 21 602/1978 beschriebene Kernbeschichtungslösung verwendet wurde (als physikalische Entwicklungskerne ist Palladiumsulfid enthalten, und als hydrophiles Polymer ist das in der Veröffentlichung beschriebene Copolymer Nr. 3 in einer Menge von 4 mg/m² enthalten, das Acrylamid und Imidazol umfaßt), zu der Titanoxid (erhältlich von Nissan Chemical Industries, Ltd., mittlere Teilchengröße: 0,03 µm, 13%iges 501) auf eine Menge von 0,1 g/m² hinzugegeben wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 9 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 10

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatte 10 hergestellt, außer daß die in Beispiel 2 der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 21 602/1978 beschriebene Kernbeschichtungslösung verwendet wurde (als physikalische Entwicklungskerne ist Palladiumsulfid enthalten, und als hydrophiles Polymer ist das in der Veröffentlichung beschriebene Copolymer Nr. 3 in einer Beschichtungsmenge von 4 mg/m² enthalten, das Acrylamid und Imidazol umfaßt), zu der δ-Aluminiumoxid (erhältlich von Nissan Aerosil K.K., mittlere Teilchengröße: 0,012 µm, 20%iges Sol) auf eine Menge von 0,1 g/m² hinzugegeben wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 10 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 11

In der gleichen Weise wie in Beispiel 2 wurde eine Lithografiedruckplatte 11 hergestellt, außer daß die in Beispiel 2 der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 21 602/1978 beschriebene Kernbeschichtungslösung verwendet wurde (als physikalische Entwicklungskerne ist Palladiumsulfid enthalten, und als hydrophiles Polymer ist das in der Veröffentlichung beschriebene Copolymer Nr. 3 in einer Beschichtungsmenge von 4 mg/m² enthalten, das Acrylamid und Imidazol umfaßt), zu der kolloides Silika (erhältlich von Nissan Chemical Industries, Ltd., mittlere Teilchengröße: 0,004 bis 0,006 µm, 30%iges 501) auf eine Menge von 0,1 g/m² hinzugegeben wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 11 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 12

In der gleichen Weise wie in Beispiel 3 wurde eine Lithografiedruckplatte 12 hergestellt, außer daß die in Beispiel 2 der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 21 602/1978 beschriebene Kernbeschichtungslösung verwendet wurde (als physikalische Entwicklungskerne ist Palladiumsulfid enthalten, und als hydrophiles Polymer ist das in der Veröffentlichung beschriebene Copolymer Nr. 3 in einer Beschichtungsmenge von 4 mg/m² enthalten, das Acrylamid und Imidazol umfaßt), zu der kolloides Silika (erhältlich von Nissan Chemical Industries, Ltd., mittlere Teilchengröße: 0,004 bis 0,006 µm, 30%iges Sol) auf eine Menge von 0,1 g/m² hinzugegeben wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 12 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 13

In der gleichen Weise wie in Beispiel 4 wurde eine Lithografiedruckplatte 13 hergestellt, außer daß die in Beispiel 2 der japanischen vorläufigen Patentveröffentlichung Nr. 21 602/1978 beschriebene Kernbeschichtungslösung verwendet wurde (als physikalische Entwicklungskerne ist Palladiumsulfid enthalten, und als hydrophiles Polymer ist das in der Veröffentlichung beschriebene Copolymer Nr. 3 in einer Beschichtungsmenge von 4 mg/m² enthalten, das Acrylamid und Imidazol umfaßt), zu der kolloides Silika (erhältlich von Nissan Chemical Industries, Ltd., mittlere Teilchengröße: 0,004 bis 0,006 µm, 30%iges Sol), auf eine Menge von 0,1 g/m² hinzugegeben wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 13 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 14

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatte 14 hergestellt, außer daß eine hydrophile Schicht bereitgestellt wurde, in der der Anteil von kolloidem Silika und Polyvinylalkohol in Beispiel 1 auf 90 Gew.-% kolloides Silika verändert wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 14 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 15

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde eine Lithografiedruckplatte 15 hergestellt, außer daß eine hydrophile Schicht bereitgestellt wurde, in der das Verhältnis von kolloidem Silika und Polyvinylalkohol in Beispiel 1 auf 55 Gew.-% kolloides Silika verändert wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 15 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 16

In der gleichen Weise wie in Beispiel 2 wurde eine Lithografiedruckplatte 16 hergestellt, außer daß eine hydrophile Schicht bereitgestellt wurde, in der der Anteil von Zirkoniumoxid und Polyvinylalkohol in Beispiel 2 auf 90 Gew.-% Zirkoniumoxid verändert wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 16 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 17

In der gleichen Weise wie in Beispiel 2 wurde eine Lithografiedruckplatte 17 hergestellt, außer daß eine hydrophile Schicht bereitgestellt wurde, in der der Anteil von Zirkoniumoxid und Polyvinylalkohol in Beispiel 2 auf 55 Gew.-% Zirkoniumoxid verändert wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 17 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 18

Unter Verwendung der Lithografiedruckplatten 14 bis 17 wurden die Tinten/Wasser-Reaktionen dieser Platten gemessen. Die Tinten/Wasser-Reaktion wurde gemessen, indem der in Beispiel 1 verwendete Drucker und die Tinte verwendet wurde, die Wasserzufuhr während des Druckens beendet wurde, Tinte auf die Platte zur erzwungenen Befleckung der Platte aufgetragen wurde, der Platte Befeuchtungswasser zugeführt wurde und die Anzahl der Seiten gezählt wurde, nach der die Flecken im Nicht-Bildbereich verschwanden. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.

Tabelle 1

Beispiele 19 bis 22

In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurden Lithografiedruckplatten 18 bzw. 19 hergestellt, außer daß die hydrophilen Schichten so bereitgestellt wurden, daß die Gewichtsanteile von kolloidem Silika in Beispiel 1, bezogen auf die Gesamtmenge von kolloidem Silika und Polyvinylalkohol, 20 bzw. 40 Gew.-% betrugen. Ferner wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 Lithografiedruckplatten 20 bzw. 21 hergestellt, außer daß die hydrophilen Schichten so bereitgestellt wurden, daß die Gewichtsanteile von Zirkoniumoxid in Beispiel 2, bezogen auf das Gesamtgewicht von Zirkoniumoxid und Polyvinylalkohol, 40 bzw. 20 Gew.-% betrugen.

Wenn die Druckqualitäten bei Verwendung dieser Lithografiedruckplatten 18 bis 21 in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 ausgewertet wurden, wurde gefunden, daß alle Lithografiedruckplatten eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1 zeigten.

Als nächstes wurde unter Verwendung dieser Lithografiedruckplatten 18 bis 21 ihre Tinten/Wasser-Reaktion in der gleichen Weise wie in Beispiel 18 gemessen. Als Ergebnis erforderten die Tinten/Wasser-Reaktionen zum Zeitpunkt des Druckbeginns jeweils 50 Blätter oder mehr, bis die Flecken verschwanden, und der Gewichtsanteil des anorganischen Oxids war geringfügig schlechter im Vergleich zu den 80% der Beispiele 1 und 2. Sobald die Flecken verschwanden, traten jedoch keine Flecken mehr auf. Somit zeigten bei der Druckauswertung alle Lithografiedruckplatten 18 bis 21 eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Beispiele 1 und 2.

Beispiel 23

Vor Durchführung des Druckens unter Verwendung der Lithografiedruckplatte 2 wurde eine UV-Belichtung unter Verwendung der UV-Lampe F300 (Handelsbezeichnung, erhältlich von Fusion Japan K.K.) zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte 22 durchgeführt.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte die Lithografiedruckplatte 22 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 24

In der gleichen Weise wie in Beispiel 23 wurde eine Lithografiedruckplatte 23 hergestellt, außer daß die Lithografiedruckplatte 3 verwendet wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 23 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 25

Während der Laserstrahl-Belichtung der Lithografiedruckplatte 2 wurde gleichzeitig eine UV-Belichtung unter Verwendung der UV-Lampe F300 (Handelsbezeichnung, erhältlich von Fusion Japan K.K.) durchgeführt, um eine Lithografiedruckplatte 24 herzustellen.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 24 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 26

In der gleichen Weise wie in Beispiel 25 wurde eine Lithografiedruckplatte 25 hergestellt, außer daß die Lithografiedruckplatte 3 anstelle der Lithografiedruckplatte 2 verwendet wurde.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 25 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 27

Unter Verwendung der Lithografiedruckplatten 2 und 3 und der Lithografiedruckplatten 22 bis 25 wurden Fleckenbildungstests unter schwierigeren Bedingungen als in Beispiel 1 durchgeführt. Der Fleckendrucktest wurde durchgeführt, indem als Ätzlösung SLM-OD30 (Handelsbezeichnung, erhältlich von Mitsubishi Paper Mills Limited) verwendet wurde, das zweimal stärker als unter Verwendung der üblichen Vorschrift verdünnt worden war, und indem der Drucker und die Tinte eingesetzt wurden, die in Beispiel 1 verwendet wurden. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 gezeigt.

Tabelle 2

Beispiel 28

Auf die Silber-Dünnschicht der Lithografiedruckplatte 1, hergestellt in Beispiel 1, wurde die folgende Überzugslösung (eine Beschichtungslösung zur Bildung einer hydrophilen Polymerschicht) so aufgetragen, daß die Beschichtungsmenge der nassen Komponente 15 g/m² betrug, gefolgt von Trocknen. Zu diesem Zeitpunkt betrug die Dicke der hydrophilen Schicht ca. 0,2 µm.

Überzugslösung 1

Gummi arabicum: 10 g
85%ige Phosphorsäure: 1 g
Wasser: 900 ml
eingestellt auf pH = 7,0 ± 0,1 durch Zugabe von wäßriger 1N Natriumhydroxidlösung.

Die obige Mischung wurde durch weitere Zugabe von Wasser auf 1000 ml aufgefüllt.

Unter Verwendung der Lithografiedruckplatten-Vorstufe 26, in der die hydrophile Polymerschicht auf die Silber-Dünnschicht aufgebracht worden war, wurde eine Laserstrahl-Belichtung in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt, um eine Lithografiedruckplatte 26 herzustellen.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 26 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 29

Beispiel 2 wurde in der gleichen Weise durchgeführt, außer daß die oben genannte Überzugslösung (eine Beschichtungslösung zur Bildung einer hydrophilen Polymerschicht) auf die Silber-Dünnschicht der Lithografiedruckplatte 2, hergestellt in Beispiel 2, aufgetragen wurde, so daß die Beschichtungsmenge der nassen Komponente 15 g/m² betrug, gefolgt von Trocknen, um eine hydrophile Polymerschicht mit einer Dicke von ca. 0,2 µm bereitzustellen. Dadurch wurde eine Lithografiedruckplatten- Vorstufe 27 wie in Beispiel 2 hergestellt, und sie wurde einer Laser-Belichtung unterzogen, um eine Lithografiedruckplatte 27 herzustellen.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 27 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 30

Beispiel 3 wurde in der gleichen Weise durchgeführt, außer daß die oben genannte Überzugslösung (eine Beschichtungslösung zur Bildung einer hydrophilen Polymerschicht) auf die Silber-Dünnschicht der Lithografiedruckplatte 3, hergestellt in Beispiel 3, aufgetragen wurde, so daß die Beschichtungsmenge der nassen Komponente 15 g/m² betrug, gefolgt von Trocknen, um eine hydrophile Polymerschicht mit einer Dicke von ca. 0,2 µm bereitzustellen. Dadurch wurde eine Lithografiedruckplatten- Vorstufe 28 wie in Beispiel 3 hergestellt, und sie wurde einer Laser-Belichtung unterzogen, um eine Lithografiedruckplatte 28 zu erhalten.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 28 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 31

Beispiel 4 wurde in der gleichen Weise durchgeführt, außer daß die oben genannte Überzugslösung (eine Beschichtungslösung zur Bildung einer hydrophilen Polymerschicht) auf die Silber-Dünnschicht der Lithografiedruckplatte 4, hergestellt in Beispiel 4, aufgetragen wurde, so daß die Beschichtungsmenge der nassen Komponente 15 g/m² betrug, gefolgt von Trocknen, um eine hydrophile Polymerschicht mit einer Dicke von ca. 0,2 µm bereitzustellen. Dadurch wurde eine Lithografiedruckplatten- Vorstufe 29 wie in Beispiel 4 hergestellt, und sie wurde einer Laser-Belichtung unterzogen, um eine Lithografiedruckplatte 29 zu erhalten.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, 13842 00070 552 001000280000000200012000285911373100040 0002019913643 00004 13723 zeigte diese Lithografiedruckplatte 29 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiele 32 bis 35

In der gleichen Weise wie in den Beispielen 28 bis 31 wurden die Lithografiedruckplatten 30, 31, 32 bzw. 33 hergestellt, außer daß die hydrophile Polymerschicht mit einer Dicke von ca. 0,6 µm durch wiederholtes Auftragen der Überzugslösung 1 bereitgestellt wurde. Diese Lithografiedruckplatten 30 bis 33 wurden mit einem Halbleiter-Laser mit einer Wellenlänge von 830 nm und einer Ausgangsleistung von 0,5 W belichtet, aber die Entfernung der Silber-Dünnschichten im Nicht-Bildbereich war unzureichend, und die Silber-Dünnschichten blieben in Streifenform zurück. Ebenfalls traten, wenn das Drucken in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 unter Verwendung der obigen Lithografiedruckplatten 30 bis 33 durchgeführt wurde, streifenförmige Flecken im Nicht-Bildbereich zu Druckbeginn auf. Wenn jedoch der Drucker angehalten wurde, die Plattenoberfläche abgewischt und das Drucken erneut begonnen wurde, dann verschwanden die streifenförmigen Flecken in den jeweiligen Lithografiedruckplatten.

Beispiel 36

In der gleichen Weise wie in Beispiel 28 wurde eine Lithografiedruckplatten-Vorstufe 34 aus der in Beispiel 1 hergestellten Lithografiedruckplatten-Vorstufe 1 hergestellt, außer daß die in Beispiel 28 hergestellte Überzugslösung 1 gegen die folgende Überzugslösung 2 ausgetauscht wurde, und die Lithografiedruckplatte 34 wurde durch Belichtung hergestellt.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 34 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Überzugslösung 2

Monoethanolamin: 5 g
3-n-Octyl-5-mercaptooxazol: 0,2 g
Gummi arabicum: 10 g
Natriumdihydrogenphosphat: 10 g
85%ige Phosphorsäure: 1 g
Wasser: 900 ml
eingestellt auf pH = 7,0 ± 0,1 durch Zugabe von wäßriger 1N Natriumhydroxidlösung.

Die obige Mischung wurde durch weitere Zugabe von Wasser auf 1000 ml aufgefüllt.

Beispiel 37

In der gleichen Weise wie in Beispiel 29 wurde eine Lithografiedruckplatten-Vorstufe 35 aus der in Beispiel 2 hergestellten Lithografiedruckplatten-Vorstufe 2 hergestellt, außer daß die in Beispiel 29 hergestellte Überzugslösung 1 gegen die obige Überzugslösung 2 ausgetauscht wurde, und die Lithografiedruckplatte 35 wurde durch Belichtung hergestellt.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 35 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 38

In der gleichen Weise wie in Beispiel 30 wurde eine Lithografiedruckplatten-Vorstufe 36 aus der in Beispiel 3 hergestellten Lithografiedruckplatten-Vorstufe 3 hergestellt, außer daß die in Beispiel 30 hergestellte Überzugslösung 1 gegen die obige Überzugslösung 2 ausgetauscht wurde, und die Lithografiedruckplatte 36 wurde durch Belichtung hergestellt.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 36 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 39

In der gleichen Weise wie in Beispiel 31 wurde eine Lithografiedruckplatten-Vorstufe 37 aus der in Beispiel 4 hergestellten Lithografiedruckplatten-Vorstufe 4 hergestellt, außer daß die in Beispiel 31 hergestellte Überzugslösung 1 gegen die obige Überzugslösung 2 ausgetauscht wurde, und die Lithografiedruckplatte 37 wurde durch Belichtung hergestellt.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 37 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie bei Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 40

Unter Verwendung der Lithografiedruckplatten 26 bis 29 und 34 bis 37, hergestellt wie oben beschrieben, wurden Fleckenbildungstests unter Bedingungen einer leichten Fleckenbildung wie in Beispiel 27 durchgeführt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 gezeigt.

Tabelle 3

Beispiel 41

Unter Verwendung der Lithografiedruckplatten-Vorstufen 1 bis 4, der Lithografiedruckplatten-Vorstufen 26 bis 29 und der Lithografiedruckplatten-Vorstufen 34 bis 37 wurde eine Laserstrahl-Belichtung eine Woche nach dem Tag durchgeführt, an dem die Silber-Dünnschichten hergestellt wurden, um die Lithografiedruckplatten 1A bis 4A, 26A bis 29A bzw. 34A bis 37A herzustellen. Ferner wurde die Laserstrahl-Belichtung einen Monat nach dem Tag durchgeführt, an dem die Silber- Dünnschichten hergestellt wurden, um die Lithografiedruckplatten 1B bis 4B, 26B bis 29B bzw. 34B bis 37B herzustellen. Als nächstes wurden deren Druckeigenschaften untersucht.

Als Ergebnis waren in den nach einer Woche hergestellten Proben alle Lithografiedruckplatten 1A bis 4A, 26A bis 29A und 34A bis 37A hinsichtlich der Fleckenbildung gut, aber bei den Lithografiedruckplatten 1A bis 4A war die Tintendichte im Bildbereich verringert. Ebenfalls traten bei den nach einem Monat hergestellten Proben keine speziellen Probleme hinsichtlich der Fleckenbildung auf, aber bei den Lithografiedruckplatten 1B bis 4B war die Tintendichte im Bildbereich weiter verringert, und ebenfalls wurde bei den Lithografiedruckplatten 26B bis 29B eine geringfügige Erniedrigung der Tintendichte im Bildbereich beobachtet. Jedoch wurde bei den Lithografiedruckplatten 34B bis 37B keine Erniedrigung der Dichte im Bildbereich beobachtet, und ausgezeichnetes bedrucktes Material konnte erhalten werden.

Beispiel 42

In der gleichen Weise wie in Beispiel 36 wurde eine Lithografiedruckplatte 38 hergestellt, außer daß eine Papierbasis (Dicke: 175 µm) als Träger verwendet wurde, die mit Polyethylen mit einer Gelatineunterschicht mit 0,04 g/m² beschichtet war.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 38 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiel 43

In der gleichen Weise wie in Beispiel 37 wurde eine Lithografiedruckplatte 39 hergestellt, außer daß als Träger eine Papierbasis (Dicke: 175 µm) verwendet wurde, die mit Polyethylen mit einer Gelatineunterschicht mit 0,04 g/m² beschichtet war.

Wenn die Auswertung des Druckens in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt wurde, zeigte diese Lithografiedruckplatte 39 bei Verwendung eine ausgezeichnete Druckfähigkeit mit Fleckenbildungsbeständigkeit wie die Lithografiedruckplatte 1.

Beispiele 44 bis 46

Lithografiedruckplatten-Vorstufen wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, außer daß die Beschichtungsmenge der Silber-Emulsionsschicht auf eine Silbernitratmenge von 5 g/m² und die Entwicklungszeit auf 5 Sekunden, 20 Sekunden bzw. 15 Sekunden verändert wurde, und die oben genannte Überzugslösung 2 wurde mit einer Dicke von ca. 0,2 µm aufgetragen (Lithografiedruckplatten-Vorstufen 40, 41 bzw. 42). Als nächstes wurden die Silbermengen in diesen Lithografiedruckplatten-Vorstufen 40, 41 und 42 in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 gemessen. Die Ergebnisse der Silbermengen-Messungen sind in Tabelle 4 gezeigt.

Tabelle 4

Unter Verwendung dieser Lithografiedruckplatten-Vorstufen 40, 41 bzw. 42 wurden die hydrophilen Schichten mit einem Halbleiter-Laser mit einer Wellenlänge von 830 nm und einer Ausgangsleistung von 0,5 W in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 belichtet, um-entsprechende Lithografiedruckplatten 40 bis 42 zu erhalten.

Als nächstes wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 das Drucken unter Verwendung der obigen Lithografiedruckplatten 40 bis 42 durchgeführt. Bei Lithografiedruckplatte 42 kann wie in Beispiel 1 bedrucktes Material mit ausgezeichneter Druckqualität ohne jeden Fleck im Nicht-Bildbereich von Druckbeginn an erhalten werden. Ebenfalls trat keine Fleckenbildung am Ende von 10 000 bedruckten Blättern auf, und bedrucktes Material mit ausgezeichneter Druckqualität konnte erhalten werden. Bei der Lithografiedruckplatte 40 konnte bedrucktes Material mit ausgezeichneter Druckqualität ohne jeden Fleck im Nicht- Bildbereich von Druckbeginn an erhalten werden. Jedoch wurde beim Drucken von bis zu 10 000 Blättern das Fehlen einer feinen Linie im Bildbereich beobachtet. Bei der Lithografiedruckplatte 41 trat eine Fleckenbildung zu Druckbeginn im Nicht-Bildbereich auf, aber die Fleckenbildung verschwand nach kurzer Zeit. Danach trat die Fleckenbildung bis zum Drucken von 10 000 Blättern nicht mehr auf, und bedrucktes Material mit ausgezeichneter Druckqualität konnte erhalten werden.

Beispiele 47 bis 49

Lithografiedruckplatten-Vorstufen wurden in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 hergestellt, außer daß die Beschichtungsmenge der Emulsionsschicht auf eine Silbernitratmenge von 5 g/m² und die Entwicklungszeit auf 5 Sekunden, 20 Sekunden bzw. 15 Sekunden verändert wurde, und die oben genannte Überzugslösung 2 wurde mit einer Dicke von ca. 0,2 µm aufgetragen (Lithografiedruckplatten-Vorstufen 43, 44 bzw. 45). Als nächstes wurden die Silbermengen dieser Lithografiedruckplatten-Vorstufen 43, 44 und 45 in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 gemessen. Die Ergebnisse der Silbermengen-Messungen sind in Tabelle 5 gezeigt.

Tabelle 5

Unter Verwendung dieser Lithografiedruckplatten-Vorstufen 43, 44 bzw. 45 wurden die hydrophilen Schichten durch einen Halbleiter-Laser mit einer Wellenlänge von 830 nm und einer Ausgangsleistung von 0,5 W in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 belichtet, um entsprechende Lithografiedruckplatten 43 bis 45 zu erhalten.

Als nächstes wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 das Drucken unter Verwendung der obigen Lithografiedruckplatten 43 bis 45 durchgeführt. Bei der Lithografiedruckplatte 45 konnte wie in Beispiel 1 bedrucktes Material mit ausgezeichneter Druckqualität ohne jede Fleckenbildung im Nicht-Bildbereich von Druckbeginn an erhalten werden. Ebenfalls trat keine Fleckenbildung zuletzt nach Drucken von 10 000 Blättern auf, und bedrucktes Material mit ausgezeichneter Druckqualität konnte erhalten werden. Bei der Lithografiedruckplatte 43 konnte bedrucktes Material mit ausgezeichneter Druckqualität ohne jede Fleckenbildung im Nicht-Bildbereich von Druckbeginn an erhalten werden. Jedoch wurde beim Drucken von bis zu 10 000 Blättern das Fehlen einer feinen Linie im Bildbereich beobachtet. In der Lithografiedruckplatte 44 trat zu Druckbeginn eine Fleckenbildung im Nicht-Bildbereich auf, aber die Fleckenbildung verschwand nach kurzer Zeit. Danach trat die Fleckenbildung nicht wieder auf bis zum Drucken von 10.000 Blättern, und bedrucktes Material mit ausgezeichneter Druckqualität konnte erhalten werden.

Beispiele 50 bis 52

Unter Verwendung der Lithografiedruckplatten-Vorstufen 40 bis 42, hergestellt in den Beispielen 44 bis 46, wurde ein Bild unter Verwendung eines YAG-Lasers mit einer Wellenlänge von 1.064 nm und einer Ausgangsleistung von 8 W anstelle des in den Beispielen 44 bis 46 verwendeten Halbleiter-Lasers erzeugt, um entsprechende Lithografiedruckplatten 40A bis 42A herzustellen. Das Drucken wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 unter Verwendung der Lithografiedruckplatten 40A bis 42A durchgeführt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 6 gezeigt.

Tabelle 6

Beispiele 53 bis 57

Unter Verwendung der Lithografiedruckplatten-Vorstufen 43 bis 45, hergestellt in den Beispielen 47 bis 49, wurde ein Bild unter Verwendung eines YAG-Lasers mit einer Wellenlänge von 1.064 nm und einer Ausgangsleistung von 8 W anstelle des in den Beispielen 47 bis 49 verwendeten Halbleiter-Lasers erzeugt, um entsprechende Lithografiedruckplatten 43A bis 45A herzustellen. Das Drucken wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 unter Verwendung der Lithografiedruckplatten 43A bis 45A durchgeführt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 7 gezeigt.

Tabelle 7

Wie oben erläutert, kann im Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte der vorliegenden Erfindung die Handhabung unter Raumlicht durchgeführt werden, und die Handhabungsumgebungen sind äußerst gut, da keine Entwicklerlösung verwendet wird. Ebenfalls kann das Verfahren auf das direkte Bilderzeugungsverfahren mit einem Laserstrahl reagieren, wodurch ein ausgezeichneter Effekt darin erhalten werden kann, daß ein Bild mit hoher Auflösung bei niedrigen Kosten erhalten werden kann. Ferner kann eine Lithografiedruckplatte mit ausgezeichneter Tinten/Wasser- Reaktion bereitgestellt werden.

Claims (18)

1. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte, welches die Belichtung einer Lithografiedruckplatten- Vorstufe mit wenigstens einer hydrophilen Schicht auf einem Träger und einer Silber-Dünnschicht auf der hydrophilen Schicht durch einen Laserstrahl umfaßt, wodurch die Silber-Dünnschicht bildweise entfernt wird und die hydrophile Schicht freigelegt wird, worin die der Silber-Dünnschicht benachbarte hydrophile Schicht wenigstens ein anorganisches Oxid enthält.

2. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß Anspruch 1, worin das anorganische Oxid wenigstens ein Oxid von Elementen ist, die ausgewählt sind aus aus Aluminium, Silizium, Zirkonium und Titan.

3. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß Anspruch 1, worin die Teilchengröße des anorganischen Oxids 0,001 bis 0,1 µm beträgt.

4. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß Anspruch 1, worin die Silber-Dünnschicht ein physikalisches Entwicklungssilber umfaßt, das durch das Silberkomplex-Diffusionstransferverfahren gebildet wird.

5. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß Anspruch 4, worin die Silber-Dünnschicht gebildet wird durch Aufbringen einer hydrophilen physikalischen Entwicklungskernschicht, die ein Oxid wenigstens eines Elements enthält, das ausgewählt ist aus Aluminium, Silizium, Zirkonium und Titan, und einer Silberhalogenid-Emulsionschicht auf einen Träger in dieser Reihenfolge, Entwickeln durch das Silberkomplex- Diffusionstransferverfahren ohne Bewirken einer Belichtung und Abwaschen der Silberhalogenid- Emulsionschicht.

6. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, worin das anorganische Oxid in der hydrophilen Schicht in einer Menge von 50 Gew.-% oder mehr enthalten ist.

7. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, worin die Silber- Dünnschicht aus granularen Silberteilchen mit einer mittleren Teilchengröße von 0,005 bis 0,2 µm besteht.

8. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß Anspruch 7, worin die granularen Silberteilchen in Gegenwart eines Silberhalogenid-Lösungsmittels gebildet werden.

9. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß Anspruch 8, worin das Silberhalogenid- Lösungsmittel eine Aminverbindung ist.

10. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß Anspruch 9, worin die Aminverbindung eine durch die Formel (I) dargestellte Verbindung ist:
worin wenigstens ein Vertreter aus R¹, R², R³, R⁴ und R⁵ eine substituierte oder unsubstituierte Aminogruppe darstellt; und die verbleibenden Substituenten jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine substituierte oder unsubstituierte, gesättigte oder ungesättigte Alkylgruppe, Cycloalkylgruppe, Alkoxygruppe, Arylgruppe, Acylgruppe, Aroylgruppe oder heterozyklische Gruppe darstellen oder zwei benachbarte dieser Substituenten einen Ring bilden können.

11. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, worin eine hydrophile Polymerschicht mit einer Dicke von 0,01 bis 0,5 µm zusätzlich auf die Silber-Dünnschicht aufgebracht ist.

12. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß Anspruch 11, worin die hydrophile Polymerschicht 1 bis 30 Gew.-% einer hydrophoben Verbindung enthält.

13. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß Anspruch 12, worin die hydrophobe Verbindung eine Verbindung mit einer Mercaptogruppe und wenigstens einem hydrophoben Substituenten ist.

14. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, worin eine UV-Belichtung nach Freilegung der hydrophilen Schicht durchgeführt wird.

15. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, worin eine UV-Belichtung der Lithografiedruckplatten-Vorstufe nach der Laserstrahl-Belichtung und vor dem Druckbeginn durchgeführt wird.

16. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, worin eine UV-Belichtung der Lithografiedruckplatten-Vorstufe während der Laserstrahl-Belichtung durchgeführt wird.

17. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, worin der Träger ein Film oder ein polyethylenbeschichtetes Papier ist.

18. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckplatte gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, worin die Bilderzeugung durchgeführt wird durch Verwendung eines Lasers mit einer Ausgangsleistung auf der Lithografiedruckplatten-Vorstufe von 0,1 bis 10 W und worin die Silbermenge in der Silber-Dünnschicht 0,1 bis 1,5 g/m² beträgt.