JP2001080226A - 感熱性平版印刷版用原板 - Google Patents

感熱性平版印刷版用原板

Info

Publication number
JP2001080226A
JP2001080226A JP26437999A JP26437999A JP2001080226A JP 2001080226 A JP2001080226 A JP 2001080226A JP 26437999 A JP26437999 A JP 26437999A JP 26437999 A JP26437999 A JP 26437999A JP 2001080226 A JP2001080226 A JP 2001080226A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat
lithographic printing
printing plate
hydrophilic
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26437999A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuyuki Kita
信行 喜多
Keiji Akiyama
慶侍 秋山
Hidekazu Ohashi
秀和 大橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP26437999A priority Critical patent/JP2001080226A/ja
Priority to DE60020196T priority patent/DE60020196T2/de
Priority to AT00119409T priority patent/ATE295778T1/de
Priority to EP00119409A priority patent/EP1084826B1/en
Priority to US09/662,548 priority patent/US6852470B1/en
Publication of JP2001080226A publication Critical patent/JP2001080226A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/02—Cover layers; Protective layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2201/00—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes
    • B41C2201/14—Location, type or constituents of the non-imaging layers in lithographic printing formes characterised by macromolecular organic compounds, e.g. binder, adhesives
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/08—Developable by water or the fountain solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/165—Thermal imaging composition

Abstract

(57)【要約】 【課題】 露光後、現像処理を行うことなく直接印刷機
に装着して印刷でき、耐刷力に優れ、印刷汚れが発生し
にくい感熱性平版印刷用原板を得る。 【解決手段】 インキ受容性表面を有するか又はインキ
受容層を塗布した基板上に、（１）ベリリウム、マグネ
シウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニ
ウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモ
ン及び遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の
酸化物又は水酸化物のコロイド、（２）親水性樹脂及び
（３）光熱変換剤を含む親水層を設けた感熱性平版印刷
版用原板。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、現像不要で耐刷性
と汚れにくさに優れた感熱性平版印刷版用原板に関す
る。より詳しくは、デジタル信号に基づいた赤外線又は
近赤外線レーザビーム走査露光による画像記録が可能で
あり、画像記録したものは従来のような現像工程を経る
ことなしに、そのまま印刷機に装着し印刷することが可
能な平版印刷版用原板に関する。
【０００２】
【従来の技術】熱により画像形成し、そのまま処理をし
ないで印刷機に架けられる平版印刷版用原板について
は、種々の方法が提案されている。有望な方法の一つ
は、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高出力赤外線
レーザで露光し、露光部分を光熱変換剤で発熱させ、分
解蒸発を起こさせるアブレーションを利用した方法であ
る。すなわち、親油性基板又は親油性層を有す基板上に
親水層を設け、親水層をアブレーション除去する方法で
ある。
【０００３】ＷＯ９４／１８００５号公報には、親油性
レーザー光吸収層の上に架橋した親水層を設け、この親
水層をアブレーションする印刷版が開示されている。こ
の親水層は、ポリビニルアルコールをテトラエトキシ珪
素の加水分解物で架橋し、二酸化チタン粒子を含有させ
たものからなり、親水層の強度向上を図ったものであ
る。この技術により耐刷力は向上するが、炭化水素基を
有し必ずしも高親水性ではないポリビニルアルコールが
親水層の４８重量％も占めるため汚れにくさについては
まだ不十分で、さらなる改良が必要である。
【０００４】ＷＯ９８／４０２１２号公報、ＷＯ９９／
１９１４３号公報およびＷＯ９９／１９１４４号公報に
は、インキ受容性層を塗布した基板上に、シリカなどの
コロイドをアミノプロピルトリエトキシシランなどの架
橋剤で架橋したものを主成分とする親水層を設け、現像
なしで印刷機に架けることが可能な平版印刷原板が開示
されている。この親水層は、炭化水素基を極力少なくし
て印刷汚れに対する耐性を高め、架橋剤でコロイドを架
橋することにより耐刷力を向上させているが、それでも
耐刷力は数千枚と不十分である。
【０００５】アブレーションを利用したデジタルダイレ
クト無処理刷版は、版下からフィルムを介することなく
直接に刷版を作ることができ、そのまま印刷機に取り付
けて直ちに印刷することが可能であるなど、印刷の合理
化と廃棄物削減という大きな利点があるが、処理なしと
いう技術の難しさのため、印刷の基本である汚れにくさ
あるいは耐刷力のいずれかが損なわれがちで、未だ両者
を両立させる技術は開発されていない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題を解決することである。すなわち、処理を行うこ
となく直接印刷機に装着して印刷することが可能であ
り、耐刷性に優れ、印刷汚れが発生しにくい感熱性平版
印刷版用原板を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
に対して新たな優れた親水層を開発することで、無処理
のまま印刷機に架けることが可能で、印刷適性、特に耐
刷力および汚れにくさに優れた感熱性平版印刷版用原板
ができることを見出し、本発明に至った。すなわち、本
発明は以下の通りである。
【０００８】１．インキ受容性表面を有するか又はイン
キ受容層を塗布した基板上に、（１）ベリリウム、マグ
ネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマ
ニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチ
モン及び遷移金属から選択される少なくとも一つの元素
の酸化物又は水酸化物のコロイド、（２）親水性樹脂及
び（３）光熱変換剤を含む親水層を設けた感熱性平版印
刷版用原板。
【０００９】２．親水性樹脂が親水層固形分の０．１〜
３０重量％であることを特徴とする前記１記載の感熱性
平版印刷版用原板。
【００１０】3．親水性樹脂がヒドロキシ基又はカルボ
キシ基を有する高分子化合物であることを特徴とする前
記１記載の感熱性平版印刷版用原板。
【００１１】4．親水性樹脂がヒドロキシアルキルアク
リレート又はヒドロキシアルキルメタクリレートの単独
重合体又は共重合体であることを特徴とする前記１記載
の感熱性平版印刷版用原板。
【００１２】5．コロイドがジ、トリ及び／又はテトラ
アルコキシ珪素、テトラアルコキシアルミニウム、テト
ラアルコキシチタン及びテトラアルコキシジルコニウム
から選ばれた少なくとも１つの化合物の加水分解縮合物
からなるゾルであることを特徴とする前記１記載の感熱
性平版印刷版用原板。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
【００１４】本発明に使用される親水層は、ベリリウ
ム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼
素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウ
ム、アンチモン及び遷移金属から選択された少なくとも
一つの元素の酸化物又は水酸化物のコロイド、親水性樹
脂および光熱変換剤を含み、湿し水を使用する平版印刷
で湿し水に溶けない層である。これらのコロイドは、上
記元素のハロゲン化物やアルコキシ化合物の加水分解お
よび水酸化物の縮合など種々の方法で作られ、上記元素
が酸素原子を介して網目状構造を形成すると同時に未結
合の水酸基やアルコキシ基を有していて、これらが混在
した構造となっている。活性なアルコキシ基や水酸基が
多い初期加水分解縮合段階から、反応が進行するにつれ
粒子径は大きくなり不活性になる。コロイドの粒子は一
般的には２ｎｍから５００ｎｍで、シリカの場合５ｎｍ
から１００ｎｍの球形のものが本発明では好適である。
１０ｎｍから５０ｎｍの球状粒子が５０ｎｍから４００
ｎｍの長さに連なったパールネック状のコロイドも用い
ることができる。更には、アルミニウムのコロイドのよ
うに１００ｎｍ×１０ｎｍのような羽毛状のものも有効
である。
【００１５】本発明の親水層に用いる親水性樹脂として
は、例えばヒドロキシ、カルボキシ、ヒドロキシエチ
ル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、アミ
ノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を有するも
のが好ましい。具体的な親水性樹脂として、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチ
ルセルロース及びそれらのNa塩、セルロースアセテー
ト、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コ
ポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリ
アクリル酸及びそれらの塩、ポリメタクリル酸及びそれ
らの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマ
ー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホ
モポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルメタク
リレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプ
ロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒ
ドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポ
リマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー
及びコポリマー、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ポリビニルアルコール、加水分解度が
少なくとも６０重量％、好ましくは少なくとも８０重量
％の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマ
ール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、
アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタク
リルアミドのホモポリマー及びポリマー、Ｎ−メチロー
ルアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー等を挙
げることができる。
【００１６】特に好ましい親水性樹脂はヒドロキシ基含
有ポリマーで、具体的には、ヒドロキシエチルアクリレ
ート又はヒドロキシエチルメタクリレートの単独重合体
又は共重合体である。
【００１７】これらの親水性樹脂の添加割合は親水層全
固形分の０．１〜３０重量％が好ましく、５〜２０重量
％が特に好まし。この範囲より少なすぎる場合は、耐刷
力が十分でなく、この範囲より多すぎる場合は印刷汚れ
が発生しやすくなる。
【００１８】本発明の親水層に添加する感熱感度を高め
るための光熱変換剤としては、７００ｎｍ以上の光を吸
収する物質であればよく、種々の顔料や染料を用いる事
ができる。顔料としては、市販の顔料およびカラーイン
デックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔
料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」
（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」
（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が
利用できる。
【００１９】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。
【００２０】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シ
リカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポ
キシ化合物、イソシアネート化合物等）を顔料表面に結
合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、
「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用
技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されてい
る。これらの顔料中、赤外線、もしくは近赤外線を吸収
するものが、赤外線もしくは近赤外線を発光するレーザ
での利用に適する点で特に好ましい。
【００２１】そのような赤外線又は近赤外線を吸収する
顔料としてはカーボンブラック、親水性樹脂でコートさ
れたカーボンブラックやシリカゾルで変性されたカーボ
ンブラックが好適に用いられる。これらの中でも特に水
溶性の樹脂と分散しやすく、かつ親水性を損わないもの
として、親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされた
カーボンブラックが有用である。
【００２２】顔料の粒径は０.０１μｍ〜１μｍの範囲
にあることが好ましく、０．０１μｍ〜０．５μｍの範
囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。
【００２３】染料としては、市販の染料および文献（例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年
刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。これらの染料中、赤外
線、もしくは近赤外線を吸収するものが、赤外線もしく
は近赤外線を発光するレーザでの利用に適する点で特に
好ましい。
【００２４】赤外線又は近赤外線を吸収する染料として
は例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８
４３５６号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されて
いるシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開
昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号
等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７
９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４
８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−
５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載され
ているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号
等に記載されているスクワリリウム染料、英国特許４３
４，８７５号記載のシアニン染料や米国特許第４，７５
６，９９３号記載の染料、米国特許第４，９７３，５７
２号記載のシアニン染料、特開平１０−２６８５１２号
記載の染料を挙げることができる。
【００２５】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０
５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３
号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同
５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１
４６号記載のシアニン染料、米国特許第４，２８３，４
７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、エポリン社製Ｅｐｏｌｉｇ
ｈｔIII−１７８、ＥｐｏｌｉｇｈｔIII−１３０、Ｅｐ
ｏｌｉｇｈｔIII−１２５等も好ましく用いられる。こ
れらの染料の中で、特に好ましい具体例を以下に構造式
で列挙する。
【００２６】
【化１】
【００２７】
【化２】
【００２８】
【化３】
【００２９】
【化４】
【００３０】
【化５】
【００３１】
【化６】
【００３２】顔料又は染料は、コロイドと親水性樹脂の
合計重量の１〜５０％、好ましくは２〜２０重量％の割
合である。顔料又は染料の添加量が上記範囲より少なす
ぎると感度が低くなり、また上記範囲より多すぎると層
の親水性が損なわれたり、層の耐久性が悪くなる。
【００３３】本発明の親水層には上記のコロイド、親水
性樹脂および光熱変換剤の他に、コロイドの架橋を促進
する架橋剤を添加しても良い。その様なコロイドの架橋
剤としてはテトラアルコキシシランの初期加水分解縮合
物、トリアルコキシシリルプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ
アルキルアンモニウムハライド又はアミノプロピルトリ
アルコキシシランが好ましい。その添加割合は親水層の
全固形分の５重量％以下であることが好ましい。
【００３４】さらに、本発明の親水層には、印刷時の耐
刷力を増加させる目的で親水性樹脂の架橋剤を添加して
もよい。この様な親水性樹脂の架橋剤としては、ホルム
アルデヒド、グリオキザール、ポリイソシアネート、テ
トラアルコキシシランの初期加水分解・縮合物、ジメチ
ロール尿素及びヘキサメチロールメラミンを挙げること
ができる。
【００３５】さらに、本発明の親水層には、塗布の面状
を良化させるため、良く知られたフッ素系界面活性剤、
シリコン系界面活性剤、ポリオキシエチレン系界面活性
剤などを添加しても良い。
【００３６】本発明の親水層の塗布厚みは０．１μｍか
ら３μｍであることが好ましい。より好ましくは、０．
５μｍから２μｍである。薄すぎると、親水層の耐久性
が劣り、印刷時の耐刷力が劣る。また厚すぎると、親水
層をアブレーション的に下層のインキ受容層から剥離さ
せるのに、多大なエネルギーを要し、レーザーで露光す
る場合長時間の描画時間が必要になり、刷版を製造する
生産性が低下する。一般的な市販の半導体レーザーを用
いて描画した場合に、約０．５μｍの厚さで３００〜４
００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギーを、約１．５μｍの厚さ
で４００〜５００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギーを要する。
【００３７】本発明に使用するインキ受容性表面を有す
るか又はインキ受容層を塗布される基板としては、寸度
的に安定な板状物が用いられる。紙、親油性のプラスチ
ック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、ア
ルミニウム、亜鉛、銅、ニッケル、ステンレス鋼板
等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸
セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール等）、上記の金属がラミネート又は蒸着された
紙もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。
【００３８】好ましい基板は、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリカーボネイトフィルム、アルミニウ
ム又は鋼鈑、もしくは親油性のプラスチックフィルムが
ラミネートされているアルミニウム又は鋼鈑である。
【００３９】本発明に使用されるアルミニウム板は、従
来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜利用する
ことができる。
【００４０】アルミニウム板を使用するに先立ちその表
面を粗面化することが好ましい。粗面化により有機高分
子からなるインキ受容層と塗布した場合、基板との接着
性が容易に確保できる。粗面化は、公知公用のアルミニ
ウム板表面処理技術を用いることができる。
【００４１】本発明の基板の表面にインキ受容層として
塗布される有機高分子としては、溶媒に可溶であり、か
つ親油性の被膜を形成できるものである。更には、上層
である親水層の塗布溶媒に不溶であることが望ましい
が、場合によっては一部上層の塗布溶媒に膨潤するもの
が、上層との接着性に優れ望ましい場合がある。その
他、上層の塗布溶媒に可溶な有機高分子を用いる場合に
は、予め架橋剤を添加する等の工夫をして硬化させてお
くことが望ましい。
【００４２】有用な有機高分子としては、ポリエステ
ル、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポリシロ
キサン、ポリカーボネート、フェノキシ樹脂、エポキシ
樹脂、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ポリビニルアセテー
ト、アクリル樹脂及びその共重合体、ポリビニルフェノ
ール、ポリビニルハロゲン化フェノール、メタクリル樹
脂及びその共重合体、アクリルアミド共重合体、メタク
リルアミド共重合体、ポリビニルフォルマール、ポリア
ミド、ポリビニルブチラール、ポリスチレン、セルロー
スエステル樹脂、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン
等を挙げることができる。これらの中で、より好ましい
化合物として、側鎖にヒドロキシ基、カルボキシ基、ス
ルホンアミド基やトリアルコキシシリル基を有する樹脂
が基板や上層の親水層との接着性に優れ、かつ場合によ
って架橋剤で容易に硬化するので望ましい。その他、ア
クロニトリル共重合体、ポリウレタン、側鎖にスルホン
アミド基を有する共重合体や側鎖にヒドロキシ基を有す
る共重合体をジアゾ樹脂によって光硬化させたものが好
ましい。
【００４３】その他フェノール、クレゾール（ｍ−クレ
ゾール、ｐ−クレゾール、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フ
ェノール／クレゾール（ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、ｍ／ｐ混合クレゾール）、フェノール変性キシレ
ン、ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、オクチルフェノー
ル、レゾルシノール、ピロガロール、カテコール、クロ
ロフェノール（ｍ−Ｃｌ、ｐ−Ｃｌ）、ブロモフェノー
ル（ｍ−Ｂｒ、ｐ−Ｂｒ）、サリチル酸、フロログルシ
ノールなどのホルムアルデヒドとの縮合のノボラック樹
脂及びレゾール樹脂、さらに上記フェノール類化合物と
アセトンとの縮合樹脂などが有用である。
【００４４】その他の好適な高分子化合物として以下
（１）〜（１２）に示すモノマーをその構成単位とする
通常１万〜２０万の分子量を持つ共重合体を挙げること
ができる。 （１）芳香族ヒドロキシ基を有するアクリルアミド類、
メタクリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリ
ル酸エステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばＮ
−（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミドまたはＮ
−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミド、ｏ
−、ｍ−およびｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−、ｍ−お
よびｐ−ヒドロキシフェニルアクリレートまたはメタク
リレート、（２）脂肪族ヒドロキシ基を有するアクリル
酸エステル類およびメタクリル酸エステル類、例えば、
２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、（３）アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチ
ル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル
酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フ
ェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロ
エチル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、グリシジル
アクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート
などの（置換）アクリル酸エステル、
【００４５】（４）メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、
メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリ
ル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−
２−クロロエチル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチ
ル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエ
チルメタクリレートなどの（置換）メタクリル酸エステ
ル、（５）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メ
チロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルア
ミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリ
ルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシル
メタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミ
ド、Ｎ−シクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロ
キシエチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアク
リルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニ
ルメタクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ
−ベンジルメタクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアク
リルアミド、Ｎ−ニトロフェニルメタクリルアミド、Ｎ
−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミドおよびＮ−エチ
ル−Ｎ−フェニルメタクリルアミドなどのアクリルアミ
ドもしくはメタクリルアミド、
【００４６】（６）エチルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテ
ル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、
オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなど
のビニルエーテル類、（７）ビニルアセテート、ビニル
クロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル
などのビニルエステル類、（８）スチレン、メチルスチ
レン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、（９）
メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビ
ニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン
類、（１０）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブ
タジエン、イソプレンなどのオレフィン類、（１１）Ｎ
−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビ
ニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
など、
【００４７】（１２）Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェ
ニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフ
ェニル）アクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニル
フェニル）アクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノス
ルホニル）ナフチル〕アクリルアミド、Ｎ−（２−アミ
ノスルホニルエチル）アクリルアミドなどのアクリルア
ミド類、Ｎ−（ｏ−アミノスルホニルフェニル）メタク
リルアミド、Ｎ−（ｍ−アミノスルホニルフェニル）メ
タクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−〔１−（３−アミノスルホ
ニル）ナフチル〕メタクリルアミド、Ｎ−（２−アミノ
スルホニルエチル）メタクリルアミドなどのメタクリル
アミド類、また、ｏ−アミノスルホニルフェニルアクリ
レート、ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、
ｐ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、１−（３
−アミノスルホニルフェニルナフチル）アクリレートな
どのアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミ
ド、ｏ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｍ
−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、ｐ−アミ
ノスルホニルフェニルメタクリレート、１−（３−アミ
ノスルホニルフェニルナフチル）メタクリレートなどの
メタクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。
【００４８】これらの有機高分子を適当な溶媒に溶解さ
せて、基板上に塗布乾燥させインキ受容層を基板上に設
けることができる。有機高分子単独を溶媒に溶解させ用
いることもできるが、架橋剤、接着助剤、着色剤、無機
または有機の微粒子、塗布面状改良剤、可塑剤を必要に
応じて添加することができる。その他、このインキ受容
層には、感度を高めるための光熱変換剤や露光後のプリ
ントアウト画像を形成させるための加熱発色系あるいは
消色系が添加されてもよい。
【００４９】具体的な有機高分子を架橋させる架橋剤と
して、ジアゾ樹脂、芳香族アジド化合物、エポキシ樹
脂、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化
合物、テトラアルコキシ珪素の初期加水分解縮合物、グ
リオキザール、アルデヒド化合物やメチロール化合物を
挙げることができる。
【００５０】接着助剤としては、上記のジアゾ樹脂が基
板及び親水層との接着に優れるが、この他にシランカッ
プリング剤、イソシアネート化合物、チタン系カップリ
ング剤も有用である。
【００５１】着色剤としては、通常の染料や顔料が用い
られるが、特にローダミン６Ｇ塩化物、ローダミンＢ塩
化物、クリスタルバイオレット、マラカイトグリーンシ
ュウ酸塩、オキサジン４パークロレート、キニザリン、
２−（α−ナフチル）−５−フェニルオキサゾール、ク
マリン−４が挙げられる。他の染料として具体的には、
オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オ
イルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブル
ーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢ
Ｙ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５
（以上、オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチル
バイオレット、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）、パ
テントピュアブルー（住友三国化学社製）、ブリリアン
トブルー、メチルグリーン、エリスリシンＢ、ベーシッ
クフクシン、ｍ−クレゾールパープル、オーラミン、４
−ｐ−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シア
ノ−ｐ−ジエチルアミノフェニルアセトアニリドなどに
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の染料あるい
は特開昭６２−２９３２４７号公報、特願平７−３３５
１４５号公報に記載されている染料を挙げることができ
る。上記色素は、インキ受容層中に添加される場合は受
容層の全固形分に対し、通常約０．０２〜１０重量％、
より好ましくは約０．１〜５重量％の割合ある。
【００５２】更に塗布面状改良剤としてよく知られた化
合物であるフッ素系界面活性剤やシリコン系界面活性剤
も用いることができる。具体的にはパーフルオロアルキ
ル基やジメチルシロキサン基を有する界面活性剤が塗布
面上を整えることで有用である。
【００５３】本発明で用いることができる無機又は有機
の微粉末としては１０ｎｍから１００ｎｍまでのコロイ
ダルシリカやコロイダルアルミニウム、更にはこれらの
コロイドより大きい粒径の不活性粒子、例えば、シリカ
粒子、表面疎水化したシリカ粒子、アルミナ粒子、二酸
化チタン粒子、その他重金属粒子、クレーやタルク等を
挙げることができる。これらの無機又は有機の微粉末を
インキ受容層中に添加することによって、上層の親水層
との接着性を改良し、印刷における耐刷力を増加させる
効果がある。インキ受容層中におけるこれらの微粉末の
添加割合は、全量の８０重量％以下で好ましくは４０重
量％以下である。
【００５４】更に、本発明のインキ受容層中には必要に
応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えら
れる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリ
ブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フクル
酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル
酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
【００５５】更に、本発明のインキ受容層中には露光し
たとき画像部と非画像部を鮮明にするため発色系又は消
色系の化合物が添加されることが好ましい。例えば、ジ
アゾ化合物やジフェニルヨードニウム塩のような熱酸発
生剤と共にロイコ染料（ロイコマラカイトグリーン、ロ
イコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレット
のラクトン体等）やＰＨ変色染料（例えば、エチルバイ
オレット、ビクトリアプアーブルーＢＯＨ等の染料）が
用いられる。その他、ＥＰ８９７１３４号明細書に記載
されているような、酸発色染料と酸性バインダーの組合
わせも有効である。この場合、加熱によって染料を形成
している会合状態の結合が切れ、ラクトン体が形成して
有色から無色に変化する。これらの発色系の添加割合は
受容層中の全量に対し１０重量％以下好ましくは５重量
％以下である。
【００５６】更に、本発明のインキ受容層には感熱感度
を高めるために、光熱変換剤を添加してもよい。光熱変
換剤としては、前記の赤外線吸収染料や顔料であっても
よいが、この場合には親油性の染料や顔料が好ましい。
特に好ましいものは、カーボンブラックやシアニン染料
のうちの親油性のものである。以下にその親油性シアニ
ン染料の具体的な化合物を挙げる。
【００５７】
【化７】
【００５８】インキ受容層への光熱変換剤の添加割合
は、インキ受容層の全量の２０重量％以下が好適で、１
５重量％以下である。顔料又は染料の添加量が上記範囲
より多すぎると層の耐久性が低下する。
【００５９】上記インキ受容層を塗布する溶媒としては
アルコール類（メタノール、エタノール、プロピルアル
コール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、
プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、エ
チレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコ
ールジメチルエーテル、テトラヒドロピラン等）、ケト
ン類（アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセト
ン等）、エステル類（酢酸メチル、エチレングリコール
モノメチルモノアセテート等）、アミド類（ホルムアミ
ド、Ｎ−メチルホルムアミド、ピロリドン、Ｎ−メチル
ピロリドン等）、ガンマーブチロラクトン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル等を用いることができる。これらの溶媒
は単独あるいは混合状態で使用される。塗布液を調製す
る場合、溶媒中の上記インキ受容層構成成分（添加剤を
含む全固形分）の濃度は、好ましくは１〜５０重量％で
ある。その他、上記のような有機溶媒からの塗布ばかり
でなく、水性エマルジョンからも被膜を形成させること
ができる。この場合の濃度は５重量％から５０重量％が
好ましい。
【００６０】本発明でのインキ受容層の塗布乾燥後の厚
みは、特に限定的ではないが０．１μｍ以上あればよ
い。金属板上に設ける場合には断熱層としての役目をも
有するので０．５μｍ以上が望ましい。インキ受容層が
薄すぎると発熱した熱が金属板の方に発散し、感度が低
下する。その上親水性の金属板の場合には、インキ受容
層に耐摩耗性が要求されるため、耐刷力を確保できなく
なる。親油性のプラスチックフィルムを基板として使用
する場合には、インキ受容層は上層との接着層としての
役目を果すことができればよいので、その塗布量は金属
板の時より少なくてもよく、０．０５μｍ以上が好まし
い。
【００６１】本発明の感熱性平版印刷用原板は、アブレ
ーションによるカスの飛散の抑制及び親油性物質による
親水層汚染の防止のため、親水層の上に水溶性樹脂から
なるオーバーコート層を設けることができる。
【００６２】本発明に使用される水溶性オーバーコート
層は印刷時容易に除去できるものであり、水溶性の有機
又は無機の高分子化合物から選ばれた樹脂を含有する。
ここで用いる水溶性の有機又は無機の高分子化合物とし
ては、塗布乾燥によってできた被膜がフィルム形成能を
有するもので、具体的には、ポリ酢酸ビニル（但し加水
分解率６５％以上のもの）、ポリアクリル酸及びそのア
ルカリ金属塩あるいはアミン塩、ポリアクリル酸共重合
体及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリメタクリ
ル酸及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリメタク
リル酸共重合体及びそのアルカリ金属塩又はアミン塩、
ポリアクリルアミド及びその共重合体、ポリヒドロキシ
エチルアクリレート、ポリビニルピロリドン及びその共
重合体、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルメチル
エーテル／無水マレイン酸共重合体、ポリ−２−アクリ
ルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸及びそ
のアルカリ金属塩又はアミン塩、ポリ−２−アクリルア
ミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸共重合体及
びそのアルカリ金属塩あるいはアミン塩、アラビアガ
ム、繊維素誘導体（例えば、カルボキシメチルセルロー
ズ、カルボキシエチルセルローズ、メチルセルローズ
等）及びその変性体、ホワイトデキストリン、プルラ
ン、酵素分解エーテル化デキストリン等を挙げることが
できる。また、目的に応じて、これらの樹脂を二種以上
混合して用いることもできる。
【００６３】その他、オーバーコート層には塗布の均一
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には主に非イオ
ン系界面活性剤を添加することができる。この様な非イ
オン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタント
リオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非イオ
ン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占める
割合は、０．０５〜５重量％が好ましく、より好ましく
は１〜３重量％である。
【００６４】さらに本発明のオーバーコート層には、感
熱感度を高めるため光熱変換剤を添加しても良い。オー
バーコート層に添加できる光熱変換剤としては、前記の
赤外線吸収染料又は顔料でよいが、前記親水層に添加す
るのに適していた水溶性シアニン染料が好ましい。
【００６５】顔料又は染料は、オーバーコート層の全固
形分の１〜７０重量％、好ましくは２〜５０重量％、染
料の場合、特に好ましくは２〜３０重量％、顔料の場
合、特に好ましくは２０〜５０重量％の割合である。本
発明では、親水層に光熱変換剤を添加しているため、必
要に応じてオーバーコート層に光熱変換剤を添加する場
合もその量を少なく設定することができる。
【００６６】本発明に用いるオーバーコート層の厚みは
０．０５μｍから４．０μmが好ましく、更に好ましい
範囲は０．１μｍから１．０μｍである。厚すぎると、
印刷時オーバーコート層を除去するのに時間がかかり、
また多量に溶けだした水溶性樹脂が湿し水に影響を与
え、印刷時ローラストリップが発生したり、インキが画
像部に着肉しない等の悪影響が出てくる。また薄すぎる
と皮膜性が損なわれる場合がある。
【００６７】本発明の感熱性平版印刷用原板は熱により
画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直
接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン
放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光
などが用いられるが、波長７００〜１２００ｎｍの赤外
線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高出
力赤外線レーザによる露光が好適である。画像露光され
た本発明の印刷用原板は、それ以上の処理なしに印刷機
に装着することができる。インキと湿し水を用いて印刷
を開始すると、オーバーコート層は湿し水によって除去
されると同時に露光部の親水層も除去され、その下のイ
ンキ受容層にインキが着肉し印刷が開始される。
【００６８】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６９】実施例１
【００７０】（インキ受容層用有機高分子の合成）攪拌
機、冷却管、滴下ロートを備えた２００ｍｌ三ツ口フラ
スコに、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）メタク
リルアミド４．６１ｇ（０．０１９２モル）、メタクリ
ル酸エチル２．９４ｇ（０．０２５８モル）、アクリロ
ニトリル０.８０ｇ（０．０１５モル）及びN,N−ジメチ
ルアセトアミド２０ｇを入れ、湯水浴により６５℃に加
熱しながら攪拌した。この混合物にＶ−６５（和光純薬
（株）製）０．１５ｇを加え６５℃に保ちながら窒素気
流下２時間攪拌した。この反応混合物にさらにＮ−（ｐ
−アミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド４．６
１ｇ、メタクリル酸エチル２．９４ｇ、アクリロニトリ
ル０．８０ｇ、N,N−ジメチルアセトアミド及び重合開
始剤Ｖ−６５（和光純薬（株）製）０．１５ｇの混合物
を２時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後
さらに６５℃で２時間攪拌した。反応終了後メタノール
４０ｇを加え冷却し、水2Ｌに攪拌下投入し、３０分間
攪拌した後ろ過乾燥する事により１５ｇの白色固体を得
た。ゲルパーミエーシヨンクロマトグラフイーによりこ
のＮ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）メタクリルア
ミド共重合体の重量平均分子量（ポリスチレン標準）を
測定したところ５３，０００であった。
【００７１】（インキ受容性の基板の作製）公知の方法
で砂目立て、陽極酸化およびケイ酸ソーダ溶液処理を施
したアルミニウム板（材質ＪＩＳＡ１０５０、厚さ０．
２４ｍｍ）に、上記のＮ−（ｐ−アミノスルホニルフエ
ニル）メタクリルアミド共重合体３ｇ、ガンマーブチロ
ラクトン９．５ｇ／乳酸メチル３ｇ／メチルエチルケト
ン２２．５ｇ／プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル２２ｇからなる塗布液を、塗布液量が２４ｍｌ／ｍ 2
になるようバーコーターで塗布した。その後、１００
℃、１分間加熱乾燥させ、乾燥塗布量約１ｇ／ｍ2のイ
ンキ受容層を有するアルミニウム基板を作製した。
【００７２】（感熱性平版印刷用原板の作製）ポリー２
−ヒドロキシエチルメタクリレート（重量平均分子量２
５０，０００）の１０％エチレングリコールモノメチル
エーテル溶液１ｇ、メタノールシリカ（日産化学製：粒
子径１０〜２０ｎｍのシリカ粒子を３０重量％含有する
メタノール溶液からなるコロイド）３ｇ、本明細書に記
載のシアニン染料（Ｉ−３３）０．０８ｇ及びメタノー
ル１６ｇからなる溶液を上記インキ受容層を塗布したア
ルミニウム基板の上に塗布し、１００℃、１分間乾燥さ
せて、乾燥塗布重量約１ｇ／ｍ2の親水層をインキ受容
層の上に設けた。
【００７３】（平版印刷版の製版および印刷）上記の平
版印刷用原板をカナダＣＲＥＯ社製４０Ｗトレンドセッ
ター（４０Ｗの８３０ｎｍ半導体レーザーを搭載したプ
レートセッター）に取付け、３００ｍＪ／ｃｍ2のエネ
ルギーで露光した。露光した原板をそれ以上の処理をし
ないでそのままハリス印刷機に取付け、エッチ液含有１
０容量％イソプロピルアルコール水溶液からなる湿し水
とインキを用いて印刷したところ、１０，０００部の汚
れのない良好な印刷物が得られた。
【００７４】実施例２ 実施例１のメタノールシリカ３ｇに代えて、グラスカ４
０１（日板研究所製：ＺｒＯ2・ＳｉＯ2からなる２０重
量％のメタノールコロイド溶液）４．５ｇを用いた以外
は実施例１と同様にして感熱性平版印刷用原板を得た。
この原板を実施例１と同様に露光し、ハリス印刷機で印
刷したところ、１０，０００部の汚れのない良好な印刷
物が得られた。
【００７５】実施例３ 実施例１の2−ヒドロキシエチルメタクリレートホモポ
リマーの１０％エチレングリコールモノメチルエーテル
溶液１ｇに代えて、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト／メチルメタクリレート（７０／３０重量％）からな
る共重合体（重量平均分子量２００，０００）の１０％
エチレングリコールモノメチルエーテル溶液１ｇを用い
た以外は実施例１と同様にして感熱性平版印刷用原板を
得た。この原板を実施例１と同様に露光し、ハリス印刷
機で印刷したところ、１５，０００部の汚れのない良好
な印刷物が得られた。
【００７６】実施例４ 実施例１の2−ヒドロキシエチルメタクリレートホモポ
リマーの１０％エチレングリコールモノメチルエーテル
溶液１ｇの代りに、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト／アクリル酸（９０／１０重量％）からなる共重合体
（重量平均分子量３００，０００）の１０％エチレング
リコールモノメチルエーテル溶液２ｇを用いた以外は実
施例１と同様にして感熱性平版印刷用原板を得た。この
原板を実施例１と同様に露光し、ハリス印刷機で印刷し
たところ、２０，０００部の汚れのない良好な印刷物が
得られた。
【００７７】実施例５ 実施例１のインキ受容性層を塗布した基板上に、下記処
方の親水層を塗布して感熱性平版印刷用原板を得た。 （親水層処方２） メタノールシリカ（実施例１と同じ） ４．５ｇ ポリ−２−ヒドロキシエチルメタクリレートの１０％エチレン グリコールモノメチルエーテル溶液（実施例１と同じ） １．５ｇ 本明細書記載のシアニン染料（Ｉ−３４） ０．１０ｇ メタノール １６ｇ この印刷用原板は親水層の乾燥塗布重量が約１．５ｇ／
ｍ2であった。この原板を実施例１と同じプレートセッ
ターにて４５０ｍＪ／ｃｍ2のエネルギーで露光した。
次いで原板をハリス印刷機に取付け、エッチ液含有１０
容量％イソプロピルアルコール水溶液からなる湿し水と
インキを用いて印刷したところ、２５，０００部の良好
な印刷物が得られた。
【００７８】実施例６ 実施例１の感熱性平版印刷用原板の上に、下記処方のオ
ーバーコート層を塗布した。次いで、１００℃、２分間
乾燥させて、乾燥塗布重量約０．６ｇ／ｍ2のオーバー
コート層を親水層の上に設けた感熱性平版印刷用原板を
作製した。 （オーバーコート層処方） ポリアクリル酸（重量平均分子量２５，０００） １．０ｇ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール ０．０２５ｇ 水 １９ｇ この原板を実施例１と同様にして露光した。露光後の版
面観察で、アブレーションにより親水層が飛散した形跡
はほとんどなく、飛散が抑制されていることが分かっ
た。次いで実施例１と同様にハリス印刷機で印刷したと
ころ、１０，０００部の汚れのない良好な印刷物が得ら
れた。印刷機に取り付ける際に指が触った部分でも、指
紋状の汚れが発生することはなかった。
【００７９】実施例７〜１１ 実施例１のＮ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）メタ
クリルアミド共重合体の代りに、実施例７ではフェノキ
シ樹脂（商品名フェノトートＹＰ−５０：東都化成
（株）製）、実施例８ではポリビニルホルマール樹脂
（商品名デンカホルマール＃２００：電気化学工業
（株）製）、実施例９ではポリウレタン樹脂（商品名エ
スタン＃５７１５：モンサント社製）、実施例１０では
飽和共重合ポリエステル樹脂（商品名ケミットＫ−１２
９４：東レ（株）製）、そして実施例１１ではメチルメ
タクリレート／メタクリロイルオキシプロピルトリエト
キシシラン（６０／４０重量％）共重合体（平均重量分
子量８５，０００）を用いた。各樹脂３．０ｇをメチル
エチルケトン３７ｇとプロピレングリコールモノメチル
エーテル２０ｇからなる混合溶媒に溶解し、更にメガフ
ァックＦ−１７７（大日本インキ化学工業（株）製のフ
ッ素系界面活性剤）０．０４ｇをそれらの塗布液に添加
し、実施例１と同じアルミニウム板に塗布液量が２４ｍ
ｌ／ｍ2になるようバー塗布した。その後、１００℃、
１分間加熱乾燥させ、乾燥塗布量約１ｇ／ｍ2のインキ
受容層を有するアルミニウム基板を作製した。そして、
これらの基板の上に実施例１と同じ親水層を塗布し、さ
らにその上に実施例６と同じオーバーコート層を塗布し
て感熱性平版印刷用原板を得た。これら原板を実施例１
と同様に露光し、ハリス印刷機で印刷したところ、それ
ぞれ１０，０００部の汚れのない良好な印刷物が得られ
た。
【００８０】実施例１２〜１４ 実施例１のインキ受容性層塗布液を下記の塗布液に代え
て、光熱変換剤を含むインキ受容性層を有す基板を作製
した。 （インキ受容性層塗布液処方２） Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド共重合体 （実施例１と同じもの） ３ｇ シアニン染料 ０．３ｇ ガンマーブチロラクトン ９．５ｇ 乳酸メチル ３ｇ メチルエチルケトン ２２．５ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２２ｇ シアニン染料は、実施例１２では本明細書記載の（Ｉ−
３６）、実施例１３では本明細書記載の（Ｉ−３７）、
実施例１４では本明細書記載の（Ｉ−３８）を用いた。
【００８１】このインキ受容層を有す基板上に実施例５
と同じ親水層を乾燥塗布量約１．５ｇ／ｍ2で塗布し
た。さらにその上に実施例６と同じオーバーコート層を
塗布して感熱性印刷用原板を作製した。この原板を実施
例１と同じプレートセッターで４００ｍＪ／ｃｍ2のエ
ネルギーで露光し、実施例１と同様にハリス印刷機で印
刷したところ、それぞれ２５，０００部の汚れのない良
好な印刷物が得られた。
【００８２】実施例１５ 実施例５の感熱性印刷用原板上に、下記処方のオーバー
コート層を乾燥塗布重量約０．６ｇ／ｍ2塗布して感熱
性印刷用原板を得た。 （オーバーコート層処方２） ポリアクリル酸（重量平均分子量２５，０００） １．０ｇ ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール ０．０２５ｇ 本明細書記載のシアニン染料（Ｉ−３１） ０．２ｇ 水 １９ｇ この原板を実施例１と同じプレートセッターで４００ｍ
Ｊ／ｃｍ2のエネルギーで露光した。次いで原板をハリ
ス印刷機で実施例１と同様に印刷したところ、２５，０
００部の良好な印刷物が得られた。
【００８３】実施例１６ 実施例１のアルミニウム板の代わりに厚さ０．２ｍｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。その他
はすべて実施例１と同様にして感熱性平版印刷用原板を
得た。この原板を実施例１と同様にして露光したのちハ
リス印刷機に取付け印刷したところ、１０，０００部の
汚れのない良好な印刷物が得られた。
【００８４】実施例１７ 実施例１のインキ受容層を塗布した基板上に、下記処方
の親水層を塗布し、１００℃、１分間乾燥させ、約１ｇ
／ｍ2の乾燥塗布重量を有する３次元架橋した親水層を
得た。 （親水層用塗布液処方） ポリー２−ヒドロキシエチルメタクリレートの１０重量％エチレングリコー ルモノメチルエーテル溶液（実施例１と同じ） １ｇ メタノールシリカ３０％メタノール溶液（実施例１と同じ） ３ｇ アミノプロピルトリエトキシシラン ０．０５ｇ 本明細書記載のシアニン染料（Ｉ−３４） ０．１３ｇ メタノール １６ｇ 更に、この上に実施例６のオーバーコー層を設け感熱性
平版印刷用原板を得た。この原板を実施例１と同様に露
光し、ハリス印刷機で印刷したところ、２０，０００部
の汚れのない良好な印刷物が得られた。
【００８５】実施例１８ 実施例１と同じアルミニウム板上に、下記組成のインキ
受容性層用塗布液を２０ｍｌ／ｍ2になるよう塗布し、
１００℃、１分間乾燥させ、乾燥塗布重量約０．６ｇ／
ｍ2のインキ受容層を有するアルミニウム基板を作成し
た。 （インキ受容性層用塗布液処方） Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフエニル）メタクリルアミド／メタクリル酸メ チル／アクリロニトリル／２−ヒドロキシエチルメタクリレート （４０／１０／３０／２０重量%共重合体） ３g エチレングリコールモノメチルエーテル ５０g メチルエチルケトン ４７g
【００８６】次いで、下記のように調製した親水層塗布
液をインキ受容性層の上にバーを用いて塗布し、１００
℃、５分間乾燥させ乾燥塗布重量約２ｇ／ｍ2の親水層
を設けた。 （親水層塗布液の調製）テトラエトキシシラン１８ｇ、
エタノール３２ｇ、純水３２ｇ及び硝酸０．０２ｇをビ
ーカーを入れ、室温下１時間攪拌させゾル液を作成し
た。このゾル液３ｇ、ポリビニルアルコール（商品名Ｐ
ＶＡ１１７：クラレ（株）製）の１０%水溶液４ｇ、コ
ロイダルシリカ２０%水溶液（商品名スノーテックス
Ｃ：日産化学（株）製）８ｇ、本明細書記載のシアニン
染料（Ｉ−３３）０．１０ｇ、純水８ｇ及びポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテール０．０４ｇを混合し
た。次に、この親水層上に実施例６と同じオーバーコー
ト層を設け感熱性平版印刷用原板を得た。この原板をカ
ナダＣＲＥＯ社の４０Ｗトレンドセッター（４０Ｗの８
３０ｎｍ半導体レーザーを搭載プレートセッター）に取
付け、６００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギーを照射した。露
光した印刷版をハリス印刷機に取付け印刷したところ、
４０，０００部の汚れのない良好な印刷物が得られた。
【００８７】実施例１９〜２２ 実施例１８のポリビニルアルコール１０％水溶液４ｇの
代わりに、下記の親水性樹脂を用いた。 実施例１９：2−ヒドロキシエチルメタクリレート／ア
クリル酸（７０／３０重量％）共重合体（重量平均分子
量２５０、０００）の１０％エチレングリコールモノメ
チルエーテル溶液４ｇ 実施例２０：ポリ−2−ヒドロキシエチルアクリレート
（重量平均分子量２００、０００）の１０％水溶液４ｇ 実施例２１：ポリアクリル酸（重量平均分子量１００、
０００）の１０％水溶液４ｇ 実施例２２：２−ヒドロキシエチルメタクリレート／２
−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン
酸（８０／２０重量％）共重合体（重量平均分子量１０
０、０００）の１０％水溶液４ｇ 実施例２２の場合は塗布液のゲル化が早いので、この共
重合体を混合後、直ちに塗布を完了させた。それ以外は
実施例１８と全て同様に、オーバーコートのある感熱性
印刷用原板を作製し、露光し、印刷した。その結果、い
ずれの印刷版においても、４０，０００部の汚れのない
良好な印刷物が得られた。
【００８８】
【発明の効果】本発明によれば、従来のレーザー露光を
用いるヒートモードの製版方法の欠点を解決することが
出来る。すなわち、本発明の平版印刷用原板を用いるこ
とにより、露光後処理を行うことなくそのまま印刷機に
装着して印刷することが可能であり、耐刷性に優れ、印
刷汚れの発生しにくい感熱性平版印刷版用原板が得られ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大橋 秀和 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 BH03 CB14 CB43 CB45 CB51 CC11 CC20 DA36 DA40 FA10 2H114 AA04 AA24 BA01 DA04 DA08 DA14 DA56 DA58 DA79 EA03

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 インキ受容性表面を有するか又はインキ
    受容層を塗布した基板上に、（１）ベリリウム、マグネ
    シウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニ
    ウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモ
    ン及び遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の
    酸化物又は水酸化物のコロイド、（２）親水性樹脂及び
    （３）光熱変換剤を含む親水層を設けた感熱性平版印刷
    版用原板。
  2. 【請求項２】 親水性樹脂が親水層固形分の０．１〜３
    ０重量％であることを特徴とする請求項１記載の感熱性
    平版印刷版用原板。
  3. 【請求項3】 親水性樹脂がヒドロキシ基又はカルボキ
    シ基を有する高分子化合物であることを特徴とする請求
    項１記載の感熱性平版印刷版用原板。
  4. 【請求項4】 親水性樹脂がヒドロキシアルキルアクリ
    レート又はヒドロキシアルキルメタクリレートの単独重
    合体又は共重合体であることを特徴とする請求項１記載
    の感熱性平版印刷版用原板。
  5. 【請求項5】 コロイドがジ、トリ及び／又はテトラア
    ルコキシ珪素、テトラアルコキシアルミニウム、テトラ
    アルコキシチタン及びテトラアルコキシジルコニウムか
    ら選ばれた少なくとも１つの化合物の加水分解縮合物か
    らなるゾルであることを特徴とする請求項１記載の感熱
    性平版印刷版用原板。
JP26437999A 1999-09-17 1999-09-17 感熱性平版印刷版用原板 Pending JP2001080226A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26437999A JP2001080226A (ja) 1999-09-17 1999-09-17 感熱性平版印刷版用原板
DE60020196T DE60020196T2 (de) 1999-09-17 2000-09-12 Vorläufer für eine wärmeempfindliche Flachdruckplatte
AT00119409T ATE295778T1 (de) 1999-09-17 2000-09-12 Vorläufer für eine wärmeempfindliche flachdruckplatte
EP00119409A EP1084826B1 (en) 1999-09-17 2000-09-12 Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US09/662,548 US6852470B1 (en) 1999-09-17 2000-09-15 Heat-sensitive lithographic printing plate precursor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26437999A JP2001080226A (ja) 1999-09-17 1999-09-17 感熱性平版印刷版用原板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001080226A true JP2001080226A (ja) 2001-03-27

Family

ID=17402345

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26437999A Pending JP2001080226A (ja) 1999-09-17 1999-09-17 感熱性平版印刷版用原板

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6852470B1 (ja)
EP (1) EP1084826B1 (ja)
JP (1) JP2001080226A (ja)
AT (1) ATE295778T1 (ja)
DE (1) DE60020196T2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004014857A1 (ja) * 2002-08-09 2004-02-19 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha インドレニン化合物、近赤外線吸収剤、及びこれを含有するトナー
US6878503B2 (en) 2001-10-10 2005-04-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1593522B1 (en) * 2001-07-23 2008-02-27 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
US6593055B2 (en) * 2001-09-05 2003-07-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Multi-layer thermally imageable element
JP4308687B2 (ja) * 2004-03-11 2009-08-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU674518B2 (en) * 1992-07-20 1997-01-02 Presstek, Inc. Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
EP0683728B1 (en) * 1993-02-09 1997-04-09 Agfa-Gevaert N.V. Heat mode recording material and method for making a lithographic printing plate therewith
EP0620502B1 (en) * 1993-04-05 1999-03-17 Agfa-Gevaert N.V. A lithographic base and a method for making a lithographic printing plate therewith
DE69323997T2 (de) * 1993-04-05 1999-10-14 Agfa Gevaert Nv Lithographischer Träger und Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckform
US5506090A (en) * 1994-09-23 1996-04-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for making shoot and run printing plates
US5704291A (en) * 1996-01-30 1998-01-06 Presstek, Inc. Lithographic printing members with deformable cushioning layers
US6197478B1 (en) * 1996-09-25 2001-03-06 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making a driographic printing plate involving the use of a heat-sensitive imaging element
GB9702568D0 (en) * 1997-02-07 1997-03-26 Horsell Graphic Ind Ltd Planographic printing
US5985515A (en) * 1997-03-07 1999-11-16 Agfa-Gevaert, N.V. Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
US6045969A (en) * 1997-07-04 2000-04-04 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making a lithographic base and a lithographic printing plate therewith
US6014929A (en) * 1998-03-09 2000-01-18 Teng; Gary Ganghui Lithographic printing plates having a thin releasable interlayer overlying a rough substrate
US6210857B1 (en) * 1998-06-26 2001-04-03 Agfa-Gevaert Heat sensitive imaging element for providing a lithographic printing plate
EP0967077B1 (en) * 1998-06-26 2003-08-20 Agfa-Gevaert A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
DE19834745A1 (de) * 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6383692B1 (en) * 1999-07-13 2002-05-07 Agfa-Gevaert Flexographic printing plate precursor comprising a (photo)thermographic recording layer
JP2001232966A (ja) * 2000-02-24 2001-08-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷用原板
JP2001260553A (ja) * 2000-03-21 2001-09-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷用原板
US6387595B1 (en) * 2000-10-30 2002-05-14 Gary Ganghui Teng On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6878503B2 (en) 2001-10-10 2005-04-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
WO2004014857A1 (ja) * 2002-08-09 2004-02-19 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha インドレニン化合物、近赤外線吸収剤、及びこれを含有するトナー
JPWO2004014857A1 (ja) * 2002-08-09 2005-12-02 日本化薬株式会社 インドレニン化合物、近赤外線吸収剤、及びこれを含有するトナー

Also Published As

Publication number Publication date
US6852470B1 (en) 2005-02-08
ATE295778T1 (de) 2005-06-15
EP1084826B1 (en) 2005-05-18
EP1084826A1 (en) 2001-03-21
DE60020196T2 (de) 2006-01-26
DE60020196D1 (de) 2005-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60014526T2 (de) Wärmeempfindlicher Vorläufer für eine Flachdruckplatte
JP2001232966A (ja) 感熱性平版印刷用原板
JP3741353B2 (ja) 感熱性平版印刷用原板
JP2001260553A (ja) 感熱性平版印刷用原板
JP2001162960A (ja) 感熱性平版印刷版用原板
JP2002219881A (ja) 平版印刷版の製造法
JP2001080226A (ja) 感熱性平版印刷版用原板
JP3797530B2 (ja) 感熱性平版印刷版用原板
US6878503B2 (en) Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
JP4127951B2 (ja) 感熱性平版印刷版用原板
JP2001096938A (ja) 感熱性平版印刷版用原板
JP2001162961A (ja) 感熱性平版印刷版用原板
JP2001334763A (ja) 感熱性平版印刷用原板
JP2004106544A (ja) 機上現像可能な感熱性平版印刷版用原版
JP3941934B2 (ja) 平版印刷版用原版
JP4116759B2 (ja) 平版印刷方法
JP2001083692A (ja) 感熱性平版印刷版用原板
JP2001219666A (ja) 感熱性平版印刷用原板
JP4116760B2 (ja) 平版印刷方法
JP2003118247A (ja) 感熱性平版印刷版用原板
JP3830139B2 (ja) 平版印刷版用修正液及び修正方法
JP2002293050A (ja) 感熱性平版印刷版用原板
JP2003145955A (ja) 感熱性平版印刷版用原板
JP2001315454A (ja) 感熱性平版印刷用原板
JP2002086945A (ja) 感熱性平版印刷用原板