DE60021850T2 - Keramisches heizelement - Google Patents

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Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Diese Erfindung betrifft ein keramisches Heizelement, das hauptsächlich in einer Halbleiterindustrie als statische Einspannvorrichtung, Waferscheibensondiergerät oder dergleichen zum Trocknen oder zur Sputterbehandlung verwendet wird, und insbesondere wird ein keramisches Heizelement vorgeschlagen, das sogar bei einer langfristigen Verwendung in einer oxidierenden Atmosphäre einen Widerstandswert nicht ändert und eine ausgezeichnete Temperatursteuerbarkeit hat.
  • HINTERGRUND ZUM STAND DER TECHNIK
  • Halbleiterprodukte werden im Allgemeinen hergestellt, indem eine Siliziumscheibe mit einem lichtempfindlichen Harz als Ätzabdeckung geätzt wird, um elektronische Stromkreise oder dergleichen auszubilden. In einem solchen Herstellungsverfahren sollte das flüssige lichtempfindliche Harz, das auf die Oberfläche der Siliziumscheibe aufgetragen wird, nach der Auftragung durch eine Schleuderauftragmaschine getrocknet werden. Zu diesem Zweck wird die Trocknung durchgeführt, indem die Siliziumscheibe, die mit dem lichtempfindlichen Harz beschichtet ist, mittels eines Heizelements geheizt wird.
  • Als ein solches Heizelement ist bisher eines verwendet worden, welches dadurch erhalten wird, indem ein Heizkörper auf einer rückseitigen Oberfläche eines metallischen Substrats wie Aluminium oder dergleichen ausgebildet wird.
  • Wenn jedoch das Heizelement, bei dem ein solches metallisches Substrat verwendet wird, beim Trocknen des Halbleiterproduktes verwendet wird, gibt es die folgenden Probleme. Das Substrat des Heizelements ein Metall, so dass die Dicke des Substrats auf ungefähr 15 mm verdickt werden sollte. Wenn ein dünnes Metallsubstrat verwendet wird, werden Verwerfungen oder Verspannungen auf Grund der thermischen Expansion verursacht, die aus dem Heizen resultieren, was die Scheibe beeinflusst, die auf ein solches metallisches Substrat gesetzt wird und dadurch geheizt wird, was ein Brechen oder Verkippen verursacht. Unterdessen kann dieses Problem gelöst werden, indem das Substrat verdickt wird, aber das Gewicht des Heizelements wird erhöht, und es wird voluminös. Wenn die Heiztemperatur des Heizelements dadurch gesteuert wird, dass eine Spannungs- oder eine Stromgröße geändert wird, die am Heizelement angelegt ist, welches am Substrat angebracht ist, folgt weiterhin, dass wenn die Dicke des metallischen Sub strats groß ist, die Temperatur des Substrats sich nicht schnell und nicht gemäß den Spannungs- oder der Stromgrößenschwankungen ändert, und dann gibt es ein Problem, dass die Temperatursteuerung schwierig ist.
  • In diesem Zusammenhang ist bisher ein keramisches Heizelement unter Verwendung eines Nitrids als ein Substart vorgeschlagen worden (JP-A-11-40330).
  • Bei dieser herkömmlichen Technik werden jedoch der elektrische Stromkreis und der Heizkörper, der auf dem Substrat ausgebildet wird, hergestellt, indem ein gesintertes Metall verwendet wird, so dass eine Streuung in die Dicke des Heizkörpers verursacht werden kann, und folglich gibt es Probleme damit, dass der Widerstandswert variiert und nicht die genaue Temperaturreglung weitergegeben wird und eine ungleichmäßige Temperaturverteilung auf einer Heizfläche des Halbleiterproduktes, das geheizt werden soll, wie etwa eines Wafers, verursacht wird.
  • Das Dokument US-A-5665260 offenbart eine keramische elektrostatische Einspannvorrichtung mit einem Heizelement, worin eine Wärme erzeugende Schicht aus einer elektrisch leitenden Keramik auf die Oberfläche des Trägersubstrats geklebt ist.
  • Es ist ein Gegenstand der Erfindung, ein keramisches Heizelement bereitzustellen, welches dazu geeignet ist, die Temperatursteuerung genau und schnell, sowie ohne eine Streuung des Widerstands auf Grund der oben genannten Probleme, die dem herkömmlichen keramischen Heizelement innewohnen, weiterzuleiten, und insbesondere die Qualität des Heizkörper.
  • OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
  • Die Erfinder haben Studien durchgeführt, das oben genannte Ziel zu erreichen, und haben herausgefunden, dass, wenn der Heizkörper, der in dem keramischen Heizelement ausgebildet werden soll, so ausgebildet wird, indem eine nicht-gesinterte Metallfolie, z.B. eine Metallfolie, die durch Walzen oder Überziehen (insbesondere elektrisches Galvanisieren) ausgebildet wird, anstelle des obigen gesinterten Körpers verwendet wird, die Qualität (Homogenität) des Heizkörper ausgezeichnet ist, und die Probleme, die dem obigen gesinterten Heizkörper innewohnen, überwunden werden können. Es ist auch herausgefunden worden, dass, selbst wenn eine elektrisch leitende Keramik als Heizkörper verwendet wird, die oben genannten Probleme, die dem gesinterten Heizkörper innewohnen, überwunden werden können, wenn zuvor ein Dünnfilmmuster ausgebildet wird, indem der Dünnfilm der elektrisch leitenden Keramik im Substrat einbettet oder durch Adhäsion auf die Oberfläche des Substrats befestigt wird.
  • Mit dem oben genannten Wissen ist die Erfindung im Wesentlichen ein keramisches Heizelement nach Anspruch 1 und 7.
  • Bei dem keramischen Heizelement gemäß der Erfindung ist es wünschenswert, dass eine Dicke der Metallfolie nicht-gesinterter Art oder des nicht-gesinterten elektrisch leitenden keramischen Dünnfilms 10-50 μm ist, vorzugsweise 10-20 μm.
  • Außerdem ist der Heizkörper vorzugsweise auf einer Fläche gegenüber einer Heizfläche ausgebildet.
  • KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine schematische Ansicht einer Unterseite eines keramischen Heizelements (Nicht-Heizseite);
  • 2 ist eine graphische Teilschnittsansicht, die eine Ausführungsform der Erfindung veranschaulicht;
  • 3 ist eine graphische Teilschnittsansicht, die eine andere Ausführungsform der Erfindung veranschaulicht;
  • 4 ist eine graphisch Teilschnittsansicht, welche die andere Ausführungsform der Erfindung veranschaulicht;
  • 5 ist eine graphische Teilschnittsansicht, die eine weitere Ausführungsform der Erfindung veranschaulicht; und
  • 6 ist eine graphische Teilschnittsansicht, die noch eine weitere Ausführungsform der Erfindung veranschaulicht.
  • BESTE FORM ZUR AUSFÜHRUNG DER ERFINDUNG
  • Das Merkmal des keramischen Heizelements gemäß der Erfindung besteht darin, dass der Heizkörper auf der Oberfläche des keramischen Substrats oder im Inneren davon ausgebildet ist, und dass eine Metallfolie nicht-gesinterter Art, d.h. ein gewalztes Element, das durch Schmelzen und Reinigen und nachfolgendem Walzen ausgebildet wird (einschließlich Schmieden), oder eine dichte Metallfolie, wie ein plattiertes Element, das durch elektrisches Überziehen erhalten wird, als Heizkörper verwendet wird. Solch eine Metallfolie ist gleichmäßig in Dicke und Dichte und klein in der Streuung des Widerstandswerts. Und weiter, selbst im Fall der Verwendung der elektrisch leitenden Keramik als Heizkörper, wenn zuvor ein Dünnfilmmuster auf der Oberfläche des keramischen Substrats unter atmosphärisch abgeschirmten Bedingungen durch eine hitzebeständige Harzschicht ausgebildet wird und auf die Oberfläche des Substrats aufgebracht oder im Innern davon eingebettet wird, kann die Dicke gleichmäßig ausgebildet werden, und die zuvor erwähnten Probleme können überwunden werden.
  • Als elektrisch leitende Keramik ist es wünschenswert, wenigstens eines aus der Gruppe, die aus Siliziumkarbid, Wolframkarbid, Titankarbid und Kohlenstoff besteht, auszuwählen.
  • In einem solchen elektrisch leitenden keramischen Dünnfilm kann ein Heizkörpermuster durch Ätzen oder Stanzen ausgebildet werden nachdem der Dünnfilm aus elektrisch leitender Keramik ausgebildet ist, oder ein Dünnfilm kann in ein Heizkörpermuster gebracht und dann gesintert werden.
  • Die Dicke der nicht-gesinterten Metallfolie oder des elektrisch leitenden keramischen Dünnfilms ist wünschenswert 10-50 μm vorzugsweise 10-20 μm. Wenn die Dicke weniger als 10 μm ist, ist die Handhabung bei der Adhäsion an das keramische Substrat schwierig, während wenn sie 50 μm übersteigt, eine Unterätzung bei der Ätzung erzeugt wird, was zu der Streuung des Widerstandswertes führt. Das Metall, das verwendet wird, ist wünschenswert mindestens eines aus Metallen und Legierungen, wie Nickel, rostfreiem Stahl, Nichrom (Ni-Cr-Legierung), Canthal (Fe-Cr-Al-Legierung) und so weiter, ausgewähltes.
  • Als Adhäsionsform der oben genannten Metallfolie oder des elektrisch leitenden keramischen Dünnfilms an die Oberfläche des keramischen Substrats, wird vorteilhaft eine Form angepasst, indem ein isolierendes Material zuerst auf die gesamte Oberfläche des keramischen Substrats aufgebracht wird und die Metallfolie durch das Isoliermaterial angehaftet und einer Aushärtebehandlung unterworfen wird (2), eine Form, worin ein hitzebeständiges Harz zuvor auf die Oberfläche des keramischen Substrats gemäß einem Heizkörpermuster gedruckt wird, und die Metallfolie oder der elektrisch leitende keramische Dünnfilm wird auf die hitzebeständigen Harzschicht angehaftet und einer Aushärtebehandlung (3) unterworfen, und dergleichen.
  • Als das andere Verfahren kann es eine Form geben, worin die Metallfolie oder der elektrisch leitende keramische Dünnfilm auf der Oberfläche des keramischen Substrats angeordnet wird und ein Film aus Isoliermaterial im B-Zustand auf die Metallfolie gedeckt wird oder der elektrisch leitende Dünnfilm heiß gepresst wird, um das keramische Substrat zu bedecken und damit befestigt zu sein (4).
  • Und es kann auch eine Form geben, wie in 5 gezeigt, worin eine Isoliermaterialschicht 3a zuerst auf die Oberfläche des keramischen Substrats aufgebracht wird und ein Muster eines Heizkörpers 2 (Metallfolie oder elektrisch leitender keramischer Dünnfilm) daran befestigt wird und weiterhin ein hitzebeständiger Harzfilm 3b darauf gedeckt und daran befestigt wird.
  • Als Isoliermaterial können ein hitzebeständiges Harz oder ein anorganischer Verbinder verwendet werden. Als anorganischer Verbinder können ein anorganisches Sol, eine Glaspaste oder dergleichen verwendet werden. Das anorganische Sol wird durch Aushärten in ein anorganisches Gel überführt und dient als ein anorganisches Adhäsionsmittel.
  • Als Beispiel für das hitzebeständige Harz, das bei der Adhäsion des Heizkörpers verwendet wird, ist ein aushärtbares Harz geeignet, das wenigstens eines ausgewählt aus der Gruppe, die aus Polyimidharz, Epoxidharz, Phenolharz, Silikonharz und so weiter besteht, ist.
  • Als das anorganische Sol kann wenigstens eines, ausgewählt aus Silikasol, Tonerde-Sol und hydrolisiertes Polymer des Alkoxids, verwendet werden.
  • Der anorganische Binder, wie anorganisches Sol (anorganisches Gel nach dem Aushärten), Glaspaste und dergleichen, hat eine ausgezeichnete Hitzebeständigkeit und verursacht keinen Wärmeabbau und keinen Abzug des Heizkörpers, so dass er vorteilhaft ist. Als Muster des Heizkörpers, das auf der Oberfläche des keramischen Substrats ausgebildet wird, ist es wünschenswert, ein Muster anzunehmen, in dem ein Stromkreis in wenigstens zwei Teile geteilt ist, wie in 1 gezeigt. Durch die Teilung des Stromkreises wird ein Strom gesteuert, der an jeden Stromkreis angelegt wird, um eine Wärmeerzeugungsmenge zu ändern, und dadurch eine Temperatureinstellung einer Heizfläche zu erleichtern. Als solch ein Heizkörpermuster kann ein Wirbel, ein konzentrischer Kreis, ein exzentrischer Kreis, eine gebogene Linie und dergleichen eingesetzt werden.
  • Als das andere Verfahren der Ausbildung des Heizkörpermusters gemäß der Erfindung kann ein Verfahren verwendet werden, worin eine gerollte Metallfolie, eine überzogene Metallfolie oder ein elektrisch leitender keramischer Dünnfilm, der auf die Oberfläche des keramischen Substrats angehaftet wird, durch eine Ätzabdeckung geätzt wird, ein Verfahren, worin ein zuvor in einen gegebenen Stromkreis gestanztes durch ein Adhäsionsmittel (Harz) auf das Substrat gehaftet wird, und dergleichen.
  • Das keramische Substrat, das in der Erfindung verwendet wird, hat vorteilhaft eine Dicke von 0,5-25 mm, vorzugsweise 0,5-5 mm, höchst vorzugsweise ungefähr 1-3 mm. Wenn die Dicke weniger als 0.5 Millimeter beträgt, wird leicht ein Brechen verursacht, während, wenn es 25 mm übersteigt, die Wärmekapazität zu groß ist und die Temperaturnachfolge vermindert ist. Weiterhin gibt es, wenn sie mehr als 5 Millimeter ist, keinen bedeutenden Unterschied zum Metallsubstrat.
  • Als Material des keramischen Substrats kann eine Oxidkeramik, eine Nitridkeramik, eine Karbidkeramik und dergleichen verwendet werden, aber die Nitridkeramik und die Karbidkeramik sind besonders geeignet. Als die Nitridkeramik ist eine Metallnitridkeramik, z.B. wenigstens eines ausgewählt aus Aluminiumnitrid, Silikonnitrid, Bornitrid und Titannitrid geeignet. Als die Karbidkeramik ist eine Metallkarbidkeramik, z.B. wenigstens eines ausgewählt aus Silikonkarbid, Zirkoniumkarbid, Titankarbid, Tantalkarbid und Wolframkarbid geeignet.
  • Aus diesen Keramiken ist Aluminiumnitrid am meisten vorzuziehen. Weil das Aluminiumnitrid den höchsten thermischen Leitfähigkeitskoeffizienten von 180 W/mK hat und ausgezeichnet in der Temperaturnachfolge ist.
  • Bei der Erfindung ist es vorteilhaft, dass ein Thermoelement zur Steuerung der Temperatur, wenn es erforderlich ist, im keramischen Substrat eingebettet wird, weil die Temperatur des Substrats durch das Thermoelement gemessen wird und die Spannung und der Strom, die am Heizkörper angelegt werden, auf Grund der gemessenen Daten geändert werden können, um die Temperatur des Substrats zu steuern.
  • Das keramische Heizelement gemäß der Erfindung kann auch in einer solchen Form verwendet werden, dass eine Vielzahl von Durchgangslöchern 4 im keramischen Substrat ausgebildet sind und Tragstifte 7 in diese Durchbohrungen 4 eingesetzt werden und ein Halbleiterwafer oder einer anderes Teil auf die Oberseiten der Stifte gesetzt wird, damit das Heizelement einer Heizfläche gegenüber ist, wie in 2 gezeigt. Diese Tragstifte können in die Richtungen nach oben und nach unten verschoben werden, was wirkungsvoll ist, wenn der Halbleiterwafer einer Überragungsmaschine (nicht gezeigt) zugeliefert oder der Halbleiterwafer von der Übertragungsmaschine empfangen wird.
  • Außerdem ist bei dem keramischen Heizelement gemäß der Erfindung eine Fläche des Halbleiterwafers, die geheizt werden soll, gegenüber einer Fläche des Substrats, das den Heizkörper bildet. Deshals kann die Scheibe gleichmäßig geheizt werden, weil der Wärmediffusionseffekt groß ist.
  • Nun wird ein Herstellungsbeispiel für das keramische Heizelement gemäß der Erfindung beschrieben.
  • A. Im Fall der Ausbildung eines Heizkörpers auf einer Oberfläche eines keramischen Substrats:
    • (1) Ein Schritt, damit eine isolierende Karbidkeramik oder ein isolierendes Karbidkeramikpulver gut mit einem Verbinder oder einem Lösungsmittel gemischt und geformt wird, um einen geformten Körper zu bilden, der gesintert ist, um einen tellerförmigen Körper aus Nitridkeramik oder Karbidkeramik (keramisches Substrat) zu bilden. Dieser Schritt ist ein Schritt, dass Pulver aus Aluminiumnitrid, aus Silikonkarbid oder dergleichen mit einem Sinterhilfsmittel wie Yttria oder dergleichen und einem Bindemittel zusammengebracht und durch ein Verfahren wie Sprühtrocknung oder dergleichen granuliert wird, und dann werden das Granulat in eine Form gelegt und gepresst, um einen tellerförmigen ungesinterten Körper auszubilden. Außerdem kann der ungesinterte geformte Körper mit Durchgangslöchern 4 versehen werden und Tragstifte 7 eingesetzt werden, die zum Tragen eines Halbleiterwafers auf einer Heizelementfläche des Substrats verwendet werden, und mit einem unteren Loch 5, welches ein Temperatur-Messelement 6 wie ein Thermoelement oder dergleichen, falls erforderlich, einbettet. Dann wird der ungesinterte geformte Körper eingebrannt und gesintert, indem er geheizt wird, um einen keramischen tellerförmigen Körper (keramisches Substrat) herzustellen. Beim Einbrennen durch Heizen kann in diesem Schritt das porenfreie keramische Substrat hergestellt werden, indem der ungesinterte geformte Körper gepresst wird. Das Einbrennen durch Heizen kann über eine Sintertemperatur hinaus durchgeführt werden. Bei der Nitridkeramik oder der Karbidkeramik sind es ungefähr 1000-2500°C.
    • (2) Ein Schritt der Ausbildung eines Heizkörpers auf dem keramischen Substrat: In diesem Schritt wird eine zuvor und separat hergestellte Metallfolie nicht-gesinterter Art (gerollte Folie, die erhalten wird, indem ein geschmolzenes gereinigtes Material, eine überzogene Folie, die durch elektrisches Überziehen gewonnen wird, oder dergleichen, gerollt wird) oder ein elektrisch leitender keramischer Dünnfilm wird mit einer Säure, einer Lauge oder dergleichen geätzt oder gestanzt wird, um ein Heizkörpermuster auszubilden. Dieses Heizkörpermuster wird auf die Oberfläche des Substrats oder die Oberfläche der Metallfolie nicht-gesinterter Art oder dem elektrisch leitenden keramischen Dünnfilm nach dem Aufbringen eines ungehärteten hitzebeständigen Harzes, einem anorganischen Sol, einer Glaspaste oder dergleichen gesetzt und befestigt, indem das hitzebeständige Harz oder das anorganische Sol ausgehärtet wird, oder indem die Glaspaste eingebrannt wird.
    • (3) An ein Ende des Heizkörpermusters wird mittels eines Lötmittels ein Anschluss zum Anschließen an eine Energiequelle angebracht. Ein Ende des Heizkörpermusters kann auch durch Verstemmen befestigt werden, ohne das Lötmittel zu verwenden. Bei diesem Punkt ist die Befestigung durch Verstemmen des Metalls gesinterter Art schwierig, aber es ist bei der Metallfolie nicht-sinternder Art möglich, die in der Erfindung verwendet wird. Außerdem wird ein Temperaturmesselement 6 wie etwa ein Thermoelement oder dergleichen in ein unteres Loch 5, das in das keramische Substrat eingebracht ist, von einer Nicht-Heizfläche davon eingesetzt, und ein hitzebeständiges Harz wie Polyimid oder dergleichen wird in das Loch eingefüllt und zusammen versiegelt. Außerdem kann solch ein Temperaturmesselement in einem Presszustand (Kontaktieren) mit der Oberfläche des Substrats sein.
  • B. Im Falle der Ausbildung eines Heizkörpers im Inneren eines keramischen Substrats:
  • Eine isolierende Nitridkeramik oder ein isolierendes Karbidkeramikpulver wird gut mit einem Bindemittel oder einem Lösungsmittel gemischt und in eine ungesinterte Platte geformt, und eine Metallfolie oder ein elektrisch leitender keramischer Dünnfilm wird zwischen den ungesinterten Platten angeordnet, um einen lamellierten Körper zu bilden, und dann wird das Laminat heißgepresst und eingebrannt.
  • Außerdem kann die ungesinterte Platte mit Durchgangslöchern 4 zum Einsetzen von Tragstiften 7 versehen sein, die zum Tragen eines Halbleiterwafer auf einer Heizfläche des Substrats verwendet werden, und mit einem unteren Loch 5 versehen sein, das ein Temperaturmesselement 6 wie etwa ein Thermoelement oder dergleichen einbettet, falls es notwendig ist, wie oben erwähnt.
  • Dann werden die ungesinterten Platten durch Heizen und Sintern eingebrannt, um einen keramischen tellerförmigen Körper (keramisches Substrat) herzustellen. Beim Einbrennen durch Heizen kann in diesem Schritt das porenfreie keramische Substrat hergestellt werden, indem die ungesinterten Platten gepresst werden. Das Einbrennen durch Heizen kann über eine Sintertemperatur hinaus durchgeführt werden. Bei der Nitridkeramik oder der Karbidkeramik sind es ungefähr 1000-2500°C .
  • BEISPIELE
  • Beispiel 1 (keramisches Substrat aus Aluminiumnitrid)
    • (1) Eine Zusammensetzung, die 100 Gewichtsanteile Aluminiumnitridpulver (durchschnittliche Teilchengröße 1,1 μm), 4 Gewichtsanteile Yttriumoxid (durchschnittliche Teilchengröße 0,4 μm), 12 Gewichtsanteile eines Acrylbindemittels und einen Restanteil aus einem Alkohol, wird durch ein Sprühtrockenverfahren granuliert.
    • (2) Das obige granulierte Pulver wird in eine Form gegeben und in eine flache Platte geformt, um einen ungesinterten geformten Körper zu erhalten. Bei gegebenen Positionen des ungesinterten geformten Körpers werden Durchgangslöcher 4 für das Einsetzen der Tragstifte 7, die einen Halbleiterwafer tragen, und eine unteres Loch 5 für das Einbetten eines Thermoelements 6 durch Bohren ausgebildet.
    • (3) Der obige ungesinterte geformte Körper wird bei 1800°C unter einem Druck von 200 kg/cm2 heiß gepresst, um einen tellerförmigen Körper aus Aluminiumnitrid zu erhalten, der eine Dicke von 3 mm hat. Der tellerförmige Körper wird in eine Scheibe, die einen Durchmesser von 210 mm hat, als tellerförmiges keramisches Substrat 1 ausgeschnitten.
    • (4) Es wird eine Metallfolie zur Verfügung gestellt, die ausgebildet wird, indem ein Polyäthylenterephthalatfilm auf eine einseitige Oberfläche eines gerollten rostfreien Stahlblechs, das eine Dicke von 20 μm hat, angehaftet, und weiterhin wird ein lichtempfindlicher trockener Film auf die Metallfolie lamelliert, der einem ultravioletten Strahl durch eine Maske ausgesetzt wird, die mit einem Heizkörpermuster versehen ist, und mit einer wässerigen Lösung von 0,1% Natriumhydroxid entwickelt, um eine Ätzabdeckung zu bilden. Dann wird eine Ätzbehandlung durch Eintauchen in eine Mischlösung aus Flusssäure und Salpetersäure und eine Entwicklungsbehandlung mit einer wässerigen Lösung aus 1N Natriumhydroxid durchgeführt, um ein Heizkörpermuster (folienförmiges Muster) auf dem Polyäthylenterephthalatfilm auszubilden.
    • (5) Ein ungehärtetes Polyimid wird auf einer einseitigen Oberfläche des keramischen Substrats aus Abschnitt (3) aufgebracht, und das Heizkörpermuster (folienförmiges Muster) wird darauf gesetzt, um die Metalloberfläche am ungehärteten Polyimid anzuhaften, und unter Heizen bei 200°C durch Aushärten integral zu vereinigen. Danach wird der Polyäthylenterephthalatfilm abgezogen.
    • (6) Eine Sn-Pb Lötmittelpaste wird auf einen Teil gedruckt, an dem einen Stift zur Verbindung eines externen Anschlusses zum Sicherstellen des Anschlusses an eine Energiequelle durch Siebdrucken 1 angebracht wird, um eine Lötmittelschicht auszubilden. Dann wird ein Stift aus Koval für die Verbindung des externen Anschlusses auf die Lötmittelschicht gesetzt und durch Heizen bei 360°C reflow-gelötet, um den Anschlussstift zu befestigen.
    • (7) Ein Thermoelement 6 wird zur Steuerung der Temperatur in das untere Loch 5 eingesetzt, und weiterhin wird ein Polyimidharz eingefüllt und bei 200°C geheizt, um eine keramisches Heizelement zu erhalten.
  • Beispiel 2 (Verwendung von Harz der Stufe B)
  • Eine keramisches Heizelement wird auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 zur Verfügung gestellt, außer dass ein Acryl-Anhaftmittel auf ein keramisches Substrat aufgebracht und eine Folie aus rostfreiem Stahl darauf gesetzt wird, und der Polyäthylente rephthalatfilm wird abgezogen, und ein Polyimid der Stufe B, das durch Aufbringen von Polyimid auf ein Fluorharzbogen und Trocknen erhalten wird, wird aufgesetzt und integral vereinigt, indem bei 200°C unter einem Druck von 80 kg/cm2 geheizt wird, und dann wird der Fluorharzfilm abgezogen.
  • Beispiel 3 (Einbetten des Heizkörpers im Inneren des Substrats)
    • (1) Ein ungesinterter Bogen, der eine Dicke von 0,47 mm hat, wird durch eine Rakelklingenverfahren aus einer Zusammensetzung geformt, die 100 Gewichtsanteile Aluminiumnitrid-Pulver (hergestellt von Tokuyama Co., Ltd., durchschnittliche Teilchengröße 1,1 μm), 4 Gewichtsanteile Yttria (durchschnittliche Teilchengröße 0,4 μm), 11,5 Gewichtsanteile eines Acrylbindemittels, 0,5 Gewichtsanteile eines Dispergiermittels und 53 Gewichtsanteile einer Alkoholmischung aus 1-Butanol und Äthanol umfasst.
    • (2) Nachdem der ungesinterte Bogen bei 80°C 5 Stunden lang getrocknet wurde, wird durch Stanzen ein Loch für ein Durchgangsloch zum Anschließen eines Heizkörpers an einen externen Anschlussstift ausgebildet.
    • (3) 100 Gewichtsanteile von Wolframkarbidpartikeln, die eine durchschnittliche Teilchengröße von 1 μm haben, 3,0 Gewichtsanteile eines Acrylbindemittels, 3,5 Gewichtsanteile α-Terpinollösungsmittel und 0,3 Gewichtsanteile eines Dispergiermittels werden gemischt und dünn auf ein SiC-Substrat aufgetragen, das mit BN-Pulver beschichtet ist, und weiterhin wird ein anderes SiC-Substrat, das mit BN-Pulver beschichtet ist, darauf gesetzt und bei 1900°C unter einem Druck von 200 kg/cm2 geheizt, um einen Dünnfilm aus Wolframkarbid zu erhalten, der eine Dicke von 10 μm hat.
    • (4) Der Dünnfilm aus Wolframkarbid wird gestanzt, um ein Heizkörpermuster auszubilden, und das Heizkörpermuster wird zwischen zwei oder mehr ungesinterten Bögen angeordnet, um ein Laminat zu bilden, das weiter bei 1800°C unter einem Druck von 200 kg/cm2 heiß gepresst wird, um einen tellerförmigen Körper aus Aluminiumnitrid zu erhalten, der eine Dicke von 3 mm hat. Dieser tellerförmige Körper wird in eine Scheibe ausgeschnitten, die einen Durchmesser von 210 mm, um ein tellerförmiges keramisches Substrat zur Verfügung zu stellen hat.
    • (5) Ein Loch, das den Dünnfilm aus Wolframkarbid freistellt, wird auf dem keramischen Substrat durch Bohren ausgebildet, und ein externer Anschluss wird mit einem Goldlötmittel (Ni-Au) verbunden und daran mit einem anorganischen Haftmittel befestigt (hergestellt von Toa Gosei Co., Ltd. Aronceramic).
    • (6) Weiterhin wird ein Thermoelement mit einem anorganischen Haftmittel (hergestellt von Toa Gosei Co., Ltd. Aronceramic) an der Oberfläche befestigt (siehe 6).
  • Beispiel 4 (Glasbeschichten auf der SiC-Oberfläche)
    • (1) Eine Zusammensetzung, die 100 Gewichtsanteile Silikonkarbidpulver (durchschnittliches Teilchengröße 1,1 μm), 4 Gewichtsanteile B4C (durchschnittliches Teilchengröße 0,4 μm), 12 Gewichtsanteile eines Acrylbindemittels und einen Restanteil aus Alkohol umfasst, wird durch ein Sprühtrockenverfahren granuliert.
    • (2) Das granulierte Pulver wird in eine Form gelegt und in eine flache Platte geformt, um einen ungesinterten geformten Körper zu erhalten. Bei gegebenen Positionen des ungesinterten geformten Körpers werden Durchgangslöcher für das Einsetzen der Tragstifte 7, die ein Halbleiterwafer 4 tragen, und eine unterseitige Bohrung 5 zum Einbetten eines Thermoelements 6 durch Bohren ausgebildet.
    • (3) Der ungesinterte geformte Körper wird bei 1980°C unter einem Druck von 200 kg/cm2 heiß gepresst, um einen tellerförmigen Körper aus SiC zu erhalten, der eine Dicke von 3 mm hat. Der tellerförmige Körper wird in eine Scheibe geschnitten, die einen Durchmesser von 210 mm hat, um ein keramisches tellerförmiges Substrat 1 zu erhalten.
    • (4) Eine Glaspaste (hergestellt von Shoei Kagaku Kogyo Co., Ltd. G-5117) wird aufgetragen und der gleiche Dünnfilm aus rostfreiem Stahl wie in Beispiel 1 wird angeordnet und auf 550°C gebracht, um den Dünnfilm aus rostfreiem Stahl und das Glas integral zu vereinigen.
    • (5) Eine Sn-Pb Lötmittelpaste wird auf einem Teil gedruckt, was einen Stift für die Verbindung des externen Anschlusses zum Sicherstellen der Verbindung mit einer Energiequelle durch Siebdruck 1 anbringt, um eine Lötmittelschicht auszubilden. Dann wird ein Stift aus Koval für die Verbindung des externen Anschlusses auf die Lötmittelschicht gesetzt und reflow-gelötet, indem bei 360°C geheizt wird, um den Anschlussstift zu befestigen.
    • (6) Ein Thermoelement 6 zur Steuerung der Temperatur wird mit einem Polyimidharz befestigt und bei 200°C geheizt, um eine keramisches Heizelement zu erhalten.
  • Vergleichsbeispiel
    • (1) Eine Zusammensetzung, die 100 Gewichtsanteile Aluminiumnitridpulver enthält (durchschnittliche Teilchengröße 1,1 μm), 4 Gewichtsanteile Yttriumoxid (durchschnittliche Teilchengröße 0,4 μm), 12 Gewichtsanteile eines Acrylbindemittels und einen Restanteil von Alkohol umfasst, wird durch ein Sprühtrockenverfahren granuliert.
    • (2) Das granulierte Pulver wird in eine Form gelegt und in eine flache Platte geformt, um einen ungesinterten geformten Körper zu erhalten. Bei gegebenen Positionen des ungesinterten geformten Körpers werden Durchgangslöcher für das Einsetzen der Tragstifte 7 ausgebildet, die einen Halbleiterwafer 4 tragen, und eine unterseitige Bohrung 5 für das Einbetten eines Thermoelements 6 wird durch Bohren ausgebildet.
    • (3) Der ungesinterte geformte Körper wird bei 1800°C unter einem Druck von 200 kg/cm2 heiß gepresst, um einen tellerförmigen Körper aus Aluminiumnitrid zu erhalten, der eine Dicke von 3 mm hat. Der tellerförmige Körper wird in eine Scheibe ausgeschnitten, die einen Durchmesser von 210 mm hat, um ein keramisches tellerförmiges Substrat 1 zu erhalten.
    • (4) Auf dem keramischen Substrat 1 aus Abschnitt (3) wird eine elektrisch leitende Paste für die Anordnung des Heizkörpers durch ein Siebdruckverfahren gedruckt. Das gedruckte Muster ist ein konzentrisches Kreismuster, wie in 1 gezeigt. Als solches wird eine elektrisch leitende Paste Solvest PS603D verwendet, die von Tokuriki Kagaku Laboratory hergestellt wird, die bei der Ausbildung von Durchbohrungen in einem gedruckten Schaltplatine verwendet wird. Die elektrisch leitende Paste ist eine Silber-Blei-Paste und enthält 7,5% Gewichtsanteile an Metalloxiden, die aus Bleioxid, Zinkoxid, Silizium, Boroxid und Aluminium (Gewichtverhältnis von 5/55/10/25/5), basierend auf dem Gewicht von Silber, besteht. Außerdem hat Silber eine schuppige Form mit eine durchschnittlichen Teilchengröße von 4,5 μm.
    • (5) Das keramische Substrat 1, das mit der elektrisch leitenden Paste bedruckt ist, wird durch Heizen bei 780°C erhitzt, um Silber und Blei in der elektrisch leitenden Paste zu sintern und auf der Oberfläche des Substrats 1 zu brennen. Das Heizkörpermuster des gesinterten Silber-Blei-Körpers 4 hat eine Dicke von 5 μm und eine Breite von 2,4 mm und einen Oberflächenwiderstand von 7,7 mΩ/☐.
    • (6) Das keramische Substrat 1 aus Abschnitt (5) wird in ein stromloses Nickelbeschichtungsbad getaucht, das eine wässerige Lösung aus 30 g/l Nickelsulfat, 30 g/l Borsäure, 30 g/l Ammoniumchlorid und 60 g/l Rochelle-Salz umfasst, um das Heizkörpermuster zu verdicken.
    • (7) Eine Silber-Blei-Lötmittelpaste wird auf einen Teil gedruckt, um einen externen Anschluss für das Sicherstellen der Verbindung zu einer Energiequelle anzubringen, wodurch eine Lötmittelschicht ausgebildet wird (hergestellt von Tanaka Kikinzoku Co., Ltd.). Dann wird ein Anschlussstift aus Koval auf die Lötmittelschicht gesetzt und bei 360°C reflow-gelötet, um den Anschlussstift an der Oberfläche des Heizkörpers zu befestigen.
    • (8) Ein Thermoelement zur Steuerung der Temperatur wird eingesetzt und ein Polyimidharz wird eingefüllt, um ein Heizelement 100 zu erhalten.
  • Beispiel 5
  • Das gleiche Verfahren wie in Beispiel 4 wird wiederholt, außer dass ein Dünnfilm aus Wolframkarbid als Heizkörper verwendet wird.
  • In Bezug auf die keramischen Heizelemente der Beispiele und des Vergleichsbeispiels wird die Streuung des Flächenwiderstands im Heizkörper gemessen. Die Resultate sind in Tabelle 1 gezeigt, aus der deutlich wird, dass die Streuungen bei den Heizkörpern gemäß der Erfindung kleiner werden.
  • Das keramisches Heizelement wird auch über 1000 Stunden lang bei 250°C belassen, um das Vorhandensein oder Fehlen von Anschwellen im Heizkörper zu messen.
  • Tabelle 1
    Figure 00130001
  • INDUSTRIELLE ANWENDBARKEIT
  • Das keramische Heizelement gemäß der Erfindung hat eine kleine Streuung des Widerstands und kann genau und schnell die Temperatursteuerung bei der Trocknung eines flüssigen Abdecklacks auf einem Wafer und dergleichen leiten. Weiterhin ist es als keramisches Heizelement nützlich, das zusammen mit einer statischen Einspannvorrichtung, einem Wafersondiergerät oder dergleichen auf dem Gebiet der Halbleiterindustrie verwendet wird.

Claims (12)

  1. Keramisches Heizelement für eine Halbleiterscheibe (8), worin das keramische Heizelement ein keramisches Substrat (1) und einen Heizkörper (2) umfasst, wobei: das keramische Substrat (1) eine Scheibenform hat, und der Heizkörper (2) auf einer Oberfläche des keramischen Substrats (1) gegenüber einer Fläche einer Heizseite ausgebildet ist, und gestaltet wird, indem eine Metallfolie nicht-gesinterter Art oder ein zuvor ausgebildeter elektrisch leitender keramischer Dünnfilm in ein Muster des Heizkörpers (2) gebracht wird.
  2. Keramisches Heizelement nach Anspruch 1, worin der Heizkörper (2) durch eine isolierende Materialschicht (3a) anhaftet und befestigt ist.
  3. Keramisches Heizelement nach Anspruch 1, worin der Heizkörper (2) zusammen mit dem Substrat (1) durch ein isolierendes Material (3b) bedeckt und befestigt ist.
  4. Keramisches Heizelement nach Anspruch 1, worin der Heizkörper (2) eine Dicke von 10 bis 50 μm hat.
  5. Keramisches Heizelement nach Anspruch 1, worin die Metallfolie ein dichtes gerolltes Material oder ein plattiertes Material ist.
  6. Keramisches Heizelement nach Anspruch 1, worin das keramische Substrat (1) eine Nitridkeramik oder eine Karbidkeramik ist.
  7. Keramisches Heizelement für eine Halbleiterscheibe (8), worin das keramisches Heizelement ein keramisches Substrat (1) und einen Heizkörper (2) umfasst, wobei: das keramische Substrat (1) eine Scheibenform hat, und der Heizkörper (2) innerhalb des keramischen Substrats (1) gegenüber einer Fläche einer Heizseite ausgebildet ist, und gestaltet wird, indem eine Metallfolie nicht-gesinterter Art oder ein zuvor ausgebildeter elektrisch leitender keramischer Dünnfilm in ein Muster des Heizkörpers (2) gebracht wird.
  8. Keramisches Heizelement nach Anspruch 7, worin der Heizkörper (2) durch eine isolierende Materialschicht (3a) anhaftet und befestigt ist.
  9. Keramisches Heizelement nach Anspruch 7, worin der Heizkörper (2) zusammen mit dem Substrat (1) durch ein isolierendes Material (3b) bedeckt und befestigt ist.
  10. Keramisches Heizelement nach Anspruch 7, worin der Heizkörper (2) eine Dicke von 10 bis 50 μm hat.
  11. Keramisches Heizelement nach Anspruch 7, worin die Metallfolie ein dichtes gerolltes Material oder ein plattiertes Material ist.
  12. Keramisches Heizelement nach Anspruch 7, worin das keramische Substrat (1) eine Nitridkeramik oder eine Karbidkeramik ist.
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