DE3850177T2 - Verfahren zur Herstellung von tertiären Alkyldimethylhalosilanen. - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von tertiären Alkyldimethylhalosilanen.Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 29
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 27
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 16
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 15
- -1 Lewis acid metal halide Chemical class 0.000 claims description 12
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 12
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 8
- PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4-(2-chloroacetyl)piperazine-1-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1CCN(C(=O)CCl)CC1 PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910001509 metal bromide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 5
- BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyldimethylsilyl chloride Chemical group CC(C)(C)[Si](C)(C)Cl BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DBPQHXPBQWYJQS-UHFFFAOYSA-N bromo-tert-butyl-dimethylsilane Chemical group CC(C)(C)[Si](C)(C)Br DBPQHXPBQWYJQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 claims 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N dibromomethane Chemical compound BrCBr FJBFPHVGVWTDIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- JUWXOYPLVVYKNZ-UHFFFAOYSA-N 2-bromopropan-2-yl(trimethyl)silane Chemical compound CC(C)(Br)[Si](C)(C)C JUWXOYPLVVYKNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- JLGADZLAECENGR-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibromo-1,2,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(Br)Br JLGADZLAECENGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- JPOXNPPZZKNXOV-UHFFFAOYSA-N bromochloromethane Chemical compound ClCBr JPOXNPPZZKNXOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMQZCUAQMDRTSJ-UHFFFAOYSA-N 2-chloropropan-2-yl(trimethyl)silane Chemical compound CC(C)(Cl)[Si](C)(C)C BMQZCUAQMDRTSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RPJGYLSSECYURW-UHFFFAOYSA-K antimony(3+);tribromide Chemical compound Br[Sb](Br)Br RPJGYLSSECYURW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000011987 methylation Effects 0.000 description 1
- 238000007069 methylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229940094443 oxytocics prostaglandins Drugs 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003180 prostaglandins Chemical class 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000003431 steroids Chemical class 0.000 description 1
- LTSUHJWLSNQKIP-UHFFFAOYSA-J tin(iv) bromide Chemical compound Br[Sn](Br)(Br)Br LTSUHJWLSNQKIP-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrabromide Chemical compound Br[Ti](Br)(Br)Br UBZYKBZMAMTNKW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- FEONEKOZSGPOFN-UHFFFAOYSA-K tribromoiron Chemical compound Br[Fe](Br)Br FEONEKOZSGPOFN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WDIWAJVQNKHNGJ-UHFFFAOYSA-N trimethyl(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](C)(C)C WDIWAJVQNKHNGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/123—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-halogen linkages
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Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von tert.-Alkyldimethylhalogensilanen, die geeignet sind als Silylierungsmittel und insbesondere als spezielle Silylierungsmittel, die für die Reaktionskontrolle verwendet werden.
- Die folgenden Methoden zur Herstellung von tert.-Alkyldimethylhalogensilanen sind im Stand der Technik bekannt. Die Reaktion eines tert.-Alkyllithiumreagenzes mit Dimethyldichlorsilan wird beschrieben in Journal of Organic Chemistry, Band 43, 3649 (1978), und Journal of the American Chemical Society, Band 76, 1030 (1954).
- Ein tert.-Alkyl-Grignard-Reagenz kann mit einem Halogensilan mit einer sterisch relativ ungehinderten Si-H-Gruppe, zum Beispiel Trihalogensilan oder Methyldihalogensilan, umgesetzt werden, das verbleibende Halogen wird in eine Methylgruppe umgewandelt durch Reaktion mit einem Methyl-Grignard-Reagenz und die Si-H-Gruppe wird schließlich halogeniert, was das tert.- Alkyldimethylchlorsilan liefert. Diese Methode wird in der offengelegten Japanischen Patentanmeldung (Kokai) Nr. 60-22249 (222,492/85) beschrieben.
- Die offengelegte Japanische Patentanmeldung Nr. 60-237092 (237,092/85) beschreibt eine Methode, bei der ein Disilan, wie Dimethyltetrahalogendisilan oder Hexahalogendisilan, mit einem tert.-Alkyl-Grignard-Reagenz umgesetzt wird, um ein tert.-Butylhalogensilan herzustellen, das dann teilweise methyliert wird, um ein tert.-Alkyldimethylhalogensilan zu bilden.
- Die Reaktion eines tert.-Alkyllithiumreagenzes mit Dimethyldihalogensilan erfordert sowohl eine sorgfältige Handhabung des sehr aktiven Lithiummetalls als auch eine spezielle Ausstattung, um eine hochaktive Lithiummikrodispersion bei erhöhter Temperatur (ungefähr 200ºC) herzustellen. Außerdem ist dieses Verfahren sehr gefährlich, da das erhaltene tert.-Alkyllithium sich spontan bei Kontakt mit Luft entzündet.
- Das Verfahren, daß man ein tert.-Alkyl-Grignard-Reagenz mit einem Halogensilan mit einer sterisch relativ ungehinderten Si-H-Gruppe umsetzt, erfordert einen langen Syntheseweg. Die Reaktion eines Disilans mit einem tert.-Alkyl-Grignard-Reagenz und die anschließende Teilmethylierung erfordert spezielle Disilane und ist ineffizient, da nur die Hälfte der Siliciums verwendet wird.
- Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, diese Probleme zu überwinden, indem ein neues Produktionsverfahren eingeführt wird, das tert.-Alkyldimethylhalogensilane in billiger, einfacher und effizienter Weise liefert ohne die Verwendung gefährlicher Reagenzien. Bei dem Verfahren der vorliegenden Erfindung zur Herstellung von tert.-Alkyldimethylhalogensilan wird die gewünschte Substanz in billiger, einfacher und effizienter Weise ohne die Verwendung gefährlicher Reagenzien hergestellt, da eine Siliciumverbindung der folgenden allgemeinen Strukturformel
- (CH&sub3;)&sub3;SiCR&sub2;X¹
- mit einem Lewis-Säure-Metallhalogenid umgesetzt wird. Da das tert.-Alkyldimethylhalogensilan, das mit dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung hergestellt wird, einen sehr sperrigen tert.-Alkylsubstituenten enthält, kann es als Silylierungsmittel bei der Synthese beispielsweise von Steroiden, Prostaglandinen, etc. verwendet werden.
- Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Herstellung eines tert.-Alkyldimethylhalogensilans zur Verfügung gestellt unter Bedingungen, die im folgenden ausgeführt werden. Was beschrieben wird ist daher ein Verfahren zur Herstellung eines tert.-Alkyldiiethylhalogensilans mit der folgenden allgemeinen Strukturformel
- worin jeder Rest R in der Formel eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen ist, worin X² ein Chloratom oder ein Bromatom ist, wobei das Verfahren umfaßt, daß man eine Siliciumverbindung der allgemeinen Strukturformel
- (CH&sub3;)&sub3;SiCR&sub2;X¹
- worin jeder Rest R eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen ist und X¹ ein Chloratom oder Bromatom ist, mit einem Lewis-Säure-Metallhalogenid ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Lewis-Säure-Metallchloriden und Lewis-Säure-Metallbromiden umsetzt.
- Die Siliciumverbindung der allgemeinen Formel
- (CH&sub3;)&sub3;SiCR&sub2;X¹
- ist ein Ausgangsmaterial bei dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung. R in der obigen Formel ist eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen und dies schließt Methyl-, Ethyl- und Propylgruppen ein. X¹ ist ein Chloratom oder ein Bromatom. X¹ und X² können gleich oder verschieden sein. Solche Siliciumverbindungen werden leicht hergestellt, indem ein Grignard-Reagenz der allgemeinen Formel
- R&sub2;HCMgX¹
- (R und X¹ in der Formel sind wie oben definiert) mit Trimethylchlorsilan umgesetzt wird, um
- (CH&sub3;)&sub3;SiCHR&sub2;
- zu synthetisieren (R in der Formel ist wie oben definiert), das dann mit Chlor oder Brom unter Bestrahlung umgesetzt wird.
- Das Lewis-Säure-Metallchlorid oder Lewis-Säure-Bromid wird bei dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung sowohl als Ausgangsmaterial als auch als Katalysator verwendet. Das Lewis-Säure-Chlorid kann zum Beispiel Aluminiumchlorid, Eisen(III)chlorid, Titantetrachlorid, Antimonchlorid und Zinnchlorid sein. Das Lewis-Säure-Bromid kann zum Beispiel Aluminiumbromid, Eisen(III)bromid, Titanbromid, Antimonbromid und Zinnbromid sein. Aluminiumchlorid und Aluminiumbromid sind aus Gründen der Reaktionsselektivität und Reaktionsrate bevorzugt.
- Im Hinblick auf die zu verwendende Menge dieser Komponente wird das Lewis-Säure-Metallchlorid oder Lewis-Säure-Metallbromid, wenn X¹ das Chloratom in der Siliciumverbindung mit der allgemeinen Formel
- (CH&sub3;)&sub3;SiCR&sub2;X¹
- ist und X² Chlor in der Zielsiliciumverbindung mit der allgemeinen Strukturformel
- ist, vorzugsweise in einem Anteil von 0,01 bis 10 Mol-% und bevorzugter mit 0,1 bis 2 Mol-%, bezogen auf die Ausgangssiliciumverbindung, verwendet. Wenn X¹ in der Ausgangssiliciumverbindung das Bromatom ist und X² in der Zielsiliciumverbindung das Chloratom ist, wird das Lewis-Säure-Metallchlorid in einer Menge verwendet, die vorzugsweise mindestens eine äquimolare Menge und bevorzugter 1 bis 5 Mol Chloratome pro Mol Ausgangssiliciumverbindung liefert.
- Weiterhin wird, wenn X¹ in der Ausgangssiliciumverbindung das Bromatom ist und X² in der Zielsiliciumverbindung auch das Bromatom ist, das Lewis-Säure-Metallchlorid oder Lewis-Säure-Metallbromid vorzugsweise in einem Anteil von 0,01 bis 10 Mol-% und bevorzugter 0,1 bis 2 Mol-%, bezogen auf die Ausgangssiliciumverbindung, zugegeben.
- Es besteht keine spezifische Beschränkung im Hinblick auf die Reaktionsatmosphäre bei dem Herstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung und die Reaktion kann in Luft oder unter einem Inertgas, bei Umgebungsdruck, erhöhtem Druck oder vermindertem Druck durchgeführt werden.
- Die Reaktion kann auch in Gegenwart eines organischen Lösungsmittels durchgeführt werden. Organische Lösungsmittel können zum Beispiel bromierte Kohlenwasserstoffe wie Methylenbromid; chlorierte Kohlenwasserstoffe wie Methylenchlorid, Chloroform und Tetrachlorkohlenstoff; und aromatische Kohlenwasserstofflösungsmittel wie Toluol und Xylol sein. Die Verwendung eines organischen Lösungsmittels ist bevorzugt, um die Reaktionsrate zu kontrollieren und für das Inkontaktbringen der Reaktanten. Die Verwendung von halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmitteln ist noch bevorzugter.
- Falls ein chloriertes Kohlenwasserstofflösungsmittel als Reaktionslösungsmittel verwendet wird und X² in der Zielsiliciumverbindung das Chloratom ist und X&sub1; in der Ausgangssiliciumverbindung das Bromatom ist und falls die Menge an Chloratomen in dem Lösungsmittel mindestens äquimolar mit der Ausgangssiliciumverbindung der allgemeinen Formel
- (CH&sub3;)&sub3;SiCR&sub2;X¹
- ist, kann die Zugabe des Lewis-Säure-Metallchlorids oder Lewis- Säure-Metallbromids bei nur 0,01 Mol-%, bezogen auf die Siliciumverbindung, liegen, da die Chloratome in dem Lösungsmittel an der Reaktion teilnehmen.
- Die Reaktionstemperatur ist vorzugsweise 10 bis 150ºC und bevorzugter 20 bis 120ºC.
- Damit der Fachmann die vorliegende Erfindung besser versteht, werden die folgenden Beispiele angegeben. Diese Beispiele sind nur erläuternd und sollen die vorliegende Erfindung, wie sie hier beansprucht wird, nicht beschränken.
- Eine Lösung von 150,7 g (1 mol) α-Chlor-α-methylethyltrimethylsilan und 100 g Methylenchlorid wurde langsam in eine Suspension getropft, die aus 100 g Methylenchlorid und 0,5 g (3,75 mmol) Aluminiumchlorid hergestellt worden war. Ein Rückfluß von Methylenchlorid erfolgte aufgrund der exothermen Reaktion.
- Nach Abschluß der Zugabe wurde die Reaktion zum Abschluß gebracht, indem das Methylenchlorid eine weitere Stunde am Rückfluß auf 42ºC unter Rühren erhitzt wurde. Die Reaktionslösung wurde filtriert und dann bei Umgebungsdruck destilliert, um das Methylenchlorid zu entfernen. Eine weitere Destillation bei Umgebungsdruck lieferte tert.-Butyldimethylchlorsilan (147 g, 0,975 mol, Ausbeute = 97,5%, Siedepunkt = 124 bis 126ºC).
- Eine Lösung von 195 g (1 mol) α-Brom-α-methylethyltrimethylsilan und 200 g Methylenchlorid wurde nach und nach in eine Suspension getropft, die aus 200 g Methylenchlorid und 0,5 g (3,75 mol) Aluminiumchlorid hergestellt worden war. Ein Rückfluß von Methylenchlorid erfolgte aufgrund der exothermen Reaktion.
- Nach Abschluß der Zugabe wurde die Reaktion zum Abschluß gebracht, indem weitere 3 Stunden bei 42ºC gerührt wurde. Die Reaktionslösung wurde dann filtriert, um das Aluminiumbromid zu entfernen. Das Methylenchlorid und Bromchlormethan (in der Reaktion erzeugt) wurden dann verdampft und der Rückstand wurde direkt bei Umgebungsdruck destilliert, was das gewünschte tert.- Butyldimethylchlorsilan lieferte (142 g, 0,94 mol, Ausbeute = 94%, Siedepunkt = 124 bis 126ºC).
- Eine Lösung von 195 g (1 mol) α-Brom-α-methylethyltrimethylsilan und 200 g Methylenbromid wurde langsam in eine Suspension getropft, die aus 50 g (0,375 mol) Aluminiumchlorid und 200 g Methylenbromid hergestellt worden war. Ein Rückfließen des Methylenbromids erfolgte aufgrund der exothermen Reaktion.
- Nach dem Abschluß der Zugabe wurde die Reaktion zum Abschluß gebracht, indem 30 Minuten bei 100ºC gerührt wurde. Die Reaktionslösung wurde filtriert, um das Aluminiumbromid zu entfernen, das Methylenbromid wurde verdampft und dann wurde direkt bei Umgebungsdruck destilliert, was das gewünschte tert.-Butyldimethylchlorsilan lieferte (140 g, 0,93 mol, Ausbeute = 93%, Siedepunkt = 124 bis 126 ºC).
- Eine Lösung von 195 g (1 mol) α-Brom-α-methylethyltrimethylsilan, gelöst in 200 g Methylenbromid, wurde langsam in eine Suspension von 2,0 g (7,6 mmol) Aluminiumbromid in 200 g Methylenbromid getropft. Ein Rückfließen des Methylenbromids erfolgte aufgrund der exothermen Reaktion. Nach Abschluß der Zugabe wurde die Reaktion zur Vollständigkeit gebracht, indem eine weitere Stunde unter Erhitzen gerührt wurde. Die Reaktionslösung wurde bei Umgebungsdruck destilliert, um das Methylenbromid zu entfernen, und die Destillation wurde bei Umgebungsdruck fortgesetzt, um die Fraktion bei 143 bis 144ºC zu sammeln. 192 g des gewünschten tert.-Butyldimethylbromsilans wurden somit in 98% Ausbeute erhalten.
- In eine Lösung von 44,8 g (0,385 mol) Trimethylisopropylsilan gelöst in 50 g Dibromtetrafluorethan, die 100 Watt weißem Licht ausgesetzt war, wurden 61,5 g (0,385 mol) Brom bei 20ºC getropft. Nach Abschluß der Zugabe wurde das Lösungsmittel unter Rückfluß erwärmt, um Bromwasserstoff zu entfernen und das - Brom-α-methylethyltrimethylsilan zu liefern. In dieses wurde dann langsam eine Lösung von 1,0 g Aluminiumbromid in 10 g Dibromtetrafluorethan getropft. Nach Abschluß der Zugabe wurde die Reaktionslösung bei Umgebungsdruck destilliert, um das Lösungsmittel zu entfernen, und die Destillation wurde fortgesetzt, um eine Fraktion bei 143 bis 144ºC zu sammeln. 67,6 g tert.-Butyldimethylbromsilan (Ausbeute = 90%) wurden erzeugt. Diese gewünschte Substanz wurde identifiziert auf Basis der folgenden Spektraldaten:
- NMR: δ (ppm)
- 0,45, Singulett, 6H
- 0,96, Singulett, 9H
- MS: m/e (Spektralintensitätsverhältnis), 70 eV
- 196 (8,1), 194 (7,9),
- 139 (80,1), 137 (79,8),
- 111 (5,0), 109 (10,5),
- 107 (6,0), 73 (17,5),
- 57 (69,4), 56 (100)
Claims (15)
1. Verfahren zur Herstellung von
tert.-Alkyldimethylhalogensilan mit der folgenden allgemeinen Strukturformel
worin jeder Rest R in der Formel eine Alkylgruppe mit 1 bis 3
Kohlenstoffatomen ist, worin X² ein Chloratom oder ein Bromatom
ist, wobei das Verfahren umfaßt, daß man eine Siliciumverbindung
der allgemeinen Strukturformel
(CH&sub3;)&sub3;SiCR&sub2;X¹,
worin jeder Rest R eine Alkylgruppe mit 1 bis 3
Kohlenstoffatomen ist und X¹ ein Chloratom oder Bromatom ist, mit einem
Lewis-Säure-Metallhalogenid ausgewählt aus der Gruppe bestehend
aus Lewis-Säure-Metallchloriden und Lewis-Säure-Metallbromiden
umsetzt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, worin das
Lewis-Säure-Metallhalogenid ausgewählt ist aus einer Gruppe bestehend aus
Aluminiumchlorid und Aluminiumbromid.
3. Verfahren nach Anspruch 1, worin das
tert.-Alkyldimethylhalogensilan die allgemeine Strukturformel
hat.
4. Verfahren nach Anspruch 3, worin die Siliciumverbindung die
allgemeine Strukturformel
(CH&sub3;)&sub3;SiCR&sub2;Cl
hat und das Lewis-Säure-Metallhalogenid in einer Konzentration
im Bereich von etwa 0,01 bis 10 Mol-%, bezogen auf die
Siliciumverbindung, vorhanden ist.
5. Verfahren nach Anspruch 4, worin das
Lewis-Säure-Metallhalogenid in einer Konzentration im Bereich von etwa 0,1 bis 2
Mol-%, bezogen auf die Siliciumverbindung, vorhanden ist.
6. Verfahren nach Anspruch 3, worin die Siliciumverbindung die
allgemeine Strukturformel
(CH&sub3;)&sub3;SiCR&sub2;Br
hat und das Lewis-Säure-Halogenid ein Lewis-Säure-Metallchlorid
ist und in einer Konzentration vorhanden ist, die gleich oder
größer ist als 1 Mol Chloratom pro Mol Siliciumverbindung.
7. Verfahren nach Anspruch 6, worin das
Lewis-Säure-Metallchlorid in einer Konzentration im Bereich von 1 bis 5 Mol
Chloratomen pro Mol Siliciumverbindung vorhanden ist.
8. Verfahren nach Anspruch 1, worin das
tert.-Alkyldimethylhalogensilan die allgemeine Strukturformel
hat, die Siliciumverbindung die allgemeine Strukturformel
(CH&sub3;)&sub3;SiCR&sub2;Br
hat und das Lewis-5äure-Metallhalogenid in einer Konzentration
im Bereich von etwa 0,01 bis 10 Mol-%, bezogen auf die
Siliciumverbindung, vorhanden ist.
9. Verfahren nach Anspruch 8, worin das
Lewis-Säure-Metallhalogenid in einer Konzentration im Bereich von etwa 0,1 bis 2
Mol-%, bezogen auf die Siliciumverbindung, vorhanden ist.
10. Verfahren nach Anspruch 1, worin die Reaktion der
Siliciumverbindung mit einem Lewis-Metallhalogenid in Gegenwart eines
organischen Lösungsmittels durchgeführt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 10, worin das organische
Lösungsmittel ausgewählt ist aus einer Gruppe bestehend aus
halogenierten
Kohlenwasserstoffen, chlorierten Kohlenwasserstoffen und
aromatischen Kohlenwasserstoffen.
12. Verfahren nach Anspruch 6, worin ein chlorierter
Kohlenwasserstoff vorhanden ist, wobei der chlorierte Kohlenwasserstoff
in einer solchen Konzentration vorhanden ist, daß die
Konzentration der Chloratome in dem Lösungsmittel größer ist, bezogen auf
Mol, als die Konzentration der Siliciumverbindung und worin das
Lewis-Säure-Metallchlorid in einer Konzentration von gleich oder
mehr als etwa 0,01 Mol-%, bezogen auf die Siliciumverbindung,
vorhanden ist.
13. Verfahren nach Anspruch 1, worin die Reaktion bei einer
Temperatur im Bereich von etwa 10 bis 150ºC durchgeführt wird.
14. Verfahren nach Anspruch 1, worin das
tert.-Alkyldimethylhalogensilan tert.-Butyldimethylchlorsilan ist.
15. Verfahren nach Anspruch 1, worin das
tert.-Alkyldimethylhalogensilan tert.-Butyldimethylbromsilan ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17170087 | 1987-07-09 | ||
JP62203857A JPH0637503B2 (ja) | 1987-07-09 | 1987-08-17 | t−アルキルジメチルハロゲノシランの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3850177D1 DE3850177D1 (de) | 1994-07-21 |
DE3850177T2 true DE3850177T2 (de) | 1994-11-03 |
Family
ID=26494336
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3850177T Expired - Fee Related DE3850177T2 (de) | 1987-07-09 | 1988-07-07 | Verfahren zur Herstellung von tertiären Alkyldimethylhalosilanen. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4814474A (de) |
EP (1) | EP0298487B1 (de) |
JP (1) | JPH0637503B2 (de) |
CA (1) | CA1317304C (de) |
DE (1) | DE3850177T2 (de) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4814259A (en) * | 1987-11-09 | 1989-03-21 | Rockwell International Corporation | Laser generated electrically conductive pattern |
JP2551901B2 (ja) * | 1991-07-26 | 1996-11-06 | エフ エム シー コーポレーション | 接触アルキル化方法 |
US5340507A (en) * | 1991-07-26 | 1994-08-23 | Fmc Corporation | Catalyzed hydrocarbyllithium process |
US5211888A (en) * | 1991-07-26 | 1993-05-18 | Fmc Corporation | Catalyzed hydrocarbyllithium process |
JPH07157491A (ja) * | 1993-12-03 | 1995-06-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | α位に3級炭化水素基を有するシランの製造方法 |
US6429327B1 (en) | 1999-01-21 | 2002-08-06 | Fmc Corporation | Organometallic catalysts |
JP2002145888A (ja) * | 2000-11-06 | 2002-05-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | テキシル基を有するクロロシラン化合物及びその製造方法 |
CN115010746A (zh) * | 2022-07-20 | 2022-09-06 | 江苏八巨药业有限公司 | 一种叔丁基二甲基氯硅烷的制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2496419A (en) * | 1949-06-03 | 1950-02-07 | Dow Corning | Production of cyclopropane |
US2802852A (en) * | 1955-03-24 | 1957-08-13 | Gen Electric | Processes of cleaving silicon-to-carbon bonds |
DE2546919A1 (de) * | 1975-10-20 | 1977-04-28 | Consortium Elektrochem Ind | Verfahren zum herstellen von methylchlorsilanen |
JPS60222492A (ja) * | 1984-04-17 | 1985-11-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 第3級炭化水素シリル化合物の製造方法 |
JPS60237092A (ja) * | 1984-05-08 | 1985-11-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 第3級炭化水素シリル化合物の製造方法 |
-
1987
- 1987-08-17 JP JP62203857A patent/JPH0637503B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-06-28 US US07/212,461 patent/US4814474A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-07-07 DE DE3850177T patent/DE3850177T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-07-07 EP EP88110891A patent/EP0298487B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-07-08 CA CA000571540A patent/CA1317304C/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1317304C (en) | 1993-05-04 |
EP0298487B1 (de) | 1994-06-15 |
DE3850177D1 (de) | 1994-07-21 |
EP0298487A2 (de) | 1989-01-11 |
EP0298487A3 (de) | 1991-02-27 |
JPH0637503B2 (ja) | 1994-05-18 |
JPH01104083A (ja) | 1989-04-21 |
US4814474A (en) | 1989-03-21 |
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8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |