DE4141478C2 - - Google Patents
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- DE4141478C2 DE4141478C2 DE4141478A DE4141478A DE4141478C2 DE 4141478 C2 DE4141478 C2 DE 4141478C2 DE 4141478 A DE4141478 A DE 4141478A DE 4141478 A DE4141478 A DE 4141478A DE 4141478 C2 DE4141478 C2 DE 4141478C2
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- G11C29/08—Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
- G11C29/12—Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
- G11C29/18—Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
- G11C29/30—Accessing single arrays
- G11C29/34—Accessing multiple bits simultaneously
Description
Die Erfindung betrifft eine Halbleiterspeichereinrichtung sowie ein
Verfahren zum Betreiben einer solchen Halbleiterspeichereinrichtung.
Mit der Weiterentwicklung der Halbleitertechnik hat die
Speicherkapazität der Halbleiterspeichereinrichtungen bemerkenswert
zugenommen. Die Speicherkapazität hat alle drei Jahre um den Faktor
vier zugenommen. Solche Halbleiterspeichereinrichtungen erfordern
vom Standpunkt der Qualitätssicherung einen Test, um zu ermitteln,
ob sie nach der Herstellung normal arbeiten. Die Zeitspanne
(Testzeit), die für diesen Test notwendig ist, hat mit dem Anstieg
der Speicherkapazität der Halbleiterspeichereinrichtungen steil
(exponentiell) zugenommen. Der Anstieg der Testzeit bewirkt eine
Zunahme der Kosten nicht nur der Halbleiterspeichereinrichtung
selbst, sondern auch eines Systems, das sie verwendet. Daher ist die
Einführung von Techniken zur Verkürzung der Testzeit wesentlich und
unentbehrlich geworden. Eine solche Testzeitverkürzungstechnik ist
das Multibit-Paralleltestschema, bei dem die Speicherzellen einer
Mehrzahl von Bits gleichzeitig geprüft werden.
Fig. 1 zeigt ein schematisches Diagramm der Gesamtstruktur einer
herkömmlichen Halbleiterspeichereinrichtung mit einer Multibit-Pa
ralleltestfunktion. Wie in Fig. 1 gezeigt ist, weist die
herkömmliche Halbleiterspeichereinrichtung ein Speicherzellenfeld
100 mit einer Mehrzahl von Speicherzellen, die in einer Matrix aus
Zeilen und Spalten angeordnet sind, einen Adreßpuffer 102 zum
Empfangen einer extern angelegten Adresse A0 bis An und zum Erzeugen
einer internen Adresse, einen Zeilendekoder 104 zum Auswählen einer
entsprechenden Zeile des Speicherzellenfeldes 100 entsprechend der
internen Zeilenadresse vom Adreßpuffer 102, einen Spaltendekoder
106, der von einer internen Spaltenadresse vom Adreßpuffer 102
abhängig ist, zum Erzeugen eines Signals zum Auswählen einer
entsprechenden Spalte des Speicherzellenfeldes 100, und ein I/O-
Gatter 110, das von einem Spaltenauswahlsignal vom Spaltendekoder
106 abhängig ist, zum Verbinden der ausgewählten Spalte innerhalb
des Speicherzellenfeldes 100 mit einem gemeinsamen Datenbus 108,
auf.
Das Speicherzellenfeld 100 ist in vier Blöcke MB1, MB2, MB3 und MB4
unterteilt. Es wird ein Bit aus jedem der Speicherzellenblöcke MB1
bis MB4, d. h. es werden Speicherzellen von zusammen vier Bit
gleichzeitig ausgewählt und mit dem gemeinsamen Datenbus 108
verbunden. Der Zeilendekoder 104 wählt eine Zeile in jedem der
Speicherzellenblöcke MB1 bis MB4 aus. Der Spaltendekoder 106 erzeugt
ein Spaltenauswahlsignal zum Auswählen einer Spalte in jedem der
Speicherzellenblöcke MB1 bis MB4. Der gemeinsame Datenbus 108 weist
vier Datenbusleitungen 108a, 108b, 108c und 108d, die entsprechend
dem jeweiligen Speicherzellenblock gebildet sind, um Daten von vier
Bit parallel zu übertragen.
Die Halbleiterspeichereinrichtung weist ferner einen Schreibschalt
kreis 112, der in Abhängigkeit von einem internen Schreibbestim
mungssignal W beim Datenschreiben aktiviert wird, zum Empfangen
extern angelegter Schreibdaten Din und zum Erzeugen interner
Schreibdaten, einen Blockdekoder 114 zum Dekodieren eines Blockbe
stimmungssignals vom Adreßpuffer 102 und zum Auswählen eines Blocks
der Speicherzellenblöcke MB1 bis MB4, einen Ausleseschaltkreis 116
zum Empfangen der aus dem Speicherzellenblock, der vom Blockdekoder
114 ausgewählt worden ist, ausgelesenen Daten und zum Erzeugen
externer Auslesedaten Dout, und einen Testschaltkreis 118 zum
gleichzeitigen Empfangen von Speicherzellendaten aus vier Bit, die
auf den gemeinsamen Datenbus 108 ausgelesen worden sind, zum
Ausführen einer vorbestimmten Verarbeitung mit den Daten und zum
Erzeugen eines Signals, das angibt, ob die Speicherzellen von vier
Bit normal sind oder nicht, auf.
Der Testschaltkreis 118 wird in Abhängigkeit von einem Testmodus-
Bestimmungssignal T aktiviert und führt eine vorbestimmte
Verarbeitung bezüglich der Daten von vier Bit auf dem gemeinsamen
Datenbus 108 aus. Der Ausleseschaltkreis 116 wird beim Testmodus in
Abhängigkeit von einem invertierten Signal /T des Testmodus-
Bestimmungssignals in einen Zustand hoher Ausgangsimpedanz versetzt.
Der Blockdekoder 114 verbindet den internen Datenbus 120 mit vier
Datenbusleitungen 108a bis 108d in Abhängigkeit von einem logischen
Produktsignal W*T des internen Schreibbestimmungssignals W, das das
Datenschreiben im Testmodus angibt, und des Testmodus-Be
stimmungssignals T. Das Datenschreiben wird im Testmodus auf einer
4-Bit-Basis ausgeführt. Die Halbleiterspeichereinrichtung weist eine
*1-Bit-Struktur auf, bei der die Ein-/Ausgabe von Daten auf der Basis
von einem Bit ausgeführt wird. Nun wird deren Betrieb beschrieben.
Zuerst wird der Betrieb im Normalmodus erläutert. Der Adreßpuffer
102 erzeugt eine interne Zeilenadresse und eine interne
Spaltenadresse in Abhängigkeit von einer extern angelegten Adresse A0 bis An.
Der Zeilendekoder 104 dekodiert diese interne
Zeilenadresse und wählt eine Zeile aus jedem der Speicherzellen
blöcke MB1 bis MB4 des Speicherzellenfeldes 100 aus. Der Spaltende
koder 106 empfängt und dekodiert eine interne Spaltenadresse mit
Ausnahme von z. B. den zwei niederwertigsten Bit der Adresse und
erzeugt ein Signal zum Auswählen einer Spalte der jeweiligen
Speicherzellenblöcke MB1 bis MB4. Das I/O-Gatter 110 verbindet eine
Spalte aus den jeweiligen Speicherzellenblöcken MB1 bis MB4 mit den
Datenbusleitungen 108a bis 108d in Abhängigkeit vom Spaltenauswahl
signal vom Spaltendekoder 106. Damit werden die Speicherzellen von
vier Bit, die durch den Zeilendekoder 104 und den Spaltendekoder 106
ausgewählt worden sind, mit den Datenbusleitungen 108a bis 108d
verbunden.
Beim Datenschreiben wird der Schreibschaltkreis 112 in Abhängigkeit
vom internen Schreibbestimmungssignal W aktiviert, er erzeugt
interne Schreibdaten aus den extern angelegten Schreibdaten Din und
überträgt sie an den internen Datenbus 120. Der Blockdekoder 114
dekodiert eine Blockadresse einschließlich z. B. der zwei niederwer
tigsten Bit der internen Spaltenadresse vom Adreßpuffer 102 und
verbindet eine der Datenbusleitungen 108a bis 108d mit dem internen
Datenbus 120. Damit werden Daten in eine Speicherzelle desjenigen
Blocks unter den gleichzeitig ausgewählten Speicherzellen von vier
Bit geschrieben, der vom Blockdekoder 114 ausgewählt worden ist.
Beim Datenlesen befindet sich das interne Schreibbestimmungssignal W
in einem inaktiven Zustand und der Schreibschaltkreis 112 wird in
einen Zustand hoher Ausgangsimpedanz gebracht. Der Ausleseschalt
kreis 116 verstärkt die ausgelesenen Daten, die von einer vom Block
dekoder 114 ausgewählten Datenbusleitung übertragen werden, und
erzeugt externe Auslesedaten Dout. Damit ist das Lesen von Daten
einer Speicherzelle mit einem Bit abgeschlossen. Dieser Auslese
schaltkreis 116 kann zum Zeitpunkt des Datenschreibens arbeiten oder
er kann beim Datenschreiben in einen Ausgabedeaktivierungszustand
oder einen Zustand hoher Impedanz versetzt werden. Für den Test
schaltkreis 118 befindet sich das Testmodus-Bestimmungssignal T im
Normalbetriebsmodus in einem inaktiven Zustand und sein Ausgang ist
auf einen Zustand hoher Impedanz gesetzt.
Nun wird der Betrieb im Testmodus beschrieben. Im Testmodus werden
externe Schreibdaten Din mit vorbestimmtem Logikwert ("1" oder "0")
angelegt. Die vom Schreibschaltkreis 112 im Testmodus erzeugten
internen Schreibdaten werden dem Blockdekoder 114 zugeführt. Der
Blockdekoder 114 überträgt die Daten auf dem internen Datenbus 120
in Abhängigkeit vom Signal W*T im aktiven Zustand auf vier Daten
busleitungen 108a bis 108d. Damit werden dieselben Daten
gleichzeitig in die Speicherzellen von vier Bit geschrieben, die auf
dieselbe Weise wie beim Normalbetriebsmodus ausgewählt worden sind.
Wenn diese Operation bezüglich aller Speicherzellen innerhalb des
Speicherzellenfeldes 100 ausgeführt worden ist, sind in alle
Speicherzellen des Speicherzellenfeldes 100 dieselben Daten
eingeschrieben worden.
In der Funktionsprüfung der Halbleiterspeichereinrichtung wird ein
Test ausgeführt, um zu ermitteln, ob jede Speicherzelle innerhalb
des Speicherzellenfeldes 100 exakt die zugeführten Daten speichert.
Nachdem das Schreiben derselben Daten in alle Speicherzellen inner
halb des Speicherzellenfeldes abgeschlossen ist, werden Daten der
Speicherzellen zu vier Bit in derselben Weise wie im Normalbetriebs
modus aus den Speicherzellenblöcken MB1 bis MB4 ausgelesen und auf
die vier Datenbusleitungen 108a bis 108d übertragen. Der Testschalt
kreis 118 wird in Abhängigkeit vom Testmodus-Bestimmungssignal T
aktiviert, und er führt eine vorbestimmte Verarbeitung für die
Speicherzellendaten von vier Bit auf den Datenbusleitungen 108a bis
108d aus und gibt ein Signal ab, das das Ergebnis der Verarbeitung
anzeigt. Das Ausgangssignal vom Testschaltkreis 118 wird als
externer Wert Dout abgegeben. Ein defektes Bit (z. B. eine Inversion
der gespeicherten Daten) etc. in der Halbleiterspeichereinrichtung
wird durch Überwachen der externen Daten Dout außerhalb der
Einrichtung erkannt.
Im Testmodus wird der Ausleseschaltkreis 116 in Abhängigkeit vom
invertierten Signal /T in einen Zustand hoher Ausgangsimpedanz
versetzt. Bei der in Fig. 1 dargestellten Struktur kann ein
Multiplexer zum Empfangen der Ausgangssignale des Testschaltkreises
118 und des Ausleseschaltkreises 116 gebildet sein, der in Abhängig
keit vom Testmodus-Bestimmungssignal T selektiv eines der Signale
durchläßt und als externe Daten Dout abgibt. Für den Testschaltkreis
118 sind vielfältige auszuführende Betriebsfunktionen vorgeschlagen
worden.
Fig. 2, gezeigt in IEEE Journal of Solid-State Cirenits, Vol. 25, No. 5,
Oktober 1990, S. 1071, zeigt ein schematisches Diagramm der Struktur eines
Testschaltkreises 118 zur Implementierung einer Testfunktion mit
"1/0/Hi-Z"-Schema. Wie in Fig. 2 gezeigt ist, weist der Testschalt
kreis 118 einen UND-Gatterschaltkreis G1 zum Empfangen der Daten D0
bis D3 zu vier Bit auf dem Datenbus 108 und zum Empfangen eines
Testmodus-Bestimmungssignals T, einen Inverterschaltkreis G2 zum
Invertieren des Testmodus-Bestimmungssignals T, einen NOR-Gatter
schaltkreis G3 zum Empfangen der Daten D0 bis D3 zu vier Bit auf dem
Datenbus 108 und des Ausgangssignals vom Inverterschaltkreis G2,
einen ersten Ausgabetransistor OT1 zum Empfangen des Ausgangssignals
des Gatterschaltkreises G1 an seinem Gate, und einen zweiten Ausga
betransistor OT2 zum Empfangen des Ausgangssignals des Gatterschalt
kreises G3 an seinem Gate, auf.
Der Gatterschaltkreis G1 gibt ein Signal mit Pegel "H" ab, wenn alle
zugeführten Signale auf "H" liegen. Der Gatterschaltkreis G3 gibt
ein Signal "H" aus, wenn alle zugeführten Signale auf "L" liegen.
Die Ausgabetransistoren OT1 und OT2 werden jeweils durchgeschaltet,
wenn das dem Gate zugeführte Signal den Pegel "H" annimmt. Der erste
Ausgabetransistor OT1 lädt den Ausgangsknoten NA auf den Pegel "H"
des Betriebsversorgungspotentials Vcc auf, wenn er durchgeschaltet
wird. Der zweite Ausgabetransistor OT2 entlädt den Ausgangsknoten NA
auf den "L"-Pegel des Potentials Vss, das z. B. das Massepotential
darstellt, wenn er durchgeschaltet wird. Das Potential "H" soll dem
Logikwert "1" und das Potential "L" dem Logikwert "0" entsprechen.
Nun wird der Betrieb des in Fig. 2 gezeigten Testschaltkreises 118
beschrieben.
Im Testmodus wird das Testmodus-Bestimmungssignal T auf "H" gesetzt
und das Ausgangssignal des Inverterschaltkreises G2 erreicht den
Pegel "L". Wenn alle ausgelesenen Daten D0 bis D3 zu vier Bit gleich
logisch "1" sind, nimmt das Ausgangspotential des
Gatterschaltkreises G1 den Pegel "H" und das Ausgangspotential des
Gatterschaltkreises G3 den Pegel "L" an. Der erste Ausgabetransistor
OT1 wird durchgeschaltet, der zweite Ausgabetransistor OT2 gesperrt
und der Ausgangsknoten NA auf das Potential "H" aufgeladen. Damit
werden Ausgabedaten Dout mit dem Logikwert "1" erhalten.
Wenn alle ausgelesenen Daten D0 bis D3 zu vier Bit auf logisch "0"
liegen, nimmt das Ausgangspotential des Gatterschaltkreises G3 den
Pegel "H" an. Dadurch wird der erste Ausgabetransistor OT1 nicht durchge
schaltet, der zweite Ausgabetransistor OT2 durchgeschaltet, der
Ausgabeknoten NA auf den Wert "L" des Vss-Pegels entladen, und
Ausgabedaten Dout mit dem Logikwert "0" werden erzeugt.
Wenn die 4-Bit-Speicherzellendaten D0 bis D3 Daten mit den
Logikwerten "0" und "1" in gemischter Weise enthalten, nehmen die
Ausgangspotentiale der Gatterschaltkreise G1 und G3 beide den Wert
"L" an. In diesem Fall werden die Ausgabetransistoren OT1 und OT2
beide gesperrt und der Ausgangsknoten NA wird in einen Zustand hoher
Impedanz gebracht. Es sind dieselben Daten in alle Speicherzellen
innerhalb des Speicherzellenfeldes 100 geschrieben worden. Existiert
in den gleichzeitig ausgewählten Speicherzellen zu vier Bit ein
defektes Bit, werden entsprechend die Patenausgänge Dout in einen
Zustand hoher Impedanz gebracht. Stimmen die Logikwerte der
Speicherzellendaten D0 bis D3 zu vier Bit miteinander überein,
erhält man Ausgabedaten Dout desselben Logikwerts wie der Speicher
zellendaten. Weisen die Daten D0 bis D3 der gleichzeitig
ausgewählten Speicherzellen zu vier Bit alle einen Logikwert auf,
der gegenüber dem der Schreibdaten invertiert ist, nehmen die
Ausgabedaten Dout einen Logikwert an, der dem erwarteten Wert
(auszulesende Daten) entgegengesetzt ist, und der Defekt kann
erkannt werden.
Fig. 3 zeigt ein schematisches Diagramm eines Testschaltkreises mit
einer Testfunktion entsprechend einem "Übereinstimmungs-/Nicht
übereinstimmungs"-Schema. Wie in Fig. 3 dargestellt ist, weist
der Testschaltkreis 118 einen Übereinstimmungs-Erfassungsschaltkreis
G4 zum Empfangen der ausgelesenen Daten D0 bis D3 zu vier Bit und
ein Übertragungsgatter TM auf, das in Abhängigkeit vom Testmodus-
Bestimmungssignal T durchgeschaltet wird, um das Ausgangssignal des
Übereinstimmungs-Erfassungs-Schaltkreises G4 durchzulassen. Bei der
in Fig. 3 dargestellten Struktur wird vom Übereinstimmungs-
Erfassungsschaltkreis G4 ein Logikwert "1" ausgegeben, wenn alle
Logikwerte der ausgelesenen Daten D0 bis D3 zu vier Bit miteinander
übereinstimmen. Weisen die 4-Bit-Auslesedaten D0 bis D3 Daten mit
den Logikwerten "1" und "0" in gemischter Weise auf, gibt der
Übereinstimmungs-Erfassungs-Schaltkreis G4 einen Logikwert "0" aus.
Es werden Daten desselben Logikwerts in alle Speicherzellen des
Speicherzellenfeldes 100 eingeschrieben. Nehmen die Ausgabedaten
Dout den Logikwert "0" an, so bedeutet das eine Fehlfunktion der
Halbleiterspeichereinrichtung.
Ein spezielles Beispiel für eine Struktur zur Verkürzung der
Testzeit einer Halbeiterspeichereinrichtung findet sich z. B. in M.
Kumanoya, "A 90 ns 1 Mb DRAM with Multi-Bit Test Mode", 1985 IEEE,
ISSCC, Digest of Technical Papers, S. 240. Der Artikel von Kumanoya
beschreibt ein Verfahren zur gleichzeitigen Prüfung von
Speicherzellen zu vier Bit in einem dynamischen
Direktzugriffsspeicher (DRAM) mit einem Adreßmultiplexingschema
einer 1 M (Mega) Wort*1-Bit-Struktur.
Ein weiteres Beispiel für eine Halbleiterspeichervorrichtung,
die das Testen gleichzeitig ausgelesener Daten gestattet, ist
in der DE 36 39 169 A1 offenbart.
Obwohl ein Paralleltest von Speicherzellen zu vier Bit in der
Beschreibung des oben angeführten Standes der Technik gezeigt ist,
kann dieses Verfahren im Prinzip auf ein Verfahren zur
gleichzeitigen Prüfung von mehr Speicherzellen ausgedehnt werden.
Für diese Erweiterung ist es aber notwendig, dieselbe Zahl von
Datenbusleitungen wie gleichzeitig zu prüfenden Speicherzellen zu
bilden. Normalerweise wird ein Verstärkungsschaltkreis, wie z. B. ein
Vorverstärker, zum Verstärken eines Signalpotentials für die Daten
busleitungen geschaffen. Um so viele Speicherzellen wie möglich
gleichzeitig zu prüfen und dadurch die Testzeit zu verkürzen, ist es
daher notwendig, Datenbusleitungen und Verstärkungsschaltkreise
hinzuzufügen, wodurch das Problem des Anstiegs der Chipfläche und
der Leistungsaufnahme auftritt.
Neben der Halbleiterspeichereinrichtung, bei der die Ein-/Ausgabe von
Daten über gemeinsame Datenleitungen ausgeführt wird, gibt es eine
Halbleiterspeichereinrichtung, bei der ein Datenschreibbus und ein
Datenlesebus getrennt gebildet sind, um Daten mit hoher Geschwindig
keit auszulesen. Selbst bei dieser Speichereinrichtung mit
getrennter I/O-Struktur ist ein Auslesedaten-Verstärkungsschaltkreis
für den Datenauslesebus gebildet und es tritt dasselbe Problem wie
oben beschrieben auf. Ein Beispiel für eine Halbleiterspeicherein
richtung mit getrenntem I/O-Bus ist in Y. Nakagome et al, "A 1.5 V
Circuit Technology for 64 Mb DRAMs", IEEE, The Procedings of 1990
Symposium on VLSI Circuits, S. 17-18, Feb. 1990 beschrieben.
Betrachtet man die Testzeit, die Chipfläche und die Leitungsaufnahme
zusammen, so werden in der Praxis im allgemeinen Speicherzellen zu
vier Bit in einem DRAM mit 1 MBit, Speicherzellen zu acht Bit in
einem DRAM mit 4 MBit, und Speicherzellen zu 16 Bit in einem DRAM mit
16 MBit gleichzeitig geprüft. Wie aus der Beziehung zwischen der
Speicherkapazität der Halbleiterspeichereinrichtung und der Anzahl
der Bit der Speicherzellen, die gleichzeitig geprüft werden sollen,
ersichtlich ist, ist es in der Praxis schwierig, die Anzahl der
gleichzeitig geprüften Speicherzellen proportional zum Anstieg der
Speicherkapazität zu erhöhen. Die Testzeit hat sich nachteilig steil
mit dem Anstieg der Speicherkapazität erhöht. Während z. B. die
Speicherkapazität eines DRAM mit 16 MBit 16mal größer als die eines
DRAM mit 1 MBit ist, hat sich die Anzahl der Speicherzellen, die
gleichzeitig geprüft wird, nur um den Faktor vier erhöht.
Entsprechend ist die Testzeit des DRAM mit 16 MBit einfach berechnet
viermal länger als die des DRAM mit 1 MBit.
Daher ist es Aufgabe der Erfindung, eine
Halbleiterspeichereinrichtung zu schaffen,
bei der eine Mehrzahl von Speicherzellen
gleichzeitig getestet werden kann, ohne die Chipfläche und die
Leitungsaufnahme zu erhöhen, sowie ein entsprechendes Betriebsverfahren.
Die Aufgabe wird durch die Halbleiterspeichereinrichtung
nach dem Patentanspruch 1 sowie das Verfahren nach dem
Patentanspruch 15 gelöst. Bevorzugte Ausführungsformen
sind in den Unteransprüchen beschrieben.
Im Testmodus werden die Daten der Mehrzahl von Speicherzellen
gleichzeitig auf die gemeinsame Auslesedaten-Übertragungsleitung übertragen.
Das Signalpotential auf der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung ändert
sich in Übereinstimmung mit den Speicherdaten der gleichzeitig
ausgewählten Mehrzahl von Speicherzellen. Die Bestimmungsschaltung
bestimmt in Übereinstimmung mit der Beziehung zwischen einem
Referenzpotential und dem Signalpotential auf der Auslesedaten-
Übertragungsleitung, ob in der gleichzeitig ausgewählten Mehrzahl
von Speicherzellen ein defektes Bit existiert.
Im Normalmodus werden die Daten einer Speicherzelle, die aus dem
Speicherzellenfeld ausgewählt worden ist, auf die Auslesedaten-
Übertragungsleitung übertragen. Damit ist es möglich, auf einmal zu
ermitteln, ob die Mehrzahl von Speicherzellen in Ordnung oder defekt
ist, ohne eine zusätzlichen Auslesedaten-Übertragungsleitung
hinzuzufügen.
Durch Umschalten der Anzahl von auszuwählenden Speicherzellen
zwischen dem Normal- und dem Testmodus kann eine beliebige Zahl von
Speicherzellen im Testmodus gleichzeitig ausgewählt werden, und die
Anzahl der gleichzeitig zu prüfenden Speicherzellen kann auf
einfache Weise erhöht werden.
Es folgt die Beschreibung von Ausführungsbeispielen an Hand der Figuren. Von
den Figuren zeigt
Fig. 1 ein schematisches Diagramm der Gesamtstruktur einer
herkömmlichen Halbleiterspeichereinrichtung;
Fig. 2 ein Diagramm eines Beispiels für die Struktur eines
Testschaltkreises, der in der herkömmlichen
Halbleiterspeichereinrichtung verwendet wird;
Fig. 3 ein Diagramm eines anderen Beispiels für die Struktur
eines Testschaltkreises, der in der herkömmlichen
Halbleiterspeichereinrichtung verwendet wird;
Fig. 4 ein Diagramm der Gesamtstruktur einer
Halbleiterspeichereinrichtung nach einer Ausführungsform
der Erfindung;
Fig. 5 ein Diagramm der Struktur des Hauptabschnitts der
Halbleiterspeichereinrichtung von Fig. 4;
Fig. 6 ein Diagramm, das besonders die Struktur eines
Schaltkreises darstellt, der zu einem Paar von
Bitleitungen der Fig. 5 gehört;
Fig. 7 ein Diagramm, das besonders die Struktur eines zweiten
Vorlade-/Ausgleichsschaltkreises, eines Testschaltkreises,
eines Ausleseschaltkreises und eines Auswahlschaltkreises
darstellt, die Fig. gezeigt sind;
Fig. 8 ein Signaldiagramm des Betriebs zum Auslesen von Daten im
Normalbetriebsmodus der Halbleiterspeichereinrichtung der
Fig. 4 bis 7;
Fig. 9 ein Signaldiagramm, wenn bei der Bestimmung des
Vorhandenseins/Nichtvorhandenseins eines defekten Bits im
Testbetriebsmodus der Halbleiterspeichereinrichtung der
Fig. 4 bis 7 kein defektes Bit auftritt;
Fig. 10 ein Signaldiagramm einer Bestimmungsoperation, wenn im
Testmodusbetrieb ein defektes Bit auftritt;
Fig. 11 ein Diagramm der Struktur eines Einheits-
Spaltendekoderschaltkreises, der in einem Spaltendekoder
gebildet ist;
Fig. 12 ein Diagramm eines Beispiels für eine spezielle Struktur
des Adreßumschalt-Schaltkreises und des Spaltendekoders,
die in Fig. 4 dargestellt sind;
Fig. 13 ein Diagramm eines weiteren Beispiels für eine spezielle
Struktur des Adreßumschalt-Schaltkreises und des
Spaltendekoders, die in Fig. 4 dargestellt sind;
Fig. 14 ein Diagramm eines weiteren Beispiels für die Struktur der
Spaltenauswahlsignal-Erzeugungsschaltung in einer
Halbleiterspeichereinrichtung;
Fig. 15 ein Diagramm eines weiteren Beispiels für die Struktur der
Spaltenauswahlsignal-Erzeugungsschaltung nach einer
Halbleiterspeichereinrichtung;
Fig. 16 ein Diagramm eines Beispiels für die Struktur des
Ausgabegatterschaltkreises von Fig. 5;
Fig. 17 ein Diagramm eines weiteren Beispiels für die Struktur des
Ausgabegatterschaltkreises von Fig. 5;
Fig. 18 ein Diagramm eines weiteren Beispiels für die Struktur
eines Referenzpotential-Erzeugungsschaltkreises, der in
den Fig. 4 und 5 dargestellt ist;
Fig. 19 ein Diagramm der Beziehung zwischen einem Signalpotential
auf der Auslesedaten-Übertragungsleitung und einem
Referenzpotential, wenn der Referenzpotential-Er
zeugungsschaltkreis der Fig. 18 verwendet wird;
Fig. 20 ein Diagramm eines weiteren Beispiels für die Struktur des
Eingabegatterschaltkreises von Fig. 5;
Fig. 21 die Umrißstruktur in einer weiteren Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung;
Fig. 22 eine schematische Struktur in einer weiteren
Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; und
Fig. 23 schematisch die Struktur des Hauptabschnitts des Speichers
in einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung.
Fig. 4 zeigt ein schematisches Diagramm der Gesamtstruktur einer
Halbleiterspeichereinrichtung nach einer Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung. Wie in Fig. 4 dargestellt ist, weist eine
Halbleiterspeichereinrichtung 200 ein Speicherzellenfeld 1 mit einer
Mehrzahl von Speicherzellen, die in einer Matrix aus Zeilen und
Spalten angeordnet sind, einen Adreßpuffer 2 zum Empfangen einer
extern angelegten Adresse A0 bis An und zum Erzeugen einer internen
Adresse, einen Zeilendekoder 3 zum Dekodieren der internen
Zeilenadresse vom Adreßpuffer 2 und zum Auswählen einer Zeile des
Speicherzellenfeldes 1, einen Adreßumschalt-Schaltkreis 4, der von
einem Testmodus-Bestimmungssignal T abhängig ist, zum Umschalten
einer internen Spaltenadresse vom Adreßpuffer 2 in eine
Blockbestimmungsadresse und eine Spaltenbestimmungsadresse, und
einen Spaltendekoder 5 zum Dekodieren einer Adresse vom
Adreßumschalt-Schaltkreis 4 und zum Erzeugen eines Signals zum
Auswählen einer Spalte oder einer Mehrzahl von Spalten des Speicher
zellenfeldes 1, auf.
Obwohl die dargestellte Halbleiterspeichereinrichtung eine *1-Bit-Struk
tur aufweist, bei der die Ein-/Ausgabe von Daten auf der Basis
von einem Bit ausgeführt wird, kann die vorliegende Erfindung auch
auf eine Halbleiterspeichereinrichtung angewandt werden, die Daten
auf der Basis einer Mehrzahl von Bit ein- und ausgibt. Im Fall der
Struktur, bei der die Ein-/Ausgabe von Daten auf der Basis einer
Mehrzahl von Bit ausgeführt wird, ist eine Mehrzahl von Blöcken
gebildet, wobei das Speicherzellenfeld 1 einen Block darstellt. Die
Struktur einer Halbleiterspeichereinrichtung, bei der Daten auf der
Basis einer Mehrzahl von Bit ein- und ausgegeben werden, kann auf
einfache Weise durch Hinzufügen einer Struktur gebildet werden, bei
der jeder Block parallel angesprochen wird.
Der Adreßumschalt-Schaltkreis 4 wandelt alle vorbestimmten nieder
wertigen Bit in der Spaltenadresse vom Adreßpuffer 2 zu einem Wert
ab, der einen ausgewählten Zustand angibt, und führt diese dem
Spaltendekoder 5 zu, wenn das Testmodus-Bestimmungssignal T in einem
aktiven Zustand ist und den Testmodusbetrieb anzeigt. Daher ist zu
diesem Zeitpunkt das Adreßsignal vom Adreßumschalt-Schaltkreis 4 ein
Signal, das eine Spaltengruppe im Speicherzellenfeld 1 angibt. Wenn
das Testmodus-Bestimmungssignal T in einem inaktiven Zustand ist,
das den Normalbetriebsmodus angibt, überträgt der Adreßumschalt-
Schaltkreis 4 die interne Spaltenadresse vom Adreßpuffer 2 wie
empfangen zum Spaltendekoder 5. Entsprechend erzeugt der
Spaltendekoder 5 in diesem Fall ein Signal zum Auswählen einer
Spalte im Speicherzellenfeld.
Die Struktur kann so geschaffen sein, daß das Testmodus-Bestimmungs
signal T über einen Pinanschluß von außerhalb der Halbleiterspei
chereinrichtung 200 zugeführt wird, oder es kann durch eine
vorbestimmte Taktkombination der in einem normalen DRAM benutzten
Steuersignale, wie z. B. /RAS, /CAS und /WE, erzeugt werden. Die
Struktur, bei der das Testmodus-Bestimmungssignal T durch Einstellen
der Abstimmung der Steuersignale /RAS, /CAS und /WE erzeugt wird,
ist z. B. als WCBR- (WE und CAS vor RAS) Schema bekannt.
Bei der oben erwähnten Struktur wird im Normalbetriebsmodus eine
Speicherzelle zu einem Bit im Speicherzellenfeld 1 durch den Zeilen
dekoder 3 und den Spaltendekoder 5 über eine Adresse vom Adreßpuffer
2 ausgewählt. Adreßpuffer 2, Zeilendekoder 3 und Spaltendekoder 5
bilden eine erste Leseeinrichtung. Im Testmodusbetrieb wählt der
Spaltendekoder 5 durch die Arbeit des Adreßumschalt-Schaltkreises 4
gleichzeitig eine Mehrzahl von Spalten aus. Entsprechend bilden der
Adreßpuffer 2, der Zeilendekoder 3, der Adreßumschalt-Schaltkreis 4
und der Spaltendekoder 5 eine zweite Leseeinrichtung.
Der Adreßpuffer 2 erzeugt aus einer externen Adresse A0 bis An eine
interne Zeilenadresse und eine interne Spaltenadresse. Die Struktur
kann so gebildet sein, daß die Taktung zur Erzeugung einer internen
Adresse durch ein Zeilenadreß-Abtastsignal /RAS und ein
Spaltenadreß-Abtastsignal /CAS in derselben Weise wie in einem DRAM
mit einem herkömmlichen gemultiplexten Adressierungsschema gegeben
ist. Die Struktur kann so geschaffen sein, daß eine interne
Zeilenadresse und eine interne Spaltenadresse unter Verwendung eines
Chipaktivierungssignal /CE oder eines Chipauswahlsignals /CS wie in
einem DRAM mit einem nicht-gemultiplexten Adressierungsschema
gleichzeitig erzeugt werden. Die Adresse im Testmodus kann
sequentiell z. B. durch einen Zähler innerhalb der Einrichtung
erzeugt oder kann extern zugeführt werden.
Diese Halbleiterspeichereinrichtung weist ferner einen Leseverstär
kerschaltkreis 6 zum Erfassen und Verstärken von Daten der
Speicherzellen einer Zeile, die vom Zeilendekoder 3 innerhalb des
Speicherzellenfeldes 1 ausgewählt wird, einen Vorladeschaltkreis 7
zum Vorladen der jeweiligen Spalte (Bitleitungspaar) innerhalb des
Speicherzellenfeldes auf ein vorbestimmtes Potential im Wartezu
stand, und einen Eingabeblock 8, der in Abhängigkeit von einem
internen Schreibbestimmungssignal W aktiviert wird, zum Übertragen
interner Schreibdaten von einem Schreibschaltkreis 9 zur Spalte, die
vom Spaltendekoder 5 innerhalb des Speicherzellenfeldes 1 ausgewählt
worden ist, auf. Der Schreibschaltkreis 9 erzeugt aus den
Schreibdaten Din, die dem Knoten ND zugeführt werden, interne
Schreibdaten. Der Knoten ND kann direkt oder über einen
Eingabepuffer mit einem externen Eingabeanschluß verbunden sein. Der
Aufbau des Eingabeblocks 8 wird unten im Detail beschrieben.
Die Halbleiterspeichereinrichtung 200 weist ferner einen Ausgabe
block 10, der von einem Spalten- (oder Block-) Auswahlsignal vom
Spaltendekoder 5 abhängig ist, zum Lesen der Daten einer Speicher
zelle in einer entsprechenden Spalte innerhalb des Speicherzellen
feldes 1 und zum Übertragen der Daten zu einer Auslesedaten-Übertra
gungsleitung 15, einen Ausleseschaltkreis 16 zum Verstärken und
Übertragen interner Auslesedaten auf die Auslesedaten-Übertragungs
leitung 15, einen Testschaltkreis 17 zum Erzeugen eines Signals, das
den guten/defekten Zustand einer Mehrzahl von Speicherzellen, die
innerhalb des Speicherzellenfeldes 1 gleichzeitig ausgewählt worden
sind, auf der Basis der internen Auslesedaten auf der Auslesedaten-
Übertragungsleitung 15 und einem (in Fig. 4 nicht dargestellten)
Referenzpotential angibt, und einen Auswahlschaltkreis 18, der vom
Testmodus-Bestimmungssignal T abhängig ist, zum selektiven
Durchlassen entweder des Ausgangssignal des Ausleseschaltkreises 16
oder des Ausgangssignals des Testschaltkreises 17 und zum Anlegen
desselben an den Knoten NQ, auf.
Der Knoten NQ kann so gebildet sein, daß er direkt oder über einen
Ausgabepuffer mit dem externen Ausgabeanschluß verbunden ist. Er
kann so aufgebaut sein, daß die Ausgabedaten Dout und die
Schreibdaten Din über denselben externen Pinanschluß oder über
getrennte Pinanschlüsse ausgegeben bzw. eingegeben werden.
Der Ausgabeblock 10 überträgt im Normalmodusbetrieb Daten einer
Speicherzelle innerhalb des Speicherzellenfeldes 1 in Abhängigkeit
von einem Spaltenauswahlsignal vom Spaltendekoder 5 zur
Auslesedaten-Übertragungsleitung. Im Testmodusbetrieb überträgt der
Ausgabeblock 10 gleichzeitig Daten einer Mehrzahl von Speicherzellen
zur Auslesedaten-Übertragungsleitung 15 entsprechend einem Blockaus
wahlsignal vom Spaltendekoder 5. Nun wird der Aufbau des jeweiligen
Schaltkreises genau beschrieben.
Fig. 5 zeigt ein Diagramm der Struktur des Hauptabschnitts der
Halbleiterspeichereinrichtung von Fig. 4. Wie in Fig. 1 dargestellt
ist, weist das Speicherzellenfeld 1 eine Mehrzahl von Wortleitungen
WL1 bis WLn mit denen jeweils die Speicherzellen einer Zeile
verbunden sind, und Paare von Bitleitungen BL, /BL, mit denen
jeweils die Speicherzellen einer Spalte verbunden sind, auf. Die
Bitleitung BL und die Bitleitung /BL sind als ein Paar geschaffen
und es werden zueinander komplementäre Signale auf ihnen übertragen.
In Fig. 5 sind zwei Wortleitungen WL1 und WLn und vier Paare von
Bitleitungen BL1, /BL1, BL2, /BL2, BL3, /BL3 und BL4, /BL4 als
Repräsentanten dargestellt.
Eine Zeile von Speicherzellen 1an, 1bn, 1cn, . . . 1dn ist mit der
Wortleitung WLn verbunden. Die Speicherzellen 1a1, 1b1, 1c1, . . . 1d1
sind mit der Wortleitung WL1 verbunden.
Die Speicherzellen 1a1 bis 1an sind mit dem Bitleitungspaar BL1,
/BL1 und die Speicherzellen 1b1 bis 1bn mit dem Bitleitungspaar BL2,
/BL2 verbunden. Eine Spalte von Speicherzellen 1c1 bis 1cn ist mit
dem Bitleitungspaar BL3, /BL3 und eine Spalte von Speicherzellen 1d1
bis 1dn mit dem Bitleitungspaar BL4, /BL4 verbunden. Eine Speicher
zelle ist entsprechend einer Kreuzung eines Paars von Bitleitungen
BL, /BL mit einer Wortleitung WL angeordnet. Daher werden bei einem
Paar von Bitleitungen BL, /BL die Daten einer Speicherzelle zu einer
Bitleitung übertragen und die andere Bitleitung wird auf dem
Referenzpotential gehalten.
Der Leseverstärkerschaltkreis 6 weist Leseverstärker 60a, 60b, 60c
und 60d auf, die jeweils für ein Bitleitungspaar BL1, /BL1 bis BL4,
/BL4 gebildet sind. Die Leseverstärker 60a bis 60d werden in
Abhängigkeit von den Leseverstärker-Aktivierungssignalen SN und SP
aktiviert und verstärken das Signalpotential eines entsprechenden
Bitleitungspaars differentiell.
Der Eingabeblock 8 weist Eingabegatter (I-Gatter) 80a, 80b, 80c und
80d auf, die entsprechend jeweils einem Bitleitungspaar BL1, /BL1
bis BL4, /BL4 gebildet sind und in Abhängigkeit von einem Spalten
auswahlsignal Yj (j=1 bis 4) von einem (in Fig. 5 nicht
dargestellten) Spaltendekoder 5 und einem internen
Schreibbestimmungssignal W, das über eine Signalleitung 21
übertragen wird, durchgeschaltet werden, zum Übertragen von Daten
auf den Schreibdaten-Übertragungsleitungen 20a und 20b zu einer
entsprechenden Bitleitung. Die zueinander komplementären internen
Schreibdaten IL und /IL werden vom Schreibschaltkreis 9, der in Fig.
4 dargestellt ist, zu den Schreibdaten-Übertragungsleitungen 20a und
20b übertragen.
Der Vorladeschaltkreis 7 weist Vorlade-/Ausgleichsschaltkreise 70a,
70b, 70c und 70d auf, die entsprechend den Bitleitungspaaren BL1,
/BL1 bis BL4, /BL4 gebildet sind, zum Vorladen und Ausgleichen eines
entsprechenden Bitleitungspaars auf ein vorbestimmtes
Vorladepotential VBL in Abhängigkeit von einem Vorlade-/Ausgleichs-
Bestimmungssignal ΦEQ. Das Vorladepotential VBL wird im allgemeinen
auf 1/2 der Betriebssversorgungsspannung Vcc eingestellt.
Der Ausgabeblock 10 weist Ausgabegatter (O-Gatter) 50a, 50b, 50c und
50d auf, die entsprechend den Bitleitungspaaren BL1, /BL1 bis BL4,
/BL4 gebildet sind und in Abhängigkeit von einem
Spaltenauswahlsignal Yj vom Spaltendekoder 5 (siehe Fig. 4)
durchgeschaltet werden, zum Verstärken des Potentials auf einem
entsprechenden Bitleitungspaar und zum Übertragen derselben zu den
Auslesedaten-Übertragungsleitungen 15a und 15b. Die Auslesedaten-
Übertragungsleitung 15a und die Auslesedaten-Übertragungsleitung 15b
sind als Paar gebildet und übertragen die zueinander komplementären
Auslesedaten. Der Ausgabeblock 10 weist ferner einen zweiten
Vorlade-/Ausgleichsschaltkreis 55 auf, der in Abhängigkeit von einem
Ausgabevorladungs-Bestimmungssignal OLEQ aktiviert wird, zum
Vorladen der Auslesedaten-Übertragungsleitungen 15a und 15b auf ein
Vorladepotential, das z. B. gleich dem Betriebsversorgungspotential
Vcc ist, und zum Ausgleichen der Potentiale der Auslesedaten-Über
tragungsleitungen 15a und 15b.
Der Testschaltkreis 17 weist einen Referenzpotential-Erzeugungs
schaltkreis (Vref-Erzeugungsschaltkreis) 17a, der von einem Steuer
signal Y abhängig ist, das gleichzeitig mit dem Spaltenauswahlsignal
Yj erzeugt wird, zum Erzeugen eines vorbestimmten Referenzpotentials
Vref und zum Übertragen desselben zu einer Referenzpotential-Über
tragungsleitung 17c, und einen Bestimmungsschaltkreis 17b zum
Empfangen eines Signalpotentials auf den Auslesedaten-Übertragungs
leitungen 15a und 15b und des Potentials auf der Referenzpotential-
Übertragungsleitung 17c und zum Bestimmen, ob in der gleichzeitig
ausgewählten Mehrzahl von Speicherzellen entsprechend der Beziehung
zwischen den empfangenen Signalpotentialen ein Defekt existiert,
auf. Der Vorlade/Ausgleichsschaltkreis 55 weist einen Schaltkreis
abschnitt auf, der vom Ausgabevorladungs-Bestimmungssignal OLEQ
abhängig ist, zum Vorladen und Ausgleichen der Referenzpotential-
Übertragungsleitung 17c auf dasselbe Potential wie die Auslesedaten-
Übertragungsleitungen 15a und 15b. In Fig. 5 ist der zweite Vorlade-/Aus
gleichsschaltkreis 55 so dargestellt, daß er vom Ausgabeblock 10
und dem Testschaltkreis 17 geteilt wird.
Fig. 6 zeigt ein Diagramm, das die Struktur der Schaltung genauer
zeigt, die zu einem Paar von Bitleitungen BLj, /BLj (j=1 bis 4)
gehört, das in Fig. 5 dargestellt ist. Wie in Fig. 6 gezeigt ist,
weist ein Eingabegatter (I-Gatter) 80 n-Kanal MOS-Transistoren
(Feldeffekttransistoren mit isoliertem Gate) Q12 und Q13, die in
Abhängigkeit von einem internen Schreibbestimmungssignal W durchge
schaltet werden, zum Übertragen interner Schreibdaten IL und /IL auf
den Schreibdaten-Übertragungsleitungen 20a und 20b zu den Knoten N3
bzw. N4, und n-Kanal MOS-Transistoren Q10 und Q11, die in Abhängig
keit von einem Spaltenauswahlsignal Yj vom Spaltendekoder 5 (siehe
Fig. 4) durchgeschaltet werden, zum Übertragen der Signalpotentiale
an den Knoten N3 und N4 an die Bitleitungen BLj bzw. /BLj, auf.
Entsprechend überträgt das Eingabegatter 80 die internen
Schreibdaten IL und /IL nur dann auf den Schreibdaten-
Übertragungsleitungen 20a und 20b zu den entsprechenden Bitleitungen
BLj und /BLj, wenn das interne Schreibbestimmungssignal W und das
Spaltenauswahlsignal Yj beide in einen aktiven Zustand "H" gebracht
worden sind. Das Eingabegatter 80 gibt repräsentativ die
Eingabegatter 80a bis 80d an, und auch in der folgenden Beschreibung
wird der beigefügte kleine Buchstabe für den jeweiligen Schaltkreis
abschnitt weggelassen.
Ein Leseverstärker 60 weist n-Kanal MOS-Transistoren Q1 und Q2, die
in Abhängigkeit von einem ersten Leseverstärker-Aktivierungssignal
SN aktiviert werden, zum Entladen der Bitleitung mit niedrigerem
Potential der entsprechenden Bitleitungen BLj und /BLj auf den Wert
"L" des Vss-Potentialpegels, und
p-Kanal MOS-Transistoren Q3 und Q4, die in Abhängigkeit von einem zweiten Leseverstärker-Aktivierungssignal SP aktiviert werden, zum Anheben des Potentials der Bitleitung mit höherem Potential der entsprechenden Bitleitungen BLj und /BLj auf den Vcc-Pegel des Betriebsversorgungspotentials. Das Gate des Transistors Q1 ist mit der Bitleitung BLj und die Drain mit der komplementären Bitleitung /BLj verbunden, und die Source ist zum Empfangen des ersten Leseverstärker-Aktivierungssignals SN geschaltet. Das Gate des Transistors Q2 ist mit der komplementären Bitleitung /BLj und die Drain mit der Bitleitung BLj verbunden, und die Source ist zum Empfangen des ersten Leseverstärker-Aktivierungssignals SN geschaltet.
p-Kanal MOS-Transistoren Q3 und Q4, die in Abhängigkeit von einem zweiten Leseverstärker-Aktivierungssignal SP aktiviert werden, zum Anheben des Potentials der Bitleitung mit höherem Potential der entsprechenden Bitleitungen BLj und /BLj auf den Vcc-Pegel des Betriebsversorgungspotentials. Das Gate des Transistors Q1 ist mit der Bitleitung BLj und die Drain mit der komplementären Bitleitung /BLj verbunden, und die Source ist zum Empfangen des ersten Leseverstärker-Aktivierungssignals SN geschaltet. Das Gate des Transistors Q2 ist mit der komplementären Bitleitung /BLj und die Drain mit der Bitleitung BLj verbunden, und die Source ist zum Empfangen des ersten Leseverstärker-Aktivierungssignals SN geschaltet.
Das Gate des Transistors Q3 ist mit der Bitleitung BLj und die
Source mit der komplementären Bitleitung /BLj verbunden, und die
Drain empfängt das zweite Leseverstärker-Aktivierungssignal SP. Das
Gate des Transistors Q4 ist mit der komplementären Bitleitung /BLj
und die Source mit der Bitleitung BLj verbunden, und die Drain
empfängt das zweite Leseverstärker-Aktivierungssignal SP. Wenn der
Leseverstärker 60 arbeiten soll, fällt das erste Leseverstärker-
Aktivierungssignal SN auf "L" und das zweite Leseverstärker-
Aktivierungssignal SP steigt auf "H" an. Das erste und zweite
Leseverstärker-Aktivierungssignal SN und SP werden auf einem
Vcc/2-Pegel gehalten, wenn sie inaktiv sind, der gleich dem Bitleitungs-
Vorladepotential bei dieser Ausführungsform ist.
Die Speicherzellen 1in und 1i1 weisen beide eine Struktur vom Typ
mit einem Transistor und einem Kondensator auf, und enthalten einen
Speicherkondensator C0 zum Speichern der Information in Form
elektrischer Ladung und einen Transfergattertransistor Q0, der in
Abhängigkeit vom Signalpotential auf der entsprechenden Wortleitung
durchgeschaltet wird, um den Speicherkondensator C0 mit einer
entsprechenden Bitleitung zu verbinden. Die Speicherzelle 1in
überträgt die gespeicherten Daten zur komplementären Bitleitung
/BLj, wenn die Wortleitung WLn ausgewählt ist. Die Speicherzelle 1i1
überträgt die gespeicherten Daten zur Bitleitung BLj, wenn die
Wortleitung WL1 ausgewählt ist.
Der Vorladeschaltkreis 70 für Bitleitungen weist einen n-Kanal
MOS-Transistor Q7, der in Abhängigkeit von einem Bitleitungsvorladungs-
Bestimmungssignal ΦEQ durchgeschaltet wird, zum elektrischen
Kurzschließen der Bitleitungen BLj und /BLj, und
n-Kanal MOS-Transistoren Q8 und Q9, die vom Bitleitungsvorladungs-
Bestimmungssignal ΦEQ abhängig sind, zum Übertragen eines
vorbestimmten Vorladepotentials VBL auf die Bitleitungen BLj bzw.
/BLj, auf. Der Vorlade-/Ausgleichsschaltkreis 70 für Bitleitungen
bewirkt, daß die Bitleitungen BLj und /BLj im Wartezustand auf das
vorbestimmte Referenzpotential VBL vorgeladen und ausgeglichen
werden.
Ein Ausgabegatter (O-Gatter) 50 weist n-Kanal MOS-Transistoren Q16
und Q17 zum Invertieren und Verstärken der Signalpotentiale auf den
Bitleitungen BLj und /BLj und zum Übertragen derselben zu den Knoten
N7 bzw. N8, und n-Kanal MOS-Transistoren Q18 und Q19, die in
Abhängigkeit von einem Spaltenauswahlsignal Yj vom Spaltendekoder 5
(siehe Fig. 4) durchgeschaltet werden, zum Übertragen der Signalpo
tentiale an den Knoten N7 und N8 zu den Auslesedaten-Übertragungs
leitungen 15b bzw. 15a, auf. Ein Leitungsanschluß der jeweiligen
Transistoren Q16 und Q17 ist mit dem Potential Vss mit "L"-Pegel und
deren Gates sind mit den Bitleitungen BLj bzw. /BLj verbunden. Wenn
das Potential der Bitleitung BLj den Pegel "H" annimmt, wird
entsprechend das Signalpotential "L" über den Transistor Q16 zum
Knoten N7 übertragen. Gleichzeitig ist der Transistor Q17 gesperrt,
da die komplementäre Bitleitung auf dem "L"-Pegel ist, und der
Knoten N8 wird in einen schwebenden Zustand gebracht. Wenn das
Spaltenauswahlsignal Yj auf "H" ansteigt, wird der Knoten N7 mit der
Auslesedaten-Übertragungsleitung 15b verbunden und das
Vorladepotential der Auslesedaten-Übertragungsleitung 15b wird auf
den Potentialpegel Vss entladen. Selbst wenn der Transistor Q19
durchschaltet, wird das Potential der Auslesedaten-
Übertragungsleitung 15a auf dem Vorladepotential (Vcc-Pegel)
gehalten.
Fig. 7 zeigt ein Diagramm, das die Struktur des Schaltkreises in
einem Abschnitt genauer darstellt, der zur Datenausgabe gehört. Wie
in Fig. 7 gezeigt ist, weist ein Ausleseschaltkreis 16 einen
differentiellen Verstärkungsschaltkreis auf, der in Abhängigkeit von
einem Auslese-Steuersignal Φ0 aktiviert wird, zum differentiellen
Verstärken der Auslesedaten OL und /OL auf den Auslesedaten-
Übertragungsleitungen 15a und 15b und zum Erzeugen von Ausgabedaten
ON. Das Steuersignal Φ0 ist ein internes Steuersignal zum
Bereitstellen eines Ausgabetaktes für die Daten.
Ein Referenzpotential-Erzeugungsschaltkreis 17a weist einen n-Kanal
MOS-Transistor Q22, der das Betriebsversorgungspotential Vcc an
seinem Gate empfängt und dessen einer Leitungsanschluß mit dem
Potential Vss verbunden ist, und
einen n-Kanal MOS-Transistor Q21, der ein
Referenzpotentialerzeugungs-Bestimmungssignal Y an seinem Gate
empfängt und dessen einer Leitungsanschluß mit einer
Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c und dessen anderer
Leitungsanschluß mit dem anderen Leitungsanschluß des
MOS-Transistors Q22 verbunden ist, auf. Die Kanalbreiten (oder Gate-
Breiten) der Transistoren Q21 und Q22 sind ähnlich eingestellt wie
die der Transistoren im Ausgabegatter 50. Entsprechend ist das
Stromtreibungsvermögen des Referenzpotential-Erzeugungsschaltkreises
17a auf einen kleineren Wert als das des Ausgabegatters 50 einge
stellt und die Entladungsrate der Referenzpotential-
Übertragungsleitung 17c ist auf einen geringeren Wert als für den
Fall eingestellt, in dem eine Speicherzelle mit den Auslesedaten-
Übertragungsleitungen 15a und 15c verbunden ist.
Ein zweiter Vorlade-/Ausgleichsschaltkreis 55 weist einen n-Kanal
MOS-Transistor Q23, der in Abhängigkeit von einem
Ausgabeabschnittvorladungs-Bestimmungssignal OLEQ durchgeschaltet
wird, zum elektrischen Kurzschließen der Auslesedaten-Übertragungs
leitungen 15a und 15b, n-Kanal MOS-Transistoren Q24 und Q25, die in
Abhängigkeit vom Ausgabeabschnittvorladungs-Bestimmungssignal OLEQ
durchgeschaltet wird, zum Aufladen der Auslesedaten-Übertragungslei
tungen 15a bzw. 15b auf das Betriebsversorgungspotential Vcc, und
einen n-Kanal MOS-Transistor Q26, der in Abhängigkeit vom Ausgabeab
schnittvorladungs-Bestimmungssignal OLEQ durchgeschaltet wird, zum
elektrischen Kurzschließen der Auslesedaten-Übertragungsleitung 15a
und der Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c, auf.
Ein Bestimmungsschaltkreis 17b weist einen Differenzverstärker 170
zum differentiellen Verstärken des Signalpotentials auf der
Auslesedaten-Übertragungsleitung 15a und des Signalpotentials auf
der Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c, und einen zweiten
Differenzverstärker 175 zum differentiellen Verstärken des Signalpo
tentials auf der Auslesedaten-Übertragungsleitung 15b und des
Signalpotentials auf der Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c
auf. Die Differenzverstärker 170 und 175 werden in Abhängigkeit von
einem internen Steuersignal Φ0 in derselben Weise wie der Auslese
schaltkreis 16 aktiviert.
Der Bestimmungsschaltkreis 17b weist ferner einen
Nichtübereinstimmungs-Erfassungsschaltkreis 177 zum Empfangen eines
Ausgangssignals OT vom Differenzverstärker 170 und eines
Ausgangssignal /OT vom Differenzverstärker 175 auf. Der
Nichtübereinstimmungs-Erfassungsschaltkreis 177 gibt ein Signal mit
Pegel "L" ab, wenn die Ausgangssignale OT und /OT von den Differenz
verstärkern 170 und 175 beide denselben Logikwert angeben, und gibt
ein Signal mit Pegel "H" aus, wenn deren Logikwerte verschieden
sind.
Ein Auswahlschaltkreis 18 weist ein erstes Auswahlgatter Q31, das in
Abhängigkeit von einem Testmodus-Bestimmungssignal T durchgeschaltet
wird, zum Übertragen des Ausgangssignals des Nichtübereinstimmungs-Er
fassungsschaltkreises 177 an den Knoten N15, und ein zweites
Auswahlgatter Q32, das in Abhängigkeit vom invertierten Signal /T
des Testmodus-Bestimmungssignals durchgeschaltet wird, zum
Übertragen des Ausgangssignals ON vom Ausleseschaltkreis 16 an den
Knoten N15, auf. Die Auswahlgatter Q31 und Q32 enthalten beide einen
n-Kanal MOS-Transistor.
Der Ausleseschaltkreis 16 und der Bestimmungsschaltkreis 17b sind
auf einer Seite der Auslesedaten-Übertragungsleitungen 15a und 15b
und der Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c gebildet, und der
Ausgabeschnitt-Vorlade-/Ausgleichsschaltkreis 55 und der
Referenzpotential-Erzeugungsschaltkreis 17a sind am anderen Ende der
Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c und der Auslesedaten-
Übertragungsleitungen 15a und 15b gebildet. Die
Kapazitätsverteilungen der Auslesedaten-Übertragungsleitungen 15a
und 15b und der Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c für den
Ausleseschaltkreis 16 und für den Bestimmungsschaltkreis 17b können
gleich gemacht werden. Auch die elektrischen Eigenschaften der
Signalleitungen 15a, 15b und 17c können gleich gemacht werden, indem
der Ausgabeabschnitt-Vorlade-/Ausgleichsschaltkreis 55 und der
Referenzpotential-Erzeugungs-Schaltkreis 17a an derselben Stelle
gebildet werden, so daß die Signaländerungseigenschaften auf den
Signalleitungen 15a, 15b und 17c auf gewünschte Werte
eingestellt werden können. Die Auslesedaten-Übertragungsleitungen 15a und
15b und die Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c sind parallel
zueinander gebildet. Nun wird ihr Betrieb beschrieben.
Es erfolgt eine Beschreibung des Falles, in dem eine Wortleitung WL1
zuerst im Normalmodus ausgewählt wird und Daten mit dem Logikpegel
"1" in die Speicherzelle 1a1 eingeschrieben werden.
Vom Adreßpuffer 2 werden mit einer internen Adresse A0 bis An eine
interne Zeilenadresse und eine interne Spaltenadresse gebildet. Da
ein Normalmodusbetrieb stattfindet gibt der Adreßumschalt-Schalt
kreis 4 die zugeführte interne Spaltenadresse unverändert an den
Spaltendekoder 5 aus. Der Zeilendekoder 3 hebt die Wortleitung WL1
als Reaktion auf die interne Zeilenadresse vom Adreßpuffer 2 auf den
Pegel "H" des ausgewählten Zustands an. Der Spaltendekoder 5 hebt
nur das Spaltenauswahlsignal Y1 als Reaktion auf die interne Spal
tenadresse vom Adreßpuffer 2 auf den Pegel "H" an. Beim
Datenschreiben wird das interne Schreibbestimmungssignal W durch ein
(nicht dargestelltes) extern angelegtes Schreibbestimmungssignal auf
"H" gesetzt. Da sich die internen Schreibdaten Din auf logisch "1"
befinden, überträgt der Schreibschaltkreis 9 die Daten IL mit
Logikwert "1" auf die Schreibdaten-Übertragungsleitung 20a und
überträgt die Daten /IL mit Logikwert "0" auf die Schreibdaten-
Übertragungsleitung 20b.
Im Speicherzellenfeld 1 wird der Leseverstärkerschaltkreis 6
betrieben, nachdem das Potential der ausgewählten Wortleitung WL1
den Pegel "H" erreicht, Daten einer Zeile von Speicherzellen 1a1 bis
1d1, die mit der Wortleitung WL1 verbunden sind, werden zu den
entsprechenden Bitleitungen übertragen und die Signalpotentiale auf
den jeweiligen Bitleitungspaaren BL1, /BL1 bis BL4, /BL4 werden
verstärkt und verriegelt.
In diesem Zustand wird das Spaltenauswahlsignal Y1 vom
Spaltendekoder 5 aktiviert und die auf die Schreibdaten-
Übertragungsleitungen 20a und 20b übertragenen internen Schreibdaten
IL und /IL werden zu den Bitleitungen BL1 und /BL1 übergeben. Daten
mit dem Logikwert "1" werden zur Bitleitung BL1 und Daten mit dem
Logikwert "0" zur komplementären Bitleitung /BL1 übertragen.
Daten mit dem Logikwert "1" auf der Bitleitung BL1 werden über den
Transfergattertransistor Q0 in den Speicherzellenkondensator C0 der
Speicherzelle 1a1 eingeschrieben. Anschließend fällt das Potential
der Wortleitung WL1 auf "L", der Leseverstärkerschaltkreis 6 wird in
einen inaktiven Zustand gebracht und das Datenschreiben ist
abgeschlossen.
Für den Fall, daß Daten mit Logikpegel "0" in die Speicherzelle 1a1
eingeschrieben werden, nehmen die internen Schreibdaten IL und /IL
die Potentiale der Logikwerte "0" bzw. "1" an. In die nicht-ausge
wählten Speicherzellen 1b1 bis 1d1 unter den Speicherzellen 1a1 bis
1d1, die mit der ausgewählten Wortleitung WL1 verbunden sind, werden
keine Daten eingeschrieben, und die darin gespeicherten Daten werden
einfach aufgefrischt.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 8 erfolgt nun die Beschreibung eines
Falles, in dem Daten mit Logikwert "1", die in die Speicherzelle 1a1
eingeschrieben sind, ausgelesen werden. Fig. 8 zeigt ein Signaldia
gramm dieser Operation. Während die Halbleiterspeichereinrichtung
200 in einem Wartezustand ist, befindet sich das Bitleitungsvorlade-
Bestimmungssignal ΦEQ auf dem "H"-Pegel der
Betriebsversorgungsspannung Vcc und das Vorlade-Bestimmungssignal
OLEQ des Ausgabeabschnitts ist ebenfalls auf dem Pegel "H" des
Betriebsversorgungspotentials Vcc. Wie in Fig. 6 gezeigt ist,
befinden sich in diesem Fall die Transistoren Q7 bis Q9, die im
Bitleitungs-Vorladeschaltkreis 70 enthalten sind, alle in einem
durchgeschalteten Zustand und jedes Bitleitungspaar BLj, /BLj (j=1
bis 4) wird auf ein vorbestimmtes Vorladepotential VBL vorgeladen
und ausgeglichen. In Fig. 8 ist ein Fall gezeigt, indem das Vorla
depotential VBL gleich 1/2 des Betriebsversorgungspotentials Vcc
beträgt.
Die Transistoren Q23 bis Q26 im Vorlade-/Ausgleichsschaltkreis 55
des Ausgabeabschnitts sind alle durchgeschaltet und laden die
Auslesedaten-Übertragungsleitungen 15a und 15b und die
Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c auf den "H"-Pegel von Vcc-Vth
vor, wobei Vth die Schwellenspannung der Transistoren Q24 und Q25
ist. Im Wartezustand ist das erste Leseverstärker-Aktivierungs
signal SN auf dem Vorladepotentialpegel von Vcc/2 und auch das
zweite Leseverstärker-Aktivierungssignal SP auf dem
Vorladepotentialpegel von Vcc/2. In ähnlicher Weise liegt auch das
Ausgangssignal ON des Ausleseschaltkreises 16 auf dem
Vorladepotentialpegel Vcc/2.
Zum Zeitpunkt t0, wenn die Halbleiterspeichereinrichtung 200 in
einen Speicherzyklus eintritt, fällt das Bitleitungsausgleichs-
Bestimmungssignal ΦEQ von "H" auf "L". Damit werden die Transistoren
Q7 bis Q9 im Bitleitungs-Vorladeschaltkreis 70 alle gesperrt und das
Bitleitungspaar BLj, /BLj wird in den schwebenden Zustand auf dem
Vorladepotential Vcc/2 gebracht.
Dann führt der Zeilendekoder 3 eine Zeilenauswahloperation
entsprechend der internen Zeilenadresse vom Adreßpuffer 2 aus, und
hebt das Potential der Wortleitung WL1 zum Zeitpunkt t1 auf "H" an.
Der Potentialpegel "H" der ausgewählten Wortleitung WL1 ist auf
einen höheren Pegel eingestellt als Vcc+Vth, wobei Vth die Schwel
lenspannung des Transfergattertransistors Q0 in der Speicherzelle
bedeutet. Das Potential der Wortleitung WL1 wird auf diese Weise auf
das Betriebsversorgungspotential Vcc oder höher angehoben, um die
gesamte im Speicherkondensator C0 gespeicherte elektrische Ladung
auf entsprechende Bitleitungen ohne Verlust auszulesen, da
normalerweise eine Spannung von z. B. 3,3 V als Betriebsversorgungs
spannung Vcc in einer Halbleiterspeichereinrichtung mit großer
Speicherkapazität verwendet wird.
Wenn das Potential der Wortleitung WL1 auf "H" ansteigt, werden die
Daten einer Speicherzelle, die mit der ausgewählten Wortleitung WL1
verbunden ist, zu einer entsprechenden Bitleitung BLj (oder /BLj)
übertragen. Da die Speicherzelle 1a1 Daten des Logikwerts "1"
speichert, wird das Potential der Bitleitung BL1 auf mehr als Vcc/2
angehoben und der Umfang des Potentialanstiegs der Bitleitung
erreicht zum Zeitpunkt t2 den Wert ΔV. Das Potential der komplemen
tären Bitleitung /B1 bleibt auf dem Vorladepotential Vcc/2.
Wenn das Potential der Wortleitung WL1 auf "H" ansteigt und eine
minimal erforderliche Potentialdifferenz ΔV auf dem jeweiligen
Bitleitungspaar BLj, /BLj auftritt, fällt das erste Leseverstärker-
Aktivierungssignal SN zum Zeitpunkt t3 auf "L". Damit wird der Lese
verstärker mit den Transistoren Q1 und Q2, der in Fig. 6 dargestellt
ist, betrieben, und das Potential der Bitleitung /BL1 mit
niedrigerem Potential fällt von Vcc/2 auf den "L"-Pegel. Die Transi
storen Q1 und Q2 führen Entladungsoperationen mit großer Geschwin
digkeit aus, und das Potential der komplementären Bitleitung /BL1
wird im wesentlichen zur Zeit t3 auf "L" entladen. Gleichzeitig
behält das Potential der Bitleitung BL1 mit höherem Potential einen
Pegel bei, der im wesentlichen gleich dem in einem Zustand ist, in
dem Speicherzellendaten übertragen werden.
Zum Zeitpunkt t4, wenn das zweite Leseverstärker-Aktivierungssignal
SP auf "H" ansteigt, wird der Leseverstärker mit den Transistoren Q3
und Q4, der in Fig. 6 gezeigt ist, betrieben, und erhöht das
Potential Vcc/2+ΔV der Bitleitung BL1 mit höherem Potential mit
hoher Geschwindigkeit auf den Pegel "H" des Betriebsversorgungspo
tentials. Damit werden die Potentialpegel der Bitleitungen BL1 und
/BL1 auf das Betriebsversorgungspotential Vcc bzw. den
Massepotentialpegel 0 gebracht und die Lese- und
Verstärkungsoperation durch den Leseverstärker 60 ist abgeschlossen.
Auf der Ausgangsseite fällt das Ausgangsvorladungs-Bestimmungssignal
OLEQ gleichzeitig mit der Leseoperation zum Zeitpunkt t5 von "H" auf
"L". Damit werden die Auslesedaten-Übertragungsleitungen 15a und 15b
in den schwebenden Zustand mit Pegel Vcc-Vth gebracht.
Nachdem das Vorladebestimmungssignal OLEQ auf "L" gefallen ist,
steigt zum Zeitpunkt t6 das Spaltenauswahlsignal Y1 vom
Spaltendekoder 5 auf "H" an. Damit werden die Transistoren Q18 und
Q19 im Ausgabegatter 50 der Fig. 6 durchgeschaltet. Die Transistoren
Q16 und Q17 empfangen an den Gates die Signalpotentiale auf den
Bitleitungen BL1 bzw. /BL1. Nun befindet sich das Potential der
Bitleitung BL1 auf "H" und das Signalpotential auf der
komplementären Bitleitung /BL1 ist auf "L". Damit wird der
Transistor Q16 durchgeschaltet und der Transistor Q17 gesperrt.
Entsprechend wird das Vorladepotential Vcc-Vth der Auslesedaten-
Übertragungsleitung 15b über die durchgeschalteten Transistoren Q18
und Q16 auf etwa 0 V des Massepotentialpegels entladen, während die
Auslesedaten-Übertragungsleitung 15a das Vorladepotential Vcc-Vth
beibehält.
Zum Zeitpunkt t7 steigt das Datenauslese-Bestimmungssignal Φ0
unmittelbar nach dem Anstieg des Spaltenauswahlsignals Y1 auf "H"
an. Entsprechend wird der Ausleseschaltkreis 16 aktiviert und
verstärkt die Signalpotentialdifferenz auf den Auslesedaten-Übertra
gungsleitungen 15a und 15b, um Ausgabedaten ON zu erzeugen.
Zum Zeitpunkt t8 werden Daten mit dem Logikwert "1" vom Auslese
schaltkreis 16 ausgegeben. Die Ausgabedaten ON werden über den
durchgeschalteten Transistor Q32 abgegeben. Die oben beschriebene
Operation führt zum Auslesen von Daten des Logikwerts "1".
Beim Lesen von Daten des Logikwerts "0" sind die Potentialpegel der
Bitleitungen BL1 und /BL1 entgegengesetzt zu denen beim oben ange
führten Lesen des Logikwerts "1" und es wird dieselbe Operation
ausgeführt. In diesem Fall ist der Ausleseschaltkreis 16 so
strukturiert, daß er Daten mit Logikwert "1" ausgibt, wenn das
Signalpotential auf der Auslesedaten-Übertragungsleitung 15a höher
als das Potential auf der Auslesedaten-Übertragungsleitung 15b ist.
Nun wird der Betrieb im Testmodus beschrieben.
Betrachtet sei ein Fall, in dem dieselben Daten (logisch "1" oder
"0") gleichzeitig in die Speicherzellen 1a1, 1b1, 1c1 und 1d1 zu
vier Bit eingeschrieben werden, die in Fig. 5 mit der Wortleitung
WL1 verbunden sind, und in dem die Daten der Speicherzellen 1a1,
1b1, 1c1 und 1d1 zu vier Bit gleichzeitig ausgelesen werden. Obwohl
in diesem Fall die Zahl der gleichzeitig auszuwählenden
Speicherzellen gleich 4 Bit ist, kann die Anzahl der gleichzeitig
auszuwählenden Speicherzellen auch auf einen beliebigen Wert
eingestellt werden, d. h., sie kann durch den Adreßumschalt-Schalt
kreis 4 auf eine beliebige Zahl wie z. B. zwei, acht oder die Zahl
aller Speicherzellen, die mit einer Zeile verbunden sind, einge
stellt werden. Ferner kann die Positionsbeziehung zwischen den
gleichzeitig auszuwählenden Spalten im Speicherzellenfeld 1 geeignet
bestimmt werden. Nun erfolgt zuerst die Beschreibung eines Falles,
in dem Daten mit Logikwert "1" geschrieben werden.
Im Testmodusbetrieb wird ein Testmodus-Bestimmungssignal T auf den
aktiven Zustand "H" eingestellt. Der Adreßumschalt-Schaltkreis
konvertiert als Reaktion auf den aktiven Zustand des Testmodus-
Bestimmungssignales T die zwei niederwertigen Bit in der internen
Spaltenadresse vom Adreßpuffer 2 in einen Wert, daß Speicherzellen
zu vier Bit gleichzeitig ausgewählt werden, und führt sie dann dem
Spaltendekoder 5 zu. Der Spaltendekoder 5 dekodiert die konvertierte
interne Spaltenadresse vom Adreßumschalt-Schaltkreis 4 und hebt die
Spaltenauswahlsignale Y1, Y2, Y3 und Y4 gleichzeitig auf "H" an, um
Speicherzellen zu vier Bit im Speicherzellenfeld 1 auszuwählen.
Das bedeutet, daß im Testmodusbetrieb das Speicherzellenfeld 1 auf
einer 4-Bit-Basis in Blöcke unterteilt wird, und der Spaltendekoder
5 als Blockdekoder zum Auswählen eines Blocks arbeitet. Beim
Datenschreiben nehmen die internen Schreibdaten IL in der gleichen
Weise wie beim Normalmodusbetrieb den Logikwert "1" und die internen
Schreibdaten /IL den Logikwert "0" an, das interne Schreibbestim
mungssignal W wird in einen aktiven Zustand "H" gebracht und die
Spaltenauswahlsignale Y1, Y2, Y3 und Y4 nehmen gleichzeitig den
Pegel "H" an. Ferner ist in diesem Zustand auch die Wortleitung WL1
bereits auf den Pegel "H" des ausgewählten Zustands angestiegen.
Damit werden die Eingabegatter 80a, 80b, 80c und 80d gleichzeitig
durchgeschaltet und übertragen die internen Schreibdaten IL und /IL
zu den Bitleitungen BL1, /BL1 bis BL4, /BL4. Dadurch werden Daten
des Logikwerts "1" in die Speicherzellen 1a1, 1b1, 1c1 und 1d1 zu
vier Bit geschrieben.
Nun erfolgt unter Bezugnahme auf die Fig. 9 die Beschreibung des
Betriebs, in dem Daten mit Logikwert "1" gleichzeitig aus den
Speicherzellen 1a1 bis 1d1 zu vier Bit gelesen werden, um den
guten/defekten Zustand der Speicherzellen 1a1 bis 1d1 zu bestimmen.
Fig. 9 zeigt ein Signaldiagramm der Operation. In Fig. 9 sind die
Signale derselben Abschnitte wie in Fig. 8 weggelassen. Wie im Fall,
der in Fig. 8 gezeigt ist, befinden sich zum Zeitpunkt t5 (siehe
Fig. 8) die Signalpotentiale auf den Bitleitungen BL1, BL2, BL3 und
BL4 auf dem Pegel "H" von Vcc, wenn die Leseoperation des Lesever
stärkerschaltkreises 6 (siehe Fig. 4) abgeschlossen ist, und die
Potentiale der komplementären Bitleitungen /BL1, /BL2, /BL3 und /BL4
liegen auf dem Pegel "L" des Massepotentials. In diesem Zustand wird
in den Ausgabegattern 50a, 50b, 50c und 50d der Transistor Q16, der
die Signalpotentiale auf den Bitleitungen BL1, BL2, BL3 und BL4 an
seinem Gate empfängt, durchgeschaltet, und der Transistor Q17 wird
gesperrt. Entsprechend befindet sich das Potential des Knotens N7
auf "L" und der Knoten N8 befindet sich in einem schwebenden
Zustand.
Wenn die Spaltenauswahlsignale Y1, Y2, Y3 und Y4 vom Spaltendekoder
5 gleichzeitig auf "H" ansteigen, werden in diesem Zustand zum
Zeitpunkt t6 (siehe Fig. 8) die Transistoren Q18 und Q19 in den Aus
gabegattern 50a, 50b, 50c und 50d durchgeschaltet, und das Potential
der Auslesedaten-Übertragungsleitung 15b fällt auf "L". Nun werden
die vier Ausgabegatter 50a, 50b, 50c und 50d gleichzeitig durchge
schaltet, so daß die Potentialabfallrate der Ausgabedaten-Übertra
gungsleitung 15b höher als die Entladungsrate durch ein
Ausgabegatter im Normalmodus wird.
Das Referenzpotentialerzeugungs-Bestimmungssignal Y steigt im
wesentlichen zur gleichen Zeit wie der Anstieg der
Spaltenauswahlsignale Y1 bis Y4 auf "H" ebenfalls auf den Pegel "H"
an. Das Referenzpotentialerzeugungs-Bestimmungssignal Y kann von
einem Blinddekoder erzeugt werden, der im Spaltendekoder 5 enthalten
ist, und der nur im Testmodus aktiviert wird, oder das Signal kann
unter Verwendung eines invertierter Verzögerungssignals des Ausgabe
vorladungs-Bestimmungssignal OLEQ erzeugt werden. Der Transistor Q21
wird in Abhängigkeit vom Referenzpotentialerzeugungs-
Bestimmungssignal Y betrieben. Das Betriebsversorgungspotential Vcc
wird an das Gate des Transistors Q22 angelegt, der stets
durchgeschaltet ist. Das Vorladepotential der Referenzpotential-Über
tragungsleitung 17c wird dadurch auf den "L"-Pegel entladen.
Wie oben beschrieben ist, werden in diesem Fall die
Transistorbreiten (Kanalbreiten oder Gate-Breiten) der Transistoren
Q21 und Q22 kleiner als die der Transistoren Q16 und Q18 (oder Q17
und Q19) im Ausgabegatter, z. B. also auf die Hälfte, eingestellt,
und die Abfallrate des Referenzpotentials Vref in der
Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c ist wesentlich geringer
als die der Auslesedaten-Übertragungsleitung 15b.
Zum Zeitpunkt t7 steigt das interne Datenlese-Bestimmungssignal
Φ0 auf "H" an. Zum Zeitpunkt t7 besteht bereits eine Differenz
zwischen den Potentialen auf den Auslesedaten-Übertragungsleitungen
15a und 15b und dem Referenzpotential Vref auf der
Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c. Die
Differenzverstärkerschaltkreise 170 und 175 verstärken die Potenti
aldifferenz der entsprechenden Signalleitungspaare mit hoher
Geschwindigkeit. Der Differenzverstärker 170 gibt ein Signal "1" ab,
wenn das Referenzpotential Vref auf der Referenzpotential-Übertra
gungsleitung 17c geringer als das Signalpotential OL auf der
Auslesedaten-Übertragungsleitung 15a ist. Der Differenzverstärker
175 gibt ein Ausgangssignal "1" ab, wenn das Referenzpotential Vref
geringer als das Signalpotential der Auslesedaten /OL ist.
Entsprechend steigt das Ausgangssignal OT vom Differenzverstärker
Schaltkreis 170 vom Vorladepotentialpegel Vcc/2 auf den Logikwert
"1" des Betriebsversorgungspotentials Vcc an, während das Ausgangs
signal /OT vom Differenzverstärkerschaltkreis 175 vom Vorladepoten
tialpegel Vcc/2 auf den Massepotentialpegel "L" (Logikwert "0")
absinkt.
Ein Nichtübereinstimmungs-Erfassungsschaltkreis 177 gibt ein Signal
mit Logikwert "1" aus, wenn der Logikwert des Ausgangssignals OT
nicht mit dem Logikwert des Ausgangssignals /OT übereinstimmt.
Entsprechend ist das Ausgangssignal des Nichtübereinstimmungs-Erfas
sungsschaltkreises 177 gleich logisch "1", und zum Zeitpunkt t8 wird
das Ausgangssignal über den durchgeschalteten Transistor Q31 zum
Knoten N15 übertragen. Wenn der Logikwert des Ausgangssignals vom
Bestimmungsschaltkreis 17b gleich "1" ist, bedeutet das, daß die
Logikwerte der gespeicherten Daten in den vier Speicherzellen 1a1
bis 1d1, die gleichzeitig ausgewählt worden sind, alle miteinander
übereinstimmen und die Halbleiterspeichereinrichtung 200 normal
arbeitet.
Wenn die vier Speicherzellen 1a1 bis 1d1 Daten mit Logikwert "0"
speichern, nehmen die Auslesedaten OL und /OL, die auf den
Auslesedaten-Übertragungsleitungen 15a und 15b übertragen werden,
die Logikwerte "0" und "1" an. In diesem Fall nimmt das
Ausgangssignal OT des Differenzverstärkerschaltkreises 170 den
Logikwert "0" an, während das Ausgangssignal /OT des Differenzver
stärkerschaltkreises 175 den Logikwert "1" annimmt. Auch in diesem
Fall erreicht der Nichtübereinstimmungs-Erfassungsschaltkreis 177 den
Logikwert "1", der angibt, daß alle Logikwerte der gespeicherten
Daten in den gleichzeitig ausgewählten Speicherzellen 1a1 bis 1d1 zu
vier Bit alle gleich sind, was bedeutet, daß die Halbleiterspeicher
einrichtung 200 normal arbeitet. Unter Bezugnahme auf die Fig. 10
wird nun ein Fall beschrieben, in dem die
Halbleiterspeichereinrichtung fehlerhaft arbeitet. Fig. 10 zeigt ein
Signaldiagramm des Betriebs.
Wenn die Halbleiterspeichereinrichtung fehlerhaft arbeitet (d. h. es
ist ein defektes Bit vorhanden), enthalten die Auslesedaten von den
gleichzeitig ausgewählten Speicherzellen 1a1 bis 1d1 zu vier Bit die
Logikwerte "1" und "0" in gemischter Weise. Es sei ein Fall
betrachtet, in dem nur die Speicherzelle 1a1 fehlerhaft arbeitet und
einen Logikwert "0" ausgibt, wenn der Logikwert "1" in die
Speicherzellen 1a1, 1b1, 1c1 und 1d1 zu vier Bit eingeschrieben
worden ist, und in dem Daten aus den Speicherzellen 1a1 bis 1d1 zu
vier Bit ausgelesen werden. In diesem Fall nimmt durch die Auslese
daten logisch "0" aus der Speicherzelle 1a1 das Signalpotential der
Bitleitung BL1 den Logikwert "0" und das Signalpotential der komple
mentären Bitleitung /BL1 den Logikwert "1" an. Damit wird der
Transistor Q17 im Ausgabegatter 50 durchgeschaltet. Wenn die
Spaltenauswahlsignale Y1-Y4 erzeugt werden, wird das
Vorladepotential Vcc-Vth der Auslesedaten-Übertragungsleitung 15a
entladen und ihr Potential fällt ab.
Die Signalpotentiale auf den Bitleitungen BL2, BL3 und BL4 nehmen
den Logikwert "1" in den restlichen Speicherzellen 1b1, 1c1 und 1d1
an, und die Auslesedaten-Übertragungsleitung 15b wird entladen und
die darauf befindlichen Auslesedaten /OL ändern sich in "0".
Das Referenzpotential Vref auf der Referenzpotential-Übertragungs
leitung 17c fällt unabhängig von den Auslesedaten der gleichzeitig
ausgewählten Speicherzellen 1a1 bis 1d1 mit vorbestimmter Rate ab.
Fig. 10 zeigt vergrößert die Beziehung zwischen den Auslesedaten OL,
/OL und dem Referenzpotential Vref und dem Ausgangssignal vom
Bestimmungsschaltkreis 17b in diesem Zustand. Wie oben beschrieben
worden ist, sind die Transistorbreiten (Kanalbreiten oder Gate-
Breiten) der Transistoren Q21 und Q22 im Referenzpotential-Erzeu
gungsschaltkreis 17a auf einen kleineren Wert als die der
Transistoren Q16 bis Q19 im Ausgabegatter eingestellt. Entsprechend
ist die Potentialabfallrate des Referenzpotentials Vref auf der
Referenzpotential-Übertragungsleitung 17c geringer als die
Potentialabfallrate auf den Auslesedaten-Übertragungsleitungen 15a
und 15b.
Wenn das interne Auslese-Bestimmungssignal Φ0 zum Zeitpunkt t7 auf
"H" ansteigt und die Verstärkungsoperationen der Differenzverstär
kerschaltkreise 170 und 175 ausgeführt werden, sind die Potentiale
der Signale OL und /OL auf den Auslesedaten-Übertragungsleitungen
15a und 15b entsprechend kleiner als das Referenzpotential Vref. In
diesem Fall nehmen die Ausgangssignale OT und /OT von den Differenz
verstärkerschaltkreisen 170 und 175 beide den Logikwert "0" an, d. h.
dieselben Logikwerte. Das Ausgangssignal (das Potential am Knoten
N16) des Nichtübereinstimmungs-Erfassungsschaltkreises 177 erreicht
den Logikwert "0".
Zum Zeitpunkt t8, wenn sich das Potential des Knotens N16
stabilisiert hat, wird das Signalpotential des Knotens N16 über den
Transistor Q31 zum Knoten N15 übertragen, so daß Daten "0" als
Ausgangssignal abgegeben werden. Im Testmodus kann bestimmt werden,
daß ein defekt in einer der Speicherzellen 1a1 bis 1d1 zu vier Bit
vorliegt, wenn Daten mit Logikwert "0" extern ausgegeben werden.
Obwohl in der oben angeführten Beschreibung ein Fall beschrieben
worden ist, bei dem nur die Speicherzelle 1a1 die darin
gespeicherten Daten invertiert und Daten mit Logikwert "0" ausgibt,
werden die Gradienten des Spannungsabfalls der Ausgangssignale OL
und /OL, die in Fig. 10 gezeigt sind, nur geändert, selbst wenn zwei
oder drei defekte Speicherzellen existieren (der Gradient ist in
beiden Fällen größer als der von Vref). Es wird in gleicher Weise
ein Signal mit Logikwert "0" ausgegeben, das ein defektes Bit
anzeigt.
Wenn die Logikwerte der ausgelesenen Daten aus der gleichzeitig
ausgewählten Mehrzahl von Speicherzellen alle miteinander
übereinstimmen (alle sind logisch "0" oder "1"), nimmt das Ausgangs
signal Dout in Übereinstimmung mit der Erfindung den Logikwert "1"
an, wie oben beschrieben worden ist. Enthalten die Auslesedaten von
den gleichzeitig ausgewählten Speicherzellen "0" und "1" in gemisch
ter Weise, ist es dagegen möglich, daß das Ausgangssignal Dout den
Logikwert "0" annimmt, so daß bestimmt werden kann, ob im Speicher
zellenfeld ein defektes Bit existiert, indem der Logikwert des
Ausgangssignal Dout ermittelt wird.
Obwohl das Testmodus-Bestimmungssignal T in der oben beschriebenen
Ausführungsform extern über einen Eingangsanschluß zugeführt oder
intern durch Einstellen einer bestimmten Kombination von
Taktbedingungen der externen Taktsignale wie im WCBR-Schema erzeugt
werden kann, ist es auch möglich, daß es durch Anlegen einer
Spannung, die außerhalb des normalerweise benutzten Bereiches liegt,
an einen beliebigen Ein-/Ausgabeanschluß (z. B. einen Adreßpin o. ä.,
der im Testmodusbetrieb unnötig wird), oder innerhalb der Speicher
einrichtung durch Kombination der Spannungs- und der Taktbedingung
der Steuersignale erzeugt wird.
Obwohl in der oben angeführten Ausführungsform ein dynamischer
Direktzugriffsspeicher als Halbleiterspeichereinrichtung beschrieben
worden ist, kann derselbe Effekt wie bei der oben angeführten
Ausführungsform auch mit einer Halbleiterspeichereinrichtung wie
einem statischen Speicher (SRAM) erreicht werden, in dem komplemen
täre Signale aus einer Speicherzelle ausgelesen werden. Für den Fall
des SRAM ist es nicht notwendig, den Leseverstärkerschaltkreis 6 für
die Bitleitungen oder den Vorladeschaltkreis 7 für die Bitleitungen
zu bilden.
Derselbe Effekt kann in der oben beschriebenen Ausführungsform auch
erzielt werden durch Einstellen des Logikwerts des Ausgangssignals
auf "0", wenn die Logikwerte der aus der gleichzeitig ausgewählten
Mehrzahl von Speicherzellen ausgelesenen Daten im Testmodus
miteinander übereinstimmen, und durch Einstellen des
Ausgabelogikwerts auf "1", wenn die Logikwerte der ausgelesenen
Daten "0" und "1" in gemischter Weise enthalten.
Obwohl der Bestimmungsschaltkreis 17b in Abhängigkeit vom internen
Auslese-Bestimmungssignal Φ0 aktiviert wird, kann auch ein Signal
des logischen Produkts des Testmodus-Bestimmungssignals T und des
internen Lesebestimmungssignals Φ0 dem Bestimmungsschaltkreis als
Aktivierungssignal zugeführt werden.
Nun erfolgt die Beschreibung einer Struktur zum Auswählen einer
Speicherzelle zu einem Bit im Normalmodus und zum gleichzeitigen
Auswählen von Speicherzellen einer Mehrzahl von Bits im Testmodus.
Betrachtet sei ein Fall, in dem der Spaltendekoder 5 einen
NOR-Dekoder darstellt, wie in Fig. 11 gezeigt ist. In Fig. 11 ist ein
Einheitsspaltendekoder dargestellt. Dem Einheitsspaltendekoder NR
wird eine beliebige Kombination von internen Spaltenadreßbit der
internen Spaltenadreßbit A0, /A0 bis An, /An vom Adreßpuffer 2
zugeführt. Der Spaltendekoder NR hebt das Spaltenauswahlsignal Yi
auf "H" an, wenn die zugeführten internen Spaltenadreßbits alle auf
"L" oder logisch "0" liegen.
Fig. 12 zeigt ein Diagramm, das besonders die Struktur des
Adreßumschalt-Schaltkreises 4 und des Spaltendekoder 5 von Fig. 4
darstellt, der die NOR-Dekoderstruktur verwendet. Der Spaltendekoder
5 ist in eine Mehrzahl von Blöcke aufgeteilt. In Fig. 12 ist nur der
Block BSi als repräsentatives Beispiel gezeigt. Der Dekoderblock BSi
weist vier NOR-Schaltkreise NR1, NR2, NR3 und NR4 auf. Von den NOR-
Schaltkreisen NR1 bis NR4 werden die Spaltenauswahlsignale Y1 bis Y4
erzeugt. Obwohl dieselbe Kombination der höchstwertigen
Spaltenadreßbit A2 bis An den NOR-Schaltkreisen NR1 bis NR4 in
diesem Block BSi auf die gleiche Weise zugeführt wird, sind die
höchstwertigen Spaltenadreßbit weggelassen worden, um die Figur zu
vereinfachen. Die höchstwertigen Spaltenadreßbits A2 bis An werden
als Blockauswahlsignal verwendet.
Der Adreßumschalt-Schaltkreis 4 weist zwei NOR-Schaltkreise 401 und
402 auf. Der NOR-Schaltkreis 401 empfängt an einem Eingang ein
Spaltenadreßbit A1 und am anderen Eingang das Testmodus-Bestimmungs
signal T. Der zweite NOR-Schaltkreis 402 empfängt an einem Eingang
ein Spaltenadreßbit A0 und am anderen Eingang das Testmodus-
Bestimmungssignal T.
Wie bei der Struktur des Spaltendekoders 5 gezeigt ist, empfängt der
NOR-Schaltkreis NR1 die Ausgangssignale der NOR-Schaltkreise 401 und
402. Der NOR-Schaltkreis NR2 empfängt das Spaltenadreßbit A0 und das
Ausgangssignal des NOR-Schaltkreises 401. Der NOR-Schaltkreis NR3
empfängt das Spaltenadreßbit A1 und das Ausgangssignal des NOR-
Schaltkreises 402. Der NOR-Schaltkreis NR4 empfängt die
Spaltenadreßbits A0 und A1. Nun wird deren Betrieb kurz
beschrieben.
Im Normalbetriebsmodus ist das Testmodus-Bestimmungssignal T auf "L"
gesetzt. Die NOR-Schaltkreise 401 und 402 wirken dadurch als
Inverter. Nun sei ein Fall betrachtet, in dem die Spaltenadreßbits
A0 und A1 beide auf "L" liegen, wenn der Dekoderblock BSi ausgewählt
ist. Die Ausgangssignale der NOR-Schaltkreise 401 und 402 nehmen den
Pegel "H" an. Entsprechend nehmen die Spaltenauswahlsignale Y1 bis
Y3 von den NOR-Schaltkreisen NR1 bis NR3, die das oder die Ausgangs
signale vom NOR-Schaltkreis 401 und/oder NOR-Schaltkreis 402
empfangen, den Pegel "L" an. Durch den Pegel "L" der beiden Eingänge
des NOR-Schaltkreises NR4 steigt das Spaltenauswahlsignal Y4 auf "H"
an.
Wenn das Spaltenadreßbit A0 "L" erreicht und das Spaltenadreßbit A1
den Pegel "H" annimmt, erreicht das Ausgangssignal des NOR-Schalt
kreises 401 den Pegel "L" und das Ausgangssignal des
NOR-Schaltkreises 402 den Pegel "H". Zu diesem Zeitpunkt nimmt nur das
Spaltenauswahlsignal Y2 vom NOR-Schaltkreis NR2, der das Spal
tenadreßbit A0 und das Ausgangssignal des NOR-Schaltkreises 401
empfängt, den Pegel "H" an und die restlichen Spaltenauswahlsignale
Y1, Y3 und Y4 erreichen "L".
Wenn das Spaltenadreßbit A0 auf "H" liegt und das Spaltenadreßbit A1
den Pegel "L" annimmt, erreicht das Ausgangssignal des NOR-Schalt
kreises 401 den Pegel "H" und das Ausgangssignal des
NOR-Schaltkreises 402 den Pegel "L". Nur das Spaltenauswahlsignal Y3 vom
NOR-Schaltkreis NR3, der das Spaltenadreßbit A1 und das
Ausgangssignal des NOR-Schaltkreises 402 empfängt, nimmt den Pegel
"H" an und die restlichen Spaltenauswahlsignale Y1, Y2 und Y4
erreichen "L".
Wenn die Spaltenadreßbits A0 und A1 beide auf "H" liegen, nehmen die
Ausgangssignale der NOR-Schaltkreise 401 und 402 beide den Pegel "L"
an. Nur das Spaltenauswahlsignal Y1 vom NOR-Schaltkreis NR1, der die
beiden Ausgangssignale der NOR-Schaltkreise 401 und 402 empfängt,
nehmen den Pegel "H" an und die restlichen Spaltenauswahlsignale Y2
bis Y4 erreichen "L".
Entsprechend der oben beschriebenen Struktur invertiert der
Adreßumschalt-Schaltkreis die Spaltenadreßbits A0 und A1 und gibt
sie aus, so daß eine Spalte, die durch die Spaltenadreßbits A0 und
A1, also durch die zwei niederwertigen Bit angegeben wird, im Block BSi
ausgewählt wird, der durch die Spaltenadreßbits A2 bis An ausgewählt
worden ist, wodurch die Auswahl einer 1-Bit-Speicherzelle realisiert
wird.
Im Testmodusbetrieb erreicht das Testmodus-Bestimmungssignal T den
Pegel "H". Die Ausgangssignale der NOR-Schaltkreise 401 und 402
nehmen beide "L" an. Sind auch die zwei niederwertigen
Spaltenadreßbits A0 und A1 beide auf "L", empfangen die vier NOR-
Schaltkreise NR1 bis NR4 im Dekoderblock BSi alle ein Signal mit
Pegel "L" an ihren beiden Eingängen. Damit steigen die Spaltenaus
wahlsignale Y1 bis Y4 alle auf "H" an, so daß es möglich wird,
Speicherzellen zu vier Bit gleichzeitig auszuwählen.
Das bedeutet, daß beim Testmodusbetrieb ein Test auf einer 4-Bit-
Basis ausgeführt werden kann, indem die zwei niederwertigsten
Spaltenadreßbits A0 und A1 auf "L" gesetzt und die restlichen höher
wertigen Spaltenadreßbits A2 bis An nacheinander geändert werden.
Fig. 13 zeigt ein Diagramm einer weiteren Struktur für den
Adreßumschalt-Schaltkreis 4. Wie in Fig. 13 gezeigt ist, weist der
Adreßumschalt-Schaltkreis 4 19744 00070 552 001000280000000200012000285911963300040 0002004141478 00004 19625 einen NOR-Schaltkreis 401 zum Empfangen
des Spaltenadreßbits A1 und des Testmodus-Bestimmungssignals T und
einen Inverterschaltkreis 404 zum Empfangen des Spaltenadreßbits A0
auf. Der Spaltendekoder 5 besitzt dieselbe Struktur wie der in Fig.
12 dargestellte. Nun wird der Betrieb kurz beschrieben.
Im Normalmodusbetrieb liegt das Testmodus-Bestimmungssignal T auf
"L" und der NOR-Schaltkreis 401 arbeitet als Inverterschaltkreis.
Entsprechend wird in diesem Fall einer der NOR-Schaltkreise NR1 bis
NR4 in derselben Weise wie bei der Struktur von Fig. 12 durch eine
Kombination der Spaltenadresse A1 und A0 zu zwei Bit ausgewählt.
Im Testmodusbetrieb nimmt das Testmodus-Bestimmungssignal T den
Pegel "H" an und das Ausgangssignal des NOR-Schaltkreises 401
erreicht "L". Wenn die Spaltenadreßbits A1 und A0 beide auf "L"
liegen, werden die NOR-Schaltkreise NR2 und NR4 ausgewählt. Das
bedeutet, daß die Spaltenauswahlsignale Y2 und Y4 auf "H" ansteigen.
Die beiden verbleibenden Spaltenauswahlsignale Y1 und Y3 erreichen
"L". Wenn das Spaltenadreßbit A0 auf "H" und das Spaltenadreßbit A1
auf "L" ist, werden die NOR-Schaltkreise NR1 und NR3 ausgewählt und
die Spaltenauswahlsignale Y1 und Y3 nehmen den Pegel "H" an.
In diesem Fall ist unter der Voraussetzung, daß die Spaltenadreßbits
A1 bis An Blockauswahlsignale darstellen, der Spaltendekoder 5 in
eine Mehrzahl von Blöcken unterteilt, die jeweils zwei NOR-Schalt
kreise aufweisen, und die Spaltenauswahl im Block wird mit dem
niederwertigen Spaltenadreßbit A0 ausgeführt. Entsprechend kann in
diesem Fall ein Test für die Speicherzellen auf einer 2-Bit-Basis
ausgeführt werden.
Die Fig. 12 und 13 zeigen die Strukturen nur als Beispiel und die
Strukturen können auf einfache Weise auf die Struktur eines
Adreßumschalt-Schaltkreises und eines Spaltendekoderschaltkreises
zum gleichzeitigen Auswählen einer Mehrzahl verschiedener Speicher
zellen erweitert werden. Unter Verwendung eines NAND-Einheitsdeko
derschaltkreises anstelle des NOR-Dekoderschaltkreises für den
Spaltendekoder kann derselbe Effekt wie in der oben angeführten
Ausführungsform erzielt werden.
Fig. 14 zeigt ein schematisches Diagramm eines weiteren Beispiels
für die Struktur des Adreßumschalt-Schaltkreises 4 und des Spalten
dekoders 5. Wie in Fig. 14 gezeigt ist, weist die
Spaltenauswahlsignal-Erzeugungsschaltung einen Blockauswahlschalt
kreis 452 zum Dekodieren eines Blockauswahlsignals (z. B. ein oder
mehrere vorbestimmte höchstwertige interne Spaltenadreßbits in der
internen Spaltenadresse) vom Adreßpuffer 2 und zum Erzeugen eines
Signals zum Auswählen eines entsprechenden Blocks innerhalb des
Speicherzellenfeldes, einen Blockspalten-Auswahlschaltkreis 454 zum
Empfangen einer Blockspaltenadresse (die verbleibenden
niederwertigen Spaltenadreßbits) vom Adreßpuffer 2 und zum Erzeugen
eines Signals zum Auswählen einer Spalte innerhalb dieses Blocks,
und einen Spaltenauswahlschaltkreis 456, der von einem Blockauswahl
signal vom Blockauswahlschaltkreis 452 und einem Blockspaltenaus
wahlsignal vom Blockspalten-Auswahlschaltkreis 454 abhängig ist, zum
Erzeugen eines Spaltenauswahlsignals Yi zum Auswählen einer Spalte
innerhalb des Speicherzellenfeldes auf.
Der Blockspalten-Auswahlschaltkreis 454 erzeugt ein Signal zum
Auswählen aller Spalten innerhalb des ausgewählten Blocks, wenn das
Testmodus-Bestimmungssignal T auf dem Pegel "H" des aktiven Zustands
liegt. Im Normalmodusbetrieb dekodiert der Blockspalten-Auswahl
schaltkreis 454 die internen Spaltenadreßbits vom Adreßpuffer 2 und
erzeugt ein Signal zur Bestimmung einer Blockspalte. Der Blockaus
wahlschaltkreis 452 dekodiert eine Blockbestimmungsadresse vom
Adreßpuffer 2 und erzeugt ein Signal zum Auswählen eines
entsprechenden Blocks sowohl im Normalmodusbetrieb als auch im
Testmodusbetrieb. Der Spaltenauswahlschaltkreis 456 ermittelt z. B.
das logische Produkt des Blockauswahlsignals vom Blockauswahlschalt
kreis 452 und dem Blockspalten-Auswahlsignal vom Blockspalten-
Auswahlschaltkreis 454 und erzeugt ein Spaltenauswahlsignal Yi zum
Auswählen einer entsprechenden Spalte.
Mit der in Fig. 14 gezeigten Struktur ist es auch möglich, eine
Mehrzahl von Speicherzellen in einem Block gleichzeitig auszuwählen
und auf der Basis einer Mehrzahl von Bits einen Test für die
Speicherzellen auszuführen. Es kann z. B. eine Spaltenadreß-Vordeko
dierarchitektur, die in einem DRAM großer Speicherkapazität benutzt
wird, in der hierarchischen Struktur eines
Spaltenauswahlschaltkreises, der den Blockauswahlschaltkreis 452,
den Blockspalten-Auswahlschaltkreis 454 und den Spaltenauswahl
schaltkreis 456 enthält, verwendet werden.
Fig. 15 zeigt ein Diagramm der Struktur einer weiteren Erzeugungs
schaltung für das Spaltenadreß-Auswahlsignal nach einer weiteren
Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Wie in Fig. 15 gezeigt
ist, ist ein Adreßumschalt-Schaltkreis 400 am Ausgang eines Spalten
dekoders 5 gebildet. Der Adreßumschalt-Schaltkreis 400 gibt Spalten
auswahlsignale Y1 bis Ym aus. Der Spaltendekoder 5 weist m
NOR-Schaltkreise NR1 bis NRm auf, die jeweils eine vorbestimmte
Kombination von internen Spaltenadreßbits A0, /A0 bis An, /An empfangen.
Die Struktur des Spaltendekoders 5 stimmt mit der in den Fig. 11 bis
13 dargestellten überein.
Der Adreßumschalt-Schaltkreis 400 weist ODER-Schaltkreise OR1 bis
ORm auf, die entsprechend den NOR-Schaltkreisen NR1 bis NRm des
Spaltendekoders 5 gebildet sind. Jeder der ODER-Schaltkreise OR1 bis
ORm empfängt das Ausgangssignal eines entsprechenden NOR-Schaltkrei
ses NR1 bis NRm und das Testmodus-Bestimmungssignal T. Die
ODER-Schaltkreise OR1 bis ORm geben Spaltenauswahlsignale Y1 bis Ym aus.
Bei der in Fig. 15 gezeigten Struktur nehmen die
Spaltenauswahlsignale Y1 bis Ym vom Adreßumschalt-Schaltkreis 400 im
Testmodusbetrieb alle den Pegel "H" an. Im Normalmodusbetrieb steigt
nur das vom Spaltendekoder 5 ausgewählte Spaltenauswahlsignal Yi
(i=1 bis m) auf "H" an. In Übereinstimmung mit der Struktur können
alle Speicherzellen, die mit einer Zeile verbunden sind, auf einmal
geprüft werden.
Fig. 16 zeigt ein Diagramm einer weiteren Struktur für den Ausgabe
gatterschaltkreis 50. Wie in Fig. 5 dargestellt ist, weist der
Ausgabegatterschaltkreis 50 vier n-Kanal MOS-Transistoren Q50, Q51,
Q52 und Q53 auf. Das Gate des Transistors Q50 ist mit der Bitleitung
BL und ein Leitungsanschluß mit der Auslesedaten-Übertragungsleitung
15a verbunden. Das Gate des Transistors Q51 ist mit der
komplementären Bitleitung /BL und ein Leitungsanschluß mit der
Auslesedaten-Übertragungsleitung 15b verbunden.
Der Transistor Q52 empfängt an seinem Gate ein Spaltenauswahlsignal
Yi, wird durchgeschaltet und verbindet den zweiten Leitungsanschluß
des Transistors Q50 mit dem Potential Vss, das z. B. das
Massepotential ist. In ähnlicher Weise wird der Transistor Q53 in
Abhängigkeit vom Spaltenauswahlsignal Yi durchgeschaltet und
verbindet den zweiten Leitungsanschluß des Transistors Q51 mit dem
Potential Vss. Die Signalpotentiale auf dem Bitleitungspaar BL und
/BL können durch Verwendung des Ausgabegatterschaltkreises 50 der
Fig. 16 in gleicher Weise wie durch den Ausgabegatterschaltkreis 50
der Fig. 6 verstärkt und zu den Auslesedaten-Übertragungsleitungen
15a und 15b übertragen werden. Der Betrieb stimmt mit dem des Ausga
begatterschaltkreises von Fig. 6 überein.
Fig. 17 zeigt eine weitere Struktur für den Ausgabegatterschalt
kreis. Wie in Fig. 17 gezeigt ist, weist der Ausgabegatterschalt
kreis 50 drei n-Kanal MOS-Transistoren Q55, Q56 und Q57 auf.
Das Gate des Transistors Q55 ist mit der Bitleitung BL und ein
Leitungsanschluß mit der Auslesedaten-Übertragungsleitung 15b
verbunden. Das Gate des Transistors Q56 ist mit der komplementären
Bitleitung /BL und ein Leitungsanschluß mit der Auslesedaten-
Übertragungsleitung 15a verbunden. Der Transistor Q57 wird in
Abhängigkeit vom Spaltenauswahlsignal Yi durchgeschaltet und
verbindet den zweiten Leitungsanschluß der jeweiligen Transistoren
Q55 und Q56 mit dem Massepotential Vss. Auch mit dieser Struktur
können dieselben Effekte wie mit den Strukturen der Ausgabegatter
schaltkreise erzielt werden, die in den Fig. 6 und 16 gezeigt sind.
Fig. 18 zeigt ein Beispiel einer weiteren Struktur für den
Referenzpotential-Erzeugungsschaltkreis 17a, der in den Fig. 5 und 7
dargestellt ist. Wie in Fig. 18 gezeigt ist, weist der
Referenzpotential-Erzeugungsschaltkreis 17a einen n-Kanal
MOS-Transistor Q60 zum Empfangen des Betriebsversorgungspotentials Vcc
an seinem Gate und an einem seiner Leitungsanschlüsse und Wider
standselemente Z1 und Z2, die zwischen dem zweiten Leitungsanschluß
des Transistors Q60 und dem Massepotential Vss in Reihe geschaltet
sind, auf. Das Referenzpotential Vref wird vom Verbindungsknoten NZ
der Widerstandselemente Z1 und Z2 abgegeben.
Bei der in Fig. 18 gezeigten Struktur wird das Potential Vcc-Vth zum
anderen Leitungsanschluß des Transistors übertragen, da das Gate und
ein Leitungsanschluß des Transistors Q60 mit dem Betriebsversor
gungspotential Vcc verbunden ist, wobei Vth die Schwellenspannung
des Transistors Q60 darstellt.
Wie in Fig. 19 gezeigt ist, fallen die Potentiale der internen
Auslesedaten OL, /OL entlang der geraden Linie oder der geraden
Linie entsprechend den Logikwerten der übertragenen Signale ab.
Die gerade Linie gibt die Potentialabfallrate auf der
Auslesedaten-Übertragungsleitung 15a oder 15b im Fall der kleinsten
Rate und die gerade Linie die Potentialabfallrate im Fall der
größten Rate an. Es ist daher möglich, die internen Auslesedaten
sicher zu verstärken und das Vorhandensein oder Nichtvorhandensein
eines defekten Bits in der gleichzeitig ausgewählten Mehrzahl von
Speicherzellen zu bestimmen, indem der Ausleseschaltkreis 16 oder
der Bestimmungsschaltkreis 17b zu einem bestimmten Zeitpunkt um oder
nach dem Zeitpunkt t, d. h. dem Kreuzungspunkt der geraden Linie
mit dem Referenzpotential Vref getrieben wird.
Fig. 20 zeigt ein Diagramm eines weiteren Beispiels einer Struktur
des Eingabegatterschaltkreises 80 der Fig. 5 und 6. In Fig. 20 weist
der Eingabegatterschaltkreis 80 einen UND-Schaltkreis 850 zum
Empfangen eines Spaltenauswahlsignals Yi und eines internen Schreib
bestimmungssignals W, und n-Kanal MOS-Transistoren Q12 und Q13, die
in Abhängigkeit vom Ausgangssignal des UND-Schaltkreises 850 durch
geschaltet werden, auf, zum Verbinden der Schreibdaten-Übertragungs
leitungen 20a und 20b mit den Bitleitungen BL bzw. /BL. Der UND-
Schaltkreis 850 gibt nur dann ein Signal "H" aus, wenn seine beiden
Eingangssignale auf "H" liegen. Da das interne
Schreibbestimmungssignal W beim Datenlesen den Pegel "L" annimmt,
kann entsprechend der UND-Schaltkreis 850 in einen deaktivierten
Zustand gebracht werden, und es ist möglich, das Schreiben fehler
hafter Daten zu verhindern.
Beim Datenschreiben kann die Datenausgabeschaltung
(Ausleseschaltkreis 16, Testschaltkreis 17 und Auswahlschaltkreis
18) betrieben werden oder auch nicht. Um die Ausgabe der
Ausgabedaten beim Datenschreiben nach außerhalb der Einrichtung zu
verhindern, kann zwischen dem Knoten NQ und dem Ausgang des Auswahl
schaltkreises 18 der Fig. 4 ein Pufferschaltkreis gebildet werden,
der vom Datenschreiben abhängig ist, um den Knoten NQ in einen
Zustand hoher Impedanz zu bringen. In diesem Fall kann auch eine
Struktur zur Deaktivierung des Testschaltkreises 17 und des Auslese
schaltkreises 16 in Abhängigkeit vom internen
Schreibbestimmungssignal verwendet werden.
In der oben angeführten Beschreibung wird im Testmodus eine Mehrzahl
von Spalten aus einem Block ausgewählt, der einem 1-Bit-Wert
entspricht.
Im allgemeinen wird in einem Speicher großer Kapazität eine Block
teilungsstruktur verwendet. In einem Speicher mit einer *1-Bit
Anordnung wird eine Spalte aus jedem Block, d. h. zusammen vier
Spalten, ausgewählt, und anschließend wird unter den vier Spalten
eine Spalte ausgewählt (siehe Speicher in Fig. 1).
In diesem Fall kann eine Struktur verwendet werden, bei der die
ausgewählten Spalten der jeweiligen Blöcke (insgesamt also vier
Spalten) gleichzeitig mit der Auslese-Signalleitung 15 verbunden
werden, wie das in Fig. 21 dargestellt ist. In Übereinstimmung mit
dieser Struktur entsprechen die Spaltenauswahlsignale Y1, Y2, Y3 und
Y4 in der Struktur des Dekoders von Fig. 12 den Speicherblöcken M1,
M2, M3 und M4 in Fig. 21. Der Bestimmungsschaltkreis 17b bestimmt in
Übereinstimmung mit der Beziehung zwischen dem Referenzpotential
Vref und dem Signalpotential auf der Signalleitung 15, ob der
Speicher in Ordnung oder defekt ist.
Üblicherweise ist eine interne Datenleitung für den jeweiligen der
Speicherblöcke M1 bis M4 gebildet. Es kann eine Struktur verwendet
werden, in der vier interne Datenleitungen mit einer internen Daten
leitung verbunden sind, und im Testmodus das Signalpotential auf der
einen verbundenen internen Datenleitung vom Bestimmungsschaltkreis
17b bestimmt wird. Zu diesem Zeitpunkt wird eine Lastimpedanz, die
im wesentlichen gleich der Lastimpedanz (Lastkapazität) des Bestim
mungsschaltkreises ist, den restlichen drei internen Datenleitungen
auferlegt, so daß die internen Datenübertragungsleitungen dieselben
elektrischen Eigenschaften erhalten.
Ferner kann eine Struktur benutzt werden, bei der eine für den Test
reservierte Signalleitung 15 separat gebildet ist, und im Testmodus
alle internen Datenübertragungsleitungen mit der Signalleitung
verbunden werden.
In Fig. 21 wird die interne Datenleitung als Signalleitung 15
benutzt, wenn aus den vier Speicherblöcken nur eine Spalte ausge
wählt und mit der Datenausleseleitung verbunden ist, da eine interne
Datenleitung gemeinsam für jeden Speicherblock gebildet ist. In
diesem Fall wählt das Blockauswahlsignal (üblicherweise werden die
höchstwertigen Bits der Zeilenadresse und der Spaltenadresse
verwendet) im Testmodus alle Blöcke aus. Diese Struktur kann aus der
in Fig. 12 gezeigten Struktur abgeleitet werden.
Ferner kann in einem Fall, in dem in einem Speicher mit Blocktei
lungsstruktur interne Datenleitungen für jeden Block gebildet sind
und eine Spalte aus jedem Block ausgewählt und mit einer entspre
chenden internen Datenleitung verbunden wird, eine Struktur
verwendet werden, bei der im Testmodus eine Mehrzahl von Spalten mit
entsprechenden Signalleitungen 150a bis 150d aus dem jeweiligen
Speicherblock MB1 bis MB4 verbunden wird. Ein Speicherblock (MB1
bis MB4) in der Struktur von Fig. 22 entspricht der Struktur, die in
Fig. 5 gezeigt ist.
Obwohl die Auslesesignalleitung als eine Signalleitung dargestellt
ist, um die Fig. 21 und 22 zu vereinfachen, weist sie in der Praxis
ein Paar komplementärer Signalleitungen auf. Auch ist hier der
Datenausgabeschaltkreis weggelassen.
Der Datenschreibpfad und der Lesepfad sind in der oben angeführten
Beschreibung getrennt gebildet. Bei der in Fig. 1 dargestellten
Schaltkreisstruktur kann jedoch z. B. der Testschaltkreis von Fig. 5
anstelle des Testschaltkreises 118 benutzt werden.
In der oben angeführten Speichereinrichtung weist eine Spalte ein
Paar von Bitleitungen auf. Es gibt eine Speichereinrichtung zum
Speichern von Daten in nicht-flüchtiger Weise, wie z. B. einen
programmierbaren ROM. Im programmierbaren ROM entspricht eine
Bitleitung BL einer Spalte, wie in Fig. 23 gezeigt ist. Im
programmierbaren ROM ist es notwendig, einen Test auszuführen, um zu
ermitteln, ob sich vor der Datenprogrammierung alle Speicherzellen
MC in einem gelöschten Zustand befinden. Insbesondere im Fall eines
benutzerprogrammierbaren ROM ist es bei der Vermarktung des Produkts
notwendig, einen Test auszuführen, um zu ermitteln, ob die Speicher
zellen in Ordnung oder defekt sind. In diesem Fall kann der Test
schnell ausgeführt werden, wenn ein Bestimmungsschaltkreis 270 für
eine interne Datenübertragungsleitung 270 gebildet wird, wie das in
Fig. 23 gezeigt ist. In der Struktur, bei der Daten auf einer
Bytebasis ausgelesen werden, kann der Bestimmungsschaltkreis 270 für
jedes Bit des Bytes gebildet sein, oder es kann die in Fig. 21 dar
gestellte Struktur verwendet werden.
Bei der Konstruktion, die in Fig. 23 gezeigt ist, wird im Testmodus
ein Auswahltransistor QT10 gesperrt und ein Transistor QT11 durchge
schaltet. Ein Y-Dekoder 290 verbindet in Abhängigkeit von einem
Testmodus-Bestimmungssignal T eine Mehrzahl von Bitleitungen BL über
das Spaltenauswahlgatter 260 mit der internen
Datenübertragungsleitung 270.
Im Normalmodus wird der Transistor QT10 durchgeschaltet und der
Transistor QT11 gesperrt und die Daten werden über einen Ausgabe
schaltkreis 250 ausgegeben.
Wie in Fig. 23 gezeigt ist, weist eine Speicherzelle MC einen
Transistor MQ mit Floating-Gate auf. Im Fall einer Flash-EEPROM-Zelle
ist die Source des Speichertransistors weggelassen, um die
Figur zu vereinfachen, obwohl die Source des Speichertransistors mit
einer Source-Leitung verbunden ist.
Diese Struktur ist ferner auch auf einen Löschverifizierungsbetrieb
des PROM anwendbar.
Wie oben beschrieben worden ist, kann in Übereinstimmung mit der
vorliegenden Erfindung eine Halbleiterspeichereinrichtung erhalten
werden, bei der eine beliebige Zahl von Speicherzellen gleichzeitig
geprüft werden kann, ohne die Chipfläche und die Leistungsaufnahme
zu erhöhen, da die Einrichtung so aufgebaut ist, daß im Testmodus
die gespeicherten Daten einer Mehrzahl von Speicherzellen
gleichzeitig auf die Auslesedaten-Übertragungsleitung übertragen
werden, und entsprechend der Beziehung zwischen dem Signalpotential
auf der Auslesedaten-Übertragungsleitung und dem Referenzpotential
eine Bestimmung erfolgt, ob eine defekte Speicherzelle vorhanden ist
oder nicht.
Claims (18)
1. Halbleiterspeichereinrichtung, die in einem Testbetriebsmodus
betreibbar ist, mit
einem Speicherzellenfeld (1) mit einer Mehrzahl von Speicherzellen, die in einer Matrix aus Zeilen und Spalten angeordnet sind,
einer gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a, 15b; 15; 150a bis 150d) zum Übertragen von Daten, die aus ausgewählten Speicherzellen innerhalb des Speicherzellenfeldes ausgelesen worden sind, wobei die Auslesedaten-Übertragungsleitung für die Spalten gemeinsam vorgesehen ist und während des Testbetriebsmodus gelesene Daten von einer Mehrzahl gleichzeitig ausgewählter Speicherzellen empfängt,
einer Ausleseeinrichtung (4, 5, 10; 10, 452, 454, 456; 10, 400), die im Testmodus von einer Adresse abhängig ist, zum Auswählen einer Mehrzahl von Speicherzellen aus dem Speicherzellenfeld und zum gleichzeitigen Übertragen der Speicherdaten der Mehrzahl von ausge wählten Speicherzellen auf die gemeinsame Auslesedaten-Übertragungsleitung, und
einer Bestimmungsschaltung (17b; 370), die von einem Signalpotential auf der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung abhängig ist, zum Bestimmen, ob in der Mehrzahl von Speicherzellen ein defektes Bit existiert.
einem Speicherzellenfeld (1) mit einer Mehrzahl von Speicherzellen, die in einer Matrix aus Zeilen und Spalten angeordnet sind,
einer gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a, 15b; 15; 150a bis 150d) zum Übertragen von Daten, die aus ausgewählten Speicherzellen innerhalb des Speicherzellenfeldes ausgelesen worden sind, wobei die Auslesedaten-Übertragungsleitung für die Spalten gemeinsam vorgesehen ist und während des Testbetriebsmodus gelesene Daten von einer Mehrzahl gleichzeitig ausgewählter Speicherzellen empfängt,
einer Ausleseeinrichtung (4, 5, 10; 10, 452, 454, 456; 10, 400), die im Testmodus von einer Adresse abhängig ist, zum Auswählen einer Mehrzahl von Speicherzellen aus dem Speicherzellenfeld und zum gleichzeitigen Übertragen der Speicherdaten der Mehrzahl von ausge wählten Speicherzellen auf die gemeinsame Auslesedaten-Übertragungsleitung, und
einer Bestimmungsschaltung (17b; 370), die von einem Signalpotential auf der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung abhängig ist, zum Bestimmen, ob in der Mehrzahl von Speicherzellen ein defektes Bit existiert.
2. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet
durch
eine Referenzpotential-Erzeugungseinrichtung (17a) zum Erzeugen eines Referenzpotentials,
eine Vorladeeinrichtung (55), die an einem ersten Endabschnitt der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung gebildet ist, zum Vorladen der Auslesedaten-Übertragungsleitung auf ein vorbestimmtes Potential, und
eine Referenzpotential-Übertragungsleitung (17c), die im wesentlichen parallel zur gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung gebildet ist, zum Übertragen des Referenzpotentials von der Referenzpotential-Erzeugungseinrichtung an die Bestimmungsschaltung (17b; 370),
wobei die Vorladeeinrichtung und die Referenzpotential-Erzeugungs einrichtung auf einer jeweiligen Seite der gemeinsamen Auslesedaten- Übertragungsleitung und der Referenzpotential-Übertragungsleitung gebildet sind, und die Bestimmungsschaltung (17b) auf der anderen Seite der Auslesedaten-Übertragungsleitung und der Referenzpotential-Übertragungsleitung gebildet ist und eine Einrichtung zum Vergleichen des Referenzpotentials und des Signalpo tentials auf der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung aufweist.
eine Referenzpotential-Erzeugungseinrichtung (17a) zum Erzeugen eines Referenzpotentials,
eine Vorladeeinrichtung (55), die an einem ersten Endabschnitt der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung gebildet ist, zum Vorladen der Auslesedaten-Übertragungsleitung auf ein vorbestimmtes Potential, und
eine Referenzpotential-Übertragungsleitung (17c), die im wesentlichen parallel zur gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung gebildet ist, zum Übertragen des Referenzpotentials von der Referenzpotential-Erzeugungseinrichtung an die Bestimmungsschaltung (17b; 370),
wobei die Vorladeeinrichtung und die Referenzpotential-Erzeugungs einrichtung auf einer jeweiligen Seite der gemeinsamen Auslesedaten- Übertragungsleitung und der Referenzpotential-Übertragungsleitung gebildet sind, und die Bestimmungsschaltung (17b) auf der anderen Seite der Auslesedaten-Übertragungsleitung und der Referenzpotential-Übertragungsleitung gebildet ist und eine Einrichtung zum Vergleichen des Referenzpotentials und des Signalpo tentials auf der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung aufweist.
3. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß
die Ausleseeinrichtung Auslesegatter (50) aufweist, die entsprechend jeder Spalte des Speicherzellenfeldes gebildet und von einem Spaltenauswahlsignal abhängig sind, zum Übertragen von Daten auf einer entsprechenden Spalte an die gemeinsame Auslesedaten-Übertragungsleitung, jedes der Auslesegatter eine erste Kopplungseinrichtung (Q50, Q51, Q52, Q53; Q16, Q17, Q18, Q19) aufweist, die von den Daten auf einer Spalte und einem zugehörigen Spaltenauswahlsignal abhängig ist, zum Koppeln der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung mit einem ersten Potential, und
die Referenzpotential-Erzeugungseinrichtung eine zweite Kopplungseinrichtung (Q21, Q22) aufweist zum Koppeln der Referenzpotential-Übertragungsleitung mit dem ersten Potential, wobei
die Stromzuführungskapazität der zweiten Kopplungseinrichtung ausreichend kleiner als die Stromzuführungskapazität der ersten Kopplungseinrichtung ist.
die Ausleseeinrichtung Auslesegatter (50) aufweist, die entsprechend jeder Spalte des Speicherzellenfeldes gebildet und von einem Spaltenauswahlsignal abhängig sind, zum Übertragen von Daten auf einer entsprechenden Spalte an die gemeinsame Auslesedaten-Übertragungsleitung, jedes der Auslesegatter eine erste Kopplungseinrichtung (Q50, Q51, Q52, Q53; Q16, Q17, Q18, Q19) aufweist, die von den Daten auf einer Spalte und einem zugehörigen Spaltenauswahlsignal abhängig ist, zum Koppeln der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung mit einem ersten Potential, und
die Referenzpotential-Erzeugungseinrichtung eine zweite Kopplungseinrichtung (Q21, Q22) aufweist zum Koppeln der Referenzpotential-Übertragungsleitung mit dem ersten Potential, wobei
die Stromzuführungskapazität der zweiten Kopplungseinrichtung ausreichend kleiner als die Stromzuführungskapazität der ersten Kopplungseinrichtung ist.
4. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
jede Spalte des Speicherzellenfeldes ein Paar erster und zweiter Bitleitungen (BL, /BL) aufweist, auf dem zueinander komplementäre Signale übertragen werden,
die gemeinsame Auslesedaten-Übertragungsleitung ein Paar komplementärer erster und zweiter Auslesedaten-Übertragungsleitungen (15a, 15b) aufweist, und
die Bestimmungsschaltung eine erste Vergleichseinrichtung (170) zum Vergleichen des Potentials auf der ersten Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a) und eines Referenzpotentials,
eine zweite Vergleichseinrichtung (175) zum Vergleichen des Potentials auf der zweiten Auslesedaten-Übertragungsleitung (15b) und des Referenzpotentials, und
eine Erfassungseinrichtung (177) zum Erfassen der Übereinstimmung/Nichtübereinstimmung zwischen dem Ausgangssignal der ersten Vergleichseinrichtung und dem Ausgangssignal der zweiten Vergleichseinrichtung aufweist.
jede Spalte des Speicherzellenfeldes ein Paar erster und zweiter Bitleitungen (BL, /BL) aufweist, auf dem zueinander komplementäre Signale übertragen werden,
die gemeinsame Auslesedaten-Übertragungsleitung ein Paar komplementärer erster und zweiter Auslesedaten-Übertragungsleitungen (15a, 15b) aufweist, und
die Bestimmungsschaltung eine erste Vergleichseinrichtung (170) zum Vergleichen des Potentials auf der ersten Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a) und eines Referenzpotentials,
eine zweite Vergleichseinrichtung (175) zum Vergleichen des Potentials auf der zweiten Auslesedaten-Übertragungsleitung (15b) und des Referenzpotentials, und
eine Erfassungseinrichtung (177) zum Erfassen der Übereinstimmung/Nichtübereinstimmung zwischen dem Ausgangssignal der ersten Vergleichseinrichtung und dem Ausgangssignal der zweiten Vergleichseinrichtung aufweist.
5. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
jedes Speicherzellenfeld Spaltengruppen (BSi) aufweist, die jeweils eine Mehrzahl von Spalten enthalten, und
die Ausleseeinrichtung eine Gruppenbestimmungseinrichtung (452), die von einer zugeführten Adresse abhängig ist, zum Bestimmen einer Spaltengruppe,
eine Spaltenbestimmungseinrichtung (454; 4), die von einer angelegten Adresse abhängig ist, zum Bestimmen einer Spalte in den jeweiligen Spaltengruppen, wobei die Spaltenbestimmungseinrichtung eine Einstelleinrichtung enthält, die von einem Testmodus- Bestimmungssignal (T) abhängig ist, zum Einstellen einer Mehrzahl von Spalten in einen ausgewählten Zustand, und
eine Spaltenauswahleinrichtung (5, 50; 456; 50), die vom Ausgangssignal der Gruppenbestimmungseinrichtung und dem Ausgangssignal der Spaltenbestimmungseinrichtung abhängig ist, zum Verbinden einer entsprechenden Spalte des Speicherzellenfeldes mit der Auslesedaten-Übertragungsleitung aufweist.
jedes Speicherzellenfeld Spaltengruppen (BSi) aufweist, die jeweils eine Mehrzahl von Spalten enthalten, und
die Ausleseeinrichtung eine Gruppenbestimmungseinrichtung (452), die von einer zugeführten Adresse abhängig ist, zum Bestimmen einer Spaltengruppe,
eine Spaltenbestimmungseinrichtung (454; 4), die von einer angelegten Adresse abhängig ist, zum Bestimmen einer Spalte in den jeweiligen Spaltengruppen, wobei die Spaltenbestimmungseinrichtung eine Einstelleinrichtung enthält, die von einem Testmodus- Bestimmungssignal (T) abhängig ist, zum Einstellen einer Mehrzahl von Spalten in einen ausgewählten Zustand, und
eine Spaltenauswahleinrichtung (5, 50; 456; 50), die vom Ausgangssignal der Gruppenbestimmungseinrichtung und dem Ausgangssignal der Spaltenbestimmungseinrichtung abhängig ist, zum Verbinden einer entsprechenden Spalte des Speicherzellenfeldes mit der Auslesedaten-Übertragungsleitung aufweist.
6. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Ausleseeinrichtung eine Spaltenbestimmungseinrichtung (5), die von einer angelegten Adresse abhängig ist, zum Erzeugen eines Spaltenbestimmungssignals zur Bestimmung einer entsprechenden Spalte des Speicherzellenfeldes, eine Einstelleinrichtung (400) zum Empfangen des Ausgangssignals der Spaltenbestimmungseinrichtung, die von einem Testmodus- Bestimmungssignal (T) abhängig ist, zum Einstellen des empfangenen Spaltenbestimmungssignals so, daß alle Spalten ausgewählt werden, und
eine Einrichtung (50), die vom Ausgangssignal der Einstelleinrichtung (400) abhängig ist, zum Verbinden einer entsprechenden Spalte des Speicherzellenfeldes mit der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungs leitung aufweist.
die Ausleseeinrichtung eine Spaltenbestimmungseinrichtung (5), die von einer angelegten Adresse abhängig ist, zum Erzeugen eines Spaltenbestimmungssignals zur Bestimmung einer entsprechenden Spalte des Speicherzellenfeldes, eine Einstelleinrichtung (400) zum Empfangen des Ausgangssignals der Spaltenbestimmungseinrichtung, die von einem Testmodus- Bestimmungssignal (T) abhängig ist, zum Einstellen des empfangenen Spaltenbestimmungssignals so, daß alle Spalten ausgewählt werden, und
eine Einrichtung (50), die vom Ausgangssignal der Einstelleinrichtung (400) abhängig ist, zum Verbinden einer entsprechenden Spalte des Speicherzellenfeldes mit der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungs leitung aufweist.
7. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
das Speicherzellenfeld eine Mehrzahl von Spaltengruppen (M1 bis M4) aufweist, die jeweils eine Mehrzahl von Spalten enthalten, und
die Ausleseeinrichtung eine Einrichtung (Fig. 21) zum Auswählen einer Spalte aus der jeweiligen Spaltengruppe und zum Verbinden der ausgewählten Spalten mit der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung im Testmodus aufweist.
das Speicherzellenfeld eine Mehrzahl von Spaltengruppen (M1 bis M4) aufweist, die jeweils eine Mehrzahl von Spalten enthalten, und
die Ausleseeinrichtung eine Einrichtung (Fig. 21) zum Auswählen einer Spalte aus der jeweiligen Spaltengruppe und zum Verbinden der ausgewählten Spalten mit der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung im Testmodus aufweist.
8. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß
das Speicherzellenfeld (1) eine Mehrzahl von Spaltengruppen (MB1 bis MB4) aufweist, die jeweils eine Mehrzahl von Spalten enthalten,
wobei die gemeinsame Auslesedaten-Übertragungsleitung eine Mehrzahl von Auslesedaten-Übertragungsleitungen (150a bis 150d) aufweist, die entsprechend der jeweiligen Spaltengruppe gebildet sind,
die Bestimmungsschaltung eine Mehrzahl von Bestimmungseinrichtungen (370a bis 370d) aufweist, die entsprechend der jeweiligen Auslesedaten-Übertragungsleitung gebildet sind, und die Ausleseeinrichtung eine Einrichtung (Fig. 22) zum Auswählen einer Mehrzahl von Spalten aus der jeweiligen Spaltengruppe und zum Verbinden der ausgewählten Spalten mit der jeweiligen Auslesedaten- Übertragungsleitung im Testmodus aufweist.
das Speicherzellenfeld (1) eine Mehrzahl von Spaltengruppen (MB1 bis MB4) aufweist, die jeweils eine Mehrzahl von Spalten enthalten,
wobei die gemeinsame Auslesedaten-Übertragungsleitung eine Mehrzahl von Auslesedaten-Übertragungsleitungen (150a bis 150d) aufweist, die entsprechend der jeweiligen Spaltengruppe gebildet sind,
die Bestimmungsschaltung eine Mehrzahl von Bestimmungseinrichtungen (370a bis 370d) aufweist, die entsprechend der jeweiligen Auslesedaten-Übertragungsleitung gebildet sind, und die Ausleseeinrichtung eine Einrichtung (Fig. 22) zum Auswählen einer Mehrzahl von Spalten aus der jeweiligen Spaltengruppe und zum Verbinden der ausgewählten Spalten mit der jeweiligen Auslesedaten- Übertragungsleitung im Testmodus aufweist.
9. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Vorladeeinrichtung (55) ferner eine Einrichtung (Q26) zum
Vorladen der Referenzpotential-Übertragungsleitung auf dasselbe
Potential wie die gemeinsame Auslesedaten-Übertragungsleitung aufweist.
10. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Kopplungseinrichtung ein erstes Schaltelement (Q16, Q17), dessen Steuer-Gate mit einer entsprechenden Spalte und dessen einer Leitungsanschluß mit dem ersten Potential (Vss) verbunden ist; und
ein zweites Schaltelement (Q18, Q19), das von einem Spaltenauswahl signal abhängig ist, zum Verbinden des zweiten Leitungsanschlusses des ersten Schaltelements mit der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a, 15b) aufweist.
die erste Kopplungseinrichtung ein erstes Schaltelement (Q16, Q17), dessen Steuer-Gate mit einer entsprechenden Spalte und dessen einer Leitungsanschluß mit dem ersten Potential (Vss) verbunden ist; und
ein zweites Schaltelement (Q18, Q19), das von einem Spaltenauswahl signal abhängig ist, zum Verbinden des zweiten Leitungsanschlusses des ersten Schaltelements mit der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a, 15b) aufweist.
11. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Kopplungseinrichtung, erste Schaltelemente (Q50, Q51; Q55, Q56), deren Steuer-Gates jeweils mit einer unterschiedlichen Spalte eines Paares und deren einer Leitungsanschluß mit der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a, 15b) verbunden sind, und
ein zweites Schaltelement (Q52, Q53; Q57), das von einem Spaltenauswahlsignal abhängig ist, zum Verbinden des zweiten Leitungsanschlusses der ersten Schaltelemente mit dem ersten Potential aufweist.
die erste Kopplungseinrichtung, erste Schaltelemente (Q50, Q51; Q55, Q56), deren Steuer-Gates jeweils mit einer unterschiedlichen Spalte eines Paares und deren einer Leitungsanschluß mit der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a, 15b) verbunden sind, und
ein zweites Schaltelement (Q52, Q53; Q57), das von einem Spaltenauswahlsignal abhängig ist, zum Verbinden des zweiten Leitungsanschlusses der ersten Schaltelemente mit dem ersten Potential aufweist.
12. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11,
gekennzeichnet durch
eine Schreibdaten-Übertragungsleitung (20a, 20b), die getrennt von der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a, 15b) gebildet ist, zum Übertragen der Schreibdaten, und
ein Schreibgatter (80), das vom Schreibbestimmungssignal (W) und einem Spaltenauswahlsignal abhängig ist, zum Verbinden der Schreibdaten- Übertragungsleitung mit einer entsprechenden Spalte des Speicherzellenfeldes.
eine Schreibdaten-Übertragungsleitung (20a, 20b), die getrennt von der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a, 15b) gebildet ist, zum Übertragen der Schreibdaten, und
ein Schreibgatter (80), das vom Schreibbestimmungssignal (W) und einem Spaltenauswahlsignal abhängig ist, zum Verbinden der Schreibdaten- Übertragungsleitung mit einer entsprechenden Spalte des Speicherzellenfeldes.
13. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12,
gekennzeichnet durch
eine Verstärkungseinrichtung (16) zum Verstärken eines Signals auf der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung, und
eine Auswahleinrichtung (18) zum selektiven Durchlassen und Ausgeben des Ausgangssignals der Verstärkungseinrichtung oder des Ausgangssignals der Bestimmungsschaltung, wobei die Auswahleinrichtung im Normalbetriebsmodus das Ausgangssignal der Verstärkungseinrichtung und im Testbetriebsmodus das Ausgangssignal der Bestimmungsschaltung auswählt.
eine Verstärkungseinrichtung (16) zum Verstärken eines Signals auf der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung, und
eine Auswahleinrichtung (18) zum selektiven Durchlassen und Ausgeben des Ausgangssignals der Verstärkungseinrichtung oder des Ausgangssignals der Bestimmungsschaltung, wobei die Auswahleinrichtung im Normalbetriebsmodus das Ausgangssignal der Verstärkungseinrichtung und im Testbetriebsmodus das Ausgangssignal der Bestimmungsschaltung auswählt.
14. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß
die Ausleseeinrichtung eine erste Entladungseinrichtung (Q16 bis Q19; Q50 bis Q53; Q55 bis Q57) aufweist, die entsprechend der jeweiligen Spalte gebildet ist, zum Entladen des Vorladepotentials der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung auf ein erstes Potential, wenn sie ausgewählt ist, und
die Referenzpotential-Erzeugungseinrichtung eine zweite Entladungs einrichtung (Q21, Q22) aufweist, zum Entladen des Vorladepotentials der Referenzpotential-Übertragungsleitung auf das erste Potential, wobei die Entladungsrate der zweiten Entladungseinrichtung kleiner als die Entladungsrate der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung durch die erste Entladungseinrichtung ist, wenn eine Spalte mit der Referenzpotential-Übertragungsleitung verbunden ist.
die Ausleseeinrichtung eine erste Entladungseinrichtung (Q16 bis Q19; Q50 bis Q53; Q55 bis Q57) aufweist, die entsprechend der jeweiligen Spalte gebildet ist, zum Entladen des Vorladepotentials der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung auf ein erstes Potential, wenn sie ausgewählt ist, und
die Referenzpotential-Erzeugungseinrichtung eine zweite Entladungs einrichtung (Q21, Q22) aufweist, zum Entladen des Vorladepotentials der Referenzpotential-Übertragungsleitung auf das erste Potential, wobei die Entladungsrate der zweiten Entladungseinrichtung kleiner als die Entladungsrate der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung durch die erste Entladungseinrichtung ist, wenn eine Spalte mit der Referenzpotential-Übertragungsleitung verbunden ist.
15. Verfahren zum Betreiben einer Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 1
im Testmodus, mit den Schritten:
Gleichzeitiges Auswählen einer Mehrzahl von Speicherzellen innerhalb des Speicherzellenfeldes und gleichzeitiges Übertragen von deren Daten auf die für die Spalten gemeinsame Auslesedaten- Übertragungsleitung (15a, 15b), und
Ausgeben eines Signals aus der Bestimmungsschaltung in Abhängigkeit vom Potential auf der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung, das entsprechend einem Bestimmungser gebnis angibt, ob eine defekte Speicherzelle in der ausgewählten Mehrzahl von Speicherzellen enthalten ist.
Gleichzeitiges Auswählen einer Mehrzahl von Speicherzellen innerhalb des Speicherzellenfeldes und gleichzeitiges Übertragen von deren Daten auf die für die Spalten gemeinsame Auslesedaten- Übertragungsleitung (15a, 15b), und
Ausgeben eines Signals aus der Bestimmungsschaltung in Abhängigkeit vom Potential auf der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung, das entsprechend einem Bestimmungser gebnis angibt, ob eine defekte Speicherzelle in der ausgewählten Mehrzahl von Speicherzellen enthalten ist.
16. Verfahren nach Anspruch 15, gekennzeichnet durch den Schritt
des Vorladens der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung auf ein
vorbestimmtes Potential, wobei
der Schritt der gleichzeitigen Datenübertragung den Schritt der
Entladung oder Beibehaltung des Vorladepotentials der gemeinsamen Auslesedaten-
Übertragungsleitung in Abhängigkeit von den Daten der ausgewählten
Mehrzahl von Speicherzellen enthält.
17. Verfahren nach Anspruch 16, wobei die Speichereinrichtung ferner
eine Referenzpotential-Übertragungsleitung zum Übertragen eines
Referenzpotentials aufweist, und der Ausgabeschritt die Schritte:
Vorladen der Referenzpotential-Übertragungsleitung auf das Vorlade potential,
Entladen des Vorladepotentials der Referenzpotential-Übertragungs leitung mit einer Entladungsrate, die geringer als die langsamste Entladungsrate auf der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung ist, und Vergleichen des Potentials auf der Referenzpotential-Übertragungs leitung und des Potentials auf der Auslesedaten-Übertragungsleitung aufweist.
Vorladen der Referenzpotential-Übertragungsleitung auf das Vorlade potential,
Entladen des Vorladepotentials der Referenzpotential-Übertragungs leitung mit einer Entladungsrate, die geringer als die langsamste Entladungsrate auf der gemeinsamen Auslesedaten-Übertragungsleitung ist, und Vergleichen des Potentials auf der Referenzpotential-Übertragungs leitung und des Potentials auf der Auslesedaten-Übertragungsleitung aufweist.
18. Verfahren nach Anspruch 16, wobei jede der Spalten ein Paar von
Bitleitungen aufweist, auf denen zueinander komplementäre Daten
übertragen werden,
die gemeinsame Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a, 15b) eine erste und eine
zweite Auslesedaten-Übertragungsleitung (15a, 15b) entsprechend
einem Paar von Bitleitungen aufweist, und
der Ausgabeschritt die Schritte:
Entladen einer Referenzleitung mit einer vorbestimmten Rate, Vergleichen des Potentials auf der ersten Auslesedaten-Übertragungs leitung und des Potentials auf der Referenzpotential-Übertragungs leitung und Erzeugen eines ersten Vergleichsergebnisses,
Vergleichen des Potentials auf der zweiten Auslesedaten-Übertra gungsleitung und des Potentials auf der Referenzpotential-Übertra gungsleitung und Erzeugen eines zweiten Vergleichsergebnisses, und
Erfassen der Übereinstimmung/Nichtübereinstimmung des ersten und zweiten Vergleichsergebnisses aufweist.
Entladen einer Referenzleitung mit einer vorbestimmten Rate, Vergleichen des Potentials auf der ersten Auslesedaten-Übertragungs leitung und des Potentials auf der Referenzpotential-Übertragungs leitung und Erzeugen eines ersten Vergleichsergebnisses,
Vergleichen des Potentials auf der zweiten Auslesedaten-Übertra gungsleitung und des Potentials auf der Referenzpotential-Übertra gungsleitung und Erzeugen eines zweiten Vergleichsergebnisses, und
Erfassen der Übereinstimmung/Nichtübereinstimmung des ersten und zweiten Vergleichsergebnisses aufweist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2403381A JP2863012B2 (ja) | 1990-12-18 | 1990-12-18 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4141478A1 DE4141478A1 (de) | 1992-07-02 |
DE4141478C2 true DE4141478C2 (de) | 1993-09-16 |
Family
ID=18513117
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4141478A Granted DE4141478A1 (de) | 1990-12-18 | 1991-12-16 | Halbleiterspeichereinrichtung mit hochgeschwindigkeitstest und testverfahren hierfuer |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5548596A (de) |
JP (1) | JP2863012B2 (de) |
KR (1) | KR950015040B1 (de) |
DE (1) | DE4141478A1 (de) |
IT (1) | IT1252532B (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4441007A1 (de) * | 1993-11-17 | 1995-05-18 | Samsung Electronics Co Ltd | Multibit-Testschaltkreis einer Halbleiterspeichereinrichtung |
DE19529691A1 (de) * | 1994-09-13 | 1996-03-14 | Mitsubishi Electric Corp | Halbleiterspeicher |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR0147632B1 (ko) * | 1995-04-24 | 1998-11-02 | 김광호 | 반도체 메모리장치의 멀티 비트 테스트방법 및 테스트 회로 |
KR0172372B1 (ko) * | 1995-12-22 | 1999-03-30 | 김광호 | 반도체 메모리 장치의 병합 데이타 출력 모드 선택 방법 |
DE19607724A1 (de) * | 1996-02-29 | 1997-09-04 | Siemens Ag | Schaltungsanordnung für einen programmierbaren nichtflüchtigen Speicher |
JP3839869B2 (ja) * | 1996-05-30 | 2006-11-01 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体記憶装置 |
JP4052697B2 (ja) * | 1996-10-09 | 2008-02-27 | 富士通株式会社 | 信号伝送システム、および、該信号伝送システムのレシーバ回路 |
TW397982B (en) * | 1997-09-18 | 2000-07-11 | Sanyo Electric Co | Nonvolatile semiconductor memory device |
JP4197755B2 (ja) * | 1997-11-19 | 2008-12-17 | 富士通株式会社 | 信号伝送システム、該信号伝送システムのレシーバ回路、および、該信号伝送システムが適用される半導体記憶装置 |
US5936901A (en) * | 1998-03-19 | 1999-08-10 | Micron Technology, Inc. | Shared data lines for memory write and memory test operations |
JP2001332100A (ja) * | 2000-05-22 | 2001-11-30 | Hitachi Ltd | ダイナミック型ram |
JP2002170399A (ja) * | 2000-12-05 | 2002-06-14 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
FR2820545B1 (fr) * | 2001-02-02 | 2003-05-30 | St Microelectronics Sa | Procede et dispositif de verification d'un groupe de cellules de memoire non volatile |
KR100400309B1 (ko) | 2001-05-04 | 2003-10-01 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 소자의 내부 동작명령 발생장치 및 방법 |
JP2004185691A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Nec Electronics Corp | 半導体記憶装置のテスト方法、半導体記憶装置のテスト回路、半導体記憶装置及び半導体装置 |
KR100541811B1 (ko) * | 2003-07-05 | 2006-01-11 | 삼성전자주식회사 | 반도체 메모리장치의 컬럼 디코더회로 |
US7900099B2 (en) * | 2005-01-25 | 2011-03-01 | Micron Technology, Inc. | Enabling test modes of individual integrated circuit devices out of a plurality of integrated circuit devices |
JP2007066392A (ja) * | 2005-08-30 | 2007-03-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶装置 |
JP2007120991A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Sharp Corp | テストパターンの検出率算出方法、コンピュータプログラム及びテストパターンの検出率算出装置 |
US7477551B2 (en) * | 2006-11-08 | 2009-01-13 | Texas Instruments Incorporated | Systems and methods for reading data from a memory array |
US20090103350A1 (en) * | 2007-10-18 | 2009-04-23 | Michael Kund | Method of Testing an Integrated Circuit, Method of Manufacturing an Integrated Circuit, and Integrated Circuit |
KR101188261B1 (ko) * | 2010-07-30 | 2012-10-05 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 멀티 비트 테스트 회로 |
US10566034B1 (en) * | 2018-07-26 | 2020-02-18 | Winbond Electronics Corp. | Memory device with control and test circuit, and method for test reading and writing using bit line precharge voltage levels |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4406013A (en) * | 1980-10-01 | 1983-09-20 | Intel Corporation | Multiple bit output dynamic random-access memory |
JPS5854756A (ja) * | 1981-09-28 | 1983-03-31 | Hitachi Ltd | 多重伝送システムの信号診断方法およびその診断装置 |
JPS6194290A (ja) * | 1984-10-15 | 1986-05-13 | Fujitsu Ltd | 半導体メモリ |
US4686456A (en) * | 1985-06-18 | 1987-08-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Memory test circuit |
JPS62170094A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶回路 |
JPS63244400A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-10-11 | シーメンス・アクチエンゲゼルシヤフト | メモリセルの検査回路装置および方法 |
JP2523736B2 (ja) * | 1987-12-24 | 1996-08-14 | 三菱電機株式会社 | 半導体記憶装置 |
JPH0787035B2 (ja) * | 1988-01-20 | 1995-09-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体記億装置 |
JPH01184700A (ja) * | 1988-01-11 | 1989-07-24 | Advantest Corp | メモリ試験装置 |
US4866676A (en) * | 1988-03-24 | 1989-09-12 | Motorola, Inc. | Testing arrangement for a DRAM with redundancy |
JP2831683B2 (ja) * | 1989-03-20 | 1998-12-02 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2616005B2 (ja) * | 1989-05-24 | 1997-06-04 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリの組込み検査回路 |
JP2780354B2 (ja) * | 1989-07-04 | 1998-07-30 | 富士通株式会社 | 半導体メモリ装置 |
JP2554174B2 (ja) * | 1989-10-03 | 1996-11-13 | シャープ株式会社 | 半導体メモリ装置のテスト方法 |
US5113399A (en) * | 1989-10-16 | 1992-05-12 | Rockwell International Corporation | Memory test methodology |
EP0446847B1 (de) * | 1990-03-12 | 1998-06-17 | Nec Corporation | Halbleiterspeicheranordnung mit einem verbesserten Schreibmodus |
-
1990
- 1990-12-18 JP JP2403381A patent/JP2863012B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-11-07 KR KR1019910019729A patent/KR950015040B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-12-11 US US07/805,504 patent/US5548596A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-16 DE DE4141478A patent/DE4141478A1/de active Granted
- 1991-12-17 IT ITMI913373A patent/IT1252532B/it active IP Right Grant
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4441007A1 (de) * | 1993-11-17 | 1995-05-18 | Samsung Electronics Co Ltd | Multibit-Testschaltkreis einer Halbleiterspeichereinrichtung |
DE4441007C2 (de) * | 1993-11-17 | 1998-07-30 | Samsung Electronics Co Ltd | Multibit-Testschaltkreis einer Halbleiterspeichereinrichtung |
DE19529691A1 (de) * | 1994-09-13 | 1996-03-14 | Mitsubishi Electric Corp | Halbleiterspeicher |
DE19529691C2 (de) * | 1994-09-13 | 1998-07-23 | Mitsubishi Electric Corp | Halbleiterspeicher |
US5808949A (en) * | 1994-09-13 | 1998-09-15 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory |
US5963491A (en) * | 1994-09-13 | 1999-10-05 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ITMI913373A1 (it) | 1993-06-17 |
KR950015040B1 (ko) | 1995-12-21 |
US5548596A (en) | 1996-08-20 |
ITMI913373A0 (it) | 1991-12-17 |
KR920013472A (ko) | 1992-07-29 |
IT1252532B (it) | 1995-06-19 |
JP2863012B2 (ja) | 1999-03-03 |
DE4141478A1 (de) | 1992-07-02 |
JPH04216399A (ja) | 1992-08-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |