DE4201792C2 - Anschlußelektrodenstruktur und Verfahren zu deren Herstellung - Google Patents
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- H01L2224/48617—Principal constituent of the connecting portion of the wire connector being Gold (Au) with a principal constituent of the bonding area being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950 °C
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Anschluß
elektrodenstruktur für eine Halbleitereinrichtung nach dem Ober
begriff des Anspruchs 1 und ein Verfahren zu deren Herstellung.
Eine Anschlußelektrodenstruktur nach dem Oberbegriff
des Anspruchs 1 ist aus der JP 1-241 832 (A) bekannt.
In Halbleitereinrichtungen werden zum elektrischen Verbinden
der auf dem Halbleitersubstrat gebildeten Elemente miteinander
verschiedene Verdrahtungen verwendet.
Es ist auch erforderlich, eine Verbindungsschicht auf diesem
Halbleitersubstrat mit einem externen Anschluß einer Halblei
tereinrichtung oder eines Gehäuses zu verbinden. Dies wird
üblicherweise durch ein Verfahren zum Verbinden einer Anschluß
elektrode einer auf einem Halbleitersubstrat gebildeten Verbin
dungsschicht mit einem externen Anschluß mittels Drahtbonden
ausgeführt.
Fig. 10 ist eine Querschnittsdarstellung einer
Halbleitereinrichtung mit einem solchen Aufbau. Eine Anschluß
elektrode 21 ist auf einem Halbleiterchip 20 gebildet, der
darauf gebildete Einrichtungen trägt. Die Hauptoberfläche des
Halbleiterchips 20 ist mit einer Schutzisolierschicht 22 be
deckt. Eine Montage-Anschlußfläche (die pad) 23a, auf der der
Halbleiterchip angeordnet ist, bildet zusammen mit einem ex
ternen Anschluß (Leiter) 23b einen Leitersockel 23. Die An
schlußelektrode 21 auf dem Halbleiterchip 20 ist mit dem ex
ternen Anschluß (Leiter) 23b durch einen Bonddraht 24 verbun
den. Der Chip 20 ist mit einem Gießharzmaterial 25 vergossen
bzw. versiegelt.
Der Aufbau des Halbleiterchips 20 wird im folgenden anhand
eines vergrößerten Abschnitts A aus Fig. 10 am Beispiel eines
DRAM (dynamischen Speichers mit wahlfreiem Zugriff)
beschrieben.
Fig. 11 ist eine Querschnittsdarstellung, die eine Anschluß
elektrodenstruktur eines DRAM zeigt. Ein DRAM (vom Stapelzellentyp) 2
ist auf der Oberfläche eines Silizium-Halbleitersubstrates 1
gebildet. Eine erste Isolierschicht 3 ist auf der DRAM-Einrich
tung (Stapelzelle) 2 gebildet. Eine erste Verbindungsschicht 4
ist auf der ersten Isolierschicht 3 gebildet. Eine zweite Iso
lierschicht 5 ist als Schutzisolierschicht auf der ersten Ver
drahtungsschicht 4 abgeschieden. Die zweite Isolierschicht 5
entspricht der Schutzisolierschicht 22 in Fig. 10. Eine Anschluß
elektrode 6 ist mit dem externen Anschluß (Leiter) 23b
nach Fig. 10 durch eine Anschlußelektrodenöffnung 7 mittels
des Bonddrahtes 24 verbunden und mit einem Gießharz-Versiege
lungsmaterial 25 versiegelt.
Bei diesem Aufbau ist die Anschlußelektrode 6
nicht mit dem Material des Bonddrahtes 24 bedeckt. Das Draht
bonden einer solchen Bondfläche wird z. B. in der japanischen
Patent-Offenlegungsschrift JP 52-32263 (A) beschrieben.
Ein Beispiel für den Herstellungsablauf einer Anschlußelektrodenstruktur
einer solchen Halbleitereinrichtung wird im folgenden unter Betonung des
Anschlußelektroden-Bildungsschrittes und des Drahtbondschrittes
beschrieben.
Wie Fig. 12A zeigt, wird auf der Oberfläche eines Silizium-
Halbleitersubstrates 1 ein DRAM (eine Stapelzelle) 2, die durch
eine Elementisolations-Oxidschicht 301, eine Transfergateelek
trode 302, eine Störstellendiffusionsschicht 303, eine Wortlei
tung 304, einen Speicherknoten 305, eine Kondensatorisolier
schicht 306 und eine Zellplatte 307 gebildet wird, gebildet.
Wie Fig. 12B zeigt, wird über dem gesamten Silizium-Halblei
tersubstrat 1 mit der darauf gebildeten DRAM-Einrichtung (Sta
pelzelle) 2 eine erste Isolierschicht 3 abgeschieden. Dann wird
an einer gewünschten Stelle unter Nutzung von Photolithographie
und Ätzen ein Kontaktloch 308 gebildet. Danach wird eine Alumi
nium-Verbindungsschicht, die die erste Verbindungsschicht 4
ist, als Bitleitung gebildet. In neueren Submikrometer-Einrich
tungen wird als erste Schicht der Aluminium-Verbindungsschicht
4 ein kombinierter Aufbau aus einer Barrieremetallschicht 309,
etwa aus Titannitrid (TiN) und Titan-Wolfram (TiW), und einer
Aluminiumlegierungsschicht 310, etwa aus Al-Si, Al-Si-Cu ver
wendet, um (1) Verbindungs-Leckstellen infolge einer anormalen
Reaktion (Bildung von Legierungsspitzen) zwischen Aluminium und
dem Siliziumsubstrat (der Störstellendiffusionsschicht) am Kon
takt zu verhindern, (2) durch Silizium in der Aluminiumlegie
rungsschicht, das infolge von festphasenepitaxialem Wachstum in
den Kontakt gelangt, verursachte Kontaktfehler zu vermeiden und
(3) die Einrichtung unempfindlicher gegen Spannungsmigration zu
machen, bei der die Verbindungsschicht infolge von Schichtspan
nungen des Zwischenschichtisolierfilms und der über der Alumi
nium-Verbindungsschicht gebildeten Schutzisolierschicht unter
brochen werden könnte.
Die oben beschriebenen Schichten werden generell durch Sputtern
abgeschieden und als erste Aluminium-Verbindungsschicht 4 und
Bondflächenelektrode 6 durch Photolithographie und Ätzen struk
turiert.
Dann wird als Schutzisolierschicht 5 eine Siliziumoxidschicht
über dem ersten Verbindungsmuster 4 durch chemische Gasphasen
abscheidung (CVD) unter Verwendung eines Plasmas bei einer
Schichtabscheidungstemperatur von 300 bis 400°C unter Einsatz
von z. B. Monosilan (SiH4)- und Stickoxid (N2O)-Gas abgeschie
den (Fig. 12C). Als Schutzisolierschicht 5 kann eine Silizium
nitridschicht oder eine Silizium-Säure-Nitridschicht, die
gegenüber einer Siliziumoxidschicht durch eine niedrige Durch
lässigkeit für Wasser o. ä. und hohe mechanische Festigkeit aus
gezeichnet sind, oder eine Kombination dieser Schichten verwen
det werden.
Im Falle einer Siliziumnitridschicht wird die Schutzisolier
schicht 5 unter Anwendung des bereits erwähnten CVD-Verfahrens
unter Nutzung eines Plasmas und Einsatz von Monosilan (SiH4)-
und Ammoniak (NH3)-Gas abgeschieden. Im Falle einer Silizium-
Säure-Nitridschicht wird die Schutzisolierschicht unter Verwen
dung von Monosilan (SiH4)-, Ammoniak (NH3)- und Stickoxid
(N2O)-Gas abgeschieden.
Die abgeschiedene Schutzisolierschicht 5 hat eine durch Litho
graphie oder Ätzen gebildete Öffnung, um eine Anschlußelek
trodenöffnung 7 zum Drahtbonden verfügbar zu haben, wie in
Fig. 12D gezeigt.
Das Halbleitersubstrat 1 mit der darauf gebildeten Einrichtung
wird durch In-Stücke-Schneiden als Halbleiterchip 20 aus dem
Wafer herausgeschnitten. Der Halbleiterchip 20 wird auf einer
Montage-Anschlußfläche 23a auf dem Leitersockel 23 gemäß Fig.
10 durch Auflöten oder Verwendung eines leitfähigen Harzes o. ä.
aufgebracht.
Danach wird die Anschlußelektrode 6 durch einen Bonddraht
24, etwa einen Golddraht o. ä., mittels Bonden durch die Anschluß
elektrodenöffnung 7 mit dem Leiter 23b des Leitersockels
23 verbunden (Fig. 12E).
Der Golddraht o. ä. wird durch Erhitzen und Aufpressen (thermi
sche Kompression) oder durch ein Bondverfahren, welches die An
wendung der thermischen Kompression mit Ultraschall kombiniert,
verbunden. Zuletzt wird das ganze Element durch Gießharz 25 in
einem Gehäuse verschlossen (Fig. 12F).
Eine gießharzversiegelte Halbleitereinrichtung
wirft, da die Aluminiumschicht 311 der Anschlußelektrode 6
um das Drahtbondmaterial 24 herum freigelegt ist, die folgenden
Probleme auf (siehe Fig. 4):
Der freiliegende Abschnitt der Aluminiumschicht 311 wird durch
Feuchtigkeit 312, die in das Gießharz 25 eindringt, korrodiert,
was zur Bildung eines Loches 313 führt. Damit gibt es eine ge
wisse Wahrscheinlichkeit für elektrische Unterbrechungen an der Bond
anschlußfläche 6, was zu einer Verringerung der Zuverlässigkeit
(Feuchtigkeitsbeständigkeit) führt.
Die Größe der Bondanschlußfläche wird proportional zur Anzahl
von Anschlußstiften, die in letzter Zeit entsprechend der
Tendenz zu Mehrfachfunktionen der Halbleitereinrichtung gestie
gen ist, verringert. Auch die Dicke des Gehäuses der Halbleiter
einrichtung, insbesondere die Dicke des Gießharzes, wurde im
Zusammenhang mit der Einführung hochdichter Oberflächenmontage
techniken verringert. Die sich damit ergebenden Halbleiterein
richtungen sind besonders empfindlich gegen das Eindringen von
Feuchtigkeit, so daß das erwähnte Problem hier besonders ernst
ist.
Aus der JP 1-241832 (A) ist eine Anschlußelektrodenstruktur
für eine Halbleitereinrichtung bekannt, bei der eine Aluminium
elektrode, die auf einem Substrat ausgebildet ist, mit einer
Passivierungsschicht als eine Schutzisolierschicht bedeckt ist.
Die obere Oberfläche der Schutzisolierschicht wird durch eine flexible
Harzschicht als eine elastische Isolierschicht bedeckt. In der
Schutzisolierschicht und der elastischen Isolierschicht ist eine Öffnung
ausgebildet, die die Oberfläche der Aluminiumelektrode freilegt. Die
Öffnung ist mit dem Ende eines Drahtes gefüllt und die Bereiche der
Oberfläche der flexiblen Harzschicht, die die Öffnung umgeben, sind
mit dem Draht bedeckt.
Aus der JP 2-7435 (A) ist eine Anschlußelektrodenstruktur für
eine Halbleitereinrichtung bekannt, bei der eine Passivierungsschicht
als eine Schutzisolierschicht eine Anschlußelektrode bedeckt. In der
Schutzisolierschicht ist eine Öffnung ausgebildet. In der Öffnung,
auf den inneren Randflächen der Öffnung und in der Umgebung der
Öffnung auf der Schutzisolierschicht sind Metallfilme ausgebildet.
Diese sind von einem isolierenden Harz bedeckt. In dem isolierenden
Harz ist eine Mehrzahl von Öffnungen ausgebildet. Diese Öffnungen
und die Randbereiche des Harzfilmes in der Umgebung der Öffnungen
sind mit dem Verdrahtungsmaterial gefüllt bzw. bedeckt. Die beim
Verdrahten auftretenden Kräfte werden durch die Metallschichten un
gepuffert an die Schutzisolierschicht weitergeleitet.
Aus der JP 1-220850 (A) ist eine Anschlußelektrodenstruktur für
eine Halbleitereinrichtung und ein Verfahren zu deren Herstellung
bekannt. Bei der Anschlußelektrodenstruktur ist auf einer
Isolierschicht eine Anschlußelektrode ausgebildet. Die Isolierschicht,
die seitlichen Randflächen der Anschlußelektrode und die Randbereiche
der Oberfläche der Anschlußelektrode sind durch eine Schutzisolier
schicht aus einem brüchigen Material, wie PSG oder BPSG, bedeckt. Die
Schutzisolierschicht weist eine Anschlußelektrodenöffnung auf, die
die Oberfläche der Anschlußelektrode freigibt. In den Randbereichen
der Anschlußelektrodenöffnung, auf den inneren Seitenflächen der
Anschlußelektrodenöffnung und auf den die Anschlußelektrodenöffnung
umgebenden oberen Randbereichen der Schutzisolierschicht ist eine
Isolierschicht aus einem mechanisch harten Material ausgebildet.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Anschlußelektrodenstruktur für eine
Halbleitereinrichtung anzugeben, die auch dann eine hohe Zuverlässig
keit und ausreichende Feuchtigkeitsbeständigkeit aufweist, wenn
die Größe der Bondflächenelektrode und die Dicke des Gehäuses
gering sind. Sie soll weiter unempfindlich gegenüber
Brüchen in der Schutzisolierschicht, die durch mechanische
Kraftwirkungen während des Drahtbondens zwischen der Bondflächen
elektrode und einem externen Anschluß auftreten, sein. Es
ist weiter Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung
einer solchen Anschlußelektrodenstruktur anzugeben.
Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Anschlußelektrodenstruktur
nach Anspruch 1 oder ein Verfahren nach Anspruch 9.
Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
Bei der Anschlußelektrodenstruktur einer Halbleitereinrichtung
mit diesem Aufbau ist die leitende
Verbindungsschicht an der Anschlußelektrodenöffnung nicht
freigelegt, da die Anschlußelektrodenöffnung mit dem Bonddraht
ausgefüllt ist. Dies verhindert die Erscheinung des Eindringens
von Feuchtigkeit in die Anschlußelektrodenöffnung und damit die
Korrosion der leitenden Verbindungsschicht, die zur Bildung von
Löchern führt.
Bei dem Herstellungsverfahren werden beim Drahtbonden auf
tretende Stoßwirkungen auf die Anschlußelektrodenöffnung durch
die Elastizität der elastischen Isolierschicht aufgefangen, was
die Bildung von Brüchen in der Schutzisolierschicht verhindert.
Dies verhindert, daß in die Oberfläche der leitenden Verbin
dungsschicht Feuchtigkeit eindringen kann, die diese korrodiert
und in der leitenden Verbindungsschicht Löcher bilden kann, die
zu Unterbrechungen führen.
Es folgt die Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der
Figuren.
Von den Figuren zeigt:
Fig. 1 eine Querschnittsdarstellung, die den Aufbau einer
Anschlußelektrodenstruktur nach einer ersten Ausführungsform
zeigt,
Fig. 2A, 2B, 2C, 2D, 2E, 2F und 2G
Querschnittsdarstellungen der Anschlußelektrodenstruktur
nach Fig. 1 in der Reihenfolge ihrer Herstellungsschritte,
Fig. 3 eine Querschnittsdarstellung zur Erklärung der bei
Nichtvorhandensein einer elastischen Isolierschicht
10 auftretenden Probleme,
Fig. 4 eine Querschnittsdarstellung zur Erklärung der bei
einer Anschlußelektrodenstruktur einer Halbleitereinrichtung auf
tretenden Probleme,
Fig. 5 eine Querschnittsdarstellung, die den Aufbau einer
Anschlußelektrodenstruktur nach einer zweiten Ausführungsform
zeigt,
Fig. 6 eine Querschnittsdarstellung, die den Aufbau einer
Anschlußelektrodenstruktur nach einer dritten Ausführungsform
zeigt,
Fig. 7 eine Querschnittsdarstellung, die den Aufbau einer
Anschlußelektrodenstruktur nach einer vierten Ausführungsform
zeigt,
Fig. 8 eine Querschnittsdarstellung, die den Aufbau einer
Anschlußelektrodenstruktur nach einer fünften Ausführungsform
zeigt,
Fig. 9 eine Querschnittsdarstellung, die den Aufbau einer
Anschlußelektrodenstruktur nach einer sechsten Ausführungsform
zeigt,
Fig. 10 eine Querschnittsdarstellung, die ein Beispiel für
den Aufbau einer Halbleitereinrichtung zeigt,
Fig. 11 eine Querschnittsdarstellung des Aufbaues einer
Anschlußelektrodenstruktur eines DRAM und
Fig. 12A, 12B, 12C, 12D, 12E und 12F
Querschnittsdarstellungen einer Anschlußelektrodenstruktur
eines DRAM in der Reihenfolge ihrer Herstellungsschritte.
Im folgenden wird zuerst unter Bezugnahme auf Fig. 1 eine
Anschlußelektrodenstruktur einer Halbleitereinrichtung nach einer ersten
Ausführungsform erläutert.
Wie Fig. 1 zeigt, ist auf der Oberfläche eines Silizium-Halb
leitersubstrates 1 eine DRAM-Einrichtung (Stapelzelle) 2 ge
bildet. Auf der DRAM-Einrichtung 2 ist eine Isolierschicht 3
abgeschieden, auf der eine erste leitende Verbindungsschicht 10
gebildet ist. Eine zweite Isolierschicht (Schutzisolierschicht)
5 ist auf der ersten Verbindungsschicht 4 abgeschieden. Die erste
leitende Verbindungsschicht 4 weist eine Anschlußelektrode
6 zur Verbindung mit einem externen Anschluß (Leiter) 23b
mittels Drahtbondens auf. Eine Anschlußelektrodenöffnung 7 ist
in der zweiten Isolierschicht 5 im Gebiet der Anschlußelektrode
gebildet, wo die Oberfläche der ersten leitenden Verbin
dungsschicht 4 freigelegt ist. Die innere Rand-Seitenwand der
Anschlußelektrodenöffnung 7 und die Oberfläche der zweiten
Isolierschicht 5 sind mit einer elastischen Isolierschicht 10
bedeckt. Die erste leitende Verbindungsschicht 4 ist mittels
eines Bonddrahtes 24 in einer Öffnung 11 der elastischen Iso
lierschicht 10 innerhalb der Anschlußelektrodenöffnung 7 mit
einem externen Anschluß 23b verbunden. Die gesamte Oberfläche
des Halbleitersubstrates 1 ist mit einem Gießharz-Versiege
lungsmaterial 25 bedeckt.
Bei der Anschlußelektrodenstruktur gemäß dieser Ausführungsform ist
der Bonddraht 24 so gebildet, daß er die Anschlußelektrodenöff
nung 7 ausfüllt, so daß keine Feuchtigkeit zur Oberfläche der
ersten leitenden Verbindungsschicht 4 gelangen kann. Damit wird
die Bildung von Löchern infolge von Korrosion in der ersten
leitenden Verbindungsschicht 4 verhindert.
Im folgenden wird unter Bezugnahme auf die Fig. 2A bis 2G
ein Beispiel für die Herstellungsschritte der Anschlußelektroden
struktur der ersten Ausführungsform nach Fig. 1 unter Betonung
des Schrittes der Bildung der Anschlußelektrode 6 und des
Schrittes des Drahtbondens beschrieben.
Wie Fig. 2A zeigt, ist auf der Oberfläche des Silizium-Halb
leitersubstrates 1 eine DRAM-Einrichtung (Stapelzelle) 2, die
durch eine Elementisolations-Oxidschicht 301, eine Transfer
gateelektrode 302, eine Störstellendiffusionsschicht 303, eine
Wortleitung 304, einen Speicherknoten 305, eine Kondensatoriso
lierschicht 306 und eine Zellplatte 307 gebildet ist, gebildet.
Wie Fig. 2B zeigt, wird über der gesamten Oberfläche des Si
lizium-Halbleitersubstrates 1 mit der darauf gebildeten DRAM-
Einrichtung (Stapelzelle) 2 eine erste Isolierschicht 3 abge
schieden. Dann wird an einer gewünschten Stelle ein Kontakt
loch 308 durch Photolithographie und Ätzen gebildet.
Dann wird eine Aluminiumverbindungsschicht gebildet, die die
als Bitleitung dienende erste Verbindungsschicht 4 ist. Ähn
lich wie bei herkömmlichen Einrichtungen wird ein Aufbau aus
einer Kombination einer Barrieremetallschicht 309, etwa aus
Titannitrid (TiN) oder Titan-Wolfram (TiW) und einer Aluminium
legierungsschicht 310, etwa aus Al-Si, Al-Si-Cu verwendet, die
durch Photolithographie und Ätzen als erste Aluminium-Verbin
dungsschicht 4 und Anschlußelektrode 6 strukturiert wird.
Danach wird auf die erste Verbindungsschicht 4 mittels eines
CVD-Verfahrens unter Verwendung eines Plasmas bei einer
Schichtabscheidungstemperatur von 300 bis 400°C unter
Verwendung von z. B. Monosilan (SiH4) und Stickoxid (N2O)-Gas
ähnlich wie im herkömmlichen Verfahren eine Siliziumoxid
schicht, Siliziumnitridschicht oder Silizium-Säure-Nitrid
schicht als Schutzisolierschicht 5 abgeschieden (Fig. 2C).
Dann wird durch Photolithographie und Ätzen die Anschluß
elektrodenöffnung 7 zum Drahtbonden gebildet (Fig. 2D).
Dieser Schritt unterscheidet sich von dem im
eingangs unter Bezugnahme auf die Fig. 12 beschriebenen Ver
fahren dadurch, daß die Anschlußelektrodenöffnung 7 so ge
bildet wird, daß ihr innerer Durchmesser kleiner als der Kugel
durchmesser 12 des Bonddrahtes 24 ist.
Danach wird auf der Oberfläche der Schutzisolierschicht 5 die
elastische Isolierschicht 10, etwa aus einem Polyimidharz oder
Silikonharz, gebildet.
Ein typisches Verfahren zum Aufbringen des Harzmaterials ist
das Aufschleudern (spin coating). Dann wird die Anschlußelektrode
6 durch Photolithographie und Ätzen freigelegt, um die
Öffnung 11 in der elastischen Isolierschicht 10 zu bilden
(Fig. 2E).
Die Öffnung 11 der elastischen Isolierschicht 10 wird im Inne
ren der Öffnung 7 der Schutzisolierschicht 5 so angeordnet, daß
während des Vorgangs des Drahtbondens mechanische Kräfte nicht
direkt auf die Schutzisolierschicht wirken. Ansonsten wird
durch die Wirkung der mechanischen Kraft 314 infolge der Anwen
dung von Ultraschall und Druck während des Drahtbondens ein
Bruch 315 in der Schutzisolierschicht 5 auf der Aluminium
schicht, die die Anschlußelektrode 6 darstellt, gebildet, wie in
Fig. 3 gezeigt.
Der Bruch 315 ist nicht erwünscht, da er die Ursache für Unter
brechungs-Ausfälle infolge eindringender Feuchtigkeit 312, die
die Aluminiumverbindungsschicht 4 korrodiert und ein Loch 316
bilden kann, darstellt.
Das Halbleitersubstrat 1 mit den darauf gebildeten Einrichtun
gen wird in Stücke geschnitten, wodurch der Halbleiterchip 20
erhalten wird, der auf der Montage-Anschlußfläche 23a des Lei
tersockels 23 durch Auflöten oder Verwendung eines leitfähigen
Harzes o. ä. angebracht wird, ähnlich wie im Falle einer her
kömmlichen Halbleitereinrichtung.
Die Öffnung 11 der elastischen Isolierschicht 10 wird mit dem
Leiter 23b des Leitersockels 23 über den Bonddraht 24, etwa
einen Golddraht, verbunden (Fig. 2F).
Der Kugeldurchmesser 12 beim Drahtbonden muß größer als der
innere Durchmesser der Anschlußelektrodenöffnung sein.
Da die elastische Isolierschicht 10, die auf der Schutziso
lierschicht 5 gebildet ist, das Einwirken mechanischer Kräfte
314 auf die Schutzisolierschicht 5 während des Drahtbondens
unterbindet, wird in der Schutzisolierschicht 5 kein Bruch
gebildet.
Schließlich wird die gesamte Einrichtung in Gießharz 25
verpackt (Fig. 2G).
Bei der oben beschriebenen ersten Ausführungsform wurde der
Fall dargestellt, daß die Öffnung 11 der Isolierschicht 10, die
Elastizität aufweist, kleiner als die Anschlußelektrodenöffnung 7
auf der Bondflächenelektrode 6 ist.
Bei der ersten Ausführungsform wurde die Schutzisolierschicht 5
als einschichtiger Film, etwa eine Siliziumoxidschicht, eine
Siliziumnitridschicht oder eine Silizium-Säure-Nitridschicht
beschrieben. Bei der in Fig. 5 gezeigten zweiten Ausführungsform
kann die Schutzisolierschicht z. B. eine Kombination aus den oben
erwähnten Schichten mit einer Schichtstruktur aus einer Sili
ziumoxidschicht 317 und einer Siliziumnitridschicht 318 sein.
Bei der in Fig. 6 gezeigten dritten Ausführungsform kann ein
ähnlicher Effekt wie bei der ersten Ausführungsform mit einem
mehrschichtigen Aufbau der Verbindungsschicht erreicht werden,
die aus einer ersten Verbindungsschicht 319, etwa aus einem
Refraktärmetall (W, Mo, Ti etc.), einem Refraktärmetallsilizid
(WSi₂, MoSi₂, TiSi₂ etc.) oder polykristallinem Silizium und
einer Mehrzahl von Verbindungsschichten 320 und 321, etwa aus
einer oder mehreren Aluminiumschichten, besteht.
Bei der ersten Ausführungsform wurde dargestellt, daß die ela
stische Isolierschicht 10, die auf der Schutzisolierschicht 5
gebildet ist, einschichtig ist. Fig. 7 zeigt eine vierte
Ausführungsform, bei der auf dem Hauptteil des Halbleiterchips
unter Ausschluß der Bondflächenöffnung 7 eine elastische Iso
lierschicht 322 und in der Nachbarschaft der Bondfläche eine
elastische Isolierschicht 523 gebildet ist, wobei die Schichten
aus unterschiedlichem Material und mit unterschiedlicher
Schichtdicke gebildet sein können. Das Material der elastischen
Isolierschichten 10, 322 und 323 kann ein Polyimidharz oder ein
Silikonharz aufweisen.
Fig. 8 zeigt eine fünfte Ausführungsform, bei der die Bond
flächenöffnung 7 eine Mehrzahl kleiner Öffnungen aufweist.
Obgleich die Erfindung am Beispiel einer auf der Oberfläche
eines Halbleitersubstrates 1 gebildeten DRAM-Einrichtung 2 dar
gestellt wurde, können ähnliche Effekte bei Anwendung der Er
findung auf andere Halbleitereinrichtungen mit Aluminium-Ver
bindungsschichten erreicht werden.
Zum Beispiel zeigt Fig. 9 eine sechste Ausführungsform, bei der der
Aufbau der Anschlußelektrode gemäß der Erfindung auf eine
Halbleitereinrichtung mit einem SRAM (statischen Speicher mit
wahlfreiem Zugriff), der auf der Oberfläche des Substrates
gebildet ist, angewendet ist.
Wie Fig. 9 zeigt, sind in bzw. auf der Oberfläche eines Sili
zium-Halbleitersubstrates 1 ein p-Wannengebiet 411, ein n-Wan
nengebiet 412, eine Elementisolations-Oxidschicht 413, eine
Gateelektrode 414, eine n-Störstellendiffusionsschicht 415,
eine p-Störstellendiffusionsschicht 416, eine polykristalline
Silizium-Verbindungsschicht 417 und ein Kontaktloch 418
gebildet, die einen SRAM mit Doppel-Wannen-CMOS (komplementä
ren-Metall-Oxid-Halbleiter)-Aufbau ergeben. Auf dem SRAM 410
ist eine Unterlage-Isolierschicht 3 abgeschieden, auf der eine
erste Aluminium-Verbindungsschicht 4 gebildet ist. Eine zweite
Isolierschicht (Schutzisolierschicht) 5 ist auf der ersten
Aluminium-Verbindungsschicht 4 gebildet. Weiter sind eine
Anschlußelektrode 6 zur Verbindung mit einem externen Anschluß
(Leiter) 23b, eine Anschlußelektrodenöffnung 7, eine elastische
Isolierschicht 10, eine Öffnung 11 der elastischen Isolierschicht
10 und ein Bonddraht 24 zur Verbindung mit dem externen
Anschluß (Leiter) 23b vorgesehen. Die Oberfläche der elasti
schen Isolierschicht 10 ist mit einem Gießharzmaterial ver
gossen.
Die auf der Oberfläche des Halbleitersubstrates 1 gebildete
Einrichtung kann eine andere Einrichtung als ein DRAM oder SRAM
sein, etwa ein EPROM (löschbarer programmierbarer Nur-Lese-
Speicher), ein E2PROM (elektrisch löschbarer programmierbarer
ROM), ein Mikrocomputerschaltkreis, eine logische CMOS-Schal
tungseinrichtung oder Bipolartransistor-Einrichtung.
Bei einer Anschlußelektrodenstruktur einer Halbleitereinrichtung nach den oben beschriebenen
Ausführungsformen wird die erste leitende Verbindungsschicht an
der Anschlußelektrode 6 nicht freigelegt, wodurch die Bildung
eines Loches verhindert wird, indem auf der Oberfläche
der ersten Isolierschicht 5 in der Nachbarschaft der
Anschlußelektrodenöffnung 7 und den inneren Randflächen der
Anschlußelektrodenöffnung 7 eine elastische Isolierschicht 10
angeordnet ist und der Bonddraht die Anschlußelektrodenöffnung
7 bedeckt. Damit wird auch die Entstehung von Brüchen während
des Drahtbondens verhindert, so daß eine Halbleitereinrichtung
mit hoher Zuverlässigkeit erhalten wird.
Claims (11)
1. Anschlußelektrodenstruktur einer Halbleitereinrichtung mit
einer auf einem Halbleitersubstrat (1) gebildeten Anschluß elektrode (6),
einer die Anschlußelektrode (6) bedeckenden Schutzisolierschicht (5) mit einer Anschlußelektrodenöffnung (7),
einem mit der Anschlußelektrode (6) verbundenen Bonddraht (24), wobei die Anschlußelektrodenöffnung (7) mit dem Bonddraht (24) ausgefüllt ist, und
einer mindestens die Oberfläche der Schutzisolierschicht (5) in der Nachbarschaft der Anschlußelektrodenöffnung (7) bedeckenden ela stischen Isolierschicht (10),
dadurch gekennzeichnet,
daß die elastische Isolierschicht (10) auch auf den inneren Randflächen der Anschlußelektrodenöffnung (7) ausgebildet ist und an der Stelle der Anschlußelektrodenöffnung (7) eine Öffnung (11) aufweist, die innerhalb der Randwandung der Anschlußelektrodenöffnung (7) angeordnet ist, und
daß die elastische Isolierschicht (10) so ausgebildet ist, daß sie die beim Drahtbonden auf die Anschlußelektrodenöffnung (7) wirkenden mechanischen Kräfte auffängt.
einer auf einem Halbleitersubstrat (1) gebildeten Anschluß elektrode (6),
einer die Anschlußelektrode (6) bedeckenden Schutzisolierschicht (5) mit einer Anschlußelektrodenöffnung (7),
einem mit der Anschlußelektrode (6) verbundenen Bonddraht (24), wobei die Anschlußelektrodenöffnung (7) mit dem Bonddraht (24) ausgefüllt ist, und
einer mindestens die Oberfläche der Schutzisolierschicht (5) in der Nachbarschaft der Anschlußelektrodenöffnung (7) bedeckenden ela stischen Isolierschicht (10),
dadurch gekennzeichnet,
daß die elastische Isolierschicht (10) auch auf den inneren Randflächen der Anschlußelektrodenöffnung (7) ausgebildet ist und an der Stelle der Anschlußelektrodenöffnung (7) eine Öffnung (11) aufweist, die innerhalb der Randwandung der Anschlußelektrodenöffnung (7) angeordnet ist, und
daß die elastische Isolierschicht (10) so ausgebildet ist, daß sie die beim Drahtbonden auf die Anschlußelektrodenöffnung (7) wirkenden mechanischen Kräfte auffängt.
2. Anschlußelektrodenstruktur nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die elastische Isolierschicht (10) eine Polyimidharz-
oder Silikonharz-Isolierschicht aufweist.
3. Anschlußelektrodenstruktur nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Schutzisolierschicht (5) mindestens eine
Isolierschicht aus der Gruppe der Materialien Siliziumoxid, Si
liziumnitrid oder Silizium-Säure-Nitrid aufweist.
4. Anschlußelektrodenstruktur nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Anschlußelektrode (6) Teil einer leitenden Verbindungs
schicht (4) ist.
5. Anschlußelektrodenstruktur nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Verbindungsschicht (4)
eine Aluminium-Verbindungsschicht aufweist.
6. Anschlußelektrodenstruktur nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Verbindungsschicht (4)
eine Verbindungsschicht aus mindestens einem der Materialien
Refraktärmetall, Refraktärmetallsilizid und polykristallinem
Silizium aufweist.
7. Anschlußelektrodenstruktur nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß die elastische Isolierschicht (10)
an der Stelle der Anschlußelektrodenöffnung (7)
eine Mehrzahl kleiner Öffnungen 11a aufweist.
8. Anschlußelektrodenstruktur nach einem der Ansprüche 1 bis 7
dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Verbindungsschicht
(4) einen Aufbau aus einer Kombination einer Barrieremetall
schicht (309) unter Einschluß von Titan und einer Aluminium
legierungsschicht (310) aufweist.
9. Verfahren zur Herstellung einer Anschlußelektrodenstruktur
einer Halbleitereinrichtung gemäß Anspruch 1 mit den Schritten:
Bilden einer leitenden Verbindungsschicht (4) auf einem Halb leitersubstrat (1) mit einer Isolierschicht (3) dazwischen,
Bilden einer Schutzisolierschicht (5) einer vorbestimmten Dicke auf der leitenden Verbindungsschicht (4),
Bilden einer Anschlußelektrodenöffnung (7) in der Schutziso lierschicht (5) zum Freilegen der Oberfläche der leitenden Ver bindungsschicht (4) in einem Gebiet, das die Anschlußelektrode (6) werden soll,
Bedecken der Oberfläche der Schutzisolierschicht (5) mindestens in der Umgebung der Anschlußelektrodenöffnung (7) und auf den inneren Oberflächen der Anschlußelektrodenöffnung (7) mit einer elastischen Isolierschicht (10),
Öffnen eines Abschnitts (11) der elastischen Isolierschicht (10), die den Boden der Anschlußelektrodenöffnung (7) bedeckt, der kleiner als die Anschlußelektrodenöffnung ist, zum Freilegen eines Gebietes der Oberfläche der leitenden Verbin dungsschicht (4), das eine Anschlußelektrode (6) werden soll,
Verbinden der Anschlußelektrode (6) mit einem externen Anschluß (23b) mittels Drahtbondens unter Verwendung eines Bonddrahtes (24) mit einem Kugeldurchmesser, der größer als der innere Durchmesser der Anschlußelektrodenöffnung (7) ist.
Bilden einer leitenden Verbindungsschicht (4) auf einem Halb leitersubstrat (1) mit einer Isolierschicht (3) dazwischen,
Bilden einer Schutzisolierschicht (5) einer vorbestimmten Dicke auf der leitenden Verbindungsschicht (4),
Bilden einer Anschlußelektrodenöffnung (7) in der Schutziso lierschicht (5) zum Freilegen der Oberfläche der leitenden Ver bindungsschicht (4) in einem Gebiet, das die Anschlußelektrode (6) werden soll,
Bedecken der Oberfläche der Schutzisolierschicht (5) mindestens in der Umgebung der Anschlußelektrodenöffnung (7) und auf den inneren Oberflächen der Anschlußelektrodenöffnung (7) mit einer elastischen Isolierschicht (10),
Öffnen eines Abschnitts (11) der elastischen Isolierschicht (10), die den Boden der Anschlußelektrodenöffnung (7) bedeckt, der kleiner als die Anschlußelektrodenöffnung ist, zum Freilegen eines Gebietes der Oberfläche der leitenden Verbin dungsschicht (4), das eine Anschlußelektrode (6) werden soll,
Verbinden der Anschlußelektrode (6) mit einem externen Anschluß (23b) mittels Drahtbondens unter Verwendung eines Bonddrahtes (24) mit einem Kugeldurchmesser, der größer als der innere Durchmesser der Anschlußelektrodenöffnung (7) ist.
10. Verfahren nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt des Bedeckens
mit der elastischen Isolierschicht (10) durch Abscheiden
einer Isolierschicht vom Polyimidharztyp oder Silikonharztyp
ausgeführt wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 oder 10,
dadurch gekennzeichnet, daß der
Schritt des Bildens der Schutzisolierschicht (5) durch ein
Plasma-CVD-Verfahren unter Verwendung von SiH₄-Gas und N₂O-Gas
bei einer Temperatur von 300 bis 400°C ausgeführt wird.
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